NO310627B1 - Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale - Google Patents
Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale Download PDFInfo
- Publication number
- NO310627B1 NO310627B1 NO19950563A NO950563A NO310627B1 NO 310627 B1 NO310627 B1 NO 310627B1 NO 19950563 A NO19950563 A NO 19950563A NO 950563 A NO950563 A NO 950563A NO 310627 B1 NO310627 B1 NO 310627B1
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- chitosan
- solution
- substrate
- precipitation
- catalyst
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 45
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 42
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 42
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 title claims description 35
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 title claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title claims description 4
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 claims description 64
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 5
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 44
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 26
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 9
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 7
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002262 Schiff base Substances 0.000 description 3
- 150000004753 Schiff bases Chemical class 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 230000006196 deacetylation Effects 0.000 description 3
- 238000003381 deacetylation reaction Methods 0.000 description 3
- YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoboron Chemical compound [B]N(C)C YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDSSGBPEUDDEE-UHFFFAOYSA-N 2-formylpyridine Chemical compound O=CC1=CC=CC=N1 CSDSSGBPEUDDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLUWOWRTHNNBBU-UHFFFAOYSA-N 3-methylthiopropanal Chemical compound CSCCC=O CLUWOWRTHNNBBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004923 Acrylic lacquer Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000008708 Morus alba Nutrition 0.000 description 1
- 240000000249 Morus alba Species 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 1
- 229920001222 biopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N formylthiophene Chemical compound O=CC1=CC=CS1 CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N heavy water Substances [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012052 hydrophilic carrier Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- VOEYXMAFNDNNED-UHFFFAOYSA-N metolcarb Chemical compound CNC(=O)OC1=CC=CC(C)=C1 VOEYXMAFNDNNED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950006780 n-acetylglucosamine Drugs 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/2006—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
- C23C18/2046—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
- C23C18/2073—Multistep pretreatment
- C23C18/2086—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
- C23C18/24—Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/285—Sensitising or activating with tin based compound or composition
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02B—INTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
- F02B75/00—Other engines
- F02B75/02—Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke
- F02B2075/022—Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke having less than six strokes per cycle
- F02B2075/027—Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke having less than six strokes per cycle four
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
- H05K3/387—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive for electroless plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for katalysering ved strømfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale, f. eks plast, glass etc. Fremgangsmåten innbefatter oppfanging av et katalysatormetall som er sterkt involvert i adhesjonen av en metallisk avsetning, eller strømfri utfelning, til et substrat ved en slik strømfri utfelningsprosess. Oppfinnelsen angår spesielt en fremgangsmåte for oppfanging og fiksering av et katalysatormetall som katalytisk kjerne på overflaten av et substrat gjennom selektiv og sterk kjemisorbsjon av katalysatormetallet fra en oppløsning som inneholder katalysatormetallet ved innvirkning av kitosan eller et kitosanderivat som inneholdes i et forbehandlingsmiddel.
Ikke-ledende plaster, kjeramiske materialer, papir, glass, fibre, osv, kan utfelles ved strømfri plettering (i det følgende "utfelning"). For å initiere oksydasjon av et reduksjonsmiddel i en utfelningsoppløsning må imidlertid overflaten av et slikt ikke-ledende stoff som nevnt ovenfor underkastes en katalyseringsbehandling. Selv om en kjent klassisk katalyseringsbehandlingsmetode er en sensitiverende-aktiverende metode hvorved det anvendes et stannokloridbad og et palladiumkloridbad, anvendes det nå generelt en katalysator-akseleratormetode hvorved det brukes et stannoklorid-palladiumkloridbad og et svovelsyre (eller saltsyre) -bad som en katalyseringsbehandlingsmetode. Videre har en annen katalyseringsbehandlingsmetode i den senere tid blitt tatt i bruk, og herved blir et substrat neddykket i en oppløsning av et palladiumkompleks som har en sterk adsorberbarhet og blir deretter vasket med vann, fulgt av utfelling av palladiummetall med et reduksjonsmiddel slik som dimetylaminoboran.
Forbehandlingstrinnet som er nyttig for katalyseringstrinnet er et etsetrinn som er nødvendig for å sikre en fuktbarhet (hydrofilisitet) i overflaten av et substrat for å fremme den fysikalske adsorbsjonen derpå av et katalysatormetall. I et slikt etsetrinn anvendes det nå i de fleste tilfeller en kromsyreetseoppløsning for plaster og lignende. I det kjemiske etsetrinnet blir substratoverflaten gitt en mikroskopisk oppruing for å lette fysikalsk oppfanging i dette av et katalysatormetall i katalyseringstrinnet samtidig som det sikres en forankringseffekt ved adhesjonen av den resulterende metallavsetningen, eller pletteringen, på substratet. I denne sammenheng er det kjemiske etsetrinnet et meget viktig trinn (se fig 1 og 2).
Ifølge sensitivering-aktiveringsmetoden som er en totrinnsprosess, blir først et substrat neddykket i en oppløsning av stannoklorid i prosessens sensitiveringstrinn for å adsorbere Sn^4" på substratets overflate, og blir deretter behandlet med en oppløsning av palladiumklorid i prosessens aktiveringstrinn for å utfelle Pd-kjerner i samsvar med en redoks-reaksjon representert ved følgende ligning:
Kjemikalier som skal benyttes ved sensitivering, dvs sensitiveringsmidler, har blitt studert fra langt tilbake i tiden, blant annet de som er beskrevet i patentlitteraturen fra omkring 1936 (US patent 2.063.034). Typen av sensitiveirngsmiddel blir ikke så ofte variert avhengig av typen av substrat og typen av strømfri utfelning. I sensitiveringstrinnet anvendes det en rekke forskjellige saltsyre-surgjorte oppløsninger av stannoklorid som alene benyttes om hovedbestanddel. Foreslåtte sensitiveirngsmidler andre enn stannoklorid innbefatter platinaklorid og titanklorid, som også kan anvendes i form av en saltsyre-surgjort oppløsning. På den annen side er en oppløsning av palladiumklorid (0,2-1 g/l, saltsyre: 5 ml/l) mest utbredt benyttet som aktiveringsoppløsning. Salter av edelmetaller slik som Pt, Au og Ag andre enn Pd er også effektive for en strømfri kobberutfelningsoppløsning.
Katalysatoren for anvendelse i katalysator-akseleratormetoden er en blandet oppløsning av stannoklorid og palladiumklorid med saltsyre, og denne er kommersielt tilgjengelig i form av en konsentrert oppløsning som vanligvis fortynnes med en stor mengde av en oppløsning av saltsyre for å klargjøres for bruk. Katalysator-akseleratormetoden utføres ved en behandlingstemperatur i området 30-40°C i en neddykkingstid fra 1 til 3 minutter. 5-10 vol-% svovelsyre eller saltsyre blir vanligvis benyttet som akselerator, og kan alternativt være en oppløsning av natriumhydroksyd eller ammoniakk. Rantell et al [kfr. A.Rantell, A. Holtzman; Plating, 61, 326 (1974)] har rapportert at den blandede oppløsningen av stannoklorid og palladiumklorid med saltsyre ikke er kolloidal, men en oppløsning av et komplekst salt som har sammensetningen SvPdjCli^ og oppløseliggjøres i nærvær av et overskudd av stannoklorid. Rantell et al trakk videre følgende slutning med hensyn til forløpet av en reaksjon i akseleratortrinnet.
I katalysatortrinnet blir Sn<2+->Pd<2+> komplekssaltet først adsorbert på overflaten av et substrat og det adsorberte komplekse saltet blir deretter hydrolysert når substratet vaskes med vann. Ved hydrolysen blir tinn utfelt i form av et Sn(OH)Cl-bunnfall, som koeksisterer med fireverdig tinn og palladiumsaltet. I det etterfølgende akseleratortrinnet blir det utfelte stannosaltet oppløst og deretter reagert med palladiumsaltet som allerede er frigjort for en tilstand av et komplekst salt, slik at det oppnås palladiummetall i samsvar med følgende redoks-reaksjon:
Som et resultat av dette forblir palladiummetall og små mengder av toverdig og firverdig tinnsalter på substratets overflate.
De reaksjonsmekanismer som er involvert i sensitivering-aktiveringsmetoden og katalysator-akseleratormetoden som de konvensjonelle katalyseringsmetodene for strømfri utfelning foregår altså som omtalt i det ovenstående. Det vil fremgå at mange reaksjoner er involvert inntil katalytiske kjerner av et metall slik som palladium utfelles. Katalysatormetallet går følgelig tapt litt etter litt i form av forskjellige reaksjons-mellomprodukter som dannes ved de respektive reaksjoner hver gang det foretas vasking av et substrat med vann og lignende for hver slik reaksjon. Den endelige resten av katalysatormetall blir sterkt påvirket av mange faktorer slik som konsentrasjonene, pH-verdiene og temperaturene til oppløsninger som benyttes i respektive trinn, ned-dykkingsperiodene for slike oppløsninger samt betingelsene for avfetting og oppruing av substratoverflaten. Når således det endelige opptaket av katalysatormetall blir util-strekkelig blir adhesjonen av den resulterende metallavsetningen til substratet alltid ufullkommen slik at det forårsakes feil ved utfelning.
De omtalte fenomenene skyldes ren "fysikalsk adsorbsjon" av katalyseringsreaksjon-mellomprodukter og metallkatalysator som er fanget i fordypninger og mikroporer i overflatedelen av substratet som er mikroskopisk oppruet ved kjemisk etsing.
Formålet med foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en helt ny fremgangsmåte som kan muliggjøre oppnåelse av en sterkere adsorbsjonsbinding av en katalysator til overflaten av et substrat for oppnåelse av en stor forbedring av adhesjonen av en metallavsetning, eller utfelning, på substratet ved anvendelse av hverken nevnte sensitivering-aktiveringsmetode eller katalysator-akseleratormetode.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det således tilveiebragt en fremgangsmåte for katalysering ved strømfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale, f.eks plast, glass etc, og denne fremgangsmåten er kjennetegnet ved dannelse av en beleggfilm innbefattende kitosan eller et kitosanderivat på nevnte overflate, og deretter behandling av beleggfilmen med en oppløsning av et salt av et katalysatormetall for å bevirke kjemisorbsjon derav på nevnte beleggfilm.
Fordelaktige og foretrukne trekk ved denne fremgangsmåten fremgår fra de medfølgende krav 2-4.
Ifølge denne fremgangsmåten muliggjør den sterke kjemisorbsjonen av katalysatormetallet på beleggfilmen, som omfatter kitosan eller kitosanderivatet, en lett utførelse av strømfri utfelning av metall på overflaten av det ikke-ledende materialet.
Kitosan (P-l,4-poly-D-glukosamin) som kan benyttes i foreliggende oppfinnelse oppnås ved deacetylering av kitin (P-l,4-poly-N-acetylglukosamin) som ekstraheres som en naturlig polymer fra skall og lignende fra krabber og lignende. Kitosan er en kationisk biopolymer som har aminogrupper, og er et nytt materiale som har nyttige egenskaper slik som fuktighetsretensjon, antifungusegenskaper og absorbsjonsevne for tunge metaller. Kitosan har en biologisk tilpasningsevne i likhet med kitin og anvendelse derav på det farmasøytiske og biokjemiske området slik som kunstig hud, blir derfor grundig studert. Man har kommet frem til foreliggende oppfinnelse ved å rette oppmerksomheten mot metallabsorbsjonsevnen til kitosan, spesielt en spesifikk absorbsjonsevne som kitosan har for edelmetaller slik som palladium, platina og rhodium. Foruten kitosan kan også kitosanderivater slik som karboksymetylkitosan og glykolkitosaner benyttes. Deacetyleirngsgraden for kitosan eller kitosanderivatet som skal benyttes i foreliggende oppfinnelse er helst minst 80 %, fortrinnsvis minst 90 %. Når det anvendes kitosan som har en deacetyleirngsgrad som er lavere enn 80 %, er det mulig at dets adsorbsjonsevne for et katalysatormetall slik som palladium, beleggfilmens hydrofilisitet, osv, blir uheldig påvirket.
Eksempler på det ikke-ledende materialet som skal benyttes som substrat i foreliggende oppfinnelse er plaster, kjeramiske materialer, papir, glass og fibre, som ikke kan utfelles direkte ved elektroutfelning.
Ved dannelse av en strømfri utfelning av metall på overflaten av det ikke-ledende materiale ifølge foreliggende oppfinnelse, blir det ikke-ledende materialets overflate belagt med en behandlingsvæske som inneholder i det minste kitosan eller kitosanderivatet (i det følgende for enkelthets skyld betegnet "kitosan") for dannelse av en hydrofil beleggfilm på det ikke-ledende materialets overflate før trinnene med katalysering og strømfri plettering. Kitosan som befinner seg i den således dannede hydrofile beleggfilmen vil på kjemisk måte adsorbere, oppfange og fiksere et katalysatormetall slik som palladium. Ved det strømfrie utfelningstrinnet kan det følgelig oppnås en slik tilstand at en tilstrekkelig mengde av en aktiv katalysator skapes på substratoverflaten på hvilken den strømfrie utfelning som har en god adhesjon til substratet kan dannes på ensartet og effektiv måte (fig 3).
Kitosankonsentrasjonen i behandlingsvæsken som inneholder kitosan er helst i området 0,01-1 %, fortrinnsvis i området 0,05-0,2 %. Når den senkes under 0,01 % vil konsentrasjonseffekten av kitosantilsetningen bli såpass nedsatt at det ikke oppnås en effektiv oppfanging av katalysatoren. På den annen side, når den overskrider 1 % vil effekten av kitosantilsetningen bli en metning slik at dette nedsetter behandlingsvæskens belegningseffekt.
I tillegg til kitosan kan den kitosanholdige behandlingsvæsken inneholde en fortynnet syre slik som eddiksyre, maursyre eller saltsyre. Den fortynnede syren kan benyttes for å oppløse kitosan i behandlingsvæsken. Konsentrasjonen av den fortynnede syren beregnes på basis av ekvivalens til de frie aminogruppene i den kitosanforbindelsen som skal benyttes. Videre kan behandlingsvæsken i enkelte tilfeller blandes med en harpik som gir en utmerket adhesjon til substratet, skjønt dette avhenger av substrattypen. En hvilken som helst harpiks kan anvendes forsåvidt som den gir god kompatibilitet eller blandbarhet med kitosan. Eksempler på harpiksen som kan tilsettes til behandlingsvæsken innbefatter vannoppløselige harpikser slik som polyvinylalkohol og hydroksyetyl-cellulose; vannoppløseliggjorte harpikser av en alkyd-, polyester-, akryl-, epoksyharpiks eller lignende harpiks; og emulsjoner av en vinylacetat-, akrylharpiks eller lignende harpiks. Kitosan i seg selv kan tverrbindes med polyetylenglykoldiglysidyleter eller lignende for å gjøre beleggfilmen så stabil at katalyseringsreaksjonen kan forsterkes. Videre kan i visse tilfeller en rekke forskjellige uorganiske pigmenter tilsettes til behandlingsvæsken for å oppnå en fastere adhesjon til den resulterende strømløse utfelningen. I dette tilfellet er spesielt overflaten av beleggfilmen som er dannet ved påføring av behandlingsvæsken mikroskopisk ujevn slik at det oppnås en forankringseffekt i løpet av den strømfrie utfelningsdannelsen for derved ytterligere å bidra til en forbedring i filmens adhesjon til den strømfrie utfelningen, og dermed representere et alternativ til det kjemiske etsetrinnet i de konvensjonelle prosessene. Nyttige eksempler på uorganiske pigmenter er alurniniumsilikat, titanoksyd og bariumsulfat. Mengden av uorganisk pigment kan være i området 10-80 %, fortrinnsvis 50-70 %, basert på faststoffinneholdet. Når mengden overskrider 85 % blir adhesjonen for det kitosanholdige behandlingsmaterialet til substratet i seg selv nedsatt. Nesten alt resterende materiale er vann og et organisk oppløsningsmiddel som metanol, etanol, isopropanol og/eller etylacetat. Et slikt oppløsningsmiddel er effektivt med henblikk på å forbedre forskjellige harpiksers kompatibilitet i tilfelle slike materialer tilsettes, idet de gir en viss erosjon av substratet og hurtig tørking av behandlingsvæsken etter påføring derav. I tillegg kan et hydrofilt overflateregulerende middel etter behov tilsettes til behandlingsvæsken for å gi beleggfilmen som er dannet av nevnte væske en passende grad av utjevning og hydrofilisitet. Eksempler på overflateregulerende midler er perfluoralkyletylenoksyder. Det overflateregulerende midlet kan tilsettes til en mengde i området 0,05-1 %, fortrinnsvis 0,1-0,5 %, basert på innholdet av fast kitosan.
Nevnte behandlingsvæske som inneholder kitosan kan påføres på substratoverflaten ved hjelp av en konvensjonell påføringsmetode slik som spraybelegging, valsebelegging, pensling, eller dyppbelegging for dannelse av en beleggfilm som kan tjene som en hydrofil bærer for fiksering av katalysatormetallet.
Etter dannelse av den katalysatormetallfikserende bærer på substratets overflate utføres trinnet med fiksering av katalysatormetallet gjennom katalyseringsreaksjonen fulgt av trinnet med strømfri utfelning. Det kan således på effektiv måte oppnås en strømfri utfelning som har en god adhesjon til substratet. Videre er det ifølge oppfinnelsen mulig bare å forbehandle en del av overflaten av det ikke-ledende materialet som substrat med den kitosanholdige behandlingsvæsken. I dette tilfellet blir katalysatoren selektivt dannet bare på den forbehandlede delen(e) av substratoverflaten og derved muliggjøres effektiv utførelse av partiell strømløs utfelning i det etterfølgende trinnet. Ifølge foreliggende oppfinnelse kan dessuten polyesterharpikser slik som polyetylentereftalat, konstruksjons-plaster, forskjellige legeringer, osv, som hittil har vært vanskelig å utfelle strørnfritt, utfelles strørnfritt på tilfredsstillende måte.
Videre, selv om den kitosanholdige behandlingsvæsken påføres direkte på overflaten av det ikke-ledende substratmaterialet i den foregående prosedyren, kan i visse tilfeller et underbelegg påføres på substratoverflaten før påføring derpå av behandlingsvæsken, idet et hvilket som helst underbelegg som har den beste adhesjonen til substratet kan benyttes uten å ta i betrakning dets kompatibilitet med kitosan som nevnt ovenfor, skjønt antall trinn forøkes. Eksempler på underbelegg innbefatter akryllakk, akrylbelegg, og uretan-behandlede akrylbelegg som har utmerket adhesjon til plaster slik som akrylharpikser, ABS, polystyren, polykarbonater, polypropylen og polyestere.
I katalyseringsreaksjonstrinnet blir substratet med beleggfilmen dannet som katalysatormetallfikserende bærer inneholdende kitosan på overflaten derav på enkel måte neddykket i en saltsyre-, salpetersyre- eller eddiksyre-surgjort oppløsning av hydroklorid, nitrat eller acetat av et edelmetall slik som Pd, Pt, Au eller Ag, eller lignende i en kort tidsperiode for fullstendig fiksering av katalysatorkjerner kun i løpet av et trinn hvilket er forskjellig fra de ovenfor omtalte konvensjonelle sensitivering-aktiverings- eller katalysator-akseleratormetodene. Det representative edelmetallsaltet er palladiumklorid som kan benyttes i form av en oppløsning (palladiumklorid: 0,2-1 g/l, saltsyre: 5 ml/l) slik som en aktiveringsoppløsning som benyttet i sensitivering-aktiveringsmetoden. Kjemisorbsjonen av palladium på den katalysatormetallfikserende bæreren inneholdende kitosan antas å skyldes koordineringsbindinger som illustrert på fig 4 [Baba et al; Bull. Chem. Soc. Jpn. 66, 2915 (1993)]. Kjemisorbsjonen kan hindre palladium i å falle av bæreren i det etterfølgende strømfrie utfelningstrinnet. Videre kan de frie aminogruppene i kitosan reageres med et aldehyd slik som formaldehyd, salisylaldehyd, glutaraldehyd, pyridin-2-aldehyd, tiofen-2-aldehyd eller 3-(metyltio)propionaldehyd for dannelse av en Schiff-base, som deretter kan reduseres med natriumbortetrahydrid eller lignende for dannelse av en katalysatormetallfikserende bærer på hvilken katalysatormetallet kan dannes på en mer selektiv og sterkere måte, skjønt det avhenger av typen av katalysatormetall (se fig 5).
Deretter blir substratet med nevnte katalysatormetallfikserende bærer inneholdende kitosan og med katalysatormetallet dannet derpå neddykket i et strørnfritt utfelningsbad av Cu, Ni, Co, Pd, Au eller en legering derav, hvoretter den strømfrie utfelningen som har en utmerket adhesjon til substratet kan oppnås kontinuerlig ved den reduserende virkning av de fikserte katalysatorkjernene som bare befinner seg på den eller de deler av substratoverflaten hvor den katalysatormetallfikserende bæreren forefinnes. Det ikke-ledende materialet kan således metalliseres i overensstemmelse med det ønskede formål.
Ifølge sensitivering-aktiveringsmetoden, katalysator-akseleratormetoden, osv som katalyseringsmetoder i de konvensjonelle strømfrie pletteringsprosessene, dannes det et katalysatormetall på overflaten av et substrat som er mikroskopisk oppruet ved kjemisk etsing gjennom en rekke reaksjonstrinn som bevirkes på overflaten av substratet og ved hjelp av fysikalsk adsorbsjon av reaksjonsproduktet på substratoverflaten, med det resultat at resten av katalysatormetallet er så ustabil at den i mange tilfeller forårsaker uheldige effekter slik som adhesjonsfeil under forløpet for utfelningsdannelsen. I motsetning til dette blir det ifølge foreliggende katalyseringsprosess påført en behandlingsvæske som inneholder kitosan i form av et belegg på overflaten av et substrat til dannelse av en slags katalysatormetallfikserende bærer på hvilken katalysatormetallet bæres på sterk måte ved kjemisorbsjon derav hvilket således muliggjør dannelse ved strømfri utfelning av en ensartet metallavsetning med god adhesjon. Videre bæres katalysatoren kun på den eller de forbehandlede delene av substratoverflaten hvorpå behandlingsvæsken er påført slik at den partielle strømfrie utfelningen kan oppnås. Videre kan kjemisk etsing unngås slik at antall trinn kan reduseres og slik at awanns-behandlingen kan forenkles, og dette bidrar sterkt til en forbedring hva angår miljø-problemer. Fig 1 er et flytskjema for en konvensjonell strømfri utfelningsprosess omfattende katalysering ifølge sensitivering-aktiveringsmetoden; Fig 2 er et flytskjema for en konvensjonell strørnfri utfelningsprosess som omfatter katalysering ifølge katalysator-akseleratormetoden; Fig 3 er et flytskjema for en strørnfri utfelningsprosess hvor katalysering utføres gjennom dannelsen av en katalysatormetallfikserende bærer inneholdende kitosan ifølge foreliggende oppfinnelse; Fig 4 er en illustrasjon som viser adsorbsjonsmekanismen for palladium ved innvirkning av kitosan; og Fig 5 er en illustrasjon som viser adsorbsjonsmekanismen for palladium ved innvirkning av et kitosanderivat.
Foretrukne utførelser
Eksempel 1
Kitosan (SK-10 fremstilt av San-Ei Chemical Industries, Ltd) ble oppløst i en 1 % oppløsning av eddiksyre for dannelse av en 1 vekt/vol % oppløsning av kitosan, som deretter ble fortynnet med metanol for oppnåelse av en forbehandlingsvæske inneholdende 0,5 % kitosan. Forbehandlingsvæsken ble påført på japansk papir (300 mm<2 >morbærtrepapir og produsert av Dai-Inshu Seishi Kyogyo Kumiai) ved anvendelse av en spray eller en pensel, og deretter tørkes under tvungen luftbevegelse ved 50°C i 1 time.
Det belagte papiret ble deretter neddykket i en oppløsning av palladiumklorid (PdCl2-2H2O: 0,3 g/l, saltsyre: 5 ml/l) i 30 minutter, deretter vasket med vann, og deretter underkastet strømfri kobberutfelning i et utfelningsbad med en sammensetning som vist i tabell 1.
pH 12,5, væsketemperatur: 60°C omrøring med luft.
Som et resultat kunne det oppnås en jevn kobberavsetning på hele overlfaten av det japanske papiret i tifelle for påføring av forbehandlingsoppløsningen på hele papiroverflaten, og bare på en del av overflaten av det japanske papiret i tilfelle for delvis påføring av forbehandlingsoppløsningen på papiroverflaten.
Eksempel 2
Kitosan (SK-100, Lot. 414-05; produsert av San-Ei Chemical Industries, Ltd) ble oppløst i en 1 % oppløsning av eddiksyre for dannelse av en 1 vekt/vol % oppløsning av kitosan som deretter ble blandet med 1 vol/vol % av en oppløsning av salicylaldehyd (produsert av Kishida Chemical Co., Ltd) fortynnet med en 10-gangers mengde av metanol for dannelse av en Schiff-base, og ytterligere fortynnet med metanol etter 1 time for å oppnå en behandlingsvæske inneholdende 0,5 % kitosan.
På den annen side ble et aluminiumoksyd-kjeramikksubstrat (99,9 %) utsatt to ganger for ultralydrensing med destillert vann i 5 minutter, videre utsatt for ultralydrensing med metanol, og deretter tørket for oppnåelse av et renset teststykke.
Teststykket ble neddykket i ovennevnte behandlingsvæske og deretter tørket ved 120°C i 30 minutter. Deretter ble teststykket neddykket i en 0,5 % oppløsning av dimetylaminoboran for å redusere Schiff-basen med denne, deretter neddykket i en oppløsning av palladiumklorid (PdCl2-2H20: 0,03 g/l, saltsyre: 5 ml/l) i 2 minutter, deretter vasket med vann, og tørket. Ved dette trinnet ble palladiumadsorbsjonen målt ifølge nedenstående prosedyre. 100 ml av en 1 % oppløsning av salpetersyre ble tilsatt til teststykket og oppvarmet for å oppløse palladium som derved ble fjernet fra teststykket. Oppløsningen ble ytterligere oppvarmet for å bevirke fordampning, deretter plassert i en 50 ml gradert målesylinder hvori destillert vann var anbragt opp til den merkede linjen på sylinderen. Den resulterende oppløsningen ble anbragt i et grafittpyrolyserør og forbrent ved en forbrenningstemperatur på 2600°C i 3 sekunder under anvendelse av en spektroskopisk atomabsorbsjonsanalysator (AA-670G, produsert av Shimadzu Seisakusho Ltd) og en grafittovnforstøver (Model GFA-4) for å måle absorbansen av palladium hvorfra palladiumadsorbsjonen ble beregnet. Som et resultat av dette ble det funnet at mengden av adsorbert palladium på katalysatormetallifkseringsbæreren inneholdende kitosan var 11,5 ug per teststykke i dette eksemplet.
Deretter ble et annet teststykke neddykket i behandlingsvæsken og deretter i opp-løsningen av dimetylaminoboran på samme måte som beskrevet ovenfor, videre neddykket i oppløsningen av palladiumklorid i 2 minutter, deretter vasket, og tørket og ble underkastet strømfri nikkelutfelningi et utfelningsbad med en sammensetning som vist i tabell 2 i 30 minutter for oppnåelse av en jevn nikkelutfelning.
Eksempel 3
Kitosan (SK-100, Lot. 802-05; produsert av San-Ei Chemical Industries, Ltd) ble oppløst i en 1 % oppløsning av eddiksyre for dannelse av en 1 vekt/vol % oppløsning av kitosan. På den annen side ble 20 deler titanoksyd og 80 deler aluminiumsilikat blandet med og dispergert i 100 deler av en akrylharpiks av epoksyherdetypen (produsert av Toray Industries, Inc) for oppnåelse av en oppløsning som deretter ble fortynnet med et blandet oppløsningsmiddel av metanol/isopropylalkohol/etylacetat/butylcellosolve (80:12:3:5) for dannelse av en 20 vekt/vol % oppløsning. Denne oppløsningen ble blandet med ovennevnte oppløsning av kitosan i et forhold av 10:1 for oppnåelse av en forbehandlingsvæske inneholdende kitosan som aktiv bestanddel.
Et prøvestykke av ABS-harpiks (50 mm x 150 mm x 2,0 mm-t) ble fremstilt som et substrat, tørket med et klede fuktet med isopropylalkohol for avfetting og rensing, og prøvestykket ble deretter spraybelagt med en oppløsning fremstilt ved tilsetning av 0,5 deler av et epoksyherdemiddel (DENACOL EX-850 fremstilt av Nagase Chemicals, Ltd) til 100 deler av ovennevnte forbehandlingsvæske og fortynning av den resulterende blanding med en 5-gangers mengde av et blandet oppløsningsmiddel av butylacetat/etylacetat/n-butanol/toluen/butylcellusolve (20:25:20:25:10) fulgt av tørking ved 60°C i 1 time.
Det belagte ABS-harpiksstykket ble neddykket i en oppløsning av palladiumklorid
(PdCl2*2H20: 0,25 g/l, saltsyre: 5 ml/l) i 3 minutter, deretter vasket med vann, så utfelt i et strørnfritt kobberutfelningsbad med en sammensetning som vist i tabell 1 i 30 minutter, og deretter videre plettert i et strørnfritt nikkelutfelningsbad med en sammensetning som
vist i tabell 3 i 5 minutter til oppnåelse av en jevn kobber/nikkel-utfelning med en tykkelse i området 1,5-2,0 nm.
Det ble fastslått at den således oppnådde kobber/nikkel-utfelningen hadde et godt ut-seende og en utmerket adhesjon i forskjellige egenskapstester som vist i tabell 4.
Når det gjelder adhesjonen ble et 10 mm x 10 mm areal av kobber/nikkel-utfelningen krysskåret i 100 små firkanter hver med en lengde på 1 mm og en bredde på 1 mm, og et cellofanklebebånd ble festet til det krysskårede arealet av utfelningen og deretter revet av for å bedømme adhesjonen basert på (antall gjenværende firkanter av utfelning/totalt antall firkanter).
Claims (4)
1.
Fremgangsmåte for katalysering ved strømfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale, f. eks plast, glass, etc, karakterisert v e d dannelse av en beleggfilm innbefattende kitosan eller et kitosanderivat på nevnte overflate, og deretter behandling av beleggfilmen med en oppløsning av et salt av et katalysatormetall for å bevirke kjemisorbsjon derav på nevnte beleggfilm.
2.
Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at nevnte beleggfilm som omfatter kitosan eller nevnte kitosanderivat ytterligere omfatter en harpiks.
3.
Fremgangsmåte ifølge krav 1 eller 2, karakterisert ved at beleggfilmen som omfatter kitosan eller nevnte kitosanderivat ytterligere omfatter et uorganisk pigment.
4.
Fremgangsmåte ifølge krav 1, 2 eller 3,karakterisert v e d at nevnte salt av katalysatormetallet er et salt av et edelmetall.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33109794A JP3022226B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 無電解めっき法における触媒化方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO950563D0 NO950563D0 (no) | 1995-02-15 |
NO950563L NO950563L (no) | 1996-06-10 |
NO310627B1 true NO310627B1 (no) | 2001-07-30 |
Family
ID=18239827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO19950563A NO310627B1 (no) | 1994-12-08 | 1995-02-15 | Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale |
Country Status (19)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5660883A (no) |
JP (1) | JP3022226B2 (no) |
KR (1) | KR960023235A (no) |
CN (1) | CN1124301A (no) |
AU (1) | AU699029B2 (no) |
BE (1) | BE1008679A3 (no) |
CA (1) | CA2142683C (no) |
CH (1) | CH689394A5 (no) |
DE (1) | DE19506551C2 (no) |
DK (1) | DK172134B1 (no) |
FI (1) | FI950446A (no) |
FR (1) | FR2727984B1 (no) |
GB (1) | GB9502096D0 (no) |
IT (1) | IT1281942B1 (no) |
NL (1) | NL9500293A (no) |
NO (1) | NO310627B1 (no) |
RU (1) | RU2126459C1 (no) |
SE (1) | SE514289C2 (no) |
TW (1) | TW254971B (no) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6046107A (en) * | 1998-12-17 | 2000-04-04 | Industrial Technology Research Institute | Electroless copper employing hypophosphite as a reducing agent |
US6703186B1 (en) | 1999-08-11 | 2004-03-09 | Mitsuboshi Belting Ltd. | Method of forming a conductive pattern on a circuit board |
JP2001236885A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
JP4897165B2 (ja) * | 2000-09-27 | 2012-03-14 | 名古屋メッキ工業株式会社 | 金属めっきされた有機高分子繊維の製造方法 |
JP2002348673A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Learonal Japan Inc | ホルムアルデヒドを使用しない無電解銅めっき方法および該方法に使用される無電解銅めっき液 |
US7223694B2 (en) * | 2003-06-10 | 2007-05-29 | Intel Corporation | Method for improving selectivity of electroless metal deposition |
US7049234B2 (en) * | 2003-12-22 | 2006-05-23 | Intel Corporation | Multiple stage electroless deposition of a metal layer |
JP2005243499A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Fujitsu Ltd | フラットディスプレイパネルの電極形成方法 |
US7732330B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-06-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method using an ink-jet method of the same |
CN101319315A (zh) * | 2008-07-03 | 2008-12-10 | 东华大学 | 一种基于分子自组装技术的柔性基材化学镀前活化方法 |
WO2010120816A2 (en) * | 2009-04-13 | 2010-10-21 | Applied Materials, Inc. | Metallized fibers for electrochemical energy storage |
JP5663886B2 (ja) * | 2010-02-08 | 2015-02-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US20110303644A1 (en) * | 2010-06-09 | 2011-12-15 | Arlington Plating Company | Methods for Plating Plastic Articles |
ES2710856T3 (es) * | 2010-09-13 | 2019-04-29 | Chemetall Gmbh | Procedimiento para recubrimiento de superficies y uso de los objetos recubiertos según este procedimiento |
EP2695581B1 (en) | 2012-08-07 | 2019-03-13 | Critical Innovations, LLC | Device for simultaneously documenting and treating tension pneumothorax and/or hemothorax |
CN103114437B (zh) * | 2013-02-01 | 2014-11-05 | 东华大学 | 一种纺织品表面无钯化学镀金属镍的方法 |
US10046147B2 (en) | 2013-12-26 | 2018-08-14 | Critical Innovations, LLC | Percutaneous access pathway system and method |
CN103805971B (zh) * | 2014-03-11 | 2017-02-15 | 东华大学 | 一种镍盐活化化学镀铜纺织品的方法 |
CN104372313B (zh) * | 2014-09-29 | 2018-07-13 | 安科智慧城市技术(中国)有限公司 | 一种薄膜太阳能电池背电极的制备方法及薄膜太阳能电池 |
DE102015201562A1 (de) * | 2015-01-29 | 2016-08-04 | Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf E.V. | Verfahren zur Metallisierung von Kunststoffteilen sowie Lösung |
CN105821396A (zh) * | 2016-03-27 | 2016-08-03 | 华南理工大学 | 一种无钯化学镀铜的方法 |
US10814119B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-10-27 | Critical Innovations, LLC | Percutaneous access pathway system |
CN110093596A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-08-06 | 南昌大学 | 一种自动脱落的超薄铜箔的制备方法 |
CN112063998B (zh) * | 2020-08-28 | 2022-10-11 | 南昌大学 | 一种超薄铜/石墨烯复合箔的制备方法 |
CN112522687A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-03-19 | 深圳市先进连接科技有限公司 | 树脂表面改性溶液和化学镀银方法 |
CN112979344B (zh) * | 2021-03-16 | 2022-04-08 | 河海大学 | 基于化学镀法在混凝土表面制备的抗菌保护层及制备方法 |
EP4321116A3 (en) | 2022-08-11 | 2024-05-08 | Critical Innovations, LLC | Percutaneous access pathway system |
CN116782516B (zh) * | 2023-07-13 | 2024-01-23 | 南华大学 | 一种基于均相离子型催化油墨制备铜印刷电路的普适工艺 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6036668A (ja) * | 1983-08-08 | 1985-02-25 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解銅めつき用触媒 |
US4670306A (en) * | 1983-09-15 | 1987-06-02 | Seleco, Inc. | Method for treatment of surfaces for electroless plating |
US4663240A (en) * | 1984-11-06 | 1987-05-05 | Enthone, Incorporated | RFI shielded plastic articles and process for making same |
US5338822A (en) * | 1992-10-02 | 1994-08-16 | Cargill, Incorporated | Melt-stable lactide polymer composition and process for manufacture thereof |
US5336415A (en) * | 1993-02-10 | 1994-08-09 | Vanson L.P. | Removing polyvalent metals from aqueous waste streams with chitosan and halogenating agents |
DE69423257T2 (de) * | 1993-05-28 | 2000-07-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Denitrierungssystem |
-
1994
- 1994-12-08 JP JP33109794A patent/JP3022226B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-19 TW TW83111861A patent/TW254971B/zh active
-
1995
- 1995-01-16 KR KR1019950000598A patent/KR960023235A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-01-17 CN CN95101769A patent/CN1124301A/zh active Pending
- 1995-02-01 FI FI950446A patent/FI950446A/fi unknown
- 1995-02-02 GB GB9502096A patent/GB9502096D0/en active Pending
- 1995-02-07 RU RU95101851A patent/RU2126459C1/ru active
- 1995-02-13 CH CH00417/95A patent/CH689394A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1995-02-15 NO NO19950563A patent/NO310627B1/no not_active IP Right Cessation
- 1995-02-16 NL NL9500293A patent/NL9500293A/nl not_active Application Discontinuation
- 1995-02-16 CA CA 2142683 patent/CA2142683C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-16 SE SE9500571A patent/SE514289C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1995-02-17 DK DK017895A patent/DK172134B1/da not_active IP Right Cessation
- 1995-02-21 FR FR9501991A patent/FR2727984B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-23 IT IT95RM000110 patent/IT1281942B1/it active IP Right Grant
- 1995-02-24 DE DE19506551A patent/DE19506551C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-24 AU AU13581/95A patent/AU699029B2/en not_active Ceased
- 1995-03-14 US US08/404,155 patent/US5660883A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-13 BE BE9500525A patent/BE1008679A3/fr not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI950446A (fi) | 1996-06-09 |
AU1358195A (en) | 1996-06-13 |
GB9502096D0 (en) | 1995-03-22 |
DK17895A (da) | 1996-06-09 |
KR960023235A (ko) | 1996-07-18 |
NO950563L (no) | 1996-06-10 |
SE9500571D0 (sv) | 1995-02-16 |
NL9500293A (nl) | 1996-07-01 |
AU699029B2 (en) | 1998-11-19 |
DK172134B1 (da) | 1997-11-24 |
DE19506551C2 (de) | 2001-05-31 |
RU95101851A (ru) | 1996-11-20 |
FI950446A0 (fi) | 1995-02-01 |
FR2727984A1 (fr) | 1996-06-14 |
SE514289C2 (sv) | 2001-02-05 |
CN1124301A (zh) | 1996-06-12 |
BE1008679A3 (fr) | 1996-07-02 |
JPH08158057A (ja) | 1996-06-18 |
CA2142683A1 (en) | 1996-06-09 |
DE19506551A1 (de) | 1996-06-13 |
FR2727984B1 (fr) | 1997-12-12 |
CH689394A5 (fr) | 1999-03-31 |
NO950563D0 (no) | 1995-02-15 |
JP3022226B2 (ja) | 2000-03-15 |
ITRM950110A0 (it) | 1995-02-23 |
IT1281942B1 (it) | 1998-03-03 |
ITRM950110A1 (it) | 1996-08-23 |
RU2126459C1 (ru) | 1999-02-20 |
US5660883A (en) | 1997-08-26 |
SE9500571L (sv) | 1996-06-09 |
CA2142683C (en) | 2000-07-18 |
TW254971B (en) | 1995-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO310627B1 (no) | Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale | |
SE514289C3 (sv) | Förfarande för katalytisk förbehandling av ett underlag vid strömfri plätering | |
BE1008678A3 (fr) | Formation d'une couche d'argent sur un substrat vitreux. | |
EP0913502B1 (en) | Method of electroplating nonconductive plastic molded product | |
US4097286A (en) | Method of depositing a metal on a surface | |
JP3417947B2 (ja) | 支持体上に触媒パラジウムを沈着するための高分子樹脂 | |
JPH0776436B2 (ja) | 導電性表面のメッキ方法 | |
US4042730A (en) | Process for electroless plating using separate sensitization and activation steps | |
JP2001206735A (ja) | めっき方法 | |
JPS585984B2 (ja) | 無電気めっきの前処理方法 | |
JP2001177292A (ja) | 透視性電磁波シールド材及びその製造方法 | |
JP2943364B2 (ja) | アルミニウム又はアルミニウム合金の無電解着色法 | |
JP2003277941A (ja) | 無電解めっき方法、および前処理剤 | |
ZA200309379B (en) | Patterning method. | |
JPH03271375A (ja) | 無電解めっき方法及び無電解めっき用前処理剤 | |
JP2003155574A (ja) | めっき製品及びその製造方法 | |
KR20050078380A (ko) | 석재의 무전해도금방법 | |
JPH05339517A (ja) | 顔料の製造方法 | |
JPH06212440A (ja) | 非導電性素地上への無電解めっき方法 | |
CN112225464A (zh) | 高荧光增强效果的金银合金纳米岛状薄膜及其制备方法 | |
JP2001271172A (ja) | めっき前処理剤およびめっき方法 | |
JP2004315895A (ja) | 無電解めっき用前処理液及びこれを用いた無電解めっき方法 | |
CN113862995A (zh) | 一种碳纤维表面金属化的前处理方法和镀膜方法 | |
TH19391A (th) | "ขบวนการสำหรับการแคทไลซ์เซชั่นในการชุบแบบไม่ใช้ไฟฟ้า" | |
JPH0220709B2 (no) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM1K | Lapsed by not paying the annual fees |
Free format text: LAPSED IN AUGUST 2002 |