KR960702137A - 반사 디스플레이 제작 방법(Method of manufacturing a reflective display) - Google Patents

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프레데릭 얀 스미트
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Abstract

반사 디스플레이의 평면 반사 표면 아래에 임의의 패턴으로 다수의 SOI 트랜지스터를 형성하는 방법이 제시된다. 이는 반사 LCD 장치와 같은 장치에서 유용한 정보 픽셀의 형성을 가능하게 한다. 상기 SOI 트랜지스터를 제공하는 특정 기법이 제시된다.

Description

반사 디스플레이 제작 방법(Method of manufacturing a reflective display)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 내지 제5도는 능동 매트릭스 디스플레이에서 SOI 장치를 형성하는 여러 단계를 도시한 도면이다.
제6도는 본 발명에 따른 퍽셀의 한 예를 도시한 도면이다.

Claims (8)

  1. 화소의 화상 전극과 제어 라인 사이의 스위칭 소자가 제공된 제1기만을 구비하는 디스플레이 장치에 있어서, 한 화소가 상기 화상 전극 아래에 위치한 절연층에서의 홈으로 에워지고 최소한 한개의 스위칭 소자를 커버하고 있는 반면, 상기 스위칭 소자와 상기 화상 전극 사이의 전기적 도전 상호 연결부와 제어 라인이 최소한 부분적으로 상기 홈안에 제공되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  2. 제1항에 있어서, 또다른 한 전극이 상기 화상 전극 아래에 위치하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  3. 제1 또는 제2항에 있어서, 상기 홈들이 최소한 부분적으로 반사-방지 물질(anti-reflective material)로 충전되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  4. 제1 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 절연층이 평면(planarized) 폴리이미드를 구비하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  5. 반사 디스플레이 장치를 제작하는 방법에 있어서, (A)기판상에 임의의 패턴으로 상호 절연된 다수의 트랜지스터를 형성하는 단계; (B)다수의 반사 픽셀을 제공하도록 상기 각각의 SOI트랜지스터상에 평면 반사 금속표면을 형성하는 단계; 및 (C)상기 기판과 제2기판 사이에 전기-광학물질(electro-optical materical)을 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 디스플레이 장치 제작 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 단계(A)가, (al)상기 기판상에 SiO2층을 형성하는 단계; (a2)상기 SiO2층상에 실리콘 박막 괘턴을 형성하는 단계: (a3)상기 패턴에서 상기 각각의 실리콘 박막의 제1부분을 마스킹하는 단계; (a4)상기 패턴에서 상기 각각의 실리콘 박막의 제2마스킹 않된 나머지 부분을 산화시키는 단계; (a5)상기 마스크를 제거하고 상기 실리콘 박막의 상기 각각의 제1부분의 일부분상에 게이트 구조를 형성하는 단계; 및 (a6)상기 실리콘 박막의 다른 분리된 제1부분에 대해 소스 및 드레인 구조체를 형성하는 단계에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 반사 디스플레이 장치 제작 방법.
  7. 제5 또는 제6항에 있어서, 상기 단계(B)가 (bl)상기 다수의 SOI 트랜지스터상에 평면 물질을 형성하는 단계; (b2)다수의 픽셀을 형성하도록 상기 다수의 트랜지스터로부터 먼 영역에서 상기 평면 물질을 분리하는 단계; (b3)상기 다수의 반사 픽셀을 형성하기 위해 상기 분리된 평면 물질상에 반사 물질을 퇴적시키는 단계에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 반사 디스플레이 장치 제작 방법.
  8. 제5 내지 제7항중 어느 한 항에 있어서, 단계(A)후와 단계(B)전, 제1금속 라인이 상기 패턴에서 산화된 나머지 부분들 사이의 홈에 형성되며, 제2금속 라인들이 상기 각각의 랜지스터의 상기 소스, 드레인, 및 게이트 구조와 접촉하여 형성되는 것을 특징으로 하는 반사 디스플레이 장치 제작 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950704504A 1994-02-18 1995-02-14 표시장치및반사표시장치제조방법 KR100326691B1 (ko)

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