KR960035158A - 노광 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 상대적으로 큰 개구수를 갖고 매우 넓은 노광 범위에서 바이텔레센트리시티 및 고도로 정확한 수차, 특히 왜곡수차를 갖는 고성능 투영 광학계를 갖춘 노광 장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명에 따르는 투영 광학계는 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 그룹 G1, 부위 굴절력을 갖는 제2렌즈 그룹 G2, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹G3,부의 굴절력을 갖는 제4렌즈 그룹G4,및 정의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹G5이 제1물체 R측으로부터 순서대로 이루어진다. 본 발명은 상기 배열에 기초하여 제1 내지 제5렌즈 그룹 G1-G5에 대하여 적합한 벙위의 촛점 길이를 찾는다.

Description

노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따르는 투영 광학계가 사용되는 노광 장치의 개략적 구조를 도시한 도면, 제3도는 본 발명에 따르는 제1실시예의 투영 광학계의 렌즈 배열을 도시한 도면, 제7도는 제3도에 도시된 제1실시예의 투영 광학계의 수차를 도시한 수차 다이아그램.

Claims (22)

  1. 제1물체 측으로부터 순서대로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 그룹, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제4렌즈 그룹, 및 정의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹으로 이루어지며, f1은 상기 제1렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f2은 상기 제2렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f3은 상기 제3렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f4은 상기 제4렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f5은 상기 제5렌즈 그룹의 촛점 길이 이고, f1-3은 상기 제1렌즈 그룹 내지 제3렌즈 그룹의 합성 촛점 길이이며, f4-5은 상기 제4렌즈 그룹 및 제5렌즈 그룹의 합성 촛점 길이이고, L은 상기 제1물체로부터 제2물체까지의 거리일 때, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하여, 상기 제1물체 상을 상기 제2물체로 투영시키기 위하여 제1 및 제2물체 사이에 위치하는 투영 광학계.
    0.1＜f1/f3＜17, 0.1＜f2/f4＜14, 0.01＜f5/L＜0.8, f1-3f/4-5＜2.5
  2. 제1항에 있어서, 투영 광학계의 배율이 1/2.5임을 특징으로 하는 투영 광학계.
  3. 제1항에 있어서, Ⅰ가 상기 제1물체로부터 상기 전체 투영 광학계의 제1물체측 촛점까지의 축 거리이고, L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리라 할때, 다음의 조건을 만족시키는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    1.0＜I/L
  4. 제1항에 있어서, 제2렌즈 그룹이 제1물체와 가장 근접하여 장착되고 제2물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈, 제2물체와 가장 근접하여 장착되고 제1물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 메니스쿠스 모양의 배면렌즈, 및 상기 제2렌즈 그룹의 정면 렌즈와 상기 제2렌즈 그룹의 배면 렌즈 사이에 장착된 중간 렌즈 그룹으로 이루어지며, 상기 중간 렌즈 그룹은 상기 제1물체측으로부터 순서대로 적어도 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈, 및 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈로 이루어지고, fn가 상기 제2렌즈 그룹에서 제2렌즈로부터 상기 제3렌즈까지의 합성 촛점 길이이고 L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 길이라 할때, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    -1.4＜fn/L＜-0.123
  5. 제1항에 있어서, 제5렌즈 그룹이 양오목형의 부의 렌즈, 제1물체측 위의 양오목형의 상기 부의 렌즈에 인접하여 장착도고 제2물체의 볼록면의 모양을 갖는 제1정의 렌즈, 및 제2물체측 위의 양오목형의 상기 부의 렌즈에 인접하여 장착되고 제1물체의 볼록면의 모양을 갖는 제2정의 렌즈를 이루어짐을 특징으로 하는 투영 광학계.
  6. 제5항에 있어서, r5p1이 상기 제5렌즈 그룹에서 상기 제1정의 렌즈의 상기 볼록면의 골률 반경이고, r5p1이 상기 제5렌즈 그룹에서 양오목형의 상기 부의 렌즈의 제1물체측 오목면의 곡률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0＜(r5p1-r5n1)/(r5p1+r5n1)＜1
  7. 제5항에 있어서, r5p2이 상기 제5렌즈 그룹에서 양오목형 상기 부의 렌즈의 제2물체측 오목면의 곡률 반경이고, r5p2이 상기 제5렌즈 그룹에서 제2정의 렌즈의 상기 볼록면의 골률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0＜(r5p2-r5n2)/(r5p2+r5n2)＜1
  8. 제5항에 있어서, 양오목형의 부의 렌즈, 제1정의 렌즈, 및 제2정의 렌즈가 상기 제5렌즈 그룹에서 적어도 하나의 정의 렌즈가 상기 제5렌즈 상기 제5렌즈 그룹에서 적어도 하나의 양의 렌즈 사이에 장착됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
  9. 제1항에 있어서, f3가 상기 제3렌즈 구룹의 촛점 길이이고 f5가 상기 제5렌즈 그룹의 촛점 길이인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.80 ＜f3/f5＜1.00
  10. 제1항에 있어서, 제4렌즈 그룹이 제1물체와 가장 근접하여 장착되고 제2물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈, 제2물체와 가장 근접하여 장착되고 제1물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 배면 렌즈, 및 상기 제4렌즈 그룹의 정면 렌즈와 상기 제4렌즈 그룹의 배면 렌즈 사이에 장착된 적어도 하나의 부의 렌즈로 이루어지며, r4F이 상기 제4렌즈 그룹에서 제1물체에 가장 근접하게 장착된 정면 렌즈의 제2물체측 표면의 곡률 반경이고, r4R1이 상기 제4렌즈 그룹에서 제2물체에 가장 근접하게 장착된 배면 렌즈의 제1물체측 표면의 골률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    1.03＜│(r4F-r4R1)/(r4F+r4R1)│
  11. 제4항에 있어서, D가 상기 제2렌즈 그룹의 중간 렌즈 그룹에서 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈와 제2물체측 렌즈면으로부터 제2렌즈 그룹의 배면 렌즈의 제1물체측 렌즈 면까지의 축거리이고, L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리인 경우, 다음의 조건이 성립함을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.05＜D/L＜0.4
  12. 제1항에 있어서, f4이 상기 제4렌즈 그룹의 촛점 길이이고 L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    -0.098＜f4/L＜-0.005
  13. 제1항에 있어서, f2이 상기 제2렌즈 그룹의 촛점 길이이고 L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    -0.8＜f2/L＜0.050
  14. 제1항에 있어서, 제4렌즈 그룹이 제1물체와 가장 근접하게 장착되고 제2물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈, 제2물체와 가장 근접하여 장착되고 제1물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 배면 렌즈, 및 상기 제4렌즈 그룹의 상기 정면 렌즈와 상기 제4렌즈 그룹의 상기 배면 렌즈 사이에 장착된 적어도 하나의 부의 렌즈로 이루어지며, r4R1이 상기 제4렌즈 그룹에서 제2물체에 가장 근접하게 장착된 배면 렌즈의 제1물체측 표면의 곡률 반경이고, r4R2이 상기 배면 렌즈의 상기 제2물체측 면의 곡률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    -1.00≤(r4R1-r4R2)/(r4R1+r4R2)＜0
  15. 제4항에 있어서, 상기 제2렌즈 그룹의 중간 렌즈 그룹에서 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈가 제2물체에 대해 볼록면의 렌즈 모양을 갖고, Ø21가 상기 제2렌즈 그룹의 중간 렌즈 그룹에서 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈의 제2물체측 렌즈면의 굴절력이고 L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.54＜1/(Ø21ㆍL)＜10
  16. 제4항에 있어서, f2F가 제2렌즈 그룹의 제1물체와 가장 근접하여 장착되고 상기 제2물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈의 촛점 길이이고 f2R가 상기 제2렌즈 그룹의 제2물체와 가장 근접하여 장착되고 상기 제1물체에 대해 오목면 모양으로 부의 굴절력을 갖는 배면 렌즈의 촛점 길이인 경우 다음의 조건을 만족함을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0≤(f2f/f2R＜18
  17. 제4항에 있어서, 상기 제2렌즈 그룹에 있어서 중간 렌즈 그룹이 부의 굴절력을 가짐을 특징으로 하는 투영 광학계.
  18. 제4항에 있어서, 상기 중간 렌즈 그룹의 렌즈 중에서 오직 상기 제2렌즈 및 상기 제3렌즈 만이 각각 부의 굴절력을 갖고, f22가 상기 제2렌즈 그룹에서 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈의 촛점 길이이고 f23가 상기 제2렌즈 그룹에서 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈의 촛점 길이인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.7 ＜f22/f23
  19. 제1항에 있어서, 제1렌즈 그룹이 적어도 두개의 정의 렌즈로 이루어지며, 제2렌즈 그룹이 적어도 두개의 부의 렌즈로 이루어지고, 제3렌즈 그룹이 적어도 3개의 정의 렌즈로 이루어지며, 제4렌즈 그룹이 적어도 3개의 부의 렌즈로 이루어지고, 제5렌즈 그룹이 적어도 5개의 정의 렌즈 및 적어도 한개의 부의 렌즈로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 광학계.
  20. 감광성 기판이 그 주 표면 위에 고정된 제1스테이지; 소정의 파장의 노출광을 방사시켜 마스크상의 소정의 패턴을 기판으로 전이시키기 위한 조명 광학계; 제1물체 측으로부터 순서대로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제4렌즈 그룹, 및 정의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹으로 이루어지며, f1은 상기 제1렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f2은 상기 제2렌즈 그룹의 촛점 길이이며 f3은 상기 제3렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f4은 상기 제4렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f5은 상기 제5렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f1-3은 상기 제1렌즈 그룹 내지 제3렌즈 그룹의 합성 촛점 길이이며, f4-5은 상기 제4렌즈 그룹 및 제5렌즈 그룹의 합성 촛점 길이이고, L은 상기 제1물체로부터 제2물체까지의 거리일 때, 다음의 조건이 만족되는, 마스크위의 상을 기판 표면 위에 투영시키기 위해 상기 제1스테이지와 상기 조명 사이에 제공되는 투영 광학계로 이루어짐을 특징으로 하는 노광 장치.
    0.1＜f1/f3＜17, 0.1＜f2/f4＜14, 0.01＜f5/L＜0.8, f1-3f/4-5＜2.5
  21. 제20항에 있어서, 투영 광학계의 배율이 1/2.5임을 특징으로 하는 노광 장치.
  22. 제20항에 있어서, 추가로 마스크를 지지하는 제2스테이지로 이루어지며, 투영 광학계가 상기 제1스테이지와 제2스테이지 사이에 위치함을 특징으로 하는 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1079345A (ja) * 1996-09-04 1998-03-24 Nikon Corp 投影光学系及び露光装置
JP3757536B2 (ja) * 1996-10-01 2006-03-22 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
DE69732023T2 (de) * 1997-04-25 2005-12-15 Nikon Corp. Optisches Projektionssystem und Verfahren zu dessen Anwendung bei der Herstellung von Vorrichtungen
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JP2000003855A (ja) * 1998-06-12 2000-01-07 Canon Inc 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
DE19855108A1 (de) 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren
US6600550B1 (en) * 1999-06-03 2003-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same
EP1094350A3 (en) * 1999-10-21 2001-08-16 Carl Zeiss Optical projection lens system
JP3598971B2 (ja) * 2000-04-07 2004-12-08 ミノルタ株式会社 撮像レンズ装置
DE10064685A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
WO2002052303A2 (de) 2000-12-22 2002-07-04 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系，該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
JP4228130B2 (ja) * 2001-11-05 2009-02-25 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
DE10221386A1 (de) 2002-05-14 2003-11-27 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsbelichtungssystem
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR20160085375A (ko) 2004-05-17 2016-07-15 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
EP2919053B1 (en) * 2012-10-31 2017-07-05 Han's Laser Technology Industry Group Co., Ltd. Extreme ultraviolet laser marking f shot and laser processing device
CN105527701B (zh) * 2014-09-28 2018-06-29 上海微电子装备（集团）股份有限公司 大视场投影光刻物镜
CN109581622B (zh) * 2017-09-29 2020-12-04 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种投影物镜
US10859798B2 (en) 2018-09-06 2020-12-08 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Wide field of view F-theta lens

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3737215A (en) * 1972-04-06 1973-06-05 Eastman Kodak Co Six element unit magnification lens
US3817138A (en) * 1972-08-30 1974-06-18 A Lasker Steak or meat cutting assembly
JPS5336326B2 (ko) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS5416410B2 (ko) * 1974-03-07 1979-06-22
JPS5820402B2 (ja) * 1975-10-14 1983-04-22 オリンパス光学工業株式会社 チヨウコウカイゾウリヨクシユクシヨウレンズ
JPS5241528A (en) * 1976-10-12 1977-03-31 Olympus Optical Co Ltd Telephoto lens
JPS584112A (ja) * 1981-06-30 1983-01-11 Olympus Optical Co Ltd 画角の広い標準レンズ
JPS58147708A (ja) 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
JPS58166316A (ja) * 1982-03-26 1983-10-01 Asahi Optical Co Ltd ビハインド絞り用レンズ
US4666273A (en) 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
US4690528A (en) * 1983-10-05 1987-09-01 Nippon Kogaku K. K. Projection exposure apparatus
DE3443856A1 (de) * 1983-12-02 1985-06-13 Nippon Kogaku K.K., Tokio/Tokyo Optisches projektionsgeraet
JPS60136712A (ja) * 1983-12-26 1985-07-20 Nippon Kogaku Kk <Nikon> リアコンバ−ジヨンレンズ
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4616908A (en) * 1984-07-19 1986-10-14 Gca Corporation Microlithographic system
JPS6275609A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Minolta Camera Co Ltd マイクロフイルム用投影レンズ
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US4825247A (en) * 1987-02-16 1989-04-25 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPS6419317A (en) * 1987-07-14 1989-01-23 Dainippon Screen Mfg Telecentric image formation optical system with large picture plane size
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US5253110A (en) 1988-12-22 1993-10-12 Nikon Corporation Illumination optical arrangement
JPH03288112A (ja) * 1990-04-04 1991-12-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 色消しレンズ系
JP3041939B2 (ja) 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
JP3353902B2 (ja) * 1990-12-12 2002-12-09 オリンパス光学工業株式会社 投影レンズ系
JP2830492B2 (ja) 1991-03-06 1998-12-02 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
US5097291A (en) * 1991-04-22 1992-03-17 Nikon Corporation Energy amount control device
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JPH06501792A (ja) * 1991-08-23 1994-02-24 イーストマン・コダック・カンパニー マイクロリレーレンズとして使用するに適した高開口数の有限共役レンズ系及びそのレンズ系を用いたプリンタ
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
US5333035A (en) 1992-05-15 1994-07-26 Nikon Corporation Exposing method
JP3374413B2 (ja) 1992-07-20 2003-02-04 株式会社ニコン 投影露光装置、投影露光方法、並びに集積回路製造方法
DE69314567T2 (de) * 1992-07-29 1998-02-26 Nikon Corp Verkleinerndes katadioptrisches Projektionssystem
JPH0755979A (ja) 1993-08-12 1995-03-03 Toshiba Corp 原子炉格納容器
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置

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