JPH06265789A - 反射屈折投影光学系 - Google Patents
反射屈折投影光学系Info
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- JPH06265789A JPH06265789A JP5051718A JP5171893A JPH06265789A JP H06265789 A JPH06265789 A JP H06265789A JP 5051718 A JP5051718 A JP 5051718A JP 5171893 A JP5171893 A JP 5171893A JP H06265789 A JPH06265789 A JP H06265789A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
-
- G—PHYSICS
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビームスプリッターを用いること無く、且つ
一括露光方式を取ることが出来る結像性能の優れた反射
屈折投影光学系を提供する。 【構成】 物体面１上のパターンからの光が、第１収斂
群Ｇ1 を経て、第１平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された
後、第１凹面反射鏡Ｍ2 よりなる第２収斂群Ｇ2 に至
り、第２収斂群Ｇ2 で反射された光が第１平面鏡Ｍ1 の
開口内にそのパターンの第１中間像を結像する。この第
１中間像からの光が、第３収斂群Ｇ3 を経て、第２平面
鏡Ｍ3 の開口内にそのパターンの第２中間像を結像し、
この第２中間像からの光が第２凹面反射鏡Ｍ4 よりなる
第４収斂群Ｇ4 に至り、第４収斂群Ｇ4で反射された光
が第２平面鏡Ｍ3 の周辺で反射され、この反射光が、第
５収斂群Ｇ5 を経て像面２の表面にそのパターンの第３
中間像を結像する。
一括露光方式を取ることが出来る結像性能の優れた反射
屈折投影光学系を提供する。 【構成】 物体面１上のパターンからの光が、第１収斂
群Ｇ1 を経て、第１平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された
後、第１凹面反射鏡Ｍ2 よりなる第２収斂群Ｇ2 に至
り、第２収斂群Ｇ2 で反射された光が第１平面鏡Ｍ1 の
開口内にそのパターンの第１中間像を結像する。この第
１中間像からの光が、第３収斂群Ｇ3 を経て、第２平面
鏡Ｍ3 の開口内にそのパターンの第２中間像を結像し、
この第２中間像からの光が第２凹面反射鏡Ｍ4 よりなる
第４収斂群Ｇ4 に至り、第４収斂群Ｇ4で反射された光
が第２平面鏡Ｍ3 の周辺で反射され、この反射光が、第
５収斂群Ｇ5 を経て像面２の表面にそのパターンの第３
中間像を結像する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子又は
液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際
に使用される投影露光装置の、等倍又は縮小投影用の投
影光学系に適用して好適な反射屈折投影光学系に関し、
特に、光学系の要素として反射系を用いることにより、
紫外線波長域でサブミクロン単位の解像度を有する反射
屈折投影光学系に関する。
液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際
に使用される投影露光装置の、等倍又は縮小投影用の投
影光学系に適用して好適な反射屈折投影光学系に関し、
特に、光学系の要素として反射系を用いることにより、
紫外線波長域でサブミクロン単位の解像度を有する反射
屈折投影光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等をフォト
リソグラフィ工程で製造する際に、フォトマスク又はレ
チクル（以下、「レチクル」と総称する）のパターン像
を投影光学系を介して例えば１／５程度に縮小して、感
光材（フォトレジスト等）が塗布された基板（ウエハ、
ガラスプレート等）上に露光する投影露光装置が使用さ
れている。半導体素子等の集積度が向上するにつれて、
投影露光装置に使用されている投影光学系に要求される
解像力は益々高まっている。
リソグラフィ工程で製造する際に、フォトマスク又はレ
チクル（以下、「レチクル」と総称する）のパターン像
を投影光学系を介して例えば１／５程度に縮小して、感
光材（フォトレジスト等）が塗布された基板（ウエハ、
ガラスプレート等）上に露光する投影露光装置が使用さ
れている。半導体素子等の集積度が向上するにつれて、
投影露光装置に使用されている投影光学系に要求される
解像力は益々高まっている。
【０００３】この要求を満足するためには、照明光の波
長を短波長化し且つ投影光学系の開口数（ＮＡ）を大き
くしなければならない。しかしながら、照明光の波長が
短くなると、光の吸収のため実用に耐える硝材の種類が
限られてくる。特に、波長が３００ｎｍ以下になると実
用上使える硝材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のア
ッベ数は色収差を補正するのに十分な程離れていないの
で、波長が３００ｎｍ以下になった場合には、屈折系だ
けで投影光学系を構成したのでは色収差補正が極めて困
難となる。また、蛍石は温度変化による屈折率の変化特
性、所謂温度特性が悪く、更にレンズ研磨の加工上で多
くの問題を持っているため、蛍石を多くの部分に使用す
ることはできない。従って、要求される解像力を有する
投影光学系を屈折系のみで形成することは非常に難し
い。
長を短波長化し且つ投影光学系の開口数（ＮＡ）を大き
くしなければならない。しかしながら、照明光の波長が
短くなると、光の吸収のため実用に耐える硝材の種類が
限られてくる。特に、波長が３００ｎｍ以下になると実
用上使える硝材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のア
ッベ数は色収差を補正するのに十分な程離れていないの
で、波長が３００ｎｍ以下になった場合には、屈折系だ
けで投影光学系を構成したのでは色収差補正が極めて困
難となる。また、蛍石は温度変化による屈折率の変化特
性、所謂温度特性が悪く、更にレンズ研磨の加工上で多
くの問題を持っているため、蛍石を多くの部分に使用す
ることはできない。従って、要求される解像力を有する
投影光学系を屈折系のみで形成することは非常に難し
い。
【０００４】これに対して反射系は色収差が無いため、
反射系のみで投影光学系を構成することも試みられてい
るが、この場合、投影光学系が大型化し、且つ反射面の
非球面化が必要となる。即ち、反射系のみで投影光学系
を構成することも極めて困難である。そこで、反射系と
屈折系とを組み合わせた所謂反射屈折光学系で縮小投影
光学系を構成する技術が種々提案されている。その一例
として例えば特開昭６３−１６３３１９号公報では、リ
ング視野光学系が提案されている。このリング視野光学
系では、入射光と反射光とが互いに干渉しないように軸
外光を用い、且つ軸外の輪帯部のみを露光するように構
成されている。
反射系のみで投影光学系を構成することも試みられてい
るが、この場合、投影光学系が大型化し、且つ反射面の
非球面化が必要となる。即ち、反射系のみで投影光学系
を構成することも極めて困難である。そこで、反射系と
屈折系とを組み合わせた所謂反射屈折光学系で縮小投影
光学系を構成する技術が種々提案されている。その一例
として例えば特開昭６３−１６３３１９号公報では、リ
ング視野光学系が提案されている。このリング視野光学
系では、入射光と反射光とが互いに干渉しないように軸
外光を用い、且つ軸外の輪帯部のみを露光するように構
成されている。
【０００５】また、別の例として、例えば特公昭５１−
２７１１６号公報や特開平２−６６５１０号公報におい
て、内部に半透鏡で構成されるビームスプリッターを配
置することにより、軸上付近の光束を使って一括してレ
チクルの像を投影する反射屈折光学系を備えた縮小投影
型露光装置が提案されている。
２７１１６号公報や特開平２−６６５１０号公報におい
て、内部に半透鏡で構成されるビームスプリッターを配
置することにより、軸上付近の光束を使って一括してレ
チクルの像を投影する反射屈折光学系を備えた縮小投影
型露光装置が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
の内で、リング視野光学系では、入射光と反射光との干
渉を避けるため、多くのミラーを使って光束を何回も反
射させることが必要であり、そのため全体の光学系が複
雑になると共に、開口数を大きくすることが困難である
という不都合がある。
の内で、リング視野光学系では、入射光と反射光との干
渉を避けるため、多くのミラーを使って光束を何回も反
射させることが必要であり、そのため全体の光学系が複
雑になると共に、開口数を大きくすることが困難である
という不都合がある。
【０００７】しかも、露光エリアが狭くレチクルのパタ
ーンを一括で例えばウエハ上に露光することも出来ない
ので、レチクルとウエハとを投影光学系の縮小倍率に応
じて互いに異なる速度で移動しながら露光する、所謂ス
キャン露光を行う必要があった。このため、投影露光装
置の機構部の構成が複雑となり、製造コスト及び露光精
度の点で不利であった。即ち、スキャン露光方式では、
超微細パターンをウエハ上に高精度に露光するのが困難
であり、製造コストも非常に高いものとならざるを得な
かった。
ーンを一括で例えばウエハ上に露光することも出来ない
ので、レチクルとウエハとを投影光学系の縮小倍率に応
じて互いに異なる速度で移動しながら露光する、所謂ス
キャン露光を行う必要があった。このため、投影露光装
置の機構部の構成が複雑となり、製造コスト及び露光精
度の点で不利であった。即ち、スキャン露光方式では、
超微細パターンをウエハ上に高精度に露光するのが困難
であり、製造コストも非常に高いものとならざるを得な
かった。
【０００８】一方、軸上付近の光束を使って一括してレ
チクルの像を投影する従来の反射屈折光学系では、ウエ
ハ面からの反射光による内面反射や、ビームスプリッタ
ー以降の光学系の屈折面での内面反射によるフレアーが
多いという不都合があった。更に、光束の入射角度の変
化によるビームスプリッターの反射特性の不均一性、反
射膜による光の吸収、反射膜における光の位相変化、及
び反射膜自体の不均一性等が結像特性を劣化させるとい
う不都合があり、投影光学系としての総合的な解像力が
劣化し、特に半導体製造用露光装置の投影光学系として
は解像力が十分では無かった。また、ビームスプリッタ
ーによる光量損失のため、光の利用効率が２５％〜１０
％程度の低いものとなり、実用的とは言えなかった。
チクルの像を投影する従来の反射屈折光学系では、ウエ
ハ面からの反射光による内面反射や、ビームスプリッタ
ー以降の光学系の屈折面での内面反射によるフレアーが
多いという不都合があった。更に、光束の入射角度の変
化によるビームスプリッターの反射特性の不均一性、反
射膜による光の吸収、反射膜における光の位相変化、及
び反射膜自体の不均一性等が結像特性を劣化させるとい
う不都合があり、投影光学系としての総合的な解像力が
劣化し、特に半導体製造用露光装置の投影光学系として
は解像力が十分では無かった。また、ビームスプリッタ
ーによる光量損失のため、光の利用効率が２５％〜１０
％程度の低いものとなり、実用的とは言えなかった。
【０００９】本発明は斯かる点に鑑み、半透鏡で構成さ
れるビームスプリッターを用いること無く、反射系と屈
折系とを用いて構成され、且つ軸外光束を用いて輪帯部
のみを露光するリング視野光学系とは異なり一括露光方
式を取ることが出来る、結像性能の優れた反射屈折投影
光学系を提供することを目的とする。
れるビームスプリッターを用いること無く、反射系と屈
折系とを用いて構成され、且つ軸外光束を用いて輪帯部
のみを露光するリング視野光学系とは異なり一括露光方
式を取ることが出来る、結像性能の優れた反射屈折投影
光学系を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明による第１の反射
屈折投影光学系は、例えば図１に示すように、第１面
（１）上のパターンの像を第２面（２）上に投影する光
学系であって、第１面（１）上のパターンの中間像
（３）を結像する第１部分結像光学系と、中間像（３）
の像を第２面（２）上に再結像する第２部分結像光学系
とを配置し、それら２つの部分結像光学系の少なくとも
一方の部分結像光学系は、第１の領域の光を通過させて
この第１の領域とは異なる第２の領域の光を反射すると
共にそれら第１の領域又は第２の領域に中間像（３）が
結像される選択光学系Ｍ1 と、この選択光学系を介して
導かれた光束を再びこの選択光学系に戻す凹面反射鏡Ｍ
2 と、第１面（１）と選択光学系Ｍ1 との間又は選択光
学系Ｍ1 と第２面（２）との間に配置された収斂群Ｇ1
とを有するものである。
屈折投影光学系は、例えば図１に示すように、第１面
（１）上のパターンの像を第２面（２）上に投影する光
学系であって、第１面（１）上のパターンの中間像
（３）を結像する第１部分結像光学系と、中間像（３）
の像を第２面（２）上に再結像する第２部分結像光学系
とを配置し、それら２つの部分結像光学系の少なくとも
一方の部分結像光学系は、第１の領域の光を通過させて
この第１の領域とは異なる第２の領域の光を反射すると
共にそれら第１の領域又は第２の領域に中間像（３）が
結像される選択光学系Ｍ1 と、この選択光学系を介して
導かれた光束を再びこの選択光学系に戻す凹面反射鏡Ｍ
2 と、第１面（１）と選択光学系Ｍ1 との間又は選択光
学系Ｍ1 と第２面（２）との間に配置された収斂群Ｇ1
とを有するものである。
【００１１】なお、図１の光学系は第１部分結像光学系
が凹面反射鏡Ｍ2 を有する例であるが、第２部分結像光
学系が凹面反射鏡Ｍ4 を有する例が図２の光学系であ
る。即ち、図１の光学系及び図２の光学系は共に、本発
明の第１の反射屈折投影光学系に属する。
が凹面反射鏡Ｍ2 を有する例であるが、第２部分結像光
学系が凹面反射鏡Ｍ4 を有する例が図２の光学系であ
る。即ち、図１の光学系及び図２の光学系は共に、本発
明の第１の反射屈折投影光学系に属する。
【００１２】また、第２の反射屈折投影光学系は、例え
ば図３に示すように、第１面（１）上のパターンの像を
第２面（２）上に投影する光学系であって、第１面
（１）上のパターンの中間像（３）を結像する第１部分
結像光学系と、中間像（３）の像を第２面（２）上に結
像する第２部分結像光学系とを配置し、その第１部分結
像光学系は、光軸に対して斜めに配置され第１の領域の
光を通過させて該第１の領域とは異なる第２の領域の光
を反射する選択光学系Ｍ1 と、第１面（１）上のパター
ンからの光束を選択光学系Ｍ1 に導く第１収斂群Ｇ1
と、選択光学系Ｍ1 で反射された光束を反射して選択光
学系Ｍ1 のその第１の領域又はその第２の領域内にその
パターンの中間像（３）を結像する第１凹面反射鏡Ｍ2
とを有し、その第２部分結像光学系は、選択光学系Ｍ1
内の中間像（３）からの光束を再び選択光学系Ｍ1 に戻
す第２凹面反射鏡Ｍ4 と、選択光学系Ｍ1 で再び反射さ
れた光束より中間像（３）の像を第２面（２）上に結像
する第２収斂群Ｇ5 とを有するものである。
ば図３に示すように、第１面（１）上のパターンの像を
第２面（２）上に投影する光学系であって、第１面
（１）上のパターンの中間像（３）を結像する第１部分
結像光学系と、中間像（３）の像を第２面（２）上に結
像する第２部分結像光学系とを配置し、その第１部分結
像光学系は、光軸に対して斜めに配置され第１の領域の
光を通過させて該第１の領域とは異なる第２の領域の光
を反射する選択光学系Ｍ1 と、第１面（１）上のパター
ンからの光束を選択光学系Ｍ1 に導く第１収斂群Ｇ1
と、選択光学系Ｍ1 で反射された光束を反射して選択光
学系Ｍ1 のその第１の領域又はその第２の領域内にその
パターンの中間像（３）を結像する第１凹面反射鏡Ｍ2
とを有し、その第２部分結像光学系は、選択光学系Ｍ1
内の中間像（３）からの光束を再び選択光学系Ｍ1 に戻
す第２凹面反射鏡Ｍ4 と、選択光学系Ｍ1 で再び反射さ
れた光束より中間像（３）の像を第２面（２）上に結像
する第２収斂群Ｇ5 とを有するものである。
【００１３】また、第３の反射屈折投影光学系は、例え
ば図４に示すように、第１面（１）上のパターンの像を
第２面（２）上に投影する光学系であって、第１面
（１）より順に、第１面（１）上のパターンからの光束
を収斂する焦点距離ｆ1 の第１収斂群Ｇ1 と、第１の領
域の光を通過させて該第１の領域とは異なる第２の領域
の光を反射し、第１収斂群Ｇ1 からの光束を後続の光学
系に導く第１選択光学系Ｍ 1 と、第１凹面反射鏡Ｍ2 を
含み、第１選択光学系Ｍ1 からの光束を反射して第１選
択光学系Ｍ1 のその第１の領域又はその第２の領域内に
そのパターンの第１中間像（３）を結像する焦点距離ｆ
2 の第２収斂群Ｇ2 と、第１中間像（３）からの光束を
収斂してそのパターンの第２中間像（４）を結像する焦
点距離ｆ3 の第３収斂群Ｇ3 と、第１の領域の光を通過
させて該第１の領域とは異なる第２の領域の光を反射す
ると共に、該第１の領域又は該第２の領域内に第２中間
像（４）が結像される第２選択光学系Ｍ3 と、第２凹面
反射鏡Ｍ4 を含み、第２中間像（４）からの光束を第２
選択光学系Ｍ3 に戻す焦点距離ｆ4 の第４収斂群Ｇ4
と、第２選択光学系Ｍ3 により導かれた光束を収斂し
て、第２面（２）上にそのパターンの第３中間像を結像
する焦点距離ｆ5 の第５収斂群Ｇ5 と、を有するもので
ある。
ば図４に示すように、第１面（１）上のパターンの像を
第２面（２）上に投影する光学系であって、第１面
（１）より順に、第１面（１）上のパターンからの光束
を収斂する焦点距離ｆ1 の第１収斂群Ｇ1 と、第１の領
域の光を通過させて該第１の領域とは異なる第２の領域
の光を反射し、第１収斂群Ｇ1 からの光束を後続の光学
系に導く第１選択光学系Ｍ 1 と、第１凹面反射鏡Ｍ2 を
含み、第１選択光学系Ｍ1 からの光束を反射して第１選
択光学系Ｍ1 のその第１の領域又はその第２の領域内に
そのパターンの第１中間像（３）を結像する焦点距離ｆ
2 の第２収斂群Ｇ2 と、第１中間像（３）からの光束を
収斂してそのパターンの第２中間像（４）を結像する焦
点距離ｆ3 の第３収斂群Ｇ3 と、第１の領域の光を通過
させて該第１の領域とは異なる第２の領域の光を反射す
ると共に、該第１の領域又は該第２の領域内に第２中間
像（４）が結像される第２選択光学系Ｍ3 と、第２凹面
反射鏡Ｍ4 を含み、第２中間像（４）からの光束を第２
選択光学系Ｍ3 に戻す焦点距離ｆ4 の第４収斂群Ｇ4
と、第２選択光学系Ｍ3 により導かれた光束を収斂し
て、第２面（２）上にそのパターンの第３中間像を結像
する焦点距離ｆ5 の第５収斂群Ｇ5 と、を有するもので
ある。
【００１４】この場合、その第１選択光学系及びその第
２選択光学系の一例は、例えば図４に示すように、それ
ぞれ所定形状の開口（Ｈ1 ，Ｈ2 ）を有し、これら開口
内にそれぞれそのパターンの中間像（３，４）が結像さ
れる反射鏡（Ｍ1 ，Ｍ3 ）である。
２選択光学系の一例は、例えば図４に示すように、それ
ぞれ所定形状の開口（Ｈ1 ，Ｈ2 ）を有し、これら開口
内にそれぞれそのパターンの中間像（３，４）が結像さ
れる反射鏡（Ｍ1 ，Ｍ3 ）である。
【００１５】また、その第１選択光学系及びその第２選
択光学系の他の例は、例えば図５に示すように、それぞ
れ所定形状の反射部を有し、これら反射部内にそれぞれ
そのパターンの中間像（３，４）が結像される小型反射
鏡（Ｍ1 ′，Ｍ3 ′）である。従って、図４の光学系と
図５の光学系とは光学的に等価である。
択光学系の他の例は、例えば図５に示すように、それぞ
れ所定形状の反射部を有し、これら反射部内にそれぞれ
そのパターンの中間像（３，４）が結像される小型反射
鏡（Ｍ1 ′，Ｍ3 ′）である。従って、図４の光学系と
図５の光学系とは光学的に等価である。
【００１６】この場合、図１の光学系は図４の光学系か
ら、第２選択光学系Ｍ3 〜第５収斂群Ｇ5 を省いたもの
と等価であり、図２の光学系は図４の光学系から、第１
収斂群Ｇ1 〜第１選択光学系Ｍ1 を省いたものと等価で
ある。また、図３の光学系は図４の光学系から第３収斂
群Ｇ3 を省いたものと等価である。従って、本発明によ
る第１及び第２の反射屈折投影光学系は、それぞれ本発
明による第３の反射屈折投影光学系から、収斂群Ｇ1 〜
Ｇ5 及び選択光学系Ｍ1,Ｍ2 の中の何れかの要素を省い
たものと考えることができる。そして、このように省か
れた収斂群Ｇ1〜Ｇ5 のペッツバール和を０とみなすこ
とにより、以下の条件式（１）〜（10）において本発明
の第３の反射屈折投影光学系に対して課している条件
は、それぞれ本発明の第１及び第２の反射屈折投影光学
系にも適用されるものである。
ら、第２選択光学系Ｍ3 〜第５収斂群Ｇ5 を省いたもの
と等価であり、図２の光学系は図４の光学系から、第１
収斂群Ｇ1 〜第１選択光学系Ｍ1 を省いたものと等価で
ある。また、図３の光学系は図４の光学系から第３収斂
群Ｇ3 を省いたものと等価である。従って、本発明によ
る第１及び第２の反射屈折投影光学系は、それぞれ本発
明による第３の反射屈折投影光学系から、収斂群Ｇ1 〜
Ｇ5 及び選択光学系Ｍ1,Ｍ2 の中の何れかの要素を省い
たものと考えることができる。そして、このように省か
れた収斂群Ｇ1〜Ｇ5 のペッツバール和を０とみなすこ
とにより、以下の条件式（１）〜（10）において本発明
の第３の反射屈折投影光学系に対して課している条件
は、それぞれ本発明の第１及び第２の反射屈折投影光学
系にも適用されるものである。
【００１７】即ち、先ず、第１収斂群Ｇ1 〜第５収斂群
Ｇ5 の個別のペッツバール和をそれぞれｐ1 〜ｐ5 とし
たとき、次の条件を満足することが望ましい。 ｐ1+ｐ3+ｐ5 ＞０ 且つ ｐ2+ｐ4 ＜０ （１）
Ｇ5 の個別のペッツバール和をそれぞれｐ1 〜ｐ5 とし
たとき、次の条件を満足することが望ましい。 ｐ1+ｐ3+ｐ5 ＞０ 且つ ｐ2+ｐ4 ＜０ （１）
【００１８】また、第１収斂群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2
による第１中間像（３）の結像倍率をβ12、全系の結像
倍率をβとしたとき、次の条件を満足することが望まし
い。 0.1≦｜β12｜≦２ （２） また、第３収斂群Ｇ3 による第１中間像（３）から第２
中間像（４）への結像倍率をβ3 としたとき、次の条件
を満足することが望ましい。
による第１中間像（３）の結像倍率をβ12、全系の結像
倍率をβとしたとき、次の条件を満足することが望まし
い。 0.1≦｜β12｜≦２ （２） また、第３収斂群Ｇ3 による第１中間像（３）から第２
中間像（４）への結像倍率をβ3 としたとき、次の条件
を満足することが望ましい。
【００１９】 0.1≦｜β3 ｜≦２ （３）
【００２０】更に、第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5
による第２中間像（３）から第３中間像（４）への結像
倍率をβ45としたとき、次の条件を満足することが望ま
しい。 0.1≦｜β45｜≦２ （４） また、第１選択光学系Ｍ1 内で中間像（３）が結像され
る領域Ｈ1 の周辺部と第３収斂群Ｇ3 の瞳面とを共役の
関係に設定し、第３収斂群Ｇ3 の瞳面と第２選択光学系
Ｍ3 内で中間像（４）が結像される領域Ｈ2 の周辺部と
を共役の関係に設定することが望ましい。
による第２中間像（３）から第３中間像（４）への結像
倍率をβ45としたとき、次の条件を満足することが望ま
しい。 0.1≦｜β45｜≦２ （４） また、第１選択光学系Ｍ1 内で中間像（３）が結像され
る領域Ｈ1 の周辺部と第３収斂群Ｇ3 の瞳面とを共役の
関係に設定し、第３収斂群Ｇ3 の瞳面と第２選択光学系
Ｍ3 内で中間像（４）が結像される領域Ｈ2 の周辺部と
を共役の関係に設定することが望ましい。
【００２１】更に、第１収斂群Ｇ1 の後側主点と第１選
択光学系Ｍ1 内で中間像（３）が結像される位置との間
隔を第１収斂群Ｇ1 の焦点距離ｆ1 とほぼ等しく設定
し、第１面（１）側でほぼテレセントリック光学系とな
ることが望ましい。また、第５収斂群Ｇ5 の前側主点と
第２選択光学系Ｍ3 内で中間像（４）が結像される位置
との間隔を第５収斂群Ｇ5 の焦点距離ｆ5 とほぼ等しく
設定し、第２面（２）側でほぼテレセントリック光学系
となることが望ましい。
択光学系Ｍ1 内で中間像（３）が結像される位置との間
隔を第１収斂群Ｇ1 の焦点距離ｆ1 とほぼ等しく設定
し、第１面（１）側でほぼテレセントリック光学系とな
ることが望ましい。また、第５収斂群Ｇ5 の前側主点と
第２選択光学系Ｍ3 内で中間像（４）が結像される位置
との間隔を第５収斂群Ｇ5 の焦点距離ｆ5 とほぼ等しく
設定し、第２面（２）側でほぼテレセントリック光学系
となることが望ましい。
【００２２】また、第１収斂群Ｇ1 の後側主点と第１選
択光学系Ｍ1 内で中間像（３）が結像される位置との間
隔を第１収斂群Ｇ1 の焦点距離ｆ1 とほぼ等しく設定
し、第５収斂群Ｇ5 の前側主点と第２選択光学系Ｍ3 内
で中間像（４）が結像される位置との間隔を第５収斂群
Ｇ5 の焦点距離ｆ5 とほぼ等しく設定し、第１面（１）
側及び第２面（２）側でそれぞれほぼテレセントリック
光学系となることが望ましい。
択光学系Ｍ1 内で中間像（３）が結像される位置との間
隔を第１収斂群Ｇ1 の焦点距離ｆ1 とほぼ等しく設定
し、第５収斂群Ｇ5 の前側主点と第２選択光学系Ｍ3 内
で中間像（４）が結像される位置との間隔を第５収斂群
Ｇ5 の焦点距離ｆ5 とほぼ等しく設定し、第１面（１）
側及び第２面（２）側でそれぞれほぼテレセントリック
光学系となることが望ましい。
【００２３】
【作用】斯かる本発明の第１の反射屈折投影光学系によ
れば、第１部分結像光学系による第１面（１）上のパタ
ーンの中間像（３）が、第２部分結像光学系により第２
面（２）上にリレーされる。また、第１部分結像光学系
及び第２部分結像光学系の少なくとも一方に凹面反射鏡
Ｍ2 が使用され、屈折系とその凹面反射鏡Ｍ2 との間の
光路を折り曲げる手段として、中央に開口を有する反射
鏡（例えば図１のＭ1 ）又は中央部だけで光を反射する
小型反射鏡（例えば図５のＭ1 ′）等の選択光学系Ｍ1
が使用されており、この選択光学系Ｍ1 の中央部に中間
像（３）が結像されている。従って、従来のフレア等の
原因になると共に照明光の無駄が多いハーフミラー型の
ビームスプリッターが使用されていないため、光束の大
部分を有効に使うことができる。なお、図１〜図５の光
学系では、それぞれ第１面（１）は物体面、第２面
（２）は像面として表示されている。
れば、第１部分結像光学系による第１面（１）上のパタ
ーンの中間像（３）が、第２部分結像光学系により第２
面（２）上にリレーされる。また、第１部分結像光学系
及び第２部分結像光学系の少なくとも一方に凹面反射鏡
Ｍ2 が使用され、屈折系とその凹面反射鏡Ｍ2 との間の
光路を折り曲げる手段として、中央に開口を有する反射
鏡（例えば図１のＭ1 ）又は中央部だけで光を反射する
小型反射鏡（例えば図５のＭ1 ′）等の選択光学系Ｍ1
が使用されており、この選択光学系Ｍ1 の中央部に中間
像（３）が結像されている。従って、従来のフレア等の
原因になると共に照明光の無駄が多いハーフミラー型の
ビームスプリッターが使用されていないため、光束の大
部分を有効に使うことができる。なお、図１〜図５の光
学系では、それぞれ第１面（１）は物体面、第２面
（２）は像面として表示されている。
【００２４】勿論、選択光学系Ｍ1 の光軸付近の光束は
一部けられて結像に寄与しないため、輪帯状の瞳を持つ
光学系となり、そのときの遮蔽率により、結像特性は種
々に変化したものとなるという特徴を有する。しかしな
がら、最近では遮蔽部のない通常の屈折光学系を投影光
学系として使用する投影露光装置においても、わざわざ
照明光学系の光軸付近の光を遮蔽して解像力を上げる所
謂変形光源法が提案されているくらいであり、結像特性
の変化による像の変化は感光材の特性やレチクルの設計
により補うことが出来るものである。
一部けられて結像に寄与しないため、輪帯状の瞳を持つ
光学系となり、そのときの遮蔽率により、結像特性は種
々に変化したものとなるという特徴を有する。しかしな
がら、最近では遮蔽部のない通常の屈折光学系を投影光
学系として使用する投影露光装置においても、わざわざ
照明光学系の光軸付近の光を遮蔽して解像力を上げる所
謂変形光源法が提案されているくらいであり、結像特性
の変化による像の変化は感光材の特性やレチクルの設計
により補うことが出来るものである。
【００２５】それよりも、トータルの光量損失がハーフ
ミラーを使用するものに比べて少ないと共に、一括露光
が出来て複雑なスキャン露光を必要としないという利点
の方が大きい。また、本発明の第２の反射屈折投影光学
系によれば、例えば図３に示すように、第１凹面反射鏡
Ｍ2 を有する第１部分結像光学系による第１面（１）上
のパターンの中間像（３）が、選択光学系Ｍ2 の光軸近
傍に結像され、この中間像（３）が第２凹面反射鏡Ｍ4
を有する第２部分結像光学系により第２面（２）上にリ
レーされる。従って、ハーフミラー型のビームスプリッ
ターが使用されていないため、光束の大部分を有効に使
うことができる。更に、凹面反射鏡（Ｍ2 ，Ｍ4）が２
個使用されているため、個々の凹面反射鏡の曲率半径
を、凹面反射鏡が１個使用されている場合に比べて２倍
にすることができ、諸収差が低減する。
ミラーを使用するものに比べて少ないと共に、一括露光
が出来て複雑なスキャン露光を必要としないという利点
の方が大きい。また、本発明の第２の反射屈折投影光学
系によれば、例えば図３に示すように、第１凹面反射鏡
Ｍ2 を有する第１部分結像光学系による第１面（１）上
のパターンの中間像（３）が、選択光学系Ｍ2 の光軸近
傍に結像され、この中間像（３）が第２凹面反射鏡Ｍ4
を有する第２部分結像光学系により第２面（２）上にリ
レーされる。従って、ハーフミラー型のビームスプリッ
ターが使用されていないため、光束の大部分を有効に使
うことができる。更に、凹面反射鏡（Ｍ2 ，Ｍ4）が２
個使用されているため、個々の凹面反射鏡の曲率半径
を、凹面反射鏡が１個使用されている場合に比べて２倍
にすることができ、諸収差が低減する。
【００２６】また、本発明の第３の反射屈折投影光学系
によれば、例えば図４に示すように、第１収斂群Ｇ1 及
び主に第１凹面反射鏡Ｍ2 で構成される第２収斂群Ｇ2
による第１面（１）上のパターンの第１中間像（３）が
第１選択光学系Ｍ1 の光軸近傍に結像され、その第１中
間像（３）が第３収斂群Ｇ3 により第２選択光学系Ｍ3
の光軸近傍に第２中間像（４）としてリレーされ、その
第２中間像（４）が主に第２凹面反射鏡Ｍ4 で構成され
る第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5 により第２面
（２）上にリレーされる。従って、ハーフミラー型のビ
ームスプリッターが使用されていないため、光束の大部
分を有効に使うことができると共に、フレア等が減少す
る。
によれば、例えば図４に示すように、第１収斂群Ｇ1 及
び主に第１凹面反射鏡Ｍ2 で構成される第２収斂群Ｇ2
による第１面（１）上のパターンの第１中間像（３）が
第１選択光学系Ｍ1 の光軸近傍に結像され、その第１中
間像（３）が第３収斂群Ｇ3 により第２選択光学系Ｍ3
の光軸近傍に第２中間像（４）としてリレーされ、その
第２中間像（４）が主に第２凹面反射鏡Ｍ4 で構成され
る第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5 により第２面
（２）上にリレーされる。従って、ハーフミラー型のビ
ームスプリッターが使用されていないため、光束の大部
分を有効に使うことができると共に、フレア等が減少す
る。
【００２７】また、第１中間像（３）を第２中間像
（４）にリレーする第３収斂群Ｇ3 が設けられているた
め、投影倍率又は諸収差等の制御範囲が広がる。なお、
その第１選択光学系及びその第２選択光学系として、例
えば図４に示すように、それぞれ所定形状の開口（Ｈ
1 ，Ｈ2 ）を有し、これら開口内にそれぞれそのパター
ンの中間像（３，４）が結像される反射鏡（Ｍ1 ，Ｍ
3 ）を使用した場合と、例えば図５に示すように、それ
ぞれ所定形状の反射部を有し、これら反射部内にそれぞ
れそのパターンの中間像（３，４）が結像される小型反
射鏡（Ｍ1 ′，Ｍ3 ′）を使用した場合とは、光学的に
等価である。
（４）にリレーする第３収斂群Ｇ3 が設けられているた
め、投影倍率又は諸収差等の制御範囲が広がる。なお、
その第１選択光学系及びその第２選択光学系として、例
えば図４に示すように、それぞれ所定形状の開口（Ｈ
1 ，Ｈ2 ）を有し、これら開口内にそれぞれそのパター
ンの中間像（３，４）が結像される反射鏡（Ｍ1 ，Ｍ
3 ）を使用した場合と、例えば図５に示すように、それ
ぞれ所定形状の反射部を有し、これら反射部内にそれぞ
れそのパターンの中間像（３，４）が結像される小型反
射鏡（Ｍ1 ′，Ｍ3 ′）を使用した場合とは、光学的に
等価である。
【００２８】次に、この第３の反射屈折投影光学系にお
いて、結像性能を向上、且つ像面をより平坦にするため
には、先ず光学系全体のペッツバール和を０付近にしな
ければならない。仮にペッツバール和が０付近にないと
投影像面は平坦なものとならず、湾曲したものとなる。
このため、第１収斂群Ｇ1 〜第５収斂群Ｇ5 の焦点距離
をそれぞれｆ1,ｆ2,ｆ3,ｆ4 及びｆ5 とし、各群のペッ
ツバール和をそれぞれｐ1,ｐ2,ｐ3,ｐ4 及びｐ5 とし、
各群のみかけの屈折率（各群の焦点距離をそれら各群の
ペッツバール和で割った値）をそれぞれｎ1,ｎ2,ｎ3,ｎ
4 及びｎ5 とすると、次の関係が成立することが望まし
い。
いて、結像性能を向上、且つ像面をより平坦にするため
には、先ず光学系全体のペッツバール和を０付近にしな
ければならない。仮にペッツバール和が０付近にないと
投影像面は平坦なものとならず、湾曲したものとなる。
このため、第１収斂群Ｇ1 〜第５収斂群Ｇ5 の焦点距離
をそれぞれｆ1,ｆ2,ｆ3,ｆ4 及びｆ5 とし、各群のペッ
ツバール和をそれぞれｐ1,ｐ2,ｐ3,ｐ4 及びｐ5 とし、
各群のみかけの屈折率（各群の焦点距離をそれら各群の
ペッツバール和で割った値）をそれぞれｎ1,ｎ2,ｎ3,ｎ
4 及びｎ5 とすると、次の関係が成立することが望まし
い。
【００２９】 −０．０１＜ｐ1+ｐ2+ｐ3+ｐ4+ｐ5 ＜０．０１ （５）
【００３０】この式を満足しないと像面は十分に平坦と
ならず、仮に下限を越えると像面は第１面（１）に対し
て凹の湾曲をし、仮に上限を越えると像面は第１面
（１）に対し凸の湾曲をする。本発明ではその（５）式
の条件を満足するために、全系のペッツバール和を第１
の部分和（ｐ1+ｐ3+ｐ5 ）と第２の部分和（ｐ2+ｐ4 ）
とに分け、それぞれの部分和が（１）式の条件で示すよ
うに逆符号になるようにしている。
ならず、仮に下限を越えると像面は第１面（１）に対し
て凹の湾曲をし、仮に上限を越えると像面は第１面
（１）に対し凸の湾曲をする。本発明ではその（５）式
の条件を満足するために、全系のペッツバール和を第１
の部分和（ｐ1+ｐ3+ｐ5 ）と第２の部分和（ｐ2+ｐ4 ）
とに分け、それぞれの部分和が（１）式の条件で示すよ
うに逆符号になるようにしている。
【００３１】この場合、それぞれの群のペッツバール和
の内のｐ1,ｐ3 及びｐ5 は、それぞれ次のように表され
る。 ｐ1 ＝１／（ｆ1 ｎ1 ） （６） ｐ3 ＝１／（ｆ3 ｎ3 ） （７） ｐ5 ＝１／（ｆ5 ｎ5 ） （８）
の内のｐ1,ｐ3 及びｐ5 は、それぞれ次のように表され
る。 ｐ1 ＝１／（ｆ1 ｎ1 ） （６） ｐ3 ＝１／（ｆ3 ｎ3 ） （７） ｐ5 ＝１／（ｆ5 ｎ5 ） （８）
【００３２】特に、２群及び４群のペッツバール和ｐ2
及びｐ4 については、次の条件を満たすことが望まし
い。 ０≦ｎ2 ｐ2 ≦２／｜Ｒ2 ｜ （９） ０≦ｎ4 ｐ4 ≦２／｜Ｒ4 ｜ (10)
及びｐ4 については、次の条件を満たすことが望まし
い。 ０≦ｎ2 ｐ2 ≦２／｜Ｒ2 ｜ （９） ０≦ｎ4 ｐ4 ≦２／｜Ｒ4 ｜ (10)
【００３３】これら（９）式及び（１０）式において、
Ｒ2 は第２収斂群Ｇ2 の一部を構成する第１凹面反射鏡
Ｍ2 の曲率半径であり、ｎ2 は第２収斂群Ｇ2 のみかけ
の屈折率であり、同様にＲ4 は第４収斂群Ｇ4 の一部を
構成する第２凹面反射鏡Ｍ4の曲率半径であり、ｎ4 は
第４収斂群Ｇ4 のみかけの屈折率である。（９）式及び
（１０）式において、それぞれ下限を越えると、全系の
ペッツバール和は正になり過ぎ、上限を越えると負にな
り過ぎる。
Ｒ2 は第２収斂群Ｇ2 の一部を構成する第１凹面反射鏡
Ｍ2 の曲率半径であり、ｎ2 は第２収斂群Ｇ2 のみかけ
の屈折率であり、同様にＲ4 は第４収斂群Ｇ4 の一部を
構成する第２凹面反射鏡Ｍ4の曲率半径であり、ｎ4 は
第４収斂群Ｇ4 のみかけの屈折率である。（９）式及び
（１０）式において、それぞれ下限を越えると、全系の
ペッツバール和は正になり過ぎ、上限を越えると負にな
り過ぎる。
【００３４】また、光学系の第１収斂群Ｇ1 と第２収斂
群Ｇ2 とによる第１次結像の結像倍率をβ12とし、全系
の結像倍率をβとすると、（２）式の条件を満足するこ
とが望ましく、仮に（２）式の下限を越えると、第１選
択光学系Ｍ1 上の第１中間像の結像領域Ｈ1 を大きく取
らなければならなくなり、遮蔽率が増えて、光量の損失
が大きくなり、結像性能が悪くなる。仮に（２）式の上
限を越えると、第１収斂群Ｇ1 と第２収斂群Ｇ2 とによ
る第１次結像における収差が大きくなり、やはり結像性
能が悪くなる。
群Ｇ2 とによる第１次結像の結像倍率をβ12とし、全系
の結像倍率をβとすると、（２）式の条件を満足するこ
とが望ましく、仮に（２）式の下限を越えると、第１選
択光学系Ｍ1 上の第１中間像の結像領域Ｈ1 を大きく取
らなければならなくなり、遮蔽率が増えて、光量の損失
が大きくなり、結像性能が悪くなる。仮に（２）式の上
限を越えると、第１収斂群Ｇ1 と第２収斂群Ｇ2 とによ
る第１次結像における収差が大きくなり、やはり結像性
能が悪くなる。
【００３５】また、第３収斂群Ｇ3 による第２次結像の
結像倍率をβ3 とすると、（３）式の条件を満足するこ
とが望ましく、仮に（３）式の下限を越えると、第２選
択光学系Ｍ3 上の第２中間像の結像領域Ｈ2 を大きく取
らなければならなくなり、仮に上限を越えると、遮蔽率
が増えて、光量の損失量が増えるのみならず、結像性能
が悪くなる。仮に（３）式の上限を越えると、第３収斂
群Ｇ3 による第２次結像における収差が大きくなり、や
はり結像性能が悪くなる。
結像倍率をβ3 とすると、（３）式の条件を満足するこ
とが望ましく、仮に（３）式の下限を越えると、第２選
択光学系Ｍ3 上の第２中間像の結像領域Ｈ2 を大きく取
らなければならなくなり、仮に上限を越えると、遮蔽率
が増えて、光量の損失量が増えるのみならず、結像性能
が悪くなる。仮に（３）式の上限を越えると、第３収斂
群Ｇ3 による第２次結像における収差が大きくなり、や
はり結像性能が悪くなる。
【００３６】また、第４収斂群Ｇ4 と第５収斂群Ｇ5 に
よる第３次結像の結像倍率をβ45とすると、（３）式の
条件を満足することが望ましく、仮に（４）式の下限を
越えると、第４収斂群Ｇ4 と第５収斂群Ｇ5 による第３
次結像における収差が大きくなり結像性能が悪くなる。
仮に（４）式の上限を越えると、第２選択光学系Ｍ3上
で第２中間像（４）が結像される領域Ｈ2 を大きく取ら
なければならなくなり、遮蔽率が増えて、光量の損失量
が増して、結像性能が悪くなる。
よる第３次結像の結像倍率をβ45とすると、（３）式の
条件を満足することが望ましく、仮に（４）式の下限を
越えると、第４収斂群Ｇ4 と第５収斂群Ｇ5 による第３
次結像における収差が大きくなり結像性能が悪くなる。
仮に（４）式の上限を越えると、第２選択光学系Ｍ3上
で第２中間像（４）が結像される領域Ｈ2 を大きく取ら
なければならなくなり、遮蔽率が増えて、光量の損失量
が増して、結像性能が悪くなる。
【００３７】また、第３収斂群Ｇ3 の中にある開口絞り
の位置（ここでは実際に光束が絞られることはなく、主
光線が光軸と交わる位置を言う）を瞳面ｓとすれば、第
１選択光学系Ｍ1 の領域Ｈ1 の周辺部から第２収斂群Ｇ
2 で反射して、再び領域Ｈ1を通って第３収斂群Ｇ3 の
中の瞳面ｓに到達する光路は、物体と像の関係にある。
つまり、領域Ｈ1 の周辺部と瞳面ｓとは共役の関係にあ
ることが望ましい。更に、瞳面ｓから第２選択光学系Ｍ
3 の領域Ｈ2 を経て第収斂群Ｇ4 で反射されて、再び領
域Ｈ2 の周辺部に到達する光路も、物体と像の関係にあ
り、瞳面ｓと領域Ｈ2 の周辺部とは共役の関係にあるこ
とが望ましい。
の位置（ここでは実際に光束が絞られることはなく、主
光線が光軸と交わる位置を言う）を瞳面ｓとすれば、第
１選択光学系Ｍ1 の領域Ｈ1 の周辺部から第２収斂群Ｇ
2 で反射して、再び領域Ｈ1を通って第３収斂群Ｇ3 の
中の瞳面ｓに到達する光路は、物体と像の関係にある。
つまり、領域Ｈ1 の周辺部と瞳面ｓとは共役の関係にあ
ることが望ましい。更に、瞳面ｓから第２選択光学系Ｍ
3 の領域Ｈ2 を経て第収斂群Ｇ4 で反射されて、再び領
域Ｈ2 の周辺部に到達する光路も、物体と像の関係にあ
り、瞳面ｓと領域Ｈ2 の周辺部とは共役の関係にあるこ
とが望ましい。
【００３８】また、例えば図３に示すような、第３収斂
群Ｇ3 が省略された光学系においては、第１選択光学系
Ｍ1 の領域Ｈ1 の周辺部を経て第２収斂群Ｇ2 で反射し
て、再び領域Ｈ1 を通り、その後第４収斂群Ｇ4 で反射
されて、再び領域Ｈ1 の周辺部に到達する光路も、物体
と像の関係にある。つまり、領域Ｈ1 の一方の面の周辺
部と領域Ｈ1 の他方の面の周辺部とは共役の関係にある
ことが望ましい。
群Ｇ3 が省略された光学系においては、第１選択光学系
Ｍ1 の領域Ｈ1 の周辺部を経て第２収斂群Ｇ2 で反射し
て、再び領域Ｈ1 を通り、その後第４収斂群Ｇ4 で反射
されて、再び領域Ｈ1 の周辺部に到達する光路も、物体
と像の関係にある。つまり、領域Ｈ1 の一方の面の周辺
部と領域Ｈ1 の他方の面の周辺部とは共役の関係にある
ことが望ましい。
【００３９】また、例えば図１に示すような、第４収斂
群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5 が省略された光学系において
は、第１選択光学系Ｍ1 の領域Ｈ1 の周辺部を経て第２
収斂群Ｇ2 で反射された後、再び領域Ｈ1 を通り、第３
収斂群Ｇ3 の中の瞳面ｓに到達する光路は、物体と像の
関係にある。つまり、領域Ｈ1 の周辺部と瞳面ｓとは共
役の関係にあることが望ましい。
群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5 が省略された光学系において
は、第１選択光学系Ｍ1 の領域Ｈ1 の周辺部を経て第２
収斂群Ｇ2 で反射された後、再び領域Ｈ1 を通り、第３
収斂群Ｇ3 の中の瞳面ｓに到達する光路は、物体と像の
関係にある。つまり、領域Ｈ1 の周辺部と瞳面ｓとは共
役の関係にあることが望ましい。
【００４０】また、例えば図２に示すような、第１収斂
群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2 が省略された光学系において
は、第３収斂群Ｇ3 の中の瞳面ｓからでて、第２選択光
学系Ｍ3 の領域Ｈ2 を経て第４収斂群Ｇ4 で反射された
後、再び領域Ｈ2 に到達する光路も、物体と像の関係に
ある。つまり、瞳面ｓと領域Ｈ2 の周辺部とは共役の関
係にあることが望ましい。
群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2 が省略された光学系において
は、第３収斂群Ｇ3 の中の瞳面ｓからでて、第２選択光
学系Ｍ3 の領域Ｈ2 を経て第４収斂群Ｇ4 で反射された
後、再び領域Ｈ2 に到達する光路も、物体と像の関係に
ある。つまり、瞳面ｓと領域Ｈ2 の周辺部とは共役の関
係にあることが望ましい。
【００４１】仮に以上に述べたような共役関係が崩れる
と、領域Ｈ1 又は領域Ｈ2 による瞳面ｓの遮蔽部分が瞳
の中央から、像高に対応してずれてくるため、像高によ
って光学系の結像特性が変化してしまうという不都合が
生じる。また、第１面（１）側において、略々テレセン
トリック光学系であると、照明系の光学系が大きくなら
ず、都合が良い。そして、第２面（２）側において、略
々テレセントリック光学系であると、第２面（２）上の
感光基板までの距離が多少変化しても、倍率の変化はな
く、幾重もの重ね焼きを行っても寸法のずれがなくなり
都合が良い。
と、領域Ｈ1 又は領域Ｈ2 による瞳面ｓの遮蔽部分が瞳
の中央から、像高に対応してずれてくるため、像高によ
って光学系の結像特性が変化してしまうという不都合が
生じる。また、第１面（１）側において、略々テレセン
トリック光学系であると、照明系の光学系が大きくなら
ず、都合が良い。そして、第２面（２）側において、略
々テレセントリック光学系であると、第２面（２）上の
感光基板までの距離が多少変化しても、倍率の変化はな
く、幾重もの重ね焼きを行っても寸法のずれがなくなり
都合が良い。
【００４２】更に、第１面（１）側及び第２面（２）側
において、それぞれ略々テレセントリック光学系である
と、照明光学系が大きくならず、且つ第２面（２）上の
感光基板までの距離が多少変化しても、倍率の変化はな
く、幾重もの重ね焼きを行っても寸法のずれがなくなり
都合が良い。
において、それぞれ略々テレセントリック光学系である
と、照明光学系が大きくならず、且つ第２面（２）上の
感光基板までの距離が多少変化しても、倍率の変化はな
く、幾重もの重ね焼きを行っても寸法のずれがなくなり
都合が良い。
【００４３】
【実施例】以下、本発明による反射屈折投影光学系の種
々の実施例につき図面を参照して説明する。本例は、レ
チクルのパターンの像をフォトレジストが塗布されたウ
エハ上に所定倍率（等倍を含む）で投影する投影露光装
置の投影光学系に本発明を適用したものである。
々の実施例につき図面を参照して説明する。本例は、レ
チクルのパターンの像をフォトレジストが塗布されたウ
エハ上に所定倍率（等倍を含む）で投影する投影露光装
置の投影光学系に本発明を適用したものである。
【００４４】以下の実施例ではレンズ配置を例えば図６
に示すように、展開光路図で表す。展開光路図において
は、反射面は透過面として表され、レチクル１０からの
光が通過する順に各光学要素が配列される。また、凹面
反射鏡の部分（例えばｒ9 ）では、平面の仮想面（例え
ばｒ10）が使用される。そして、レンズの形状及び間隔
を表すために、例えば図６に示すように、レチクル１０
のパターン面を第０面として、レチクル１０から射出さ
れた光がウェハ１１に達するまでに通過する面を順次第
ｉ面（ｉ＝１，２，‥‥）として、第ｉ面の曲率半径ｒ
i の符号は、展開光路図の中でレチクル１０に対して凸
の場合を正にとる。また、第ｉ面と第（ｉ＋１）面との
面間隔をｄi とする。また、硝材として、ＣａＦ2 は蛍
石、ＳｉＯ2 は石英ガラスをそれぞれ表す。石英ガラス
及び蛍石の使用基準波長（２４８ｎｍ）に対する屈折率
は次のとおりである。 石英ガラス： １．５０８３２７ 蛍 石 ： １．４６７８４５
に示すように、展開光路図で表す。展開光路図において
は、反射面は透過面として表され、レチクル１０からの
光が通過する順に各光学要素が配列される。また、凹面
反射鏡の部分（例えばｒ9 ）では、平面の仮想面（例え
ばｒ10）が使用される。そして、レンズの形状及び間隔
を表すために、例えば図６に示すように、レチクル１０
のパターン面を第０面として、レチクル１０から射出さ
れた光がウェハ１１に達するまでに通過する面を順次第
ｉ面（ｉ＝１，２，‥‥）として、第ｉ面の曲率半径ｒ
i の符号は、展開光路図の中でレチクル１０に対して凸
の場合を正にとる。また、第ｉ面と第（ｉ＋１）面との
面間隔をｄi とする。また、硝材として、ＣａＦ2 は蛍
石、ＳｉＯ2 は石英ガラスをそれぞれ表す。石英ガラス
及び蛍石の使用基準波長（２４８ｎｍ）に対する屈折率
は次のとおりである。 石英ガラス： １．５０８３２７ 蛍 石 ： １．４６７８４５
【００４５】また、使用基準波長が１９３ｎｍでは石英
ガラスの屈折率は次のようになる。 石英ガラス： １．５６１００
ガラスの屈折率は次のようになる。 石英ガラス： １．５６１００
【００４６】［第１実施例］この第１実施例は等倍の投
影光学系である。この第１実施例から以下の第３実施例
までは、図４の光学系に対応する実施例である。図６は
第１実施例の投影光学系の展開光路図であり、この図６
に示すように、レチクル１０上のパターンからの光が、
第１収斂群Ｇ1 を経て、中央に開口を持ち光軸に対して
４５°で斜設された第１平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射され
た後、第１凹面反射鏡Ｍ2 よりなる第２収斂群Ｇ2 に至
り、第２収斂群Ｇ2 で反射された光が第１平面鏡Ｍ1 の
開口内にそのパターンの第１中間像を結像する。そし
て、この第１中間像からの光が、凹面反射鏡Ｍ31を有す
る第３収斂群Ｇ3 を経て、中央に開口を持ち光軸に対し
て４５°で斜設された第２平面鏡Ｍ3 の開口内にそのパ
ターンの第２中間像を結像し、この第２中間像からの光
が第２凹面反射鏡Ｍ4 よりなる第４収斂群Ｇ4 に至り、
第４収斂群Ｇ4 で反射された光が第２平面鏡Ｍ3 の周辺
で反射される。このように反射された光が、第５収斂群
Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパターンの第３中間
像を結像する。
影光学系である。この第１実施例から以下の第３実施例
までは、図４の光学系に対応する実施例である。図６は
第１実施例の投影光学系の展開光路図であり、この図６
に示すように、レチクル１０上のパターンからの光が、
第１収斂群Ｇ1 を経て、中央に開口を持ち光軸に対して
４５°で斜設された第１平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射され
た後、第１凹面反射鏡Ｍ2 よりなる第２収斂群Ｇ2 に至
り、第２収斂群Ｇ2 で反射された光が第１平面鏡Ｍ1 の
開口内にそのパターンの第１中間像を結像する。そし
て、この第１中間像からの光が、凹面反射鏡Ｍ31を有す
る第３収斂群Ｇ3 を経て、中央に開口を持ち光軸に対し
て４５°で斜設された第２平面鏡Ｍ3 の開口内にそのパ
ターンの第２中間像を結像し、この第２中間像からの光
が第２凹面反射鏡Ｍ4 よりなる第４収斂群Ｇ4 に至り、
第４収斂群Ｇ4 で反射された光が第２平面鏡Ｍ3 の周辺
で反射される。このように反射された光が、第５収斂群
Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパターンの第３中間
像を結像する。
【００４７】また、図７は図６中の第１収斂群Ｇ1 の詳
細な構成を示し、この図７に示すように、第１収斂群Ｇ
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ11、両凸レンズ（以下、単に
「凸レンズ」という）Ｌ12、レチクル１０に凹面を向け
た正メニスカスレンズＬ13及びレチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ14より構成されている。ま
た、図６に示すように、第３収斂群Ｇ3 は、レチクル１
０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ31、凹面反射鏡
Ｍ31及びレチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレン
ズＬ32より構成され、第５収斂群Ｇ5 は、第１収斂群Ｇ
1 と対称に構成されている。
細な構成を示し、この図７に示すように、第１収斂群Ｇ
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ11、両凸レンズ（以下、単に
「凸レンズ」という）Ｌ12、レチクル１０に凹面を向け
た正メニスカスレンズＬ13及びレチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ14より構成されている。ま
た、図６に示すように、第３収斂群Ｇ3 は、レチクル１
０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ31、凹面反射鏡
Ｍ31及びレチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレン
ズＬ32より構成され、第５収斂群Ｇ5 は、第１収斂群Ｇ
1 と対称に構成されている。
【００４８】即ち、本例は、光軸近傍に開口を有する２
枚の平面鏡、３枚の凹面反射鏡及び１０枚の屈折レンズ
よりなる対称型の光学系となっており、開口数は０．４
５、像高は１０ｍｍ、最大ミラー半径は４８６ｍｍであ
る。但し、ほとんど無収差に近い光学性能となっている
ので、光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍に拡
大することが出来ることは明らかである。
枚の平面鏡、３枚の凹面反射鏡及び１０枚の屈折レンズ
よりなる対称型の光学系となっており、開口数は０．４
５、像高は１０ｍｍ、最大ミラー半径は４８６ｍｍであ
る。但し、ほとんど無収差に近い光学性能となっている
ので、光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍に拡
大することが出来ることは明らかである。
【００４９】屈折レンズは全て溶融石英よりなる一種類
の光学ガラスを使っているが、紫外線エキシマレーザー
光の１９３ｎｍの波長における、１ｎｍの波長幅に対し
て、軸上及び軸外の色消しがなされている。また球面収
差、コマ収差、非点収差、歪曲収差も良好に補正されて
いる。図６の第１実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表１に示す。以下の表において、第
１０面、第１４面及び第１８面はそれぞれ凹面反射鏡を
展開光路図で表すための仮想面である。
の光学ガラスを使っているが、紫外線エキシマレーザー
光の１９３ｎｍの波長における、１ｎｍの波長幅に対し
て、軸上及び軸外の色消しがなされている。また球面収
差、コマ収差、非点収差、歪曲収差も良好に補正されて
いる。図６の第１実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表１に示す。以下の表において、第
１０面、第１４面及び第１８面はそれぞれ凹面反射鏡を
展開光路図で表すための仮想面である。
【００５０】
【表１】
【００５１】また、図８（ａ）〜（ｃ）は第１実施例の
縦収差図、図８（ｃ）は第１実施例の倍率色収差図、図
８（ｅ）は第１実施例の横収差図を示す。これらの収差
図において、符号Ｊ、Ｐ及びＱは使用波長がそれぞれ２
４８．４ｎｍ、２４７．９ｎｍ及び２４８．９ｎｍであ
ることを示す。これら収差図より、本例においては開口
数が０．４５と大きいにも拘らず、広いイメージサーク
ルの領域内で諸収差が良好に補正されていることが分か
る。また、色収差も良好に補正されている。
縦収差図、図８（ｃ）は第１実施例の倍率色収差図、図
８（ｅ）は第１実施例の横収差図を示す。これらの収差
図において、符号Ｊ、Ｐ及びＱは使用波長がそれぞれ２
４８．４ｎｍ、２４７．９ｎｍ及び２４８．９ｎｍであ
ることを示す。これら収差図より、本例においては開口
数が０．４５と大きいにも拘らず、広いイメージサーク
ルの領域内で諸収差が良好に補正されていることが分か
る。また、色収差も良好に補正されている。
【００５２】なお、図６において、開口を有する平面鏡
Ｍ1,Ｍ3 の代わりにそれぞれ図５に示すような小型平面
鏡Ｍ1′,Ｍ3 ′を使用しても、等価な光学系が実現でき
ることは既に説明した通りである。更に、平面鏡Ｍ1,Ｍ
3 の代わりに、開口を有する凹面鏡又は凸面鏡を使用し
ても良く、更に小型凹面鏡や小型凸面鏡を使用しても良
い。
Ｍ1,Ｍ3 の代わりにそれぞれ図５に示すような小型平面
鏡Ｍ1′,Ｍ3 ′を使用しても、等価な光学系が実現でき
ることは既に説明した通りである。更に、平面鏡Ｍ1,Ｍ
3 の代わりに、開口を有する凹面鏡又は凸面鏡を使用し
ても良く、更に小型凹面鏡や小型凸面鏡を使用しても良
い。
【００５３】［第２実施例］この第２実施例も等倍の投
影光学系の例である。図９は第２実施例の投影光学系の
展開光路図であり、この図９に示すように、レチクル１
０上のパターンからの光が、第１収斂群Ｇ1 を経て、中
央に開口を持ち光軸に対して４５°で斜設された第１平
面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された後、第１凹面反射鏡Ｍ2
を含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂群Ｇ2 で反射さ
れた光が第１平面鏡Ｍ1 の開口内にそのパターンの第１
中間像を結像する。そして、この第１中間像からの光
が、第３収斂群Ｇ3 を経て、中央に開口を持ち光軸に対
して４５°で斜設された第２平面鏡Ｍ3 の開口内にその
パターンの第２中間像を結像し、この第２中間像からの
光が第２凹面反射鏡Ｍ4 を含む第４収斂群Ｇ4 に至り、
第４収斂群Ｇ4 で反射された光が第２平面鏡Ｍ3 の周辺
で反射される。このように反射された光が、第５収斂群
Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパターンの第３中間
像を結像する。
影光学系の例である。図９は第２実施例の投影光学系の
展開光路図であり、この図９に示すように、レチクル１
０上のパターンからの光が、第１収斂群Ｇ1 を経て、中
央に開口を持ち光軸に対して４５°で斜設された第１平
面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された後、第１凹面反射鏡Ｍ2
を含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂群Ｇ2 で反射さ
れた光が第１平面鏡Ｍ1 の開口内にそのパターンの第１
中間像を結像する。そして、この第１中間像からの光
が、第３収斂群Ｇ3 を経て、中央に開口を持ち光軸に対
して４５°で斜設された第２平面鏡Ｍ3 の開口内にその
パターンの第２中間像を結像し、この第２中間像からの
光が第２凹面反射鏡Ｍ4 を含む第４収斂群Ｇ4 に至り、
第４収斂群Ｇ4 で反射された光が第２平面鏡Ｍ3 の周辺
で反射される。このように反射された光が、第５収斂群
Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパターンの第３中間
像を結像する。
【００５４】また、図９に示すように、第１収斂群Ｇ1
はレチクル１０側から順に、凸レンズＬ11、両凹レンズ
（以下、単に「凹レンズ」という）Ｌ12、レチクル１０
に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ13及びレチクル１
０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ14より構成さ
れ、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０に凹面を向けた負
メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡Ｍ2 よりなるマン
ジンミラーである。また、第３収斂群Ｇ3 は、凹レンズ
Ｌ31、凸レンズＬ32、凹レンズＬ33、レチクル１０に凹
面を向けた正メニスカスレンズＬ34、レチクル１０に凸
面を向けた負メニスカスレンズＬ35、レチクル１０に凹
面を向けた正メニスカスレンズＬ36、凸レンズＬ37、レ
チクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ38、凸
レンズＬ39及びこれらのレンズＬ31〜Ｌ39と対称なレン
ズＬ3A〜Ｌ3Iより構成されている。
はレチクル１０側から順に、凸レンズＬ11、両凹レンズ
（以下、単に「凹レンズ」という）Ｌ12、レチクル１０
に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ13及びレチクル１
０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ14より構成さ
れ、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０に凹面を向けた負
メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡Ｍ2 よりなるマン
ジンミラーである。また、第３収斂群Ｇ3 は、凹レンズ
Ｌ31、凸レンズＬ32、凹レンズＬ33、レチクル１０に凹
面を向けた正メニスカスレンズＬ34、レチクル１０に凸
面を向けた負メニスカスレンズＬ35、レチクル１０に凹
面を向けた正メニスカスレンズＬ36、凸レンズＬ37、レ
チクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ38、凸
レンズＬ39及びこれらのレンズＬ31〜Ｌ39と対称なレン
ズＬ3A〜Ｌ3Iより構成されている。
【００５５】そして、第４収斂群Ｇ4 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ41及び第２凹面反
射鏡Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ
5 は、第１収斂群Ｇ1 と対称に構成されている。即ち、
本例は、中央に開口を持つ２枚の平面鏡、２枚の凹面反
射鏡及び２８枚の屈折レンズよりなる対称型の光学系と
なっており、開口数は０．４５、像高は５ｍｍ、最大ミ
ラー半径は７５ｍｍである。但し、本例もほとんど無収
差に近い光学性能が得られているので、光学系の比例拡
大により、像高を２倍〜３倍と更に大きくすることが出
来ることは明らかである。
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ41及び第２凹面反
射鏡Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ
5 は、第１収斂群Ｇ1 と対称に構成されている。即ち、
本例は、中央に開口を持つ２枚の平面鏡、２枚の凹面反
射鏡及び２８枚の屈折レンズよりなる対称型の光学系と
なっており、開口数は０．４５、像高は５ｍｍ、最大ミ
ラー半径は７５ｍｍである。但し、本例もほとんど無収
差に近い光学性能が得られているので、光学系の比例拡
大により、像高を２倍〜３倍と更に大きくすることが出
来ることは明らかである。
【００５６】また、第２収斂群Ｇ2 及び第４収斂群Ｇ4
は、それぞれ一枚の負メニスカスレンズを含み、屈折レ
ンズと凹面反射鏡とが分離されたタイプのマンジンミラ
ーの構成をとっている。このように、第２凹面反射鏡Ｍ
2 を含む第２収斂群Ｇ2 が、負メニスカスレンズＬ21を
含むマンジンミラーであると、少ない種類の光学ガラス
でも軸上の色収差を容易に除去することが出来る。同様
に、第２凹面反射鏡Ｍ 4 を含む第４収斂群Ｇ4 が、負メ
ニスカスレンズＬ41を含むマンジンミラーである場合
も、少ない種類の光学ガラスで軸上の色収差を容易に除
去することが出来る。
は、それぞれ一枚の負メニスカスレンズを含み、屈折レ
ンズと凹面反射鏡とが分離されたタイプのマンジンミラ
ーの構成をとっている。このように、第２凹面反射鏡Ｍ
2 を含む第２収斂群Ｇ2 が、負メニスカスレンズＬ21を
含むマンジンミラーであると、少ない種類の光学ガラス
でも軸上の色収差を容易に除去することが出来る。同様
に、第２凹面反射鏡Ｍ 4 を含む第４収斂群Ｇ4 が、負メ
ニスカスレンズＬ41を含むマンジンミラーである場合
も、少ない種類の光学ガラスで軸上の色収差を容易に除
去することが出来る。
【００５７】従って、この第２実施例のように、第２収
斂群Ｇ2 が、負メニスカスレンズを含むマンジンミラー
であり、且つ第４収斂群Ｇ4 も、負メニスカスレンズを
含むマンジンミラーである場合には、全体として少ない
種類の光学ガラスで軸上の色収差を容易に除去すること
が出来る。本例の光学系も、屈折レンズは全て溶融石英
よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線エ
キシマレーザー光の２４８ｎｍの波長における、１ｎｍ
の波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされてい
る。また球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収差も
良好に補正された結像性能の優れた光学系となってい
る。
斂群Ｇ2 が、負メニスカスレンズを含むマンジンミラー
であり、且つ第４収斂群Ｇ4 も、負メニスカスレンズを
含むマンジンミラーである場合には、全体として少ない
種類の光学ガラスで軸上の色収差を容易に除去すること
が出来る。本例の光学系も、屈折レンズは全て溶融石英
よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線エ
キシマレーザー光の２４８ｎｍの波長における、１ｎｍ
の波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされてい
る。また球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収差も
良好に補正された結像性能の優れた光学系となってい
る。
【００５８】第２実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表２に示す。以下の表において、第
１２面及び第５３面はそれぞれ凹面反射鏡を展開光路図
で表すための仮想面である。
ｄi 及び硝材を次の表２に示す。以下の表において、第
１２面及び第５３面はそれぞれ凹面反射鏡を展開光路図
で表すための仮想面である。
【００５９】
【表２】
【００６０】また、図１０（ａ）〜（ｃ）は第２実施例
の縦収差図、図１０（ｃ）は第２実施例の倍率色収差
図、図１０（ｅ）は第２実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
の縦収差図、図１０（ｃ）は第２実施例の倍率色収差
図、図１０（ｅ）は第２実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
【００６１】［第３実施例］この第３実施例は縮小投影
を行う投影光学系の例である。図１１は第３実施例の投
影光学系の展開光路図であり、この図１１に示すよう
に、レチクル１０上のパターンからの光が、第１収斂群
Ｇ1 を経て、中央に開口を持ち光軸に対して４５°で斜
設された第１平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された後、第１
凹面反射鏡Ｍ2を含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂
群Ｇ2 で反射された光が第１平面鏡Ｍ1の開口内にその
パターンの第１中間像を結像する。そして、この第１中
間像からの光が、第３収斂群Ｇ3 を経て、中央に開口を
持ち光軸に対して４５°で斜設された第２平面鏡Ｍ3 の
開口内にそのパターンの第２中間像を結像し、この第２
中間像からの光が第２凹面反射鏡Ｍ4 を含む第４収斂群
Ｇ4 に至り、第４収斂群Ｇ 4 で反射された光が第２平面
鏡Ｍ3 の周辺で反射される。このように反射された光
が、第５収斂群Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパタ
ーンの第３中間像を結像する。
を行う投影光学系の例である。図１１は第３実施例の投
影光学系の展開光路図であり、この図１１に示すよう
に、レチクル１０上のパターンからの光が、第１収斂群
Ｇ1 を経て、中央に開口を持ち光軸に対して４５°で斜
設された第１平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された後、第１
凹面反射鏡Ｍ2を含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂
群Ｇ2 で反射された光が第１平面鏡Ｍ1の開口内にその
パターンの第１中間像を結像する。そして、この第１中
間像からの光が、第３収斂群Ｇ3 を経て、中央に開口を
持ち光軸に対して４５°で斜設された第２平面鏡Ｍ3 の
開口内にそのパターンの第２中間像を結像し、この第２
中間像からの光が第２凹面反射鏡Ｍ4 を含む第４収斂群
Ｇ4 に至り、第４収斂群Ｇ 4 で反射された光が第２平面
鏡Ｍ3 の周辺で反射される。このように反射された光
が、第５収斂群Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパタ
ーンの第３中間像を結像する。
【００６２】また、図１１に示すように、第１収斂群Ｇ
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凹面を向
けた正メニスカスレンズＬ11、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ12、凸レンズＬ13及びレチク
ル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ14より構成
され、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０に凹面を向けた
負メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡Ｍ2 よりなるマ
ンジンミラーである。また、第３収斂群Ｇ3 は、レチク
ル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ31、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ32、レチク
ル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ33、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ34、レチク
ル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ35、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ36、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ37、凸レン
ズＬ38、凸レンズＬ39、凸レンズＬ3A、レチクル１０に
凸面を向けた正メニスカスレンズＬ3B、レチクル１０に
凹面を向けた負メニスカスレンズＬ3C、レチクル１０に
凸面を向けた正メニスカスレンズＬ3D、凹レンズＬ 3E、
凸レンズＬ3F及びレチクル１０に凸面を向けた正メニス
カスレンズＬ3Gより構成されている。
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凹面を向
けた正メニスカスレンズＬ11、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ12、凸レンズＬ13及びレチク
ル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ14より構成
され、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０に凹面を向けた
負メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡Ｍ2 よりなるマ
ンジンミラーである。また、第３収斂群Ｇ3 は、レチク
ル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ31、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ32、レチク
ル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ33、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ34、レチク
ル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ35、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ36、レチク
ル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ37、凸レン
ズＬ38、凸レンズＬ39、凸レンズＬ3A、レチクル１０に
凸面を向けた正メニスカスレンズＬ3B、レチクル１０に
凹面を向けた負メニスカスレンズＬ3C、レチクル１０に
凸面を向けた正メニスカスレンズＬ3D、凹レンズＬ 3E、
凸レンズＬ3F及びレチクル１０に凸面を向けた正メニス
カスレンズＬ3Gより構成されている。
【００６３】そして、第４収斂群Ｇ4 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ41及び第２凹面反
射鏡Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ
5 は、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズ
Ｌ51、レチクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ52、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズ
Ｌ53、レチクル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ54及びレチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレン
ズＬ55より構成されている。
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ41及び第２凹面反
射鏡Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ
5 は、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズ
Ｌ51、レチクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ52、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズ
Ｌ53、レチクル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ54及びレチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレン
ズＬ55より構成されている。
【００６４】即ち、本例は、中央に開口を持つ２枚の平
面鏡、２枚の凹面反射鏡及び２７枚の屈折レンズより構
成されており、結像倍率は０．２５倍、開口数は０．４
５、物体高は２０ｍｍ、最大ミラー半径は７５ｍｍであ
る。本例も、ほとんど無収差に近い光学性能となってい
るので、光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と
更に大きくすることが出来ることは明らかである。ま
た、第２収斂群Ｇ2 及び第４収斂群Ｇ4 は、それぞれ１
枚の負メニスカスレンズを含み、屈折レンズと反射鏡と
が分離されたタイプのマンジンミラーの構成をとってい
る。
面鏡、２枚の凹面反射鏡及び２７枚の屈折レンズより構
成されており、結像倍率は０．２５倍、開口数は０．４
５、物体高は２０ｍｍ、最大ミラー半径は７５ｍｍであ
る。本例も、ほとんど無収差に近い光学性能となってい
るので、光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と
更に大きくすることが出来ることは明らかである。ま
た、第２収斂群Ｇ2 及び第４収斂群Ｇ4 は、それぞれ１
枚の負メニスカスレンズを含み、屈折レンズと反射鏡と
が分離されたタイプのマンジンミラーの構成をとってい
る。
【００６５】本例の光学系も、屈折レンズは全て溶融石
英よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線
エキシマレーザー光の１９３ｎｍの波長における、１ｎ
ｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされて
いる。また、球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収
差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となって
いる。
英よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線
エキシマレーザー光の１９３ｎｍの波長における、１ｎ
ｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされて
いる。また、球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収
差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となって
いる。
【００６６】第３実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表３に示す。以下の表において、第
１２面及び第４９面はそれぞれ凹面反射鏡を展開光路図
で表すための仮想面である。
ｄi 及び硝材を次の表３に示す。以下の表において、第
１２面及び第４９面はそれぞれ凹面反射鏡を展開光路図
で表すための仮想面である。
【００６７】
【表３】
【００６８】また、図１２（ａ）〜（ｃ）は第３実施例
の縦収差図、図１２（ｃ）は第３実施例の倍率色収差
図、図１２（ｅ）は第３実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
の縦収差図、図１２（ｃ）は第３実施例の倍率色収差
図、図１２（ｅ）は第３実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
【００６９】［第４実施例］この第４実施例は、縮小投
影を行うと共に第３収斂群Ｇ3 を省略したタイプの投影
光学系である。即ち、本例は図３の光学系に対応する実
施例である。図１３は第４実施例の投影光学系の展開光
路図であり、この図１３に示すように、レチクル１０上
のパターンからの光が、第１収斂群Ｇ1 を経て、中央に
開口を持ち光軸に対して４５°で斜設された平面鏡Ｍ1
の表面の周辺部で反射された後、第１凹面反射鏡Ｍ2 を
含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂群Ｇ2 で反射され
た光が平面鏡Ｍ1 の開口内にそのパターンの中間像を結
像する。そして、この中間像からの光が第２凹面反射鏡
Ｍ4 を含む第４収斂群Ｇ4 に至り、第４収斂群Ｇ4 で反
射された光が平面鏡Ｍ1 の裏面の周辺で反射される。こ
のように反射された光が、第５収斂群Ｇ5 を経てウエハ
１１の表面にそのパターンの像を結像する。本例の平面
鏡Ｍ1 は、例えば図６の第１平面鏡Ｍ1 と第２平面鏡Ｍ
3 とを貼り合わせたものと等価である。
影を行うと共に第３収斂群Ｇ3 を省略したタイプの投影
光学系である。即ち、本例は図３の光学系に対応する実
施例である。図１３は第４実施例の投影光学系の展開光
路図であり、この図１３に示すように、レチクル１０上
のパターンからの光が、第１収斂群Ｇ1 を経て、中央に
開口を持ち光軸に対して４５°で斜設された平面鏡Ｍ1
の表面の周辺部で反射された後、第１凹面反射鏡Ｍ2 を
含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂群Ｇ2 で反射され
た光が平面鏡Ｍ1 の開口内にそのパターンの中間像を結
像する。そして、この中間像からの光が第２凹面反射鏡
Ｍ4 を含む第４収斂群Ｇ4 に至り、第４収斂群Ｇ4 で反
射された光が平面鏡Ｍ1 の裏面の周辺で反射される。こ
のように反射された光が、第５収斂群Ｇ5 を経てウエハ
１１の表面にそのパターンの像を結像する。本例の平面
鏡Ｍ1 は、例えば図６の第１平面鏡Ｍ1 と第２平面鏡Ｍ
3 とを貼り合わせたものと等価である。
【００７０】また、図１３に示すように、第１収斂群Ｇ
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ11、凸レンズＬ12、レチクル
１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ13、レチクル
１０に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ14、レチクル
１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ15、レチクル
１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ16、凸レンズ
Ｌ17、レチクル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ18及びレチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレン
ズＬ19より構成され、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡
Ｍ2 よりなるマンジンミラーである。
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ11、凸レンズＬ12、レチクル
１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ13、レチクル
１０に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ14、レチクル
１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ15、レチクル
１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ16、凸レンズ
Ｌ17、レチクル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ18及びレチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレン
ズＬ19より構成され、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡
Ｍ2 よりなるマンジンミラーである。
【００７１】また、第４収斂群Ｇ4 は、レチクル１０に
凹面を向けた負メニスカスレンズＬ 41及び第２凹面反射
鏡Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ5
は、凸レンズＬ51、レチクル１０に凹面を向けた負メニ
スカスレンズＬ52、レチクル１０に凸面を向けた正メニ
スカスレンズＬ53、レチクル１０に凸面を向けた正メニ
スカスレンズＬ54、レチクル１０に凸面を向けた負メニ
スカスレンズＬ55、凸レンズＬ56、レチクル１０に凹面
を向けた負メニスカスレンズＬ57、凸レンズＬ 58及び凹
レンズＬ59より構成されている。
凹面を向けた負メニスカスレンズＬ 41及び第２凹面反射
鏡Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ5
は、凸レンズＬ51、レチクル１０に凹面を向けた負メニ
スカスレンズＬ52、レチクル１０に凸面を向けた正メニ
スカスレンズＬ53、レチクル１０に凸面を向けた正メニ
スカスレンズＬ54、レチクル１０に凸面を向けた負メニ
スカスレンズＬ55、凸レンズＬ56、レチクル１０に凹面
を向けた負メニスカスレンズＬ57、凸レンズＬ 58及び凹
レンズＬ59より構成されている。
【００７２】即ち、本例は、中央に開口を持つ１枚の平
面鏡（正確には２枚の平面鏡を貼り合わせた平面鏡）、
２枚の凹面反射鏡及び２０枚の屈折レンズより構成さ
れ、結像倍率は０．２倍、開口数は０．５、物体高は２
５ｍｍ、最大ミラー半径は１１５ｍｍである。但し、本
例もほとんど無収差に近い光学性能となっているので、
光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と更に大き
くすることが出来ることは明らかである。また、第２収
斂群Ｇ2 及び第４収斂群Ｇ4 はそれぞれ、１枚の負メニ
スカスレンズを含み、屈折レンズと反射鏡とが分離され
たタイプのマンジンミラーの構成をとっている。
面鏡（正確には２枚の平面鏡を貼り合わせた平面鏡）、
２枚の凹面反射鏡及び２０枚の屈折レンズより構成さ
れ、結像倍率は０．２倍、開口数は０．５、物体高は２
５ｍｍ、最大ミラー半径は１１５ｍｍである。但し、本
例もほとんど無収差に近い光学性能となっているので、
光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と更に大き
くすることが出来ることは明らかである。また、第２収
斂群Ｇ2 及び第４収斂群Ｇ4 はそれぞれ、１枚の負メニ
スカスレンズを含み、屈折レンズと反射鏡とが分離され
たタイプのマンジンミラーの構成をとっている。
【００７３】本例の光学系において、屈折レンズは溶融
石英及び蛍石の２種類の光学ガラスを使っているが、紫
外線エキシマレーザー光の２４８ｎｍの波長における、
１ｎｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなさ
れている。また球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲
収差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となっ
ている。
石英及び蛍石の２種類の光学ガラスを使っているが、紫
外線エキシマレーザー光の２４８ｎｍの波長における、
１ｎｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなさ
れている。また球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲
収差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となっ
ている。
【００７４】第４実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表４に示す。以下の表において、第
２１面及び第２７面はそれぞれ凹面反射鏡を展開光路図
で表すための仮想面である。
ｄi 及び硝材を次の表４に示す。以下の表において、第
２１面及び第２７面はそれぞれ凹面反射鏡を展開光路図
で表すための仮想面である。
【００７５】
【表４】
【００７６】また、図１４（ａ）〜（ｃ）は第４実施例
の縦収差図、図１４（ｃ）は第４実施例の倍率色収差
図、図１４（ｅ）は第４実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
の縦収差図、図１４（ｃ）は第４実施例の倍率色収差
図、図１４（ｅ）は第４実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
【００７７】［第５実施例］この第５実施例は、縮小投
影を行うと共に第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5を省
略したタイプの投影光学系である。即ち、本例は図１の
光学系に対応する実施例である。図１５はこの第５実施
例の投影光学系の展開光路図であり、この図１５に示す
ように、レチクル１０上のパターンからの光が、第１収
斂群Ｇ1 を経て、中央に開口を持ち光軸に対して４５°
で斜設された平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された後、凹面
反射鏡Ｍ2 を含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂群Ｇ
2 で反射された光が平面鏡Ｍ1 の開口内にそのパターン
の中間像を結像する。そして、この中間像からの光が、
第３収斂群Ｇ3 を経て、ウエハ１１の表面にそのパター
ンの像を結像する。
影を行うと共に第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群Ｇ5を省
略したタイプの投影光学系である。即ち、本例は図１の
光学系に対応する実施例である。図１５はこの第５実施
例の投影光学系の展開光路図であり、この図１５に示す
ように、レチクル１０上のパターンからの光が、第１収
斂群Ｇ1 を経て、中央に開口を持ち光軸に対して４５°
で斜設された平面鏡Ｍ1 の周辺部で反射された後、凹面
反射鏡Ｍ2 を含む第２収斂群Ｇ2 に至り、第２収斂群Ｇ
2 で反射された光が平面鏡Ｍ1 の開口内にそのパターン
の中間像を結像する。そして、この中間像からの光が、
第３収斂群Ｇ3 を経て、ウエハ１１の表面にそのパター
ンの像を結像する。
【００７８】また、図１５に示すように、第１収斂群Ｇ
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ11、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ12、凸レンズＬ13及び凹レン
ズＬ14より構成され、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡
Ｍ2 よりなるマンジンミラーである。また、第３収斂群
Ｇ3 は、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレン
ズＬ31、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレン
ズＬ32、凸レンズＬ33、レチクル１０に凸面を向けた負
メニスカスレンズＬ34、凸レンズＬ35、凸レンズＬ36、
レチクル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ37、
凸レンズＬ38、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカ
スレンズＬ39、レチクル１０に凹面を向けた負メニスカ
スレンズＬ3A、凸レンズＬ3B、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ3C、レチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ3D及びレチクル１０に凸面を
向けた負メニスカスレンズＬ3Eより構成されている。
1 はレチクル１０側から順に、レチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ11、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ12、凸レンズＬ13及び凹レン
ズＬ14より構成され、第２収斂群Ｇ3 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ21及び凹面反射鏡
Ｍ2 よりなるマンジンミラーである。また、第３収斂群
Ｇ3 は、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレン
ズＬ31、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレン
ズＬ32、凸レンズＬ33、レチクル１０に凸面を向けた負
メニスカスレンズＬ34、凸レンズＬ35、凸レンズＬ36、
レチクル１０に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ37、
凸レンズＬ38、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカ
スレンズＬ39、レチクル１０に凹面を向けた負メニスカ
スレンズＬ3A、凸レンズＬ3B、レチクル１０に凸面を向
けた負メニスカスレンズＬ3C、レチクル１０に凸面を向
けた正メニスカスレンズＬ3D及びレチクル１０に凸面を
向けた負メニスカスレンズＬ3Eより構成されている。
【００７９】即ち、本例は、中央に開口を持つ１枚の平
面鏡、１枚の凹面反射鏡及び１９枚の屈折レンズより構
成され、結像倍率は０．２５倍、開口数は０．４５、像
高は５ｍｍ、最大ミラー直径は７５ｍｍである。但し、
本例もほとんど無収差に近い光学性能となっているの
で、光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と更に
大きくすることが出来ることは明らかである。また、第
２収斂群Ｇ2 は、１枚の負メニスカスレンズを含み、屈
折レンズと反射鏡とが分離されたタイプのマンジンミラ
ーの構成をとっている。
面鏡、１枚の凹面反射鏡及び１９枚の屈折レンズより構
成され、結像倍率は０．２５倍、開口数は０．４５、像
高は５ｍｍ、最大ミラー直径は７５ｍｍである。但し、
本例もほとんど無収差に近い光学性能となっているの
で、光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と更に
大きくすることが出来ることは明らかである。また、第
２収斂群Ｇ2 は、１枚の負メニスカスレンズを含み、屈
折レンズと反射鏡とが分離されたタイプのマンジンミラ
ーの構成をとっている。
【００８０】本例の光学系も、屈折レンズは全て溶融石
英よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線
エキシマレーザー光の１９３ｎｍの波長における、１ｎ
ｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされて
いる。また、球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収
差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となって
いる。
英よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線
エキシマレーザー光の１９３ｎｍの波長における、１ｎ
ｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされて
いる。また、球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収
差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となって
いる。
【００８１】第５実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表５に示す。以下の表において、第
１２面は凹面反射鏡を展開光路図で表すための仮想面で
ある。
ｄi 及び硝材を次の表５に示す。以下の表において、第
１２面は凹面反射鏡を展開光路図で表すための仮想面で
ある。
【００８２】
【表５】
【００８３】また、図１６（ａ）〜（ｃ）は第５実施例
の縦収差図、図１６（ｃ）は第５実施例の倍率色収差
図、図１６（ｅ）は第５実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
の縦収差図、図１６（ｃ）は第５実施例の倍率色収差
図、図１６（ｅ）は第５実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．４５と大き
いにも拘らず、広いイメージサークルの領域内で諸収差
が良好に補正されていることが分かる。また、色収差も
良好に補正されている。
【００８４】［第６実施例］この第６実施例は縮小投影
を行うと共に、第１収斂群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2を省
略した投影光学系である。即ち、本例は図２の光学系に
対応するものである。図１７は第６実施例の投影光学系
の展開光路図であり、この図１７に示すように、レチク
ル１０上のパターンからの光が、第３収斂群Ｇ3 を経
て、中央に開口を持ち光軸に対して４５°で斜設された
平面鏡Ｍ3 の開口内にそのパターンの中間像を結像し、
この第２中間像からの光が凹面反射鏡Ｍ4 を含む第４収
斂群Ｇ4に至り、第４収斂群Ｇ4 で反射された光が平面
鏡Ｍ3 の周辺で反射される。このように反射された光
が、第５収斂群Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパタ
ーンの像を結像する。
を行うと共に、第１収斂群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2を省
略した投影光学系である。即ち、本例は図２の光学系に
対応するものである。図１７は第６実施例の投影光学系
の展開光路図であり、この図１７に示すように、レチク
ル１０上のパターンからの光が、第３収斂群Ｇ3 を経
て、中央に開口を持ち光軸に対して４５°で斜設された
平面鏡Ｍ3 の開口内にそのパターンの中間像を結像し、
この第２中間像からの光が凹面反射鏡Ｍ4 を含む第４収
斂群Ｇ4に至り、第４収斂群Ｇ4 で反射された光が平面
鏡Ｍ3 の周辺で反射される。このように反射された光
が、第５収斂群Ｇ5 を経てウエハ１１の表面にそのパタ
ーンの像を結像する。
【００８５】また、図１７に示すように、第３収斂群Ｇ
3 はレチクル１０から順に、レチクル１０に凸面を向け
た負メニスカスレンズＬ31、レチクル１０に凸面を向け
た負メニスカスレンズＬ32、レチクル１０に凹面を向け
た負メニスカスレンズＬ33、レチクル１０に凸面を向け
た負メニスカスレンズＬ34、レチクル１０に凹面を向け
た正メニスカスレンズＬ35、凸レンズＬ36、レチクル１
０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ37、凸レンズＬ
38、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ
39、凸レンズＬ3A、凸レンズＬ3B、レチクル１０に凹面
を向けた負メニスカスレンズＬ3C、レチクル１０に凸面
を向けた負メニスカスレンズＬ3D、凹レンズＬ3E、凸レ
ンズＬ3F及び凸レンズＬ3Gより構成されている。
3 はレチクル１０から順に、レチクル１０に凸面を向け
た負メニスカスレンズＬ31、レチクル１０に凸面を向け
た負メニスカスレンズＬ32、レチクル１０に凹面を向け
た負メニスカスレンズＬ33、レチクル１０に凸面を向け
た負メニスカスレンズＬ34、レチクル１０に凹面を向け
た正メニスカスレンズＬ35、凸レンズＬ36、レチクル１
０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ37、凸レンズＬ
38、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ
39、凸レンズＬ3A、凸レンズＬ3B、レチクル１０に凹面
を向けた負メニスカスレンズＬ3C、レチクル１０に凸面
を向けた負メニスカスレンズＬ3D、凹レンズＬ3E、凸レ
ンズＬ3F及び凸レンズＬ3Gより構成されている。
【００８６】そして、第４収斂群Ｇ4 は、レチクル１０
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ41及び凹面反射鏡
Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ5
は、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ
51、レチクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ
52、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ
53、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ
54及びレチクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ55より構成されている。
に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ41及び凹面反射鏡
Ｍ4 よりなるマンジンミラーであり、第５収斂群Ｇ5
は、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ
51、レチクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ
52、レチクル１０に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ
53、レチクル１０に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ
54及びレチクル１０に凸面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ55より構成されている。
【００８７】即ち、本例は、中央に開口を持つ１枚の平
面鏡、１枚の凹面反射鏡及び２２枚の屈折レンズより構
成され、結像倍率は０．２５倍、開口数は０．３、像高
は３ｍｍ、最大ミラー直径は４１ｍｍである。但し、本
例もほとんど無収差に近い光学性能となっているので、
光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と更に大き
くすることが出来ることは明らかである。また、第４収
斂群Ｇ4 は、１枚の負メニスカスレンズを含み、屈折レ
ンズと反射鏡とが分離されたタイプのマンジンミラーの
構成をとっている。
面鏡、１枚の凹面反射鏡及び２２枚の屈折レンズより構
成され、結像倍率は０．２５倍、開口数は０．３、像高
は３ｍｍ、最大ミラー直径は４１ｍｍである。但し、本
例もほとんど無収差に近い光学性能となっているので、
光学系の比例拡大により、像高を２倍〜３倍と更に大き
くすることが出来ることは明らかである。また、第４収
斂群Ｇ4 は、１枚の負メニスカスレンズを含み、屈折レ
ンズと反射鏡とが分離されたタイプのマンジンミラーの
構成をとっている。
【００８８】本例の光学系も、屈折レンズは全て溶融石
英よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線
エキシマレーザー光の１９３ｎｍの波長における、１ｎ
ｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされて
いる。また、球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収
差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となって
いる。
英よりなる一種類の光学ガラスを使っているが、紫外線
エキシマレーザー光の１９３ｎｍの波長における、１ｎ
ｍの波長幅に対して、軸上及び軸外の色消しがなされて
いる。また、球面収差、コマ収差、非点収差及び歪曲収
差も良好に補正された結像性能の優れた光学系となって
いる。
【００８９】第６実施例における曲率半径ｒi 、面間隔
ｄi 及び硝材を次の表６に示す。以下の表において、第
３５面は凹面反射鏡を展開光路図で表すための仮想面で
ある。
ｄi 及び硝材を次の表６に示す。以下の表において、第
３５面は凹面反射鏡を展開光路図で表すための仮想面で
ある。
【００９０】
【表６】
【００９１】また、図１８（ａ）〜（ｃ）は第６実施例
の縦収差図、図１８（ｃ）は第６実施例の倍率色収差
図、図１８（ｅ）は第６実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．３でありイ
メージサークルの領域内で諸収差が良好に補正されてい
ることが分かる。また、色収差も良好に補正されてい
る。
の縦収差図、図１８（ｃ）は第６実施例の倍率色収差
図、図１８（ｅ）は第６実施例の横収差図を示す。これ
ら収差図より、本例においても開口数が０．３でありイ
メージサークルの領域内で諸収差が良好に補正されてい
ることが分かる。また、色収差も良好に補正されてい
る。
【００９２】次に、本発明では（１）式〜（４）式の条
件を満足することが望ましいとされているが、以下に、
上述の各実施例とそれらの条件との対応につき説明す
る。先ず、上述の各実施例における第１収斂群Ｇ1 〜第
５収斂群Ｇ5 のそれぞれの焦点距離をｆi(ｉ＝１〜
５）、それぞれのペッツバール和をｐi(ｉ＝１〜５）、
それぞれの見かけの屈折率をｎi(ｉ＝１〜５）、それぞ
れの結像倍率をβi(ｉ＝１〜５）とする。また、第２収
斂群Ｇ2 中の第１凹面反射鏡Ｍ2 及び第４収斂群Ｇ4中
の第２凹面反射鏡Ｍ4 の曲率半径をそれぞれＲi(ｉ＝
２，４）として、第１収斂群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2 の
合成の結像倍率をβ12、第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群
Ｇ5 の合成の結像倍率をβ45として、これらの結像倍率
β12及びβ45をβ ijで表す。上述の第１実施例〜第６実
施例の諸元をそれぞれ以下の表７〜表１２にまとめる。
但し、全系をＧT で表し、全系ＧT に対応するペッツバ
ール和ｐi及び結像倍率をβi の欄にはそれぞれ全系の
ペッツバール和及び結像倍率を示す。
件を満足することが望ましいとされているが、以下に、
上述の各実施例とそれらの条件との対応につき説明す
る。先ず、上述の各実施例における第１収斂群Ｇ1 〜第
５収斂群Ｇ5 のそれぞれの焦点距離をｆi(ｉ＝１〜
５）、それぞれのペッツバール和をｐi(ｉ＝１〜５）、
それぞれの見かけの屈折率をｎi(ｉ＝１〜５）、それぞ
れの結像倍率をβi(ｉ＝１〜５）とする。また、第２収
斂群Ｇ2 中の第１凹面反射鏡Ｍ2 及び第４収斂群Ｇ4中
の第２凹面反射鏡Ｍ4 の曲率半径をそれぞれＲi(ｉ＝
２，４）として、第１収斂群Ｇ1 及び第２収斂群Ｇ2 の
合成の結像倍率をβ12、第４収斂群Ｇ4 及び第５収斂群
Ｇ5 の合成の結像倍率をβ45として、これらの結像倍率
β12及びβ45をβ ijで表す。上述の第１実施例〜第６実
施例の諸元をそれぞれ以下の表７〜表１２にまとめる。
但し、全系をＧT で表し、全系ＧT に対応するペッツバ
ール和ｐi及び結像倍率をβi の欄にはそれぞれ全系の
ペッツバール和及び結像倍率を示す。
【００９３】
【表７】
【００９４】
【表８】
【００９５】
【表９】
【００９６】
【表１０】
【００９７】
【表１１】
【００９８】
【表１２】
【００９９】次に、上記の表７〜表１２に基づいて、条
件式（１）〜（４）のパラメータの値が各実施例でどの
ような値になっているのかを、次の表にまとめて示す。
件式（１）〜（４）のパラメータの値が各実施例でどの
ような値になっているのかを、次の表にまとめて示す。
【０１００】
【表１３】
【０１０１】また、本発明では、条件式（９）及び（１
０）を満足することも望ましいとされているが、それら
条件式（９）及び（１０）に現れる第２収斂群Ｇ2 及び
第４収斂群Ｇ4 の各パラメータＲ2,ｐ2,ｎ2,Ｒ4,ｐ4,ｎ
4 の値が各実施例でどのような値となっているかを、次
の表に示す。
０）を満足することも望ましいとされているが、それら
条件式（９）及び（１０）に現れる第２収斂群Ｇ2 及び
第４収斂群Ｇ4 の各パラメータＲ2,ｐ2,ｎ2,Ｒ4,ｐ4,ｎ
4 の値が各実施例でどのような値となっているかを、次
の表に示す。
【０１０２】
【表１４】
【０１０３】また、表１４より、各実施例において、条
件式（９）及び（１０）の諸量ｎ2ｐ2,２／｜Ｒ2 ｜，
ｎ4 ｐ4,２／｜Ｒ4 ｜はそれぞれ次のようになってい
る。
件式（９）及び（１０）の諸量ｎ2ｐ2,２／｜Ｒ2 ｜，
ｎ4 ｐ4,２／｜Ｒ4 ｜はそれぞれ次のようになってい
る。
【０１０４】
【表１５】
【０１０５】これらの各表より、上述の各実施例では何
れも（１）式〜（４）式の条件と、（９）式及び（１
０）式の条件とが満足されていることが分かる。なお、
上述の各実施例においては、屈折光学系を構成する硝材
として石英、蛍石等の光学ガラスが使用されているが、
石英、蛍石等の光学ガラスは紫外線を通すことができる
ので、好都合である。
れも（１）式〜（４）式の条件と、（９）式及び（１
０）式の条件とが満足されていることが分かる。なお、
上述の各実施例においては、屈折光学系を構成する硝材
として石英、蛍石等の光学ガラスが使用されているが、
石英、蛍石等の光学ガラスは紫外線を通すことができる
ので、好都合である。
【０１０６】但し、使用する照明光が赤外線である場合
には、屈折光学系を構成する硝材として、シリコン（Ｓ
ｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）又は
セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）等の光学ガラスを使用するこ
ともできる。これらの硝材は赤外線に対する透過率が大
きいからである。また、屈折光学系を構成する材料とし
て、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの
プラスチック光学材を使用するようにしてもよい。これ
により、量産性のある、低コストの光学系を実現でき
る。
には、屈折光学系を構成する硝材として、シリコン（Ｓ
ｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）又は
セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）等の光学ガラスを使用するこ
ともできる。これらの硝材は赤外線に対する透過率が大
きいからである。また、屈折光学系を構成する材料とし
て、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの
プラスチック光学材を使用するようにしてもよい。これ
により、量産性のある、低コストの光学系を実現でき
る。
【０１０７】更に、有限の距離にあるレチクル１０の代
わりに、無限遠距離の物体の像を所定の観察面上に結像
する所謂一般の撮像レンズに本発明を適用することもで
きる。また、上述の各実施例の光学系を、軸外光束のみ
を用いて、軸外輪帯状物体を投影し、レチクル１０とウ
エハ１１とを投影光学系の倍率に対応して異なる速度で
移動しながら露光する、所謂スキャン露光用の露光装置
に適用することも可能である。これにより、投影光学系
を小型化できる。
わりに、無限遠距離の物体の像を所定の観察面上に結像
する所謂一般の撮像レンズに本発明を適用することもで
きる。また、上述の各実施例の光学系を、軸外光束のみ
を用いて、軸外輪帯状物体を投影し、レチクル１０とウ
エハ１１とを投影光学系の倍率に対応して異なる速度で
移動しながら露光する、所謂スキャン露光用の露光装置
に適用することも可能である。これにより、投影光学系
を小型化できる。
【０１０８】また、上述実施例は、等倍又は縮小投影光
学系の例であるが、レチクル１０とウエハ１１との関係
を逆にすることにより拡大投影光学系としても使えるこ
とは明らかである。このような拡大光学系の用途として
は、紫外線顕微鏡等が有力である。このように、本発明
は上述実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々の構成を取り得る。
学系の例であるが、レチクル１０とウエハ１１との関係
を逆にすることにより拡大投影光学系としても使えるこ
とは明らかである。このような拡大光学系の用途として
は、紫外線顕微鏡等が有力である。このように、本発明
は上述実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々の構成を取り得る。
【０１０９】
【発明の効果】本発明の第１の反射屈折投影光学系によ
れば、選択光学系により光束の光路を折り曲げると共
に、凹面反射鏡からの光束でその選択光学系の光軸近傍
に中間像を結像するか、又はその選択光学系の光軸近傍
の中間像からの光を凹面反射鏡に導いている。従って、
ペッツバール和及び軸上色収差を良好に補正できる。ま
た、非対称光学系にありがちな歪曲収差及び倍率色収差
も、一部の屈折光学系との組み合わせにより良好に補正
することができ、球面収差及びコマ収差をも良好に補正
することができる。従って、ビームスプリッターを用い
ること無く、且つ一括露光方式を取ることが出来る結像
性能の優れた反射屈折投影光学系が提供できる利点があ
る。
れば、選択光学系により光束の光路を折り曲げると共
に、凹面反射鏡からの光束でその選択光学系の光軸近傍
に中間像を結像するか、又はその選択光学系の光軸近傍
の中間像からの光を凹面反射鏡に導いている。従って、
ペッツバール和及び軸上色収差を良好に補正できる。ま
た、非対称光学系にありがちな歪曲収差及び倍率色収差
も、一部の屈折光学系との組み合わせにより良好に補正
することができ、球面収差及びコマ収差をも良好に補正
することができる。従って、ビームスプリッターを用い
ること無く、且つ一括露光方式を取ることが出来る結像
性能の優れた反射屈折投影光学系が提供できる利点があ
る。
【０１１０】また、本発明の第２の反射屈折投影光学系
によれば、ビームスプリッターを用いる必要が無く結像
性能が優れていると共に、一括露光方式を取ることが出
来る。更に、２枚の凹面反射鏡を用いることにより、各
凹面反射鏡の曲率半径を大きくでき収差を小さくできる
利点がある。また、本発明の第３の反射屈折投影光学系
によれば、ビームスプリッターを用いることが無く結像
性能が優れていると共に、一括露光方式を取ることが出
来る。更に、２枚の凹面反射鏡を用いることにより、各
凹面反射鏡の曲率半径を大きくでき収差を小さくできる
利点がある。更に、第１選択光学系と第２選択光学系と
の間に第３収斂群が設けられているため、結像倍率や諸
収差を広い範囲で制御できる利点がある。
によれば、ビームスプリッターを用いる必要が無く結像
性能が優れていると共に、一括露光方式を取ることが出
来る。更に、２枚の凹面反射鏡を用いることにより、各
凹面反射鏡の曲率半径を大きくでき収差を小さくできる
利点がある。また、本発明の第３の反射屈折投影光学系
によれば、ビームスプリッターを用いることが無く結像
性能が優れていると共に、一括露光方式を取ることが出
来る。更に、２枚の凹面反射鏡を用いることにより、各
凹面反射鏡の曲率半径を大きくでき収差を小さくできる
利点がある。更に、第１選択光学系と第２選択光学系と
の間に第３収斂群が設けられているため、結像倍率や諸
収差を広い範囲で制御できる利点がある。
【図１】本発明による反射屈折投影光学系の第１の基本
構成を示す構成図である。
構成を示す構成図である。
【図２】図１の基本構成の変形例を示す構成図である。
【図３】本発明による反射屈折投影光学系の第２の基本
構成を示す構成図である。
構成を示す構成図である。
【図４】本発明による反射屈折投影光学系の第３の基本
構成を示す構成図である。
構成を示す構成図である。
【図５】図４の基本構成の変形例を示す構成図である。
【図６】本発明の第１実施例の投影光学系を示す展開光
路図である。
路図である。
【図７】第１実施例中の第１収斂群Ｇ1 の詳細な構成を
示す光路図である。
示す光路図である。
【図８】第１実施例の収差図である。
【図９】本発明の第２実施例の投影光学系を示す展開光
路図である。
路図である。
【図１０】第２実施例の収差図である。
【図１１】本発明の第３実施例の投影光学系を示す展開
光路図である。
光路図である。
【図１２】第３実施例の収差図である。
【図１３】本発明の第４実施例の投影光学系を示す展開
光路図である。
光路図である。
【図１４】第４実施例の収差図である。
【図１５】本発明の第５実施例の投影光学系を示す展開
光路図である。
光路図である。
【図１６】第５実施例の収差図である。
【図１７】本発明の第６実施例の投影光学系を示す展開
光路図である。
光路図である。
【図１８】第６実施例の収差図である。
１ 物体面 ２ 像面 １０ レチクル １１ ウエハ Ｇ1 第１収斂群 Ｇ2 第２収斂群 Ｇ3 第３収斂群 Ｇ4 第４収斂群 Ｇ5 第５収斂群 Ｍ1，Ｍ3 開口を有する平面鏡 Ｈ1，Ｈ2 開口 Ｍ2，Ｍ4 凹面反射鏡 Ｍ1′，Ｍ3′微小平面鏡
Claims (13)
- 【請求項１】 第１面上のパターンの像を第２面上に投
影する光学系であって、 前記第１面上のパターンの中間像を結像する第１部分結
像光学系と、前記中間像の像を前記第２面上に再結像す
る第２部分結像光学系とを配置し、 前記２つの部分結像光学系の少なくとも一方の部分結像
光学系は、第１の領域の光を通過させて該第１の領域と
は異なる第２の領域の光を反射すると共に前記第１の領
域又は第２の領域に前記中間像が結像される選択光学系
と、該選択光学系を介して導かれた光束を再び該選択光
学系に戻す凹面反射鏡と、前記第１面と前記選択光学系
との間又は前記選択光学系と前記第２面との間に配置さ
れた収斂群とを有することを特徴とする反射屈折投影光
学系。 - 【請求項２】 第１面上のパターンの像を第２面上に投
影する光学系であって、 前記第１面上のパターンの中間像を結像する第１部分結
像光学系と、前記中間像の像を前記第２面上に結像する
第２部分結像光学系とを配置し、 前記第１部分結像光学系は、光軸に対して斜めに配置さ
れ第１の領域の光を通過させて該第１の領域とは異なる
第２の領域の光を反射する選択光学系と、前記第１面上
のパターンからの光束を前記選択光学系に導く第１収斂
群と、前記選択光学系で反射された光束を反射して前記
選択光学系の前記第１の領域又は前記第２の領域内に前
記パターンの中間像を結像する第１凹面反射鏡とを有
し、 前記第２部分結像光学系は、前記選択光学系内の前記中
間像からの光束を再び前記選択光学系に戻す第２凹面反
射鏡と、前記選択光学系で再び反射された光束より前記
中間像の像を前記第２面上に結像する第２収斂群とを有
することを特徴とする反射屈折投影光学系。 - 【請求項３】 第１面上のパターンの像を第２面上に投
影する光学系であって、前記第１面より順に、 前記第１面上のパターンからの光束を収斂する焦点距離
ｆ1 の第１収斂群と、 第１の領域の光を通過させて該第１の領域とは異なる第
２の領域の光を反射し、前記第１収斂群からの光束を後
続の光学系に導く第１選択光学系と、 第１凹面反射鏡を含み、前記第１選択光学系からの光束
を反射して前記第１選択光学系の前記第１の領域又は前
記第２の領域内に前記パターンの第１中間像を結像する
焦点距離ｆ2 の第２収斂群と、 前記第１中間像からの光束を収斂して前記パターンの第
２中間像を結像する焦点距離ｆ3 の第３収斂群と、 第１の領域の光を通過させて該第１の領域とは異なる第
２の領域の光を反射すると共に、該第１の領域又は該第
２の領域内に前記第２中間像が結像される第２選択光学
系と、 第２凹面反射鏡を含み、前記第２中間像からの光束を前
記第２選択光学系に戻す焦点距離ｆ4 の第４収斂群と、 前記第２選択光学系により導かれた光束を収斂して、前
記第２面上に前記パターンの第３中間像を結像する焦点
距離ｆ5 の第５収斂群と、を有することを特徴とする反
射屈折投影光学系。 - 【請求項４】 前記第１選択光学系及び前記第２選択光
学系は、それぞれ所定形状の開口を有し、該開口内にそ
れぞれ前記パターンの中間像が結像される反射鏡である
ことを特徴とする請求項３記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項５】 前記第１選択光学系及び前記第２選択光
学系は、それぞれ所定形状の反射部を有し、該反射部内
にそれぞれ前記パターンの中間像が結像される小型反射
鏡であることを特徴とする請求項３記載の反射屈折投影
光学系。 - 【請求項６】 前記第１収斂群〜前記第５収斂群の個別
のペッツバール和をそれぞれｐ1 〜ｐ5 としたとき、 ｐ1+ｐ3+ｐ5 ＞０ 且つ ｐ2+ｐ4 ＜０ の条件を満足することを特徴とする請求項３、４又は５
記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項７】 前記第１収斂群及び第２収斂群による前
記第１中間像の結像倍率をβ12としたとき、 0.1≦｜β12｜≦２ の条件を満足することを特徴とする請求項３、４、５又
は６記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項８】 前記第３収斂群による前記第１中間像か
ら前記第２中間像への結像倍率をβ3 としたとき、 0.1≦｜β3 ｜≦２ の条件を満足することを特徴とする請求項３〜７記載の
反射屈折投影光学系。 - 【請求項９】 前記第４収斂群及び第５収斂群による前
記第２中間像から前記第３中間像への結像倍率をβ45と
したとき、 0.1≦｜β45｜≦２ の条件を満足することを特徴とする請求項３〜８記載の
反射屈折投影光学系。 - 【請求項１０】 前記第１選択光学系内で前記第１中間
像が結像される領域の周辺部と前記第３収斂群の瞳面と
を共役の関係に設定し、前記第３収斂群の瞳面と前記第
２選択光学系内で前記第２中間像が結像される領域の周
辺部とを共役の関係に設定したことを特徴とする請求項
３〜９記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項１１】 前記第１収斂群の後側主点と前記第１
選択光学系内で前記第１中間像が結像される位置との間
隔を前記第１収斂群の焦点距離ｆ1 とほぼ等しく設定
し、前記第１面側でほぼテレセントリック光学系となる
ようにしたことを特徴とする請求項３〜１０記載の反射
屈折投影光学系。 - 【請求項１２】 前記第５収斂群の前側主点と前記第２
選択光学系内で前記第２中間像が結像される位置との間
隔を前記第５収斂群の焦点距離ｆ5 とほぼ等しく設定
し、前記第２面側でほぼテレセントリック光学系となる
ようにしたことを特徴とする請求項３〜１１記載の反射
屈折投影光学系。 - 【請求項１３】 前記第１収斂群の後側主点と前記第１
選択光学系内で前記第１中間像が結像される位置との間
隔を前記第１収斂群の焦点距離ｆ1 とほぼ等しく設定
し、前記第５収斂群の前側主点と前記第２選択光学系内
で前記第２中間像が結像される位置との間隔を前記第５
収斂群の焦点距離ｆ5 とほぼ等しく設定し、前記第１面
側及び前記第２面側でそれぞれほぼテレセントリック光
学系となるようにしたことを特徴とする請求項３〜１２
記載の反射屈折投影光学系。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05171893A JP3339592B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 反射屈折投影光学系、並びに露光方法及び装置 |
| US08/212,639 US5636066A (en) | 1993-03-12 | 1994-03-10 | Optical apparatus |
| US09/659,375 USRE39296E1 (en) | 1993-03-12 | 2000-09-08 | Catadioptric projection systems |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05171893A JP3339592B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 反射屈折投影光学系、並びに露光方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06265789A true JPH06265789A (ja) | 1994-09-22 |
| JP3339592B2 JP3339592B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=12894677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05171893A Expired - Lifetime JP3339592B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 反射屈折投影光学系、並びに露光方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3339592B2 (ja) |
Cited By (8)
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|---|---|---|---|---|
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| WO2002035273A1 (fr) * | 2000-10-23 | 2002-05-02 | Nikon Corporation | Systeme catadioptrique et dispositif d'exposition pourvu de ce systeme |
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-
1993
- 1993-03-12 JP JP05171893A patent/JP3339592B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| WO2002035273A1 (fr) * | 2000-10-23 | 2002-05-02 | Nikon Corporation | Systeme catadioptrique et dispositif d'exposition pourvu de ce systeme |
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| US7359036B2 (en) | 2005-05-27 | 2008-04-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus |
| WO2006125790A2 (de) * | 2005-05-27 | 2006-11-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage |
| KR101432822B1 (ko) * | 2005-05-27 | 2014-08-26 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 결상 시스템, 특히 마이크로 리소그래픽 투영 조명 유닛에 사용될 수 있는 결상 시스템 |
| JP2014041387A (ja) * | 2008-04-15 | 2014-03-06 | Asml Holding Nv | オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション |
| JP2009276769A (ja) * | 2008-05-15 | 2009-11-26 | Carl Zeiss Smt Ag | 結像光学器械及びその結像光学器械を含む投影露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3339592B2 (ja) | 2002-10-28 |
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