PL149572B2 - Photopolymerizing compound - Google Patents
Photopolymerizing compoundInfo
- Publication number
- PL149572B2 PL149572B2 PL1986261574A PL26157486A PL149572B2 PL 149572 B2 PL149572 B2 PL 149572B2 PL 1986261574 A PL1986261574 A PL 1986261574A PL 26157486 A PL26157486 A PL 26157486A PL 149572 B2 PL149572 B2 PL 149572B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- phenyl
- photoinitiators
- oder
- group
- die
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 41
- -1 R3 H Chemical group 0.000 claims abstract description 36
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 48
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 3
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 9
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 40
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 9
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 7
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 7
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 7
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNLHQURWXIWCDF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-3-oxo-5-[4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)phenyl]pentyl]phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCCOC(=O)C=C)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 XNLHQURWXIWCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 4
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 4
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 4
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 4
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 4
- PREGASFGSUVSBQ-UHFFFAOYSA-N (2,4-dimethyl-3-oxo-1,5-diphenyl-4-prop-2-enoyloxypentan-2-yl) prop-2-enoate Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=CC=C1)OC(C=C)=O PREGASFGSUVSBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NDJCDNQKIINPMP-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-1,5-diphenylpentan-3-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=CC=C1 NDJCDNQKIINPMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N alpha-isobutyric acid Natural products CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKIJNISGLPWAC-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-methylpropanoyl)phenoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=C(OCCOC(C)=O)C=C1 FLKIJNISGLPWAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)C(Cl)=O DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGVSMFYVGFHYPN-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)CC(C)(OC(C(=C)C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=CC=C1)OC(C(=C)C)=O Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CC(C)(OC(C(=C)C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=CC=C1)OC(C(=C)C)=O BGVSMFYVGFHYPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001730 Moisture cure polyurethane Polymers 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- YLQFBBDMNWYTOS-UHFFFAOYSA-N [4-[2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-3-oxo-5-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)pentyl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC1=CC=C(C=C1)CC(C)(O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)OC(C=C)=O)O YLQFBBDMNWYTOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SGJPFMDBSWNEDP-UHFFFAOYSA-N [4-[2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-5-[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]-3-oxopentyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1CC(C)(O)C(=O)C(C)(O)CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 SGJPFMDBSWNEDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFYWJYZWALOVHT-UHFFFAOYSA-N [4-[2,4-dimethyl-2,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)-5-[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]-3-oxopentyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1CC(C)(OC(=O)C(C)=C)C(=O)C(C)(OC(=O)C(C)=C)CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MFYWJYZWALOVHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTBHHOZLTUQIEZ-UHFFFAOYSA-N [4-[2,4-dimethyl-3-oxo-2,4-di(prop-2-enoyloxy)-5-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)pentyl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC1=CC=C(C=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)OC(C=C)=O)OC(C=C)=O YTBHHOZLTUQIEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N acridone Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3NC2=C1 FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 2
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- VVUBWCWVDFCEOP-UHFFFAOYSA-N benzene;styrene Chemical compound C1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VVUBWCWVDFCEOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Polymers 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- OITFSBRKAUAGND-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)-2-methylpropan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OITFSBRKAUAGND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANYIYFOTQCDBY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(C)(C)C IANYIYFOTQCDBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNZGEQKFTSZKLR-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxy-2-phenylacetyl)phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 VNZGEQKFTSZKLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLPLWDAGOAVZNB-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-3-oxo-5-[4-(2-prop-2-enoyloxyethylsulfanyl)phenyl]pentyl]phenyl]sulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCSC1=CC=C(C=C1)CC(C)(O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)SCCOC(C=C)=O)O DLPLWDAGOAVZNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSIZPRQVKWCGES-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2,4-dimethyl-3-oxo-2,4-di(prop-2-enoyloxy)-5-[4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)phenyl]pentyl]phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCOC1=CC=C(C=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)OCCOC(C=C)=O)OC(C=C)=O QSIZPRQVKWCGES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQPXLBCNVZICAP-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)benzoyl]phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C=C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 DQPXLBCNVZICAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKVCYCWBUNNQH-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(1,4,5,7-tetrahydropyrazolo[3,4-c]pyridin-6-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)C=NN2 DHKVCYCWBUNNQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 2-[butyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCO GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)C=C.CC(=C)C(O)=O MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004786 2-naphthols Chemical class 0.000 description 1
- JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 2-naphthylamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N)=CC=C21 JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BZISNWGGPWSXTK-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl benzoate Chemical compound OCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 BZISNWGGPWSXTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORJNLUXHBUSOKL-UHFFFAOYSA-N 6,7-dihydrodibenzo[2,1-b:1',2'-d][7]annulen-5-one Chemical class O=C1CCC2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C12 ORJNLUXHBUSOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRKOXPROLBZHJQ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)C(C)C)OC(C=C)=O Chemical compound C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)C(C)C)OC(C=C)=O LRKOXPROLBZHJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVPWLZQCWWQRPP-UHFFFAOYSA-N C(C1=CC=CC=C1)(=O)O.C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12 Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)O.C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12 BVPWLZQCWWQRPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000006497 Dianthus caryophyllus Species 0.000 description 1
- 235000009355 Dianthus caryophyllus Nutrition 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 238000005863 Friedel-Crafts acylation reaction Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012544 Viola sororia Nutrition 0.000 description 1
- 241001106476 Violaceae Species 0.000 description 1
- UOMRHJHTXDQGAT-UHFFFAOYSA-N [1,5-bis(4-dodecylphenyl)-2,4-dimethyl-3-oxo-4-prop-2-enoyloxypentan-2-yl] prop-2-enoate Chemical compound C(CCCCCCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)CCCCCCCCCCCC)OC(C=C)=O UOMRHJHTXDQGAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIVBMCHZUKJWGO-UHFFFAOYSA-N [1,5-bis(4-methoxyphenyl)-2,4-dimethyl-3-oxo-4-prop-2-enoyloxypentan-2-yl] prop-2-enoate Chemical compound COC1=CC=C(C=C1)CC(C)(OC(C=C)=O)C(=O)C(C)(CC1=CC=C(C=C1)OC)OC(C=C)=O PIVBMCHZUKJWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPPSIWKPLPVPG-UHFFFAOYSA-N [4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 CZPPSIWKPLPVPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004848 alkoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- CFPRXVGQNOAZPR-UHFFFAOYSA-N benzoyl benzoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CFPRXVGQNOAZPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000011097 chromatography purification Methods 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQKAOOAFEFCDGT-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(C)C UQKAOOAFEFCDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- HERSKCAGZCXYMC-UHFFFAOYSA-N thiophen-3-ol Chemical compound OC=1C=CSC=1 HERSKCAGZCXYMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Description
Egz.
POLSKA
RZECZPOSPOLITA
LUDOWA
OPIS PATENTOWY PATENTU TYMCZASOWEGO
Patent tymczasowy dodatkowy do patentu nr-Zgłoszono: 86 09 26 (P. 261574)
Pierwszeństwo: 85 09 28 Republika Federalna Niemiec
Zgłoszenie ogłoszono: 87 10 19
Opis patentowy opublikowano: 90 07 31
149 572
Int. Cl.4 C08F 2/50 C09D 11/10
Twórca wynalazkuUprawniony z patentu tymczasowego: Merck Patent GmbH,
Darmstadt (Republika Federalna Niemiec)
Mieszanka fotopolimeryzująca
Przedmiotem wynalazku jest mieszanka fotopolimeryzująca, zawierająca co najmniej jeden fotopolimeryzujący związek etylenowo nienasycony, co najmniej jeden fotoinicjator, oraz ewentualnie dalsze znane i rozpowszechnione substancje dodatkowe, zwłaszcza przeznaczona do farb drukarskich i wodnych zawiesin prepolimeru.
Fotochemicznie inicjowane reakcje polimeryzacji uzyskały w technice wielkie znaczenie, w szczególności gdy chodzi o szybkie utwardzenie cienkich warstw, jak np. w przypadku utwardzania powłok lakierowych i żywicznych na papierze, metalu i tworzywie sztucznym albo w przypadku schnięcia farb drukarskich, ponieważ sposoby te w porównaniu z konwencjonalnymi metodami nadrukowywania i nanoszenia powłok wyróżniają się oszczędnością surowca i energii i nikłym obciążaniem równowagi środowiska. Również wytwarzanie materiałów polimerycznych następuje właściwie niejednokrotnie na drodze fotochemicznej polimeryzacji odpowiednich nienasyconych monomerycznych substancji wyjściowych, przy czym można stosować zwykłe sposoby, takie jak polimeryzacja w roztworze i polimeryzacja emulsyjna.
Ponieważ w przypadku omawianych reakcji z reguły żaden z reagentów nie jest w stanie zaabsorbować w wystarczającej mierze promieniowania fotochemicznie czynnego, muszą być dodawane tak zwane fotoinicjatory, które mają możność albo absorbowania wyemitowanego promieniowania jonizującego, przeważnie promieniowania nadfioletowego i przy tym tworzenia aktywnych rodników inicjujących, które ze swej strony zapoczątkowują fotopolimeryzację, albo przekazywanie obranej energii zdolnemu do polimeryzacji reagentowi w celu tworzenia rodników. We właściwej reakcji polimeryzacji inicjatory te zwykle nie biorą udziału.
Jako inicjatory dla fotopolimeryzacji związków nienasyconych dotychczas stosowano głównie pochodne benzofenonu, etery benzoiny, ketale benzilu, pochodne dwubenzocykloheptanonu, antrachińony, ksantony, tioksantony, pochodne cr-ehlorowcoacetofenonu, dwualkoksyacetofenony i hydroksyalkilofenony.
Istotnymi kryteriami doboru takich inicjatorów są między inymi rodzaj przeprowadzanych reakcji, stosunek widma absorpcyjnego inicjatora do widmowego rozdziału energii posiadanego źródła promieniowania, aktywność inicjatora, rozpuszczalność inicjatora w mieszaninie rakcyjnej, stabilność podczas składowania bez udziału światła układu reakcyjnego zadanego tym inicjatorem
149 572 oraz wywieranie wpływu na produkt końcowy przez pozostałe w nim rodniki inicjatora i/luh produkty powstałe z nich podczas reakcji fotochemicznej.
Zdatność do technicznego stosowania wielu z omówionych substancji jest jednak, jak wiadomo, niekiedy wyraźnie ograniczone wskutek szeregu niedogodności. Do nich należy zwłaszcza występująca często zbyt mała reaktywność w kierunku zainicjowania fotopolimeryzacji związków etylenowo nienasyconych. Obok reaktywności właściwej cząsteczce odgrywa przy tym nieraz decydującą rolę rozpuszczalność względnie zdnolność możliwie równomiernego rozprowadzenia fotoinicjatorów w układach fotopolimeryzujących.
Jako szczególnie korzystne pod względem swych pozytywnych właciwości okazały się jednak hydroksyalkiłofenony z ogłoszeniowego opisu Republiki Federalnej Niemiec nr 2722264. Ta specjalna klasa substancji w typowym dla stosowania w przedziale temperaturowym występuje w ciekłym stanie skupienia, z czego wynika korzystna rozpuszczalność lub zdolność do jednorodnego rozprowadzenia w rozpowszechnionych mieszankach fotopolimeryzujących. Ponadto fotoinicjatory te dysponują ponadprzeciętnie wysoką aktywnością przy równocześnie niezwykle korzystnej stabilności nimi zadanych mieszanek podczas składowania bez udziału światła. Pomimo tego fotoinicjatory hydroksyalkilofenonowe wymagają jeszcze udoskonalenia.
Ponieważ te jak i pozostałe powszechnie stosowane fotoinicjatory nie biorą udziału we właściwej reakcji fotopolimeryzacji, toteż w gotowym produkcie pozostają ich nadmiarowe, nieprzereagowane rodniki oraz ich podczas reakcji fotochemicznej powstałe produkty rozkładu. Może to, w zależności od rodzaju i ilości, prowadzić do bardziej lub mniej wyraźniego wywierania wpływu na właściwości produktu. W przypadku fotopolimeryzowanych powłok lakierowych, przykładowo głównej dziedziny stosowania fotoinicjatorów, mogą tego rodzaju rodniki wywierać wpływ na osiągalną twardość końcową warstwy; ponadto może, często naweto dopiero po dłuższym czasie, dochodzić do niepożądanych zmian zabarwienia, przykładowo do żółknięcia. Rodniki inicjatora lub jego produkty rozkładu mogą ze względu na swą mniej lub bardziej wyraźną lotność stać się wskutek nieprzyjemnego zapachu zauważalne; ich dyfuzja z powłoki na zewnątrz do otaczającego środowiska może stwarzać problemy, przykładowo wtedy, gdy materiały opakowaniowe, takie jak puszki i tuby, wyposażone w powłoki fotopolimeryzowane są przewidziane dla atrykułów spożywczych. Właśnie w tym zakresie stosowania kwestię stosowalności rozstrzyga się zdecydowanie ze względu na możliwość lub dowiedzioną toksyczność fotoinicjatorów lub ich produktów rozkładu.
Zgodnie ze stanem techniki określone fotoinicjatory, które obok innych wykazują też podstawniki nienasycone, są znane. Przeważnie chodzi przy tym o pochodne benzoiny lub benzilu. Poza związkiem: σ-allilobenzoiną, która w swym działaniu inicjatorowym zbliża się do hydroksyalkilofenonów, tego rodzaju nienasycone fotoinicjatory nie zdobyły jednak sobie uznania, gdyż pod względem zawartości niprzereagowanych rodników i produktów rozkładu w produkcie polimerycznym nie oferują one żadnych istotnych korzyści, a przeciwnie nie dorównują hydroksyalkilofenonom.
Za podstawę wynalazku wzięto zatem zagadnienie znaleźenia i sporządzenia fotoinicjatorów, które możliwie miałyby wykazywać taką strukturę, ewentualnie dzięki kopolimeryzującym podstawnikom etylenowo nienasyconym, żeby bezpośrednio brały udział w reakcji fotopolimeryzacji, a ich rodniki lub produkty rozkładu możliwie całkowicie wbudowały się w związek polimeryczny. Równocześnie ich inne właściwości, takie jak działanie inicjatorowe i zdolność jednorodnego mieszania się ze zwyczajnymi mieszankami utwardzalnymi radiacyjnie, powinnyby przynajmniej odpowiadać najlepszym ze znanych fotoinicjatorów.
Niespodziewanie stwierdzono obecnie, że wymagania te są znakomicie spełniane przez nowe związki o ogólnym wzorze 1, w którym każdy z symboli R1 i R2 oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy o 1-6 atomach węgla lub rodnik fenylowy, R3 oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy o 1-6 atomach węgla, rodnik alkanoilowy o 1-6 atomach węgla lub grupę Z, R4 oznacza atom wodoru, atom chlorowca, rodnik alkilowy o 1-12 atomach węgla, grupę alkoksylową o 1—12 atomach węgla, grupę alkilotio o 1-12 atomach węgla lub grupę o wzorze 2, a X oznacza atom tlenku, siarki lub azotu, n oznacza liczbę 0-4, m oznacza liczbę 1 dla symbolu X stanowiącego atom tlenu lub siarki albo oznacza liczbę 1 i 2 dla symbolu X stanowiącego atom azotu, Z oznacza grupę
149 572 3
-CO-CR=CR’R”, w której każdy z symboli R, R’ i R” stanowi atom wodoru lub rodnik metylowy, przy czym co najmniej jeden z rodników R3 lub R4 zawiera grupę Z.
Mieszanka fotopolimeryzująa zatem według wynalazku zawiera jako fotoinicjator kopolimeryzujący co najmniej jeden nowy związek o ogólnym wzorze 1, w którym wszystkie symbole mają wyżej podane znaczenie.
Sposób fotopolimeryzacji związków etylenowo nienasyconych lub mieszanek zawierających takie związki, polega na tym, że do poddawanej polimeryzowaniu mieszaniny przed wywołaniem fotopolimeryzacji dodaje się jako fotoinicjator kopolimeryzujący co najmniej jeden związek o wzorze 1, w którym wszystkie symbole mają wyżej podane znaczenie.
Nowe związki o wzorze 1 wywodzą się strukturalnie ze związków: fotoinicjatorów hydroksyalkilofenonowych, lecz w przeciwieństwie do nich jednak zawierają etylenowo nienasycone grupy typu akryloilu. Zgodnie z wyżej podaną definicją wzoru 1 zawsze przynajmniej jeden z rodników R3 lub R4 stanowi lub zawiera grupę Z o strukturze -CO-CR=CR’R”. Każdy z symboli R, R’ i R” może przy tym oznaczać atom wodoru lub rodnik metylowy, przy czym jako grupa Z korzystnie wchodzi w rachubę rodnik akryloilowy i metakryloilowy.
Jeżeli we wzorze 1 tylko rodnik R3 stanowi grupę Z, to odpowiednie związki są produktami estryfikacji hydroksyalkilofenonów kwasem akrylowym. Każdy z symboli R1 i R2 może wtedy oznaczać atom wodoru, rodnik alkilowy o 1-6 atomach węgla lub rodnik fenylowy, a R4 może oznaczać atom wodoru, atom chlorowca, rodnik alkilowy o 1-12 atomach węgla, grupę alkoksylową o 1-12 atomach węgla lub grupę alkilotio o 1-12 atomach węgla.
Korzystnymi związkami o wzorze 1 są takie, w których R1 i R oznaczają rodnik metylowy.
Odpowiednimi fotoinicjatorami są przykładowo: keton fenylowo-2~akryloiloksy-2-propylowy, keton fenylowo-2-metakryloiloksy-2-propylowy, keton /4-izopropylofenylowo/-2-akryloiloksy-2-propylowy, keton /4-chlorofenylowo/-2-akryloiloksy-2-propylowy, keton /4-dodecylofenylowo/-2-akryloiloksy-2-propylowy i keton /4-metoksyfenylowo/-2-akryloiloksy-2-propylowy.
Jeżeli we wzorze 1 rodnik R4 zawiera grupę Z, to wynikiem są pochodne hydroksyalkilofenonu, które w położeniu-para pierścienia fenylowego wykazują nienasycone rodniki typu akryloilu. Rodniki te mogą z pierścieniem fenylowym być połączone poprzez atom tlenu, siarki lub azotu i/lub poprzez jeden lub więcej mostków oksyetylenowych. Korzystne jest połączenie przez jeden mostek oksyetylenowy.
Pozostałe podstawniki można swobodnie wybierać według podanej definicji wzoru 1. Korzystnymi fotoinicjatorami są takie związki o wzorze 1, w których R1 i R2 oznaczają rodnik metylowy, a R3 oznacza atom wodoru.
Jako odpowiednie związki należy przykładowo wspomnieć: keton /4-akryłoiloksyfenylowo/2-hydroksy-2-propylowy, keton /4-metakryloiloksyfenylowo/-2-hydroksy-2-propylowy, keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy, keton [4-/2-akryloiloksydwuetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy, 4-/2-akryloiloksyetoksy/-benzoina, keton [4-/2-akryloiloksyetylotio/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy i keton [4-N,N-bis-/2-akryloiloksy-etylo/aminofenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy.
Korzystnym jest jednak również to, gdy we wzorze 1 zarówno postawnik R3 jak i podstawnik R4 zawierają nienasycone rodniki typu akryloilu. Rezultatem tego są pochodne hydroksyalkilofenonu, których grupy hydroksylowe są zestryfikowane kwasem akrylowym lub pochodnymi kwasu akrylowego, i które w położeniu-para pierścienia fenylowego mają poprzez atom tlenu, siarki, azotu i/lub jeden lub kilka mostków oksyetylenowych połączone rodniki akryloilowe. Również tu korzystnymi są takie związki o wzorze 1, w których pozostałe podstawniki Ri i R2 są rodnikiami metylowymi. Jako odpowiednie fotoinicjatory należy przykładowo wyszczególnić: keton /4akryloiloksyfenylowo/-2-akryloiloksy-2-propylowy, keton/4-metakryloiloksyfenylowo/-2-metakryloiloksy-2-propylowy, keton [4-/2-akryloiloksy-etoksy/-fenylowo]-2-akryloiloksy-2propylowy i keton [4-/-akryloiloksydwuetoksy/-fenylowo]-2-akryloiloksy-2-propylowy.
Szczególnie korzystnymi fotoinicjatorami według wynalazku są związki: keton fenylowo-2akryloiloksy-2-propylowy, keton /4-akryloiloksyfeynlowo-2-hydroksy-2-propylowy, keton /4akryloiloksyfenylowo/-2-akryloiloksy-2-propylowy, keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]2-hydroksy-2-propylowy i keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-akryloiloksy-2propylowy.
149 572
Związki o ogólnym wzorze 1 można wytwarzać podstawowymi sposobami chemii organicznej. Warunki reakcji można przy tym określić według wzorcowych publikacji preparatywnej chemii organicznej, np. według Huben-WeyPa, Methoden der organischen Chemie, wyd. GeorgThieme Verlag, Stuttgart, albo według Organie Synthesis, J. Wiley, Nowy Jork-Londyn-Sydney.
Na ogół korzystne jest wytarzanie nowych fotoinicjatorów lub ich prekursorów metodami syntezy , takimi jakie są powszechnie stosowane dla znanych fotoinicjatorów hydroksyalkilofenonowych. Metody te są szczegółowo opisane w ogłoszeniowym opisie Republiki Federalnej Niemiec nr 27 22 264. Związki o wzorze 1, w których rodnik R3 stanowi nienasyconą grupę Z, można łatwo otrzymać z dostępnych w handlu lub wytworzonych znanymi metodami hydroksyalkilofenonów drogą estryfikacji, przykładowo za pomocą halogenku kwasu akrylowego i zwykłego katalizatora estryfikacji, korzystnie trzeciorzędowej aminy. I tak nowy keton fenylowo-2-akryloiloksy-2propylowy można wytwarzać z ketonu fenylowo-2-hydroksy-2-propylowego /fenylo-2-hydroksy2-metylopropanon-l; o nazwie handlowej Darocur 1173, firmy E. Merck/ drogą estryfikacji za pomocą układu chlorek akryloilu/trójetyloamina.
Nowe związki o wzorze 1, w którym R4 zawiera nienasyconą grupę Z, można otrzymywać w ten sposób, że odpowiednią pochodną fenylową, zawierającą grupę Z lub ugrupowanie, do którego można łatwo wprowadzić grupę Z, acyluje się metodą Friedel-Crafts’a za pomocą halogenku odpowiedniego kwasu karboksylowego w celu wprowadzenia fotoinicjatorowej struktury czynnej lub jej prekursora.
Jako odpowiednie wyjściowe pochodne fenylowe można przykładowo stosować fenol, 4tiofenol, 4-aminofenol oraz jedno- łub wielokrotnie etoksylowany fenol, takie jak eter 2-hydroksyetylowofenylowy.
Dla acylowania metodą Friedel-Crafts’a zaleca się zabezpieczanie krańcowych grup funkcyjnych przez odpowiednie, później ponownie dające się odszczepić grupy zabezpieczające, ewentualnie przez acylowanie w przypadku grupy-OH. Po wprowadzeniu fotoinicjatorowej struktury czynnej można następnie krańcowe grupy-OH ewentualnie estryfikować kwasem akrylowym w znany sposób.
Jako pochodne fenylowe, zawierające już nienasyconą grupę Z, można jednak stosować też akrylan fenylowy, metakrylan fenylowy lub akrylowany u karańców, jedno- lub wielokrotnie etoksylowany fenol, taki jak eter akryloiloksyetylowofenylowy. W przypadku tych substancji wyjściowych istnieje oczywiście niebezpieczeństwo przedwczesnej polimeryzacji podczas następnych reakcji.
Dla uzyskania fotoinicjatorowej struktury czynnej typu hydroksyalkilofenonu można przykładowo acylować za pomocą halogenku kwasu izomasłowego lub halogenku kwasu achloroizomasłowego i następnie wprowadzać ugrupowanie hydroksylowe, alkoksylowe lub alkanoiloksylowe. I tak np. prowadzi się acylowanie metodą Friedel-Crafts’a za pomocą chlorku kwasu izomasłowego za zacytowanym eterem 2-hydroksyetylowofenylowym i następnie bromowanie oraz zmydlanie przy trzeciorzędowym atomie węgla do ketonu [4-/2-hydroksyetoksy/-fenylowo]2-hydroksy-2-propylowego. Z tego związku można ewentualnie drogą selektywnej estryfikacji za pomocą układu chlorek akryloilu/amina trzeciorzędowa otrzymywać nowy inicjator, czyli keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy oraz drogą estryfikacji obu grupOH otrzymywać nowy inicjator, czyli keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenytowo]-2-akryloiloksy-2propylowy.
Jeśli związanie nienasyconego rodnika R4 z częścią aromatyczną następuje poprzez atom siarki /X=S/, to podstawienie odpowiednich 4-chlorowcoaryloketonów fiołami, takimi jak 2merkaptoetanol, jest w warunkach zasadowych możliwe. Ν,Ν-dwu-podstawione aniliny /X=N/ można acylować w warunkach reakcji Vilsmeier’a, np. za pomocą Ν,Ν-dwumetyloamidu kwasu izomasłowego i tlenochlorku fosforu. Drogą estryfikacji grup-OH za pomocą chlorków kwasów nienasyconych otrzymuje się odpowiednie fotoinicjatory kopolimeryzujące.
Nowe związki o ogólnym wzorze 1 są wysokoakty wnymi fotoinicjatorami i mogą być generalnie stosowane w mieszankach fotopolimeryzujących, jeśli w tych mieszankach zawarte są fotopolimeryzujące związki etylenowo nienasycone.
Nowe fotoinicjatory wykazują, uwarunkowaną przez jeden lub kilka specjalnych nienasyconych podstawników Z, tę właściwość, że one lub ich w reakcji fotoinicjowania powstałe produkty
149 572 rozkładu mogą działać jako kopolimeryzujące komonomery w reakcji fotopolimeryzacji. Niespodziewanie prowadzi to, tak jak wykazuje próba odtworzona w ramach niżej podanych przykładów, do nieoczekiwanie wysokiego stopnia wbudowania w ostatecznie otrzymany produkt polimeryczny nieprzereagowanych fotoinicjatorów lub produktów rozkładu fotoinicjatora. Dzięki temu można niepożądane wpływy na właściwości produktu końcowego bardzo skutecznie zmniejszyć lub całkowicie wyeliminować. Nadto można było stwierdzić, że wraz z wprowadzeniem nienasyconych podstawników Z do hydroksyalkilofenonowej struktury fotoinicjatora nie występują żadne uszczerbki skuteczności działania nowego fotoinicjatora.
Nowe związki o ogólnym wzorze 1 można według wynalazku stosować jako fotoinicjatory do fotopolimeryzacji związków etylenowo nienasyconych lub do utwardzania mieszanek fotopolimeryzujących, zawierających takie związki, albo jako utwardzacze nadfioletowe dla farb drukarskich i w przypadku radiacyjnego utwardzania wodnych zawiesin prepolimeru. Stosowanie to prowadzi się analogicznie do znanych sposobów. Nowe związki, stosowane według wynalazku, dodaje się do poddawanych polimeryzacji mieszanek z reguły w ilości 0,1-20% wagowych, korzystnie w ilości 0,5-12% wagowych.
Dodawanie to zachodzi z reguły na drodze zwykłego rozpuszczania i mieszania, ponieważ większość z tych według wynalazku stosowanych fotoinicjatorów jest ciekła lub przynajmniej łatwo rozpuszczalna w mieszankach poddawanych polimeryzacji. Pod określeniem mieszanki poddawanej polimeryzacji rozumie się mieszaninę dających się wolnymi rodnikami inicjować, jedno- lub wielofunkcyjnych, etylenowo nienasyconych monomerów, oligomerów, prepołimerów, polimerów lub mieszaniny tych oligomerów, preopolimerów i polimerów z nienasyconymi monomerami, która, w razie potrzeby lub na życzenie, może zawierać dalsze dodatki, takie jak np. przeciwutleniacze, stabilizatory świetlne, barwniki lub pigmenty, a także dalsze znane fotoinicjatory oraz katalizator. Jako nienasycone związki wchodzą w rachubę wszystkie takie związki, których podwójne wiązania-C=C są zaktywowane przez np. atomy chlorowca, grupy karbonylowe, cyjanowe, karboksylowe, estrowe, amidowe, eterowe lub arylowe, albo przez sprzężone dalsze wiązania podwójne lub potrójne. Przykładami takich związków są: chlorek winylu, chlorek winylidenu, nitryl kwasu akrylowego, nitryl kwasu metakrylowego, amid kwasu akrylowego, amid kwasu metakrylowego, akrylan lub metakrylan metylowy, etylowy, n- lub Ill-rz. -butylowy, cyklohteksylowy, 2-etylojieksylowy, benzylowy, fenoksyetylowy, hydroksyetylowy, hydroksypropylowy/niskoalkoksyetyfowy lub czterowodorofurfurylowy, octan, propionian lub bursztynian winylu, Nwinylopirolidon, N-winylokarbazol, styren, dwuwinylobenzen, podstawione styreny oraz mieszaniny takich związków nienasyconych. Również wielokrotnie nienasycone związki, takie przykładowo jak dwuakrylan etylenu, dwuakrylan heksanodiolu-1,6, dwuakrylan i dwumetakrylan propyloksylowanego bisfenolu A, dwuakrylan trójmetylopropanu i trójakrylan pentaerytrylu, można polimeryzować za pomocą fotoinicjatorów stosowanych według wynalazku. Jako związki fotopolimeryzujące wchodzą nadto w rachubę oligomery, prepolimery lub polimery i ich mieszaniny z nienasyconymi monomerami. Do nich zaliczają się np. nienasycone poliestry, nienasycone substancje akrylowe, substancje epoksydowe, uretany, silikony, żywice aminopoliamidowe, a zwłaszcza żywice akrylowane, takie jak akrylowany olej silikonowy, akrylowane poliestry, akrylowane uretany, akrylowane poliamidy, akrylowany olej sojowy, akrylowana żywica epoksydowa, akrylowana żywica akrylowa, celowo w mieszaninie z jednym lub kilkoma akrylanami alkoholu jedno-, dwu- lub wielowodorotlenowego.
Fotopolimeryzujące związki łub mieszanki można stabilizować dodatkiem znanych cieplnych inhibitorów i przeciwutleniaczy, takich jak hydrochinon lub pochodne hydrochinonu, pirogalol, tiofenole, nitrozwiązki, /3-naftyloaminy lub jS-naftole, w zwykle stosowanych ilościach, nie uszczuplając przy tym w stopniu zauważalnym działania inicjującego nowych fotoinicjatorów. Dzięki takim dodatkom powinno się przede wszystkim zapobiec przedwczesnej polimeryzacji w trakcie sporządzania mieszanki drogą mieszania składników.
Nadto dodawać można małe ilości stabilizatorów świetlnych, takich jak pochodne benzofenonu, pochodne benzotriazolu, czteroalkilopiperydyny lub salicylany fenylowe.
Aby wykluczyć inhibitujące działanie tlenu z powietrza, dodaje się też często do mieszanek fotopolimeryzujących parafinę lub podobne substancje woskowate. Wskutek braku rozpuszczalności w monomerach wypływają one na początku polimeryzacji i tworzą przejrzystą warstwę
149 572 powierzchniową, która ogranicza dostęp powietrza. Tlen zpowietrza można dezaktywować np. też na drodze wprowadzania do utwardzanej mieszanki grup samoutlenialnych, takich jak grupy allilowe.
Nowe fotoinicjatory można stosować też w połączeniu ze znanymi inicjatorami rodnikowymi, takimi jak np. nadtlenki, wodoronadtlenki, nadtlenki ketonów lub estry nadkwasów. Nadto mogą one zawierać pigmenty lub barwniki, takie jakie np. są używane w utwardzających się fotochemicznie farbach drukarskich. W tym przypadku stosuje się większą ilość fotoinicjatora, przykładowo 6-12% wagowych, natomiast dla bezbarwnych produktów fotopolimeryzujących' w większości przypadków zupełnie wystarcza 0,1-5% wagowych. W zależności od celu stosowania można dodawać napełniacze, takie jak talk, gips, lub krzemionka, substancje włókniste, dodatki organiczne, takie jak środki tiksotropizujące, środki poprawiające rozlewność, środki wiążące, środki antyadhezyjne, środki matujące, zmiękczacze, zwilżacze, silikony do polepszania stanu powierzchni, środki przeciwwypływowe lub podrzędne ilości rozpuszczalników.
Jako ewentualnie razem z nowymi inicjatorami dające się stosować, znane fotoinicjatory wchodzą w rachubę przykładowo benzofenony, takie jak keton Michler’a, czyli 4,4’-bis-/dwumetyloamino/benzofenon,4,4’-bis/dwuetyloamino/benzofenon,p-dwumetyloaminobenzofenon, p-chlorobenzofenon, benzofenon; antrachinony, takie jak antrachinon, 2-chloroantrachinon, 2alkiloantrachinony; ksantony, takie jak 2-chlorowcoksantony lub 2-alkiloksantony; tioksantony takie jak 2-chlorotioksanton, 2-alkilotioksantony; akrydanony, takie jak 2-aIkiloakrydanony lub N-podstawione akrydanony; benzoiny, takie jak p-dwumetyloaminobenzoina i alkilowe etery benzoiny; ketale benzilu, o-chlorowcoketony, dwualkoksyacetofenony, o-hydroksyalkilofenony i o-aminoalkilofenony, takie jakie przykładowo są opisane w ogłoszeniowym opisie Republiki Federalnej Niemiec nr 27 22 264 i w europejskim opisie ogłoszeniowym nr 3 002, nasto np. fluorenony, dwubenzocykloheptanony, fenantrenochinony, estry kwasu benzoesowego, takie jak benzoesan hydroksypropylowy, benzoesanoakrylan benzoilu.
Mieszaniny ze znanymi inicjatorami zawierają z reguły nowe fotoinicjatory kopolimeryzujące w ilości co najmniej 10% wagowych, korzystnie 50-95% wagowych, w odniesieniu do całkowitej ilości wprowadzonej mieszaniny inicjatorów. Korzystne jest w fotopolimeryzujących mieszankach stosowanie katalizatora obok nowych kopolimeryzujących fotoinicjatorów. Jako katalizatory można przykładowo dodawać organiczne aminy, fosfiny, alkohole i/hib tiole, wszystkie wykazujące grupę -CH w położeniu-α względem heteroatomu. Odpowiednimi są np. pierwszorzędowe, drugorzędowe i trzeciorzędowe alifatyczne, aromatyczne, aryloalifatyczne lub heterocykliczne aminy, takie jakie są opisane w opisie patentowym St. Zjedn. Am. nr 3 759 807. Przykładami takich amin są butyloamina, dwubutyloamina, trójbutyloamina, cykloheksyloamina, benzylodwumetyloamina, dwucykloheksyloamina, trójetanoloamina, N-metylodwuetanoloamina, fenylo-dwuetanoloamina, piperydyna, piperazyna, morfolina, pirydyna, chinolina, p-dwumetyloaminobenzoesan etylowy, p-dwumetyloaminobenzoesan butylowy, 4,4’-bis/dwumetyloamino/-benzofenon /keton Michler’a/ lub 4,4’-bis/dwuetyloamino/benzofenon. Szczególnie korzystnymi są trzeciorzędowe amina, takie przykładowo jak trójmetyloamina, trójizopropyloamina, trójbutyloamina, oktylodwumetylamina, dodecylo-dwumetyloamina, trójetanoloamina, N-metylo-dwuetanoloamina, N-butylo-dwuetanoloamina, trój/hydroksypropylo/amina, dwumetyloaminobenzoesany alkilowe. Ponadto jako katalizatory wchodzą w rachubę przykładowo trójalkilofosfiny, drugorzędowe alkohole i tiole. Dodatek tego rodzaju katalizatorów może wahać się w zakresie zwykłych dla nich ilości.
Mieszanki fotopolimeryzujące, które dodatkowo jako katalizator zawierają trzeciorzędową aminą organiczną, stanowią szczególnie korzystną postać niniejszego wynalazku.
Wyrażenie „fotopolimeryzacja związków etylenowo nienasyconych należy rozumieć w najszerszym znaczeniu. W określeniu tym mieści się np. też dalsze polimeryzowanie lub. poprzeczne sieciowanie substancji polimerycznych, ewentualnie prepolimerów, homo-, ko- i terpolimeryzacja zwykłych monomerów, a także połączenia omawianych rodzajów reakcji.
Działanie promieniowania jonizującego, korzystnie promieniowaniem nadfioletowym, na fotopolimeryzujące mieszanki, zawierające nowe fotoinicjatory kopolimeryzujące, można wywołać fotopolimeryzację. Fotopolimeryzacja ta następuje znanymi metodami na drodze napromieniowania światłem lub promieniami nadfioletowymi z zakresu długości fal 250-500 nm, korzystnie
149 572
300-400 nm. Jako źródła promieniowania można stosować światło słoneczne lub sztuczne promienniki. Korzystnymi są np. wysokociśnieniowa, średniociśnieniowalub niskociśnieniowa lampa rtęciowa kwarcowa oraz lampy ksenonowe i wolframowe.
Przeprowadzanie fotopolimeryzacji z zastosowaniem nowych fotoinicjatorów może zachodzić zarówno periodycznie jaki i ciągle. Czas trwania napromieniania zależy od rodzaju tego przeprowadzania, od rodzaju i stężenia wprowadzanych substancji polimeryzujących, od rodzaju i ilości stosowanych fitoinicjatorów i od intensywności źródła promieniowania, i może, tak np. jak w przypadku radiacyjnego utwardzania powłok, mieścić się w zakresie o kilku skund do minut, a dla dużych szarż np. w przypadku polimeryzacji w masie, mieści się nawet w zakresie godzin.
Nowe związki o wzorze 1 stosuje się korzystnie jako fotoinicjatory w przypadku utwardzania promieniami nadfioletowymi cienkich warstw, takich jak powłoki lakierowe na wszystkich do tego celu praktykowanych materiałach i nośnikach. Tymi mogą być zwłaszcza papier, drewno, nośniki włókiennicze, tworzywo sztuczne i metal. Ważną dziedziną stosowania jest również schnięcie lub utwardzanie farb drukarskich i materiałów do sitodruku, z których to ostatnie korzystnie stosuje się w przypadku powlekania lub formowania powierzchni np. puszek, tub lub metalowych kołpaków gwintowanych. Ze względu na najdalej posuniętą lub aż całkowitą nieobecność wolnych rodników inicjatora po reakcji zaszłej w mieszankach zadanych nowymi fotoinicjatorami kopolimeryzującymi są te mieszanki szczególnie odpowiednie w takich dziedzinach stosowania, gdzie dyfuzja tego rodzaju rodników do środowiska otaczającego odpowiedni produkt końcowy ma być wykluczona, np. jeśli środek opakowaniowy, wyposażony w fotospolimeryzowaną powłokę miałby się stykać z artykułami spożywczymi.
Podane niżej przykłady I-V opisują wytwarzanie nowych kopolimeryzujących fotoinicjatorów.
Przykład I. Keton fenylowo-2-akryloiloksy-2-propylowy. Do 5,0g /0,03 mola/ handlowego ketonu fenylowo-2-hydroksy-2-propylowego w 40 ml dioksanu w atmosferze gazu obojętnego dodaje się 5,4 g /0,06 mola/ chlorku akryloilu, po czym mieszając wkrapla się mieszaninę 6,1 g /0,06 mola/ trójetyloaminy i 5 ml dioksanu. Następnie całość ogrzewa się jeszcze w ciągu 1 godziny w temperaturze wrzenia wobec powrotu skroplin i po ochłodzeniu mieszaninę reakcyjną dodaje się do 300 ml wody z lodem. Drogą ekstrakcji octanem etylowym, odpędzenia rozpuszczalnika i przekrystalizowania z eteru metylowo-III-rz.- butylowego otrzymuje się 3,2 g fotoinicjatora o temperaturze topnienia 89°C.
Analogicznie wytwarza się: keton fenylowo-2-metakryloiloksy-2-propylowy.
Przykład II. Keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy. a/ Do 880 g /6,6 mola/ bezwodnego chlorku glinowego w 480 ml dwuchlorometanu mieszając wkrapla się w temperaturze od -5°C do 0°C w ciągu 40 minut 336 g /3,2 mola/ chlorku kwasu izomasłowego. Następnie w tej samej temperaturze w ciągu 2 godzin wkrapla się 540 g /3,0 mola/ octanu 2-fenoksyetylowego. Po zakończeniu tego wkraplania miesza się nadal w ciągu 2 godzin w podanej temperaturze i tę mieszaninę reakcyjną wlewa się następnie do mieszaniny 1,8 litra stężonego kwasu solnego i 5 kg lodu. Warstwę organiczną oddziela się, a warstwę wodną ekstrahuje się dwuchlorometanem. Połączone warstwy organiczne przemywa się wodą, suszy, zatęża, a pozostałość destyluje się pod próżnią. Otrzymuje się 740 g ketonu [4-/2-acetoksyetoksy/-fenylowo]-2propylowego o temperaturze wrzenia 145-152°C pod ciśnieniem 40-66,7 Pa.
b/ 250 g /1,0 mol/ ketonu [4-/2-acetoksyetoksy/-fenylowo]-2-propylowego rozpuszcza się w 200 ml kwasu octowego lodowatego i mieszając w temperaturze 25°C zadaje w ciągu 2 godzin za pomocą 192 g /1,2 mola/ bromu. Nadal miesza się w ciągu około 10 godzin, po czym wlewa się do 3 litrów kwasu octowego lodowatego. Produkt ten ekstrahuje się octanem etylowym. Połączone ekstrakty suszy się, a po zatężeniu otrzymuje się 365 g gęstopłynnego oleju. Olej ten rozpuszcza się w 1 litrze etanolu i mieszając w temperaturze 25°C zadaje w ciągu 20 minut za pomocą 380 g 32% ługu sodowego. Całość miesza się nadal w ciągu 10 minut, po czym odpędza się etanol. Oleistą pozostałość dodaje się do 3 litrów wody z lodem, a tę mieszaninę ekstrahuje się kilkakrotnie za pomocą łącznie 1,5 litra octanu etylowego. Po suszeniu, przesączeniu i zatężeniu roztworu wyodrębnia się 250 g oleistego produktu surowego. Po przekrystalizowaniu z układu aceton/eter naftowy i/łub po chromatograficznym oczyszczeniu otrzymuje się 145 g ketonu [4-/2-hydroksy
149 572 propylowy:
* H-MRJ /CDCls/ etoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowego w postaci bezbarwnej substancji stałej o temperaturze topnienia 88-90°C.
c/ 27,0 g /0,12 mola/ ketonu [4-/hydroksyetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowego rozpuszcza się w 240 ml dioksanu. Następnie mieszając w temperaturze pokojowej wkrapla się najpierw 12,0 g /0,132 mola/ chlorku akryloilu w 20 ml dioksanu, po czym 16,8 g /0,132 mola/ chinoliny w 20 ml dioksanu. Całość nadal miesza się w ciągu 1 godziny w temperaturze 50°C, chłodzi i wlewa do 1 litra wody z lodem. Mieszaninę tę ekstrahuje się trzykrotnie porcjami po 250 ml octanu etylowego. Po suszeniu i zatężeniu warstwy organicznej otrzymuje się 20,8 g fotoinicjatora w postaci gęstopłynnego oleju:
1H-MRJ /CDCla/: δ 1,6 /s, 6H, 2CH3/; 4,3 /m, 2H, CH2/; 4,6 /m, 2H, CH2/; 5,3 /s, 1H, OH/; 5,9-6,5 /m, 3 olef. H/; 7,0 /m, 2 arom. H/; 8,1 /m, 2 arom. H/ppm. Podczerwień: v 1710 /CO/: 3500/OH/cm-1.
Analogicznie wytwarza się keton [4-/2-metakryloiloksyetoksy/-fenylowo}-2-hydroksy-2: δ 1,6 /s, 6H, 2CH3/; 2,0 /s, 3H, CHs/; 4,3 /t, 2H, CHs»/; 4,5 /t, 2H, CH2/, 5,6 /s, 1 olef. H/; 6,2 /s, 1 olef. H/; 7,0 /d, 2 arom. H/; 8,1 /d, 2 arom. H/ ppm; oraz keton [4-/2-akryloiloksyetylotio/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy:
1H-MRJ /CDCb/: δ 1,6 /s, 6H, 2CH3/; 3,3 /t, 2H, CH2/; 4,4 /t, 2H, CH2/; 5,8-6,4 /m, 3 olef. H/; 7,4 /d, 2 arom. H/; 8,0 /d, 2 arom. H/ ppm.
Przykład III. Keton £4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-akryloiloksy-2-propylowy. 27,0 g /0,12 mola/ otrzymanego w przykładzie 2a ketonu [4-/2-hydroksyetoksy/-fenylowo]-2hydroksy-2-propylowego estryfikuje się za pomocą 24,0 g /0,264 mola/ chlorku akryloilu i 26,4 g /0,264 mola/ trójetyloaminy. Po odpowiedniej obróbce otrzymuje się 22,8 g fotoinicjatora o temperaturze topnienia 7ł°C.
Przykład IV. Keton /4-akryloiloksyfenylowo/-2-hydroksy-2-propylowy. Do roztworu 2,2 g /0,012 mola/ ketonu /4-hydroksyfenylowo/-2-hydroksy-2-propylowego w 20 ml bezwodnego tetrahydrofuranu mieszając w temperaturze pokojowej dodaje się porcjami 0,4g /0,013 mola/ wodorku sodowego /80% w oleju parafinowym/. Po upływie 15 minut wkrapla się 1,2 g /0,013 mola/ chlorku akryloilu w 5 ml bezwodnego tetrahydrofuranu w ciągu 10 minut, po czym nadal miesza się w ciągu 1 godziny. Po obróbce /patrz przykład lic/ otrzymuje się 2,5 g gęstopłynnego, bezbarwnego oleju:
1 H-MRJ /CDCls/: <51,5 /s, 6H, 2CH3/; 6,0-6,6 /m, 3 olef. H/; 7,1 /m, 2 arom. H/; 8,0 /m, 2 arom. H/ppm.
Analogicznie wytwarza się keton /4-metakryloiloksyfenylowo/-2-hydroksy-2-propylowy:
1 H-MRJ/CDCls/: <51,6 /s, 6H, 2CH3/; 2,1 /s, 3H, CH3/; 5,8 /s, 1 olef. H/; 7,3 /d, 2 arom. H/; 8,1 /d, 2 arom. H/ ppm.
PrzykładV. Keton /4-akryloiloksyfenylowo/-2-akryIoiloksy-2-propylowy. 2,2g /0,012 mola/ ketonu /4-hydroksyfenylowo/-2-hydroksy-2-propylowego, 2,4 g /0,027 mola/ chlorku akryloilu i 2,7 g /0,027 mola/ trójetyloaminy w 30 ml dioksanu poddaje się reakcji i obróbce, analogicznie do przykładu III. Otrzymuje się 3,6 g białego, krystalicznego produktu o temperaturze topnienia 90-93°C /przekrystalizowanego z cykloheksanu/.
Analogicznie wytwarza się keton /4-metakryloiloksyfenylowo/-2-metakryloiloksy-2-propylowy:
1H-MRJ /CDCls/: <51,8 /s, 6H, 2CH3/; 5,8-6,7 /m, 6 olef. H/; 7,2 /d, 2 arom. H/; 8,1 /d, 2 arom. H/ ppm.
Podane niżej przykłady VI-IX opisują stosowanie nowych kopolimeryzujących fotoinicjatorów w radiacyjnie utwardzalnych mieszankach środków wiążących.
Przykład VI. Utwardzalną promieniami nadfioletowymi mieszankę środka wiążąeego, składającą się z 75 części wagowych oligomerycznego epoksydoakrylanu /0 nazwie handlowej Laromer LR 8555, firmy BASF/ i 25 części wagowych dwuakrylanu heksanodiolu, zadaje się 5 częściami Wagowymi ketonu fenylowo-2-akryloiloksy-2-propyłowego /inicjatora według przykładu 1/.
Gotową do użytku mieszankę nanosi się za pomocą spiralnej rakli w warstwie o grubości 50/ym na odtłuszczone płytki szklane /10 X10 cm/. Następnie powłoki te utwardza się w przyrzą149 572 dzie do napromieniania /o nazwie „Mini-Cure“, przyrząd firmy Primarc Ltd./ pod średniociśnieniową lampą rtęciową kwarcową [o mocy promieniowania 80W/em] na taśmie o szybkości przesuwu lOm/minutę. Odległość naświetlania wynosi około 10 cm.
Otrzymane, całkowicie utwardzone powłoki są zupełnie pozbawione zapachu i nie wykazują żółknięcia.
Analogicznie otrzymuje się równie dobre wyniki za pomocą inicjatorów z przykładów II-V.
Przykład VII. Utwardzalną promieniami nadfioletowymi mieszankę środka wiążącego, składającą się z 60 części Wagowych akrylowanego prepolimeru poliuretanowego /o nazwie handlowej Prepolymer VPS1748, firmy Degussa AG/, 40 części wagowych dwuakrylanu heksanodiolu, 15 części wagowych trójakrylanu pentaerytrytu i 5 części wagowych ketonu [4-/2akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowego /inicjatora według przykładu II/ przetwarza się analogicznie do przykładu VI na powłoki o grubości 50//m i utwardza przy szybkości przesuwu taśmy 30 m/minutę. Otrzymane, całkowicie utwardzone powłoki są bezwonne i bezbarwne.
Odpowiednie zastosowanie inicjatorów według przykładu I oraz III-V daje równie dobre wyniki.
Przykład VIII. 63,5 części żywicy epoksydoakrylanowej/ o nazwie handlowej Laromer 8555 firmy BASF, Ludwigshafen/ rozciera się z 36,5 częściami dwuakrylanu butanodiolu i 20 części błękitu heliogenowego na trójwałcówce. W ciągu 10 minut w zawiesinie mieszając rozprowadza się 5 części ketonu [4-/2-akryloiloksy-etoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowego /inicjatora według przykładu II/. Tak otrzymaną farbę drukarską drukuje się warstwą o grubości Ιμιη na syntetycznym papierze drukowym i utwardza przy szybkości przesuwu taśmy 50 m/minutę pod lampą o mocy promieniowania 160W/cm.
Otrzymane, bezwonne arkusze drukarskie są natychmiast gotowe do układania w stos. Zgodnie z oceną odstępstwa barwy niebieski wydruk nie wykazuje żadnego przesunięcia zabarwienia wywołanego żółknięciem.
Przykład IX. 63,5 części wagowych żywicy uretanoakrylanowej /o nazwie handlowej Uvimer 530 firmy Bayer, Leverkusen/ miele się z 36,5 częściami wagowymi dwuakrylanu butanodiolu i 100 częściami dwutlenku tytanu /anatazu/ w porcelanowym młynie kulowym. Następnie mieszając rozprowadza się 5 części wagowych ketonu /4-akryloiloksyfenylowo/-2-hydroksy-2propylowego /inicjatora według przykładu IV/ i 3 części wagowe N-metylodwuetanoloaminy. Lakier ten, naniesiony w warstwie o grubości ΙΟμιη na płytkach szklanych, można przy szybkości przesuwu taśmy 50 m/minutę pod lampą o mocy promieniowania 160 W/cm utwardzić do postaci bezwonnej błonki bez zażółceń.
Analogicznie do przykładu IX można związki omówione w przykładach I-III i V mieszając rozprowadzić jako fotoinicjatory w pigmentowanym lakierze.
Próba, odtworzona w niżej podanym przykładzie X, wykazuje zalety nowych kopolimeryzujących fotoinicjatorów w porównaniu ze znanymi fotoinicjatorami pod względem resztkowej zawartości inicjatora w fotospolimeryzowanej warstwie przy dającej się w optymalnych warunkach osiągnąć, ostatecznej twardości warstwy.
Przykład X. Próba. Sporządzono utwardzalną promieniami nadfioletowymi mieszankę środka wiążącego, składającą się z 75% wagowych prepolimeru na osnowie akrylowanej żywicy epoksydowej /Laromer EA 81, firmy BASF AG/, 25% wagowych dwuakrylanu heksanodiolu.
Równe ilości tej mieszanki środka wiążącego zadano każdorazowo za pomocą 5% wagowych następujących fotoinicjatorów:
nr 1 keton [4-/2-akryloiloksyetoksy/-fenylowo]-2-hydroksy-2-propylowy /inicjator według wynalazku z przykładu II/, nr 2 keton fenylowo-2-hydroksy-2-propylowy /o nazwie handlowej Darocur 1173, firmy F.
Merck; dla porównania/, nr 3 α-allilobenzoina /dla porównania/, nr 4 eter allilowy α-allilobenzoiny /dla porównania/.
Próbki jednorodnych, gotowych do użytku lakierów utwardzalnych promieniami nadfioletowymi w znany sposób za pomocą spiralnej rakli nałożono w warstwach o grubości 50//m na płytkach szklanych /10 X10/. W próbkach wstępnych dla tych powłok lakierowych określono
149 572 najpierw warunki optymalnego utwardzania. W tym celu powleczone płytki poprowadzono w laboratoryjnej promiennikowej suszarce nadfioletowej /o nazwie Beltrolux, firmy Beltron/ na przenośniku taśmowym o zmiennej prędkości [2,5-40 m/minutę] w odległości naświetlania około 1 cm pod 2 średniociśnieniowymi lampami rtęciowymi kwarcowymi o mocy promieniowania 50W/cm każda. Po upływie 1 dnia od utwardzania promieniami nadfioletowymi określono każdorazowo osiągniętą twardość warstwy przez oznaczenie twardości wahadłem według Kónig’a /niemiecka norma DIN nr 53157/.
Oznaczenie twardości według tej normy polega na tym, że drganie wahadła opierającego się na warstwie jest silniej tłumione, im bardziej miękka jest warstwa. Za miarę twardości oznaczanej wahadłem przyjmuje się przedział czasu wyrażony w sekundach, w którym wychylenie drgającego wahadła zmaleje z 6° do 3° względem pionu. Im dłuższy jest czas trwania tego tłumienia, tym twardsza jest warstwa.
Dla powłok, wytworzonych za pomocą niniejszych promieniami nadfioletowymi utwardzalnych mieszanek środka wiążącego, osiągalnymi twardościami ostatecznymi okazały się oznaczone wahadłem twardości równe 210 sekund, które można w przypadku inicjatorów nr 1 /nowy inicjator/ i nr 2 otrzymać przy najwyższej prędkości przesuwu taśmy 10 m/minutę [co odpowiada najmniejszemu czasowi trwania napromieniania 6 s/m],a w przypadku inicjatorów nr 3 i nr 4 przy 5m/min [12s/m].
W celu oznaczenia ilości nieprzereagowanego inicjatora, jeszcze zawartych w tych powłokach po utwardzaniu promieniami nadfioletowymi, oderwano te warstwy od nośników, rozdrobniono, próbki z nich dokładnie zważono w naczynkach ekstrakcyjnych i każdorazowo równą ilością acetonitrylu jako ekstrahenta traktowano w ciągu 2 godzin na łaźni ultradźwiękowej. Otrzymane roztwory badano następnie na zawartość inicjatora za pomocą cieczowej chromatografii ciśnieniowej.
Dla powłok /o oznaczonej wahadłem twardości 210 sekund/, otrzymanych zapomocą danych fotoinicjatorów, podana niżej tabela ukazuje dające się każdorazowo ekstrahować ilości inicjatora /w nieutwardzonej mieszance środka wiążącego stosowana ilość inicjatora=100%/.
Tabela
| Inicjator nr; | Utwardzanieinadfioletem Prędkość przesuwu taśmy | Dająca się wyekstrahować ilość inicjatora |
| 1 | 10 m/min | 6,5% |
| 2 | 10 m/min | 66% |
| 3 | 5 m/min | 40% |
| 4 | 5 m/min | 26% |
Okazuje się zatem, że w przypadku utwardzania promieniami nadfioletowymi, prowadzonego w optymalnych warunkach, dające się wyekstrahować ilości inicjatora z powłok otrzymanych za pomocą znanych inicjatorów /nr 2,3 i 4/ są 4—10 krotnie wyższe niż w przypadku utwardzania za pomocą nowego kopolimeryzującego inicjatora /nr 1/. Pozwala to wnosić o prawie całkowitym wbudowaniu nowego inicjatora w materiał polimeryczny drogą kopolimeryzacji, co oczywiście w przypadku znanych inicjatorów, a również zwłaszcza w przypadku nienasyconych pochodnych allilobenzoinowych, nie zachodzi. Okazuje się też, że nowy inicjator jest pod względem swej aktywności porównywalny ze znanym inicjatorem hydroksyalkilofenonowym.
Claims (2)
- Zastrzeżenia patentowe1. Mieszanka fotopolimeryzująca, zawierająca co najmniej jeden fotopolimeryzujący związek etylenowo nienasycony, co najmniej jeden fotoinicjator oraz ewentualnie dalsze znane i rozpowszechnione substancje dodatkowe, znamienna tym, że zawiera jako fotoinicjator kopolimeryzujący co najmniej jeden nowy związek o ogólnym wzorze 1, w którym każdy z symboli R1 i R2 oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy o 1-6 atomach węgla lub rodnik fenylowy, R3 oznacza atom149 572 wodoru, rodnik alkilowy o 1-6 atoniach węgla, rodnik alkanoilowy o 1-6 atomach węgla lub grupę Z, R4 oznacza atom wodoru, atom chlorowca, rodnik alkilowy o 1-12 atomach węgla, grupę alkoksylową o 1-12 atomach węgla, grupę alkilotio o 1-12 atomach węgla, lub grupę o wzorze 2, a X oznacza atom tlenu, siarki lub azotu, n oznacza liczbę 0-4, m oznacza liczbę 1 dla symbolu X stanowiącego atom tlenu lub siarki albo oznacza liczbę 1 i 2 dla symbolu X stanowiącego atom azotu, Z oznacza grupę -CO-CR=CR’R”, w której każdy z symboli R, R’ i R” stanowi atom wodoru lub rodnik metylowy, przy czym co najmniej jeden z rodników R3 lub R4 zawiera grupę Z.
- 2. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera co najmniej 0,1-20% wagowych związku o ogólnym wzorze 1, w którym wszystkie symbole mają znaczenie podane w zastrz. 1.0 R1 )n
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19853534645 DE3534645A1 (de) | 1985-09-28 | 1985-09-28 | Copolymerisierbare fotoinitiatoren |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL261574A2 PL261574A2 (en) | 1987-10-19 |
| PL149572B2 true PL149572B2 (en) | 1990-02-28 |
Family
ID=6282204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1986261574A PL149572B2 (en) | 1985-09-28 | 1986-09-26 | Photopolymerizing compound |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4922004A (pl) |
| EP (1) | EP0217205B1 (pl) |
| JP (1) | JP2514804B2 (pl) |
| AR (1) | AR241265A1 (pl) |
| AT (1) | ATE70258T1 (pl) |
| AU (1) | AU595830B2 (pl) |
| BR (1) | BR8604672A (pl) |
| CA (1) | CA1275109A (pl) |
| CS (1) | CS257798B2 (pl) |
| DD (1) | DD258614A5 (pl) |
| DE (2) | DE3534645A1 (pl) |
| DK (1) | DK172255B1 (pl) |
| ES (1) | ES2004660A6 (pl) |
| FI (1) | FI89162C (pl) |
| HU (1) | HU201510B (pl) |
| PL (1) | PL149572B2 (pl) |
| ZA (1) | ZA867370B (pl) |
Families Citing this family (169)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3738567A1 (de) * | 1987-03-12 | 1988-09-22 | Merck Patent Gmbh | Coreaktive fotoinitiatoren |
| EP0302831B1 (en) * | 1987-08-05 | 1993-05-12 | Ciba-Geigy Ag | Compounds |
| US4950795A (en) * | 1987-08-27 | 1990-08-21 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators |
| US5095044A (en) * | 1987-08-27 | 1992-03-10 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators |
| US5248805A (en) * | 1988-12-31 | 1993-09-28 | Basf Aktiengesellschaft | Radiation-senstive, ethylenically unsaturated, copolymerizable compounds and their preparation |
| US5118779A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Polymedica Industries, Inc. | Hydrophilic polyurethane elastomers |
| DE4014489A1 (de) * | 1990-05-07 | 1991-11-14 | Merck Patent Gmbh | Copolymerisierbare benzilketal-fotoinitiatoren |
| RU2091385C1 (ru) * | 1991-09-23 | 1997-09-27 | Циба-Гейги АГ | Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий |
| IL101993A (en) * | 1991-10-23 | 1995-06-29 | Hughes Aircraft Co | Method for creating enhanced liquid crystal membranes with diffused polymer with initiating photo that can be copolymerized |
| ES2037611B1 (es) * | 1991-12-04 | 1994-04-01 | Consejo Superior Investigacion | Nuevos modelos, monomeros y polimeros fotosensibles y portadores del grupo-p-nitronaftil-aminocarbonilo. su procedimiento de preparacion. |
| US5274179A (en) * | 1993-04-06 | 1993-12-28 | Alliedsignal Inc. | Fluorinated photoinitiators and their application in UV curing of fluorinated monomers |
| USRE35060E (en) * | 1991-12-11 | 1995-10-10 | Alliedsignal Inc. | Fluorinated photoinitiators and their application in UV curing of fluorinated monomers |
| ES2059261B1 (es) * | 1992-10-08 | 1995-11-16 | Ciba Geigy Ag | Alquil-bisacilfosfinoxidos. |
| US5506279A (en) * | 1993-10-13 | 1996-04-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acrylamido functional disubstituted acetyl aryl ketone photoinitiators |
| JP3545414B2 (ja) | 1994-07-29 | 2004-07-21 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 架橋結合された粘弾性高分子材料に硬化可能なシロップ |
| AU5635796A (en) * | 1995-05-10 | 1996-11-29 | Avery Dennison Corporation | Pigmented, uv-cured, acrylic-based, pressure sensitive adhes ives, and method for making same |
| WO1997004361A1 (de) * | 1995-07-19 | 1997-02-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Heterogene photoinitiatoren, photopolymerisierbare zusammensetzungen und deren verwendung |
| EP0869977A1 (en) * | 1995-12-29 | 1998-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Use of pendant photoreactive moieties on polymer precursors to prepare hydrophilic pressure sensitive adhesives |
| DE19625753C2 (de) * | 1996-06-27 | 2000-05-18 | Basf Coatings Ag | Holzbeschichtungsfolie |
| GB2352718A (en) | 1999-08-04 | 2001-02-07 | Coates Brothers Plc | Photoinitiators |
| DE60136005D1 (en) * | 2000-12-13 | 2008-11-13 | Ciba Holding Inc | Oberflächenaktive photoinitiatoren |
| WO2002092718A1 (fr) * | 2001-05-16 | 2002-11-21 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Composition de resine durcissable, mastics et matieres pour soudage en bout destines aux afficheurs |
| CN101508883B (zh) * | 2001-05-16 | 2012-11-07 | 积水化学工业株式会社 | 固化树脂组合物及用于显示器的密封剂和封端材料 |
| JP4093181B2 (ja) | 2001-06-08 | 2008-06-04 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 水溶性の放射線活性化可能なポリマー樹脂 |
| JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| EP1504772A1 (en) * | 2003-08-06 | 2005-02-09 | The Procter & Gamble Company | Superabsorbent polymers having radiation activable surface cross-linkers and method of making them |
| US20050065227A1 (en) * | 2003-09-22 | 2005-03-24 | Condon John R. | Visible-light sensitive macro-initiator |
| US8080705B2 (en) * | 2004-07-28 | 2011-12-20 | The Procter & Gamble Company | Superabsorbent polymers comprising direct covalent bonds between polymer chain segments and method of making them |
| EP1624002B1 (en) * | 2004-08-07 | 2019-04-03 | The Procter & Gamble Company | Superabsorbent polymer particles comprising functionalizers and method of making them |
| JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
| EP1669394A1 (en) * | 2004-12-10 | 2006-06-14 | The Procter & Gamble Company | Superabsorbent polymer particles with improved surface cross-linking and hydrophilicity and method of making them |
| US20060128827A1 (en) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | The Procter & Gamble Company | Absorbent members comprising modified water absorbent resin for use in diapers |
| US8414982B2 (en) | 2004-12-22 | 2013-04-09 | Basf Se | Process for the production of strongly adherent coatings |
| JP4967378B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物 |
| JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2006335826A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
| JP2007077366A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Procter & Gamble Co | 吸水剤の製法 |
| JP5220279B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2013-06-26 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ素線 |
| MX2008013041A (es) * | 2006-04-10 | 2008-10-17 | Procter & Gamble | Un miembro absorbente que comprende una resina absorbente de agua modificada. |
| JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
| JP2009541554A (ja) * | 2006-07-04 | 2009-11-26 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 異相重合技術によって作製された光開始剤の水ベースの濃縮されたプロダクト形態 |
| US20080132599A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corporation. | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
| WO2008076739A2 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | 3M Innovative Properties Company | Methods of using a dental composition having an acidic component and a photobleachable dye |
| JP5472670B2 (ja) | 2007-01-29 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法及び記録物 |
| EP1955858B1 (en) | 2007-02-06 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet recording method and device |
| US8240808B2 (en) | 2007-02-07 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
| WO2008102322A2 (en) | 2007-02-22 | 2008-08-28 | The Procter & Gamble Company | Method of surface treating particulate material using electromagnetic radiation |
| JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
| US8894197B2 (en) | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
| JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
| JP5238292B2 (ja) | 2007-03-23 | 2013-07-17 | 三菱製紙株式会社 | 水現像可能な感光性平版印刷版材料 |
| JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
| JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
| JP4816976B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2011-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化型インク組成物 |
| EP2028241A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-25 | Seiko Epson Corporation | Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter |
| EP2189477B1 (en) * | 2007-09-04 | 2017-07-19 | AGFA Graphics NV | Radiation curable compositions for food applications |
| JP4766281B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物 |
| JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
| JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
| PL2325270T3 (pl) * | 2007-10-24 | 2013-02-28 | Agfa Nv | Utwardzalne ciecze i tusze do zastosowań w zabawkach i w opakowaniach żywności |
| EP2065362A1 (en) * | 2007-11-29 | 2009-06-03 | Agfa Graphics N.V. | Preparation method of copolymerizable photoinitiators |
| JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
| US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
| JP2009269397A (ja) | 2008-02-29 | 2009-11-19 | Seiko Epson Corp | 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 |
| JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
| JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
| JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
| JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
| JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
| EP2199273B1 (en) | 2008-12-18 | 2018-02-21 | Agfa Nv | Polymerizable photoinitiators and radiation curable compositions |
| JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
| JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP2010209183A (ja) | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
| JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
| JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| JP5692490B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
| JP2011152747A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Seiko Epson Corp | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
| JP5770160B2 (ja) * | 2010-03-05 | 2015-08-26 | 国立大学法人名古屋大学 | α−アシロキシカルボニル化合物の製法及び新規なα−アシロキシカルボニル化合物 |
| JP5554114B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法 |
| WO2011122473A1 (ja) | 2010-03-29 | 2011-10-06 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料 |
| JP5591745B2 (ja) | 2010-03-31 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化性インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、並びに印刷物、および印刷物成形体の製造方法 |
| WO2011139933A2 (en) * | 2010-05-03 | 2011-11-10 | Dentsply International Inc. | Low stress flowable dental composition |
| JP2012031388A (ja) | 2010-05-19 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | 印刷方法、オーバープリントの作製方法、ラミネート加工方法、発光ダイオード硬化性コーティング組成物、及び、発光ダイオード硬化性インク組成物 |
| JP5606817B2 (ja) | 2010-07-27 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法 |
| EP2423277A3 (en) | 2010-08-27 | 2012-05-09 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article |
| WO2012117944A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| JP2012201874A (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び画像形成方法 |
| JP5300904B2 (ja) | 2011-03-31 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
| JP5764416B2 (ja) | 2011-07-08 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
| EP2760947B1 (en) | 2011-09-29 | 2015-11-04 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition and inkjet recording method |
| WO2013089204A1 (ja) | 2011-12-15 | 2013-06-20 | 旭硝子株式会社 | 撥液性化合物、撥液性重合体、硬化性組成物、塗布用組成物、ならびに硬化膜を有する物品、親液性領域と撥液性領域とのパターンを有する物品およびその製造方法 |
| EP2604663B1 (en) | 2011-12-16 | 2017-08-09 | Agfa Graphics N.V. | Curable liquids and inkjet inks for food packaging applications |
| CN104159984B (zh) | 2012-03-09 | 2016-01-27 | 富士胶片株式会社 | 放射线固化型喷墨油墨组及喷墨记录方法 |
| EP2644664B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| JP5606567B2 (ja) | 2012-04-19 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
| CN104603168B (zh) | 2012-09-14 | 2016-07-06 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物及图像形成方法 |
| SG11201502454PA (en) | 2012-09-28 | 2015-06-29 | Fujifilm Corp | Functional polymer membrane, and method of producing same |
| CN104684634B (zh) | 2012-09-28 | 2017-04-26 | 富士胶片株式会社 | 高分子功能性膜及其制造方法 |
| JP6126498B2 (ja) | 2013-02-15 | 2017-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014136697A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置 |
| JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
| JP6004971B2 (ja) | 2013-03-12 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法 |
| JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
| AT514594B1 (de) | 2013-09-06 | 2015-02-15 | Durst Phototech Digital Tech | Photoinitiator |
| JP6066960B2 (ja) | 2014-05-30 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法 |
| CN105152898B (zh) * | 2015-06-23 | 2017-04-26 | 杭华油墨股份有限公司 | 苯基丁酮衍生物与其作为光引发剂的应用 |
| CN107922553B (zh) | 2015-08-27 | 2020-09-15 | 富士胶片株式会社 | 感光性组合物、图像形成方法、膜形成方法、树脂、图像以及膜 |
| JP6537637B2 (ja) | 2016-02-05 | 2019-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| EP3412730A4 (en) | 2016-02-05 | 2019-02-20 | FUJIFILM Corporation | AQUEOUS DISPERSION, MANUFACTURING METHOD AND PICTURE PRODUCTION METHOD |
| JPWO2017135084A1 (ja) | 2016-02-05 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| CN108602367B (zh) | 2016-02-10 | 2020-07-14 | 富士胶片株式会社 | 喷墨记录方法 |
| CN105646224A (zh) * | 2016-02-23 | 2016-06-08 | 广东工业大学 | 一种可聚合的羟烷基苯酮衍生物光引发剂及其制备方法 |
| CN106365967A (zh) * | 2016-08-16 | 2017-02-01 | 甘肃金盾化工有限责任公司 | 2‑羟基‑1‑[4‑(2‑羟乙氧基)苯基]‑2‑甲基‑1‑丙酮的制备方法 |
| US20180134919A1 (en) * | 2016-11-11 | 2018-05-17 | GM Global Technology Operations LLC | Dual cure structural adhesive |
| CN110168027A (zh) | 2017-01-30 | 2019-08-23 | 富士胶片株式会社 | 活性光线固化型油墨组合物及喷墨记录方法 |
| EP3587512B1 (en) | 2017-02-24 | 2023-11-29 | FUJIFILM Corporation | Photocurable ink composition and image forming method |
| WO2018155515A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法 |
| EP3604458B1 (en) | 2017-03-30 | 2021-05-05 | FUJIFILM Corporation | Photocurable ink composition and image formation method |
| WO2018186225A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| JP6900465B2 (ja) | 2017-04-03 | 2021-07-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2018198993A1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| CN110753731B (zh) | 2017-06-20 | 2022-10-28 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
| WO2019021639A1 (ja) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| CN111051440B (zh) | 2017-08-29 | 2022-09-06 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
| WO2019064979A1 (ja) | 2017-09-27 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法 |
| EP3778792A4 (en) | 2018-03-27 | 2021-05-12 | FUJIFILM Corporation | LIGHT CURABLE INK COMPOSITION AND IMAGE GENERATION METHOD |
| EP3778791A4 (en) | 2018-03-27 | 2021-05-19 | FUJIFILM Corporation | LIGHT CURABLE INK COMPOSITION AND IMAGE GENERATION METHOD |
| GB201815407D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions |
| GB201815405D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
| EP3686251B1 (en) | 2019-01-24 | 2021-11-17 | Agfa Nv | Radiation curable inkjet inks for interior decoration |
| US11845874B2 (en) | 2019-01-24 | 2023-12-19 | Agfa Nv | Radiation curable inkjet inks for interior decoration |
| WO2020179155A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
| WO2020202628A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像記録方法 |
| GB201904581D0 (en) | 2019-04-02 | 2019-05-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes and processes for their preparation |
| GB201917710D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
| GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
| CN115803400B (zh) | 2020-07-15 | 2023-10-20 | 富士胶片株式会社 | 防伪图像记录用油墨组、防伪图像记录方法及防伪图像记录物 |
| GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
| GB202015379D0 (en) | 2020-09-29 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202015440D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compounds, compositions and polymer films |
| GB202015546D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202015436D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compositions and polymer films |
| GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
| WO2022128258A1 (en) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | Agfa Nv | Uv curable inkjet inks and inkjet printing methods |
| GB202101153D0 (en) | 2021-01-28 | 2021-03-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer films |
| EP4050073A1 (en) | 2021-02-26 | 2022-08-31 | Agfa Nv | Ink set and inkjet printing methods |
| EP4050072B1 (en) | 2021-02-26 | 2023-10-11 | Agfa Nv | Manufacturing methods of decorative surfaces |
| GB202104403D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer Film |
| GB202104408D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Cationically charged membranes |
| WO2022253753A1 (en) | 2021-06-01 | 2022-12-08 | Agfa Nv | Uv led free radical curable inkjet inks |
| GB202113999D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202114000D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202113997D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202113996D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Films and their uses |
| EP4159820A1 (en) | 2021-10-04 | 2023-04-05 | Agfa Nv | Free radical curable inkjet inks |
| EP4227373A1 (en) | 2022-02-10 | 2023-08-16 | Agfa Nv | Free radical curable inkjet inks and inkjet printing methods |
| GB202201759D0 (en) | 2022-02-11 | 2022-03-30 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202204633D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
| GB202204625D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
| GB202204631D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202207568D0 (en) | 2022-05-24 | 2022-07-06 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| EP4339248A1 (en) | 2022-09-19 | 2024-03-20 | Agfa Nv | Pigmented free radical curable inkjet inks |
| WO2024068601A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
| WO2024068598A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
| WO2024068595A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2443414C2 (de) * | 1974-09-11 | 1983-05-19 | Beiersdorf Ag, 2000 Hamburg | Verfahren zur Herstellung von selbstklebend ausgerüsteten Produkten |
| US4469774A (en) * | 1983-03-28 | 1984-09-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Positive-working photosensitive benzoin esters |
| JPS6150939A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-13 | Mitsui Toatsu Chem Inc | アクリロイロキシプロピオフエノン誘導体及びその用途 |
-
1985
- 1985-09-28 DE DE19853534645 patent/DE3534645A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-09-09 AU AU62470/86A patent/AU595830B2/en not_active Ceased
- 1986-09-10 CS CS866523A patent/CS257798B2/cs unknown
- 1986-09-13 DE DE8686112676T patent/DE3682858D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-13 EP EP86112676A patent/EP0217205B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-13 AT AT86112676T patent/ATE70258T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-09-25 ES ES8602162A patent/ES2004660A6/es not_active Expired
- 1986-09-26 JP JP61226362A patent/JP2514804B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1986-09-26 DD DD86294723A patent/DD258614A5/de not_active IP Right Cessation
- 1986-09-26 ZA ZA867370A patent/ZA867370B/xx unknown
- 1986-09-26 AR AR86305384A patent/AR241265A1/es active
- 1986-09-26 PL PL1986261574A patent/PL149572B2/pl unknown
- 1986-09-26 CA CA000519146A patent/CA1275109A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-26 FI FI863894A patent/FI89162C/fi not_active IP Right Cessation
- 1986-09-26 BR BR8604672A patent/BR8604672A/pt active Search and Examination
- 1986-09-26 DK DK461886A patent/DK172255B1/da not_active IP Right Cessation
- 1986-09-26 HU HU864118A patent/HU201510B/hu not_active IP Right Cessation
- 1986-09-29 US US06/912,473 patent/US4922004A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AR241265A1 (es) | 1992-04-30 |
| EP0217205B1 (de) | 1991-12-11 |
| FI863894A0 (fi) | 1986-09-26 |
| ES2004660A6 (es) | 1989-02-01 |
| DK461886D0 (da) | 1986-09-26 |
| DD258614A5 (de) | 1988-07-27 |
| EP0217205A3 (en) | 1988-09-21 |
| FI863894A (fi) | 1987-03-29 |
| PL261574A2 (en) | 1987-10-19 |
| CS257798B2 (en) | 1988-06-15 |
| AU6247086A (en) | 1987-04-02 |
| JP2514804B2 (ja) | 1996-07-10 |
| ATE70258T1 (de) | 1991-12-15 |
| FI89162B (fi) | 1993-05-14 |
| CA1275109A (en) | 1990-10-09 |
| JPS6281345A (ja) | 1987-04-14 |
| DK461886A (da) | 1987-03-29 |
| BR8604672A (pt) | 1987-06-16 |
| DE3534645A1 (de) | 1987-04-02 |
| FI89162C (fi) | 1993-08-25 |
| US4922004A (en) | 1990-05-01 |
| HU201510B (en) | 1990-11-28 |
| HUT43027A (en) | 1987-09-28 |
| EP0217205A2 (de) | 1987-04-08 |
| DE3682858D1 (de) | 1992-01-23 |
| AU595830B2 (en) | 1990-04-12 |
| ZA867370B (en) | 1987-05-27 |
| DK172255B1 (da) | 1998-02-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL149572B2 (en) | Photopolymerizing compound | |
| US5837746A (en) | Coreactive photoinitiators | |
| JP2518592B2 (ja) | 新規芳香族アミノケトンおよびそれよりなるエチレン性不飽和化合物の光重合のための光開始剤 | |
| US5045573A (en) | Photoinitiators for photopolymerization of unsaturated systems | |
| US4447520A (en) | Acylphosphine oxides and their use | |
| US4739052A (en) | Phenyl ketone derivatives | |
| JPS61194062A (ja) | チオ置換ケトン化合物を用いる光重合開始剤 | |
| JPH0316362B2 (pl) | ||
| PL117576B1 (en) | Photopolymerizing compound | |
| US9353207B2 (en) | Alkylphenyl derivatives and application thereof as photoinitiator | |
| WO2015032069A1 (zh) | 一种低迁移性光引发剂 | |
| JP2009503209A (ja) | 低抽出性、低揮発性共開始剤を含む光重合系 | |
| US6441244B1 (en) | Benzophenones and the use thereof as photoinitiators | |
| JPS6356221B2 (pl) | ||
| JP2007501776A (ja) | 高厚コーティングの製造のための透明な光重合可能なシステム | |
| JPH08151404A (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| US20040122125A1 (en) | Lactone compounds as novel photoinitiators | |
| JPH08188609A (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |