KR960019318A - 불휘발성 반도체메모리장치 - Google Patents
불휘발성 반도체메모리장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960019318A KR960019318A KR1019950039993A KR19950039993A KR960019318A KR 960019318 A KR960019318 A KR 960019318A KR 1019950039993 A KR1019950039993 A KR 1019950039993A KR 19950039993 A KR19950039993 A KR 19950039993A KR 960019318 A KR960019318 A KR 960019318A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- transistor
- current
- differential amplifier
- output line
- voltage conversion
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/26—Sensing or reading circuits; Data output circuits
- G11C16/28—Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
- G11C7/062—Differential amplifiers of non-latching type, e.g. comparators, long-tailed pairs
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
본 발명의 재기입가능한 불휘발성 반도체메모리장치는 스레스홀드치에 있어서 전기적으로 극성의 반전이 가능한 복수의 메모리셀과, 메모리셀과 동일한 단면구조를 가지고, 소정수의 메모리셀마다 최소한 1쌍 배설되는 레퍼런스셀을 가지고, 1쌍의 레퍼런스셀은 서로 역상의 데이터가 기입되고, 독출시 1쌍의 레퍼런스셀의 전류를 조합하여, 기준전류를 작성하고, 이것과 메모리셀의 신호전류와를 비교함으로써 데이터를 판정한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 일실시예에 관한 불휘발성 반도체메모리장치의 개략구성도,
제4도는 본 발명의 실시예 1에 관한 메모리셀의 요부단면도.
Claims (7)
- 스레스홀드치에 있어서 전기적으로 극성의 반전이 가능한 복수의 메모리셀과, 상기 메모리셀을 구성하는 트랜지스터의 두께방향과 대략 동일한 두께방향의 구조를 가지는 트랜지스터를 가지고, 소정수의 메모리셀마다 최소한 1쌍 배설되는 레퍼런스셀과, 선택된 상기 메모리셀을 구동할 때에, 대응하는 1쌍의 레퍼런스셀도 구동하고, 메모리셀의 기입시에는, 한쪽의 레퍼런스셀에는 제1데이터의 기입을 행하고, 다른 쪽의 레퍼런스셀에는 제1데이터와는 역상으로 반전된 제2데이터를 기입하는 기입용 구동수단과, 선택된 메모리셀의 데이터독출시에, 대응하는 1쌍의 레퍼런스쎌의 데이터를 독출하는 독출용 구동수단과, 선택된 1쌍의 상기 제1데이터에 대응하는 레퍼런스셀의 전류(i1)와 상기 제2데이터에 대응하는 레퍼런스셀의 전류(i0)와를 하기 식(I)에 따라서 조합하여, 기준전류(ire) 또는 기준전류(ire)의 K배를 작성하는 기준전류생성수단과, 상기 생성수단으로 생성된 기준전류(ire) 또는 기준전류(ire)의 k배와, 상기 선택된 메모리셀에 흐르는 전류 또는 전류의 k배와를 비교함으로써, 선택된 메모리셀에 축적되어 있는 데이타를 판정하는 비교수단을 가지는 불휘발성 반도체메모리장치.ire=(mxi1+nxi0)/k … (1)단 m,n,k는 플러스의 수이며, m,n은 모두 k보다 작다.
- 제1항에 있어서, 상기 소정수의 메모리셀과 1쌍의 레퍼런스셀은 동일한 원드선에 의하여 접속되어 있는 불휘발성 반도체메모리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 메모리셀을 구성하는 트랜지스터 및 레퍼런스셀을 구성하는 트랜지스터는 전하의 축적이 가능한 플로팅게이트를 가지는 트랜지스터, 전하트랩 기능을 가지는 절연막을 가지는 트랜지스터, 강유 전체막을 가지는 트랜지스터중 어느 하나인 불휘발성 반도체메모리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 비교수단은 최소한 차동앰프를 그 구송요소의 일부를 가지고, 상기 기준전류생성수단과 상기 비교수단이 일체로 이루어지고, 상기 기준전류생성수단의 일부를 구성하는 트랜지스터가 상기 비교수단을 구성하는 차동앰프의 일부의 트랜지스터를 겸하고 있는 불휘발성 반도체메모리장치.
- 제4항에 있어서, 상기 1쌍의 레퍼런스셀의 출력선이 합류하여 접속되는 합류배선의 신호전류를 전압으로 변환하는 제1의 전류-전압변환트랜지스터와, 상기 제1의 전류-전압변환트랜지스터의 출력선이 접속되고, 상기 차동앰프의 일부의 트랜지스터를 구성하는 차동앰프용 제1트랜지스터와, 상기 메모리셀의 출력선의 신호전류를 전압으로 변환하는 제2의 전류-전압변환트랜지스터와, 상기 제2의 전류-전압변환트랜지스터의 출력선이 접속되고, 상기 차동앰프의 일부의 트랜지스터를 구성하는 차동앰프용 제2트랜지스터를 최소한 가지고, 이들 제1의 전류-전압변환트랜지스터, 제2의 전류-전압변환트랜지스터, 차동앰프용 제1트랜지스터, 차동앰프용 제2트랜지스터에 있어서의 각 채널폭을 각 채널길이로 나눈 값 상호의 관계를 소정의 비율로 하는 불휘발성 반도체메모리장치.
- 제4항에 있어서, 상기 레퍼런스셀의 한쪽의 출력선의 신호전류를 m배 또는 m/k배로 하기 위한 제1계수배 변환회로와, 상기 레퍼런스셀의 다른 쪽의 출력선의 신호전류를 n배 또는 n/k배로 하기 위한 제2계수배변환회로와, 상기 제1계수배변환회로의 출력선과 제2계수배변환회로의 출력선과를 합류하는 합류배선회로와, 합류배선에 흐르는 전류를 전압으로 변환하는 제1의 전류-전압변환트랜지스터와, 상기 제1의 전류-전압변환트랜지스터의 출력선이 접속되고, 상기 차동앰프의 일부의 트랜지스터를 구성하는 차동앰프용 제1트랜지스터와, 상기 메모리셀의 출력선의 신호전류를 k배 또는 1배로 하는 제3계수배변환회로와, 제3계수배 변환회로의 출력선의 신호전류를 전압으로 변환하는 제2의 전류-전압 변환트랜지스터와, 상기 제2의 전류-전압변환트랜지스터의 출력선이 접속되고, 상기 차동 앰프의 일부의 트랜지스터를 구성하는 차동앰프용 제2트랜지스터를 최소한 가지고, 이들 제1계수배변환회로의 트랜지스터, 제2계수배변환회로의 트랜지스터, 제3계수배변환회로의 트랜지스터, 제1의 전류-전압변환트랜지스터, 제2의 전류-전압변환트랜지스터, 차동앰프용 제1트랜지스터, 차동앰프용 제2트랜지스터에 있어서의 각 채널폭을 각 채널길이로 나눈 값 상호의 관계를 소정의 비율로 하는 불휘발성 반도체메모리장치.
- 제4항에 있어서, 상기 레퍼런스셀의 한쪽의 출력선의 신호전류를 m배 또는 m/k배로 하기 위한 제1계수배 변환회로와, 상기 레퍼런스셀의 다른 쪽의 출력선의 신호전류를 n배 또는 n/k배로 하기 위한 제2계수배변환회로와, 상기 제1계수배변환회로의 출력선과 제2계수배변환회로의 출력선과를 합류하는 합류배선회로와, 합류배선에 흐르는 전류를 전압으로 변환하는 제1의 전류-전압변환트랜지스터와, 상기 제1의 전류-전압변환트랜지스터의 출력선이 접속되고, 상기 차동앰프의 일부의 트랜지스터를 구성하는 차동앰프용 제1트랜지스터와, 상기 메모리셀의 출력선의 신호전류를 전압으로 변환하는 제2의 전류-전압 변환트랜지스터와, 상기 제2의 전류-전압변환트랜지스터의 출력선이 접속되고, 상기 차동앰프의 일부의 트랜지스터를 구성하는 차동앰프용 제2트랜지스터를 최소한 가지고, 이들 제1계수배변환회로의 트랜지스터, 제2계수배변환회로의 트랜지스터, 제1의 전류-전압변환트랜지스터, 제2의 전류-전압변환트랜지스터, 차동앰프용 제1트랜지스터, 차동앰프용 제2트랜지스터에 있어서의 각 채널폭을 각 채널길이로 나눈 값 상호의 관계를 소정의 비율로 하는 불휘발성 반도체메모리장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27772594 | 1994-11-11 | ||
JP1944-277725 | 1994-11-11 | ||
JP94-277725 | 1994-11-11 | ||
JP1995-061166 | 1995-03-20 | ||
JP95-61166 | 1995-03-20 | ||
JP06116695A JP3610621B2 (ja) | 1994-11-11 | 1995-03-20 | 不揮発性半導体メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960019318A true KR960019318A (ko) | 1996-06-17 |
KR100381149B1 KR100381149B1 (ko) | 2003-07-18 |
Family
ID=26402202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950039993A KR100381149B1 (ko) | 1994-11-11 | 1995-11-07 | 불휘발성반도체메모리장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5627781A (ko) |
EP (1) | EP0712135B1 (ko) |
JP (1) | JP3610621B2 (ko) |
KR (1) | KR100381149B1 (ko) |
DE (1) | DE69522412T2 (ko) |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09180473A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-11 | Nec Corp | 不揮発性半導体メモリ装置 |
US5801401A (en) * | 1997-01-29 | 1998-09-01 | Micron Technology, Inc. | Flash memory with microcrystalline silicon carbide film floating gate |
US5740104A (en) * | 1997-01-29 | 1998-04-14 | Micron Technology, Inc. | Multi-state flash memory cell and method for programming single electron differences |
US5852306A (en) | 1997-01-29 | 1998-12-22 | Micron Technology, Inc. | Flash memory with nanocrystalline silicon film floating gate |
US5754477A (en) * | 1997-01-29 | 1998-05-19 | Micron Technology, Inc. | Differential flash memory cell and method for programming |
US6232643B1 (en) | 1997-11-13 | 2001-05-15 | Micron Technology, Inc. | Memory using insulator traps |
FR2774209B1 (fr) * | 1998-01-23 | 2001-09-14 | St Microelectronics Sa | Procede de controle du circuit de lecture d'un plan memoire et dispositif de memoire correspondant |
TW559814B (en) * | 2001-05-31 | 2003-11-01 | Semiconductor Energy Lab | Nonvolatile memory and method of driving the same |
JP2002367380A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-20 | Sony Corp | 不揮発性半導体メモリ装置 |
US6888739B2 (en) | 2002-06-21 | 2005-05-03 | Micron Technology Inc. | Nanocrystal write once read only memory for archival storage |
US7193893B2 (en) * | 2002-06-21 | 2007-03-20 | Micron Technology, Inc. | Write once read only memory employing floating gates |
US7154140B2 (en) * | 2002-06-21 | 2006-12-26 | Micron Technology, Inc. | Write once read only memory with large work function floating gates |
US6996009B2 (en) * | 2002-06-21 | 2006-02-07 | Micron Technology, Inc. | NOR flash memory cell with high storage density |
US6804136B2 (en) * | 2002-06-21 | 2004-10-12 | Micron Technology, Inc. | Write once read only memory employing charge trapping in insulators |
US7847344B2 (en) * | 2002-07-08 | 2010-12-07 | Micron Technology, Inc. | Memory utilizing oxide-nitride nanolaminates |
US7221017B2 (en) * | 2002-07-08 | 2007-05-22 | Micron Technology, Inc. | Memory utilizing oxide-conductor nanolaminates |
US7221586B2 (en) | 2002-07-08 | 2007-05-22 | Micron Technology, Inc. | Memory utilizing oxide nanolaminates |
JP4067956B2 (ja) * | 2002-12-20 | 2008-03-26 | スパンション エルエルシー | 不揮発性メモリの制御方法及び不揮発性メモリ |
JP3914869B2 (ja) * | 2002-12-20 | 2007-05-16 | スパンション インク | 不揮発性メモリ及びその書き換え方法 |
NO320017B1 (no) | 2003-03-26 | 2005-10-10 | Thin Film Electronics Asa | Deteksjonsforsterkersystemer og matriseadresserbar minneinnretning med ±n av disse |
NO324029B1 (no) * | 2004-09-23 | 2007-07-30 | Thin Film Electronics Asa | Lesemetode og deteksjonsanordning |
US7927948B2 (en) | 2005-07-20 | 2011-04-19 | Micron Technology, Inc. | Devices with nanocrystals and methods of formation |
JP2007035179A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
US7709402B2 (en) | 2006-02-16 | 2010-05-04 | Micron Technology, Inc. | Conductive layers for hafnium silicon oxynitride films |
KR100865326B1 (ko) | 2006-12-26 | 2008-10-27 | 삼성전자주식회사 | 데이터 센싱시 기준 신호의 부정합을 방지할 수 있는반도체 메모리 장치 및 데이터 센싱 방법 |
EP1944763A1 (en) | 2007-01-12 | 2008-07-16 | STMicroelectronics S.r.l. | Reading circuit and method for data storage system |
JP4911508B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-04-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置及びその動作方法 |
JP2008071483A (ja) * | 2007-10-03 | 2008-03-27 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP5057517B2 (ja) * | 2007-12-06 | 2012-10-24 | スパンション エルエルシー | 半導体装置及びその制御方法 |
US7995392B2 (en) | 2007-12-13 | 2011-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device capable of shortening erase time |
JP2009163782A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-23 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP5422976B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2014-02-19 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2010123987A (ja) * | 2010-01-14 | 2010-06-03 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US8446753B2 (en) * | 2010-03-25 | 2013-05-21 | Qualcomm Incorporated | Reference cell write operations at a memory |
JP5598340B2 (ja) * | 2011-01-14 | 2014-10-01 | セイコーエプソン株式会社 | リファレンス電流発生回路、不揮発性記憶装置、集積回路装置、及び電子機器 |
JP6515606B2 (ja) * | 2015-03-16 | 2019-05-22 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体集積回路装置及びそれを用いた電子機器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4611301A (en) * | 1983-04-07 | 1986-09-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Read only memory |
FR2630573B1 (fr) * | 1988-04-26 | 1990-07-13 | Sgs Thomson Microelectronics | Memoire programmable electriquement avec plusieurs bits d'information par cellule |
JPH0814993B2 (ja) * | 1989-01-13 | 1996-02-14 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
US5172338B1 (en) * | 1989-04-13 | 1997-07-08 | Sandisk Corp | Multi-state eeprom read and write circuits and techniques |
JP2647527B2 (ja) * | 1990-02-21 | 1997-08-27 | シャープ株式会社 | センス増幅回路 |
JP3454520B2 (ja) * | 1990-11-30 | 2003-10-06 | インテル・コーポレーション | フラッシュ記憶装置の書込み状態を確認する回路及びその方法 |
US5461713A (en) * | 1991-05-10 | 1995-10-24 | Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. | Current offset sense amplifier of a modulated current or current unbalance type for programmable memories |
US5446686A (en) * | 1994-08-02 | 1995-08-29 | Sun Microsystems, Inc. | Method and appartus for detecting multiple address matches in a content addressable memory |
-
1995
- 1995-03-20 JP JP06116695A patent/JP3610621B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-07 KR KR1019950039993A patent/KR100381149B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-11-08 US US08/555,144 patent/US5627781A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-09 EP EP95117705A patent/EP0712135B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-09 DE DE69522412T patent/DE69522412T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100381149B1 (ko) | 2003-07-18 |
JP3610621B2 (ja) | 2005-01-19 |
JPH08190797A (ja) | 1996-07-23 |
DE69522412T2 (de) | 2002-05-29 |
EP0712135A3 (en) | 1996-07-03 |
EP0712135A2 (en) | 1996-05-15 |
US5627781A (en) | 1997-05-06 |
EP0712135B1 (en) | 2001-08-29 |
DE69522412D1 (de) | 2001-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960019318A (ko) | 불휘발성 반도체메모리장치 | |
KR960032733A (ko) | 불휘발성 반도체메모리장치 | |
US6667904B2 (en) | Multi-level non-volatile semiconductor memory device with verify voltages having a smart temperature coefficient | |
KR20030010476A (ko) | 반도체 기억 장치의 데이터 기입 방법 및 반도체 집적회로 장치 | |
JPS6025837B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR970023375A (ko) | 데이터 유지회로 | |
KR930024162A (ko) | 반도체 기억 장치 | |
KR960042757A (ko) | 불휘발성 반도체 메모리의 데이터 독출 회로 | |
JPH0574181A (ja) | 半導体メモリ装置のデータ読み出し回路 | |
US5198997A (en) | Ultraviolet erasable nonvolatile memory with current mirror circuit type sense amplifier | |
KR900005438A (ko) | 다이나믹형 메모리 | |
KR19990057797A (ko) | 강유전체 메모리 장치 및 그의 읽기 방법 | |
EP0184148B1 (en) | Semiconductor memory device | |
KR950020704A (ko) | 반도체 메모리 장치 | |
KR900005460A (ko) | 반도체 기억장치 | |
KR870002593A (ko) | 불휘발성 반도체 기억장치 | |
KR100260604B1 (ko) | 집적회로 아날로그신호 기록 및 재생용 선형화된 기억셀 | |
US6822906B2 (en) | Sense amplifier structure for multilevel non-volatile memory devices and corresponding reading method | |
JPH0793032B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US4899309A (en) | Current sense circuit for a ROM system | |
TW409368B (en) | Non-volatile semiconductor storage device | |
KR920001526A (ko) | 반도체 메모리 장치 | |
US6262909B1 (en) | Ferroelectric memory device | |
JP3578661B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
KR890008847A (ko) | 불휘발성 메모리 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120402 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |