PL186840B1 - Optical polishing composition - Google Patents
Optical polishing compositionInfo
- Publication number
- PL186840B1 PL186840B1 PL99342392A PL34239299A PL186840B1 PL 186840 B1 PL186840 B1 PL 186840B1 PL 99342392 A PL99342392 A PL 99342392A PL 34239299 A PL34239299 A PL 34239299A PL 186840 B1 PL186840 B1 PL 186840B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cerium dioxide
- polishing
- particle size
- alumina
- microns
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 36
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 44
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 claims 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
Abstract
Description
Przedmiotem niniejszego wynalazku są kompozycje do polerowania powierzchni optycznych. Polerowane powierzchnie mogą być szklane lub plastikowe.The present invention relates to compositions for polishing optical surfaces. Polished surfaces can be glass or plastic.
Dobrze znanym jest fakt, że w celu uzyskania zadowalającej powierzchni optycznej niezbędnym jest aby była ona wolna od rys i wykazywała tak niską wartość Ra jak to tylko możliwe. Wartość Ra oznacza średnią odległość pomiędzy najwyższym i najniższym punktem na powierzchni, prostopadle do płaszczyzny tafli szkła polerowanego. Tak więc uznając, że powierzchnia nie jest całkowicie płaska w skali mikroskopowej, mierzy się różnice pomiędzy najwyższymi i najniższymi punktami. Oczywiście, niższa liczba oznacza lepszą przejrzystość optyczną i mniej zniekształceń.It is well known that in order to obtain a satisfactory optical surface is necessary for it to be free of cracks and exhibited such a low value of R a as possible. The Ra value is the average distance between the highest and lowest points on the surface, perpendicular to the plane of the polished glass pane. Thus, considering that the surface is not completely flat on a microscopic scale, the differences between the highest and lowest points are measured. Obviously, the lower the number means better optical clarity and less distortion.
Innym ważnym czynnikiem jest szybkość z jaką uzyskuje się pożądany poziom optycznej perfekcji. Szkło poleruje się zgodnie z procesem chemiczno-mechanicznym, który zachodzi tylko w środowisku wodnym. Koniecznym jest aby związek polerujący reagował z powierzchnią szkła i wodą jak również aby powierzchnia ulegała ścieraniu. Pewne substancje, takie jak, dwutlenek ceru są reaktywne lecz niezbyt dobre jako środki ścierające. Inne, takie jak, tlenek glinu działają jako środki ścierające lecz nie wykazują odpowiedniej reaktywności w odniesieniu do powierzchni. Problem ten opisał Lee Clark w artykule „Chemical Processes in Glass Polishing” przedstawionym w Journal of Non-Crystalline Solids, 120 (1990), 152-171. W warunkach przemysłowych, znacznie korzystniejszym jest aby proces wykończeniowy zachodził w krótszym, a nie w dłuższym czasie, zwłaszcza gdy nie jest wymagana bardzo dobra jakość i/lub gdy jakość może być poprawiona.Another important factor is the speed at which the desired level of optical perfection is achieved. The glass is polished according to a chemical-mechanical process that only occurs in an aquatic environment. It is imperative that the polishing compound reacts with the glass surface and the water and that the surface wears away. Certain substances, such as cerium dioxide, are reactive but not very good as abrasives. Others, such as alumina, act as abrasives but do not show adequate surface reactivity. This problem was described by Lee Clark in the article "Chemical Processes in Glass Polishing" in Journal of Non-Crystalline Solids, 120 (1990), 152-171. In an industrial setting, it is much more advantageous for the finishing process to take place shorter rather than longer, especially when very good quality is not required and / or when quality can be improved.
Proces polerowania przeprowadza się dwoma sposobami. Zgodnie z pierwszym, zawiesinę cząstek ścierających w wodnym środowisku (zwykle opartym o dejonizowaną wodę), umieszcza się tak, aby była w kontakcie z powierzchnią polerowaną i powoduje się przesuwanie warstwy po powierzchni według wcześniej ustalonego sposobu, tak aby wywołać ścieranie w zawiesinie i polerowanie powierzchni. Zgodnie z drugim sposobem, ścierające cząstki są osadzone w matrycy żywicowej, uformowanej w postać narzędzia i narzędzie to stosuje się następnie do polerowania powierzchni optycznej. Niniejszy wynalazek dotyczy pierwszego sposobu, w którym stosuje się zawiesinę.The polishing process is carried out in two ways. According to the first, a suspension of abrasive particles in an aqueous medium (usually based on deionized water) is placed in contact with the polished surface, and the layer is made to slide over the surface in a predetermined manner so as to induce slurry abrasion and polishing of the surface. . According to a second method, the abrasive particles are embedded in a resin matrix formed into a tool, and the tool is then used to polish the optical surface. The present invention relates to a first method that uses a slurry.
W tej dziedzinie wiedzy proponowano różne kompozycje do zawiesin. W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki numer 4 576 612 przedstawiono wytwarzanie zawiesiny in situ w kontrolowanej ilości przez zastosowanie poduszki z warstwą powierzchniową zawierającą cząstki ścierające umieszczone w żywicy, która stopniowo rozpuszcza sięVarious compositions for suspensions have been proposed in the art. U.S. Patent No. 4,576,612 teaches the formation of a controlled amount in situ slurry by using a cushion with a surface layer containing abrasive particles embedded in a resin that gradually dissolves.
186 840 w trakcie stosowania i uwalnia cząstki polerujące. Proponowane do stosowania cząstki zawierają dwutlenek ceru („ceria”), dwutlenek cyrkonu („zirkonia”) i tlenek żelaza.186 840 in use and releases polishing particles. The particles proposed for use contain cerium dioxide ("ceria"), zirconium dioxide ("zirconia") and iron oxide.
W patencie europejskim numer EP 608 730-A1 przedstawiono zawiesinę ścierającą do polerowania powierzchni w optycznych elementach, która zawiera środek do ścierania wybrany z grupy obejmującej tlenek glinu, szkło, pył diamentowy, karborund, węglik tungstenu, węglik krzemu lub azotek boru z cząstkami o wielkości do jednego mikrona.European Patent No. EP 608 730-A1 shows an abrasive slurry for polishing surfaces in optical elements that contains an abrasive agent selected from the group consisting of alumina, glass, diamond dust, carborundum, tungsten carbide, silicon carbide or boron nitride with a particle size of to one micron.
W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki numer 5 693 239 przedstawiono wodną zawiesinę do polerowania i wyrównywania płaszczyzny obrabianych przedmiotów metalowych, która zawiera submikronowe cząstki alfa tlenku glinu, łącznie z inną bardziej miękką postacią tlenku glinu lub bezpostaciowej krzemionki.U.S. Patent No. 5,693,239 describes an aqueous slurry for polishing and flattening metal workpieces that contains submicron alpha alumina particles, including another softer form of alumina or amorphous silica.
Znaczna ilość prac w tej dziedzinie dotyczy zawiesinowych kompozycji do chemicznego i mechanicznego polerowania materiałów półprzewodnikowych, w których ponownie zwykle stosuje się te same środki ścierne ze zmianami składników zawieszonego podłoża.A significant amount of work in this field relates to slurry compositions for chemical and mechanical polishing of semiconductor materials, which again typically reuse the same abrasives with changes to the components of the suspended substrate.
Powodzenie polerowania szkieł w znacznym stopniu zależy oczywiście od twardości szkła. Polerowanie bardzo twardych szkieł oczywiście trzeba prowadzić bardzo długo i powstają końcowe problemy jeśli dla oczywistej wygody stosuje się bardziej twarde proszki ścierne.The success of polishing glasses is of course largely dependent on the hardness of the glass. The polishing of very hard glasses of course takes a very long time and there are final problems if harder abrasive powders are used for obvious convenience.
Dotychczasowe kompozycje zawiesinowe często są bardzo skuteczne dla uzyskania pożądanego efektu. Jednak wymagają one również długich okresów czasu. Uzyskano nową kompozycję, w której dwa tlenki, tlenek glinu i dwutlenek cyrkonu wykazują synergizm działania, tak, że ich wzajemne działanie daje lepsze wyniki niż suma działania pojedynczych składników. Taka kompozycja pozwala na uzyskanie bardzo wysokiego poziomu optycznej perfekcji w czasie krótszym niż konieczny dla uzyskania tego wyniku przy użyciu dotychczasowych zawiesin bez konieczności stosowania podwyższonej temperatury, czasami wykorzystywanej dla zwiększenia reaktywności. Ponadto, bardzo skutecznie polerują one również twarde szkła z tylko niewielkim lub bez równoczesnego uszkodzenia powierzchni. Można je stosować w urządzeniach do polerowania typu poduszki (ang. pad) lub kostki (ang. pitch).The existing suspension compositions are often very effective in achieving the desired effect. However, they also require long periods of time. A new composition was obtained in which the two oxides, aluminum oxide and zirconium dioxide, show synergism of action, so that their mutual action gives better results than the sum of the actions of the individual components. Such a composition allows a very high level of optical perfection to be achieved in less time than necessary to achieve this result with prior art suspensions without the need for the elevated temperatures sometimes employed to increase reactivity. In addition, they also polish hard glasses very effectively with little or no damage to the surface. They can be used in pad or pitch polishing machines.
Przedmiotem niniejszego wynalazku jest kompozycja do optycznego polerowania, zawierająca środek zawieszający z zawieszonymi w nim cząstkami ściernymi, będącymi cząstkami alfa tlenku glinu i cząstkami dwutlenku ceru w stosunku tlenku glinu do dwutlenku ceru w granicach od 95:5 do 85:15 i bardziej korzystnie od 96:4 do 88:12.The present invention relates to an optical polishing composition comprising a suspending agent with abrasive particles suspended therein which are alpha alumina particles and cerium dioxide particles in a ratio of alumina to cerium dioxide from 95: 5 to 85:15 and more preferably from 96 : 4 to 88:12.
W korzystnych kompozycjach tlenek glinu jest w postaci cząstek, które są zasadniczo o wymiarach submikronowych i średni wymiar cząstki jest mniejszy niż 0,5 mikrona i bardziej korzystnie od 0,15 do 0,25 mikrona. W odniesieniu do opisu niniejszego zgłoszenia należy rozumieć, że określenie „średnie wymiary cząstki” są wartościami „D50” oznaczonymi przy użyciu analizatora wielkości cząstek typu Horiba L-910. Takie tlenki glinu uzyskuje się, na przykład, sposobem przedstawionym w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki numer 4 657 754.In preferred compositions, the alumina is in the form of particles that are substantially submicron in size and the mean particle size is less than 0.5 microns and more preferably from 0.15 to 0.25 microns. With reference to the description of the present application, it should be understood that the term "average particle size" is the "D50" value as determined using a Horiba L-910 type particle size analyzer. Such alumina are obtained, for example, by the method described in U.S. Patent No. 4,657,754.
Dostępny w handlu dwutlenek ceru zwykle jest mieszaniną tlenków metali ziem rzadkich z dwutlenkiem ceru jako głównym składnikiem. Inne składniki mogą obejmować tlenek neodymowy, tlenek samaru, tlenek prazeodymu i tlenek lantanu. Mogą również występować inne mniejsze ilości innych ziem rzadkich. W praktyce stwierdzono, że czystość „dwutlenku ceru” nie ma większego wpływu na przydatność cząstek ściernych z zastosowaniu do polerowania, tym samym właściwości użyteczne zgodnie z niniejszym wynalazkiem są udziałem handlowych substancji sprzedawanych pod nazwą dwutlenku ceru zawierających większą lub mniejszą ilość wszystkich innych tlenków metali ziem rzadkich. Dla celów niniejszego opisu, mieszaniny tlenków metali ziem rzadkich, w których dwutlenek ceru stanowi główny składnik, określony w procentach wagowych produktu, będą określane jako „dwutlenek ceru”. Przykłady handlowych źródeł „dwutlenku ceru” obejmują „50D1” i „Superox 50” (obydwa są dostępne w firmie Cercoa PenYan Nowy Jork), które zawierają, odpowiednio około 75% i 34% dwutlenku ceru; i „Rhodox 76” (z firmy Rhone Poulenc) zawierający około 50% dwutlenku ceru.Commercially available cerium dioxide is usually a mixture of rare earth metal oxides with cerium dioxide as the major component. Other ingredients may include neodymium oxide, samarium oxide, praseodymium oxide, and lanthanum oxide. Other smaller amounts of other rare earths may also be present. In practice, it has been found that the purity of the "cerium dioxide" has no major effect on the suitability of the abrasive particles for polishing applications, thus the properties useful in the present invention are the proportion of commercial substances sold under the name cerium dioxide containing a greater or lesser amount of all other earth metal oxides. rare. For the purposes of this specification, mixtures of rare earth oxides in which cerium dioxide is the major component, as determined by weight percent of the product, will be referred to as "cerium dioxide". Examples of commercial sources of "cerium dioxide" include "50D1" and "Superox 50" (both available from Cercoa PenYan New York) which contain about 75% and 34% cerium dioxide, respectively; and "Rhodox 76" (ex Rhone Poulenc) containing about 50% cerium dioxide.
Dostępny w handlu dwutlenek ceru rozpatrywany pod kątem rozkładu wielkości cząstek zwykle jest w postaci dwuskładnikowej mieszaniny cząstek, z pikami wokół cząstek o roz4Commercially available cerium dioxide considered for particle size distribution typically is in the form of a binary mixture of particles, with peaks around the particles having a size distribution of
186 840 miarach 0,4 i 4 mikrony, przy czym większość cząstek występuje w większych rozmiarach. Daje to wartość ogólną D50 dla proszku mniejszą niż 4, zwykle w zakresie 3-3,5 mikronów. Stwierdzono, że jeśli ten rozkład zmniejsza się za pomocą mielenia dwutlenku ceru do stosunkowo jednolitej wielkości cząstek około 0,2 mikrona i bardziej korzystnie około 0,4 mikrona, to użyteczność kompozycji nie zostaje zbytnio zwiększona chyba, że szkło jest szczególnie twarde i pożądany jest również wysoki poziom wizualnej perfekcji. W tych warunkach substancja o rozkładzie cząstek niemielonych często okazuje się bardziej skuteczna.186,840 measures 0.4 and 4 microns, with most of the particles being larger. This gives an overall D50 for the powder of less than 4, typically in the range of 3-3.5 microns. It has been found that if this decomposition is reduced by grinding the cerium dioxide to a relatively uniform particle size of about 0.2 micron and more preferably about 0.4 micron, the utility of the composition is not greatly enhanced unless the glass is particularly hard and is also desired. high level of visual perfection. Under these conditions, a substance with a distribution of unground particles often proves to be more effective.
Środkiem, w którym cząstki ścierające są zawieszone jest środowisko wodne z możliwymi małymi ilościami cieczy mieszających się z wodą, takich jak, alkohole. Najczęściej stosuje się wodę dejonizowaną łącznie ze środkiem powierzchniowo czynnym dodanym w celu lepszego zawieszenia cząstek ścierających. Zwykle części stałe stanowią w zawiesinie od 5 do 15, a nawet 20% wagowych, przy czym mniejsze wartości lub bardziej rozcieńczone zawiesiny stosuje się dla kostki. Zwykle, zawiesina o mniejszej zawartości stałych składników będzie polerowała wolniej, zaś zawiesinie o większej zawartości stałych składników towarzyszy problem osiadania cząstek ścierających. Wymogi praktyczne dyktują zawartość stałych składników w zawiesinie na poziomie od 5 do 15 i bardziej korzystnie od 8 do 12% wagowych.The medium in which the abrasive particles are suspended is an aqueous medium with possibly small amounts of water miscible liquids, such as alcohols. Most often, deionized water is used together with a surfactant added to better suspend the abrasive particles. Typically the solids in the slurry are from 5 to 15 or even 20% by weight, with lower values or more dilute suspensions being used for the bar. Typically, a slurry with a lower solids content will polish more slowly, and a slurry with a higher solids content has the problem of settling of abrasive particles. Practical requirements dictate the solids content of the slurry from 5 to 15 and more preferably from 8 to 12 wt%.
Poniżej wynalazek opisano w następujących przykładach, które zamieszcza się w celu zilustrowania użyteczności wynalazku i wpływu czystości i wielkości cząstek dwutlenku ceru. Przykłady jednak nie mają na celu jakiegokolwiek ograniczania zakresu wynalazku.The invention is described below in the following examples, which are intended to illustrate the utility of the invention and the effect of purity and particle size of cerium dioxide. However, the examples are not intended to limit the scope of the invention in any way.
Przykład 1Example 1
W tym przykładzie porównuje się użyteczność mieszaniny cząstek ścierających według wynalazku z zawiesinami kompozycji zawierających osobno składniki.This example compares the utility of the mixture of abrasive particles of the invention with suspensions of the compositions containing the separate components.
Próby polerowania przeprowadza się na dwustronnym urządzeniu AC500 Peter Wolters zaopatrzonym w polerujące poduszki „Suba 500” dostępne z firmy Rodel, Inc. Polerowane próbki szkła były wykonane ze stopionej krzemionki kwarcowej (Coming), pomyślane jako wyraźnie twarde szkło (560 - 640 Knoop).The polishing tests are performed on a double-sided AC500 Peter Wolters machine equipped with "Suba 500" polishing pads available from Rodel, Inc. The polished glass samples were made of fused quartz silica (Coming), conceived as clearly hard glass (560 - 640 Knoop).
Próbki poleruje się przy użyciu zawiesiny zawierającej 10% substancji stałych w każdym z trzech środków ściernych. Pierwszy z nich zawiera 100% tlenku glinu, drugi 100% dwutlenku ceru, zaś trzeci mieszaninę tego samego tlenku glinu i dwutlenku ceru w stosunku 90:10. Tlenek glinu uzyskuje się z firmy Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. i zawiera on cząstki alfa tlenku glinu o wielkości pomiędzy około 20 do 50 nanometrów, w postaci aglomeratów o średnicy około 0,15 do 0,25 mikrona. Zasadniczo nie zawiera aglomeratów o średnicy większej niż mikron. Dwutlenek ceru stosuje się w postaci substancji o nazwie Rhodox 76, zawierającej około 50% tlenków metali ziem rzadkich, zmielony do wielkości cząstek dającej D50 wynoszącą około 0,4 mikrona. Zawiesiny przygotowuje się w dejonizowanej wodzie, do której dodaje się 0,07% wagowych substancji powierzchniowo czynnej (poliakrylan sodowy, dostępny z firmy R.T. Vanderbilt pod nazwą handlową Darvan 811).The samples are polished using a slurry containing 10% solids in each of the three abrasives. The first one contains 100% alumina, the second one contains 100% cerium dioxide, and the third one is a 90:10 mixture of the same alumina and cerium dioxide. Alumina is obtained from Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. and contains alpha alumina particles between about 20 to 50 nanometers in size as agglomerates with a diameter of about 0.15 to 0.25 microns. It generally does not contain agglomerates larger than a micron in diameter. Cerium dioxide is used as a substance called Rhodox 76, containing about 50% rare earth oxides, ground to a particle size giving a D50 of about 0.4 microns. Suspensions are prepared in deionized water to which is added 0.07% by weight of a surfactant (sodium polyacrylate, available from R.T. Vanderbilt under the trade name Darvan 811).
Użyteczność w odniesieniu do otrzymanej powierzchni końcowej była badana w czasie i wykres wykonano na podstawie zebranych danych. Wyniki przedstawiono na fig. 1. Na fig. 2 przedstawiono te same dane z rozszerzeniem o oś „wykończenie” w celu wyraźniejszego wykazania poprawy.Usability in relation to the obtained end surface was tested over time and a plot was made from the collected data. The results are shown in Fig. 1. Fig. 2 shows the same data with an extension of the "finish" axis to more clearly demonstrate the improvement.
Na podstawie fig. 1 i fig. 2 można stwierdzić, że jakkolwiek próbka polerowana przy użyciu 100% dwutlenku ceru wykazuje lepsze początkowe wykończenie, (to znaczy, przed polerowaniem jest bardziej gładka), niż dwie pozostałe, to nie jest polerowana tak dobrze. Na podstawie fig. 2, można stwierdzić, że sam tlenek glinu nigdy przy wykańczaniu powierzchni nie osiąga wartości Ra 200 angstremów. Z drugiej strony ten poziom wykończenia powierzchni przy użyciu dwutlenku ceru osiąga się po czasie 19 minut, zaś przy użyciu mieszaniny według niniejszego wynalazku ten poziom osiąga się w czasie krótszym niż 10 minut. Patrząc z innej strony, po czasie około 10 minut zawiesina do polerowania zawierająca dwutlenek ceru jako substancję ścierną, wykazuje wykończenie powierzchni na poziomie około 900, zawiesina zawierająca tlenek glinu jako substancję ścierną wykazuje wykończenie niewiele mniejsze niż 600 i zawiesina według niniejszego wynalazku powoduje wykończenie na poziomie niższym niż 200.From Figures 1 and 2 it can be seen that while a sample polished with 100% cerium dioxide exhibits a better initial finish (i.e., is smoother prior to polishing) than the other two, it is not polished as well. On the basis of FIG. 2, it can be concluded that the alumina alone never in the finishing of the surface of the value of R and 200 angstroms. On the other hand, this level of surface finish with cerium dioxide is reached after 19 minutes, while with the mixture of the present invention this level is reached in less than 10 minutes. On the other hand, after about 10 minutes, the polishing slurry containing cerium dioxide abrasive has a surface finish of about 900, the slurry containing alumina abrasive has a finish slightly less than 600, and the slurry of the present invention produces a finish of about 900. lower than 200.
186 840186 840
Przykład 2Example 2
W przykładzie tym bada się wpływ zmiany wielkości cząstek dwutlenku ceru na polerowanie stopionej krzemionki.This example examines the effect of changing the cerium dioxide particle size on polishing fused silica.
Stosowano kompozycję według niniejszego wynalazku z dwutlenkiem ceru o nazwie Rhodox 76 uzyskanym z firmy Rhone Poulenc. Rhodox 76 zawierał jednak cząstki o czterech różnych wielkościach (co określono przez pomiar wartości D50 przy użyciu analizatora wielkości cząstek typ Horiba LA910) i każdy z tych wielkości stosowano w oddzielnej próbie polerowania. Wielkości zastosowanych cząstek wynosiły 3,17 mikrona, 2,14 mikrona, 0,992 mikrona i 0,435 mikrona. Na fig. 3 zestawiono uzyskane wyniki. Z fig. 3 wynika, że dla tego rodzaju szkła, zaobserwowano niewielkie różnice w przydatności do polerowania związane z wielkością cząstek dwutlenku ceru. Podobne wyniki uzyskano przy użyciu jako źródeł dwutlenku ceru, preparatów „Superox 50” i „50D-1”.The composition of the present invention was used with a cerium dioxide called Rhodox 76 obtained from Rhone Poulenc. The Rhodox 76, however, contained four different particle sizes (as determined by measuring the D50 value using a Horiba LA910 type particle size analyzer) and each was used in a separate polishing test. The particle sizes used were 3.17 microns, 2.14 microns, 0.992 microns and 0.435 microns. Fig. 3 summarizes the results obtained. Fig. 3 shows that for this type of glass, slight variations in polishability related to the particle size of the cerium dioxide were observed. Similar results were obtained with "Superox 50" and "50D-1" as sources of cerium dioxide.
Przykład 3Example 3
W przykładzie tym badano wpływ źródła pochodzenia dwutlenku ceru, zwłaszcza czy czystość tego produktu w jakikolwiek sposób wpływa na skuteczność polerowania. Przygotowano kompozycje według niniejszego wynalazku, takie jak w przykładzie 1, ale zawierające około 10% dwutlenku ceru i odpowiednio około 90% tlenku glinu. Kompozycje te badano w próbach polerowania szkła ze stopionej krzemionki przy użyciu urządzenia i sposobem identycznym do opisanego w przykładzie 1. Otrzymane wyniki przedstawiono na fig. 4. Pierwsza próbka, „S”, zawierała „Superox 50”, w którym dwutlenek ceru stanowi około 34%. Druga, „R”, zawierała „Rhodox 76”, w którym dwutlenek ceru stanowi około 50%. Trzecia, „D”, zawierała „50D1”, w którym dwutlenek ceru stanowi około 75%. Jak stwierdzono, pomiędzy tymi trzema badaniami występowały tylko niewielkie różnice skuteczności polerowania. Wydaje się, że tlenki innych metali ziem rzadkich będą prawdopodobnie zachowywać się podobnie jak dwutlenek ceru w kompozycjach według wynalazku.In this example, the influence of the source of the cerium dioxide was investigated, in particular whether the purity of this product in any way influences the effectiveness of polishing. The compositions of the present invention were prepared as in Example 1, but containing about 10% cerium dioxide and suitably about 90% alumina. These compositions were tested in polishing fused silica glass using a device and a method identical to that described in Example 1. The results obtained are shown in Figure 4. The first sample, "S", contained "Superox 50" in which cerium dioxide is about 34 %. The second, "R", contained "Rhodox 76" in which cerium dioxide is about 50%. The third, "D", contained "50D1" in which cerium dioxide is about 75%. As stated, there were only slight differences in polishing performance between the three studies. It appears that other rare earth metal oxides are likely to behave similar to cerium dioxide in the compositions of the present invention.
Przykład 4Example 4
W tym przykładzie badano skuteczność polerowania i wpływ wielkości cząstek dwutlenku ceru w próbach ze szkłem B270 (twarde szkło o 530 Knoop). Podczas gdy w powyższych przykładach, w warunkach laboratoryjnych badano tylko „wykańczanie powierzchni” mierzone przez określenie wartości Ra, poniższe badanie wykonano pod kątem użyteczności przemysłowej, przy pomocy specjalisty, który określał końcowy wynik w zakresie wizualnej perfekcji. Tym sposobem, bardziej niż dotychczas mierzoną wartością Ra, można zidentyfikować „zaciemnienie” powstające w wyniku niedoskonałości powierzchni po operacji polerowania.In this example, the polishing performance and the effect of cerium dioxide particle size were tested in trials with B270 glass (530 Knoop hard glass). While in the above examples, only the "surface finish" measured by the determination of the Ra value was tested under laboratory conditions, the following test was performed for industrial utility, with the assistance of a skilled person who determined the final result in terms of visual perfection. In this way, more than the Ra value measured hitherto, it is possible to identify the "darkening" resulting from surface imperfections after the polishing operation.
Stosowano urządzenie do dwustronnego typu 4800 P.R. Hoffman, zaopatrzone w polerujące poduszki „Suba 10” uzyskane z korporacji Rodel. Na próbki w czasie polerowania stosowano ciśnienie około 1,5 psi, (1,034 x 104 paskali). Polerowanie kończono w momencie gdy uzyskiwano pożądany poziom perfekcji powierzchni (klarowność).A 4800 PR Hoffman double-sided machine was used, fitted with "Suba 10" polishing pads obtained from the Rodel Corporation. Sample was used during the polishing pressure of about 1.5 psi (1.034 x 10 4 Pascals). The polishing was completed when the desired level of surface perfection (clarity) was achieved.
Badano trzy kompozycje według niniejszego wynalazku. Wszystkie trzy zawierały tlenek glinu i środki powierzchniowo czynne opisane w przykładzie 1, w tych samych ilościach i je, łączme z dwutlenkiem ceru w tych samych względnych proporcjach w wodzie dejonizowanej. Różnice pomiędzy składnikami leżały w wielkości cząstek dwutlenku ceru. W pierwszej („kompozycja A”), dwutlenek ceru występował w postaci cząstek o wartości wynoszącej 0,4 mikrona. W drugiej i trzeciej („kompozycje B i B'”), dwutlenek ceru (Superox 50) stosowano bezpośrednio w postaci dostarczanej przez producenta. Jedyne różnice w tych dwóch przypadkach występowały tylko w polerowanych próbkach szkła. W drugiej z nich ,,B'”, wielkości próbek polerowanych były mniejsze, tym samym ciśnienie przykładane do nich w czasie polerowania w tym samym urządzeniu było większe. Powodowało to szybsze uzyskanie końcowego momentu polerowania. W czwartej, „kompozycja C”, dwutlenek ceru (Rhodox 76) również stosowano w postaci dostarczanej przez producenta. Jak wspomniano wcześniej, rozkłady wielkości cząstek tych substancji mają charakter dwupikowy, z olbrzymią większością posiadających pik około 4, co stwierdzono po analizie przy użyciu analizatora wielkości cząstek typu Horiba 910. Wyniki zamieszczono w poniższej tabeli.Three compositions according to the present invention were tested. All three contained the alumina and surfactants described in Example 1 in the same amounts and combined with cerium dioxide in the same relative proportions in deionized water. The differences between the ingredients lay in the particle size of the cerium dioxide. In the first ("composition A"), the cerium dioxide was in the form of 0.4 micron particles. In the second and third ("compositions B and B"), cerium dioxide (Superox 50) was used directly as supplied by the manufacturer. The only differences in these two cases were only in the polished glass samples. In the second one, "B", the sizes of the polished samples were smaller, thus the pressure applied to them during polishing in the same machine was greater. This resulted in a faster final polishing moment. In the fourth, "composition C", cerium dioxide (Rhodox 76) was also used as supplied by the manufacturer. As mentioned earlier, the particle size distributions of these substances are two-peak in nature, with the vast majority having a peak of about 4 as determined by the Horiba 910 type particle size analyzer. The results are shown in the table below.
186 840186 840
TabelaTable
Kompozycja A, (w której stosowano mielony dwutlenek ceru, daje jednolitą, jasną, szarą barwę po 90 minutach i wymaga dalszych 30 minut dla usunięcia tej szarości i pozostawia płaskość poniżej jednej dziesiątej długości fali. Kompozycje B i B' polerują bardzo agresywnie i jednorodnie gęsto na całej powierzchni płytki. Kompozycja C również poleruje w najwyższym stopniu dobrze i szybko. Płytki ze szkła B270 posiadały powierzchnię doskonale płaską. Inne środki polerujące mogą zapewniać polerowanie bardziej „nieregularne” niż gęste i jednorodne polerowanie przy użyciu wymienionych kompozycji.Composition A (which used ground cerium dioxide produces a uniform light gray color after 90 minutes and requires a further 30 minutes to remove this gray and leaves a flatness below one tenth of a wavelength. Compositions B and B 'polish very aggressively and uniformly densely) Composition C also polished extremely well and quickly. The B270 glass tiles had a perfectly flat surface. Other polishing agents may provide a more "irregular" polishing than a dense and homogeneous polishing with the listed compositions.
Z powyższych danych wynika, że gdy krytyczna jest klarowność, polerujące kompozycje zawierające niemielony dwutlenek ceru zapewniają znaczne korzyści. Przeciwnie, kompozycje zawierające mielony dwutlenek ceru ścierają i nadają płaskość szybko, ale więcej czasu potrzeba do uzyskania wizualnej perfekcji.From the above data, it is apparent that when clarity is critical, unground cerium dioxide polishing compositions provide significant benefits. In contrast, compositions containing ground cerium dioxide abrasive and flatness quickly, but more time is required to achieve visual perfection.
Claims (4)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/025,730 US5989301A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Optical polishing formulation |
| PCT/US1999/003143 WO1999042537A1 (en) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Optical polishing formulation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL342392A1 PL342392A1 (en) | 2001-06-04 |
| PL186840B1 true PL186840B1 (en) | 2004-03-31 |
Family
ID=21827759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL99342392A PL186840B1 (en) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Optical polishing composition |
Country Status (28)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5989301A (en) |
| EP (1) | EP1060221B1 (en) |
| JP (1) | JP3605036B2 (en) |
| KR (1) | KR100354202B1 (en) |
| CN (1) | CN1187426C (en) |
| AR (1) | AR014959A1 (en) |
| AT (1) | ATE245180T1 (en) |
| AU (1) | AU729245B2 (en) |
| BR (1) | BR9908020B1 (en) |
| CA (1) | CA2319107C (en) |
| CO (1) | CO5060536A1 (en) |
| CZ (1) | CZ294042B6 (en) |
| DE (1) | DE69909597T2 (en) |
| DK (1) | DK1060221T3 (en) |
| ES (1) | ES2204107T3 (en) |
| FI (1) | FI118180B (en) |
| HU (1) | HUP0101154A3 (en) |
| IL (1) | IL137804A0 (en) |
| MY (1) | MY123257A (en) |
| NO (1) | NO319039B1 (en) |
| NZ (1) | NZ505901A (en) |
| PL (1) | PL186840B1 (en) |
| PT (1) | PT1060221E (en) |
| RU (1) | RU2181132C1 (en) |
| SK (1) | SK285219B6 (en) |
| TW (1) | TWI239995B (en) |
| WO (1) | WO1999042537A1 (en) |
| ZA (1) | ZA991150B (en) |
Families Citing this family (60)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839362B2 (en) * | 2001-05-22 | 2005-01-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems |
| US20030092271A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-05-15 | Nyacol Nano Technologies, Inc. | Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries |
| US6896591B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-05-24 | Cabot Microelectronics Corporation | Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same |
| US7326477B2 (en) * | 2003-09-23 | 2008-02-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same |
| US7045223B2 (en) * | 2003-09-23 | 2006-05-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
| US20050061230A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
| US7919815B1 (en) | 2005-02-24 | 2011-04-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel wafers and methods of preparation |
| US7294044B2 (en) * | 2005-04-08 | 2007-11-13 | Ferro Corporation | Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates |
| CN101594966B (en) * | 2006-12-19 | 2012-10-17 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | Submicron alpha alumina high temperature bonded abrasives |
| WO2010008430A1 (en) | 2008-06-23 | 2010-01-21 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | High porosity vitrified superabrasive products and method of preparation |
| JP5571695B2 (en) * | 2009-01-30 | 2014-08-13 | レンズセーバーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | Plastic cover and lens repair compositions and methods |
| CN102648072A (en) | 2009-10-27 | 2012-08-22 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | Resin bonded abrasive |
| BR112012009810A2 (en) | 2009-10-27 | 2016-11-22 | Saint Gobain Abrasifs Sa | vitrified superabrasive product and its production method, grinding tool and its grinding method and superabrasive mixing |
| RU2608890C2 (en) * | 2010-09-08 | 2017-01-26 | Басф Се | Aqueous polishing composition containing n-substituted diazenium dioxides and/or salts of n-substituted n'-hydroxy-diazenium oxides |
| BR112013016734A2 (en) | 2010-12-31 | 2019-09-24 | Saint Gobain Ceramics | abrasive particles with particular shapes and methods of deformation of such particles |
| TWI605112B (en) * | 2011-02-21 | 2017-11-11 | Fujimi Inc | Polishing composition |
| WO2013003831A2 (en) | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Liquid phase sintered silicon carbide abrasive particles |
| US8986409B2 (en) | 2011-06-30 | 2015-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride |
| US9517546B2 (en) | 2011-09-26 | 2016-12-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particulate materials, coated abrasives using the abrasive particulate materials and methods of forming |
| WO2013049526A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing hard surfaces |
| CN104114664B (en) | 2011-12-30 | 2016-06-15 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | Form molding abrasive grains |
| EP3517245B1 (en) | 2011-12-30 | 2023-12-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | Shaped abrasive particle and method of forming same |
| CN104114327B (en) | 2011-12-30 | 2018-06-05 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | Composite molding abrasive grains and forming method thereof |
| US9266220B2 (en) | 2011-12-30 | 2016-02-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and method of forming same |
| WO2013106602A1 (en) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
| CA2987793C (en) | 2012-01-10 | 2019-11-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having complex shapes and methods of forming same |
| US9321947B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-04-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing coated surfaces |
| US9138867B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-09-22 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing surfaces |
| US8968435B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-03-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses |
| US9242346B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-01-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products having fibrillated fibers |
| KR101888347B1 (en) | 2012-05-23 | 2018-08-16 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
| BR112014032152B1 (en) | 2012-06-29 | 2022-09-20 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc | ABRASIVE PARTICLES HAVING PARTICULAR FORMATS AND ABRASIVE ARTICLES |
| CN104822494B (en) | 2012-10-15 | 2017-11-28 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | The method of abrasive particle and this particle of formation with given shape |
| WO2014106173A1 (en) | 2012-12-31 | 2014-07-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Particulate materials and methods of forming same |
| CN107685296B (en) | 2013-03-29 | 2020-03-06 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | Abrasive particles having a particular shape, methods of forming such particles, and uses thereof |
| TW201502263A (en) | 2013-06-28 | 2015-01-16 | Saint Gobain Ceramics | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| WO2015048768A1 (en) | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
| JP6290428B2 (en) | 2013-12-31 | 2018-03-07 | サンーゴバン アブレイシブズ，インコーポレイティド | Abrasive articles containing shaped abrasive particles |
| US9771507B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same |
| BR112016023880A2 (en) | 2014-04-14 | 2017-08-15 | Saint Gobain Ceramics | abrasive article including molded abrasive particles |
| AU2015247826A1 (en) | 2014-04-14 | 2016-11-10 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| WO2015184355A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles |
| US9707529B2 (en) | 2014-12-23 | 2017-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Composite shaped abrasive particles and method of forming same |
| US9914864B2 (en) | 2014-12-23 | 2018-03-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and method of forming same |
| US9676981B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle fractions and method of forming same |
| WO2016161157A1 (en) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
| TWI634200B (en) | 2015-03-31 | 2018-09-01 | 聖高拜磨料有限公司 | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
| JP2018516767A (en) | 2015-06-11 | 2018-06-28 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス，インコーポレイティド | Abrasive articles containing shaped abrasive particles |
| EP4071224A3 (en) | 2016-05-10 | 2023-01-04 | Saint-Gobain Ceramics and Plastics, Inc. | Methods of forming abrasive articles |
| EP4349896A2 (en) | 2016-09-29 | 2024-04-10 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
| US10759024B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-09-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| US10563105B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-02-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| US10865148B2 (en) | 2017-06-21 | 2020-12-15 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Particulate materials and methods of forming same |
| US11865663B2 (en) * | 2018-05-10 | 2024-01-09 | George Shuai | Optical surface polishing |
| CN109439282A (en) * | 2018-10-23 | 2019-03-08 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | Composite Nano abrasive material, polishing fluid and preparation method thereof, chip glass and electronic equipment |
| CN109135580B (en) * | 2018-10-25 | 2021-04-02 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | Polishing solution for glass and preparation method thereof |
| CN110724460A (en) * | 2019-11-13 | 2020-01-24 | 刘通 | Preparation method of cerium-aluminum composite oxide polishing powder |
| KR20220116556A (en) | 2019-12-27 | 2022-08-23 | 세인트-고바인 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인크. | Abrasive articles and methods of forming same |
| CN113881348A (en) * | 2021-11-04 | 2022-01-04 | 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 | Composite alumina polishing solution and preparation method and application thereof |
| CN114213977A (en) * | 2021-12-23 | 2022-03-22 | 中天科技精密材料有限公司 | Polishing agent and preparation method thereof |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3429080A (en) * | 1966-05-02 | 1969-02-25 | Tizon Chem Corp | Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process |
| GB1501570A (en) * | 1975-11-11 | 1978-02-15 | Showa Denko Kk | Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing |
| US4161394A (en) * | 1978-06-19 | 1979-07-17 | Regan Glen B | Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent |
| FR2549846B1 (en) * | 1983-07-29 | 1986-12-26 | Rhone Poulenc Spec Chim | NOVEL CERIUM-BASED POLISHING COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
| US4576612A (en) * | 1984-06-01 | 1986-03-18 | Ferro Corporation | Fixed ophthalmic lens polishing pad |
| US5312789A (en) * | 1987-05-27 | 1994-05-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith |
| ATE137792T1 (en) * | 1992-09-25 | 1996-05-15 | Minnesota Mining & Mfg | METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM OXIDE AND CEROXIDE CONTAINING ABRASIVE GRAIN |
| CA2111010A1 (en) * | 1993-01-29 | 1994-07-30 | Robert James Hagerty | Method of finely polishing planar optical elements |
| US5549962A (en) * | 1993-06-30 | 1996-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Precisely shaped particles and method of making the same |
| US5465314A (en) * | 1993-09-09 | 1995-11-07 | The Furukawa Electronic Co., Ltd. | Method of manufacturing optical connector |
| US5632668A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for the polishing and finishing of optical lenses |
| KR960041316A (en) * | 1995-05-22 | 1996-12-19 | 고사이 아키오 | Polishing slurry, method for producing the same, and use thereof |
| US5693239A (en) * | 1995-10-10 | 1997-12-02 | Rodel, Inc. | Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use |
| US5702811A (en) * | 1995-10-20 | 1997-12-30 | Ho; Kwok-Lun | High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains |
| CA2253498A1 (en) * | 1996-05-08 | 1997-11-13 | Kam W. Law | Abrasive article comprising an antiloading component |
| US5858813A (en) * | 1996-05-10 | 1999-01-12 | Cabot Corporation | Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films |
| KR19980019046A (en) * | 1996-08-29 | 1998-06-05 | 고사이 아키오 | Abrasive composition and use of the same |
| JP3856513B2 (en) * | 1996-12-26 | 2006-12-13 | 昭和電工株式会社 | Abrasive composition for glass polishing |
| US5876268A (en) | 1997-01-03 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and article for the production of optical quality surfaces on glass |
| US5833724A (en) * | 1997-01-07 | 1998-11-10 | Norton Company | Structured abrasives with adhered functional powders |
| US5851247A (en) * | 1997-02-24 | 1998-12-22 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece |
| US5910471A (en) | 1997-03-07 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article for providing a clear surface finish on glass |
| US5876470A (en) * | 1997-08-01 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles |
-
1998
- 1998-02-18 US US09/025,730 patent/US5989301A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-12 ZA ZA9901150A patent/ZA991150B/en unknown
- 1999-02-12 MY MYPI99000512A patent/MY123257A/en unknown
- 1999-02-15 CO CO99008983A patent/CO5060536A1/en unknown
- 1999-02-16 WO PCT/US1999/003143 patent/WO1999042537A1/en active IP Right Grant
- 1999-02-16 KR KR1020007009035A patent/KR100354202B1/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 JP JP2000532484A patent/JP3605036B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 CN CNB998028681A patent/CN1187426C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 AU AU26777/99A patent/AU729245B2/en not_active Ceased
- 1999-02-16 IL IL13780499A patent/IL137804A0/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 AT AT99907002T patent/ATE245180T1/en active
- 1999-02-16 NZ NZ505901A patent/NZ505901A/en unknown
- 1999-02-16 PT PT99907002T patent/PT1060221E/en unknown
- 1999-02-16 CA CA002319107A patent/CA2319107C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 DK DK99907002T patent/DK1060221T3/en active
- 1999-02-16 RU RU2000122964/04A patent/RU2181132C1/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 PL PL99342392A patent/PL186840B1/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 EP EP19990907002 patent/EP1060221B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 SK SK1145-2000A patent/SK285219B6/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 BR BRPI9908020-6A patent/BR9908020B1/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 ES ES99907002T patent/ES2204107T3/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 DE DE69909597T patent/DE69909597T2/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 CZ CZ20002969A patent/CZ294042B6/en not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 HU HU0101154A patent/HUP0101154A3/en unknown
- 1999-02-16 AR ARP990100633A patent/AR014959A1/en unknown
- 1999-03-02 TW TW088102220A patent/TWI239995B/en not_active IP Right Cessation
- 1999-07-26 US US09/361,438 patent/US6258136B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-15 FI FI20001800A patent/FI118180B/en not_active IP Right Cessation
- 2000-08-17 NO NO20004122A patent/NO319039B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL186840B1 (en) | Optical polishing composition | |
| KR100429940B1 (en) | Improved ceria powder | |
| US5228886A (en) | Mechanochemical polishing abrasive | |
| JP2011238952A (en) | Cmp products | |
| WO1993022103A1 (en) | Compositions and methods for polishing and planarizing surfaces | |
| Jacobs et al. | Magnetorheological finishing of IR materials | |
| CA2039998A1 (en) | Mechanochemical polishing abrasive | |
| JPH11188610A (en) | Mirror surface polishing method for highly hard, inorganic solid material of high rigidity | |
| MXPA00008063A (en) | Optical polishing formulation | |
| JP2003117806A (en) | Mirror-polishing method for polycrystalline ceramics | |
| JP3599816B2 (en) | Abrasive | |
| CN115651544A (en) | Mixed abrasive polishing solution and preparation method thereof | |
| JP2023141786A (en) | Polishing slurry and polishing method | |
| JP2022066727A (en) | Abrasive composition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20120216 |