KR960029823A - 투영 광학계 및 이를 이용한 노광 장치 - Google Patents

투영 광학계 및 이를 이용한 노광 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 넓은 노광 영역 및 큰 개구수를 확보하면서 소형 크기 및 바이텔레센트리시티를 실현하고 수차, 특히 왜곡에 대하여 매우 우수한 보정능을 구현하는 투영 광학계를 사용하는 노광 장치에 관한 것이다. 본 발명의 투영 광학계는 제1물체 R측으로부터 순서대로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 그룹 G1, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 그룹 G2, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹 G3, 부의 굴절력을 갖는 제4렌즈 그룹 G4, 정의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹 G5및 정의 굴절력을 갖는 제6렌즈 그룹 G6으로 이루어지며, 제2렌즈 그룹 G2은 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈 L2F, 부의 메니스쿠스형 배면 렌즈 L2R, 및 정면 렌즈와 배면 렌즈 사이에 배치된 중간 렌즈 그룹 G2M으로 이루어지며, 이 중간 렌즈 그룹 G2M는 제1물체 R 측으로부터 순서대로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 LM1, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 LM2및 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈 LM3를 갖는다. 본 발명의 시스템은 상기 배열에 기초하여 제1 내지 제6 렌즈 그룹 G1-G6이 촛점 길이의 적당한 범위인 촛점 길이 내에서 만족되도록 배열된다.

Description

투영 광학계 및 이를 이용한 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따르는 투영 광학계가 사용되는 노광 장치의 개략적 구조를 도시한 도면, 제3도는 본 발명에 따르는 제1실시예의 투영 광학계의 렌즈 배열을 도시한 도면, 제4도는 본 발명에 따르는 제2실시예의 투영 광학계의 렌즈 배열을 도시한 도면.

Claims (20)

  1. 제1물체 측으로부터 순서대로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 그룹, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제4렌즈 그룹, 정의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹 및 정의 굴절력을 갖는 제6렌즈 그룹으로 이루어지며, 상기 제2렌즈 그룹은 상기 제1물체에 가장 근접하게 배치되고 상기 제2물체에 오목한 표면 모양을 갖는 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈, 상기 제2물체에 가장 근접하게 배치되과 상기 제1물체의 오목한 표면 모양을 갖는 부의 메니스쿠스형 배면 렌즈, 및 상기 정면 및 상기 배면 렌즈 사이에 배치된 중간 렌즈 그룹으로 이루어지며, 이 중간 렌즈는 상기 제1물체 측으로부터 차례로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 및 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈를 가지며, f1은 상기 제1렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f2은 상기 제2렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f3은 상기 제3렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f4은 상기 제4렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f5은 상기 제5렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f6은 상기 제6렌즈 그룹의 촛점 길이며, L은 상기 제1물체로부터 제2물체까지의 거리일 때, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하여, 상기 제1물체의 상을 상기 제2물체로 투영시키기 위하여 제1물체 및 제2물체 사이에 제공되는 투영 광학계.
    f1/L<0.8, -0.033<f2/L, 0.01<f3/L<1.0, f4/L<-0.005, 0.01<f5/ L<0.9, 0.02<f6/L<1.6.
  2. 제1항에 있어서, I가 상기 제1물체로부터 상기 전체 투영 광학계의 제 I 물체측 촉점까지의 축 거리이고, L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리라 할 때, 다음의 조건을 만족시키는 것을 특징으로 하는 투영 광학게.
  3. 제1항에 있어서, 제4렌즈 그룹이 제1물체와 가장 근접하여 장착되고 제2물체에 대해 각각 오목면 모양의 두 개의 부의 메니스쿠스 렌즈를 갖는 정면 렌즈 그룹; 제2물체와 가장 근접하여 장착되고 제1물체에 대해 오목면 모양의 부의 렌즈를 갖는 배면 렌즈 그룹; 및 상기 제4렌즈 그룹의 정면 렌즈와 상기 제4렌즈 그룹의 배면 렌즈 사이에 장착되고, 상기 제1물체 측으로부터 순서대로 제1 및 제2부의 렌즈를 갖는 중간 렌즈 그룹으로 이루어지며, f4A가 상기 제4렌즈 그룹에서 상기 제1부의 렌즈의 촛점 길이이고 f4B가 상기 제4렌즈 그룹에서 상기 제2부의 렌즈의 촛점 길이라 할 때, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학게.
    0.05<f4A/f4B<20
  4. 제1항에 있어서, r2Ff이 상기 정면 렌즈의 제1물체측면의 곡률 반경이고, r2Fr이 상기 정면 렌즈의 제2물체측면의 곡률 반경인 경우, 상기 제2렌즈 그룹에서 정면 렌즈가 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 투영 광학계.
    1.00≤(r2Ff-r2Fr)/(r2Ff+r2Fr)<5.0
  5. 제1항에 있어서, 제4렌즈 그룹이 상기 제1물체에 가장 근접하게 배치되고 상기 제2물체에 대해 오목면 모양인 부의 렌즈를 갖는 정면 렌즈 그룹; 상기 제2물체에 가장 근접하게 배치되고 상기 제1물체에 대해 오목면 모양인 부의 렌즈를 갖는 배면 렌즈 그룹; 및 상기 제4렌즈 그룹의 상기 정면 렌즈 그룹 및 상기 제4렌즈 그룹의 상기 배면 렌즈 그룹 사이에 배치된 상기 부의 렌즈의 오목면에 인접한 볼록면을 갖는 부의 렌즈 및 정의 렌즈를 갖는 중간 렌즈 그룹으로 이루어지며, r4N이 상기 중간 렌즈 그룹에서 부의 렌즈의 상기 오목면의 곡률 반경이고, r4P이 상기 중간 렌즈 그룹에서 정의 렌즈의 상기 볼록면의 곡률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족되며 : -0.9<(r4N-r4P)/(r4N+r4P)<0.9, L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리라 할 때, 상기 중간 렌즈 그룹에서 상기 부의 렌즈의 오목면 또는 상기 중간 렌즈 그룹에서의 상기 정의 렌즈의 볼록면이 적어도 하나의 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 투영 광학계.
    |r4N/L|<2.0, |r4P/L|<2.0
  6. 제1항에 있어서, f22가 상기 제2렌즈 그룹에서 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈의 촛점 길이이고 f33가 상기 제2렌즈 그룹에서 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈의 촛점 길이인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.1<f22/f23<10
  7. 제1항에 있어서, 제5렌즈 그룹이 부의 메니스쿠스 렌즈, 및 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 오목면에 인접하여 배치되고 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 오목면에 대응하는 볼록면을 갖는 정의 렌즈를 가지며, r5n이 상기 제5렌즈 그룹에서 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 오목면의 곡률 반경이고, r5P이 상기 제5렌즈 그룹에서 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 오목면에 인접하게 배치된, 정의 렌즈의 부의 메니스쿠스 렌즈의 오목면에 대응하는 볼록면의 곡률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0<(r5P-r5n)/(r5P+r5n)<1
  8. 제7항에 있어서, 부의 메니스쿠스 렌즈 및 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 오목면에 인접한 상기 정의 렌즈가 상기 제5렌즈 그룹에서 적어도 하나의 정의 렌즈와 상기 제5렌즈 그룹에서 적어도 하나의 정의 렌즈 사이에 배치됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
  9. 제1항에 있어서, 제5렌즈 그룹이 제2물체에 가장 근접하여 위치하며 제2물체에 대해 오목면 모양의 부의 렌즈를 가지며 제5렌즈 그룹이 제1물체에 가장 근접하여 위치하며 제1물체에 대해 볼록면 모양의 렌즈를 가지며, r5R이 상기 제5렌즈 그룹에서 제2물체에 가장 근접하게 배치된 부의 렌즈의 제2물체측면의 곡률 반경이고, r6F이 상기 제6렌즈 그룹에서 제1물체에 가장 인접하게 배치된 렌즈의 제 1물체측면의 곡률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    -0.90<(r5R-r6F)/(r5R+r6F)<-0.001
  10. 제1항에 있어서, d56가 상기 제5렌즈 그룹과 상기 제6렌즈 그룹 사이의 렌즈 그룹 이탈이고, L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    d56/L<0.017
  11. 제1항에 있어서, r6F가 상기 제6렌즈 그룹에서 제1물체에 가장 근접한 렌즈면의 곡률 반경이고, d6가 상기 제6렌즈 그룹에서 제1물체에 가장 인접한 렌즈 표면으로부터 제2물체까지의 축거리인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.50<d6/r6F<1.50
  12. 제1항에 있어서, 제5렌즈 그룹이 제2물체에 가장 근접하여 위치하며 제2물체에 대해 오목면 모양의 부의 렌즈를 갖는 부의 렌즈를 가지며 r5F이 상기 제5렌즈 그룹에서 제2물체에 가장 근접하게 배치된 부의 렌즈의 제1물체측면의 곡률 반경이고, r5R이 상기 제5렌즈 그룹에서 제2물체에 가장 인접하게 배치된 부의 렌즈의 제2물체측면의 곡률 반경인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.30<(r5F-r5R)/(r5F+r5R)<1.28
  13. 제1항에 있어서, f21이 상기 제2렌즈 그룹에서 중간 렌즈 그룹의 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈의 촛점 길이이고 L이 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 거리인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0.230<f21/L<0.40
  14. 제1항에 있어서, f2F이 상기 제2렌즈 그룹에서 제1물체에 가장 인접하게 배치되고 상기 제2물체에 대해서 오목면 모양의 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈의 촛점 길이이고 f2R이 상기 제2렌즈 그룹에서 제2물체에 가장 인접하게 배치되고 상기 제1물체에 대해 오목면 모양의 부의 굴절력을 갖는 배면 렌즈의 촛점 길이인 경우, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하는 투영 광학계.
    0≤f2F/f2R<18
  15. 제1항에 있어서, 상기 제2렌즈 그룹에 있어서 중간 렌즈 그룹이 부의 굴절력을 가짐을 특징으로 하는 투영 광학계.
  16. 제1항에 있어서, 상기 제1렌즈 그룹이 적어도 두 개의 정의 렌즈를 가지며, 상기 제3렌즈 그룹이 적어도 세 개의 정의 렌즈를 가지며, 상기 제4렌즈 그룹이 적어도 3개의 부의 렌즈를 가지며, 상기 제5렌즈 그룹이 적어도 5개의 정의 렌즈 및 적어도 하나의 부의 렌즈를 가지며, 상기 제6렌즈 그룹이 적어도 하나의 정의 렌즈를 가짐을 특징으로 하는 투영 광학계.
  17. 제1항에 있어서, 상기 제6렌즈 그룹이 다음의 조건을 만족시키는 적어도 하나의 렌즈면을 갖는 3개 이하의 렌즈로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 광학계.
    1/|ФL|<20
    상기식에서, Ф는 상기 렌즈면의 굴절력이며, L는 상기 제1물체로부터 상기 제2물체까지의 물체-대-상 거리이다.
  18. 제1항에 있어서, 상기 투영 광학계의 배율이 1/5 임을 특징으로 하는 투영 광학계.
  19. 감광선 기판이 그 주 표면 상에 고정되도록 하는 스테이지; 소정 파장의 노광을 방사하고 마스크의 소정 패턴을 상기 기판 위로 전달히기 위한 조명 광학계; 및 제1물체 측으로부터 순서대로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 그룹, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹, 부의 굴절력을 갖는 제4렌즈 그룹, 정의 굴절력을 갖는 제5렌즈 그룹 및 정의 굴절력을 갖는 제6렌즈 그룹으로 이루어지며, 상기 제2렌즈 그룹은 상기 제1물체에 가장 근접하게 배치되고 상기제2물체에 오목한 표면 모양을 갖는 부의 굴절력을 갖는 정면 렌즈, 상기 제2물체에 가장 근접하게 배치되고 상기 마스크에 오목한 표면 모양을 갖는 부의 메니스쿠스형 배면 렌즈, 및 상기 정면 및 상기 배면 렌즈 사이에 배치된 중간 렌즈 그룹으로 이루어지며, 이 중간 렌즈는 상기 제1물체 측으로부터 차례로 정의 굴절력을 갖는 제1렌즈, 부의 굴절력을 갖는 제2렌즈 및 부의 굴절력을 갖는 제3렌즈를 가지며, f1은 상기 제1렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f2은 상기 제2렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f3은 상기 제3렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f4은 상기 제4렌즈 그룹의 촛점 길이이며, f5은 상기 제5렌즈 그룹의 촛점 길이이고, f6은 상기 제6렌즈 그룹의 촛점 길이며, L은 상기 마스크로부터 상기 기판까지의 거리일 때, 다음의 조건이 만족됨을 특징으로 하여, 상기 마스크와 상기 기판 사이에 제공되는 투영 광학계.
    f1/L<0.8, -0.033<f2/L, 0.01<f3/L<1.0, f4/L<-0.005, 0.01<f5/ L<0.9, 0.02<f6/L<1.6
  20. 제19항에 있어서, 상기 투영 광학계의 배율이 1/5 임을 특징으로 하는 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100866818B1 (ko) * 2000-12-11 2008-11-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계 및 이 투영광학계를 구비한 노광장치

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE38465E1 (en) 1994-12-14 2004-03-16 Nikon Corporation Exposure apparatus
JP3500745B2 (ja) * 1994-12-14 2004-02-23 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH1048517A (ja) * 1996-08-07 1998-02-20 Nikon Corp 投影光学系
JPH1079345A (ja) * 1996-09-04 1998-03-24 Nikon Corp 投影光学系及び露光装置
JP3757536B2 (ja) * 1996-10-01 2006-03-22 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
DE19855108A1 (de) 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren
DE19855157A1 (de) * 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
US6600550B1 (en) * 1999-06-03 2003-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same
WO2001023933A1 (fr) * 1999-09-29 2001-04-05 Nikon Corporation Systeme optique de projection
DE50012452D1 (de) * 1999-12-29 2006-05-11 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen
EP1344112A2 (de) 2000-12-22 2003-09-17 Carl Zeiss SMT AG Projektionsobjektiv
DE10064685A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
WO2004040350A1 (ja) * 2002-10-15 2004-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. ズームレンズとそれを用いた映像拡大投写システム、ビデオプロジェクター、リアプロジェクター、及びマルチビジョンシステム
WO2005015316A2 (en) * 2003-08-12 2005-02-17 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective for microlithography
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
CN100483174C (zh) 2004-05-17 2009-04-29 卡尔蔡司Smt股份公司 具有中间图像的反射折射投影物镜
JP4466630B2 (ja) 2006-03-31 2010-05-26 株式会社カシオ日立モバイルコミュニケーションズ ヒンジ装置及び携帯型電子機器
JP5320163B2 (ja) * 2009-05-26 2013-10-23 富士フイルム株式会社 撮像レンズおよび撮像装置
CN102540419B (zh) * 2010-12-31 2014-01-22 上海微电子装备有限公司 一种大视场投影光刻物镜
DE102015218328B4 (de) 2015-09-24 2019-01-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System zur Feldabbildung und/oder Pupillenabbildung

Family Cites Families (78)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3504961A (en) * 1968-04-01 1970-04-07 Perkin Elmer Corp Modified double gauss objective
US3685884A (en) * 1971-01-29 1972-08-22 Olympus Optical Co 1 x objective for projection printing
US3897138A (en) * 1971-11-24 1975-07-29 Canon Kk Projection lens for mask pattern printing
US3737215A (en) * 1972-04-06 1973-06-05 Eastman Kodak Co Six element unit magnification lens
JPS5336326B2 (ko) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS5416410B2 (ko) * 1974-03-07 1979-06-22
JPS5820402B2 (ja) * 1975-10-14 1983-04-22 オリンパス光学工業株式会社 チヨウコウカイゾウリヨクシユクシヨウレンズ
JPS581763B2 (ja) * 1978-06-19 1983-01-12 旭光学工業株式会社 回折限界の解像力を有する等倍複写用レンズ
JPS56165111A (en) 1980-05-26 1981-12-18 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Telecentric illuminating system
JPS584112A (ja) 1981-06-30 1983-01-11 Olympus Optical Co Ltd 画角の広い標準レンズ
JPS5878115A (ja) 1981-11-04 1983-05-11 Nippon Kogaku Kk <Nikon> テレセントリツク照明用補助コンデンサ−レンズ
JPS58147708A (ja) 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
JPS58150924A (ja) 1982-03-04 1983-09-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 二重共役維持光学系
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPS60209713A (ja) * 1984-04-03 1985-10-22 Minolta Camera Co Ltd マイクロフイルム投影光学系
US4812028A (en) 1984-07-23 1989-03-14 Nikon Corporation Reflection type reduction projection optical system
US4701035A (en) 1984-08-14 1987-10-20 Canon Kabushiki Kaisha Reflection optical system
US4779966A (en) 1984-12-21 1988-10-25 The Perkin-Elmer Corporation Single mirror projection optical system
JPS61156737A (ja) 1984-12-27 1986-07-16 Canon Inc 回路の製造方法及び露光装置
US4757354A (en) 1986-05-02 1988-07-12 Matsushita Electrical Industrial Co., Ltd. Projection optical system
DE3750174T2 (de) 1986-10-30 1994-11-17 Canon Kk Belichtungseinrichtung.
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US4747678A (en) 1986-12-17 1988-05-31 The Perkin-Elmer Corporation Optical relay system with magnification
JPH0786647B2 (ja) 1986-12-24 1995-09-20 株式会社ニコン 照明装置
US4953960A (en) 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US5253110A (en) 1988-12-22 1993-10-12 Nikon Corporation Illumination optical arrangement
US5220454A (en) 1990-03-30 1993-06-15 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
JP2847883B2 (ja) 1990-03-30 1999-01-20 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系
JPH03288112A (ja) * 1990-04-04 1991-12-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 色消しレンズ系
JPH0442208A (ja) 1990-06-08 1992-02-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd テレセントリック投影レンズ
US5241423A (en) 1990-07-11 1993-08-31 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens
US5089913A (en) 1990-07-11 1992-02-18 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens
US5052763A (en) 1990-08-28 1991-10-01 International Business Machines Corporation Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations
JP3041939B2 (ja) 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
JP3353902B2 (ja) * 1990-12-12 2002-12-09 オリンパス光学工業株式会社 投影レンズ系
US5172275A (en) * 1990-12-14 1992-12-15 Eastman Kodak Company Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus
NL194844C (nl) 1991-02-08 2003-04-03 Zeiss Carl Fa Catadioptrisch reductie-objectief.
US5402267A (en) 1991-02-08 1995-03-28 Carl-Zeiss-Stiftung Catadioptric reduction objective
JP2830492B2 (ja) 1991-03-06 1998-12-02 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
US5506684A (en) 1991-04-04 1996-04-09 Nikon Corporation Projection scanning exposure apparatus with synchronous mask/wafer alignment system
US5097291A (en) * 1991-04-22 1992-03-17 Nikon Corporation Energy amount control device
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
US5668673A (en) 1991-08-05 1997-09-16 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
JPH06501792A (ja) * 1991-08-23 1994-02-24 イーストマン・コダック・カンパニー マイクロリレーレンズとして使用するに適した高開口数の有限共役レンズ系及びそのレンズ系を用いたプリンタ
JP3298131B2 (ja) 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
US5212593A (en) 1992-02-06 1993-05-18 Svg Lithography Systems, Inc. Broad band optical reduction system using matched multiple refractive element materials
JP2694084B2 (ja) 1992-03-19 1997-12-24 株式会社クボタ 作業車の自動変速構造
US5333035A (en) 1992-05-15 1994-07-26 Nikon Corporation Exposing method
US5383052A (en) 1992-05-27 1995-01-17 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Afocal optical system and multibeam recording apparatus comprising the same
JP3374413B2 (ja) 1992-07-20 2003-02-04 株式会社ニコン 投影露光装置、投影露光方法、並びに集積回路製造方法
US5406415A (en) 1992-09-22 1995-04-11 Kelly; Shawn L. Imaging system for a head-mounted display
JP2750062B2 (ja) 1992-12-14 1998-05-13 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US5537260A (en) 1993-01-26 1996-07-16 Svg Lithography Systems, Inc. Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture
US5323263A (en) * 1993-02-01 1994-06-21 Nikon Precision Inc. Off-axis catadioptric projection system
US5591958A (en) 1993-06-14 1997-01-07 Nikon Corporation Scanning exposure method and apparatus
US5592329A (en) 1993-02-03 1997-01-07 Nikon Corporation Catadioptric optical system
JP3747951B2 (ja) 1994-11-07 2006-02-22 株式会社ニコン 反射屈折光学系
US5636066A (en) 1993-03-12 1997-06-03 Nikon Corporation Optical apparatus
JP3747958B2 (ja) 1995-04-07 2006-02-22 株式会社ニコン 反射屈折光学系
JPH06313845A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Olympus Optical Co Ltd 投影レンズ系
US5534970A (en) 1993-06-11 1996-07-09 Nikon Corporation Scanning exposure apparatus
US5515207A (en) 1993-11-03 1996-05-07 Nikon Precision Inc. Multiple mirror catadioptric optical system
JP3360387B2 (ja) 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3396935B2 (ja) 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3395801B2 (ja) 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
DE4417489A1 (de) 1994-05-19 1995-11-23 Zeiss Carl Fa Höchstaperturiges katadioptrisches Reduktionsobjektiv für die Miktrolithographie
JPH08179204A (ja) * 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3500745B2 (ja) * 1994-12-14 2004-02-23 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH08203812A (ja) 1995-01-30 1996-08-09 Nikon Corp 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置
JP3624973B2 (ja) 1995-10-12 2005-03-02 株式会社ニコン 投影光学系
JPH1010431A (ja) 1996-06-20 1998-01-16 Nikon Corp 反射屈折光学系
JP3282527B2 (ja) 1996-12-27 2002-05-13 富士ゼロックス株式会社 画像符号化装置
US5856884A (en) * 1997-09-05 1999-01-05 Nikon Corporation Projection lens systems

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100866818B1 (ko) * 2000-12-11 2008-11-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계 및 이 투영광학계를 구비한 노광장치

Also Published As

Publication number Publication date
EP1162508A3 (en) 2002-09-04
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DE69526568D1 (de) 2002-06-06

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