JPS6036668A - 無電解銅めつき用触媒 - Google Patents
無電解銅めつき用触媒Info
- Publication number
- JPS6036668A JPS6036668A JP14463383A JP14463383A JPS6036668A JP S6036668 A JPS6036668 A JP S6036668A JP 14463383 A JP14463383 A JP 14463383A JP 14463383 A JP14463383 A JP 14463383A JP S6036668 A JPS6036668 A JP S6036668A
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- Japan
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- palladium
- compound
- copper
- catalyst
- bivalent
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
- C23C18/40—Coating with copper using reducing agents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発帽ハ無邂解銅めっき用触媒に閃する〇無電解銅めつ
きは、印刷配線板の分封で、積層板等の絶縁端板ｖｃｍ
路盆形成丁ゐために広く用いらｒしている。
きは、印刷配線板の分封で、積層板等の絶縁端板ｖｃｍ
路盆形成丁ゐために広く用いらｒしている。
この場合、絶縁か板の無電解鋼めっきか施されゐ囲は活
性化２丁なわち無電解銅めっきのための触媒核か形成さ
ｎ心。この触媒核ｒ中心Ｖ（して、無イし駒組めつ＠酒
中の餉イオンか析出し。
性化２丁なわち無電解銅めっきのための触媒核か形成さ
ｎ心。この触媒核ｒ中心Ｖ（して、無イし駒組めつ＠酒
中の餉イオンか析出し。
成長して銅膜となり、回路とな◇０
杷ｋｔ１５板？活性化丁ゐために、無電解銅めっきのた
めの触媒となめ金掬バンジ９ムｒ絶縁基板表聞に７し成
させてい心。
めの触媒となめ金掬バンジ９ムｒ絶縁基板表聞に７し成
させてい心。
従来、この金栖パラジウムは
ＰｄＣ１ｔ ＋５ｎＣ１ｔ−”’ｉＰｄ ＋５ｎＣ４の
反応で・１４すらｎており、硅礫土などの担体Ｖ’ｔｌ
担持さｎ、触媒作用τ未了ように工夫ちｎでいる。
反応で・１４すらｎており、硅礫土などの担体Ｖ’ｔｌ
担持さｎ、触媒作用τ未了ように工夫ちｎでいる。
そのため＊ Ｓｎ、Ｃ４なとの不純物ｒ多（甘むうぇＫ
ｓ指担体使用丁ゐため、接盾剤混入し、アディティブ印
刷配線板用の接漕沖」（触媒式＃））付槓ＷＭ仮ン製造
丁Φ場合、そ凱ねしｉｔが発生し、絶縁性に難点ρ・あ
り、又、絶縁電線の絶縁層中に混入丁ゐことは国難であ
った。
ｓ指担体使用丁ゐため、接盾剤混入し、アディティブ印
刷配線板用の接漕沖」（触媒式＃））付槓ＷＭ仮ン製造
丁Φ場合、そ凱ねしｉｔが発生し、絶縁性に難点ρ・あ
り、又、絶縁電線の絶縁層中に混入丁ゐことは国難であ
った。
と反応させて侍らｆＬ、加熱にニジ金屑パラジウム’ａ
ｌＥ成丁ゐ鰭化合物ｒ宮む無電解銅めっさ用触媒であゐ
。
ｌＥ成丁ゐ鰭化合物ｒ宮む無電解銅めっさ用触媒であゐ
。
２１曲のパラジウム化合物としては％塩化バクジウム（
ｎＬ フッ化パラジウム（川、臭化パラジウム（川、ヨ
ウ化バラジクム（川、銅酸バラジヮム（旬。
ｎＬ フッ化パラジウム（川、臭化パラジウム（川、ヨ
ウ化バラジクム（川、銅酸バラジヮム（旬。
硫酸パラジウム（賠酸化パラジウム（ＪＩ几統１ヒバラ
ジウム＜１１）及びこｎ、らの混合物が使用さｊ７ゐ０
ハロゲン化’ＬＬ時に塩化パラジウム（ＩＩ）が好まし
い。１１曲、２１曲の４Ａ句１土合物Ｊとして汀、塩化
銅（１）、塩化銅（■）、儲酸銅（ＩＩ）及びこｔｌ−
らの７１も合物が使用きｊ・ゐＯ アミノ糖に、楯のアミノ赫得体であり、ガラクトザばン
、グルコサミン（塩酸）等が使用さｆｌ、／ｂ。
ジウム＜１１）及びこｎ、らの混合物が使用さｊ７ゐ０
ハロゲン化’ＬＬ時に塩化パラジウム（ＩＩ）が好まし
い。１１曲、２１曲の４Ａ句１土合物Ｊとして汀、塩化
銅（１）、塩化銅（■）、儲酸銅（ＩＩ）及びこｔｌ−
らの７１も合物が使用きｊ・ゐＯ アミノ糖に、楯のアミノ赫得体であり、ガラクトザばン
、グルコサミン（塩酸）等が使用さｆｌ、／ｂ。
２１曲のパラジウム化会物ｔアミノ循と反応させて錯化
什物ｒ得るには、例えば、メタノール０．２ｇ中に、Ｄ
−ゲルコサばン・ｍ酸０．２４ｇケ力ロえ振とうし、ア
ミノフ′チルに０．Ｉｇ刀口え。
什物ｒ得るには、例えば、メタノール０．２ｇ中に、Ｄ
−ゲルコサばン・ｍ酸０．２４ｇケ力ロえ振とうし、ア
ミノフ′チルに０．Ｉｇ刀口え。
＃ｉ歌？除云した伏、塩化パラジウム（旬２ｏ ｉ ｇ
加λ伽とり丁ゐことにより倚らｎ々０この錯体１Ｊ４０
“′Ｃ以上の加熱で金属パラジウムが析出す／）０ 傅らｎ、 ７を錯化合物でに、塩化パラジウム（ＩＩ）
はアミノ糖に當ま１１．Φアミノ基に配位し、−１−分
子（ハ）に宮よ几ゐ゛アルデヒド基で加熱により缶部パ
ラジウム？生成する〇 ）ＪＤ熱は５０−２ ｏ ｎ ”ｃが々ヂましく、アミ
ノ１后の独力（Ｉｇ、Ｌり調部か決めらｎ、々０（１）
卸化付物忙汀む水浴欣甲に破めっき物２撹偵（、引さ土
け、力ｎ＃！％丁４）ことにＬ９扱めっき′＠衆而面（
金属パラジウム忙生成さぜ心○（２ン 錯什、＠９勿ｔ
１コ゛ムーフェノール系寺の按甜剤中Ｖζ分散し、この
」夛應剤オカラス布にユボキシｒ＠反Ｌ−７を績層似表
面に塗布し、力ｎ熱乾燥丁＾段階で釜ねパラジワム會生
カ又さぜゐ。
加λ伽とり丁ゐことにより倚らｎ々０この錯体１Ｊ４０
“′Ｃ以上の加熱で金属パラジウムが析出す／）０ 傅らｎ、 ７を錯化合物でに、塩化パラジウム（ＩＩ）
はアミノ糖に當ま１１．Φアミノ基に配位し、−１−分
子（ハ）に宮よ几ゐ゛アルデヒド基で加熱により缶部パ
ラジウム？生成する〇 ）ＪＤ熱は５０−２ ｏ ｎ ”ｃが々ヂましく、アミ
ノ１后の独力（Ｉｇ、Ｌり調部か決めらｎ、々０（１）
卸化付物忙汀む水浴欣甲に破めっき物２撹偵（、引さ土
け、力ｎ＃！％丁４）ことにＬ９扱めっき′＠衆而面（
金属パラジウム忙生成さぜ心○（２ン 錯什、＠９勿ｔ
１コ゛ムーフェノール系寺の按甜剤中Ｖζ分散し、この
」夛應剤オカラス布にユボキシｒ＠反Ｌ−７を績層似表
面に塗布し、力ｎ熱乾燥丁＾段階で釜ねパラジワム會生
カ又さぜゐ。
（６）８化付物ケ、エボキシイ用脂のアセトン浴液中に
方散さ−ぜにワニス紮カラス布等の丞相に西醍ざゼ、＃
宮の方法によ！：）槓層恨葡製造する。フ゛リフレクの
乾煉喘、槓Ｊ曽似の刀ＩＪ熱カロ庄時の熱Ｖ（より公用
パラジウムが生成丁ゐ〇（４）飴化合物忙、ポリエステ
ル佃８盲のＭ悄浴斉り俗蔽中に分散ざ−に、νｊぽ五で
フィルムｔつ（ゐ。有情ｍ剤の加熱藷去中の加熱にエリ
金稙バシジウムが生Ｘ丁ゐ。
方散さ−ぜにワニス紮カラス布等の丞相に西醍ざゼ、＃
宮の方法によ！：）槓層恨葡製造する。フ゛リフレクの
乾煉喘、槓Ｊ曽似の刀ＩＪ熱カロ庄時の熱Ｖ（より公用
パラジウムが生成丁ゐ〇（４）飴化合物忙、ポリエステ
ル佃８盲のＭ悄浴斉り俗蔽中に分散ざ−に、νｊぽ五で
フィルムｔつ（ゐ。有情ｍ剤の加熱藷去中の加熱にエリ
金稙バシジウムが生Ｘ丁ゐ。
（り） ｉ沿化合＋）Ｊ ｋ ｓポリイミドのテトラビ
トロフラン浴液中に分散きぜ、銅勝ＶＣ被柑丁め０焼き
付は時の熱により金お４パラジウムが生成し触媒件７Ｍ
″ｆ″絶縁電縁が狗らｎ、々０以上睨明したように、不
発明の無電解銅めっき用触腺は、次の）０点が達ゼら１
．る０（１）生成丁々金檎パラジウムの粒子が細〃・い
ため、１４１らｎた無電解めつさの軸性が潰ノＬゐ０（
２）硅繰土寺の担体を使用しないで丁むので、浴液中で
の使用が可能でめり、均−重付が容易０ （５） Ｓｎ、ＣＩ等の不純物を宮萱ないたり、侍ら力
、た無電解めっきの物性が艮い０ ５− 丁”−糸ノδ ・ン市 韮［二 −１１：１．５１汁［
０）表示 昭Ｆｌ１５１１年特ｉｌｌ願第１４４６３３ ’；２、
発明の名称 無電ｊ４１゛銅め−２き用触媒 ３、補正をする者 ３Ｊ■件との関１系 特許出願人 山すｉ 東京都新宿区西新宿二二丁目１番１り名称（４
４５）日立り戊工業株式会社 代表者横山亮次 、４． ｆｌ、Ｊ！４！人 ■１６０ 居所 東京占噺宿区西新宿二丁目１番１り口立１圀Ｊ業
株式会社内 （電話 東京 ３４６−３１１１ （大代表）６、補正
の内容 別紙の通り。
トロフラン浴液中に分散きぜ、銅勝ＶＣ被柑丁め０焼き
付は時の熱により金お４パラジウムが生成し触媒件７Ｍ
″ｆ″絶縁電縁が狗らｎ、々０以上睨明したように、不
発明の無電解銅めっき用触腺は、次の）０点が達ゼら１
．る０（１）生成丁々金檎パラジウムの粒子が細〃・い
ため、１４１らｎた無電解めつさの軸性が潰ノＬゐ０（
２）硅繰土寺の担体を使用しないで丁むので、浴液中で
の使用が可能でめり、均−重付が容易０ （５） Ｓｎ、ＣＩ等の不純物を宮萱ないたり、侍ら力
、た無電解めっきの物性が艮い０ ５− 丁”−糸ノδ ・ン市 韮［二 −１１：１．５１汁［
０）表示 昭Ｆｌ１５１１年特ｉｌｌ願第１４４６３３ ’；２、
発明の名称 無電ｊ４１゛銅め−２き用触媒 ３、補正をする者 ３Ｊ■件との関１系 特許出願人 山すｉ 東京都新宿区西新宿二二丁目１番１り名称（４
４５）日立り戊工業株式会社 代表者横山亮次 、４． ｆｌ、Ｊ！４！人 ■１６０ 居所 東京占噺宿区西新宿二丁目１番１り口立１圀Ｊ業
株式会社内 （電話 東京 ３４６−３１１１ （大代表）６、補正
の内容 別紙の通り。
明 Ｉ和 ★
１、発明の３倒＼
焦４Ｌ所鋼めっき用触蝋
２、待ｉｔｌ’ｉｆＡ求（１）皐１ユ囲１．２１曲りパ
ラジウム化合物又は、１１１ｉ１１％ ２１１１１１■
粛Ｉ！ｌ化合物４アミノ槍と反羞乙＼ざゼて侍らノＬ１
加勲ＶＣまり金榴パラジウム又は金編廟ケ生戟する緒什
付９勿γに−ｆｒ無岨牌鋒りめっさ月ｉ鳴。
ラジウム化合物又は、１１１ｉ１１％ ２１１１１１■
粛Ｉ！ｌ化合物４アミノ槍と反羞乙＼ざゼて侍らノＬ１
加勲ＶＣまり金榴パラジウム又は金編廟ケ生戟する緒什
付９勿γに−ｆｒ無岨牌鋒りめっさ月ｉ鳴。
６、発明の＋１−１−昶１な睨明
Ａ弁明は、然直解朔めっさ用触媒に関丁ゐ。
無屯屑給めっさｒＪ１印刷配誇板の分野で、績層板寺の
徒・５緘第恨ｉ／（回路を形成丁ゐだＩｌｌ’）Ｋ広（
用いら７じ（いる。
徒・５緘第恨ｉ／（回路を形成丁ゐだＩｌｌ’）Ｋ広（
用いら７じ（いる。
この場名・、絶線基板の無ｒＫ所銅めっきが施婆れ４）
１川は菖註化、丁ｆｉりち焦亀購胎めっさのための１龍
媒俵〃コ形成さγＬる０この触媒核τ甲七にして、焦−
屑′＠ｌ〕つき准申り廟イオンか析出し、ｈ５１艮して
７１ＩＩｌ俟となり、回路となる。
１川は菖註化、丁ｆｉりち焦亀購胎めっさのための１龍
媒俵〃コ形成さγＬる０この触媒核τ甲七にして、焦−
屑′＠ｌ〕つき准申り廟イオンか析出し、ｈ５１艮して
７１ＩＩｌ俟となり、回路となる。
帖線泰叡ｔγ凸・陛化丁４ンためｉ５無屯屑組めつさく
ｔ）ｋめの融媒となる普撫パラジウム又に笠糊舅・シ
自：水１縁ノ八板３豪１川 Ｖ（ル填、δ ぜ−こ い
４）。
ｔ）ｋめの融媒となる普撫パラジウム又に笠糊舅・シ
自：水１縁ノ八板３豪１川 Ｖ（ル填、δ ぜ−こ い
４）。
９［米、輿λＶ；１（−〇伶を町パラジウムクＪ１０ｇ
１’ｄ（、、’ｊＬ ＋ＳｎＣ／Ｌ−→Ｐｄ ＋５ｎ（
Ｊ４（１）戊比−Ｔ″１仔らｊｌており、（１ト礫土な
との相体Ｖ（相持さｔ［、触媒四相ケ米−ｆ−よりに工
大３扛てぃな。
Ｊ４（１）戊比−Ｔ″１仔らｊｌており、（１ト礫土な
との相体Ｖ（相持さｔ［、触媒四相ケ米−ｆ−よりに工
大３扛てぃな。
そのだめ、Ｓｎ、Ｌｌ ｌ（（’ （／、Ｊ不１１！物
’ｅ多（故むうえＫ ＋ −ｆｔＪ １＋ ’ｅ ’ｎ
：用丁、６７ｔめ、ｋｋｊ ｓｌ ＊りに混入し、アデ
ィティブ印刷〜；―促７Ｈすｉ、’ｉ石剤（触媒入り）
↑・ｊ４讐−４ルｒ ＩＪ ｉｌ、＋−Ｊ−Φ場りへ
てり、ねじ扛力Ｓ弁午し、＆’、に、１”＋ Ｋ ｋ
、Ｉｔ！ａ ７ノ島ｔｈ Ｃノ 、又、納ｋ ’ｆ↓ｉ
： ２４ ’ｔ）ｋ ｍＩＩＦｌ甲Ｖｃ混入することＣ
」国都、であっに０本ｙ各＋セ」（１丁このようｌｆ点
Ｖ（湛みて々さ扛πもりで、２１曲りバラシワム化什午
勿又Ｌ１１１曲、２１曲の銅化付物ｒ１アミノ糖と反応
させて得られ、加熱Ｋ 、１：り金屓パラジウム又げ金
桓銅を生成する錯化合物ｒ會む無電解銅めっき用触媒で
ある。
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、Ｉｔ！ａ ７ノ島ｔｈ Ｃノ 、又、納ｋ ’ｆ↓ｉ
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」国都、であっに０本ｙ各＋セ」（１丁このようｌｆ点
Ｖ（湛みて々さ扛πもりで、２１曲りバラシワム化什午
勿又Ｌ１１１曲、２１曲の銅化付物ｒ１アミノ糖と反応
させて得られ、加熱Ｋ 、１：り金屓パラジウム又げ金
桓銅を生成する錯化合物ｒ會む無電解銅めっき用触媒で
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２１＋Ｉｕ Ｑ）パラジウム化合物としては、塩化パラ
ジウム（ｓｉ）＋ フッ化パラジウム（Ｌｌ、１．臭化
パラジウム（ｊす、ヨウ化パラジウム（”）ｓ 硝酸パ
ラジウム（ｕ）、饋【狭パラジウム（１１、飲什パラジ
ウム（１１ハ傭化パラジウム（Ｉｌｌ及びこれらの混合
物か使用憾れる０ハロゲン化物、 ’ＳＦＫ塩化パラジ
ウム（［１が好ましい。１曲％ ２１１１１３の銅化合
物としては、穆化蛸（Ｉ）。
ジウム（ｓｉ）＋ フッ化パラジウム（Ｌｌ、１．臭化
パラジウム（ｊす、ヨウ化パラジウム（”）ｓ 硝酸パ
ラジウム（ｕ）、饋【狭パラジウム（１１、飲什パラジ
ウム（１１ハ傭化パラジウム（Ｉｌｌ及びこれらの混合
物か使用憾れる０ハロゲン化物、 ’ＳＦＫ塩化パラジ
ウム（［１が好ましい。１曲％ ２１１１１３の銅化合
物としては、穆化蛸（Ｉ）。
堪化組（■）、硫ば銅（川及びこｎらの混合物が１四相
式ｔ１．／）。
式ｔ１．／）。
れ／）０
２価のパラジウム化合物ｒアミノ糖と反応させて鮒化酋
吻を得るには、例えは、メタノール０．２ｇ甲に、Ｄ−
グルコサミン・増哨０．２４ｇｔ〃口え振とつし、アミ
ノフ′チル７０．１ ｇｌＪｎえ。
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グルコサミン・増哨０．２４ｇｔ〃口え振とつし、アミ
ノフ′チル７０．１ ｇｌＪｎえ。
聰ばｔ除去した恢、塩化ノくラジウム（ＩＩ）τ０．１
ｇ刀］ｌえ振とうすることにエリ得られる。この＠捧は
４０℃以上の加熱で金＾パラジウムか析出する０ 狗らｆ″した錯化−８−物でｅゴ、塩化パラジウム（川
はアミノ糖Ｆ（宮１ｎるアミン基に配位し、同一分子内
に汀１′ｎるアルデヒド基で加熱にまり並楠バラジウＡ
２生成する。
ｇ刀］ｌえ振とうすることにエリ得られる。この＠捧は
４０℃以上の加熱で金＾パラジウムか析出する０ 狗らｆ″した錯化−８−物でｅゴ、塩化パラジウム（川
はアミノ糖Ｆ（宮１ｎるアミン基に配位し、同一分子内
に汀１′ｎるアルデヒド基で加熱にまり並楠バラジウＡ
２生成する。
５−
刀１］熱は５０〜２０ ｉＪ ’Ｃ塵好１しく１アミノ
（Ｊ占の槓知ｉＣより通幅が決められる。
（Ｊ占の槓知ｉＣより通幅が決められる。
木兄ｊｉｌｊＶ）錯化合物の１ψ用シＩＪｋルｌ明する
。使用ｍ仁Ｅ Ｐｄ、Ｃｏり用でｒ、Ｊｌ、；扛輩％以
下が好なしい。
。使用ｍ仁Ｅ Ｐｄ、Ｃｏり用でｒ、Ｊｌ、；扛輩％以
下が好なしい。
（１）錯化合物１１ｒ７に的欣甲に・故のっき９レノ忙
反泊し引さ−１１Ｆ、加熱丁く〕ことＶＣより伝めっさ
′＋９／Ｊ表間Ｖ（す相パラジウム又θ蜜ｒ１地τ生ｊ
）’１．δぜゐＱ （２）鉛化合ｍγ、コムーフェノール系寺の接冶ハリ中
ＶＣ分散し、こＶＪ接７ｆＭ卸」τカラスイｌｊにエホ
キシγ色−反した槓鳩板表旧ｙｃ塗布し、刀１熱乾祿丁
心埃南でくｃす４ ハラシワム又６菫橘網τ住ｊ仄妊ぜ
ゐ。
反泊し引さ−１１Ｆ、加熱丁く〕ことＶＣより伝めっさ
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キシγ色−反した槓鳩板表旧ｙｃ塗布し、刀１熱乾祿丁
心埃南でくｃす４ ハラシワム又６菫橘網τ住ｊ仄妊ぜ
ゐ。
（６）剖ｉ化付＠、１−ｔ エホキシｉｑｌ Ｉｌ’ｉ
ｓのアセトン浴竹中姓分敢さゼーたワニスτカラス布寺
の基材に宮反迫ゼ、荊′吊り方法により４貞層似忙装造
Ｔ心。ノリプレクの乾燥時、積層板の加熱力０圧ＩＩ在
（１）熱ＶＣＪ二、！７弐タ象謁パラジウム又は勺２踊
鋼が住１戊丁ゐ０ ＜４） 卸化村’ｔグツτ１ポリエステル倒！ｊｉｆり
自伽ω細４− 俗欣中Ｖ（、＞、）畝ちぜ、匪延法でノイルムとつぐｆ
′）ｏ 李Ｊ１毀陥創■／Ｊｌ’ｌ熱勿ミ云申り力１卸
６に」、り金総バラジ９ム父に↓蒼槁鉋ｊ７５１生ノ戎
丁ゐ。
ｓのアセトン浴竹中姓分敢さゼーたワニスτカラス布寺
の基材に宮反迫ゼ、荊′吊り方法により４貞層似忙装造
Ｔ心。ノリプレクの乾燥時、積層板の加熱力０圧ＩＩ在
（１）熱ＶＣＪ二、！７弐タ象謁パラジウム又は勺２踊
鋼が住１戊丁ゐ０ ＜４） 卸化村’ｔグツτ１ポリエステル倒！ｊｉｆり
自伽ω細４− 俗欣中Ｖ（、＞、）畝ちぜ、匪延法でノイルムとつぐｆ
′）ｏ 李Ｊ１毀陥創■／Ｊｌ’ｌ熱勿ミ云申り力１卸
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丁ゐ。
（５）鰯化’ｉｔ Ｍｌγ、ポリイミドのテトラビトロ
フラン的准甲Ｃ（分触芒ゼ、誓河紛に扱彷丁心０基ｔさ
づ・１けｌＩ；３−の熱により釜梢パラジウム又は苔−
困がコニｌ戊 しＰＩ玉にに１゛土τ・１丁杷本吠畦丞
−が１灯 しンｔしゐ０以上欣明したよ′）に１本軸＋
３１１の黒山、ｈ″ＬＬ井１さ用／！Ｔ！妊ａ、び、の
５１（１点か通−Ｊらγしゐ。
フラン的准甲Ｃ（分触芒ゼ、誓河紛に扱彷丁心０基ｔさ
づ・１けｌＩ；３−の熱により釜梢パラジウム又は苔−
困がコニｌ戊 しＰＩ玉にに１゛土τ・１丁杷本吠畦丞
−が１灯 しンｔしゐ０以上欣明したよ′）に１本軸＋
３１１の黒山、ｈ″ＬＬ井１さ用／！Ｔ！妊ａ、び、の
５１（１点か通−Ｊらγしゐ。
（１）生成了◇番病パラジウム又は賊縞納の粒子プノコ
外用力・いたんテ）、爵らｔ−Ｌ ７こ無用りも制用の
っさの封ｒトカ）ｖ！ノＩ る。
外用力・いたんテ）、爵らｔ−Ｌ ７こ無用りも制用の
っさの封ｒトカ）ｖ！ノＩ る。
（２）什士麻」−嚢の１且俸τ１史用しないで丁むので
。
。
酌欣甲−〇の１ｖｉ用かり１Ｌであり、均−混打が谷易
く） （３１Ｓｎ、Ｃ＃轡の不純９りＪ〒詮ばないため、狗ら
ｎた無ｒ４．１）ツｔめっきの般社が良い。
く） （３１Ｓｎ、Ｃ＃轡の不純９りＪ〒詮ばないため、狗ら
ｎた無ｒ４．１）ツｔめっきの般社が良い。
６青＼
″ ＼
５−
Ａす０
Claims (1)
- １．２１１１ＩＩのパラジウム化合物又は、ｉ１ｉ＋ｕ
、２価の銅化合物ｔアミン抛と反応させて得らｎ１加熱
により金楓パラジウムを生成丁／）妬化付物葡含む無電
解銅めっき用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14463383A JPS6036668A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 無電解銅めつき用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14463383A JPS6036668A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 無電解銅めつき用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6036668A true JPS6036668A (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=15366585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14463383A Pending JPS6036668A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 無電解銅めつき用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036668A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62250180A (ja) * | 1986-04-22 | 1987-10-31 | Nissan Chem Ind Ltd | 無電解メツキ法 |
| JPH02101836A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Kokusai Electric Co Ltd | 高速同期回路 |
| FR2727984A1 (fr) * | 1994-12-08 | 1996-06-14 | Daishin Kagaku Kk | Procede pour la catalyse dans le depot chimique |
| KR20190142003A (ko) | 2018-06-15 | 2019-12-26 | 지엠 글로벌 테크놀러지 오퍼레이션스 엘엘씨 | 디플렉터를 구비한 워터자켓 |
-
1983
- 1983-08-08 JP JP14463383A patent/JPS6036668A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62250180A (ja) * | 1986-04-22 | 1987-10-31 | Nissan Chem Ind Ltd | 無電解メツキ法 |
| JPH02101836A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Kokusai Electric Co Ltd | 高速同期回路 |
| FR2727984A1 (fr) * | 1994-12-08 | 1996-06-14 | Daishin Kagaku Kk | Procede pour la catalyse dans le depot chimique |
| NL9500293A (nl) * | 1994-12-08 | 1996-07-01 | Daishin Kagaku Kk | Werkwijze voor de katalysering van stroomloos bekleden. |
| BE1008679A3 (fr) * | 1994-12-08 | 1996-07-02 | Daishin Kagaku Kk | Procede de catalysation dans un revetement autocatalytique. |
| KR20190142003A (ko) | 2018-06-15 | 2019-12-26 | 지엠 글로벌 테크놀러지 오퍼레이션스 엘엘씨 | 디플렉터를 구비한 워터자켓 |
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