KR970063756A - 불휘발성 메모리셀 어레이 - Google Patents

불휘발성 메모리셀 어레이 Download PDF

Info

Publication number
KR970063756A
KR970063756A KR1019960004698A KR19960004698A KR970063756A KR 970063756 A KR970063756 A KR 970063756A KR 1019960004698 A KR1019960004698 A KR 1019960004698A KR 19960004698 A KR19960004698 A KR 19960004698A KR 970063756 A KR970063756 A KR 970063756A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
memory cell
cell array
word lines
nonvolatile memory
line
Prior art date
Application number
KR1019960004698A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100190021B1 (ko
Inventor
이정형
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019960004698A priority Critical patent/KR100190021B1/ko
Publication of KR970063756A publication Critical patent/KR970063756A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100190021B1 publication Critical patent/KR100190021B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/30Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region
    • H10B41/35Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region with a cell select transistor, e.g. NAND
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/40Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the peripheral circuit region
    • H10B41/41Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the peripheral circuit region of a memory region comprising a cell select transistor, e.g. NAND

Landscapes

  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Abstract

본 발명은 비휘발성 메모리소자에 관한 것으로, 제1방향으로 신장하는 활성영역, 상기 제1방향에 대해 수직인 제2방향으로 신장하며, 각각이 일정한 간격을 유지하며 평행하게 배치되는 다수의 워드라인을 구비하는 불휘발성 메모리셀 어레이에 있어서, 상기 다수의 워드라인 중의 특정한 워드라인의 선폭을 나머지 워드라인의 선폭과 크기가 다르게 설게함을 특징으로 한다.

Description

불휘발성 메모리셀 어레이
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명에 따른 NAND형 플레쉬메모리셀 어레이의 레이아웃을 나타낸다.

Claims (3)

  1. 제1방향으로 신장하는 활성영역, 상기 제1방향에 대해 수직인 제2방향으로 신장하며, 각각이 일정한 간격을 유지하며 평행하게 배치되는 다수의 워드라인을 구비하는 불휘발성 메모리셀 어레이에 있어서, 상기 다수의 워드라인 중의 특정한 워드라인의 선폭을 나머지 워드라인의 선폭과 그 크기가 다르게 설계함을 특징으로 하는 불휘발성 메모리셀 어레이.
  2. 제1항에 있어서, 상기 특정의 워드라인에 인접하는 선택트랜지스터를 더 구비함을 특징으로 하는 불휘발성 메모리셀 어레이.
  3. 제2항에 있어서, 상기 특정의 워드라인과 상기 선택트랜지스터와의 사이가 상기 나머지 워드라인들간의 사이 보다 큼을 특징으로 하는 불휘발성 메모리셀 어레이.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960004698A 1996-02-26 1996-02-26 불휘발성 메모리셀 어레이 KR100190021B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960004698A KR100190021B1 (ko) 1996-02-26 1996-02-26 불휘발성 메모리셀 어레이

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960004698A KR100190021B1 (ko) 1996-02-26 1996-02-26 불휘발성 메모리셀 어레이

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970063756A true KR970063756A (ko) 1997-09-12
KR100190021B1 KR100190021B1 (ko) 1999-06-01

Family

ID=19451816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960004698A KR100190021B1 (ko) 1996-02-26 1996-02-26 불휘발성 메모리셀 어레이

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100190021B1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030060313A (ko) * 2002-01-08 2003-07-16 삼성전자주식회사 낸드형 플래쉬 메모리소자
JP3854247B2 (ja) 2003-05-30 2006-12-06 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
KR100719379B1 (ko) 2006-03-30 2007-05-17 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치
KR100787943B1 (ko) 2006-12-28 2007-12-24 삼성전자주식회사 비휘발성 기억 소자의 형성 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100190021B1 (ko) 1999-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950007120A (ko) 반도체 기억장치
KR920003517A (ko) 비트 라인에 대해 경사지게 배열된 메모리 매트릭스를 갖고 있는 반도체 메모리 디바이스
KR950027845A (ko) 반도체 메모리장치
KR900003885A (ko) 불휘발성 반도체메모리
KR890002886A (ko) 반도체 기억장치
KR930014618A (ko) 독출전용 메모리
KR890016573A (ko) 반도체기억장치
KR900019238A (ko) 반도체기억장치
KR900004022A (ko) 불휘발성 반도체 기억장치
KR850004877A (ko) 배선 지연이 적은 배선 및 데코우더를 가진 반도체 메모리
KR960036075A (ko) 반도체 장치
KR930005020A (ko) 망사 구조의 전원선을 가지는 반도체 메모리 장치
KR880000962A (ko) 반도체장치
KR960002349A (ko) 반도체 메모리 디바이스
FR2688090B1 (fr) Cellule memoire non volatile du type metal-ferroelectrique semi-conducteur.
KR970063756A (ko) 불휘발성 메모리셀 어레이
KR900000915A (ko) 불휘발성 반도체 메모리
KR860004408A (ko) 반도체 메모리 장치
KR910010715A (ko) 반도체 메모리
KR970003196A (ko) 반도체장치
KR930009080A (ko) 낸드형 마스크 리드 온리 메모리
KR937000950A (ko) 비 휘발성 반도체 메모리 셀 필드가 있는 반도체 메모리
KR960030426A (ko) 불휘발성 반도체 기억 장치
KR970018621A (ko) 낸드 구조 메모리장치의 스트링셀 그라운드 라인 레이아웃 방법
KR940007876A (ko) 폴디드 비트라인 방식의 디램쎌 어레이

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100114

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee