KR950002840B1 - 히드라진카복스아미드 유도체, 이의 제조방법 및 이의 용도 - Google Patents

히드라진카복스아미드 유도체, 이의 제조방법 및 이의 용도 Download PDF

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히로시 하마구치
데츠요시 니시마츠
아츠시 가나오카
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니혼 노야쿠 가부시키가이샤
고다이라 다스쿠
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Abstract

내용 없음.

Description

히드라진카복스아미드 유도체, 이의 제조방법 및 이의 용도
본 발명은 히드라진카복스아미드 유도체, 특히, 광범위한 살충 작용을 하는 히드라진카복스아미드 유도체에 관한 것이다.
일본국 공개특허공보 제48-91223호에는 세미카바지드가 살충제로서 유용한 것으로 기술되어 있다. 일본국 공개특허공보 제54-119029호에는 티오세미카바존이 농업 및 원예 작물의 질병 방제제로서 유용한 것으로 기술되어 있다. 일본국 공개특허공보 제63-93761호에는 치환된 히드라존이 살균제로서 유용한 것으로 기술되어 있다.
그러나, 광범위한 살충 작용을 하는 화합물에 대해서는 기술된 바 없다.
본 발명의 발명자들이 신규한 살충제를 개발하기 위해 심혈을 기울여 연구한 결과, 하기 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체가 소량으로서 매우 우수한 살충 효과를 나타낸다는 사실을 발견함으로써 본 발명을 완수하였다.
즉, 본 발명은 하기 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체에 관한 것이다.
상기식에서, R1및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3는 수소 원자, 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4눈 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, A는 일반식또는(여기서, X는 수소원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3 내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는, 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, R5는 수소 원자; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 할로알킬카보닐 그룹; 사이클로알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알콕시디카보닐 그룹; 비치환된 페닐카보닐 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐카보닐 그룹; 또는 수소원자, 저급 알킬 그룹, 비치환된 페닐 그룹, 및 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 모함하는 치환된 페닐 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹이다)의 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 하나 이상을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 치환체를 1 또는 2개 포함하는, 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는, 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는, 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상일할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는, 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
본 발명은 또한 상기한 유도체의 제조방법 및 상기한 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 농업학적 및 원예학적 살충제에 관한 것이다.
상기 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체의 치환체의 정의에 있어서, 용어 "저급"은 탄소수가 1 내지 6임을 나타내는데 사용하며, 접두어 "할로"는 그룹이 염소 원자, 불소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 중에서 선택된, 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 할로겐 원자를 치환체로서 포함함을 나타내는데 사용한다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체 중에서, 후술될 일반식(I')의 히드라진카복스아미드 유도체는 기하 이성체, 즉 E-형태 및 Z-형태를 갖는다. 또한, 본 발명에는 E-형태, Z-형태 및 E-형태와 Z-형태를 임의의 비율로 포함하는 혼합 형태가 포함된다. 후술될 각각의 일반식(I") 및 (I'")의 히드라진카복스아미드 유도체는 입체 이성체, 즉 R-형태 및 S-형태를 갖는다. 또한, 본 발명에는 R-형태, S-형태 및 R-형태와 S-형태를 임의의 비율로 포함하는 혼합 형태가 포함된다.
모든 일반식(I'), (I") 및 (I'")의 히드라진카복스아미드 유도체는 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체에 포함된다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체의 치환체의 바람직한 예는 하기와 같다: 동일하거나 상이할 수 있는 R1, R2, R3 및 R4로는 수소 원자, 하이드록실 그룹 또는 저급 알킬 그룹(예 : 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 부틸, i-부틸, s-부틸, t-부틸 등)이 바람직하다. X 치환체의 바람직한 예에는 수소원자; 할로겐 원자(예 : 염소, 불소, 브롬, 요오드 등); 시아노 그룹, 저급 알킬 그룹(예 : 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 부틸, i-부틸, s-부틸, t-부틸 등); 저급 할로알킬 그룹(예 : 디클로로메틸, 디플루오로메틸, 트리클로로메틸, 트리플루오로메틸, 디플루오로에틸, 트리플루오로에틸, 테트라플루오로에틸 등); 저급 알콕시 그룹(예 : 메톡시, 에톡시, 프로폭시 등); 및 저급 할로알콕시 그룹(예 : 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시, 디플루오로에톡시, 트리플루오로에톡시 등)이 있다. X 치환체의 위치에 대해서는, 하나 이상의 치환체가 3-위치에 존재하는 것이 바람직하다.
Y 치환체의 바람직한 예에는 수소 원자; 할로겐 원자(예 : 염소, 불소, 브롬, 요오드 등); 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹(예 : 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 부틸, i-부틸, s-부틸, t-부틸, 펜틸, 헵틸 등); 저급 할로알킬 그룹(예 : 디클로로메틸, 디플루오로메틸, 트리클로로메틸, 트리플루오로메틸, 디플루오로에틸, 트리플루오로에틸, 테트라플루오로에틸 등); 저급 알콕시 그룹(예 : 메톡시, 에톡시, 프로폭시 등); 저급 할로알콕시 그룹(예 : 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시, 디플루오로에톡시, 트리플루오로에톡시 등); 저급알킬설포닐옥시 그룹(예 : 메틸 설포닐옥시 등); 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹(예 : 트리플루오로메틸 설포닐옥시 등); 및 저급 알콕시카보닐 그룹(예 : 메톡시카보닐 등)이 있다. Y 치환체의 위치에 대해서는, 하나 이상의 치환체가 4-위치에 존재하는 것이 바람직하다. Y 치환체의 특히 바람직한 예에는 시아노 그룹이 있다.
Z 치환체의 바람직한 예에는 수소 원자; 할로겐 원자(예 : 염소, 불소, 브롬, 요오드 등); 시아노 그룹; 알킬 그룹(예 : 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 부틸, i-부틸, s-부틸, t-부틸, 펜틸, 헵틸 등); 저급 할로알킬 그룹(예 : 디클로로메틸, 디플루오로메틸, 트리클로로메틸, 트리플루오로메틸, 디플루오로에틸, 트리플루오로에틸, 테트라플루오로에틸 등) ; 저급 알콕시 그룹(예 : 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 부톡시 등); 저급 할로알콕시 그룹(예 : 디클로로메톡시, 디플루오로메톡시, 트리클로로메톡시, 트리플루오로메톡시, 디플루오로에톡시, 트리플루오로에톡시, 테트라플루오로에톡시 등); 저급 알킬티오 그룹(예 : 메틸티오, 에틸티오 등); 저급 할로알킬티오 그룹(예 : 디플루오로메틸티오, 트리플루오로메틸티오, 트리플루오로에틸티오, 테트라플루오로에틸티오 등); 저급 알킬설피닐 그룹(예 : 메틸설피닐, 에틸설피닐 등); 저급 할로알킬설피닐 그룹(예 : 디플루오로메틸설피닐, 트리풀루오로메틸설피닐, 트리풀루오로에틸설피닐, 테트라플루오로에틸설포닐 등); 저급 알킬설포닐 그룹(예 : 메틸설포닐, 에틸설포닐 등); 및 저급 할로알킬설포닐 그룹(예 : 디플루오로메틸설포닐, 트리풀루오로메틸설포닐, 트리플루오로에틸설포닐, 테트라플루오로에틸설포닐 등)이 있다. Z 치환체의 위치에 대해서는, 하나 이상의 치환체가 4-위치에 존재하는 것이 바람직하다.
R5로는 수소 원자 ; 저급 알킬카보닐 그룹(예 : 메틸카보닐, 에틸카보닐 등); 저급 할로알킬카보닐 그룹(예 : 디플로오로메틸카보닐, 트리풀루오로메틸카보닐, 테트라풀루오로에틸카보닐 등); 또는 저급 알콕시카보닐 그룹(예 : 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, 프로폭시카보닐 등)이 바람직하다. W로는 산소 원자가 바람직하다. 그러나, 본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체의 치환체가 위에서 예시한 원자 및 그룹만으로 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 통상적으로 제조하는 방법에 있어서, 상기 유도체는 예를 들어 하기의 제조 공정을 이용하여 제조할 수 있다 :
상기식에서, R1 내지 R4, X, Y, Z 및 W는 상기한 바와 같다.
일반식(I')의 히드라진카복스아미드 유도체는 일반식(VIII)의 화합물을 촉매의 존재 또는 부재하에 불활성용매 중에서 일반식(VI)의 화합물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응 A-1
일반식(VIII)의 화합물→일반식(I')의 화합물
상기 반응에서 사용되는 불활성 용매로는 반응의 진행을 크게 방해하지 않는 한 모든 불활성 용매를 사용할 수 있다. 상기한 불활성 용매로는 알콜(예 : 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 등); 할로겐화 탄화수소(예 : 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소 등); 방향족 탄화수소(예 : 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등); 니트릴(예 : 아세토니트릴, 벤조니트릴 등); 에테르(예 : 메틸 셀로솔브(Methyl Cellosolve), 디에틸 에테르, 디글림, 디옥산, 테트라하이드로푸란 등); 카복실산(예 : 아세트산 등); 디메틸아세트아미드; 디메틸설폭사이드; 및 물을 예시할 수 있다.
상기한 불할성 용매는 단독으로 사용하거나 상기한 용매들을 혼합된 상태로 사용할 수 있다.
상기 반응에 사용된 촉매로는, 예를 들어 무기산(예 : 염산, 황산 등) 또는 유기산(예 : p-톨루엔설폰산 등)을 사용할 수 있다.
촉매의 사용량에 있어서는, 촉매가 일반식(VIII)의 화합물의 중량을 기준으로 하여 0.001 내지 10중량%의 양으로 반응계내에 존재하는 것으로 충분하다.
반응물들은, 반응이 등몰 반응이기 때문에 등몰량으로 사용되나, 임의의 반응물을 과량으로 사용할 수도 있다.
반응온도는 실온 내지 사용된 불활성 용매의 비점 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다. 상기 반응은 70 내지 80℃의 온도에서 수행하는 것이 바람직하다.
반응시간은 반응도, 반응온도 등에 따라 가변적이나, 수분 내지 48시간 범위내에서 선택할 수 있다.
반응을 완료시킨 후, 목적하는 화합물을 포함하는 반응용액으로부터 통상적인 방법(예 : 용매 증류법, 용매 추출법 등)으로 목적하는 화합물을 분리할 수 있으며, 경우에 따라, 재결정화, 컬럼 크로마토그래피 등의 방법으로 정제함으로써, 목적하는 화합물을 제조할 수 있다.
상기식에서, R1은 수소 원자이고, R2 내지 R4, X, Y, Z 및 W는 상기한 바와 같다.
일반식(I')의 히드라진카복스아미드 유도체는 촉매의 존재 또는 부재하에 불활성 용매 중에서 일반식(VIII)의 화합물을 일반식(VII)의 하이드라진 유도체와 반응시켜 일반식(V)의 화합물을 수득하고, 일반식(V)의 화합물을 분리한 후 또는 분리하지 않은 상태에서, 상기 일반식(V)의 화합물을 촉매의 존재 또는 부재하에 불활성 용매의 존재하에서, 일반식(VI)의 화합물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응 B-1
일반식(VIII)의 화합물→일반식(V)의 화합물
본 발명에서 사용되는 불활성 용매로는 상기 반응 A-1에 대해 예시된 불활성 용매를 사용할 수 있다.
본 반응에서 사용되는 촉매의 유형 및 양은 상기 반응 A-1에서와 동일할 수 있다.
본 반응에서 사용된 일반식(VII)의 히드라진 유도체는 여러가지 염 또는 적합한 농도의 수용액 상태로 존재할 수 있다.
일반식(VII)의 히드라진 유도체의 사용량에 있어서, 상기 히드라진 유도체는 일반식(VIII)의 화합물의 양에 대해 등몰량 또는 과량으로 사용할 수 있다. 바람직하게, 상기량은 일반식(VIII)의 화합물 1몰에 대해 2 내지 10몰 범위내에서 적합하게 선택한다.
반응온도는 실온 내지 사용된 불활성 용매의 비점 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다. 본 반응은 70내지 80℃의 온도에서 수행하는 것이 바람직하다.
반응시간은 반응도, 반응온도 등에 따라 가변적이나, 수분 내지 48시간 범위내에서 선택할 수 있다.
반응을 완료시킨 후, 목적하는 화합물을 포함하는 반응용액으로부터 통상적인 방법(예 : 용매 증류법, 용매 추출법 등)으로 목적하는 화합물을 분리할 수 있으며, 경우에 따라, 재결정화, 컬럼 크로마토그래피 등의 방법으로 정제함으로써, 목적하는 화합물을 제조할 수 있다.
상기 반응에 의해 수득된 일반식(V)의 화합물은, 상기한 방법으로 분리 및 정제시킨 후 또는 분리시키지 않은 상태에서 후속 반응을 수행할 수 있다.
본 발명의 방법에 의해 수득된 일반식(V)의 화합물의 통상적인 예를 하기 표 1에 나타내었다 :
[표 1]
[표 2]
일반식(V)의 화합물→일반식(I')의 화합물
본 반응에서 사용된 불활성 용매로는, 예를 들어 반응 A-1에서 사용할 수 있었던 불활성 용매 중에서 알콜, 카복실산 및 물을 제외한 용매를 사용할 수 있다. 또한, 에스테르(예 : 에틸 아세테이트 등) 및 피리딘도 사용할 수 있다.
상기 반응에 사용된 촉매로는, 예를 들어 아민(예 : 트리에틸아민 등)을 사용할 수 있다. 촉매의 사용량으로는, 일반식(V)의 화합물의 몰수보다 큰 몰수에 상당하는 촉매량의 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다.
반응물들은, 반응이 등몰 반응이기 때문에, 등몰량으로 사용되나, 임의의 반응물을 과량으로 사용할 수 있다.
반응온도는 -20℃ 내지 사용된 불활성 용매의 비점 범위내에서 적합하게 선택할 수 있으며, -10℃ 내지 실온 범위가 바람직할 수 있다.
반응시간은 반응도, 반응온도 등에 따라 가변적이나, 수분 내지 48시간 범위내에서 선택할 수 있다.
반응을 완료시킨 후, 반응 B-1의 경우와 동일하게 처리함으로써, 목적 화합물을 제조할 수 있다.
공정 C
상기식에서, R1 내지 R4, X, Y, Z 및 W는 상기한 바와 같다.
일반식(I")의 히드라진카복스아미드 유도체는, 환원제를 사용하여 일반식(I")의 히드라진카복스아미드 유도체를 환원시키거나 불활성 용매의 존재 또는 부재하에서 촉매적 수소화 반응을 수행함으로써 제조할 수 있다.
반응 C-1
일반식(I')의 화합물→일반식(I")의 화합물
상기 환원 반응은 적합한 환원제를 사용하거나 적합한 촉매의 존재하에서 촉매적 수소화 반응시킴으로써 수행할 수 있다.
환원제로는, 예를 들어 LiAlH4, NaBH3CN, LiBH3CN 등과 같은 금속 수소화물 및 NaHSO3 등과 같은 환원제를 사용할 수 있다. 환원제의 사용량을 환원제로서의 수소화물의 몰수에 대해 그 몰수가 일반식(I')의 히드라진카복스아미드 유도체의 몰수 이상일 수 있도록 선택할 수 있다.
상기 반응에서 사용된 불활성 용매로는 반응의 진행을 크게 방해하지 않는 한 모든 불활성 용매를 사용할 수 있다. 상기 불활성 용매로는 알콜(예 : 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 등); 에테르(예 : 디에틸 에테르, 디글림, 디옥산, 테트라하이드로푸란 등); 셀로솔브(예 : 메틸 셀로솔브 등); 디메틸포름아미드; 디메틸아세트아미드; 디메틸설폭사이드; 설포란; 및 물을 예시할 수 있다.
상기한 불활성 용매는 단독으로 사용하거나 상기한 용매들이 혼합된 상태로 사용할 수 있다.
상기 반응은 pH 1 내지 7의 산성 또는 중성 조건하에서 수행한다. pH는 4 내지 6의 범위가 바람직하며, 이는 염화수소, 브롬화수소 등을 반응계에 가함으로써 조절한다.
반응온도는 -20℃ 내지 사용된 불활성 용매의 비점 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다.
반응시간은 반응 규모, 반응온도 등에 따라 가변적이나, 수분 내지 48시간 범위내에서 선택할 수 있다.
반응을 완료시킨 후, 목적하는 화합물을 포함하는 반응 용액으로부터 통상적인 방법(예 : 용매증류법, 용매 추출법 등)으로 목적하는 화합물을 분리할 수 있으며, 경우에 따라, 재결정화, 컬럼 크로마토그래피 등의 방법으로 정제함으로써, 목적하는 화합물을 제조할 수 있다.
촉매적 수소화 반응을 환원반응으로서 수행할 경우, 이는 예를 들어 하기 문헌에 기술된 통상적인 방법에 따라 수행할 수 있다[참조 : Shin Jikken Kagaku Koza, Vol. 15-11, Maruzen Co., Ltd. 등]. 상기 반응에서 사용할 수 있는 용매로는, 알콜(예 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 등); 셀로솔브(예 : 메틸 셀로솔브 등); 에테르(예 : 디에틸 에테르, 디글림, 디옥산, 테트라하이드로푸란 등); 탄화수소(예 : 헥산, 사이클로헥산 등); 지방산 또는 이의 에스테르(예 : 아세트산, 에틸 아세테이트 등); 아미드(예 : 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등); 및 우레아(예 : 디메틸이미다졸린, 테트라메틸우레아 등)를 예시할 수 있다.
상기한 불활성 용매는 단독으로 사용하거나 상기한 용매들이 혼합된 상태로 사용할 수 있다.
상기 반응에 사용된 촉매로는, 촉매적 수소화 반응용으로 통상적인 촉매(예: 팔라듐-탄소, 팔라듐 블랙, 이산화백금 및 라니 니켈)를 사용할 수 있다. 촉매의 사용량은 일반식(I')의 히드라진카복스아미드의 중량을 기준으로 하여 0.0001 내지 20중량%의 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다.
상기 반응에서의 수소압은 대기압 내지 300기압 범위, 바람직하게는 대기압 내지 50기압 범위내에서 선택할 수 있다.
반응온도는 실온 내지 사용된 불활성 용매의 비점 범위, 바람직하게는 실온 내지 80℃의 온도 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다.
반응시간은 반응 규모, 반응온도 등에 따라 가변적이나, 수분 내지 80시간일 수 있다.
반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응 용액을 환원제를 사용하는 경우에서와 동일한 방법으로 처리함으로써 목적 화합물을 제조할 수 있다.
공정 D
상기식에서, R1 내지 R5, X, Y 및 Z는 상기한 바와 같고, R5는 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 할로알킬카보닐 그룹; 사이클로알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알콕시디카보닐 그룹; 비치환된 페닐카보닐 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐카보닐 그룹이며, Hal은 할로겐 원자이고, R5"는 저급 알킬 그룹; 비치환된 페닐 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐 그룹이다.
일반식(I'")의 히드라진카복스아미드 유도체는, 일반식(I")의 히드라진카복스아미드 유도체를 불활성 용매 및 염기의 존재하에서 일반식(III)의 할라이드 또는 일반식(II)의 이소시아네이트와 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
공정 D-1
일반식(I")의 화합물→일반식(I'")의 화합물
상기 반응에서 사용된 불활성 용매로는, 반응의 진행을 크게 방해하지 않는 한, 모든 불활성 용매를 사용할 수 있다. 상기 불활성 용매로는 할로겐화 탄화수소(예 : 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 사염화탄소 등); 방향족 탄화수소(예 : 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등); 에스테르(예: 에틸 아세테이트 등); 니트릴(예 : 아세토니트릴, 벤조니트릴 등); 에테르(예: 메틸 셀로솔브, 디에틸 에테르, 디글림, 디옥산, 테트라하이드로푸란 등); 설포란; 및 디메틸 설폭사이드를 예시할 수 있다. 상기한 불활성 용매는 단독으로 사용하거나 상기한 용매들이 혼합된 상태로 사용할 수 있다.
상기 반응에서 사용되는 염기로는, 무기 염기 또는 유기 염기를 사용할 수 있다. 무기 염기로는 수산화물, 탄산염 및 알칼리금속 또는 알칼리토금속(예: 나트륨, 칼륨, 마그네슘 및 칼슘)의 알콜화물을 예시할 수 있다. 유기 염기로는 트리에틸아민 및 피리딘을 예시할 수 있다.
반응물들은, 반응이 등몰 반응이기 때문에 등몰량으로 사용되나, 임의의 반응물을 과량으로 사용할 수 있다.
반응온도는 0℃ 내지 사용된 불활성 용매의 비점 범위내에서 선택할 수 있다.
반응시간은 반응도, 반응온도 등에 따라 가변적이나, 수분 내지 48시간 범위내에서 선택할 수 있다.
반응을 완료시킨 후, 목적하는 화합물을 포함하는 반응 용액으로부터 통상적인 방법으로 목적하는 화합물을 분리할 수 있으며, 경우에 따라, 재결정화, 컬럼 크로마토그래피 등의 방법으로 정제함으로써, 목적하는 화합물을 제조할 수 있다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체의 통상적인 예를 하기 표에 나타내었으나, 이로써 본 발명의 범주를 제한하려는 것은 아니다:
[표 3]
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[표 4]
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[표 5]
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화합물들 B041과 B042는 부분 입체 이성체이며, 화합물 B041의 Rf치는 화합물 B042의 Rf치보다 크다. "물리적 특성"난의 m.p.는 융점을 나타낸다.
[표 6]
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본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 제조하기 위한 출발 물질인 일반식(VIII)의 화합물로는, 예를들어 하기 제조 공정에 의해 제조할 수 있거나 시판되는 화합물을 사용할 수 있다 :
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상기식에서, R3, R4, X 및 Y는 상기한 바와 같고, R6은 저급 알킬 그룹이다.
즉, 일반식(VIII)의 화합물은 일반식(X)의 벤조산 에스테르를 불활성 용매 및 염기의 존재하에서 일반(IX)의 화합물과 축합반응시킴으로써 제조할 수 있다.
일반식(VI)의 화합물은 예를들어 하기 제조 공정에 의해 제조할 수 있다:
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상기식에서, R1, R2, Z 및 W는 상기한 바와 같고, V는 할로겐 원자, 또는 저급 알콕시 그룹 또는 이미다졸 그룹과 같은 이탈 그룹이다.
즉, 일반식(VI)의 화합물은 일반식(XI)의 화합물을 불활성 용매 및 염기의 존재하에서 일반식(VII)의 히드라진 유도체와 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
본 발명의 실시예를 하기에 기술한 것이나, 이로써 본 발명의 범주를 제한하려는 것은 아니다.
실시예 1
1-1. 벤질 페닐 케톤 히드라존(화합물 번호 V-1)의 제조방법
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펜질 페닐 케톤 5.0g(26밀리몰)을 에탄올 100ml에 용해시킨 후, 히드라진 하이드레이트 20ml를 가하고, 30 내지 40℃의 반응온도에서 6시간 동안 교반 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응액을 감압하에서 증류시킴으로써 용매를 제거하고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용출제; 에틸 아세테이트 : n-헥산=1 : 4)로 정제하여 목적 화합물 3.7g을 결정으로서 수득한다:
물리적 특성; 융점 55℃, 수율; 69%.
1-2. 2-(1,2-디페닐에틸리덴)-N-페닐히드라진카복스아미드(화합물 번호 A001)의 제조방법
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벤질 페닐 케톤 히드라존 0.50g(2.4밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시킨 후, 트리에틸아민 0.5ml 및 페닐 이소시아네이트 0.28g(2.4밀리몰)을 가하고, 실온에서 3시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피(용출제 : 클로로포름)로 정제하여 목적 화합물 0.47g을 결정으로서 수득한다:
물리적 특성; 융점 181℃, 수율:60%.
실시예 2
N-(4-클로로페닐)-2-(1, 2-디페닐에틸리덴)히드라진카복스아미드(화합물 번호 A004)제조방법
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벤질 페닐 케톤 히드라존 0.62g(3.0밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시킨 후, 트리에틸아민 한방울 및 4-클로로페닐 이소시아네이트 0.45g(3.0밀리몰)을 가하고, 실온에서 3시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응액을 감압하에서 증류시킴으로써 용매를 제거하고, 침전된 조 결정을 에테르로 세척하여, 목적 화합물 0.90g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 199℃, 수율; 84%.
실시예 3
3-1. 4-플루오로벤질페닐 케톤 히드라존(화합물 번호 V-2)의 제조방법
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4-플루오로벤질페닐 케톤 3.0g(14밀리몰)을 에탄올 50ml에 용해시킨 후, 히드라진 하이드레이트 3ml 및 p-톨루엔설폰산 10mg을 가하고, 2시간 동안 환류 가열시키면서 반응을 수행한다.
반응을 완료시킨 후, 과량의 히드라진 하이드레이트 및 에탄올을 감압하에서 증류시킨다. 잔류물에 물을 가하고,목적 화합물을 에테르로 추출한다. 에테르층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘 위에서 건조시킨후, 에테르를 제거하여, 목적 화합물 3.0g을 페이스트로서 수득한다 :
물리적 특성; 페이스트, 수율; 93%.
3-2. N-(4-클로로페닐)-2-[2-(4-플루오로페닐)-1-페닐에틸리덴]히드라진카복스아미드(화합물번호 A029)의 제조방법
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4-플루오로벤질페닐 케톤 히드라존 0.80g(3.5밀리몰)을 테트라하이드로푸란 50ml에 용해시킨 후, 4-클로로페닐 이소시아네이트 0.53g(3.5밀리몰)을 가하고, 실온에서 3시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용출제; 클로로포름)로 정제하여 목적 화합물 0.9g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 213℃, 수율; 68%.
실시예 4
4-1. 4-시아노벤질페닐 케톤 히드라존(화합물 번호 V-3)의 제조방법
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4-시아노벤질페닐 케톤 5.0g(24밀리몰)을 에탄올 200ml에 용해시킨 후, 히드라진 하이드레이트 15ml 및 p-톨루엔설폰산 15mg을 가하고, 4시간 동안 환류 가열시키면서 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 과량의 히드라진 하이드레이트 및 에탄올을 감압하에서 증류시킨다. 물을 잔류물에 가하고, 목적 화합물을 에테르로 추출시킨다. 에테르 층을 물로 세척하고, 무수 황산마그레슘 위에서 건조시킨 후, 에테르를 제거하여, 목적 화합물 4.4g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 91℃, 수율; 83%.
4-2. 2-[2-(4-시아노페닐)-1-페닐에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메틸페닐)히드라진 카복스아미드(화합물 번호 A050)의 제조방법
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4-시아노벤질페닐 케톤 히드라존 1.0g(4.4밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시킨 후, 4-트리플루오로메틸페닐 이소시아네이트 0.81g(4.0밀리몰)을 가하고, 실온에서 2시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피(용출제; 클로로포름)로 정제하여 목적 화합물 0.85g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 217℃, 수율; 50%.
실시예 5
5-1. 4-니트로벤질페닐 케톤 히드라존(화합물 번호 V-4)의 제조방법
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4-니트로벤질페닐 케톤 5.0g(21밀리몰)을 에탄올 300ml에 용해시킨 후, 히드라진 하이드레이트 10ml 및 p-톨루엔설폰산 20mg을 가하고, 60℃에서 2시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 과량의 히드라진 하이드레이트 및 에탄올을 감압하에서 증류시킨다. 잔류물에 물을 가하고, 목적 화합물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘 위에서 건조시킨 후, 에틸 아세테이트를 제거하여, 목적 화합물 4.9g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 72℃, 수율: 93%.
5-2. 2-[2-(4-니트로페닐)-1-페닐에틸리덴)-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진 카보티오아미드(화합물 번호 A080)의 제조방법
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4-니트로벤질페닐 케톤 히드라존 0.80g(3.1밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시킨 후, 4-트리플루오로메톡시페닐 이소티오시아네이트 0.62g(2.8밀리몰) 및 트리에틸아민 세 방울 가하고, 5시간 동안 환류 가열시키면서 반응시킨다. 반응을 완료시킨 후, 목적 화합물을 포함하는 반응액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용출제; 클로로포름)로 정제하여 목적 화합물 0.65g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 139℃, 수율; 49%.
실시예 6
6-1. 4-플루오로벤질-4-플루오로페닐 케톤 히드라존(화합물 번호 V-5)의 제조방법
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4-플루오로벤질-4-풀루오로페닐 케톤 4.0g(17밀리몰)을 에탄올 50ml에 용해시킨 후, 히드라진 하이드레이트 10ml 및 진한 황산 한 방울을 가하고, 2시간 동안 환류 가열시키면서 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 과량의 히드라진 하이드레이트 및 에탄올을 감압하에서 증류시킨다. 잔류물에 물을가하고, 목적 화합물을 에테르로 추출시킨다. 에테르 층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘 위에서 건조시킨 후, 에테르를 감압하에서 제거하여, 목적 화합물 4.2g을 페이스트로서 수득한다 :
물리적 특성; 페이스트, 수율; 100%.
6-2. 2-[1, 2-비스(4-플루오로페닐)에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메틸페닐)히드라진카복스아미드(화합물 번호A227)의 제조방법
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4-플루오로벤질-4-플루오로페닐케톤 히드라존 0.50g(2.0밀리몰)을 피리딘 15ml와 테트라하이드로푸란 15ml의 혼합물에 용해시킨 후, 4-트리플루오로메틸페닐 이소시아네이트 0.38g(2.0밀리몰)을 가하고, 실온에서 4시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물을 에테르-n-헥산 혼합 용매로 세척하여, 목적 화합물 0.55g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 199℃, 수율; 63%.
실시예 7
2-(1, 2-디페닐에틸리덴)-N-메틸-N페닐히드라진카복스아미드(화합물 번호 A300)의 제조방법
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벤질 페닐 케톤 0.65g(3.3밀리몰) 및 N-메틸-N-페닐 히드라진카복스아미드를 에탄올 30ml에 용해시킨 후, 진한 황산 한 방울을 가하고, 8시간 동안 환류 가열시킨다. 반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용출제; 에틸 아세테이트 : n-헥산=3 : 2)로 정제하여 목적 화합물 0.26g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 113℃, 수율; 23%.
실시예 8
2-(1, 2-디페닐에틸리덴)-1-메틸-N-페닐히드라진카복스아미드(화합물 번호 A303)의 제조방법
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벤질 페닐 케톤 1.0g(5.1밀리몰)을 톨루엔 50ml에 용해시킨 후, 메틸히드라진 0.50g(11밀리몰) 및 p-톨루엔 설폰산 0.20g(1.2밀리몰)을 가하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 공비증류(azeotropy)에 의해 반응계로부터 물을 제거하면서, 4시간 동안 환류 가열시키면서 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 생성된 오일을 테트라하이드로푸란 20ml에 용해시킨 후, 페닐 이소시아네이트 0.58g(4.9밀리몰) 및 트리에틸아민 0.5ml를 가한다. 생성된 혼합물을 실온에서 밤새 정치시킴으로써 반응을 수행한다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용출제 ; 에틸 아세테이트 : n-헥산=1: 5)로 정제하여 목적 화합물 0.76g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 111℃, 수율; 46%.
실시예 9
9-1. 벤조인 히드라존(화합물 번호 V-6)의 제조방법
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벤조인 5.0g(24밀리몰) 및 히드라진 하이드레이트 10ml를 에탄올 50ml에 용해시킨 후, 진한 황산 한 방울을 가하고, 2시간 동안 환류 가열시키면서 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 과량의 히드라진 하이드레이트 및 에탄올을 감압하에서 증류시킨다. 잔류물을 물에가하고, 목적 화합물을 에테르로 추출시킨다. 에테르 층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘 위에서 건조시킨 후, 에테르를 제거하여, 목적 화합물 5.1g을 페이스트로서 수득한다 :
물리적 특성; 페이스트, 수율; 96%.
9-2. 2-(2-히드록시-1, 2-디페닐에틸리덴)-N-페닐히드라진 카복스아미드(화합물 번호 A330)의 제조방법
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벤조인 히드라존 0.80g(3.5밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시킨 후, 페닐 이소시아네이트 0.42g(3.5밀리몰)을 가하고, 실온에서 4시간동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용출제; 테트라하이드로푸란 : 클로로포름=1:10)로 정제하여 목적 화합물 0.70g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 167℃, 수율; 57%.
실시예 10
2-[2-(4-시아노페닐)-1-페닐에틸]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드(화합물 번호 B006)의 제조방법
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10-1. 2[2-(4-시아노페닐)-1-페닐에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드 0.70g(1.6밀리몰)을 테트라하이드로푸란 20ml와 메탄올 30ml의 혼합물에 용해시키고, 나트륨 시아노보로하이드라이드 0.20g(3.2밀리몰)을 가한다. 실온에서 교반시키면서, 메탄올중의 염화수소 포화용액을 가하고, 실온에서 1시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 제거하고, 잔류물에 에틸 아세테이트를 가한다. 생성된 혼합물을 탄산수소나트륨 수용액으로 중화시키고, 에틸 아세테이트 층을 분리시킨다. 이렇게 수득된, 목적 화합물을 포함하는 에틸 아세테이트를 무수 황산마그네슘 위에서 건조시키고, 용매를 제거하여 목적 화합물의 조 결정을 수득한다.
수득된 조 결정을 에테르로 세척하여, 목적 화합물 0.54g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 204℃, 수율; 77%.
10-2. 2-[2-(4-시아노페닐)-1-페닐에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드 1.0g(2.3밀리몰)을 테트라하이드로푸란 80ml에 용해시키고, 5% 팔라듐/탄소 0.1g을 가한다. 생성된 혼합물을 실온에서 60시간 동안 진탕시키면서, 6kg/cm2의 압력하에서 수소 기체를 흡수시킨다.
반응을 완료시킨 후, 촉매를 여과시키고, 여액을 감압하에서 증발시켜, 목적 화합물의 조 결정을 수득한다.
수득된 조 결정을 에테르-n-헥산 혼합물로 세척하여, 목적 화합물 0.97g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 204℃, 수율; 97%.
실시예 11
2-[2-(4-니트로페닐)-1-페닐에틸]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드(화합물 번호 B008)이 제조방법
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2-[2-(4-니트로페닐)-1-페닐에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드 0.48g(1.0밀리몰)을 테트라하이드로푸란 10ml와 메탄올 10ml의 혼합물에 용해시키고, 나트륨 시아노보로하이드라이드 0.07g(1밀리몰)을 가한다. 그후, 메탄올중의 염화수소 포화 용액 5ml를 빙냉하에서 적가하고, 30분 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물에 에틸 아세테이트를 가한다. 생성된 혼합물을 탄산수소나트륨 수용액으로 중화시키고, 에틸 아세테이트 층을 분리한다. 이렇게 수득된다. 목적 화합물을 포함하는 에틸 아세테이트를 무수 황산마그네슘 위에서 건조시키고, 용매를 제거하여, 목적 화합물을 조 결정으로서 수득한다.
수득된 조 결정을 에테르-n-헥산으로 세척하여, 목적 화합물 0.36g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 188℃, 수율 ; 75%.
실시예 12
2-[1-(4-클로로페닐)-2-(4-시아노페닐)에틸-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카보티오아미드(화합물 번호 B033)의 제조방법
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2-[1-(4-클로로페닐)-2-(4-시아노페닐)에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카보티오아미드 0.50g(1.0밀리몰)을 테트라하이드로푸란 10ml와 메탄올 30ml의 혼합물에 용해시키고, 나트륨 시아노보로하이드라이드 0.19g(3.1밀리몰)을 가한다. 그후, 메탄올중의 염화수소 포화 용액 5ml를 실온에서 적가하고, 2시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물에 에틸 아세테이트를 가한다. 생성된 혼합물을 탄산수소나트륨 수용액으로 중화시키고, 에틸 아세테이트 층을 분리시키다. 이렇게 수득된, 목적 화합물을 포함하는 에틸 아세테이트를 무수 황산마그네슘 위에서 건조시키고, 용매를 제거하여, 목적 화합물의 조결정을 수득한다.
수득된 조 결정을 에테르-n-헥산으로 세적하여, 목적 화합물 0.27g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 195℃, 수율; 54%.
실시예 13
2-아세틸-2-[1-(3-클로로페닐)-2-(4-시아노페닐)에틸]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드(화합물 번호 B035)의 제조방법
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실시예 10에서와 같은 방법으로 수득된 2-[1-(3-클로로페닐)-2-(4-시아노페닐)에틸]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드 0.70g(1.5밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시킨다. 생성된 용액에, 아세틸클로라이드 0.35g(4.4밀리몰) 및 트리에틸아민 45g(4.4밀리몰)을 실온에서 가하고, 2시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 갑압하에서 증류시키고, 잔류물에 물을 가한 후, 목적 화합물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세척하고, 무수 황산 마그네슘상에서 건조시킨다. 용매를 제거하여, 목적 화합물의 조 결정을 수득한다.
수득된 조결정을 에테르로 세척하여, 목적 화합물 0.55g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성 ; 융점 178℃, 수율 ; 54%.
실시예 14
2-[2-(4-시아노페닐)-1-(3-트리플루오로메틸페닐)에틸리덴]-N-(4-트리플루오로메톡시페닐)히드라진카복스아미드(화합물 번호 A261)의 제조방법
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4-시아노벤질-3-트리플루오로메틸페닐케톤 히드라존 0.50g(1.7밀리몰)을 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시키고, 피리딘 1ml를 가한다. 그후, 실온에서 교반시키면서, 4-트리플루오로메톡시페닐 이소시아네이트 0.32g(1.6밀리몰)을 테트라하이드로푸란 5ml로 희석시킴으로써 제조한 용액을 적가한다. 완전히 적가 시킨후, 실온에서 추가로 4시간 동안 반응시킨다.
반응을 완료시킨 후, 용매를 감압하에서 증류시키고, 수득된 조 결정을 에테르-n-헥산으로 세척하여, 목적 화합물 0.40g을 결정으로서 수득한다 :
물리적 특성; 융점 191℃, 수율; 40%.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 살충제는 농경지 해충, 산림지 해충, 원예지 해충, 저장용 곡물 해충, 위생학적 해충, 선충 등과 같은 다수의 해충을 방제하는데 적합하다. 이들은 예를 들어 하절기 과실 토트릭스(summer fruit tortrix)[아독소피에스 오라나 파시아타(Adoxophyes orana fasciata)], 스몰러 티 토트릭스(smaller tea tortrix)[아독소피에스 종(Adoxophyes sp.)], 만주 과실 나방[그라폴리타 이노피나타(Grapholita inopinata)], 동양 과실 나방[그라폴리타 믈레스타(Grapholita mlesta)], 대두 꼬투리테(soybean pod border)[레구미니보라 글리시니보렐라(Leguminivora glycinivoressa)], 오디 리프롤러(mulberry leafroller)[올레트레우테스 모리(Olethreutes mori)], 티 리프롤러(tea leafroller)[칼로프틸리아 테비보라(Caloptilia thevivora)], 칼로프틸리아 종(Caloptilia sp.)[칼로프틸리아 자크리사(Caloptilia zachrysa)], 애플 리프마이너(apple leafminer)[필로노릭터 링고니엘라(Phyllonorycter ringoniella)], 퍼얼 박크마이너(pear barkminor)[스폴러리나 아스타우로타(Spulerina astaurota)], 커먼 화이트(common white)[피어스 라파에 크루시보라(Piers rapae crucivora)], 담배싹 해충(tabacco budworm)[헬리오티스 아르미게라(Heliothis armigera)], 클로들링 나방(clodling moth)[라스페이레시아 포모넬라(Laspeyresia pomonella)], 다이아몬드백 나방(diamondback moth)[플루텔라 실로스텔라(Plutella xylostella)], 애플 나방[아르기레스티아 콘쥬겔라(Argyresthia conjugella)], 피치 나방[카르포시나 니포넨시스(Carposina niponensis)], 벼 줄기 좀벌레[칠로 서프레살리스(Chilo suppressalis), 벼 리프롤러[크나팔로크로시스 메디날리스(Cnaphalocrocis medinalis], 담배 나방[에페스티아 엘루텔라(Ephestia elutella)], 오디피랄리드[글리포데스 필로알리스(Glyphodes pyloalis)], 현미 좀벌레[시르포파가 인세르툴라스(Scirpophaga incertulas)], 벼 스키퍼(rice skipper)[파르나라 구타타(Parnara guttata)], 벼 행렬 웜[슈달레티아 세파라타(Pseudaletia separata)], 핑크 좀벌레[세사미아 인퍼런스(Sesamia inferens)], 커먼 커트윔(common cutworm)[스포도프테라 리투라(spodoptera litura)], 사탕무우 행렬 웜[스포도프테라 엑시구아(Spodoptera exigua)]등을 포함하는 레피도프테라(Lepidoptera); 성상체 리프호퍼(aster leafhopper)[마크로스텔레스 파시프론스(Macrosteles fascifrons)], 미가공 벼리프호퍼[네포테틱스 싱크티셉스(Nephotettix cincticeps)], 현미 플랜트호퍼(planthopper)[닐라파르바타 루겐스(Nilaparvata lugens)],백색-후면 벼 플랜트호퍼[소가텔라 풀시페라(Sogatella furcifera)], 감귤류 실라(citrus psylla)[디아포리나 시트리(Diaphorina citri)], 포도 화이트플라이(whitefly)[알레우롤로부스 타오나바에(Aleurolobus taonabae)], 고구마 화이트플라이[베미시아 타바시(Bemisia tabaci)], 온실 화이트플라이[트리알레우로데스 바포라리오룸(Trialeurodes vaporariorum)], 순무우 잔딧물(turnip aphid)[리파피스 에리시미(Lipaphis erysimi)], 미가공 배 진딧물[미주스 퍼시카에(Myzus persicae)], 인디안 왁스 개각충(Indian wax scale) : [세로플라스테스 세리페루스(Ceroplastes ceriferus)], 탈지면성 감귤류 개각층[폴비나리아 아우란티(Pulvinaria aurantii)], 장뇌 개각층(camphor scale)[슈다오니디아 듀플렉스(Pseudaonidia duplex)], 산 요세 개각충(San Jose scale)[콤스토크카스피스 페르니시오사(Comstockaspis perniciosa)], 자고 개각충(arrowhead scale)[우나스피스 야노넨시스(Unaspis yanonensis)]등을 포함하는 헤미프테라(Hemiptera); 대두 갑충(beetle)[아노말라 루포쿠프레아(Anomala rufocuprea)], 일본 갑충[포필리아 야포니카(Popillia japonica)], 담배 갑충[라시오데르마 세리콘(Lasioderma serricorne)], 파우더포스트(powderpost) 갑충[릭투스 브룬네우스(Lyctus brunneus)], 28 점-무당벌레[에필라크나 비진티옥토풍크타타(Epilachna vigintioctopunctata)], 아드주키 대두 비빌(weevil)[칼로소브루쿠스 키넨시스(Callosobruchus chinensis)], 채소, 비빌[리스트로데레스 코스티로스트리스(Listroderes costirostris)], 옥수수 비빌[시토필루스 제아마이스(Sitophilus zeamais)], 보울(boll) 비빌[안토노무스 그란디스(Anthonomus grandis)], 쌀겨물 비빌[리소로프트루스 오리조필루스(Lissorhoptrus oryzophilus)], 조롱박 잎 갑충[아울라코포라 페모랄리스(Aulacophora femoralis], 벼 리프 갑충[오울레마 오리자에(Oulema oryzae)], 줄무늬 벼룩 갑충[필로트레타 스트리올라트(Phyllotreta striolata)], 솔 가지 갑충[토미쿠스 피니페르다(Tomicus piniperda)], 콜로라도 감자 갑충[렙티노타르사 데세밀리네아타(Leptinotarsa decemilineata)], 멕시칸 대두 갑충[에필라크나 바리베스티스(Epilachna varivestis)], 옥수수 뿌리 웜[디아브로티카종(Diabrotica sp.)]등을 포함하는 콜레오프테라(Coleoptera); 멜론 플라이(melon fly)[다쿠스(제우고다쿠스)쿠쿠르비타에{Dacus(Zeugodacus)cucurbitae}], 동양 과실 플라이[다쿠스(박트로세라)도르살리스{Dacus(Bactrocera)dorsalis}], 벼 리프마이너[아그로마이자 오리자에(Agromyza oryzae)], 양파마고트(maggot)[델리아 안티쿠아(Delia antiqua)], 종자 옥수수 마고트[델리아 플라투라(Delia plutura)], 대두 꼬투리 흑 벌레(soybean pod gall midge)[아스포딜리아 종(Asphodylia sp.)], 무시드 플라이(muscid fly)[무스카 도메스티카(Musca domestica)], 집파리"클렉스 피피엔스(Culex pipiens)]등을 포함하는 디프테라; 및 썩이 선충[프라틸렌쿠스 종(Pratylenchus sp.)], 커피 썩이 선충[프라틸렌쿠스 코페아에(Pratylenchus coffeae)], 감자낭 선충[글로보데라 로스토키엔시스(Globodera rostochiensis)], 조-결절선충[멜로이도지네 종(Meloidogyne sp.)], 감귤류 선충[틸렌클루스 세미페네트란스(Tylenchulus semipenetrans)], 아펠렌쿠스 종(Aphelenchus sp.)[아펠렌쿠스 아베나에(Aphelenchus avenae)], 크리산테뭄 잎 선충[아펠렌코이데스 리쩨마보시(Aphelenchoides ritzemabosi)]등을 포함하는 틸렌키다(Tylenchida)에 대해 살충 활성을 갖는다. 본 발명의 살충제는 레피도프테라, 콜레오프테라 등에 속하는 해충에 대해 특히 매우 효과적이다.
동물학적 명칭 등에 대해서는 하기 문헌을 참고로 한다[참조 : Applied Zoology and Entomology society of Japan, "List of Agricultural and Forest Injurious Animals and Insects", 1987].
본 발명의 농업적 및 원예학적 살충제는 농경지, 과실수, 채소 및 기타 작물, 및 화초 및 관상용 식물에 유해한, 상기한 바 있는 해충류, 위생학적 해충류 및/또는 선충류에 대해 살충 효과가 매우 크다. 따라서, 본 발명의 살충제의 목적하는 효과는 농경수, 과실수, 채소, 기타 작물, 화초 및 관상용 식물의 줄기 및 잎, 토양 등에, 또는 인체 및 가축에 유해한 상기 위생학적 해충이 발생했거나 발생할 것으로 생각되는 가옥의 내부 또는 가옥 주변의 도랑에, 상기 살충제를 적용함으로써 수득할 수 있다. 이러한 적용은 해충류, 위생학적 해충류 또는 선충류가 발생할 것으로 생각되는 계절에 그 출현이 확인되는 때 또는 그 전에 수행한다.
그러나, 본 발명이 상기한 양태로만 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스마이드 유도체를 살충제로서 사용할 경우, 농화학적 제제를 제조하기 위한 통상적인 방법에 따라 통상적으로 유용한 제형으로 일반적으로 제조한다.
즉, 본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체 및, 임의로는 보조제를 적합한 불활성 담체와 적합한 비율로 혼합하고, 용해, 분산, 현탁, 혼합, 함침, 흡수 또는 점착 방법을 통해 현탁재, 유화 농축제, 가용성 농축제, 습윤성 산제, 입제, 분제 또는 정제와 같은 적합한 제형으로 제조한다.
본 발명의 불활성 담체는 고체 또는 액체일 수 있다. 고체 담체의 예에는 대두분, 곡분, 목분, 수피분, 톱밥, 분쇄시킨 담배 줄기, 분쇄시킨 호도피, 겨, 분쇄시킨 셀루로오즈, 채소류의 추출 잔여물, 분쇄시킨 합성 중합체 또는 수지, 점토류(예 : 카올린, 벤토나이트 및 산 점토), 탈크류)예: 활석 및 엽랍석), 실리카분말 또는 플레이크[예 : 규조토, 실리카 모래, 운모 및 화이트 카본(즉, 미분된 수화 실리카 또는 수화 실릭산으로도 지칭되는 합성 고분산 실릭산); 이들중 다소의 시판용 제품은 주성분으로서 실리케이트를 포함한다], 활성화 탄소, 분쇄시킨 황, 분쇄시킨 경석, 하소시킨 규조토, 분쇄시킨 연와, 플라이 애시(fly ash), 모래, 탄산칼슘 분말, 인산칼슘 분말 및 기타 무기 또는 광 분말, 화학 비료(예 : 황산암모늄, 인산암모늄, 질산암모늄, 우레아 및 염화암모늄), 및 퇴비가 있다. 액체 담체는, 그 자체가 가용성이거나, 이러한 가용성은 없으나 보조제의 도움으로 활성 성분을 분산시킬 수 있는 것이다. 액체 담체의 통상적인 예에는 물; 알콜(예 : 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 및 에틸렌 글리콜); 케톤(예 : 아세톤, 메틸 에틸케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 디이소부틸 케톤 및 사이클로헥사논); 에테르(예 : 에틸 에테르, 디옥산, 셀로솔브, 디프로필 에테르 및 테트라하이드로푸란); 지방족 탄화수소(예 : 가솔린 및 광유); 방향족 탄화수소(예 : 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 용매 나프타 및 알킬나프탈렌); 할로겐화 탄화수소(예 : 디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소 및 클로로벤젠); 에스테르(예 : 에틸 아세테이트, 디디이소프로필 프탈레이트, 디부틸 프탈레이트 및 디옥틸 프탈레이트); 아미드(예 : 디메틸포름아미드, 디에틸포름아미드 및 디메틸아세트아미드); 니트릴(예 : 아세토니트릴); 및 디메틸 설폭사이드가 있으며, 이들은 단독으로 또는 혼합된 상태로 사용할 수 있다.
목적에 따라 사용할 수 있는 보조제의 통상적인 예를 하기에 기재할 것이며, 이들은 몇몇 경우에는 단독으로 또는 혼합된 상태로 사용하거나, 전혀 사용할 필요가 없을 수도 있다.
활성 성분을 유화, 분산, 용해 및/또는 습윤화시키기 위해서는 계면활성제를 사용할 수 있다. 이러한 계면활성제의 예에는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 폴리옥시에틸렌 고급 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 수지산염, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노올레이트, 알킬아릴설포네이트, 나프탈렌 설폰산 축합 생성물, 리그닌설포네이트 및 고급 알콜 설페이트 에스테르가 있다.
또한, 활성 성분의 분산액을 안정화시키고, 이를 점착시키고/시키거나 결합시키기 위해, 예를 들어 카제인, 젤라틴, 녹말, 메틸셀룰로오즈, 카복시메틸셀룰로오즈, 아라비아 고무, 폴리비닐 알콜, 터펜틴, 브란유(bran oil), 벤토나이트 및 리그닌설포네이트와 같은 보조제를 사용할 수 있다.
고체 생성물의 유동성을 증가시키기 위해, 예를 들어 왁스, 스테아르산염 및 알킬 포스페이트와 같은 보조제를 사용할 수 있다.
인산염의 나프탈렌설폰산 축합 생성물 및 다중 축합물과 같은 보조제를 분산성 생성물용 해교제로서 사용할 수 있다.
실리콘유와 같은 보조제도 또한 탈포제로서 사용할 수 있다.
활성 성분의 함량은 필요에 따라 가변적일 수 있다. 산제 또는 입제에 있어서, 그 적합한 함향은 0.01내지 50중량%이다. 유화 농축제 또는 유동성의 습윤성 산제에 있어서, 그 적합한 함량은 또한 0.01 내지 50중량%이다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 살충제를 사용하여, 하기 방법에 따라 다수개의 해충을 방제할 수 있다. 즉, 상기 살충제는, 해충을 방제하는데 유효한 양으로, 그대로 또는 물등으로 적합하게 희석시키거나 현탁시킨 후에, 해충 또는 해충이 성장하는 것이 바람직하지 못한 그 서식지에 적용시킨다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 살충제의 양은 목적, 방제시켜야 하는 해충, 식물의 성장 상태, 해충의 외관 특성, 기후, 환경적 조건, 제형, 적용 방법, 적용 부위 및 적용 시간과 같은 다수의 요인들에 따라 가변적일 수 있다. 이는 목적에 따라 10아아르당 0.1g 내지 5kg(활성 성분에 대해)의 범위내에서 적합하게 선택할 수 있다.
본 발명의 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 살충제는, 방제 가능한 해충류의 범위 및 효과적인 적용이 가능한 주기를 확대시키거나 투여량을 감소시키기 위해, 다른 살균제 또는 살진균제와 혼합된 상태로 사용할 수 있다.
본 발명의 통상적인 제형 실시예 및 시험 실시예를 하기에 기재하였으나, 이로써 본 발명의 범주를 제한하려는 것은 아니다.
제형 실시예에 있어서, 부는 모두 중량에 의한다.
제형 실시예 1
본 발명의 각각의 화합물 50부
크실렌 40부
폴리옥시에틸렌 10부
노닐페닐 에테르와 칼슘
알킬벤젠설포네이트의 혼합물
유화 농축제는 상기 성분들을 균질하게 혼합시켜 용해시킴으로써 제조한다.
제형 실시예 2
본 발영의 각각의 화합물 3부
점토분 82부
규조토분 15부
분제는 상기한 성분들을 균질하게 혼합시키고 연마시킴으로써 제조한다.
제형 실시예 3
본 발명의 각각의 화합물 5부
벤토나이트와 점토의 혼합 분말 90부
칼슘 리그닌 설포네이트 5부
입제는 상기한 성분들을 균질하게 혼합시키고, 생성된 혼합물을 적당량의 물과 함께 혼련시킨 후, 과립화시키고 건조시킴으로써 제조한다.
제형 실시예 4
본 발명의 각각의 화합물 20부
합성의 고분산성 실릭산과 카올린의 혼합물 75부
폴리옥시에틸렌 노닐페닐 에테르와 칼슘 5부
알킬벤젠설포네이트의 혼합물
습윤성 산제는 상기한 성분들을 균질하게 혼합시키고 연마시킴으로써 제조한다.
시험 실시예 1
커먼 커느윔(common cutworm)[스포도프테라 리투라(Spodoptera Litura)]에 대한 살충 효과
본 발명의 각각의 화합물을 활성 성분으로서 포함하는 제형을 희석시켜 그 농도를 500ppm으로 조절함으로써 제조한 액체 시료에, 양배추잎 한 포기(경작자 : Shikidori)를 약 30초 동안 함침시킨다. 공기 건조시킨 후, 직경이 9cm인 플라스틱 페트리 접시(Petri dish)에 위치시키고, 커먼 커트웜의 제2영충을 접종시킨 후, 접시를 밀폐시키고, 온도가 25℃로 유지되는 실내에 정치시킨다. 접종시키고 8일후에, 생존 여부를 계측한다. 치사율을 하기 계산식에 따라 계산하고, 하기 기준에 따라 평가한다. 시험은 각각 해충 10마리의 세 그룹을 이용하여 수행한다 :
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이렇게 하여 수득된 결과를 하기 표 7에 나타내었다:
[표 7]
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시험 실시예 2
옥수수 바구미 성충[시토필루스 제아마이스(Sitophilus Zeamais)]에 대한 살충 효과
본 발명의 각각의 화합물을 활성 성분으로서 포함하는 제형을 희석시켜 그 농도를 200ppm으로 조절함으로써 제조한 액체 시료에, 현미(brown rice)20 내지 30gr을 약 30초 동안 함침시킨다. 공기 건조시킨 후, 직경이 4cm인 유리 페트리 접시에 위치시키고, 옥수수 바구미 성충을 접종시킨 후, 접시를 밀폐시키고, 온도가 25℃로 유지되는 실내에 정치시킨다. 접종시키고 8일후에, 생존 여부를 계측한다. 치사율은 시험 실시예 1에 나타낸 계산식에 따라 계산하고, 시험 실시예 1에 나타낸 기준에 따라 평가한다. 시험은 각각 해충 10마리의 세그룹을 이용하여 수행한다.
이렇게 하여 수득된 결과를 하기 표 8에 나타내었다 :
[표 8]
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Claims (11)

  1. 하기 일반식(I)의 히드라진카복아미드 유도체.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은수소 원자; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, A는 일반식또는 (여기서, X는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3 내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, R5는 수소 원자; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 할로알킬카보닐 그룹; 사이클로알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알콕시디카보닐 그룹; 비치환된 페닐카보닐 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐카보닐 그룹; 또는 수소 원자, 저급 알킬 그룹, 비치환된 페닐 그룹, 및 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹이다)의 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환테로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
  2. 제1항에 있어서, R1내지 R2가 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, A가 일반식(여기서, X는 수소 원자; 할로겐 원자; 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, R5는 수소 원자이다)의 그룹이며, Y가 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹 및 니트로 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z가 수소 원자; 할로겐 원자; 저급 할로알킬 그룹; 저급 할로알콕시 그룹, 저급 알킬티오 그룹, 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹 및 저급 할로알킬설포닐 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W가 산소 원자인 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체.
  3. 제2항에 있어서, X가 3-위치에 존재하며, Y 또는 Z가 4-위치에서 치환체를 갖는 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체.
  4. 일반식(VIII)의 화합물을 일반식(VI)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I')의 히드라진카복스아미드 유도체를 제조하는 방법.
    상기식에서, R1 및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은 수소 원자; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, X는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 1 또는 2개를 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
  5. 일반식(VIII)의 화합물을 일반식(VII)의 히드라진 유도체와 반응시켜 일반식(V)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 분리한 후 또는 분리하지 않은 상태에서, 일반식(IV)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I')의 히드라진카복스아미드 유도체를 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 수소 원자이며, R2는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은 수소 원자; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환 상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 타나낼 수 있고, X는 수소 원자,; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자에 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 1 또는 2개를 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며,, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자 ; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
  6. 일반식(I')의 화합물을 환원제의 존재하에서 환원반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I")의 히드라진카복스아미드 유도체를 제조하는 방법.
    상기식에서, R1 및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은 수소 원자; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, X는 수소 원자 ; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3 내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 1 또는 2개를 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자 ; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
  7. 일반식(I")의 히드라진카복스아미드 유도체를 일반식(III)의 할라이드 또는 일반식(II)의 이소시아네이트와 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I"')의 히드라진카복스아미드 유도체를 제조하는 방법.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은 수소 원자 ; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, X는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3 내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 1 또는 2개를 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹은 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이고, R5'는 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 할로알킬카보닐 그룹; 사이클로알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알콕시디카보닐 그룹; 비치환된 페닐카보닐 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐카보닐그룹; 또는 수소 원자, 저급 알킬 그룹, 비치환된 페닐 그룹, 및 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 치환체를 1 또는 2개 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹이며, Hal은 할로겐 원자이고, R5"는 저급 알킬 그룹; 비치환된 페닐그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐 그룹이다.
  8. 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 농업학적 및 원예학적 살충제.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은 수소 원자; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, A는 일반식(여기서, X는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3 내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 1 또는 2개를 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, R5는 수소 원자; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 할로알킬카보닐 그룹; 사이클로알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알콕시디카보닐 그룹; 비치환된 페닐카보닐 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐카보닐 그룹; 또는 수소 원자, 저급 알킬 그룹, 비치환된 페닐 그룹, 및 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹이다)의 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹, 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹; 비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜옥시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
  9. 제8항에 있어서, R1내지 R4가 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, A가 일반식(여기서, X는 수소 원자; 할로겐 원자; 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, R5는 수소 원자이다)의 그룹이며, Y가 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹 및 니트로 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z가 수소 원자; 할로겐 원자; 저급 할로알킬 그룹; 저급 할로알콕시 그룹, 저급 알킬티오 그룹, 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹 및 저급 할로알킬설포닐 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W가 산소 원자인 농업학적 및 원예학적 살충제.
  10. 제9항에 있어서, X가 3-위치에 존재하며, Y 또는 Z가 4-위치에서 치환체를 갖는 농업학적 및 원예학적 살충제.
  11. 바람직하지 못한 해충으로부터 유용한 작물을 보호하기 위해, 일반식(I)의 히드라진카복스아미드 유도체를 활성 성분으로서 포함하는 농업학적 및 원예학적 살충제를, 활성 성분의 양이 10아아르(are)당 0.1g 내지 5kg이 되도록 적용함을 특징으로 하여, 바람직하지 않은 해충을 방제하는 방법.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이고, R3은 수소 원자; 하이드록실 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 비치환된 페닐카보닐옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹 및 저급 할로알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 페닐환상에서 포함하는 치환된 페닐카보닐옥시 그룹이며, R4는 수소 원자 또는 저급 알킬 그룹이거나, R3및 R4는 함께 산소 원자를 나타낼 수 있고, A는 일반식(여기서, X는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 저급 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알콕시알킬 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 사이클로알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐옥시 그룹; 저급 알콕시카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬카보닐알킬옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 페녹시 그룹; 메틸렌디옥시 그룹; 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 3 내지 4의 알케닐렌 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 저급 알킬 그룹 1 또는 2개를 치환체로서 포함하는 치환된 아미노 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐옥시 그룹; 및 디옥솔란 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, R5는 수소 원자; 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 할로알킬카보닐 그룹; 사이클로알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알콕시디카보닐 그룹; 비치환된 페닐카보닐 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐카보닐 그룹; 또는 수소 원자, 저급 알킬 그룹, 비치환된 페닐 그룹, 및 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페닐 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹이다)의 그룹이며, Y는 수소 원자; 하이드록실 그룹; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알케닐옥시 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 ; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 비치환된 아미노 그룹; 포밀 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹, 저급 알킬설포닐 그룹 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체를 포함하는 치환된 아미노 그룹; 비치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노카보닐 그룹; 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 저급 알킬 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 아미노설포닐 그룹; 페닐 그룹; 또는 페닐 환의 인접 탄소 원자와 함께 폴리사이클릭 환을 형성하는 탄소수 2 내지 3의 아자알케닐렌 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이고, Z는 수소 원자; 할로겐 원자; 시아노 그룹; 니트로 그룹; 알킬 그룹; 저급 할로알킬 그룹; 비치환된 사이클로알킬 그룹; 할로겐 원자 및 저급 알킬 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 사이클로알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 저급 할로알콕시 그룹; 저급 알킬티오 그룹; 저급 할로알킬티오 그룹; 저급 알킬설피닐 그룹; 저급 할로알킬설피닐 그룹; 저급 알킬설포닐 그룹; 저급 할로알킬설포닐 그룹, 저급 알킬카보닐 그룹; 저급 알콕시카보닐 그룹; 저급 알킬카보닐옥시 그룹; 저급 알킬설포닐옥시 그룹; 저급 할로알킬설포닐옥시 그룹; 비치환된 페녹시 그룹; 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 치환체를 포함하는 치환된 페녹시 그룹;비치환된 피리딜옥시 그룹; 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 그룹, 저급 할로알킬 그룹, 저급 알콕시 그룹 및 저급 할로알콕시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 4개의 원자 또는 그룹을 치환체로서 포함하는 치환된 피리딜독시 그룹 중에서 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 1 내지 5개의 원자 또는 그룹이며, W는 산소 원자 또는 황 원자이다.
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