NO310627B1 - Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale - Google Patents

Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale Download PDF

Info

Publication number
NO310627B1
NO310627B1 NO19950563A NO950563A NO310627B1 NO 310627 B1 NO310627 B1 NO 310627B1 NO 19950563 A NO19950563 A NO 19950563A NO 950563 A NO950563 A NO 950563A NO 310627 B1 NO310627 B1 NO 310627B1
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
chitosan
solution
substrate
precipitation
catalyst
Prior art date
Application number
NO19950563A
Other languages
English (en)
Other versions
NO950563L (no
NO950563D0 (no
Inventor
Yoshihiko Omura
Original Assignee
Omura Toryo Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omura Toryo Kk filed Critical Omura Toryo Kk
Publication of NO950563D0 publication Critical patent/NO950563D0/no
Publication of NO950563L publication Critical patent/NO950563L/no
Publication of NO310627B1 publication Critical patent/NO310627B1/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating
    • C23C18/30Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2046Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
    • C23C18/2073Multistep pretreatment
    • C23C18/2086Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • C23C18/24Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating
    • C23C18/285Sensitising or activating with tin based compound or composition
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02BINTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
    • F02B75/00Other engines
    • F02B75/02Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke
    • F02B2075/022Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke having less than six strokes per cycle
    • F02B2075/027Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke having less than six strokes per cycle four
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • H05K3/387Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive for electroless plating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for katalysering ved strømfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale, f. eks plast, glass etc. Fremgangsmåten innbefatter oppfanging av et katalysatormetall som er sterkt involvert i adhesjonen av en metallisk avsetning, eller strømfri utfelning, til et substrat ved en slik strømfri utfelningsprosess. Oppfinnelsen angår spesielt en fremgangsmåte for oppfanging og fiksering av et katalysatormetall som katalytisk kjerne på overflaten av et substrat gjennom selektiv og sterk kjemisorbsjon av katalysatormetallet fra en oppløsning som inneholder katalysatormetallet ved innvirkning av kitosan eller et kitosanderivat som inneholdes i et forbehandlingsmiddel.
Ikke-ledende plaster, kjeramiske materialer, papir, glass, fibre, osv, kan utfelles ved strømfri plettering (i det følgende "utfelning"). For å initiere oksydasjon av et reduksjonsmiddel i en utfelningsoppløsning må imidlertid overflaten av et slikt ikke-ledende stoff som nevnt ovenfor underkastes en katalyseringsbehandling. Selv om en kjent klassisk katalyseringsbehandlingsmetode er en sensitiverende-aktiverende metode hvorved det anvendes et stannokloridbad og et palladiumkloridbad, anvendes det nå generelt en katalysator-akseleratormetode hvorved det brukes et stannoklorid-palladiumkloridbad og et svovelsyre (eller saltsyre) -bad som en katalyseringsbehandlingsmetode. Videre har en annen katalyseringsbehandlingsmetode i den senere tid blitt tatt i bruk, og herved blir et substrat neddykket i en oppløsning av et palladiumkompleks som har en sterk adsorberbarhet og blir deretter vasket med vann, fulgt av utfelling av palladiummetall med et reduksjonsmiddel slik som dimetylaminoboran.
Forbehandlingstrinnet som er nyttig for katalyseringstrinnet er et etsetrinn som er nødvendig for å sikre en fuktbarhet (hydrofilisitet) i overflaten av et substrat for å fremme den fysikalske adsorbsjonen derpå av et katalysatormetall. I et slikt etsetrinn anvendes det nå i de fleste tilfeller en kromsyreetseoppløsning for plaster og lignende. I det kjemiske etsetrinnet blir substratoverflaten gitt en mikroskopisk oppruing for å lette fysikalsk oppfanging i dette av et katalysatormetall i katalyseringstrinnet samtidig som det sikres en forankringseffekt ved adhesjonen av den resulterende metallavsetningen, eller pletteringen, på substratet. I denne sammenheng er det kjemiske etsetrinnet et meget viktig trinn (se fig 1 og 2).
Ifølge sensitivering-aktiveringsmetoden som er en totrinnsprosess, blir først et substrat neddykket i en oppløsning av stannoklorid i prosessens sensitiveringstrinn for å adsorbere Sn^4" på substratets overflate, og blir deretter behandlet med en oppløsning av palladiumklorid i prosessens aktiveringstrinn for å utfelle Pd-kjerner i samsvar med en redoks-reaksjon representert ved følgende ligning:
Kjemikalier som skal benyttes ved sensitivering, dvs sensitiveringsmidler, har blitt studert fra langt tilbake i tiden, blant annet de som er beskrevet i patentlitteraturen fra omkring 1936 (US patent 2.063.034). Typen av sensitiveirngsmiddel blir ikke så ofte variert avhengig av typen av substrat og typen av strømfri utfelning. I sensitiveringstrinnet anvendes det en rekke forskjellige saltsyre-surgjorte oppløsninger av stannoklorid som alene benyttes om hovedbestanddel. Foreslåtte sensitiveirngsmidler andre enn stannoklorid innbefatter platinaklorid og titanklorid, som også kan anvendes i form av en saltsyre-surgjort oppløsning. På den annen side er en oppløsning av palladiumklorid (0,2-1 g/l, saltsyre: 5 ml/l) mest utbredt benyttet som aktiveringsoppløsning. Salter av edelmetaller slik som Pt, Au og Ag andre enn Pd er også effektive for en strømfri kobberutfelningsoppløsning.
Katalysatoren for anvendelse i katalysator-akseleratormetoden er en blandet oppløsning av stannoklorid og palladiumklorid med saltsyre, og denne er kommersielt tilgjengelig i form av en konsentrert oppløsning som vanligvis fortynnes med en stor mengde av en oppløsning av saltsyre for å klargjøres for bruk. Katalysator-akseleratormetoden utføres ved en behandlingstemperatur i området 30-40°C i en neddykkingstid fra 1 til 3 minutter. 5-10 vol-% svovelsyre eller saltsyre blir vanligvis benyttet som akselerator, og kan alternativt være en oppløsning av natriumhydroksyd eller ammoniakk. Rantell et al [kfr. A.Rantell, A. Holtzman; Plating, 61, 326 (1974)] har rapportert at den blandede oppløsningen av stannoklorid og palladiumklorid med saltsyre ikke er kolloidal, men en oppløsning av et komplekst salt som har sammensetningen SvPdjCli^ og oppløseliggjøres i nærvær av et overskudd av stannoklorid. Rantell et al trakk videre følgende slutning med hensyn til forløpet av en reaksjon i akseleratortrinnet.
I katalysatortrinnet blir Sn<2+->Pd<2+> komplekssaltet først adsorbert på overflaten av et substrat og det adsorberte komplekse saltet blir deretter hydrolysert når substratet vaskes med vann. Ved hydrolysen blir tinn utfelt i form av et Sn(OH)Cl-bunnfall, som koeksisterer med fireverdig tinn og palladiumsaltet. I det etterfølgende akseleratortrinnet blir det utfelte stannosaltet oppløst og deretter reagert med palladiumsaltet som allerede er frigjort for en tilstand av et komplekst salt, slik at det oppnås palladiummetall i samsvar med følgende redoks-reaksjon:
Som et resultat av dette forblir palladiummetall og små mengder av toverdig og firverdig tinnsalter på substratets overflate.
De reaksjonsmekanismer som er involvert i sensitivering-aktiveringsmetoden og katalysator-akseleratormetoden som de konvensjonelle katalyseringsmetodene for strømfri utfelning foregår altså som omtalt i det ovenstående. Det vil fremgå at mange reaksjoner er involvert inntil katalytiske kjerner av et metall slik som palladium utfelles. Katalysatormetallet går følgelig tapt litt etter litt i form av forskjellige reaksjons-mellomprodukter som dannes ved de respektive reaksjoner hver gang det foretas vasking av et substrat med vann og lignende for hver slik reaksjon. Den endelige resten av katalysatormetall blir sterkt påvirket av mange faktorer slik som konsentrasjonene, pH-verdiene og temperaturene til oppløsninger som benyttes i respektive trinn, ned-dykkingsperiodene for slike oppløsninger samt betingelsene for avfetting og oppruing av substratoverflaten. Når således det endelige opptaket av katalysatormetall blir util-strekkelig blir adhesjonen av den resulterende metallavsetningen til substratet alltid ufullkommen slik at det forårsakes feil ved utfelning.
De omtalte fenomenene skyldes ren "fysikalsk adsorbsjon" av katalyseringsreaksjon-mellomprodukter og metallkatalysator som er fanget i fordypninger og mikroporer i overflatedelen av substratet som er mikroskopisk oppruet ved kjemisk etsing.
Formålet med foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en helt ny fremgangsmåte som kan muliggjøre oppnåelse av en sterkere adsorbsjonsbinding av en katalysator til overflaten av et substrat for oppnåelse av en stor forbedring av adhesjonen av en metallavsetning, eller utfelning, på substratet ved anvendelse av hverken nevnte sensitivering-aktiveringsmetode eller katalysator-akseleratormetode.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det således tilveiebragt en fremgangsmåte for katalysering ved strømfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale, f.eks plast, glass etc, og denne fremgangsmåten er kjennetegnet ved dannelse av en beleggfilm innbefattende kitosan eller et kitosanderivat på nevnte overflate, og deretter behandling av beleggfilmen med en oppløsning av et salt av et katalysatormetall for å bevirke kjemisorbsjon derav på nevnte beleggfilm.
Fordelaktige og foretrukne trekk ved denne fremgangsmåten fremgår fra de medfølgende krav 2-4.
Ifølge denne fremgangsmåten muliggjør den sterke kjemisorbsjonen av katalysatormetallet på beleggfilmen, som omfatter kitosan eller kitosanderivatet, en lett utførelse av strømfri utfelning av metall på overflaten av det ikke-ledende materialet.
Kitosan (P-l,4-poly-D-glukosamin) som kan benyttes i foreliggende oppfinnelse oppnås ved deacetylering av kitin (P-l,4-poly-N-acetylglukosamin) som ekstraheres som en naturlig polymer fra skall og lignende fra krabber og lignende. Kitosan er en kationisk biopolymer som har aminogrupper, og er et nytt materiale som har nyttige egenskaper slik som fuktighetsretensjon, antifungusegenskaper og absorbsjonsevne for tunge metaller. Kitosan har en biologisk tilpasningsevne i likhet med kitin og anvendelse derav på det farmasøytiske og biokjemiske området slik som kunstig hud, blir derfor grundig studert. Man har kommet frem til foreliggende oppfinnelse ved å rette oppmerksomheten mot metallabsorbsjonsevnen til kitosan, spesielt en spesifikk absorbsjonsevne som kitosan har for edelmetaller slik som palladium, platina og rhodium. Foruten kitosan kan også kitosanderivater slik som karboksymetylkitosan og glykolkitosaner benyttes. Deacetyleirngsgraden for kitosan eller kitosanderivatet som skal benyttes i foreliggende oppfinnelse er helst minst 80 %, fortrinnsvis minst 90 %. Når det anvendes kitosan som har en deacetyleirngsgrad som er lavere enn 80 %, er det mulig at dets adsorbsjonsevne for et katalysatormetall slik som palladium, beleggfilmens hydrofilisitet, osv, blir uheldig påvirket.
Eksempler på det ikke-ledende materialet som skal benyttes som substrat i foreliggende oppfinnelse er plaster, kjeramiske materialer, papir, glass og fibre, som ikke kan utfelles direkte ved elektroutfelning.
Ved dannelse av en strømfri utfelning av metall på overflaten av det ikke-ledende materiale ifølge foreliggende oppfinnelse, blir det ikke-ledende materialets overflate belagt med en behandlingsvæske som inneholder i det minste kitosan eller kitosanderivatet (i det følgende for enkelthets skyld betegnet "kitosan") for dannelse av en hydrofil beleggfilm på det ikke-ledende materialets overflate før trinnene med katalysering og strømfri plettering. Kitosan som befinner seg i den således dannede hydrofile beleggfilmen vil på kjemisk måte adsorbere, oppfange og fiksere et katalysatormetall slik som palladium. Ved det strømfrie utfelningstrinnet kan det følgelig oppnås en slik tilstand at en tilstrekkelig mengde av en aktiv katalysator skapes på substratoverflaten på hvilken den strømfrie utfelning som har en god adhesjon til substratet kan dannes på ensartet og effektiv måte (fig 3).
Kitosankonsentrasjonen i behandlingsvæsken som inneholder kitosan er helst i området 0,01-1 %, fortrinnsvis i området 0,05-0,2 %. Når den senkes under 0,01 % vil konsentrasjonseffekten av kitosantilsetningen bli såpass nedsatt at det ikke oppnås en effektiv oppfanging av katalysatoren. På den annen side, når den overskrider 1 % vil effekten av kitosantilsetningen bli en metning slik at dette nedsetter behandlingsvæskens belegningseffekt.
I tillegg til kitosan kan den kitosanholdige behandlingsvæsken inneholde en fortynnet syre slik som eddiksyre, maursyre eller saltsyre. Den fortynnede syren kan benyttes for å oppløse kitosan i behandlingsvæsken. Konsentrasjonen av den fortynnede syren beregnes på basis av ekvivalens til de frie aminogruppene i den kitosanforbindelsen som skal benyttes. Videre kan behandlingsvæsken i enkelte tilfeller blandes med en harpik som gir en utmerket adhesjon til substratet, skjønt dette avhenger av substrattypen. En hvilken som helst harpiks kan anvendes forsåvidt som den gir god kompatibilitet eller blandbarhet med kitosan. Eksempler på harpiksen som kan tilsettes til behandlingsvæsken innbefatter vannoppløselige harpikser slik som polyvinylalkohol og hydroksyetyl-cellulose; vannoppløseliggjorte harpikser av en alkyd-, polyester-, akryl-, epoksyharpiks eller lignende harpiks; og emulsjoner av en vinylacetat-, akrylharpiks eller lignende harpiks. Kitosan i seg selv kan tverrbindes med polyetylenglykoldiglysidyleter eller lignende for å gjøre beleggfilmen så stabil at katalyseringsreaksjonen kan forsterkes. Videre kan i visse tilfeller en rekke forskjellige uorganiske pigmenter tilsettes til behandlingsvæsken for å oppnå en fastere adhesjon til den resulterende strømløse utfelningen. I dette tilfellet er spesielt overflaten av beleggfilmen som er dannet ved påføring av behandlingsvæsken mikroskopisk ujevn slik at det oppnås en forankringseffekt i løpet av den strømfrie utfelningsdannelsen for derved ytterligere å bidra til en forbedring i filmens adhesjon til den strømfrie utfelningen, og dermed representere et alternativ til det kjemiske etsetrinnet i de konvensjonelle prosessene. Nyttige eksempler på uorganiske pigmenter er alurniniumsilikat, titanoksyd og bariumsulfat. Mengden av uorganisk pigment kan være i området 10-80 %, fortrinnsvis 50-70 %, basert på faststoffinneholdet. Når mengden overskrider 85 % blir adhesjonen for det kitosanholdige behandlingsmaterialet til substratet i seg selv nedsatt. Nesten alt resterende materiale er vann og et organisk oppløsningsmiddel som metanol, etanol, isopropanol og/eller etylacetat. Et slikt oppløsningsmiddel er effektivt med henblikk på å forbedre forskjellige harpiksers kompatibilitet i tilfelle slike materialer tilsettes, idet de gir en viss erosjon av substratet og hurtig tørking av behandlingsvæsken etter påføring derav. I tillegg kan et hydrofilt overflateregulerende middel etter behov tilsettes til behandlingsvæsken for å gi beleggfilmen som er dannet av nevnte væske en passende grad av utjevning og hydrofilisitet. Eksempler på overflateregulerende midler er perfluoralkyletylenoksyder. Det overflateregulerende midlet kan tilsettes til en mengde i området 0,05-1 %, fortrinnsvis 0,1-0,5 %, basert på innholdet av fast kitosan.
Nevnte behandlingsvæske som inneholder kitosan kan påføres på substratoverflaten ved hjelp av en konvensjonell påføringsmetode slik som spraybelegging, valsebelegging, pensling, eller dyppbelegging for dannelse av en beleggfilm som kan tjene som en hydrofil bærer for fiksering av katalysatormetallet.
Etter dannelse av den katalysatormetallfikserende bærer på substratets overflate utføres trinnet med fiksering av katalysatormetallet gjennom katalyseringsreaksjonen fulgt av trinnet med strømfri utfelning. Det kan således på effektiv måte oppnås en strømfri utfelning som har en god adhesjon til substratet. Videre er det ifølge oppfinnelsen mulig bare å forbehandle en del av overflaten av det ikke-ledende materialet som substrat med den kitosanholdige behandlingsvæsken. I dette tilfellet blir katalysatoren selektivt dannet bare på den forbehandlede delen(e) av substratoverflaten og derved muliggjøres effektiv utførelse av partiell strømløs utfelning i det etterfølgende trinnet. Ifølge foreliggende oppfinnelse kan dessuten polyesterharpikser slik som polyetylentereftalat, konstruksjons-plaster, forskjellige legeringer, osv, som hittil har vært vanskelig å utfelle strørnfritt, utfelles strørnfritt på tilfredsstillende måte.
Videre, selv om den kitosanholdige behandlingsvæsken påføres direkte på overflaten av det ikke-ledende substratmaterialet i den foregående prosedyren, kan i visse tilfeller et underbelegg påføres på substratoverflaten før påføring derpå av behandlingsvæsken, idet et hvilket som helst underbelegg som har den beste adhesjonen til substratet kan benyttes uten å ta i betrakning dets kompatibilitet med kitosan som nevnt ovenfor, skjønt antall trinn forøkes. Eksempler på underbelegg innbefatter akryllakk, akrylbelegg, og uretan-behandlede akrylbelegg som har utmerket adhesjon til plaster slik som akrylharpikser, ABS, polystyren, polykarbonater, polypropylen og polyestere.
I katalyseringsreaksjonstrinnet blir substratet med beleggfilmen dannet som katalysatormetallfikserende bærer inneholdende kitosan på overflaten derav på enkel måte neddykket i en saltsyre-, salpetersyre- eller eddiksyre-surgjort oppløsning av hydroklorid, nitrat eller acetat av et edelmetall slik som Pd, Pt, Au eller Ag, eller lignende i en kort tidsperiode for fullstendig fiksering av katalysatorkjerner kun i løpet av et trinn hvilket er forskjellig fra de ovenfor omtalte konvensjonelle sensitivering-aktiverings- eller katalysator-akseleratormetodene. Det representative edelmetallsaltet er palladiumklorid som kan benyttes i form av en oppløsning (palladiumklorid: 0,2-1 g/l, saltsyre: 5 ml/l) slik som en aktiveringsoppløsning som benyttet i sensitivering-aktiveringsmetoden. Kjemisorbsjonen av palladium på den katalysatormetallfikserende bæreren inneholdende kitosan antas å skyldes koordineringsbindinger som illustrert på fig 4 [Baba et al; Bull. Chem. Soc. Jpn. 66, 2915 (1993)]. Kjemisorbsjonen kan hindre palladium i å falle av bæreren i det etterfølgende strømfrie utfelningstrinnet. Videre kan de frie aminogruppene i kitosan reageres med et aldehyd slik som formaldehyd, salisylaldehyd, glutaraldehyd, pyridin-2-aldehyd, tiofen-2-aldehyd eller 3-(metyltio)propionaldehyd for dannelse av en Schiff-base, som deretter kan reduseres med natriumbortetrahydrid eller lignende for dannelse av en katalysatormetallfikserende bærer på hvilken katalysatormetallet kan dannes på en mer selektiv og sterkere måte, skjønt det avhenger av typen av katalysatormetall (se fig 5).
Deretter blir substratet med nevnte katalysatormetallfikserende bærer inneholdende kitosan og med katalysatormetallet dannet derpå neddykket i et strørnfritt utfelningsbad av Cu, Ni, Co, Pd, Au eller en legering derav, hvoretter den strømfrie utfelningen som har en utmerket adhesjon til substratet kan oppnås kontinuerlig ved den reduserende virkning av de fikserte katalysatorkjernene som bare befinner seg på den eller de deler av substratoverflaten hvor den katalysatormetallfikserende bæreren forefinnes. Det ikke-ledende materialet kan således metalliseres i overensstemmelse med det ønskede formål.
Ifølge sensitivering-aktiveringsmetoden, katalysator-akseleratormetoden, osv som katalyseringsmetoder i de konvensjonelle strømfrie pletteringsprosessene, dannes det et katalysatormetall på overflaten av et substrat som er mikroskopisk oppruet ved kjemisk etsing gjennom en rekke reaksjonstrinn som bevirkes på overflaten av substratet og ved hjelp av fysikalsk adsorbsjon av reaksjonsproduktet på substratoverflaten, med det resultat at resten av katalysatormetallet er så ustabil at den i mange tilfeller forårsaker uheldige effekter slik som adhesjonsfeil under forløpet for utfelningsdannelsen. I motsetning til dette blir det ifølge foreliggende katalyseringsprosess påført en behandlingsvæske som inneholder kitosan i form av et belegg på overflaten av et substrat til dannelse av en slags katalysatormetallfikserende bærer på hvilken katalysatormetallet bæres på sterk måte ved kjemisorbsjon derav hvilket således muliggjør dannelse ved strømfri utfelning av en ensartet metallavsetning med god adhesjon. Videre bæres katalysatoren kun på den eller de forbehandlede delene av substratoverflaten hvorpå behandlingsvæsken er påført slik at den partielle strømfrie utfelningen kan oppnås. Videre kan kjemisk etsing unngås slik at antall trinn kan reduseres og slik at awanns-behandlingen kan forenkles, og dette bidrar sterkt til en forbedring hva angår miljø-problemer. Fig 1 er et flytskjema for en konvensjonell strømfri utfelningsprosess omfattende katalysering ifølge sensitivering-aktiveringsmetoden; Fig 2 er et flytskjema for en konvensjonell strørnfri utfelningsprosess som omfatter katalysering ifølge katalysator-akseleratormetoden; Fig 3 er et flytskjema for en strørnfri utfelningsprosess hvor katalysering utføres gjennom dannelsen av en katalysatormetallfikserende bærer inneholdende kitosan ifølge foreliggende oppfinnelse; Fig 4 er en illustrasjon som viser adsorbsjonsmekanismen for palladium ved innvirkning av kitosan; og Fig 5 er en illustrasjon som viser adsorbsjonsmekanismen for palladium ved innvirkning av et kitosanderivat.
Foretrukne utførelser
Eksempel 1
Kitosan (SK-10 fremstilt av San-Ei Chemical Industries, Ltd) ble oppløst i en 1 % oppløsning av eddiksyre for dannelse av en 1 vekt/vol % oppløsning av kitosan, som deretter ble fortynnet med metanol for oppnåelse av en forbehandlingsvæske inneholdende 0,5 % kitosan. Forbehandlingsvæsken ble påført på japansk papir (300 mm<2 >morbærtrepapir og produsert av Dai-Inshu Seishi Kyogyo Kumiai) ved anvendelse av en spray eller en pensel, og deretter tørkes under tvungen luftbevegelse ved 50°C i 1 time.
Det belagte papiret ble deretter neddykket i en oppløsning av palladiumklorid (PdCl2-2H2O: 0,3 g/l, saltsyre: 5 ml/l) i 30 minutter, deretter vasket med vann, og deretter underkastet strømfri kobberutfelning i et utfelningsbad med en sammensetning som vist i tabell 1.
pH 12,5, væsketemperatur: 60°C omrøring med luft.
Som et resultat kunne det oppnås en jevn kobberavsetning på hele overlfaten av det japanske papiret i tifelle for påføring av forbehandlingsoppløsningen på hele papiroverflaten, og bare på en del av overflaten av det japanske papiret i tilfelle for delvis påføring av forbehandlingsoppløsningen på papiroverflaten.
Eksempel 2
Kitosan (SK-100, Lot. 414-05; produsert av San-Ei Chemical Industries, Ltd) ble oppløst i en 1 % oppløsning av eddiksyre for dannelse av en 1 vekt/vol % oppløsning av kitosan som deretter ble blandet med 1 vol/vol % av en oppløsning av salicylaldehyd (produsert av Kishida Chemical Co., Ltd) fortynnet med en 10-gangers mengde av metanol for dannelse av en Schiff-base, og ytterligere fortynnet med metanol etter 1 time for å oppnå en behandlingsvæske inneholdende 0,5 % kitosan.
På den annen side ble et aluminiumoksyd-kjeramikksubstrat (99,9 %) utsatt to ganger for ultralydrensing med destillert vann i 5 minutter, videre utsatt for ultralydrensing med metanol, og deretter tørket for oppnåelse av et renset teststykke.
Teststykket ble neddykket i ovennevnte behandlingsvæske og deretter tørket ved 120°C i 30 minutter. Deretter ble teststykket neddykket i en 0,5 % oppløsning av dimetylaminoboran for å redusere Schiff-basen med denne, deretter neddykket i en oppløsning av palladiumklorid (PdCl2-2H20: 0,03 g/l, saltsyre: 5 ml/l) i 2 minutter, deretter vasket med vann, og tørket. Ved dette trinnet ble palladiumadsorbsjonen målt ifølge nedenstående prosedyre. 100 ml av en 1 % oppløsning av salpetersyre ble tilsatt til teststykket og oppvarmet for å oppløse palladium som derved ble fjernet fra teststykket. Oppløsningen ble ytterligere oppvarmet for å bevirke fordampning, deretter plassert i en 50 ml gradert målesylinder hvori destillert vann var anbragt opp til den merkede linjen på sylinderen. Den resulterende oppløsningen ble anbragt i et grafittpyrolyserør og forbrent ved en forbrenningstemperatur på 2600°C i 3 sekunder under anvendelse av en spektroskopisk atomabsorbsjonsanalysator (AA-670G, produsert av Shimadzu Seisakusho Ltd) og en grafittovnforstøver (Model GFA-4) for å måle absorbansen av palladium hvorfra palladiumadsorbsjonen ble beregnet. Som et resultat av dette ble det funnet at mengden av adsorbert palladium på katalysatormetallifkseringsbæreren inneholdende kitosan var 11,5 ug per teststykke i dette eksemplet.
Deretter ble et annet teststykke neddykket i behandlingsvæsken og deretter i opp-løsningen av dimetylaminoboran på samme måte som beskrevet ovenfor, videre neddykket i oppløsningen av palladiumklorid i 2 minutter, deretter vasket, og tørket og ble underkastet strømfri nikkelutfelningi et utfelningsbad med en sammensetning som vist i tabell 2 i 30 minutter for oppnåelse av en jevn nikkelutfelning.
Eksempel 3
Kitosan (SK-100, Lot. 802-05; produsert av San-Ei Chemical Industries, Ltd) ble oppløst i en 1 % oppløsning av eddiksyre for dannelse av en 1 vekt/vol % oppløsning av kitosan. På den annen side ble 20 deler titanoksyd og 80 deler aluminiumsilikat blandet med og dispergert i 100 deler av en akrylharpiks av epoksyherdetypen (produsert av Toray Industries, Inc) for oppnåelse av en oppløsning som deretter ble fortynnet med et blandet oppløsningsmiddel av metanol/isopropylalkohol/etylacetat/butylcellosolve (80:12:3:5) for dannelse av en 20 vekt/vol % oppløsning. Denne oppløsningen ble blandet med ovennevnte oppløsning av kitosan i et forhold av 10:1 for oppnåelse av en forbehandlingsvæske inneholdende kitosan som aktiv bestanddel.
Et prøvestykke av ABS-harpiks (50 mm x 150 mm x 2,0 mm-t) ble fremstilt som et substrat, tørket med et klede fuktet med isopropylalkohol for avfetting og rensing, og prøvestykket ble deretter spraybelagt med en oppløsning fremstilt ved tilsetning av 0,5 deler av et epoksyherdemiddel (DENACOL EX-850 fremstilt av Nagase Chemicals, Ltd) til 100 deler av ovennevnte forbehandlingsvæske og fortynning av den resulterende blanding med en 5-gangers mengde av et blandet oppløsningsmiddel av butylacetat/etylacetat/n-butanol/toluen/butylcellusolve (20:25:20:25:10) fulgt av tørking ved 60°C i 1 time.
Det belagte ABS-harpiksstykket ble neddykket i en oppløsning av palladiumklorid
(PdCl2*2H20: 0,25 g/l, saltsyre: 5 ml/l) i 3 minutter, deretter vasket med vann, så utfelt i et strørnfritt kobberutfelningsbad med en sammensetning som vist i tabell 1 i 30 minutter, og deretter videre plettert i et strørnfritt nikkelutfelningsbad med en sammensetning som
vist i tabell 3 i 5 minutter til oppnåelse av en jevn kobber/nikkel-utfelning med en tykkelse i området 1,5-2,0 nm.
Det ble fastslått at den således oppnådde kobber/nikkel-utfelningen hadde et godt ut-seende og en utmerket adhesjon i forskjellige egenskapstester som vist i tabell 4.
Når det gjelder adhesjonen ble et 10 mm x 10 mm areal av kobber/nikkel-utfelningen krysskåret i 100 små firkanter hver med en lengde på 1 mm og en bredde på 1 mm, og et cellofanklebebånd ble festet til det krysskårede arealet av utfelningen og deretter revet av for å bedømme adhesjonen basert på (antall gjenværende firkanter av utfelning/totalt antall firkanter).

Claims (4)

1. Fremgangsmåte for katalysering ved strømfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale, f. eks plast, glass, etc, karakterisert v e d dannelse av en beleggfilm innbefattende kitosan eller et kitosanderivat på nevnte overflate, og deretter behandling av beleggfilmen med en oppløsning av et salt av et katalysatormetall for å bevirke kjemisorbsjon derav på nevnte beleggfilm.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at nevnte beleggfilm som omfatter kitosan eller nevnte kitosanderivat ytterligere omfatter en harpiks.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 1 eller 2, karakterisert ved at beleggfilmen som omfatter kitosan eller nevnte kitosanderivat ytterligere omfatter et uorganisk pigment.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 1, 2 eller 3,karakterisert v e d at nevnte salt av katalysatormetallet er et salt av et edelmetall.
NO19950563A 1994-12-08 1995-02-15 Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale NO310627B1 (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33109794A JP3022226B2 (ja) 1994-12-08 1994-12-08 無電解めっき法における触媒化方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO950563D0 NO950563D0 (no) 1995-02-15
NO950563L NO950563L (no) 1996-06-10
NO310627B1 true NO310627B1 (no) 2001-07-30

Family

ID=18239827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO19950563A NO310627B1 (no) 1994-12-08 1995-02-15 Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale

Country Status (19)

Country Link
US (1) US5660883A (no)
JP (1) JP3022226B2 (no)
KR (1) KR960023235A (no)
CN (1) CN1124301A (no)
AU (1) AU699029B2 (no)
BE (1) BE1008679A3 (no)
CA (1) CA2142683C (no)
CH (1) CH689394A5 (no)
DE (1) DE19506551C2 (no)
DK (1) DK172134B1 (no)
FI (1) FI950446A (no)
FR (1) FR2727984B1 (no)
GB (1) GB9502096D0 (no)
IT (1) IT1281942B1 (no)
NL (1) NL9500293A (no)
NO (1) NO310627B1 (no)
RU (1) RU2126459C1 (no)
SE (1) SE514289C2 (no)
TW (1) TW254971B (no)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6046107A (en) * 1998-12-17 2000-04-04 Industrial Technology Research Institute Electroless copper employing hypophosphite as a reducing agent
US6703186B1 (en) 1999-08-11 2004-03-09 Mitsuboshi Belting Ltd. Method of forming a conductive pattern on a circuit board
JP2001236885A (ja) * 2000-02-22 2001-08-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法
JP4897165B2 (ja) * 2000-09-27 2012-03-14 名古屋メッキ工業株式会社 金属めっきされた有機高分子繊維の製造方法
JP2002348673A (ja) * 2001-05-24 2002-12-04 Learonal Japan Inc ホルムアルデヒドを使用しない無電解銅めっき方法および該方法に使用される無電解銅めっき液
US7223694B2 (en) * 2003-06-10 2007-05-29 Intel Corporation Method for improving selectivity of electroless metal deposition
US7049234B2 (en) * 2003-12-22 2006-05-23 Intel Corporation Multiple stage electroless deposition of a metal layer
JP2005243499A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Fujitsu Ltd フラットディスプレイパネルの電極形成方法
US7732330B2 (en) 2005-06-30 2010-06-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method using an ink-jet method of the same
CN101319315A (zh) * 2008-07-03 2008-12-10 东华大学 一种基于分子自组装技术的柔性基材化学镀前活化方法
WO2010120816A2 (en) * 2009-04-13 2010-10-21 Applied Materials, Inc. Metallized fibers for electrochemical energy storage
JP5663886B2 (ja) * 2010-02-08 2015-02-04 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
US20110303644A1 (en) * 2010-06-09 2011-12-15 Arlington Plating Company Methods for Plating Plastic Articles
ES2710856T3 (es) * 2010-09-13 2019-04-29 Chemetall Gmbh Procedimiento para recubrimiento de superficies y uso de los objetos recubiertos según este procedimiento
EP2695581B1 (en) 2012-08-07 2019-03-13 Critical Innovations, LLC Device for simultaneously documenting and treating tension pneumothorax and/or hemothorax
CN103114437B (zh) * 2013-02-01 2014-11-05 东华大学 一种纺织品表面无钯化学镀金属镍的方法
US10046147B2 (en) 2013-12-26 2018-08-14 Critical Innovations, LLC Percutaneous access pathway system and method
CN103805971B (zh) * 2014-03-11 2017-02-15 东华大学 一种镍盐活化化学镀铜纺织品的方法
CN104372313B (zh) * 2014-09-29 2018-07-13 安科智慧城市技术(中国)有限公司 一种薄膜太阳能电池背电极的制备方法及薄膜太阳能电池
DE102015201562A1 (de) * 2015-01-29 2016-08-04 Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf E.V. Verfahren zur Metallisierung von Kunststoffteilen sowie Lösung
CN105821396A (zh) * 2016-03-27 2016-08-03 华南理工大学 一种无钯化学镀铜的方法
US10814119B2 (en) 2017-09-22 2020-10-27 Critical Innovations, LLC Percutaneous access pathway system
CN110093596A (zh) * 2019-04-24 2019-08-06 南昌大学 一种自动脱落的超薄铜箔的制备方法
CN112063998B (zh) * 2020-08-28 2022-10-11 南昌大学 一种超薄铜/石墨烯复合箔的制备方法
CN112522687A (zh) * 2020-11-02 2021-03-19 深圳市先进连接科技有限公司 树脂表面改性溶液和化学镀银方法
CN112979344B (zh) * 2021-03-16 2022-04-08 河海大学 基于化学镀法在混凝土表面制备的抗菌保护层及制备方法
EP4321116A3 (en) 2022-08-11 2024-05-08 Critical Innovations, LLC Percutaneous access pathway system
CN116782516B (zh) * 2023-07-13 2024-01-23 南华大学 一种基于均相离子型催化油墨制备铜印刷电路的普适工艺

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6036668A (ja) * 1983-08-08 1985-02-25 Hitachi Chem Co Ltd 無電解銅めつき用触媒
US4670306A (en) * 1983-09-15 1987-06-02 Seleco, Inc. Method for treatment of surfaces for electroless plating
US4663240A (en) * 1984-11-06 1987-05-05 Enthone, Incorporated RFI shielded plastic articles and process for making same
US5338822A (en) * 1992-10-02 1994-08-16 Cargill, Incorporated Melt-stable lactide polymer composition and process for manufacture thereof
US5336415A (en) * 1993-02-10 1994-08-09 Vanson L.P. Removing polyvalent metals from aqueous waste streams with chitosan and halogenating agents
DE69423257T2 (de) * 1993-05-28 2000-07-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Denitrierungssystem

Also Published As

Publication number Publication date
FI950446A (fi) 1996-06-09
AU1358195A (en) 1996-06-13
GB9502096D0 (en) 1995-03-22
DK17895A (da) 1996-06-09
KR960023235A (ko) 1996-07-18
NO950563L (no) 1996-06-10
SE9500571D0 (sv) 1995-02-16
NL9500293A (nl) 1996-07-01
AU699029B2 (en) 1998-11-19
DK172134B1 (da) 1997-11-24
DE19506551C2 (de) 2001-05-31
RU95101851A (ru) 1996-11-20
FI950446A0 (fi) 1995-02-01
FR2727984A1 (fr) 1996-06-14
SE514289C2 (sv) 2001-02-05
CN1124301A (zh) 1996-06-12
BE1008679A3 (fr) 1996-07-02
JPH08158057A (ja) 1996-06-18
CA2142683A1 (en) 1996-06-09
DE19506551A1 (de) 1996-06-13
FR2727984B1 (fr) 1997-12-12
CH689394A5 (fr) 1999-03-31
NO950563D0 (no) 1995-02-15
JP3022226B2 (ja) 2000-03-15
ITRM950110A0 (it) 1995-02-23
IT1281942B1 (it) 1998-03-03
ITRM950110A1 (it) 1996-08-23
RU2126459C1 (ru) 1999-02-20
US5660883A (en) 1997-08-26
SE9500571L (sv) 1996-06-09
CA2142683C (en) 2000-07-18
TW254971B (en) 1995-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO310627B1 (no) Fremgangsmåte for katalysering ved strömfri utfelning av metaller på overflaten av et ikke-ledende materiale
SE514289C3 (sv) Förfarande för katalytisk förbehandling av ett underlag vid strömfri plätering
BE1008678A3 (fr) Formation d&#39;une couche d&#39;argent sur un substrat vitreux.
EP0913502B1 (en) Method of electroplating nonconductive plastic molded product
US4097286A (en) Method of depositing a metal on a surface
JP3417947B2 (ja) 支持体上に触媒パラジウムを沈着するための高分子樹脂
JPH0776436B2 (ja) 導電性表面のメッキ方法
US4042730A (en) Process for electroless plating using separate sensitization and activation steps
JP2001206735A (ja) めっき方法
JPS585984B2 (ja) 無電気めっきの前処理方法
JP2001177292A (ja) 透視性電磁波シールド材及びその製造方法
JP2943364B2 (ja) アルミニウム又はアルミニウム合金の無電解着色法
JP2003277941A (ja) 無電解めっき方法、および前処理剤
ZA200309379B (en) Patterning method.
JPH03271375A (ja) 無電解めっき方法及び無電解めっき用前処理剤
JP2003155574A (ja) めっき製品及びその製造方法
KR20050078380A (ko) 석재의 무전해도금방법
JPH05339517A (ja) 顔料の製造方法
JPH06212440A (ja) 非導電性素地上への無電解めっき方法
CN112225464A (zh) 高荧光增强效果的金银合金纳米岛状薄膜及其制备方法
JP2001271172A (ja) めっき前処理剤およびめっき方法
JP2004315895A (ja) 無電解めっき用前処理液及びこれを用いた無電解めっき方法
CN113862995A (zh) 一种碳纤维表面金属化的前处理方法和镀膜方法
TH19391A (th) &#34;ขบวนการสำหรับการแคทไลซ์เซชั่นในการชุบแบบไม่ใช้ไฟฟ้า&#34;
JPH0220709B2 (no)

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Lapsed by not paying the annual fees

Free format text: LAPSED IN AUGUST 2002