MXPA04007334A

MXPA04007334A - Proceso para la produccion de recubrimientos fuertemente adherentes.

Info

Publication number: MXPA04007334A
Application number: MXPA04007334A
Authority: MX
Inventors: Macor Giorgio
Original assignee: Ciba Sc Holding Ag
Priority date: 2002-01-29
Filing date: 2003-01-27
Publication date: 2004-11-26
Also published as: DK1472009T3; ES2254942T3; CN1622862A; US20050147919A1; CA2472063A1; AU2003239287B2; ATE314156T1; JP2005515889A; BR0307285A; RU2301117C2; RU2004126445A; NZ534617A; EP1472009B1; WO2003064061A1; KR20040083489A; CA2472063C; EP1472009A1; US7455891B2; CN1310707C; DE60303011D1

Abstract

La invencion se relaciona con un proceso y con el aparato correspondiente para la produccion de recubrimientos fuertemente adherentes sobre un sustrato inorganico u organico, donde el primer pasoa) se hace que actue un plasma a baja temperatura, descarga de corona o llama actue sobre el sustrato inorganico u organico, en un segundo pasob) se aplican uno o mas fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monomeros, que contienen al menos un grupo etilenicamente insaturado, o soluciones, suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, a presion normal al sustrato inorganico u organico, en el tercer paso.c) usando metodos adecuados aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas y/o irradiadas por ondas electromagneticas, y opcionalmente, en un cuarto pasod) el sustrato asi pretratado es provisto con un recubrimiento y el recubrimiento es curado o secado.

Description

PROCESO PARA LA PRODUCCION DE RECUBRIMIENTOS FUERTEMENTE ADHERENTES CAMPO DE LA INVENCION La invención se relaciona con un proceso para la producción de recubrimientos fuertemente adherentes sobre sustratos inorgánicos u orgánicos, donde es llevado a cabo un cratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico, se aplican uno o más fotoiniciadores a presión normal al sustrato inorgánico u orgánico, y el sustrato así prerrecubierto con el fotoiniciador es recubierto con una composición que comprende al menos un monómero u oligomero etilénicamente insaturado y el recubrimiento es curado por medio de radiación. La invención se relaciona también con un aparato para llevar a cabo el proceso, con el uso de fotoinic iadores en la producción de esas capas y con los recubrimientos fuertemente adherentes en sí .

ANTECEDENTES DE LA INVENCION Las propiedades de adhesión de los recubrimientos ípor ejemplo terminados, pinturas, tintas de impresión o dhesivos) sobre sustratos inorgani"cb~s o org-áni-eee- specialmente sobre sustratos no polares como el polietileno polipropileno o poliolefinas que contienen flúor, son con frecuencia inadecuadas. Por esa razón han sido llevados a cabo tratamientos adicionales para lograr resultados satisfactorios. La adhesión puede ser mejorada aplicando primero recubrimientos imprimadores especiales, los llamados imprimadores, solo aplicando entonces el recubrimiento deseado a éste. Una posibilidad más reside en exponer los sustratos a ser recubiertos a un tratamiento con plasma o tratamiento con corona y entonces recubrirlos, siendo posible llevar a cabo un proceso de injerto con, por ejemplo, monómeros de acrilato entre aquellas dos operaciones (J. Polim. Sci . , Part A: Polim. Chem. 31, 1307-1314 (1993)) . La producción de plasmas a baja temperatura y la deposición ayudada por plasma de capas orgánicas o inorgánicas delgadas, ambas condiciones bajo vacío bajo presión normal han sido conocidas desde hace algún tiempo. Los principios fundamentales y aplicaciones son descritas, por ejemplo, por A. T. Bell, "Fundamentáis of Plasma Chemistry" en "Technology and Application of Plasma Chemistry" , editado por J. R. Holahan y A. T. Bell, Wiley, New York (1974) y H. Suhr, Plasma Chem. Plasma Process 3(1), 1, (1983) . También es posible en el plasma llevar a cabo pol imerizaciones que den como resultado la deposición de capas poliméricas y pueden ser usadas como imprimidores . Los principios fundamentales y aplicaciones son descritos, por ejemplo, por H. Biederman, Y. Osada "Plasma Polimerization Processes" en "Plasma technology 3" editado por L. Holland, Elsevier, Amsterdam 1992. También se sabe que las superficies plásticas pueden ser sometidas a tratamiento con plasma y como resultado el terminado aplicado posteriormente exhibe mejor adhesión al sustrato plástico. Esto es descrito por H. J. Jacobasch et al. en Farbe + Lack 99(7), 602-607 (1993) para condiciones bajo vacío con plasma a baja temperatura y por J. Friedrich et al. en Surf . Coat . Technol . 59, 371-6(1993) para plasmas que van de condiciones ín vacuo hasta depresión normal, cambiando el plasma a baja temperatura en una descarga de corona. Un proceso similar al del tipo mencionado al principio es conocido de la WO 00/24527. Ese proceso describe el tratamiento con plasma de sustratos con deposición de vapor intermedia e injerto de fotoiniciadores in vacuo. Una desventaja, sin embargo, es que la deposición de vapor requiere el uso de aparatos de vacío y, debido a las bajas casas de deposición, no es muy eficiente, y no es adecuada para aplicaciones industriales que tengan altas tasas de rendimiento . Existe la necesidad en la técnica de un proceso para el pretratamiento de sustratos que pueda ser llevado a cabo fácilmente en la práctica y que no sea demasiado caro en términos de aparatos por medio de los cuales se mejore el recubrimiento posterior de aquellos sustratos.

SUMARIO DE LA INVENCION Ahora se ha encontrado que los recubrimientos de composiciones fotocurables que tienen adhesión especialmente buena pueden ser obtenidos aplicando un fotoiniciador a un sustrato a ser recubierto, después de que el sustrato ha sido sometido a un tratamiento con plasma (plasmas a baja temperatura y/o presión normal), tratamiento con corona, o tratamiento a la llama, y secando y/o irradiando el sustrato así tratado. Los sustratos así pretratados son provistos con un recubrimiento y curados. Los recubrimientos resultantes exhiben una adhesión sorprendentemente buena, la cual no sufre ningún deterioro apreciable aún después de varios días de almacenamiento o exposición a la luz solar.

DESCRIPCION DETALLADA DE LA INVENCION La invención por lo tanto se relaciona con un proceso para la producción de recubrimientos fuertemente adherentes sobre un sustrato inorgánico u orgánico, donde a) se lleva a cabo un tratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico , b) son aplicados uno o más fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monómeros y/o oligómeros, que contienen al menos un grupo etilénicamente insaturado, o soluciones, o suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, a presión normal al sustrato inorgánico u orgánico, y c) usando métodos adecuados aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas opcionalmente y/o son irradiadas con ondas electromagnéticas. El proceso es simple de llevar a cabo y permite un alto rendimiento por unidad de tiempo, puesto que no se requieren pasos de aplicación prolongados y reacciones de reticulación lentas. El proceso es especialmente muy adecuado para piezas de trabajo que estén compuestas de diferentes plásticos y/o metales o tipos de vidrio que sin el pretratamiento exhibirían de otro modo diferentes grados de adhesión sobre los diferentes componentes que en el caso de un tratamiento con imprimador convencional exhibirán diferentes afinidades por el imprimador. En el proceso de acuerdo a la invención, después de que han sido aplicados el fotoiniciador o fotoiniciadores , o una solución o suspensión de los mismos en un solvente o monímero, al sustrato que ha sido pretratado con plasma, corona o a la llama y después de cualquier paso de secado para evaporar cualquier solvente usado, es llevado a cabo un paso de fijación para el fotoiniciador por exposición a la luz UV/VIS. En el contexto de la presente solicitud, el término "secado" incluye otras variantes, tanto la remoción del solvente como la fijación del fotoiniciador . De interés, por lo tanto, es un proceso para la producción de recubrimientos fuertemente adherentes sobre sustratos inorgánicos u orgánicos, donde a) se lleva a cabo un tratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico , b) se aplican uno o más fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monómeros y/u oligómeros, que contienen al menos un grupo etilénicamente insaturado, o soluciones, suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, a presión normal al sustrato inorgánico u orgánico, y c) usando los métodos adecuados aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas opcionalmente y son irradiadas con ondas electromagnéticas para fijar el fotoiniciador . En el paso c) de los procesos preferidos descritos anteriormente, en secado, es decir la remoción del solvente, es opcional. Ese paso puede ser omitido, por ejemplo, cuando no sea usado solvente. La fijación del fotoiniciador en el paso c) del proceso preferido por radiación con ondas electromagnéticas, especialmente radiación UV/VIS, debe ser llevado a cabo. Los aparatos adecuados para el secado e irradiación son descritos aquí más adelante. La invención se relaciona también con un proceso para la producción de recubrimientos fuertemente coherentes sobre un sustrato inorgánico u orgánico, donde a) se lleva a cabo un tratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o con un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico , b) se aplican uno o más fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monómeros o/y oligómeros, que contienen al menos un grupo etilénicamente insaturado, o soluciones, suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, a la sustancia inorgánica u orgánica, c) usando los métodos adecuados aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas y/o irradiadas con ondas electromagnéticas y cualquiera de di) el sustrato siempre recubierto con el iotoiniciador es recubierto con una composición que comprende al menos un monómero u oligómero etilénicamente insaturado, y el recubrimiento es curado por medio de radiación UV/VIS o un haz de electrones; o b2 ) el sustrato así prerrecubierto con fotoiniciador es provisto con un recubrimiento y secado. Se da preferencia a un proceso para la producción de recubrimientos fuertemente adherentes sobre un sustrato inorgánico u orgánico, donde a) se lleva a cabo un tratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o con un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico , b) se aplican uno o más fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monómeros o/y oligómeros, que contienen al menos un grupo etilénicamente insaturado, o soluciones, suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, a la sustancia inorgánica u orgánica , c) usando los métodos adecuados aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas opcionalmente y son irradiadas con ondas electromagnéticas para fijar el fotoiniciador y cualquiera de di) el sustrato siempre recubierto con el fotoiniciador es recubierto con una composición que comprende al menos un monómero u oligómero etilénicamente insaturado, y el recubrimiento es curado por medio de radiación UV/VIS o un haz de electrones; o b2 ) el sustrato así prerrecubierto con fctoiniciador es provisto con un recubrimiento y secado. El proceso del paso b) en cada uno de los procesos descritos anteriormente se lleva a cabo preferiblemente bajo presión normal. Si, en el paso del proceso b) (en cada uno de los procesos descritos anteriormente) se usan mezclas de :c:oiniciadores con monómeros o/y ol igómeros , se prefiere el so de mezclas de uno o más otoiniciadores con monómeros. Las posibles formas de obtener plasmas bajo condiciones de vacío han sido descritas frecuentemente en la literatura. La energía eléctrica puede ser acoplada por medios inductivos o capacitivos. Esta puede ser corriente directa o corriente alterna; la frecuencia de la corriente alterna puede fluctuar de unos cuantos kHz hasta el intervalo de Hz . También es posible un suministro de energía en el intervalo de las microondas (GHz) . Los principios de la producción y mantenimiento del plasma son descritos, por ejemplo, en los artículos revisados per A. T. Bell y H. Suhr mencionados anteriormente. Como gases de plasma primarios es posible usar, por -e effl l-e-7 —argónr ^eTToñ , N2~ O ¡~? "vapor~o aire . El proceso de acuerdo a la invención no es sensible per se con respecto al acoplamiento de la energía eléctrica. El proceso puede ser llevado a cabo en lotes, por ejemplo en un tambor giratorio, o continuamente en el caso de películas, fibras o telas tejidas. Esos métodos son conocidos y son descritos en la técnica anterior. El proceso también puede ser llevado a cabo bajo condiciones de descarga de corona. Las descargas de corona son producidas bajo condiciones de presión normal, siendo el gas ionizado más frecuentemente usado el aire. El principio, sin embargo, también son posibles otros gases y mezclas, como se describe, por ejemplo, en COATI G Vol . 2001, No. 12, 426, (2001) . La ventaja del aire como gas de ionización en descargas de corona es que la operación puede llevarse a cabo en un aparato abierto al exterior y, por ejemplo, una película puede ser arrastrada a su través continuamente entre los electrodos de descarga. Esos arreglos del proceso son conocidos y son descritos, por ejemplo, en J. Adhesión Sci . Technol . Vol 7, No. 10, 1105, (1993) . Las piezas de trabajo tridimensionales pueden ser tratadas con un chorro de plasma, siendo los contornos seguidos con la ayuda de robots. El tratamiento a la llama de sustratos es conocido por los expertos en la técnica. Los aparatos industriales correspondientes, por ejemplo para el tratamiento a la llama -de —e4 te ia-s-,—&e—encuentran cTJrñeTcialmente disponibles . En ese tratamiento, una película es transportada sobre un rodillo cilindrico frío a lo largo del aparato de tratamiento a la llama, el cual consiste de una cadena de quemadores arreglados en paralelo, usualmente a lo largo de toda la longitud del rodillo cilindrico. Los detalles pueden encontrarse en los folletos de los fabricantes de aparatos de tratamiento a la llama (por ejemplo, ese Cl , tratadores de llama, Italia) . Los parámetros a ser elegidos son gobernados por el sustrato particular a ser tratado. Por ejemplo, las temperaturas de llama, la intensidad de la llama, los tiempos de residencia, la distancia entre el sustrato y el quemador, la naturaleza del gas de combustión, la presión de aire, humedad, son equiparados con el sustrato en cuestión. Como gases de llama es posible usar, por ejemplo, metano, propano, butano o una mezcla de 70% de butano y 30% de propano. El sustrato inorgánico u orgánico a ser tratado puede estar en cualquier forma sólida. El sustrato está preferiblemente en forma de una tela tejida, una fibra, una película o una pieza de trabajo tridimensional. El sustrato puede ser, por ejemplo, un polímero termoplástico, elascomérico , inherentemente reticulado o reticulado, un óxido de metal, un material de cerámica, vidrio, metal, cuero o tex il . El pretratamiento" del sustrato en forma de -ia—-tama—pttede -ser- llevado" a cabo, por ejemplo, inmediatamente después de la extrusión de una fibra o película, y también directamente después del estiramiento de la película. El sustrato inorgánico u orgánico es preferiblemente un polímero termoplást ico , elastoméríco , inherentemente reticulado o reticulado, un óxido de metal, un material de cerámica, un vidrio o un metal, especialmente un polímero termoplástico , elastoméríco, inherentemente reticulado o reticulado. Los ejemplos de polímeros termoplásticos , elastoméricos , inherentemente reticulados o reticulados se listan a continuación. 1. Polímeros de mono- o di-olefinas, por ejemplo polipropileno, poliisobutileno, polibuteno- 1 , poli-4-met i lpenteno- 1 , poliisopreno o pol ibutadieno y también pol imerizados de cicloolefinas , por ejemplo de ciclopenteno o norborneno; y también polietileno (el cual puede estar opcionalmente reticulado) , por ejemplo polietileno de alta densidad (HDPE) , polietileno de alta densidad de alto peso molecular (HDPE-H ) , polietileno de alta densidad de peso molecular ultra alto (HDPE-UHM ) , polietileno de densidad media ( DPE) , polietileno de baja densidad (LDPE) , y polietileno de baja densidad lineal (LLDPE) , (VLDPE) y (ULDPE) . Las pol iolef inas , es decir los polímeros de mono-olefinao, como—s-e—mencionó a manera de—ejemplo en ei— ánalo precedente, especialmente el polietileno y polipropileno, pueden ser preparados por varios procesos, especialmente por los siguientes métodos : a) por polimerización por radicales libres (usualmente a alta presión y alta temperatura) ; b) por medio de un catalizador, conteniendo usualmente el catalizador uno o más metales del grupo IVb, Vb, VIb o VIII. Aquellos metales generalmente tienen uno o más ligandos, como óxidos, haluros, alcoholatos, 'ásteres, éteres, aminas, alquilos, alquenilos y/o arilos, los cuales pueden estar coordinados p- o s- . Esos complejos de metal pueden estar libres o fijados a portadores, por ejemplo a cloruro de magnesio activado, cloruro de itanio ( I II ) , óxido de aluminio u óxido de silicio. Esos catalizadores pueden ser solubles o insolubles en el medio de polimerización. Los catalizadores pueden ser activos como tales en la polimerización o pueden ser usados activadores adicionales, por ejemplo alquilos de metal, hidruros de metal, alquil haluros de metal, alquil óxidos de metal o alquil oxanos de metal, siendo los metales elementos de los grupos la, lia y/o Illa. Los activadores pudieron haber sido modificados, por ejemplo, con grupos éster, éter, amina o sililo éter adicionales. Esos sistemas de catalizadores son usualmente referidos como catalizadores de Phillips, de Standard Oil Iftd±^na —de—Z÷eglrer—HWartrtaf -- de NZ—fCuf^orit T-de meta oceno o ie un Solo Sitio Catalizador (SSC) . 2. Mezclas de los polímeros mencionados bajo el 1), por ejemplo mezclas de polipropileno con poliisobutileno, polipropileno con polietileno (por ejemplo PP/HDPE, PP/LDPE) y mezclas de diferentes tipos de polietileno (por ejemplo LDPE/HDPE) . 3. Copolímeros de mono- y di-olefinas entre sí o con otros monómeros de vinilo, por ejemplo copolímeros de etileno/propileno, polietileno de baja densidad (LLDPE) y mezclas de los mismos con polietileno de baja densidad (LDPE) , copolímeros de propileno/buteno- 1 , copolímeros de propileno/isobutileno, copolímeros de etileno/buteno-1 , copolímeros de etileno/hexeno, copolímeros de etileno/metil -penteno, copolímeros de etileno/hepteno, copolímeros de etileno/octeno , copolímeros de propi leno/butadieno , copolímeros de isobutileno/isopreno, copolímeros de et i leno/acrilato de alquilo, copolímeros de et i leno/rnetacrilato de alquilo, copolímeros de et i leno/acetato de vinilo y copolímeros de los mismos con monóxido de carbono, o copolímeros de etileno/ácido acrílico y sales de los mismos (ionómeros) , y también terpolímeros de etileno con propileno y un dieno, como hexadieno, diciclopentadieno o e ilidenorborneno; y también mezclas de esos copolímeros entre sí o con los polímeros mencionados baj o lj por e_j-em l-a co olímeros d-e pe-tip-rop-rirerro — etileno/propileno, copolímeros de LDPE-etileno/acetato de vinilo, copolímeros de LDPE-etileno/ácido acrílico, copolímeros de LLDPE-etileno/acetato de vinilo, copolímeros de LLDPE-etileno/ácido acrílico y copolímeros de pol ialquileno - monóxido de carbono estructurados de manera alternativa o aleatoria y mezclas de los mismos con otros polímeros, por ejemplo poliamidas. 4. Resinas hidrocarbúricas (por ejemplo C5-C9) incluyendo modificaciones hidrogenadas de las mismas (por ejemplo resinas adhesivas) y mezclas de polialquilenos , y almidón. 5. Pol iestireno , poli (p-tnetilestireno) , poli (o- metilestireno) . 6. Copolímeros de estireno o a-metilestireno con dienos o derivados acrílicos, por ejemplo estireno/butadieno, est ireno/acrilonitrilo , estireno/metacrilato de alquilo, estireno/butadieno/acrilato de alquilo y acrilato y metacrilato de alquilo, estireno/anhídrido maleico, est ireno/acrilonitrilo/acrilato de metilo; mezclas de alta resistencia al impacto que consiste de copolímeros de estireno y otro polímero, por ejemplo un pol iacri lato , un polímero de dieno o un terpolímero de e i leno/propileno/dieno ; y también copolímeros de bloques de estireno, por ejemplo estireno/butadieno/estireno, estireno/etileno-butileno/estireno o est ireno/et ileno-propileno/es ireno . 7. Copolímeros injertados de estireno o oc-metilestireno, por ejemplo estireno sobre polibutadieno, estireno sobre copolímeros de polibutadieno/estireno o polibutadieno/acrilonitrilo , estireno y acrilonitrilo (o metacrilonitrilo) sobre polibutadieno; estireno, acrilonitrilo y metacrilato de metilo sobre polibutadieno ; estireno y anhídrido maleico sobre polibutadieno estireno, acrilonitrilo y anhídrido maléico o imida de ácido maleico sobre polibutadieno; estireno e imida de ácido maleico sobre polibutadieno, estireno y acrilatos de alquilo o metacrilatos de alquilo sobre polibutadieno, estireno y acrilonitrilo sobre terpolímeros de etileno/propileno/dieno , estireno y acrilonitrilo sobre acrilatos de polialquilo o metacrilatos de polialquilo, estireno y acrilonitrilo sobre copolímeros de acrilato/butadieno , y mezclas de los mismos con los copolímeros mencionados bajo 6), aquéllos conocidos, por ejemplo, como los llamados polímeros ABS , MBS, ASA o AES . 8. Polímeros que contienen halógeno, por ejemplo policloropreno, caucho clorado, copolímero clorado o bromado de isobutileno/isopreno (caucho de halobutilo) , polietileno clorado o clorosulfonado , copolímeros de etileno y etileno clorado, homo- y co-polímeros de epiclorohidrina , especialmente polímeros de compuestos de vinilo que contienen halógeno, por ejemplo cloruro de polivinilo, cloruro de polivinilideno, fluoruro de polivinilo, fluoruro de polivinilideno; y copol ímeros de los mismos, como el cloruro de vinilo/cloruro de vinilideno, cloruro de vini lo/acetato de vinilo o cloruro de vinil ideno/acetato de vinilo. 9. Polímeros derivados de ácidos a, ß- insaturados y derivados de los mismos, como poliacrilatos y polimetacrilatos , o metacrilatos de polimetilo, poliacrilamidas y poliacrilonitrilos resistentes al impacto modificados con acrilato de butilo. 10. Copolímeros de los monómeros mencionados bajo 9) entre sí o con otros monómeros insaturados, por ejemplo copolímeros de acrí lonitriilo/butadieno, copolímeros de acrilonitrilo/acrilato de alquilo, copolímeros de acrilonitrilo/acrilato de alcoxialquilo , copolímeros de acrilonitrilo/ haluro de vinilo o terpolímeros de acrilonitrilo/metacrilato de alquilo/butadieno. 11. Polímeros derivados de alcoholes insaturados y aminas o sus derivados de acilo o acétales, como el alcohol pol iviní 1 ico , acetato, estearato, benzoato o maleato de polivinilo, pol ivini lbut iral , ftalato de polialilo, polialilmelamina; y copolímeros de los mismos con las olefinas mencionadas en el Punto 1. 12. Homo- y copolímeros de éteres cíclicos, como los polialquilen glicoles, óxido de polietileno, óxido de polipropileno o copolímeros de los mismos con bisglicidil éteres . 13. Poliacetales , como el polioximetileno, y también aquellos pol ioximetilenos los cuales contienen comonómeros, por ejemplo óxido de etileno; poliacetales modificados con poliuretanos termoplásticos, acrilatos o MBS. 14. Oxidos y sulfuros de polifenileno y mezclas de los mismos con polímeros de estírenos o poiiamidas. 15. Poliuretanos derivados de poliéteres, poliésteres y polibutadienos que tienen grupos hidroxilo terminales por un lado y pol i isoc ianatos alifáticos o aromáticos por el otro, y sus productos iniciales. 16. Poiiamidas y copoliamidas derivadas de diaminas y ácidos dicarboxí lieos y/o de ácidos aminocarboxí lieos o las lactamas correspondientes, como la poliamida 4, poliamida 6, poiiamidas 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, poliamida 11, poliamida 12, poiiamidas aromáticas derivadas de m-xileno, diamina y ácido adípico; poiiamidas preparadas a partir de hexametilendiamina y ácido iso- y/o tereftálico y opcionalmente un elastómero como modificador, por ejemplo poli-2 , , 4 -trimetilhexametilen tereftalamida o pol i -m- fenilen isoftalamida . Los copolímeros de bloque de las poiiamidas mencionadas anteriormente con pol iolefinas , copolímeros de olefina, ionómeros o elastómeros unidos químicamente o injertados; o" con poliéteres', por ejemplo, con poTieTilen glicol, polipropilenglicol o politetrametilenglicol . También poliamidas o copolíamidas modificadas con EPDM o ABS ; y poliamidas condensadas durante el procesamiento ("sistemas de poliamida RIM" ) . 17. Poliureas, poliimidas, poliamida imidas, poliéter imidas, poliéster imidas, polihidantoínas y polibencimidazoles . 18. Poliésteres derivados de ácidos dicarboxílieos y dialcoholes y/o de ácidos hidroxicarboxílieos o las lactonas correspondientes, como el tereftalato de polietileno, tereftalato de polibutileno, tereftalato de poli - 1 , 4 -dimetilolciclohexano , polihidroxi- benzoatos, y también ésteres de poliéter en bloques derivados de poliéteres con grupos terminales hidroxilo; y también poliésteres modificados con pol icarbonatos o MBS. 19. Pol icarbonatos y carbonatos de poliéster. 20. Polisulfonas , poliéter sulfonas y poliéter cetonas . 21. Polímeros reticulados derivados de aldehidos por un lado y fenoles, urea o melamina por el otro, como resinas de fenol - formaldehído , urea- formaldehído y melamina- formaldehído . 22. Resinas alquídicas secantes y no secantes. 23. Resinas de poliéster insaturadas derivadas de con alcoholes polihídricos , y también compuestos de vinilo como agentes reticulantes , y también modificaciones de los mismos difícilmente combustibles, que contienen halógeno. 24. Resinas acrílicas reticulables derivadas de esteres acrílicos sustituidos, por ejemplo de acrilatos de epoxi , acrilatos de uretano y acrilatos de poliéster. 25. Resinas alquídicas, resinas de poliéster y resinas de acrilato que son reticuladas con resinas de melamina, resinas de urea, isocianatos, isocianuratos , pol i isocianatos o resinas epoxi. 26. Resinas epoxi reticuladas derivadas de compuestos de glicidilo alifáticos, cicloalifáticos , heterocíclicos o aromáticos, por ejemplo productos de bisfenol-A diglicidil éteres, bisfenol-F diglicidil éteres, que son reticulados usando los endurecedores acostumbrados, por ejemplo anhídridos o aminas con o sin aceleradores. 27. Polímeros naturales, como la celulosa, caucho natural, gelatina o derivados de los mismos modificados químicamente homólogos al polímero, como acetatos, propionatos y butiratos de celulosa, y éteres de celulosa, como la metilcelulosa ; y también resinas y derivados de colofonia 28. Mezclas (polimezclas ) de los polímeros mencionados anteriormente, por ejemplo PP/EPDM, poli-anrrda/EPDM o KBS~, PVC/i-VA, PVL'/AHSC" P / JS^ PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ SA , PC'/ PBT , PVC/CPE, PVC/acrilatos , POM/PUR termoplástico, PC/PU termoplástico , POM/acrilato , POM/ BS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 y copolímeros, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS o PBT/PET/PC. El sustrato puede por ejemplo ser uno usado en el área de impresión comercial, impresión en hojas planas u hojas continuas, carteles, calendarios, formularios, etiquetas, hojas para envolver, cintas, tarjetas de crédito, perfiles para muebles, etc. El sustrato no está restringido al uso en un área no alimenticia. El sustrato puede ser también, por ejemplo, un material para usarse en el campo de la nutrición, por ejemplo para empaquetar productos alimenticios; cosméticos, medicamentos, etc. Donde los sustratos han sido pretratados de acuerdo a los procesos de la invención también es posible, por ejemplo, que los sustratos que usualmente tienen una pobre compatibilidad entre sí sean unidos adhesivamente entre sí o laminados . Dentro del contexto de la presente invención, deberá comprenderse que el papel es un polímero inherentemente reticulado, especialmente en forma de cartón, el cual puede ser recubierto adicionalmente con por ejemplo Teflon©. Esos sustratos se encuentran, por ejemplo, comercialmente disponibles. . Eos plásticos termoplásticos , reticulados o inherentemente reticulados son preferiblemente una poliolefina, una poliamida, poliacrilato, policarbonato, poliestireno o un recubrimiento superficial acrí1 ico/melamina , alquídico o poliuretano. El policarbonato, polietileno y polipropileno son especialmente preferidos. Los plásticos deben estar, por ejemplo, en ¦ forma de películas, artículos moldeados por inyección, piezas de trabajo extruídas, fibras, fieltros o telas tejidas. Como sustratos inorgánicos entran en consideración especialmente materiales de vidrio, cerámicas, óxidos de metal y metales. Ellos pueden ser silicatos y semi-metales o vidrios de óxido de metal los cuales están preferiblemente en forma de capas o en forma de polvos que tienen preferiblemente diámetros de partícula promedio de 10 nm a 2000 µp? . Las partículas pueden ser densas o porosas. Los ejemplos de óxidos y silicatos son Si02, Ti02, Zr02, MgO, NiO, 03 , Al203, La203, geles de sílice, arcillas y zeolitas. Los sustratos inorgánicos preferidos, además de los metales, son geles de sílice, óxidos de aluminio, óxidos de titanio y vidrio y mezclas de los mismos. Como sustratos de metal entran en consideración especialmente Fe, Al, Ti, Ni, Mo, Cr y aleaciones de acero. Los fotoiniciadores adecuados para usarse en el proceso de acuerdo a la invención son en principio cualesquier compuestos y mezclas que formen uno o más radicales libres cuando sean irradiados con ondas electromagnéticas. Esos incluyen sistemas iniciadores que consisten de una pluralidad de iniciadores y sistemas que funcionan independientemente entre sí o de manera sinérgica. Además de coiniciadores, por ejemplo, aminas, tioles, boratos, enolatos, fosfinas, carboxilatos e imidazoles, también es posible usar sensibilizadores, por ejemplo acridinas, xantenos, tiazenos, coumarinas, tioxantonas, triacinas y tintes. Una descripción de esos compuestos y sistemas iniciadores pueden encontrarse por ejemplo en Crivello J.V., Dietliker K.K., (1999) : Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints, y en Bradley G. (ed.) Vol . 3: Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerisation 2da Edición, John Wiley & Son Ltd. El fotoiniciador adecuado para el proceso de acuerdo a la invención en el paso b) puede ser cualquier iniciador que tenga un grupo msaturado o un iniciador que no tenga ese grupo. Esos compuestos y derivados son derivados, por ejemplo de las siguientes clases de compuestos: benzoinas, bencil cetales, acetofenonas , hidroxiaiquilfenonas , aminoalquil fenonas , óxidos de acilfosfiría , sulfuros de acilfosfina, aci loxi iminocetonas , cetonas sustituidas con alquilamino, como la cetona de Michler's, compuestos peroxi, compuestos de dinitrilo, " acetotenonás Tiaiogenadas , fe ilglioxilatos , fenilgl ioxalatos diméricos, benzo enonas , oximas y esteres de oximas, tioxantonas, coumarinas , ferrocenos, titanocenos, sales de onio, sales de sulfonio, sales de yodonio, sales de diazonio, boratos, triacinas, bisimidazoles , polisilanos y tintes. También es posible usar combinaciones de los compuestos de las clases mencionadas de compuestos entre sí y combinaciones con los sistemas coiniciadores y/o sensibilizadores correspondientes. El fotoiniciador es preferiblemente un compuesto de fórmula I o la (RG)-A-(IN) (I) , (IN) -A- (RG' ) -A- (IN) (la) , donde (IN) es una estructura base de fotoiniciador ; A es un grupo separador o un enlace sencillo; (RG) es un hidrógeno o al menos un grupo eti léni camente insaturado funcional; y (RG' ) es un enlace sencillo o un radical divalente que contiene al menos un grupo etilénicamente insaturado funcional, o es un radical trivalente. De interés son los compuestos de fórmula I o la donde (IN) es una estructura base del fotoiniciador de fórmula (II) o (III) Ri es un grupo (A) , (B) , (C) o (III) n es un número de 0 a 6 ; R2 es hidrógeno, alquilo de C1-C12, halógeno, el grupo (RG) -A- o, cuando R± es un grupo (A) , dos radicales R2 en la posición orto al grupo carbonilo pueden también juntos ser -S- o I I R3 y R4 son cada uno independientemente entre sí alquilo de Ci~ 6, alcanoilo de Ci-C6, fenilo o benzoilo, estando los radicales fenilo y benzoilo no sustituidos o sustituidos por halógeno, alquilo de C1-C5, alquiltio de Ci-C6 o por alcoxi de Ci-C6; R5 es hidrógeno, halógeno, alquilo de Cx-C12 o alcoxi de Ci-C12 o el grupo (RG) -A- ; R6 es OR9 o N(Rg)2 o es ^G'? " srrn üa~D¾ uno—¾d"e~p^ rdi^rrte"rrí5Tte~ eTTCre si~ hidrógeno, alquilo de Ci-C12, alquenilo de C2-C12, alcoxi de C1-C12, fenilo o bencilo o R7 y Rs juntos son alquileno de R9 es hidrógeno, alquilo de Cx-Cg o alcanoilo de Ci-C6; Rio es hidrógeno, alquilo de C1-C12 o fenilo; R11 es alquilo de C1-C4 o Xi es oxígeno o azufre. (IN) es, por ejemplo, un grupo A en los compuestos de fórmula I o la es, por ejemplo, un enlace sencillo, un grupo separador -Z-[ (AJ a-Y]c- [(A2)b-X]d-, 0 O o II II -(A,)-Y- -C-(A2)b-0- -0-(A, -c- CH,CI O i + •N-N-CH,CH,0-C- H 1 2 2 CH3 X, Y y Z son cada uno independientemente entre sí un enlace sencillo, -O-, -S-, -N(R10) -, - (CO) -, - (C0)0-, (CO)N(R10)-, -0- (C0) -, -N (Rio) - (CO) - O -N (R10) - (CO) O- . Ai y A2 son, por ejemplo, cada uno independientemente entre sí alquileno de Ci-C4, cicloalquileno de C3-C12, fenileno, fenilen-alquileno de C1-C o alquilen de Ci-C4-fenilen-alquileno de C1-C4. a, b, c y d son cada uno independientemente entre sí, un número de 0 a 4. Se da preferencia especial a compuestos de fórmula I o la donde A es un grupo separador -Z-[ (CH2) a-Y]c-[ (CH2) b-X]d-y X, Y, Z, a, b, c y d son como se definieron anteriormente En los compuestos de fórmula I o la (RG) es hidrógeno o RcRbC=CRa-, especialmente (RC) es un enlace sencillo, especialmente —C-C— , y Rb a b/ Rc son cada uno H o alquilo de Ci-C5, especialmente H o CH3. La preparación de esos compuestos fotoiniciadores es conocida por los expertos en la técnica y ya ha sido descrita en un gran número de publicaciones. Por ejemplo, los compuestos que contienen grupos msaturados pueden ser preparados por la reacción de 4-[2-hidroxietoxi ) -benzoil] - 1-hidroxi- 1 -metil -etano (Irgacure® 2959, · Ciba Spezialitátenchemie) con isocianatos que contienen grupos acriloilo o metacriloilo o con otros compuestos que contienen grupos acriloilo o metacriloilo, véase por ejemplo la US 4 922 004. Los fotoiniciadores insaturados comercial ente disponibles son, por ejemplo, el 4 - ( 13 -acriloil -1 , 4 , 7 , 10 , 13 -pentaoxatridecil ) -benzofenona (Uvecryl P36 de UCB) , cloruro de 4 -benzoil -N, N-dimetil -N- [2- ( 1 -oxo- 2 -propenil ) oxi] etilfenilmetanaminio (Quantacure ABQ de Great Lakes), y algunas aminas terciarias insaturados copol imeri zables (Uvecryl P101, Uvecryl P104, Uvecryl P105, Uvecryl P115 de UCB Radcure Specialties) o aminoacrilatos copolimerizables (Photomer 4116 y Photomer 4182 de Ackros; Laromer LR8812 de BASF; CN381 y CN386 de Cray Valley) . Las publicaciones indicadas a continuación proporcionan ejemplos de compuestos más específicos de compuestos fotoiniciadores adecuados que contienen una función etilénicamente insaturada, y la preparación de los mismos: los derivados de aceto- y benzo-fenona insaturados son descritos, por ejemplo, en las US 3 214 492, US 3 429 852, US 3 622 848 y US 4 304 895, por ejemplo También adecuados, por ejemplo, son benzofenonas copolimerizables adicionales, por ejemplo, de ^- ~ E ecryT~P"3~5~ o en fórma~~de~~??ß?t? '???' etlTuida en '3~0~%~cle iacrilato de tripropilenglicol .

Los compuestos acetofenona etilénicamente insaturados, copol imeri zables , pueden ser encontrados, por ejemplo, en la US 4 922 004, por ejemplo Una -Acri loil - tioxantona na sido publicada en Eur. Po ym. J. 23, 985 (1987) . Ejemplos como son descritos en la DE 2 818 763. Compuestos fotoiniciadores que contienen grupos carbonato insaturados adicionales pueden encontrarse en la EP 377 191. El Uvecryl® P36 (ya mencionado anteriormente) , de UCB, es una benzofenona unida a una función acrílica con unidades de óxido de etileno (véase el Boletín Técnico 2480/885 (1985) de UCB o New. Polym. Mat . 1, 63 (1987) ) : ha sido publicado en Chem. Abstr. 128: 283649r. La DE 195 01 025 da compuestos fotoiniciadores etilénicamente insaturados adecuados adicionales. Los ejemplos son -viniloxicarboniloxibenzofenona, 4-viniloxi- carboniloxi -4 ' - clorobenzofenona , 4 -viniloxi -carboniloxi -4 ' - metoxibenzofenona , N-vini loxicarbonil -4 - aminobenzofenona , viniloxicarboniloxi - ' - fluorobenzofenona , 2 - iniloxicarbo- niloxi-4' -metoxibenzofenona , 2 -viniloxicarbo-ni loxi - 5 - fluoro- 4 ' -clorobenzofenona, 4 -viniloxicarboniloxi -acetofenona , 2- vini loxicarbóniloxiace ofenona , N-viniloxicarbonil - 4 - amino- acetofenona, 4 -viniloxicarbonil -oxibencilo , 4 -viniloxicarbo - niioxi-4 ' -metoxibencí lo , viniloxicarbonilbenzoin éter, 4- metoxibenzoinviniloxicarbonil éter, fenil ( 2 -viniloxi - carboniloxi-2-propil) -cetona, (4-isopropilfenil) - (2-viniloxi- carboniloxi-2-propil) -cetona, fenil- ( 1 -viniloxicarboniloxi ) - ciclohexil cetona, 2 -viniloxicarboniloxi-9- luorenona, 2- (N- vini loxicarbonil ) - 9 -aminofluorenona , 2 -vinilcarboniloximetil - antraquinona , 2 - (N-viniloxicarbonil ) -aminoantraquinona , 2- viniloxicarboniloxitioxantona , 3 -vinilcarboniloxitioxantona o La US 4 672 079 describe inter alia la preparación de 2 -hidroxi- 2 -metil (4 -vinilpropiofenona) , 2-hidroxi-2-metil-p -( 1 -met ilvinil ) propiofenona , p-vinilbenzoilciclohexanol, p-( 1 -met ilvinil ) benzoil -ciclohexanol . También adecuados son los productos de reacción, descritos en la JP Kokai Hei 2-292307, de 4 -[2 -hidroxietoxi ) - benzoil]-l-hidroxi- 1 -metil -etano (Irgacure© 2959, Ciba Spezialitátenchemie) e isocianatos que contienen grupos acriloilo o metacriloilo, por ejemplo OCH2CH2—N—C OCHjCH—O— ( —C—C—OH CH (donde R= H o CH3) . Ejemplos adicionales de fotoiniciadores adecuados son Los siguientes ejemplos son descritos en Radcure "86, Conference Proceedings, 4-43 a 4-54 por W. Báumer et al.

G. Wehner et al . reporta en Radtech '90 North America sobre el En el proceso de acuerdo a la invención también existen compuestos adecuados presentados en RadTech 2002, North Ameri En el proceso de acuerdo a la invención, es posible usar fotoiniciadores saturados o insaturados. Es preferible usar fotoiniciadores insaturados. En el proceso de acuerdo a la invención por supuesto también es posible emplear mezclas de fotoiniciadores diferentes, por ejemplo mezclas de fotoiniciadores saturados o insaturados. Los fotoiniciadores sin un grupo insaturado son conocidos por aquellos expertos en la técnica y una variedad de esos fotoiniciadores se encuentran comercialmente disponibles. En el proceso existen en principio cualesquier fotoiniciadores adecuados que, después del tratamiento con plasma-, corona- o llama-, se adhieren a la superficie del sustrato a ser tratado. Los significados de los sustituyentes definidos en las fórmulas I y la en los diferentes radicales son explicados más adelante. Alquilo de C1-C12 es lineal o ramificado y es, por ejemplo, alquilo de Ci-C8-, Ci-C6- o C1-C¡1. Los ejemplos son metilo, etilo, propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, ter-butilo, pentilo, hexilo, heptilo, 2,4,4-trimetil -pentilo, 2-etilhexilo, octilo, nonilo, decilo, undecilo y dodecilo, especialmente por ejemplo metilo o butilo . Mrquilo—de—C]_-C6— —alquilo d¾ Ci -Cj SOTT de igual modo lineales o ramificados y tienen por ejemplo los significados relacionados anteriormente hasta el número apropiado de carbonos. Los sustituyentes de alquilo de Ci-C6 para el benzoilo o fenilo son especialmente alquilo de Ci-C4, por ejemplo metilo o butilo. Halógeno es flúor, cloro, bromo y yodo, especialmente cloro y bromo, preferiblemente cloro. Cuando Ri es un grupo (A) , y dos radicales R2 en la posición orto al grupo carbonilo juntos son también -S- o -(C=0)-, se obtienen, por ejemplo, estructuras que tienen una estructura base de tioxantona una estructura base de antraquinona Alcanoilo de Ci-C6 es lineal o ramificado y es, por e]emplo, alcanoilo de C1-C4. Los ejemplos son formilo, acetilo, propionilo, butanoilo, isobutanoilo, pentanoilo y hexanoilo, preferiblemente acetilo. El alcanoilo de C1-C tiene los significados mencionados anteriormente hasta el número apropiado de átomos de carbono. ramificados y es, por ejemplo, alcoxi de Ci-C8-, Ci-C6- o Ci-C4. Los ejemplos son metoxi, etoxi, propoxi , isopropoxi, n-butiloxi, sec-butiloxi , isobutiloxi, ter-butiloxi , pentiloxi, hexiloxi, heptiloxi, 2 , 4 , -trimetilpentiloxi , 2 -etilhexiloxi , octiloxi, noniloxi, deciloxi y dodeciloxi, especialmente metoxi, etoxi, propoxi, isopropoxi, n-butiloxi, sec-butiloxi, isobutiloxi, ter-butiloxi, preferiblemente metoxi. Alcoxi de Ci-C8, alcoxi de Ci-C6 y alcoxi de Ci-C4 son de igual modo lineales o ramificados y tienen por ejemplo los significados mencionados anteriormente hasta el número apropiado de átomos de carbono . Alquiltio de Ci-Ce denota radicales lineales o ramificados y es, por ejemplo, alquiltio de Ci-C4. Los ejemplos son metiltio, etiltio, propiltio, isopropiltio, n-butiltio, sec-butiltio, isobutiltio, ter-butiltio, pentiltio y hexiltio, especialmente metiltio, etiltio, propiltio, isopropiltio, n-butiltio, sec-butiltio, isobutiltio, ter-butiltio, preferiblemente metiltio. Alquiltio de Cx-C4 es de igual modo lineal o ramificado y tiene por ejemplo los significados mencionados anteriormente hasta el número apropiado de átomos de carbono. Los radicales fenilo o benzoilo sustituidos por halógeno, alquilo de Ci~C6, alquiltio de Ci-C6 o por alcoxi de C!-C6 están, por ejemplo, mono- a penta- sustituidos , por ej-emp-to-;—mono—- —d±= ~o—tx±= strsir trardo-—e^pec-i-airmerrte —d±^— ~o tri-sustituidos, en el anillo de fenilo. Se da preferencia a, por ejemplo el 2 , 4 , 6 - rimetilbenzoilo , 2 , 6-diclorobenzoilo, 2 , 6-dimetilbenzoilo o 2 , 6 -dimetoxibenzoi lo . El alquileno de Ci-C4 y alquileno de C2-C3 son alquileno lineal o ramificado, por ejemplo alquileno de C2-C4, por ejemplo metileno, etileno, propileno, isopropileno, n- butileno, sec-butileno, isobutileno, . ter-butileno, pentileno y hexileno. Se da preferencia al alquileno de Ci-C4( por ejemplo etileno o butileno, - CH - CH2- F — CH - (CH2)2- F _ CH - (CH2)3- 0 _C (CH3 ) 3-c¾- , CH3 CH3 CH3 y también metileno y etileno. Fenilen-alquileno de C^-C, es fenileno que está sustituido por alquileno de Ci-C en una posición del anillo aromático, mientras que alquilen de Ci-C4-fenilen-alquileno de Cx-C4 es fenileno que está sustituido por alquileno de Ci-C4 en dos posiciones sobre el anillo de fenileno. Los radicales alquileno son lineales o ramificados y tienen, por ejemplo los significados dados anteriormente hasta el número apropiado de átomos de carbono. Los ejemplos son ~erc Los grupos alquileno pueden, sin embargo, también estar colocados en otros sitios sobre el anillo de fenileno, por ejemplo también en la posición 1,3. Cicloalquileno es por ejemplo cicloalqui leño de C3-Ci2- , C3-C8, por ejemplo cic.lopropileno , ciclopentileno, ciclohexileno , ciclooctileno , ciclododecileno , especialmente ciclopentileno y ciclohexileno, preferiblemente ciclohexileno. cicloalquileno de C3-C12 también denota, sin embargo, unidades estructurales como donde x y y son cada uno independientemente entre sí de 0 a 6 y la suma de x + y < 6 , o (CxH2x)^^(CyH2y)— ? donde x y y son cada uno independientemente entre sí de 0 a 7 y la suma de x + y 7. Los radicales alquenilo de C -Ci2 pueden estar mono-o poliinsaturados y ser lineales o ramificados y son, por ejemplo alquenilo de C2-C8-, C2-C6- o C2-C . Los ejemplos son alilo, metalilo, 1 , 1 -dimet ilal i lo , 1-butenilo, 2-butenilo, 1 , 3 -pentadienilo , 1-hexenilo, 1-octenilo, decenilo y dodecenilo, especialmente alilo. Cuando R7 y R8 juntos son alquileno de C2-C6, entonces junto con el átomo de carbono al cual se encuentran unidos forman un anillo de cicloalquilo de C3-C7. El cicloalquilo de C3-C7 es, por ejemplo, ciclopropilo , ciclopentilo, ciclohexilo, cicloheptilo, especialmente ciclopentilo o ciclohexilo, preferiblemente ciclohexilo. RcRbC=CRa- es, por ejemplo, -CH=CH2 o -C(CH3)=CH2, preferiblemente -CH=CH2. Después de la aplicación del fotoiniciador , la pieza de trabajo puede ser almacenada o procesada inmediatamente de manera adicional, siendo aplicada por medio de la tecnología conocida, ya sea (preferida) un recubrimiento curable por radicación que contenga enlaces et lénicamente insaturados, o un recubrimiento que seque/cure de alguna manera, por ejemplo una tinta de impresión. Esto puede ser efectuado por medio de vaciado, inmersión, rocío, recubrimiento, aplicación con cuchilla, aplicación con rodillo o recubrimiento por centrifugación. Los compuestos insaturados de la composición curable por radiación pueden contener uno o más enlaces dobles etilénicamente insaturados. Ellos pueden ser de peso molecular más bajo (monoméricos ) o de peso molecular más alto (el igoméricos ) . Los ejemplos de monómeros que tienen un enlace doble son acrilatos y metacrilatos de alquilo de - Irrdro Tcrrqrrricr; pcrr~ -ejT m iTO a-cxüra-tro de metrio , et±tcr bu ilo, 2-etilhexilo y 2-hidroxietilo, acrilato de isobornilo y metacrilato de metilo y etilo. También de interés en los acrilatos de silicón. Los ejemplos adicionales son el acrilonitrilo, acrilamida, metacrilamida, (met) acrilamidas sustituidas en el átomo de N, esteres de vinilo, como el acetato de vinilo, vinil éteres, como el isobutil vinil éter, estireno, alquil- y halo-estirenos , N-vinilpirrolidona , cloruro de vinilo y cloruro de vinilideno. Los ejemplos de monómeros que tienen más de un enlace doble son el diacrilato de etilen glicol, diacrilato de 1 , 6 - hexandiol , diacrilato de propilen glicol, diacrilato de dipropilen glicol, diacrilato de tripropilen glicol, diacrilato de neopentil glicol, diacrilato de hexametilen glicol y diacrilato de bisfenol-A, 4 , 4 ' -bis (2-acriloiloxi-etoxi ) difenilpropano, triacrilato de trimet i lolpropano , triacrilato de pentaeritritol, triacrilato de pentaeritritol, acrilato de vinilo, divinilbenceno , succinato de divinilo, ftalato de dialilo, fosfato de trialilo, isocianurato de trialilo, triacrilato de isocianurato de tris (hidroxietilo) (Sartomer 368; de Cray Valley) e isocianurato de tris (2-acriloiletilo) . También es posible en los sistemas curables por radiación usar esteres acrílicos de polioles alcoxilados, por ejemplo triacrilato de etoxilato de glicerol, triacrilato de p-ropo-x±icrto de gd±rrero± t a-crr-ato de tr-rmetircdr--propaneetoxilato, triacrilato de trimetilolpropanpropoxilato, tetraacrilato de etoxilato de pentaeritritol , triacrilato de propoxilato de pentaeritritol, tetraacrilato de propoxilato de pentaeritritol, diacrilato de etoxilato de neopentil glicol o diacrilato de propoxilato de neopentil glicol. El grado de alcoxilación de los polioles usados puede variar. Los ejemplos de compuestos poliinsaturados (ol igoméricos) de peso molecular más alto son resinas epoxi acriladas, poliésteres, pol iuretanos , y poliéteres que contienen grupor vinil-éter o epoxi acrilatos. Los ejemplos adicionales de oligómeros insaturados son resinas de poliéster insaturados, las cuales usualmente son producidas a partir de ácido maleico, ácido itálico y uno o más dioles y tienen pesos moleculares de aproximadamente 500 a 3000. Además, también es posible usar monómeros y oligómeros de viniléter, y también oligómeros terminados en maleato que tengan cadenas principales de poliéster, poliuretano, poliéter, pol iviniléter y epoxido. En particular, las combinaciones de oligómeros y polímeros que contiene grupos viniléter, como se describe en la WO 90/01512, son muy adecuados, pero los copol meros de monómeros funcionalizados con ácido maleico y vinil éter también entran en consideración. Esos oligómeros insaturados también pueden ser llamados prepolímeros . Especialmente adecuados son , por e ernplo , l s-éceres de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y los polioles o pol iepóxidos , y polímeros que tienen grupos e ilénicamente insaturados en la cadena o en grupos laterales, por ejemplo, poliésteres insaturados, poliamidas y poliuretanos y copol ímeros de los mismos, resinas alquídicas, polibutadieno y copol ímeros de butadieno, poliisopreno y copolímeros de isopreno, polímeros y copolímeros que tienen grupos (met ) acrílieos en las cadenas laterales, y también mezclas de uno o más de esos polímeros. Los ejemplos de ácidos carboxílicos insaturados son el ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido crotónico, ácido itacónico, ácido cinámico y ácidos grasos insaturados como el ácido linolénico o ácido oleico. El ácido acrílico y metacrílico son los preferidos. Los polioles adecuados son aromáticos y especialmente polioles alifáticos y cicloalifáticos . Los ejemplos de polioles aromáticos son la hidroquinona, 4,4'-dihidroxidifenilo , 2 , 2 -di ( 4 -hidroxifenil) propano , y novolks y resoles. Los ejemplos de pol iepóxidos son aquéllos basados en los polioles, especialmente los polioles aromáticos y epicorohidrina . También adecuados como polioles son los polímeros y copolímeros que contienen grupos hidroxilo en la cadena polimérica o en grupos laterales, por ejemplo alcohol polivinílico y copolímeros del mismo o hidroxialquilésteres -de—ácido—pol ime^crí1 ico—o—eepol ímcroo—de—loo mismos .—Lcrs~ polioles adecuados adicionales son oligoásteres que tienen grupos terminales hidroxilo. Los ejemplos de polioles alifáticos y cicloalifáticos incluyen a los alquilendioles que tienen pre eriblemente de 2 a 12 átomos de carbono, como el etilen glicol 1,2- ó 1 , 3 -propandiol , 1,2-, 1,3- ó 1 , 4 -butandiol , pentandiol, hexandiol , octandiol, dodecandiol, dietilen glicol, trietilen glicol, polietilen glicoles que tienen pesos moleculares preferiblemente de 200 a 1500, 1,3-ciclo-pentandiol, 1,2-, 1,3- ó 1 , 4 - ciclohexandiol , 1,4-dihidroximetilciclohexano, glicerol, tris(p.-hidroxietil ) amina , trimetiloletano , trimetilolpropano , pentaeritritol , dipentaeritritol y sorbitol. Los polioles pudieron haber sido esterificados parcial o completamente por uno o por diferentes ácidos carboxí lieos insaturados, haciendo posible que los grupos hidroxilo libres en los ésteres parciales hayan sido modificados, por ejemplo eterificados o esteri icados por otros ácidos carboxílicos . Los ejemplos de ésteres son: Triacrilato de trimetilolpropano, triacrilato de trimetiloletano, trimetacrilato de trimetilolpropano, trimetacrilato de trimetiloletano, dimetacri lato de tetrametilen glicol, dimetacrilato de trietilen glicol, id i irato de t^ra^t??et? gtreoir; d±HcTrxa~ o" de" pentaeritritol, triacrilato de pentaeritritol, tetraacrilato de pentaeritritol , diacrilato de dipentaeritritol , triacrilato de dipentaeritritol, tetraacrilato de dipentaeritritol, pentaacrilato de dipentaeritritol, hexaacrilato de dipentaeritritol, octacrilato de tripentaeritritol , dimetacrilato de pentaeritritol, trimetacrilato de pentaeritritol, dimetacrilato de dipentaeritritol, tetrametacrilato de dipentaeritritol, octametacrilato de tripentaeritritol , diitaconato de pentaeritritol, trisitaconato de dipentaeritritol, pentaitaconato de dipentaeritritol, hexaitaconato de dipentaeritritol, diacrilato de etilen glicol, diacrilato de 1.3 - butandiol , dimetac ilato de 1 , 3 - butandiol , diitaconato de 1.4 - butandiol , triacrilato de sorbitol, tetraacrilato de sorbitol, triacrilato de pentaeritritol modificado, tetraacrilato de sorbitol, pentaacrilato de sorbitol, hexaacrilato de sorbitol, acrilatos y metacrilatos de oligoéster, di- y tri-acrilato de glicerol, diacrilato de 1 , 4 -ciclohexano , bisacrilatos y bismetacrilatos de polietilen glicol que tienen un peso molecular de 200 a 1500, y mezclas de los mismos. También adecuados como un componente son las amidas de ácidos carboxílicos insaturados idénticos o diferentes y poliaminas aromáticas, cicloal ifáticas y alifáticas que tienen preferiblemente de 2 a 6 , especialmente de- -2—a—4r-,—gru os—amisto-:— h&a—ej cm r&e—de esas—oliámi-íias—son-la etilendiamina , 1,2- ó 1 , 3 -propilendiamina, 1,2-, 1,3- ó 1 , 4 -but ilendiamina , 1 , 5 -pentilendiamina , 1 , 6 -hexi lendiamina , octilendiamina , dodecilendiamina , 1 , 4-diamino-ciclohexano, isoforondiamina , fenilendiamina , bisfenilendiamina , di-ß-aminoetil éter, dietilentriamina , trietilentetramina y di (ß-aminoetoxi) - y di (ß-aminopropoxi) -etano. Las poliamidas adecuadas adicionales son polímeros y copolímeros los cuales pueden tener grupos amino adicionales en la cadena lateral y oligoamidas que tienen grupos terminales amino. Los ejemplos de esas amidas, insaturadas son: metilen bisacrilamida , 1,6-hexametilen bisacrilamida, dietilentriamin trismetacrilamida, bis (metacrilamidopropoxi ) etano, metacrilato de ß-metacril-amidoetilo y N- [ (ß-hidroxietoxi ) etil] -acrilamida . Los polímeros y poliamidas insaturadas adecuadas son derivadas, por ejemplo de ácido maleico, y dioles o diaminas. El ácido maleico pudo haber sido reemplazado parcialmente por otros ácidos dicarboxí1 icos . Ellos pueden ser usados junto con comonómeros e ilénicamente insaturados, por ejemplo estireno. Los poliésteres y poliamidas también pueden ser derivados de ácidos dicarboxí1 icos y dioles o diaminas etilénicamente insaturadas, especialmente de aquellas que tienen cadenas más largas de, por ejemplo 6 a 20 átomos de carbono. Los ejemplos de poliuretanos son aquellos compuestos de diisocianatos saturados y diioles insaturados o diisocianatos insaturados y dioles saturados.

El pol ibutadieno y el poliisopreno y copolíeros de los mismos son conocidos. Los comonómeros adecuados incluyen, por ejemplo, olefinas, como el etileno, propeno, buteno, hexeno, (met ) acrilatos , acrilonitrilo, estireno y cloruro de vinilo. Los polímeros que tienen grupos (met ) acrilato en la cadena lateral son igualmente conocidos. Los ejemplos son productos de reacción de resinas epoxi basadas en novolak-con ácido (met ) acrí 1 ico ; homo- o co-pol ímers de alcohol vinílico o derivados de hidroxialquilo de los mismos que han sido esterificados con ácido (met) acrílico ,- y homo- y co-polímers de (me ) acrilatos que han sido esteriEicados con (met ) acrilatos de hidroxialquilo. En el contexto de la presente Solicitud el término (met ) acrilato incluye al acrilato y el metacrilato. Un compuesto de acrilato y metacrilato es usado especialmente como el compuesto mono- o polietilénicamente insaturado . Se da preferencia muy especial a los compuestos de acrilato pol i insaturados , como aquellos que han sido mencionados anteriormente. Se da preferencia especial a un proceso donde al menos uno de los monómeros y oligómeros etilénicamente insaturados de la composición curable por radiación es un a~cT~rl~a~t ?~ ?~meta i irato-morro^-d ^;—t-rir—o—te-b^ra—f-un-e^i-en lr-. La composición, además de comprender al menos un monómero u oligómero etilénicamente insaturado, preferiblemente comprende al menos un fotoiniciador o coiniciador adicional para el curado con radiación UV/VIS. La invención por lo tanto se relaciona también con un proceso donde el paso del proceso di) una composición fotopolimeri zable , que comprende al menos un monómero y/u oligómero etilénicamente insaturado y al menos un fotoiniciador y/o coiniciador, es aplicada al sustrato pretratado y curada por medio de radiación UV/VIS. En el contexto de la presente invención, debe comprenderse que la radiación UV/VIS es una variación electromagnética de un intervalo de longitud de onda de 150 nm a 700 nm . Se da preferencia al intervalo de 250 nm a 500 nm. Las lámparas adecuadas son conocidas por aquellos expertos en la técnica y se encuentran comercialmente di sponibles . La fotosensibilidad en las composiciones de acuerdo al paso del proceso di) usualmente se extiende de aproximadamente 150 nm hasta aproximadamente 600 nm (campo de UV) . Puede ser usado un gran número de los tipos más variados de fuentes de luz. Las fuentes puntuales y los radiadores de forma plana (arreglos de lámparas) son adecuados. Los ejemplos son; lámparas de arco de carbón, lámparas de arco de xenórrv rad'Tcrdcres—de—tnerrrtario—mod-i-f-tead&s—de—p-r-esi-éfi.—raed-ira-r resión super alta, presión alta y presión baja modificados, donde sea apropiado, con haluros de metal (lámparas de haluro de metal), lámparas de vapor de metal excitadas por microondas, lámparas exciméricas, tubos fluorescentes superactínicos , lámparas fluorescentes, lámparas incandescentes de argón, lámparas de bolsillo, lámparas reflectoras fotográficas, diodos emisores de luz (LED) , haces de electrones y rayos X. La distancia entre la lámpara y el sustrato ha ser irradiado puede variar de acuerdo al uso pretendido y del tipo y fuerza de la lámpara y puede ser, por ejemplo, de 2 cm a 150 cm. También adecuadas son las fuentes de luz láser, por ejemplo láseres exciméricos, como láseres de Krypton-F para irradiación a 248 nm. También pueden ser usados láseres en el intervalo visible. Este método puede ser usado para producir circuitos impresos en la industria electrónica, placas de impresión por offset o placas de impresión en relieve y también materiales para registrar imágenes fotográficas. La descripción anterior de las fuentes de irradiación adecuadas se relaciona con el paso de irradiación c) (fijación del fotoiniciador) en el proceso de acuerdo a la invención y el procedimiento del paso del proceso d) (curado de la composición fotocurable) . El curado de la composición aplicada en el paso del proceso ^lJ__o^2j_^ue^de_,_ dern_s.-,—se-r— 1-1evade- a—eabo-d^^gü l rr.cdo con luz de día o con fuentes de luz equivalentes a la luz del día. De manera ventajosa la dosis de radiación usada en el paso del proceso c) es por ejemplo de 1 a 1000 mJ/cm2, como 1-800 mJ/cm2, o, por ejemplo, 1-500 mJ/cm2, por ejemplo de 5 a 300 mJ/cm2, preferiblemente de 10 a 200 mJ/cm2. Como fotoiniciador en las composiciones curables por radiación de acuerdo al paso del proceso di) es posible usar compuestos de fórmula I o la o cualesquier iniciadores o sistemas iniciadores conocidos en la técnica anterior. En aquellas composiciones se da preferencia al uso de fotoiniciadores con grupos insaturados . Más adelante son mencionados ejemplos típicos, los cuales pueden ser usados solos o en mezcla entre sí. Por ejemplo, benzofenonas , derivados de benzofenona, acetofenona, derivados de acetofenona, por ejemplo -hidroxiciclo-alquilfenil cetona o 2 -hidroxi -2 -met il - 1 - fenil-propanona , dialcoxiacetofenonas , a-hidroxi- o a-amino-acetofenonas , por ejemplo (4 -metil iobenzoil ) - 1 -metil - 1-morfol ino-etano , (4-morfolino-benzoil ) - 1 -bencil - 1 -dimetilamino -propano , (4-metil-tiobenzoil) -1-metil-l-morfolino-etano, ( -morfol ino-benzoil ) -1- ( -meti1 -bencil ) - 1 -dimetilamino-propano, 4-aroil-l, 3-dioxolanos, benzoin alquil éteres y bencil cetales, por ejemplo bencil dimetil cetal, fenilglioxalatos y derivados de os mismos, fenilglioxalatos diméricos, óxidos de monoacilfosfina , por ejemplo óxido de (2,4,6-trime ilbenzoil ) - fenil - fosfina , óxidos de bisacilfosfina, por ejemplo óxido de bis ( 2 , 6 -dimetoxibenzoil ) - (2 , 4 , - trimetil -pen - 1- il ) fosf ina, óxido de bis ( 2 , , 6 - trimet ilbenzoil )- fenil -fosfina o óxido de bis (2 , 4 , 6 -trimetilbenzoil ) - (2 , 4 -dipentiloxifenil ) fosf ina, óxido de trisacilfosfina , coompuestos de ferroceno o titanocenos, por ejemplo diciclopentadienil -bis (2 , 6 -di fluoro - 3 -pirrólo- fenil ) -titanio y sales de borato. Como coiniciadores entran en consideración, por ejemplo, sensibilizadores los cuales pueden cambiar o ampliar la sensibilidad espectral y de este modo llevar a cabo una aceleración de la fotopolimerización . Ellos son especialmente compuestos de carbonilo aromáticos, por ejemplo benzofenona, tioxantona, especialmente isopropil tioxantona, antraquinona y derivados de 3 - ac i lcumarinaa , terfenilos, estiril cetonas, y también 3 - (aroilmetilen) -tiazolinas , canforquinona , y también eosina, rodamina y tintes de eritrosina. Las aminas, por ejemplo, también pueden ser consideradas como fotosensibl izadores cuando la capa de fotoiniciador injertada de acuerdo a la invención consiste de benzofenona o un derivado de benzofenona. Los ejemplos adicionales de fotosensibilizadores 1. Tioxantonas Tioxantona 2 -isopropiltioxantona, 2- clorotioxantona, 2 -dodeciltioxantona , 2 , 4 -dietiltioxantona, 2 , 4 -dimetiltioxantona , 1-metoxicarboniltioxantona, 2-etoxi- carboniltioxantona, 3 - (2 -raetoxietoxicarbonil ) - ioxantona , 4- butoxicarbonil tioxantona, 3 -butoxicarbóni 1 - 7 -metil tioxantona , 1 -ciano- 3 -cloro ioxantona , 1 - etoxicarbonil -3 -cloro ioxantona , 1 -etoxicarbonil- 3 -etoxi ioxantona, 1 -etoxicarbonil -3 - aminot ioxantona , 1 - etoxicarbonil - 3 - feni lsul furi lt ioxantona , 3 , -di [2 - (2-metoxietoxi ) etoxicarbonil ] tioxantona , 1 - etoxicarbonil -3 - ( 1 -metil - 1 -morfolinoetil) -tioxantona, 2- metil-6-dimetoximetil-tioxantona, 2-metil-6- (1, 1-dimetoxi- bencil )- ioxantona , 2 -morfolinometiltioxantona, 2-metil-6- morfol inometil tioxantona , N-alil ioxanton-3 , 4 -dicarboximida , N-octiltioxanton-3 , 4 - dicarboximida , N- (1, 1,3,3- tetrametilbutil ) - ioxanton- 3 , 4 -dicarboximida , i- fenoxitioxantona , 6-etoxicarbonil-2-metcxitioxantona, 6- e oxicarbonil -2 -metil t ioxantona , tioxanton-2 -polietilen glicol éster, cloruro de 2 -hidroxi - 3 - (3 , 4 -dimet il - 9-oxo- 9H- t ioxanton-2 - iloxi) -N, , N- trimet il - 1-propanaminio ; 2. Benzofenonas Benzofenona , 4 - fenilbenzofenona , 4- metoxibenzofenona 4,4' -dimetoxibenzofenon , 4,4'- 77"4-'" -dimetil - aminobenzofenona 4,4' -dietilaminobenzofenona 4-metilbenzofenona, 2 , 4 , 6 - 1 rimet ilbenzofenona , 4- (4 metilt iofenil ) -benzofenona , 3,3' -dime il -4 -metoxibenzofenona benzoato de metil -2 -benzoil , 4 - ( 2 -hidroxietiltio) benzofenona, 4 - (4 -toliltio) benzofenona , cloruro de 4-benzoil N, N, -trimetilbencenmetanaminio, monohidrato de cloruro de 2 hidroxi-3- (4 -benzoilfenoxi) -N , N , N- trimetil - 1 -propanaminio , 4 (13-acriloil-l,4, 7 , 10, 13 -pentaoxatridecil ) -benzofenona , cloruro -de 4 -benzoil -N , N-dimetil -N- [2 - ( 1 -oxo - 2 -propenil ) oxi etil -bencenmetanaminio ; 3. 3 -Acilcumarinas 3 -Benzoilcumarinas , 3 -benzoil -7 -metoxicumarina, 3 benzoil-5,7-di (propoxi ) cumarina , 3 -benzoil -6 , 8 diclorocumarina , 3 -benzoil - 6 - clorocumarina , 3 , 3 ' -carbonil bis [5, 7-di (propoxi ) cúmarina] , 3,3' -carbonil -bis ( 7 metoxicumarina) , 3 , 3 ' -carbonil - bis ( 7 -die ilaminocumarina) , 3 isobutiroilcumarina , 3 -benzoil - 5 , 7 -dimetoxicumarina , 3 benzoil-5, 7 -dietoxicumarina , 3 -benzoil -5,7- dibutoxicumariña 3 -benzoil - 5 , 7-di (metoxietoxi ) -cumarina , 3 -benzoi 1 -5,7 di (aliloxi) cumarina, 3-benzoil-7-dimetilaminocumarina, 3 benzoil - 7 -die ilaminocumarina , 3 - isobu i oil - 7 dimetilaminocumarina, 5, 7 -dimetoxi - 3 - (1-napftoil) -cumarina 5 , 7 -dime oxi -3- (1-naftoil) -cumarina , 3 -benzoilbenzo [f ] cuma r-in¿, 7—d-ieti-tairti o-5 =irrencr±icnrnariria^ T4~ cianobenzoil ) - 5 , 7 -dime oxicumarina ; 4. 3 - (Aroilmetilen) - tiazolinas 3-Metil-2 -benzoilmet i ?ß?-ß-naftotiazolina , 3 -metil - 2 -benzoilme i len-benzot iazol ina , 3-etil-2 -propionilmet ilen-ß -naf totiazolina ; 5. Otros compuestos de carbonilo Acetofenona, 3 -metoxiacetofenona , 4-fenilacetofenona , bencilo, 2 -acetilnaftaleno, 2 -naf aldehido , 9 , 10-antraquinona, 9 - fluorenona , dibenzosuberona , xantona, 2 , 5 -bis (4 -dietilaminobencilideno) ciclopentanona , a- (para-dimetilaminobenciliden) cetonas , como la 2 - (4 -dimetilamino-benciliden) -indan- 1 -ona o 3 - (4 -dimetilarnino- fenil ) - 1 - indan-5 -i i -propenona , 3 - feni ltioftal imida , N-metil -3 , 5-di (etiltio) - talimida, N-metil-3,5-di (etiltio) ftalimida. Además de aquellos aditivos también es posible que la composición curable por radiación comprenda aditivos adicionales, especialmente fotoestabilizadores . La naturaleza y cantidad de esos aditivos adicionales es gobernada por el uso pretendido del recubrimiento en cuestión y será familiar a aquellos expertos en la técnica. Las composiciones también pueden ser pigmentadas cuando se elija un fotoiniciador adecuado, siendo posible que sean usados pigmentos coloreados así como pigmentos blancos. Las composiciones pueden ser aplicadas en espesores de capa de aproximadamente 0.1 µ?t? hasta aproximadamente 1000 µ?t?, especialmente de 1 µ?? a 100 µp?. En el intervalo de espesores de capa bajo < 50 µt?, las composiciones pigmentadas por ejemplo, también son referidas como tintas de impresión. Como fotoestabilizadores es posible agregar absorbentes de UV, por ejemplo aquellos del tipo del hidroxi -fenilbenzotriazol , hidroxifenilbenzofenona , amida de ácido oxálico o hidroxifenil -s-triacina . Esos compuestos pueden ser usados solos o en forma de mezclas, con o sin el uso de aminas impedidas estéricamente (HALS) . Los ejemplos de esos absorbentes de UV y fotoestabilizadores son 1. 2- (2 ' -Hidroxifenil) -benzotriazoles , por ejemplo 2 - (2 ' -hidroxi -51 -metilfenil) -benzotriazol , 2-(3',5'-di-ter-butil-2 ' -hidroxifenil ) -benzotriazol , 2 - ( 5 ' -ter-butil -2 ' -hidroxi fenil ) -benzo- triazol , 2 - ( 2 ' -hidroxi -5' -(1,1,3,3-tetramet ilbutil ) -fenil) -benzotriazol, 2- (3 ' ,5' -di-ter-bu il-2 ' -hidroxifenil ) -5 -elorobenzotriazol , 2 - ( 3 ' - ter-butil -2 ' -hidroxi -5 ' -metilfenil) - 5- clorobenzotriazol , 2 - ( 31 - sec-butil -5 '-ter- butil-2' -hidroxifenil ) -benzo riazol , 2 - ( 2 ' -hidroxi -4 ' -octiloxifenil ) -benzotriazol, 2- (31 , 5 ' -di-ter-amil-2 ' -hidroxi enil) -benzotriazol , 2-(3',5'-bis(a, a-dimetilbencil ) - 2 ' -hidroxifenil ) benzotriazol , mezcla de 2- (3 ' -ter-butil-2 ' -hidro i - 51 - (2 -octiloxicarboniletil ) fenil ) - 5 -clorobenzo-tri zol, 2 - (31 -ter-butil-5' - [2 - (2 -etilhexiloxi ) carboniletil ] -21 -hidroxi fenil ) - 5 - clorobenzo riazol , 2 - ( 3 ' - ter-butil -2 ' -hidroxi - 51 - ( 2 -metoxicarboniletil ) fenil ) - 5 -clorobenzotriazol , 2 - (31 -ter-bu il-2 ' -hidroxi -5 ' - (2 -metoxicarbonile il ) fenil ) -benzotriazol , 2 - ( 31 - ter-butil - 2 ' -hidroxi - 51 - (2 -oct iloxicar-boniletil) fenil) -benzotriazol , 2- (31 -ter-butil-5 ' - [2 - (2-etil-nexiloxi ) carboniletil ] - 2 ' - hidroxi fenil ) -benzotriazol , 2 - ( 3 ' -dodecil-21 -hidroxi-51 -metilfenil) -benzotriazol y 2- (3 '-ter-butil -21 -hidroxi - 5 ' - (2 - i sooct i loxicarboniletil ) - fenil -benzo-triazol, 2 , 21 -met ilen-bis [4 - ( 1 , 1 , 3 , 3 - tetramet ilbut il ) - 6 -benzotriazol - 2 - il - fenol ] ; el producto de la transesterif icación de 2 - [3 ' - er -but il - 1 - ( 2 -metoxicarboniletil) -21 - hidroxi enil ] -benzotriazol con polietilen glicol 300; [R- CH2CH2 - C00 ( CH2 ) 3] 2 - donde R = 3 ' -ter-but il -4 ' -hidroxi - 51 -2H-benzotriazol -2-il-fenilo. 2. 2 -Hidroxibenzofenonas , por ejemplo derivados de -hidroxi, 4-metoxi, 4-octiloxi, 4-deciloxi, 4 -dodeciloxi , 4-benciloxi , 4 , 2 ' , 41 -trihidroxi o 2 ' -hidroxi-4 , 4 ' -dimetoxi . 3. Esteres de ácidos benzoicos no sustituidos y sustituidos , por ejemplo salicilato de 4 -ter-butil - fenilo, salicilato de fenil, salicilato de octilfenilo, dibenzoil resorcinol, bis (4 -ter -butilbenzoil) resorcinol , benzoilresorcinol , ácido 3 , 5 -di - ter - but i 1 - 4 - hidroxibenzoico , ' "hexadecil ester del acido 3,5-di - ter-butil -4 -hidroxibenzoico, octadecil éster del ácido 3 , 5 - di - ter-but il - 4 -hidroxibenzoico, -tnetil-4 , 6-di-ter-butilfenil éster del ácido 3 , 5 - di -ter-butil - 4 -hidroxibenzoico. 4. Acrilatos , por ejemplo etil éster o isooctil éster del ácido a-ciano- ß , ß -di fenilacrí1 ico , metil éster del ácido -metoxicarbonilcinámico , metil éster o butil éster del ácido a-ciano^-metil-p-metoxicinámico, metil éster del ácido a-metoxicarbonil-p-metoxicinámico, N- (ß-metoxicarbonil -ß-cianovinil) - 2 -met il - indol ina . 5. Aminas impedidas estéricamente , por ejemplo sebacato de bis (2 , 2 , 6 , 6- etrametilpiperidilo) , succinato de bis ( 2 , 2 , 6 , 6 - etramet ilpiperidilo) , sebacato de bis ( 1 , 2 , 2 , 6 , 6 -pentametilpiperidilo) , bis ( 1 , 2 , 2 , 6 , 6 -pentametilpiperidil ) éster de ácido n-but il - 3 , 5 -di - er-butil -4 -hidroxibencilmalónico , el producto de la condensación de 1-hidroxietil - 2 , 2 , 6 , 6 - tetrame il -4 -hidroxipiperidina y ácido succínico, el producto de condensación de N, N ' -bis (2 , 2 , 6 , 6-tetrame il -4-piperidil ) hexametilendiamina y 4 - ter- oct i lamino-2 , 6 -dicloro- 1 , 3 , 5 - s- triacina , nitrilotriace tato de tris (2 , 2 , 6 , 6 - t e rame i 1 - 4 -piperidilo) , tetracis (2 , 2 , 6 , 6 -tetramet il -4 -piperidil ) -1,2,3, 4 -butantetraoa o , 1 , 1 ' - (1 , 2 -etandiil) bis (3 , 3 , 5 , 5 -tetramet ilpiperacinona) , 4-benzoil-2,2,6,6 - et ame i lpiperidina , 4 -esteariloxi-2 , 2,6,6-tetrametilpiperidina, malonato de bis ( 1 , 2 , 2 , 6 , 6 -peneamet i lpiperidil ) - 2 - n- bu il - 2 - ( 2 - hidroxi - 3 , 5-di-ter-bu ilbencilo) , 3 -n-octil-7 , 7 , 9 , 9 - etrame il - 1,3,8-triazaespiro [4.5] decan-2 , 4 -diona , sebacato de bis (1-octiloxi-2 , 2 , 6 , 6-tetrametilpiperidilo) , succinato de bis ( 1 -oc iloxi -2 , 2 , 6 , 6 - etrametilpiperidilo) , el producto de condensación de N,N'-bis(2,2,6,6 - te rame il -4 -pipe idil) hexame ilenodiamina y -morfol in- 2 , 6 -dicloro- 1 , 3 , 5 - triacina , el producto de condensación de 2 -cloro - 4 , 6 -di ( 4 -n-but ilamino-2 , 2 , 6 , 6 -tetramet i lpiperidil ) - 1 , 3 , 5 - triacina y l,2-bis(3-aminopropilamino) etano , el producto de condensación de 2- cloro- , 6 - di ( -n- but i lamino- 1,2,2,6,6 -pentame i lpiperidil ) -1 , 3 , 5 -triacina y 1 , 2 -bis ( 3 -aminopropilamino) etano , 8-acetil- 3 - dodecil -7,7,9, 9 - tetramet il - 1,3, 8-triazaespiro [4.5 ] decan- 2 , 4 - diona , 3 -dodecil -1- (2,2,6,6- tetrametil -4 -piperidil ) pirrolidin- 2 , 5 -diona , 3 -dodecil - 1 - ( 1 , 2 , 2 , 6 , 6 -pentamet il - -piperidil) pi rolidin-2 , 5 -diona . 6. Diamidas de ácido oxálico, por ejemplo 4,4'-dioctiloxioxanilida , 2 , 21 -dietoxioxanilida , 2 , 2 ' -dioctiloxi -5 , 5 ' -di -ter-butil oxanilida, 2 , 2 ' -didodeci loxi - 5 , 5 ' -di - ter-butil oxanilida, 2 -etoxi -2 ' -etil oxanilida, N,N'-bis(3-dime ilaminopro il ) oxalamida , 2-etoxi-5-tex-butil-2'-etil oxanilida y una mezcla de las mismas con 2 - etoxi - 21 -et il -5 , 4 ' -di -ter-butil oxanilida, mezclas de oxanilidas disustituidas o- y p-metoxi- y también o- y p-etoxi. 7. 2 - ( 2 -Hidroxifenil ) -1,3,5- triacinas , por ejemplo 2,4,6-tris (2 -hidroxi -4 -oct iloxi fenil ) -1,3, 5 - triacina , 2 - (2 -hidroxi -4 -oct ilo ifenil ) -4, 6-bis (2,4-dimetilfenil) - 1 , 3, 5 -triacma, 2 - (2 , 4 -dihidroxifenil) -4 , 6 - bis ( 2 , 4 - dimet il fenil ) -1,3,5-triacina, 2 , 4 -bis ( 2 -hidroxi -4 -propiloxifenil ) - 6 - (2,4-dimetilfenil) - 1 , 3 , 5-triacina, 2 -( 2 - hidroxi - 4 -oct iloxi fenil ) - , 6 -bis (4-metilfenil) -1,3, 5-triacina, 2 - ( 2 -hidroxi -4 -dodeciloxifenil ) -4,6-bis(2,4 -dimetilfenil ) -1,3,5-triacina, 2 -[2 -hidroxi -4 - ( 2 -hidroxi - 3 -but i loxipropi loxi ) fenil] -4,6-bis ( 2 , 4 -dimetilfenil ) -1,3, 5-triacina, 2 - [2 -hidroxi -4 - (2 -hidroxi -3 -oct iloxipropiloxi) fenil] -4,6-bisi2, 4 -dimet i lfenil ) -1,3, 5-triacina, 2 - [4 - (dodeci loxi/ trideciloxi -2 -hidroxipro i 1 ) oxi -2 -hidroxi fenil ] -4,6-bis(2, 4 -dime il fenil ) -1,3,5 - riacina . Además de los fotoestabilizadores mencionados anteriormente, también son adecuados otros estabilizadores, por ejemplo, como los fosfitos o fosfonitos. 8. Fosfitos y fosfonitos, por ejemplo fosfito de trifenilo, fosfitos de difenilalquilo, fosfitos de fenil-dialquilo, fosfito de tris (nonilfenilo) , fosfito de trilaurilo, fosfito de trioctadecilo , difosfito de distearil-pentaeritritol , fosfito de tris (2 , 4-di -ter-butilfenilo) , difosfito de diisodecilpenta-eritritol, difosfito de bis (2,4-di-ter-butilfenil) pentaeritritol , difosfito de bis(2,6-di-ter-butil -4 -metilfenil ) pentaeritritol , difosfito de bis-isodeciloxi -pentaeritritol , difosfito de bis (2 , -di -ter-buc ll - 6 -me í 1 fenil ) pentaeri ri ol , difosfito de bis(2,4,6-tri -ter-butilfenil ) pentaeritritol , trifosfito de tristearil scrbitol, difosfonito de tetracis (2 , 4 -di - ter-butil fenil ) -4,4' -bifenileno, 6-isooctilox -2 ,4,8, 10 - tetra - ter-but il - 12H-dibenzo [d, g] - 1 , 3 , 2 -dioxafosfocina, 6-fluoro-2 , 4 , 8 , 10-tetra-ter-bu il -12-metil -dibenzo [d, g] - 1 , 3 , 2 -dioxafosfocina , fosfito de bis (2 , 4-di- ter-butil-6-metilfenil) metil , fosfito de bis (2 , -di - er-bu il -6 -metil fenil) etil . Dependiendo del campo de uso, también es posible usar los aditivos acostumbrados en la técnica, por ejemplo, an iestáticos, mejoradores de flujo y promotores de la adhesión . Las composiciones aplicadas en el paso del proceso di) o d2) son, por ejemplo, recubrimientos superficiales pigmentados o no pigmentados, o no pigmentados, tintas, tintas de chorro de tinta; tintas de impresión, por ejemplo tintas de impresión por serigrafía, tintas offset, tintas de impresión lexográfica ; barnices de sobreimpresión; o imprimadores, o placas de impresión, placas de impresión por offset; recubrimientos en polvo, adhesivos o recubrimientos de reparación, barnices de reparación o composiciones de mastique de reparación. Las composiciones usadas en el paso del proceso di) no necesariamente comprenden un fotoiniciador , por ejemplo pueden ser las composiciones curables por haces de electrones acostumbradas (sin fotoiniciador) conocidas por los expertos en la técnica. Los sustratos pretratados de acuerdo con el proceso de la invención pueden en un paso adicional di) ser recubiertos con las composiciones fotocurables acostumbradas y curados con UV/VIS o un haz de electrones o d2 ) pueden ser provistos con un recubrimiento acostumbrado, como recubrimientos que sean secados, por ejemplo, en aire o térmicamente. El secado puede ser efectuado, por ejemplo, también por absorción, por ejemplo por penetración en el sustrato . El recubrimiento usado en el paso del proceso d2 ) es preferiblemente una tinta de impresión. Esas tintas de impresión son conocidas por los expertos en la técnica, son usadas ampliamente en la técnica y son descritas en la literatura. Ellas son, por ejemplo tintas de impresión pigmentadas y tintas de impresión coloreadas con tintes. Una tinta de impresión es, por ejemplo, una dispersión líquida o en forma de pasta que comprende colorantes o (pigmentos o tinges) , aglutinantes y también opcionalmente solventes y/u opcionalmente agua y aditivos. En una tinta de impresión líquida, el aglutinante y, si es aplicable, los aditivos son disueltos generalmente en un solvente. Las viscosidades acostumbradas en el viscosímetro de Brookfield son, por ejemplo, de 20 a 5000 mPa-s, por ejemplo de 20 a 1000 mPa-s, para tintas de impresión líquidas. Para tintas de impresión en forma de pasta, los valores fluctúan, por ejemplo de 1 a 100 Pa-s, preferiblemente de 5 a 50 Pa-s. El experto en la técnica estará familiarizado con los ingredientes y composiciones de las tintas de impresión. Los pigmentos adecuados, como las formulaciones de tinta de impresión acostumbradas en la técnica, son generalmente conocidos y ampliamente descritos . Las tintas de impresión comprenden pigmentos, venta osamente, en una concentración de, por ejemplo, del 0.01 al 40% en peso, preferiblemente del 1 al 25% en peso, especialmente del 5 al 10% en peso, sobre la base del peso total de la tinta de impresión. Las tintas de impresión pueden ser usadas como, por ejemplo, para la impresión intaglio, impresión flexográfica , impresión por serigrafía, impresión por offset, litográfia o impresión por chorro de tinta continua o por goteo o sobre material pretratado de acuerdo con el proceso de la invención usando las formulaciones generalmente conocidas, por ejemplo er. publicaciones, embalaje o transporte, en logística, en publicidad, en impresión de seguridad o en el campo del equipo de oficina. Las tintas de impresión adecuadas son tintas de impresión basadas en solvente y tintas de impresión basadas en agua. De interés son, por ejemplo, las tintas de impresión basadas en acrilato acuoso. Debe aprenderse que esas tintas incluyen polímeros o copolímeros que son obtenidos mediante la polimerización de al menos un monómero que contienen grupos y que son disueltas en agua o un solvente orgánico que contiene agua. Los solventes orgánicos adecuados son los solventes miscibles en agua acostumbrados usados por los expertos en la técnica, por ejemplo alcoholes, como el metanol, etanol e isómeros de propanol, butanol y pentanol, etilen glicol y éteres de los mismos, como el etilen glicol metil éter y etilen glicol etil éter, y cetonas, como la acetona, etil metil cetona o ciclo, por ejemplo isopropanol. El agua y el alcohol son los preferidos. Las tintas de impresión adecuadas comprende, por ejemplo, como aglutinante principalmente un polímero o copolímero de acrilato y el solvente es seleccionado, por ejemplo, del grupo que consiste de agua, alcoholes de C1-C5, etilen glicol, 2-(alcoxi de Ci-C5) -etanol , acetona, etil metil cetona y mezclas de los mismos. Además del aglutinante, las tintas de impresión también pueden comprender los aditivos acostumbrados conocidos por aquellos expertos en la técnica en las concentraciones acostumbradas. Para la impresión intaglio o flexográfica , una tinta de impresión usualmente es preparada mediante la dilución de un concentrado de tinta de impresión y puede entonces ser usada de acuerdo con los métodos conocidos per se. Las tintas de impresión pueden, por ejemplo, comprender también sistemas alquídicos que sequen de manera oxidativa. Las tintas de impresión son secadas en una forma conocida acostumbrada en la técnica, opcionalmente con el calentamiento del recubrimiento. La composición de tinta de inducción acuosa adecuada comprende, por ejemplo, un pigmento o una combinación de pigmentos como un dispersante y un aglut inante . Los dispersantes que entran en consideración incluyen, por ejemplo, los dispersantes acostumbrados, como los dispersantes solubles en agua basados en uno o más productos de condensación de ácido disul fónico/formaldehído o uno o más fenoles oxialquilados solubles en agua, dispersantes no iónicos o ácidos poliméricos. Los productos de condensación de ácido disul fónico/ formaldehído pueden ser obtenidos, por ejemplo, mediante la sulfonación de compuestos aromáticos, como el naftaleno en sí o mezclas que contengan naftaleno, la condensación posterior de los ácidos arilsulfónicos resultantes con formaldehído . Esos dispersantes son conocidos y descritos, por ejemplo, en la US-A-5 186 846 y la DE-A-197 27 767. Los fenoles oxialquialdos adecuados son igualmente conocidos y descritos, por ejemplo, en la US-A-4 218 218 y la DE-A-197 27 767. los dispersantes no iónicos adecuados, son por ejemplo, aductos de óxido de alquileno, productos de polimerización de vinilpirrolidona, acetato de vinilo o alcohol vinílico y co- o ter-pol ímeros de vinil pirrolidona con acetato de vinilo y/o alcohol vinílico. También es posible, por ejemplo, usar ácidos poliméricos que actúen como dispersantes y aglutinantes. Los ejemplos de componentes aglutinantes adecuados que pueden ser mencionados incluyen monómeros, prepolímeros y polímeros que contienen grupos acrilato, que contienen grupos vinilo y/o que contienen grupos epoxi y mezclas de los mismos. Los ejemplos adicionales son los acrilatos de melamina y acrilatos de silicón. Los compuestos diacrilato pueden ser modificados no iónicamente (por ejemplo provistos con grupos amino) o modificados iónicamente (por ejemplo provistos con grupos ácidos o grupos amonio) y en forma de dispersiones o emulsiones acuosas (por ejemplo la EP-A-704 469, EP-A-12 339) . Además, para obtener la viscosidad deseada los polímeros de acrilato sin solvente pueden ser mezclados con los llamados agentes reactivos, por ejemplo monómeros que contienen grupos reactivos. Los componentes aglutinantes adecuados adicionales son compuestos que contienen grupos epoxi . Las composiciones de tinta de impresión también pueden comprender como componente adicional, por ejemplo, ur. agente que tiene una acción que retiene agua (humectante) , por ejemplo alcoholes polihídricos , pciialquilenglicoles , los cuales hacen las composiciones especialmente adecuadas para la impresión por chorro de t inta . Se comprenderá que las tintas de impresión pueden comprender auxiliares adicionales, como lo son los especialmente acostumbrados para tintas de chorro de tinta (acuosas) y en las industrias de la impresión y recubrimiento, por ejemplo preservativos (como el glutardialdehí do y/o tetxametilolacetilenourea, an ioxidantes, degas i f icantes/desespumant es , reguladores de la viscosidad, mejoradores del flujo, agentes an isedimentación, mejoradores del brillo, lubricantes, promotores de la adhesión, agentes antipelícula, agentes de acoplamiento, emulsif icantes , estabilizadores, agentes hidrofóbicos , fotoestabi 1 i zadores , mejoradores de manipulación y antiestáticos . Cuando esos agentes están presentes en la composición, su cantidad total es generalmente <1% en peso, sobre la base del peso H la preparación .

Las tintas de impresión adecuadas en el paso de impresión d2 ) incluyen, por ejemplo, aquellas que comprenden un tinte (con un contenido total de tintes de por ejemplo 1 a 35% en peso, sobre la base del peso total de la tinta) . Los tintes adecuados para colorear esas tintas de impresión son conocidos por los expertos en la técnica y se encuentran ampliamente comercialmente disponibles, por ejemplo de Ciba Spezialitátenchemie AG, Basel . Esas tintas de impresión pueden comprender solventes orgánicos, por ejemplo solventes orgánicos miscibles en agua, por ejemplo alcoholes de amidas, cetonas o cetona alcoholes, éteres, compuestos heterocíel icos que contienen nitrógeno, polialquilen glicoles, alquilen de C2-C6 glicoles y tioglicoles, polioles adicionales, por ejemplo glicerol y alquil de Ci-C4 éteres de alcoholes pol ihídricos , usualmente en una cantidad del 2 al 30% en peso, sobre la base del peso total de la tinta. Las tintas de impresión también pueden, por ejemplo, comprender solubilizantes , por ejemplo, e-caprolactama . Las tintas de impresión pueden, ínter alia para el propósito de ajustar la viscosidad, comprender espesantes de origen natural o sintético. Los ejemplos de espesantes incluyen espesantes de alginato ccme c aÜJTiejabe d sponibles-r-éteres de almidón o éteres de harina de robma. Las tintas de impresión comprenden esos espesantes por ejemplo en una cantidad del 0.01 al 2% en peso, sobre la base del peso total de la tinta de impresión. También es posibles que las tintas de impresión comprendan sustancias amortiguadoras, por ejemplo, bórax, borato, fosfato, polifosfato o citrato, en cantidades, por ejemplo del 0.1 al 3% en peso, para establecer un valor de pH de, por ejemplo, 4 a 9, especialmente de 5 a 8.5. Como aditivos adicionales, esas tintas de impresión pueden comprender tensoactivos o humectantes. Los tensoactivos que entran en consideración incluyen tensoactivos aniónicos y no iónicos comercialmente disponibles. Los humectantes que entran en consideración incluyen, por ejemplo, urea o una mezcla de lactato de sodio (ventajosamente en forma de una solución acuosa del 50 al 60%) y glicerol y/o propilen glicol en cantidades de por ejemplo, 0.1 al 30% en peso, especialmente de 2 a 30% en peso, en las tintas de impresión. Además, las tintas de impresión también pueden comprender los aditivos acostumbrados, por ejemplo agentes reductores de espuma o especialmente sustancias que inhiben el crecimiento de hongos y/o bacterias. Esos aditivos son usados usualmente en cantidades del 0.01 al 1% en peso, sobre la base del peso total de la tinta de impresión. tintas de impresión también pueden preparadas en la forma acostumbrada mezclando los componentes individuales juntos, por ejemplo en la cantidad deseada de agua . Como ya se mencionó, dependiendo de la naturaleza del uso, puede ser necesario por ejemplo que la viscosidad u otras propiedades físicas de la tinta de impresión, especialmente aquellas propiedades que tienen influencia sobre la afinidad de la tinta de impresión por el sustrato en cuestión, sean adaptadas en consecuencia. Las tintas de impresión también son adecuadas, por ejemplo, para usarse en sistemas de registro del tipo en el cual una tinta de impresión es expulsada desde una abertura pequeña en forma de gotas, las cuales son dirigidas hacia un sustrato sobre el cual es formada una imagen. Los sustratos adecuados son, por ejemplo, materiales de fibra textil, papel, plásticos u hojas de aluminio pretratadas por el proceso de acuerdo a la invención. Los sistemas de registro adecuados son por ejemplo impresoras de chorro de tinta comerc ialmente disponibles. Se da preferencia a los procesos de impresión en los cuales se usan tintas de impresión acuosas. El proceso de acuerdo a la invención puede ser llevado a cabo dentro de una amplia gama de presiones, enviando las características de descarga a medida que la presión se incrementa de un plasma a baja temperatura puro hasta una descarga de corona y finalmente cambiando a una descarga de corona pura a una presión atmosférica de aproximadamente 1000-1100 mbar. El proceso es llevado a cabo preferiblemente a una presión de procese de 10^e mbar hasta la presión atmosférica (1013 mbar) , especialmente en el intervalo de 10"4 a 10"2 mbar como un proceso de plasma y a presión atmosférica como un proceso de corona. El tratamiento a la llama usualmente es llevado a cabo presión atmosférica. El proceso es llevado a cabo preferiblemente usando como gas de plasma un gas inerte o una mezcla de un gas inerte con un gas reactivo. Cuando es usada al descarga de corona, preferiblemente se usan aire, CO2 y/o nitrógeno como el gas. Se prefiere usar especialmente aire, H2 , C02 , He, Ar, Kr, Xe , N; , 02 o H20 solos o en forma de una mezcla. La capa fotoiniciadora depositada preferiblemente tiene un espesor que fluctúa de por ejemplo una capa monomolecular a 500 nm, especialmente de 5 nra a 200 nm. El tratamiento con plasma del sustrato inorgánico u orgánico a) preferiblemente toma lugar de 1 ras a 300 s, especialmente de 10 ms a 200 s. En principio, es ventajoso aplicar el fotoiniciador ta rápidamente como sea posible y después del tratamiento plasma, corona o a la llama, pero para muchos propósitos también puede ser aceptable llevar a cabo el paso de reacción b) después de un retraso de tiempo. Es preferible, sin embargo, llevar a cabo el paso del proceso b) inmediatamente después del paso del proceso a) o dentro de 24 horas después del paso del proceso a) . De interés es un proceso donde el paso del proceso c) es llevado a cabo inmediatamente después del paso del proceso b) o dentro de 24 horas después del paso del proceso b) . El sustrato pretratado o recubierto con el fotoiniciador puede ser sometido a un paso de proceso d) inmediatamente después del recubrimiento o secado de acuerdo con los pasos del proceso a) , b) y e) o puede almacenarse en la forma pretratada. El fotoiniciador, o donde sea aplicable la mezcla en una pluralidad de fotoiniciadores y/o coiniciadores, es aplicado al sustrato pretratado por corona, plasma o a la llama, por ejemplo en forma dura, es decir sin aditivos adicionales, o en combinación con un monómero u oligómero, o disuelto en un solvente. El iniciador, o la mezcla iniciadora, puede también, por ejemplo estar en forma fundida. El iniciador, o mezcla iniciadora, también puede por ejemplo, ser dispersada, suspendida o ernulsificada en agua, siendo agregado un dispersante cuando sea necesario. Por supuesto, también es posible usar cualquier mezcla de los componentes mencionados anteriormente , fotoiniciador , monómero , oligómero, solvente, agua. Los dispersantes adecuados, por ejemplo cualesquier compuestos tensoactivos , preferiblemente ¦ tensoactivos aniónicos y no iónicos, y también dispersantes poliméricos, son usualmente conocidos en la técnica y son descritos, por ejemplo, en la US 4 965 294 y la US 5 168 087. Los solventes adecuados son en principio cualesquier sustancias en las cuales el fotoiniciador , o los fotoiniciadores , pueden ser convertidos en un estado adecuado para la aplicación, si están en forma de una solución o en forma de una suspensión o emulsión. Los solventes adecuados son, por ejemplo, alcoholes, como el etanol, propanol, isopropanol, butanol , etilen glicol, etc, cetonas, como la acetona, metil etil cetona, acetonitrilo , hidrocarburos aromáticos, como el tolueno y xileno, ásteres y aldehidos, como el acetato de etilo, formiata de etilo, hidrocarburos alifáticos, por ejemplo éter de petróleo, pentano, hexano, ciclohexano, hidrocarburos alogenados, como el diclorometano , cloroformo, o alternativamente aceites, aceites naturales, aceite de risino, aceite vegetal, etc, y también aceites sintéticos. Esta descripción no se considera exhaustiva y se da únicamente a manera de ejemplo. Los alcoholes, agua, y ásteres son los preferidos. Los monómeros y oligómeros adecuados, son, por ejemplo, aquellos descritos anteriormente en relación con la composición fotocurable. La invención por lo tanto se relaciona también con un proceso donde los fotoinic iadores o mezclas de los mismos con monómeros u oligómeros son usados en combinación con uno o más líquidos (como solventes o agua) en forma de soluciones, suspensiones y emulsiones. También de interés es un proceso donde el fotoiniciador usado en el paso del proceso b) o la mezcla de fotoiniciadores es usada en forma fundida. Después del pretratamiento con plasma, corona o a la llama, es por lo tanto posible en el paso del proceso b) aplicar a la superficie pretratada, por ejemplo, 0.1-15%, por ejemplo 0.1-5 %, de un fotoiniciador que tenga un grupo insaturado o, por ejemplo, 0.1-15%, por ejemplo 0.1-5%, de un fotoiniciador, por ejemplo uno sin un grupo insaturado, y por ejemplo 0.5-10% de un monómero, como un acrilato, viniléter, etc. La aplicación de los fotoiniciadores o mezclas de los mismos entre sí o con monómeros u oligómeros, en forma masas fundidas, soluciones, dispersiones, suspensiones o emulsiones, puede llevarse a cabo de varias formas. La aplicación puede ser efectuada por inmersión, rocío, recubrimiento, aplicación con brocha, aplicación con cuchilla, aplicación con rodillo, impresión, recubrimiento por centrifugación o vaciado. En el caso de mezclas de fotoiniciadores entre sí o con coiniciadores y sensibilizadores, pueden ser usadas todas las relaciones de mezclado posibles. Cuando únicamente va a ser aplicado un fotoiniciador o mezcla de fotoiniciadores al sustrato pretratado, la concentración de aquellos iniciadores es, por supuesto del 100 %. Cuando los fotoiniciadores son aplicados en forma de mezclas con monómeros y/o solventes y/o agua en forma de líquidos, soluciones, emulsiones o suspensiones, ellos son usados, por ejemplo, en concentraciones de 0.01 a 99.9%, o 0.01-80 %, por ejemplo 0.1-50%, o 10-90%, sobre la base de la solución que esté siendo aplicada. Los líquidos que comprenden el fotoiniciador pueden, además, contener por ejemplo sustancias adicionales, como desespumantes, emulsif icantes , tensoactivos , agentes antisuciedad, agentes humectantes y otros aditivos comúnmente usados en la industria, especialmente las industrias de los recubrimientos y pinturas . Muchos posibles mécodos para secar recubrimientos son conocidos y pueden ser usados todos en el proceso reclamado. Por ejemplo, es posible usar gases calientes, radiadores de IR, microondas y radiadores de frecuencia, hornos y rodillos calientes. El secado también puede ser efectuado, por ejemplo, por absorción, por ejemplo penetración en el sustrato . Esto se relaciona especialmente con el secado en el paso del proceso c) , pero también se aplica al secado llevado a cabo en el paso del proceso d2 ) . El secado puede tomar lugar, por ejemplo, a temperatura de 0°C a 300°C, por ejemplo 20°C a 200°C. La irradiación del recubrimiento para fijar el fotoiniciador en el paso del proceso c) (y también para curar la formulación en el paso del proceso di) puede llevarse a cabo, como ya se mencionó anteriormente, usando cualquier fuente que emita ondas electromagnéticas de longitudes de onda que puedan ser absorbidas por los fotoiniciadores usados. Esas fuentes son generalmente fuentes de luz que emiten luz en el intervalo de 200 nm a 700 nm. También puede ser posible usar haces de electrones. Además de los radiadores y lámparas acostumbradas también es posible usar laceres y LED (Diodos Emisores de Luz) . Toda el área del recubrimiento o partes de la misma puede ser irradiada. La irradiación parcial es de ventaja cuando únicamente ciertas regiones van a volverse adherentes . La irradiación también puede ser llevada a cabo usando haces de electrones. El secado y/o irradiación puede ser llevada a cabo bajo aire o bajo un gas inherente. El gas nitrógeno entra en consideración como gas inerte, pero también pueden ser usados otros gases inertes, como C02 o argón, helio etc o mezclas de los mismos. Los sistemas y aparatos adecuados son conocidos por aquellos expertos en la técnica y se encuentran comercialmente disponibles La invención se relaciona también con aparatos para llevar a cabo el proceso de acuerdo a la invención los cuales, de acuerdo con el proceso descrito anteriormente, mejoran la adhesión de sus recubrimientos. Ellos incluyen al menos una unidad de tratamiento con plasma, unidad de tratamiento con corona o unidad de tratamiento a la llama, al menos una unidad de aplicación, al menos una unidad de secado y al menos una unidad de irradiación. La invención se relaciona también con el uso de fotomiciadores y sistemas de focoimcíadores en el proceso de acuerdo a la invención. La invención se relaciona también con recubrimientos fuertemente adherentes obtenibles de acuerdo con el proceso descrito anteriormente. Esos recubrimientos fuertemente adherentes son importantes no solo como capas o recubrimientos protectores, los cuales pueden adicionalmente ser pigmentados, sino también para recubrimientos para formar imágenes, por ejemplo en la tecnología de placas protectoras de impresión. En el caso de los procesos para formar imágenes, la irradiación puede ser efectuada a través de una máscara o por escritura usando haces láser móviles (Formación de Imágenes Directa con Láser-LDI) . Esa irradiación parcial puede ser seguida por un paso de revelado o lavado en el cual las porciones del recubrimiento aplicado son removidas por medio de solventes y/o agua o mecánicamente. Cuando el proceso de acuerdo a la invención es usado en la producción de recubrimientos para formar imágenes (formación de imágenes) , por ejemplo en la producción de placas de impresión o tableros de circuito electrónicos impresos, y el paso de información de la imagen puede ser llevado a cabo en el paso del proceso c) o en el paso del proceso d) . En el paso d) , dependiendo de la formulación de recubrimiento usada, el paso de formación de la imagen puede ser. una, reacción de reticulación, o de manera alternativa, una reacción en la cual la solubilidad de la formulación sea al erada . La invención por lo tanto se relaciona también con un proceso, donde porciones de los otoiniciadores , o mezclas de los mismos con monómeros y/u oligómeros, aplicados ene la paso del proceso b) que no ha sido reticulado después de la irradiación en el paso del proceso c) son removidos por tratamiento con solvente y/o agua y/o mecánicamente, y con un proceso donde después de la irradiación en el paso del proceso di) porciones del recubrimiento son removidas por tratamiento por solvente y/o agua y/o mecánicamente. También es posible usar procesos de formación de imágenes en cualquiera de los dos pasos del proceso c) y di) o en ambos pasos c) y di) en sucesión.

Los siguientes ejemplos ilustran mejor la invención pero no pretenden limitar la invención a los ejemplos. Aquí, como en el resto de la descripción y en las reivindicaciones, las partes y porcentajes se relacionan al peso, a menos que se indique otra cosa.

Ejemplo 1 El tratamiento con plasma es llevado a cabo en un reactor de plasma a 13.56 MHz y una salida variable de 10 a 100 W. Se usó una película de LDPE de 150 µ?? de espesor (LDPE Polietileno de Baja Densidad) como sustrato. Ese sustrato es expuesto a un plasma de argón/oxígeno (flujos de gas: 10 sectil de argón, 2.5 sccm de oxígeno) a una salida de 20 W durante 1 segundo a temperatura ambiente y una presión de 5 Pa . Entonces se admite aire y la muestra es removida. Se aplica una solución etanólica al 1% de fotoiniciador A que tiene la siguiente fórmula estructural al lado tratado de la película usando una cuchilla de µs? (Erichsen) . Las muestras son almacenadas durante un tiempo breve hasta que el alcohol sea evaporado y las ninest r s—so —secadas-—Ellas son entoncea—irraeü^daa usando utr procesador de UV (Fusión Sistems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 /cm a una velocidad de banda de 30 m/min. Se aplica una composición de acrilato de epoxi curable por radiación que consiste de 89% de Ebecryl® 604 (UCB) , 10% de SR© 344 (Sartomer), 1% de Ebecryl© 350 (UCB) y 2% de 2-hidroxi-2-metil-l-fenil-propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezialitátenchemie) usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µa? al sustrato así prerrecubiertos . Las muestras recubiertas son curadas en un procesador de UV (Fusión Sistems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La fuerza adhesiva es determinada cortando transversalmente el recubrimiento y desprendiendo una cinta adhesiva. En el caso de muestras no tratadas, el recubrimiento se rasga o rompe completamente. En las muestras tratadas con fotoiniciador , únicamente se desprenden fragmentos mínimos en los cortes transversales.

Ejemplo 2 El procedimiento es como en el Ejemplo 1, pero la solución etanólica es aplicada a una placa cuadriculada, de ~ra~" ' cual e~s ~ impresa por medió" "de üñ rodillo de caucho" giratorio a una velocidad de 10 m/min. Unicamente fragmentos mínimos de la mezcla pretratada con fotoiniciador se desprenden en los cortes transversales; la adición es excelente.

Ejemplo 3 El procedimiento es como en el Ejemplo 1, pero se usa una suspensión acuosa L del fotoiniciador descrito anteriormente, el cual es preparado como sigue: se disuelven 0.2% de T een 40 (monopalmitato de polioxietilen-20 sorbitan) en agua destilada. Se agregan 0.5% de fotoinitiator A a la solución resultante y la mezcla es agitada a 60°C durante una hora. El líquido turbio es enfriado y filtrado a través de un filtro de succión (papel filtro Macherey-Nagel MN615) . El secado se lleva a cabo usando una secadora manual y concluye después de unos cuantos segundos. La muestra tratada con fotoiniciado , únicamente se desprenden fragmentos mínimos en los cortes transversales; la adhesión es excelente.

Ejemplo 4 El procedimiento es como en el Ejemplo 2, pero es usada la suspensión acuosa L del Ejemplo 3. En la mezcla pretratada con fotoiniciador, únicamente se desprenden fragmentos mínimos en los cortes transversales; la adhesión es excelente.

Ejemplo 5 La película de LDPE del Ejemplo 1 es tratada con corona cuatro veces en aire usando un electrodo de cerámica (estación de corona manual tipo CEE 42-0-1 MD, ancho 330 mm, SOFTAL) a una distancia de aproximadamente 1-2 mm y a una salida de 400 W y una velocidad de tratamiento de 10 cm/s . La suspensión acuosa del Ejemplo 3 es aplicada al lado tratado de la película usando una cuchilla de 4 µ?t? (Erichsen) . Las muestras son secadas a 60°C durante 15 minutos. Se aplica una composición de acrilato de epoxi curable por radiación que consiste de 89% de Ebecril© 604 (UCB) , 10% de SR© 344 (Sartomer) , 1% de Ebecril® 350 (UCB) y 2% de 2 -hidroxi - 2 -metil - 1 - fenil -propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezialitátenchemie) usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µ?? al sustrato así prerrecubierto . Las muestras recubiertas son curadas en un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada por microondas y una salida de 120 /cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La fuerza adhesiva es determinada portando transversalmente el recubrimiento y desprendiendo una cinta adhesiva. En el caso de muestras no tratadas, el recubrimiento se desprende totalmente. Las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador y secadas, únicamente se desprenden fragmentos mínimos en los cortes en cruz.

Ejemplo 6 El procedimiento es como en el Ejemplo 5, pero, después del secado, se lleva a cabo una irradiación adicional . En las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador, secadas e irradiadas, únicamente se desprenden fragmentos mínimos en los cortes en cruz; la adhesión es excelente. No puede ser obtenida adhesión en las películas no t ratadas .

Ejemplo 7 El procedimiento es como en el Ejemplo 5, pero es usada una solución acuosa de 1% del iniciador que tiene la siguiente fórmula estructural . En la muestra que ha sido tratada con fotoiniciador y secada, únicamente se desprenden fragmentos mínimos en los cortes en cruz; la adhesión es excelente. No puede ser obtenida adhesión en las películas no tratadas.

Ejemplo 8 En un aparato que opera continuamente, es tratada una película de, _HPPE__ LEo_lie_ti,l,eno de Al a Densidad ; H ¾ len GF7740 F2; 40 µp? de espesor) sobre un ancho de 15 cm de rodillo a rodillo y a una velocidad de banda de 3 m/min. En una unidad de corona (Vetafone Coronaplus tipo TF-415 que tiene 4 electrodos, separados 1-2 mm) , la película es sometida a tratamiento a una salida de 27 W min/m2. Entonces es aplicada la suspensión L del Ejemplo 3 usando un mecanismo aplicador de rodillo (rodillo de acero pulido contra un rodillo de caucho) y entonces se seca a 60°C usando una unidad de secado que consiste de un fuelle de aire caliente y un difusor de aire de 80 cm de longitud, y la película es enrollada sobre un rodillo. Entonces se aplica una composición de acrilato de epoxi curable por radiación que consiste de 89% de Ebecril© 604 (UCB) , 10% de SR® 344 (Sartomer) , 1% de Ebecril© 350 (UCB) y 2% de 2 -hidroxi - 2 -met 11 - 1 - feni 1 -propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezial i átenchemie ) usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µ?? a porciones de la película. Las muestras recubiertas son curadas en un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La fuerza adhesiva es determinada por medio de una prueba de doblez o desprendiendo una cinta adhesiva. Para ese propósito, la película recubierta es doblada finamente varias veces hasta que aparezcan fisuras en el recubrimiento. La cinta adhesiva es aplicada y desprendida entonces. En el caso de las muestras no tratadas, el recubrimiento se desprende completamente. En las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador y secadas, no hay desprendimiento.

Ejemplo 9 El procedimiento es como en el Ejemplo 8 pero, además se lleva a cabo una irradiación después del secado y antes de que el sustrato tratado sea enrollado sobre un rodillo. Para ese propósito, una lámpara de UV (IST-Metz, M 200 Ul) que tiene una salida nominal de 120 /cm es operada a la mitad de su salida. La fuerza adhesiva es determinada por una prueba de doblez y desprendiendo una cinta adhesiva. En el caso de las muestras no tratadas, el desprendimiento se desprende completamente. Las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador , secadas e irradiadas, no hay desprendimiento. La película no se adhiere a sí misma sobre el rodillo.

Ejemplo 10 Una pieza de película de LDPE es tratada en una forma idéntica a lo descrito en el Ejemplo 8 siendo unida adhesivamente a la película de HDPE que pasa a lo largo. En el caso de las muestras no tratadas, el recubrimiento se desprende completamente. En las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador y secadas, no existe desprendimiento .

Ejemplo 11 En un aparato de plasma como se describió en el Ejemplo 1, se expone una película de PVC (400 µ? de espesor) a un plasma de argón/oxígeno (flujos de gas: 10 sccm de argón, 2.5 sccm de oxígeno) a una salida de 20 W durante 10 segundos a temperatura ambiente y una presión de 5 P . Entonces se admite aire y la muestra es removida. Es aplicada la suspensión acuosa L del Ejemplo 3 al lado tratado con plasma de la película usando una cuchilla de 4 µ?? y se seca en un gabinete de secado a 60°C durante minutos. Se aplica una composición de acrilato de epoxi curable por radiación que consiste de 89% de Ebecril® 604 (UCB) , 10% de SR® 344 (Sartomer) , 1% de Ebecril® 350 (UCB) y 2% de 2 -hidroxi - 2 -met il - 1 - fenil -propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezialit tenchemie) usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µp? al sustrato así prerrecubierto . Las muestras recubiertas son curadas en un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada por microondas y una salida de 120 /cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La fuerza adhesiva es determinada portando transversalmente el recubrimiento y desprendiendo una cinta adhesiva. En el caso de las muestras que han no sido tratadas el recubrimiento se desprende completamente. En las muestras que han sido pretratadas con con fotoiniciador y secadas, no existe desprendimiento cuando la cinta adhesiva es desprendida.

Ejemplo 12 En un aparato de plasma como se describió en el Ejemplo 1, es expuesta una película de PTFE ( Poli tetraf luoroetileno ; 250 µp? de espesor) a un plasma de argón/oxígeno (flujo de gas: 10 sccm de argón, 2.5 sccm de oxígeno) a una salida de 20 W durante 30 segundos a temperatura ambiente y una presión de 5 Pa . Entonces se admite aire y la muestra es removida. Es aplicada la suspensión acuosa en el Ejemplo 3 al lado tratado de la película usando una cuchilla de 4 µ?? y secada en un gabinete de secado a 60°C durante 15 minutos. La muestra es entonces irradiada usando un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 30 m/min. Se aplica una composición de acrilato de uretano per radiación que consiste de 70% de Ebecril© 284 (UCB) , 15% d=-J^vi.n.Ll i-i^taii-d©n-a— - e-SR~ 44- ¾r-teffle-F-y-2-%—de 2-hidroxi-2-metil-l-fenil-propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezialitátenchemie) usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µp? al sustrato así prerrecubierto . Las muestras recubiertas son curadas en tres pasos a través de un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada por microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La fuerza adhesiva es determinada desprendiendo una cinta adhesiva. En el caso de las muestras no tratadas, la película se desprendió completamente aún con la irradiación. En las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador, secadas e irradiadas, hay desprendimiento cuando la cinta adhesiva es desprendida.

Ejemplo 13 Una película de polipropileno orientada biaxialmente (15 µp? de espesor, Trespraphan) es tratada con corona cuatro veces en aire usando un electrodo de cerámica (estación de corona manual tipo CEE 42-0-1 MD, 330 mm de ancho, SOFTAL) a una distancia de aproximadamente 1-2 mm y una salida de 600 W y una velocidad de tratamiento de 10 cm/s. Es aplicada una solución etanólica de 1% del fotoiniciador del Ejemplo 1 al lado tratado de la película anando—orra—¡cuctTÍTia de ~3 µt? TErichsen)T~ Después-de" 'secar" Ta" película es irradiada usando un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 30 m/min . Es aplicada una composición de acrilato de uretano curable por radiación que consiste de 70% de Ebecril© 284 (UCB) , 15% de N-vini lpirrol idona (ISP), 15% de SR 344 (Sartomer) y 2% de 2 -hidroxi -2 -metil - 1-fenil -propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezialitátenchemiej usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µ?? al sustrato así prerrecubierto . Las muestras recubiertas con curadas en un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La fuerza adhesiva es determinada por una prueba de doblez y desprendimiento de una cinta adhesiva. En el caso de las muestras no tratadas, la película es insuficientemente mojada por el recubrimiento, (regiones no recubiertas) y el recubrimiento se desprende completamente. En las muestras que han sido pretratadas con otoiniciador , secadas e irradiadas, no hay desprendimiento.

Ejemplo 14 Uít pelícu½ de pol ipr. opi it-*r:o cri¾rtaca"" biaxialmente (20 micrómetros de espesor) es tratada por medio de una unidad de tratamiento a la llama, siendo la película movida a una velocidad lineal de 150 m/min, siendo el rodillo enfriado a 24°C, siendo la distancia entre la llama y la película de 3.5 mm y siendo la temperatura de la llama (temperatura de la ionollama) de 745°C. Es aplicada una solución etanólica al 1% del fotoiniciador del Ejemplo 1 al lado tratado de la película a una velocidad de flujo de 30 m3/h. Después del secado, la película es irradiada usando un procesador UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada por microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 30 m/min. Es aplicada una composición de acrilato de uretano curable por radiación que consiste de 70% de Ebecril© 284 (UCB) , 15% de N-vinilpirrolidona (ISP), 15% de SR 344 (Sartomer) y 2% de 2 - hidroxi - 2 -met i 1 - 1 - feni 1 -propanona (Darocur® 1173; Ciba Spezialitátenchemie) usando una cuchilla en un espesor de capa de aproximadamente 24 µp\ al sustrato así prerrecubierto . Las muestras recubiertas con curadas en un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. hñ- tu rza adhesiv es determinada por -ina prueba de doblez y desprendimiento de una cinta adhesiva. En el caso de las muestras no tratadas, el recubrimiento se desprende completamente. En las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador, secadas e irradiadas, no hay desprendimiento.

Ejemplo 15 El procedimiento es descrito en el Ejemplo 14, pero el fotoiniciador A es reemplazado por el fotoiniciador usado en el Ejemplo 7. La fuerza adhesiva es determinada desprendiendo una cinta adhesiva. En el caso de las muestras no tratadas, el recubrimiento se desprende completamente. Las muestras que han sido pretratadas con fotoiniciador , secadas e irradiadas, no hay desprendimiento, cuando la cinta adhesiva es desprendida.

Ejemplo 16 Una película de polipropileno orientada biaxialmente (15 µ?t? de espesor, Trespraphan) es tratada con corona cuatro veces en aire usando un electrodo de cerámica (estación de corona manual tipo CEE 42-0-1 D, ancho de 330 mm, SOFTAL) a una distancia de aproximadamente 1-2 mm y a una salida de 600 W y una velocidad de tratamiento de 10 cm/s. Es aplicada una solución etanólica de 1% del £otoiniciador del_ Ejemplo 1 al lado tratado de la película usando una cuchilla de 4 µp? (Erichsen) . Después de secar, la película es irradiada usando un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 30 m/min . Es aplicada una composición curable por radiación que consiste de 67.75% de oligómero de acrilato de epoxi (Craynor@152 , Sartomer Compani), 30% de acrilato de tetrahidrofurfurilo (Sartomer® 285, Sartomer Compani), 2% de 1 -hidroxiciclohexilfenilcetona (Irgacure© 184; Ciba Spezialitátenchemie) y 0.25% de óxido de bis(2,4,6-trimetilbenzoil ) - fenilfosfina (Irgacure® 819; Ciba Spezialitátenchemie) al sustrato así prerrecubierto . Entonces se aplica una segunda película, no tratada, de polipropileno orientado biaxialmente (15 µ?? de espesor, Trespraphan) y la lámina es irradiada en un procesador de UV (Fusión Systems) una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La unión no puede ser rota nuevamente .

Ejemplo 17 Una película de polipropileno orientada biaxialmente (15 µ? de espesor, Trespraphan) es tratada con corona cuatro veces en aire usando un electrodo de cerámica (estación de corona manual tipo CEE 42-0-1 MD, ancho de 330 mm, SOFTAL) a una distancia de aproximadamente 1-2 mm y a una salida de 600 W y una velocidad de tratamiento de 10 era/s . Es aplicada una solución etanólica de 1% del fotoiniciador del Ejemplo 1 al lado tratado de la película usando una cuchilla de 4 µp? (Erichsen) . Después de secar, la película es irradiada usando un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 /cm a una velocidad de banda de 30 m/min . Es aplicada una composición curable por radiación que consiste de 67.75% de oligómero de acrilato de epoxi (Craynor®152 , Sartomer Compani), 30% de acrilato de tetrahidrofurfurilo (Sartomer® 285, Sartomer Compani) , 2% de 1-hidroxiciclohexilfenilcetona (Irgacure® 184; Ciba Spezialitátenchemie) y 0.25% de óxido de bis (2,4,6-trimetilbenzoil) -fenilfosfma (Irgacure® 819; Ciba Spezialitátenchemie) al sustrato así prerrecubierto. Entonces se aplica una segunda película de polipropileno orientada biaxialmente tratada con corona como se indicó anteriormente y la lámina es irradiada en un procesador de UV (Fusión Systems) una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 15 m/min. La unión no puede ser rota nuevamente .

Ejemplo 18 Una película de polipropileno orientada biaxialmente (15 µp? de espesor, Trespraphan) es tratada con corona recubierta con una solución etanólica del fotoiniciador del Ejemplo 1 como se describió en el Ejemplo 17. Es aplicada una composición curable por radiación que consiste de 70% de oligómero de acrilato de epoxi (Cray-nor®152, Sartomer Company) y 30% de acrilato de tetrahidro-furfurilo (Sartomer®285 , Sartomer Compani) , al sustrato así pretratado . Entonces se aplica una segunda película, de polipropileno orientada biaxialmente que ha sido tratada con corona como se indicó anteriormente y la lámina es irradiada en un procesador de UV (Fusión Systems) con una lámpara de mercurio excitada con microondas y una salida de 120 W/cm a una velocidad de banda de 30 m/min. La unión no puede ser rota nuevamente.

Claims

REIVINDICACIONES 1. Un proceso para la producción de un recubrimiento fuertemente adherente sobre un sustrato inorgánico u orgánico, caracterizado por: a) se lleva a cabo un tratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico, b) uno o más fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monómeros y/u oligomeros, que contienen al menos un grupo etilénicamente insaturado, o soluciones, suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, son aplicadas a presión normal al sustrato inorgánico u orgánico, y c) usar métodos adecuados por los que aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas opcionalmente y/o son irradiadas con ondas electromagnéticas. 2. Un proceso para la producción de un recubrimiento fuertemente adherente sobre un sustrato inorgánico u orgánico, caracterizado por a) se lleva, a cabo un tratamiento con plasma a baja temperatura, un tratamiento con descarga de corona o un tratamiento a la llama sobre el sustrato inorgánico u orgánico , b) uno o más fotoiniciadores o mezclas de fotoiniciadores con monómeros y/u oligómeros, que contienen al menos un grupo etilénicamente insaturado, o soluciones, suspensiones o emulsiones de las sustancias mencionadas anteriormente, son aplicadas a presión normal al sustrato inorgánico u orgánico, y c)usar métodos adecuados por los que aquellas sustancias mencionadas anteriormente son secadas opcionalmente y/o son irradiadas con ondas electromagnéticas y di) el sustrato así prerrecubierto con fotoiniciador es recubierto con una composición que comprende al menos un monómero u oligómero etilénicamente insaturado, y el recubrimiento es curado por medio de radiación UV/VIS o un haz de electrones; o d2 ) el sustrato así prerrecubierto con fotiniciador es recubierto con una tinta de impresión y secado . 3. El proceso de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el fotoiniciador es un compuesto o combinación de compuesto de las clases de las benzoinas, bencil cetales, aceto enonas , hidroxialquilfenonas , ammoalquilfenonas , óxidos de acilfosfina, sulfuros de acilfosfina, aciloxiiminocetonas, compuestos peroxi, acetofenonas halógenadas, femlglioxilatos , fenilglioxalatos diméricos, benzofenonas , oximas y esteres de oxima, tioxantonas, tiazolinas, ferrocenos, coumarinas , compuestos de dinitrilo, titanocenos, sales de sulfonio, sales de yodonio, sales de diazonio, sales de onio, boratos, triacinas, bisimidazoles , polisilanos y tintes, y también coiniciadores y/o sensibilizadores correspondientes . 4. El proceso de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el fotoiniciador es un compuestos de fórmula I o la (RG)-A-(IN) (I), (IN) -A-(RG') -A- (IN) (la), donde (IN) es una estructura base de fotoiniciador ,- A es un grupo separador o un enlace sencillo; •(RG) es un hidrógeno o al menos un grupo etilénicamente insaturado funcional; y (RG1) es un enlace sencillo o un radical divalente que contiene al menos un grupo etilénicamente insaturado funcional, o es un radical trivalente. 5. El proceso de conformidad con la reivindicación 4, caracterizado porque en el compuesto de fórmula I o la (IN) es una estructura base del fotoiniciador de fórmula (II) o (III) ( TT)- Ri es un grupo (A) , (B) , (C) o (III) (A) , -CR6R7R8 (B) _0_(???2??2)-??? (C) ; n es un número de 0 a 6 ; R2 es hidrógeno, alquilo de Cx-C12, halógeno, el grupo (RG) -A- o, donde Ri es un grupo (A) , dos radicales R2 en la posición orto al grupo carbonilo pueden también juntos ser -S- o O R3 y R4 son cada uno independientemente entre sí alquilo de Cx-C6, alcanoilo de Cx-C6, fenilo o benzoilo, estando los radicales fenilo y benzoilo no sustituidos o sustituidos por halógeno, alquilo de C1-C6, alquiltio de Ci-C6 o por alcoxi de Cx-C6; R5 es hidrógeno, halógeno, alquilo de Ci-C12 o alcoxi de Cx-C12 o el grupo (RG)-A-; R6 es 0R9 o N(R9)2 o es R7 y a son cada uno independientemente entre sí hidrógeno, alquilo de Cx-C12, alquenilo de C2-C12, alcoxi de Ci-C12/ fenilo o bencilo o R7 y R8 juntos son alquileno de C2-C6; g es hidrógeno, alquilo de Ci-C6 o alcanoilo de Ci-C6; hidrógeno, alquilo de C1-C12 o fenilo; Rn es alquilo de Ci-C4 o ; y Xi es oxígeno o azufre. 6- El proceso de conformidad con la reivindicación 5, caracterizado porque el compuesto de fórmula I o la (RG) es RcRbC=CRa-; ( RG ' ) es , y Ra b y Rc son cada uno independientemente del otro, hidrogeno, o alquilo de C1-C6, especialmente hidrógeno o me ilo . 7. El proceso de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes 1 a 6, caracterizados porque los fotoiniciadores son mezclas de los mismos con monómeros u ol igómeros son usados en combinación con uno o más líquidos (como solventes o agua) en forma de soluciones, suspensiones y emulsiones. 8. El proceso de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado porque en el paso del proceso di) es aplicada una composición fotopolimerizable, que comprende al menos un monómero y/u oligómero etilénicamente insaturado y al menos un fotoiniciador y/o coiniciador, al sustrato pretratado y curada por medio de radiación UV/VIS. 9. El proceso de conformidad con cualquiera de la reivindicación 1 a la reivindicación 2, caracterizado porque es usado un gas inerte o una mezcla de gases inertes como el gas del plasma. 10. El proceso de conformidad con la reivindicación 9, caracterizado porque se usan aire, H2, C02 , He, Ar, Kr, Xe , N2, 02 o H20 solos o en forma de una mezcla. 11. El proceso de conformidad con cualquiera de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, caracterizado porque la capa fotoiniciadora aplicada tiene un espesor de capa de hasta 500 nm, que fluctúa especialmente de una capa monomolecular hasta 200 nm. 12. El proceso de conformidad con cualquiera de la reivindicación 1 o la reivindicación 2 , caracterizado porque el paso del proceso b) es llevado a cabo inmediatamente después del paso del proceso a) o dentro de 24 horas después del paso del proceso a) . proceso de conformidad con cualquiera la reivindicación 1 o la reivindicación 2, caracterizado porque la concentración del fotoiniciador o fotoiniciadores en el paso del proceso b) es de 0.01 al 99.5%, preferiblemente del 0.1 al 80%. 14. El proceso de conformidad con cualquiera de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, caracterizado porque el paso del proceso c) es llevado cabo inmediatamente después del paso del proceso b) o dentro de 24 horas después del paso del proceso b) . 15. El proceso de conformidad con cualquiera de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, caracterizado porque el secado en el paso del proceso c) es efectuado en hornos, con gases calientes, rodillos calientes o radiadores de IR o microondas o por absorción. 16. El proceso de conformidad con cualquiera de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, caracterizado porque la irradiación en el paso del proceso c) es efectuada con una fuente que emite ondas electromagnéticas de longitudes de onda en el intervalo de 200 nm a 700 nm, o por haces de electrones . 17. El proceso de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las porciones de los fotoiniciadores , o mezclas de los mismos, con monómeros y/u oligómeros, aplicados en el paso del proceso b) que no han sido reticuladas después de la irradiación en el paso del proceso c) son removidas por tratamiento con solvente y/o agua y/o mecánicamente. 18. El proceso de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado porque después de la irradiación en el paso del proceso di) porciones del recubrimiento son removidas por tratamiento con un solvente y/o agua y/o mecánicamente. 19. El uso de un fotoiniciador , especialmente un fotoiniciador insaturado, en un proceso de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes 1 a 18. 20. Un recubrimiento fuertemente adherente, caracterizado porque se obtiene por un proceso de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes 1 a 18. 21. Un aparato para llevar a cabo un proceso de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes 1 a 18, caracterizado porque es proporcionada al menos una unidad de tratamiento con plasma, unidad de tratamiento con corona, o unidad de tratamiento a la llama, en al menos una unidad de aplicación, al menos una unidad de secado y/o al menos una unidad de irradiación.