KR970023860A - 막형성 조성물을 가진 기판의 열처리 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

막형성 조성물을 가진 기판(62)을 균일하게 열처리 하는 소성방법 및 장치에 있어서, 온도가 제1값(KT1)으로 유지되는 제1가열실(28, R1)내에 소정시간(HT1) 동안 기판을 유지하여 기판내의 온도가 기판 전체에 걸쳐서 제1값으로 균일하게 유지되도록 하는 제1균열 단계로 기판을 처리하고, 온도가 제1값(KT1)과 소정 차이(△KrT 만큼 다른 소정 제2값(KT2)으로 유지되는 제2가열실(30, R2)내에 기관을 공급한 후 제2가열실에서 제2소정시간(HT2) 동안 기판을 유지하여 기판내의 온도가 기판 전체에 걸쳐서 제2값으로 균일하게 유지되도록 하는 제2균열단계로 기판을 처리하는 소성방법 및 장치.

Description

막형성 조성물을 가진 기판의 열처리 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 노가 단면으로 보이는, 본 발명의 한 구체예에 따라 구성된 2실(室)형 소성 장치의 정면도이다.

Claims (14)

  1. 막형성 조성물을 가진 기판(62)을 균일하게 열처리하는 소성방법에 있어서, 온도가 소정 제1값(KT1)으로 유지되는 제1가열실(28, R1)내에 상기 기판(62)을 소정 제1시간(HT1) 동안 유지하여 상기 기판내의 온도를 상기 기판 전체에 걸쳐서 상기 제1값으로 균일하게 유지하는 제1균열단계 ; 상기 제1균열단계로 처리된 상기 기판을 온도가 상기 소정 제1값(KT1)과 소정차이(△KT) 만큼 다른 소정 제2값(KT2)으로 유지되는 제2가열실(30, R2)로 공급하는 공급 단계; 및 상기 기판을 상기 제2열실내에 소정 제2시간(HT2) 동안 유지하여 상기 기판내의 온도를 상기 기판 전체에 걸쳐서 상기 제2값으로 균일하게 유지하는 제2균열단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소성방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2균열단계가 상기 제2가열실에서 실행되도록 상기 제2가열실(30)내의 온도를 상기 소정 제2값(KT2)으로 조정하기 위해 상기 제1균열단계와 동시에 실행되는 제1대기단계를 더 포함하며, 제3균열단계가 상기 제1가열실에서 실행되도록 상기 제1가열실(28)내의 온도를 상기 소정 제2값과 소정차이(△KT) 만큼 다른 소정 제3값(KT3)으로 조정하기 위해 상기 제2균열단계와 동시에 실행되는 제2대기단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 소성방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1대기 단계는 상기 제2가열실(30)내의 온도를 상기 소정 제2값(KT) 보다 소정량 만큼 낮은 값으로 저하시키는 냉각단계와, 상기 제2가열실내의 온도를 상기 소정 제2값으로 상승시켜 상기 제2값을 유지하도록 피드백 제어를 실행하는 온도상승 및 유지 단계로 이루어지며, 상기 제2대기단계는 상기 제1가열실(28)내의 온도를 상기 제3값(KT3) 보다 소정량 만큼 낮은 값으로 저하시키는 냉각단계와, 상기 제1가열실내의 온도를 상기 소정 제3값으로 상승시켜 상기 제3값을 유지하도록 피드백 제어를 실행하는 온도상승 및 유지 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소성 방법.
  4. 막형성 조성물을 가진 기판(62)을 균일하게 열처리하기 위한 소정장치에 있어서, 제1 및 제2가열실(28, 30)이 서로 열적으로 절연되도록 상기 제1 및 제2가열실(28, 30)온 부분적으로 형성하는 셔터장치(22, 24, 26) ; 상기 제1 및 제2가열실내의 온도를 서로 독립적으로 제어하는 가열장치(H) ; 상기 기판이 상기 제1 및 제2가열실에서 교대로 열처리되도록 상기 기판을 상기 제1 및 제2가열실에 교대로 공급하는 공급장치(18, 20) ; 및 상기 기판이 상기 제1가열실에서 열처리되는 동안 상기 제1가열실(28)내의 온도를 소정 제1값(KT1)으로 유지하도록 상기 가열장치를 제어하고, 상기 기판이 상기 제1가열실에서 열처리되는 동안 상기 제2가열실(30)내의 온도를 상기 소정 제1값과 소정차이(△KT) 만큼 다른 소정 제2값(KT2)으로 조정하고, 상기 기판이 상기 제2가열실에서 열처리되는 동안 상기 제1가열실(28)내의 온도를 상기 소정 제2값과 소정 차이(△KT) 만큼 다른 소정 제3값(KT3)으로 조정하여 이어서 상기 기판이 상기 제1가열실에서 상기 제3값으로 열처리되도록 하는 제어장치(66)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소성장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1 및 제2가열실(28, 30)내의 온도를 저하시 키는 냉각장치(58)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 소성 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 냉각장치는 냉각공기를 상기 제1및 제2가열실(28, 30)로 전달하는 냉각관(58)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소성 장치.
  7. 제4항 내지 제6항중 어느 한항에 있어서 각각의 상기 셔터장치는 상기 제1및 제2가열실의 열적 절연을 위해 개방위치와 폐쇄위치 사이에서 이동가능한 셔터부재(38, 40, 42)를 포함하고, 상기 이동가능한 셔터부재는 상기 기판이 상기 공급장치에 의해 상기 제1 및 제2가열실중 하나로 또는 그로부터 공급될 때에 상기 개방위치에, 그리고 상기 기판이 상기 제1및 제2가열실 중 하나에서 열처리되는 동안 및 상기 제1및 제2가열실중 다른 하나의 온도가 조정되는 동안에 상기 폐쇄위치에 놓이는 것을 특징으로 하는 소성 장치.
  8. 막형성 조성물을 가진 기판(62)을 균일하게 열처리하기 위한 소성장치에 있어서, 제1 및 제2가열실(R1, R2)을 포함하여 적어도 두 개의 가열실(R1-R6)을 부분적으로 형성하여 상기 적어도 두 개의 가열식이 서로 열적으로 절연되도록 하는 셔터장치(S1-S7) ; 상기 제1 및 제2가열실내의 온도를 서로 독립적으로 제어하는 가열장치(HD, H) ; 상기 제1가열실(R1)내의 온도를 상기 제1가열실에 걸쳐서 소정 제1값(HT1)으로 균일하게 유지하고 상기 제2가열실(R2)내의 온도를 상기 제2가열실에 걸쳐서 상기 제1값과 소정차이(△KT) 만큼 다른 소정 제2값(KT2)으로 균일하게 유지하도록 상기 가열장치를 제어하는 온도제어장치(TC2, 168); 및 먼저 상기 소정 제1값에서 소정 제1시간 동안 상기 기판을 열처리하기 위해 상기 제1가열실로, 그 다음 상기 소정 제2값에서 소정 제2시간 동안 상기 기판을 열처리하기 위해 상기 제2가열실로 상기 기판(62)을 한 방향으로 공급하고, 상기 제2가열실에서 열처리한 후 상기 제2가열실로부터 상기 기판을 더 공급하는 공급장치(102, 104, 106, 118, 120, 122)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소성장치.
  9. 제8항에 있어서, 각각의 상기 셔터장치(S1-S7)는 상기 제1및 제2가열실의 열적 절연을 위해 개방위치와 폐쇄위치 사이에서 이동가능한 셔터부재(194)를 포함하고, 상기 이동가능한 셔터부재는 상기 기판이 상기 공급장치에 의해 상기 제1 및 제2가열실중 하나로 또는 그로부터 공급될 때에 상기 개방위치에, 그리고 상기 기판이 상기 제1 및 제2가열실중 하나에서 열처리되는 동안 및 상기 제1 및 제2가열실중 다른 하나의 온도가 조절되는 동안에 상기 폐쇄위치에 놓이는 것을 특징으로 하는 소성 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 공급장치는 회전축이 서로 평행하고 상기 한방향에 직각이며 상기 기판을 지지하기 위해 상기 한 방향으로 배열되는 복수의 롤러(166)로 이루어지고, 상기 롤러는 상기 기판을 상기 한 방향으로 공급하도록 회전되는 것을 특징으로 하는 소성 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 셔터 장치(S1-S7)중 하나는 상기 복수의 롤러(166)중 인접하는 것들 사이의 틈을 통해 개방위치와 폐쇄위치 사이에서 상기 한방향에 직각인 수직 방향으로 이동가능한 셔터(194)를 포함하며, 상기 폐쇄위치에 놓인 상기 셔터는 상기 제1 및 제2가열실(R1, R2)을 서로 분리하여 열적으로 절연시키는 것을 특징으로 하는 소성장치.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 복수의 롤러(166) 각각은 세라믹 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 소성장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 적어도 두 개의 가열실(R1-R6) 각각은 세라믹 재료로 만들어진 내벽면을 가지며, 상기 각 셔터 장치(S)의 상기 셔터(194)는 세라믹 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 소성 장치.
  14. 제10항에 있어서 상기 공급장치(102, 104, 106, 118, 120, 122)는 상기 적어도 두 개의 가열실((R1-R6)을 통해 상기 복수의 롤러(105)의 회전에 의해 상기 기판(62)온 간헐적으로 공급하는 간헐적 공급장치(120)와, 상기 적어도 두 개의 가열실(R1-R6)에 인접한 영역(128b, 132a)을 포함하는 연속 열처리 존(126. 128, 132)을 통해 소정 공급속도로 상기 복수의 롤러(166)의 회전에 의해 상기 기판(62)을 연속적으로 공급하는 연속적 공급장치(118, 122)를 포함하며, 상기 연속적 공급장치는 상기 영역에서 상기 롤러의 회전속도를 변경시켜 상기 영역에서 상기 기판의 공급속도를 상기 간헐적 공급장치에 의한 공급속도와 거의 일치시키는 회전속도변경장치(150, 164, 148, 152)를 포함하는 것을 특징으로 하는 소성장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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