KR930009412B1

KR930009412B1 - 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR930009412B1
Application number: KR1019910012099A
Authority: KR
Inventors: 다다시 이노우에; 마사유끼 기노시다; 도모요시 오오기다
Original assignee: 엔 케이 케이 코오포레이숀; 사이또오 히로시
Priority date: 1990-07-17
Filing date: 1991-07-16
Publication date: 1993-10-04
Also published as: DE4123567A1; KR920002815A; DE4123567C2; US5127965A; FR2664908A1

Abstract

내용 없음.

Description

섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 및 그 제조방법

제 1 도는 본 발명의 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판중에 함유되는 비금속 개재물의 화학성분 조성의 영역을 나타내는 CaO-Al₂O₃-MgO 삼원계 상태도의 일부로서 전기 Fe-Ni계 합금 박판중으로의 혼입이 바람직하지 않은 비금속 개재물의 화학성분 조성의 영역을 나타낸 도면.

제 2 도는 0.01∼0.15wt.%의 실리콘과 0.0025wt.%의 황을 함유하며 10% 이하의 실리콘 편석율을 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 에칭 천공성과 소둔시의 소부에 중요한 영향을 미치는 전기 Fe-Ni계 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)와의 사이의 관계를 나타낸 그래프.

제 3 도는 화학성분조성, 실리콘 편석율, 중심선 평균 거칠기(Ra), 쿠르토시스(RKr) 및 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)의 값이 어느것이나 본 발명의 범위내의 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 황 함유량과 소둔 온도와의 사이의 관계를 나타낸 그래프.

제 4 도는 소둔시에 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판에 소부가 생기지 아니하는 Fe-Ni계 합금 박판이 임계 소둔 온도에 중요한 영향을 미치는 전기 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 황 함량과 쿠르토시스(Rkr)와의 관계를 나타낸 그래프.

제 5 도는 본 발명의 실시예에 사용한 합금 A 내지 합금 E중의 각각에 함유되어 있는 비금속 개재물의 화학성분 조성을 나타낸 CaO-Al₂O₃-MgO 삼원계 상태도.

본 발명은 칼라 브라운관에 사용되는 섀도우 마스크(shadow mask)용 Fe-Ni계 합금 박판(薄板) 및 그 제조방법에 관한 것이다.

최근 칼라 텔레비젼의 고품위화에 따라 색상 엇갈림(color-phase shift) 등의 문제에 대처할 수 있는 섀도우 마스크용 합금으로서 36wt.% Fe-Ni계 합금, 소위 인바아(invar) 합금이 주목을 끌고 있다.

인바아 합금은 섀도우 마스크용 재료로서 종래부터 사용되어온 저탄소강에 비하여 열팽창율이 현저하게 작다.

따라서 인바아 합금으로 섀도우 마스크를 제조하면 섀도우 마스크가 전자비임에 의해 가열된다 하더라도 섀도우 마스크의 열팽창에 의한 색상 엇갈림등의 문제는 생기기 어렵다.

그러나 섀도우 마스크용 인바아 합금 박판, 즉 전자비임의 통과공(通過孔)(이하 간단히 "구멍"이하 함)을 에칭(etching)하여 형성하기 전의 원판의 다음과 같은 문제점을 가지고 있다.

(1) 에칭 천공성(etching pierceability)가 나쁘다

즉 인바아 합금은 니켈을 다량 함유하고 있기 때문에 섀도우 마스크용 인바아 합금 박판은 에칭 천공시에 레지스터 피막(resist film)의 인바아 합금 박판 표면에 대한 밀착성과 에칭액에 이한 부식성이 섀도우 마스크용 저탄소강 박판에 비하여 불량하다. 이런 이유로 해서 에칭에 의해 천공된 구멍의 직경과 형상이 불규칙하게 되기 쉬우므로 이로 인해 칼라 브라운관의 품위가 현저하게 저하한다.

(2) 플래트 마스크(flat mask)의 소둔(annealing)시에 소부(燒付 : seizure)가 생기기 쉽다

즉 에칭에 의해 천공된 그대로의 섀도우 마스크용 박판, 즉 플래트 마스크는 브라운관의 형상에 맞도록 곡면 형상으로 프레스 성형되는데, 프레서 성형성이 좋도록 하기 위해서는 프레스 성형에 앞서 플래트 마스크를 소둔처리한다. 브라운관 메이커에서는 생산성을 향상시키기 위해 플래트 마스크를 수십매 내지 수백매 중첩시켜 810℃∼1, 100℃ 정도의 온도에서 소둔 처리하고 있는데, 이 온도는 저탄소강으로 제조된 플래트 마스트의 소둔온도보다 높은 온도이다.

그런데 인바아 합금은 니켈을 다량함유하고 있기 때문에 저탄소강에 비하여 강도가 크다. 이로 인해서 인바아 합금으로 제조된 플래트 마스크는 저탄소강으로 제조된 플래트 마스크에 비하여 소둔온도를 고온으로 유지할 필요가 있다. 따라서 인바아 합금으로 제조된 플래트 마스크는 그 소둔처리시에 소부가 생기기 쉽다.

위에 나온 (1)의 문제를 해결하기 위해 다음과 같은 선행기술이 알려져 있다.

(가) 일본국 특허 공개공보 제 61-39, 344호에는 섀도우 마스크용 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(center-line mean roughness : Ra)를 0.1∼0.4㎛의 범위내로 한정하는 것을 개시(開示)하고 있다(이하 "선행기술 1"이라 함)

(나) 일본국 특허 공개공보 제 62-243, 780호에는 섀도우 마스크용 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)를 0.2∼0.7㎛의 범위내로 한정하고, 기준 길이내에서의 표면 거칠기를 나타내는 단면(斷面) 곡선의 평균 피이크 간격(average peak interval)을 100㎛ 이하로 한정하며 결정입도(粒度)를 입도번호로 나타내어 8.0 이상으로 한정하는 것을 개시하고 있다(이하 "선행기술 2"라 함).

(다) 일본국 특허 공개공보 제 62-243, 781호에는 위에 나온 선행기술 2의 요건에 부가하여 Re, 즉 광통과공의 직경(α1)과 에칭 구멍직경(α2)의 비 α1/α2를 0.9 이상으로 한정하는데 대하여 개시하고 있다(이하 "선행기술 3"이라 함).

(라) 일본국 특허 공개번호 제 62-243, 782에는 섀도우 마스크용 합금 박판의 집합조직(crystaltexture)을 강냉간압연 및 재결정 소둔 처리에 의하여 집적시키고, 결정입도를 입도번호로 나타내서 8.0 이상으로 한정하며, 3∼15%의 범위내의 압하율(壓下率 : reduction ratio)에서 한쌍의 덜 로울(dull roll)에 의한 냉간압연에 의해 위에 나온 선행기술 2에 기재된 표면 거칠기를 섀도우 마스크용 합금 박판의 표면에다 부여하는데 관해서 개시하고 있다(이하 "선행기술 4"라 함).

한편 위에 나온 (2)의 문제를 해결하기 위하여 다음과 같은 선행기술이 알려져 있다.

(마) 일본국 특허공개공보 제 62-238, 003호에는 섀도우 마스크용 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값을 0.2∼2.0㎛의 범위내로 한정하고, 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서의 편차 지수(deviation index)(Rsk)의 값을 0 이상으로 한정하는 것에 관하여 개시하고 있다(이하 "선행기술 5"라 함).

그러나 위에 나온 선행기술 1 내지 4는 에칭 천공성을 어느정도 향상시킬 수가 있기는 하나 플래트 마스크의 소둔시에 생기는 소부를 방지할 수 없다는 문제를 가지로 있다.

한편 위에 나온 선행기술 5는 저탄소강으로 제조된 플래트 마스크 소둔시의 소부를 어느정도 방지할 수는 있으나 저탄소강에 비하여 높은 소둔온도를 유지할 필요가 있는 인바아 합금으로 제조된 플래트 마스크의 소둔시 그 소부현상을 방지할 없다는데 문제점을 가지고 있다.

사정이 이러하므로 에칭 천공성이 우수하고 Fe-Ni계 합금 박판 소둔시의 소부를 확실히 방지할 수 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 및 그 제조방법의 개발이 강력하게 요망하고 있으나 이러한 합금 박판과 그 제조방법은 아직까지 제안되어 있지 아니하다.

따라서 본 발명의 목적은 에칭 천공성이 우수하고 Fe-Ni계 합금 박판 소둔시의 소부를 확실히 방지할 수 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 및 그 제조방법을 제공함에 있다.

본 발명의 한가지 특징에 의하여 본질적으로 아래와 같이 되어 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 제공하게 되는 것이다.

니켈 : 34∼38wt.%, 실리콘 : 0.01∼0.15wt.%, 망간 : 0.01∼1.00wt.% 및 나머지는 철 및 불가피한 불순물.

전기 합금 박판의 표면부분의 하기 식으로 나타내어지는 실리콘(Si) 편석율 10% 이하이고,

그리고 전기 합금 박판의 표면 거칠기는 하기식 (1) 내지 (3) 전부를 만족하고 있으며 ;

0.3㎛Ra0.8㎛ ………………………………………… (1)

단, Ra : 중심선 평균 거칠기

3Rkrd7 ……………………………………………… (2)

단 Rkr : 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서 첨예도(尖銳度) 지수(sharpness index)인 쿠르토시스

전기 합금 박판의 전기 표면 거칠기는 하기식 (4) 내지 (7)중에서 적어도 하나를 만족하고 있어도 좋다.

70㎛Sm160㎛ ………………………………………… (4)

단, Sm : 단면곡선의 평균 피이크 간격

위의 식에서

Ra(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기,

RA(C) : 전기 합금 박판의 압연방향에 직교하는 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기,

Rkr(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 쿠르토시스,

Rkr(C) : 전기 합금 박판의 압연방향에 직교하는 방향에 있어서의 쿠르토시스.

위의 식에서

Sm : 단면곡선의 평균 피이크 간격,

Rkr(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 쿠르토시스,

Rkr(C) : 전기 합금 박판의 압연방향에 직교하는 방향에 있어서의 쿠르토시스,

Sm(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 평균 피이크 간격,

Sm(C) : 전기 합금 박판의 압연방향과 직교하는 방향에 있어서의 평균 피이크 간격.

0.3라디안(radian)≤Rθa≤0.05라디안 …………………… (7)

단 Rθa : 거칠기 곡선의 평균 경사각.

본 발명의 다른 특징에 따라 아래와 같은 공정단계로 된 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 제조방법을 제공한다.

(가) 본질적으로 아래 성분조성으로 되어 있는 Fe-Ni계 합금 박판을 준비하고, 니켈 : 34∼38wt.%, 실리콘 : 0.01∼0.15wt.%, 망간 : 0.01∼1.00wt.%, 나머지 : 철 및 불가피한 분순물.

(나) 전기한 합금 박판의 전기한 준비에 있어서 전기한 합금 박판의 표면부분의 아래식으로 나타내어지는 실리콘(Si) 편석율을 조절하고,

(다) 그리고 전기한 합금 박판의 전기한 준비를 위한 최종압연시에 있어서 한쌍의 덜 로울(dull roll)로 전기한 합금 박판의 양 표면상에 하기식 (1) 내지 (3)의 모두를 만족하는 표면 거칠기를 부여한다.

0.3㎛Ra0.8㎛ ……………………………………………… (1)

단, Ra : 중심선 평균 거칠기

3Rkr7 …………………………………………………… (2)

단 Rkr : 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서 첨예도 지수인 쿠르토시스

본 발명의 또다른 특징에 따라 아래와 같은 공정단계로 된 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 제조 방법을 제공한다.

(가) 본질적으로 아래 성분조성으로 되어 있는 Fe-Ni계 합금 박판을 준비하고, 니켈 : 34∼38wt.%, 실리콘 : 0.01∼0.15wt.%, 망간 : 0.01∼1.00wt.%, 나머지 : 철 및 불가피한 불순물.

(다) 그리고 전기한 합금 박판의 전기한 준비를 위한 최종압연시에 있어서 한쌍의 덜 로울로 전기한 합금 박판의 양 표면상에 하기식 (1) 내지 (3)의 모두를 만족하고,

0.3㎛Ra0.8㎛ ………………………………………………(1)

단, Ra : 중심선 평균 거칠기

3Rkr7 ………………………………………………… (2)

(라) 또한 하기식 (4) 내지 (7)중의 적어도 하나를 만족하는 표면 거칠기를 부여한다.

70㎛Sm160㎛ ………………………………………… (4)

단, Sm : 단면곡선의 평균 피이크 간격

단, Ra(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기,

Rkr(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 쿠르토시스,

단, Sm : 단면곡선의 평균 피이크 간격,

Rkr(L) : 전기 합금 박판의 압연방향에 있어서의 쿠르토시스,

0.3라디안≤Rθa≤0.05라디안 …………………………… (7)

단 Rθa : 거칠기 곡선의 평균 경사각.

위에 나온 최종압연은 냉각압연 또는 조질(調質) 압연이어도 좋다.

위에서 언급한 관점으로부터 본 발명자들은 에칭 천공성이 우수하고 소둔시의 소부를 확실히 방지할 수 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 개발하고자 예의 연구를 거듭한 결과 다음과 같은 점을 발견하였다. 즉 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 화학성분조성, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기를 소정의 범위내로 조정하면 에칭 천공성이 우수하고 소둔시의 소부를 확실히 방지할 수 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 얻을 수가 있다는 것이다.

더욱이 본 발명자들은 다음과 같은 점을 발견하였다. 즉 소정의 화학성분조성과 소정의 실리콘 편석율을 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판에 소정의 표면 거칠기를 확실히 부여하기 위해서는 전기한 합금 박판을 준비하고, 이러한 준비를 하기 위해서 최종냉간 압연시 최종 조질압연시, 즉 최종압연시에 있어서 1쌍의 덜 로울을 사용하여 전기한 합금 박판의 양 표면상에 소정의 표면 거칠기를 부여하면 좋다는 것이다.

본 발명은 위와 같은 발견에 근거하여 완성된 것이다.

다음에는 본 발명의 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판에 대하여 상세히 설명한다.

본 발명의 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 화학성분 조성을 위에 나온 범위내로 한정한 이유는 다음과 같다.

(1) 니켈 : 색상 엇갈림의 발생을 방지하기 위하여 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판에 요구되는 30℃∼100℃의 온도 영역내에서의 평균 열팽창 계수의 상한치의 약 2.0×10^-6/℃이다. 이러한 평균 열팽창 계수는 합금 박판의 니켈 함량에 따라 달라진다. 그리고 이러한 평균 열팽창 계수의 조건을 만족하는 니켈 함량의 범위는 34∼38wt.%의 범위내이다. 따라서 니켈 함량을 34∼38wt.%의 범위내로 한정해야 한다.

(2) 실리콘 : 실리콘은 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판으로 제조된 플래트 마스크의 소둔시에 플래트 마스크의 소부를 방지하는데 효과적인 원소이다. 그러나 실리콘 함량이 0.01wt.% 미만인 경우에는 플래트 마시크의 소부 방지에 효과적인 산화막이 플래트 마스크의 표면에 형성되지 않는다. 한편으로 실리콘 함량이 0.15wt.% 이상인 경우에는 Fe-Ni계 합금 박판의 에칭 천공성이 불량해진다. 따라서 실리콘 함량을 0.01~0.15wt.%의 범위내로 한정해야 한다.

(3) 망간 : 망간은 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 탈산(脫酸)과 열간 가공성을 향상시키는 작용을 가지고 있다. 망간 함량이 0.01wt.% 미만인 경우에는 위와 같은 작용에 있어 바람직한 효과를 얻을 수 없고, 망간 함량이 1.00wt.% 이상인 경우는 Fe-Ni계 합금 박판의 열팽창 계수가 커져서 섀도우 마스크의 색상 엇갈림의 면에서 바람직하지 않다. 따라서 망간 함량을 0.01∼1.00wt.%의 범위내로 한정해야 한다.

실리콘 함량이 위에 나온 범위내에 있다 하더라도 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 표면부분에서 실리콘 편석율이 과도하게 커지게 되면 에칭 천공성이 불량해지고 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크 표면의 일부에 소부가 발생한다. 따라서 플래트 마스크의 소부를 방지하기 위해서는 실리콘 함량을 한정하는 외에 Fe-Ni계 합금 박판의 표면부분에 있어서의 아래식으로 나타내어지는 실리콘 편석율을 10% 이하로 한정해야 한다.

그런데 위에 나온 바와 같이 실리콘 편석율을 10% 이하로 한정한 후에 Fe-Ni계 합금 박판의 단위 표면부분에 있어서의 실리콘 농도의 최소치를 0.01wt.% 이상, 그리고 실리콘 농도의 최대치를 0.15wt.% 이하로 한정하면, 에칭 천공성의 국부적인 악화와 소둔시의 소부의 국부적인 발생을 보다 확실히 방지할 수 있다.

실리콘 편석율을 10% 이하로 감소시키자면 다음과 같은 방법을 고려할 수 있다. 즉, 합금 잉고트(ingot) 또는 연속 주조 합금 슬래부(slab)를 1, 200℃의 온도에서 20시간 가열한 다음 20∼60%의 단면 감소율로 제 1 차 분괴 압연(primary slabbing)하고 나서, 이와 같이 압연된 슬래브를 1, 200℃의 온도에서 20시간 가열한 후 30∼50%의 단면 감소율로 제 2 차 분괴 압연한 다음 서서히 냉각한다.

위와 같은 가공처리와 열처리를 잉고트 또는 슬래브에 실시함으로써 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 실리콘 편석율을 감소시킬 수가 있다.

그런데 위와 같이 1차 및 2차 분괴 압연전의 가열처리에 있어서는 가열분위기중의 황 함량을 80ppm 이하로 감소시켜 가열중에 생성되는 입계취화(grain boundary embrittlement)를 억제하면 분괴압연 후의 슬래브의 표면결함을 극소화할 수 있다.

본 발명의 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판은 위에 나온 공정을 따라 제조된 것에만 한정되는 것이 아니고 용융합금으로부터 직접 합금 박판을 주조하는 소위 스트립 캐스팅법(strip casting)으로 제조된 것이어도 좋고 스트립 캐스팅법으로 주조된 합금 박판에 열간(熱間)에서 경압하(輕壓下)를 실시하여 제조된 것이어도 좋다.

스트립 캐스팅법으로도 제조된 합금 박판을 사용하면 위에 나온 분괴압연의 경우에 있어서 가열 및 균열처리(soaking)에 의한 실리콘 편석율의 감소 공정을 어느 정도 간략화 할 수 있다.

섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 에칭 천공성, 특히 천공후의 구멍계면(hole surface)의 품질을 향상시키고, 또한 에칭 공정에 있어서 에칭액의 오염을 극소화하여 에칭 작업성을 향상시키자면 위에 나온 화학 성분 조성을 가진 Fe-Ni계 합금 박판중에 함유되는 비금속 개재물의 화학 성분 조성을 제 1 도에 있는 CaO-Al₂O₃-MgO 삼원계 상태도(ternary phase diagram)중의 점 ①,②,③,④ 및 ⑤를 연결해서 형성되는 5변형으로 둘러싸인 영역외의 화학성분 조성으로 조절하는 것이 바람직하다.

이와 같이 하여 비금속 개재물의 화학성분 조성을 조정함으로써 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판중의 비금속 개재물은 3㎛ 이하의 구상(球狀) 비금속 개재물이 주체로 되어 압연방향으로 늘어난 전신성(展伸性)을 가진 선상 개재물의 량은 극히 작아지게 된다. 그 결과 에칭 천공시에 비금속 개재물에 기인하여 구멍의 계면에 생기는 피트(pit) 형성이 억제되고, 또한 에칭액중의 비금속 개재물의 혼입에 의한 에칭액의 오염의 문제도 극히 작아지게 된다.

다음에는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr) 및 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)와의 사이의 관계를 위에 나온 바와 같이 한정한 이유에 대하여 도면을 참고로 하여 설명한다.

중심선 평균 거칠기(Ra)라는 것이 아래식으로 나타내어지는 Fe-Ni계 합금 박판의 표면 거칠기이다.

위의 식에서 L은 측정길이이고 f(x)는 거칠기 곡선이다.

쿠르토시스(Rkr)라는 것은 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서의 첨예도 지수인데, 아래식으로 나타내어 진다.

위의 식에서

: 진폭분포곡선의 4차 모멘트

제 2 도는 실리콘 0.01∼0.15wt.% 및 황 0.0025wt.%를 함유하고 또한 실리콘 편석율이 10% 이하인 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판으로 제조된 플래트 마스크의 에칭 천공성 및 소둔시의 소부에 중요한 영향을 미치는 전기한 Fe-Ni계 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)와의 사이의 관계를 나타낸 그래프이다.

제 2 도로부터 명백한 바와 같이 쿠르토시스(Rkr)의 값과는 관계없이 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값이 0.3㎛ 미만인 경우에는 플래트 마스크의 소둔시에 소부가 플래트 마스크의 전체 표면상에 생기게 되고, 또한 에칭 천공싱에 플래트 마스크 표면에 대한 포토 마스크(photo mask)의 밀착성이 불량하게 된다. 한편으로는 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값이 0.8㎛ 이상인 경우에는 플래트 마스크의 에칭 천공성이 불량하게 된다. 따라서 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값은 아래식(1)을 만족해야 한다.

0.3㎛Ra0.8㎛ ………………………………………… (1)

중심선 평균 거칠기(Ra)의 값이 0.3∼0.8㎛의 범위내에 있다 하더라도 쿠르토시스(Rkr)의 값이 3미만이면 플래트 마스크의 소둔시에 소부가 플래트 마스크의 전체 표면상에 생기게 된다.

한편으로는 쿠르토시스(Rkr)의 값이 7이상이면 플래트 마스크 소둔시에 소부가 플래트 마스크의 표면의 일부에 발생하고 플래트 마스크의 에칭 천공성이 열화(劣化)한다. 따라서 쿠르토시스(Rkr)의 값은 아래식(2)을 만족해야 한다.

3Rkr7 ……………………………………………… (2)

중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)가 아래식을 만족하면 플래트 마스크 소둔시에 소부가 플래트 마스크의 전체 표면에 발생한다.

제 2 도로 부터 명백한 바와 같이 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값이 0.3∼0.4㎛인 범위내에서 플래트 마스크의 소둔시에 플래트 마스크에 소부가 생기지 아니하는 중심선 평균 거칠기(Ra)의 하한치는 쿠르토시스(Rkr)의 값을 크게 함으로써 보다 작게 할 수가 있다.

이것은 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값을 작게 하더라도 플래트 마스크의 소부 발생을 방지할 수 있으므로 Fe-Ni계 합금 박판에 형성되는 구멍이 보다 크게 치밀화 하는 경우에서도 에칭 천공성을 향상시킬수가 있음을 의미하는 것이다.

따라서 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)는 아래식(3)을 만족해야 한다.

위에 나온 바와 같이 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)의 쿠르토시스(Rkr)의 값 및 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)와의 사이의 관계를 위에 나온 바와 같이 한정함으로써 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 에칭 천공성을 향상시키고 Fe-Ni계 합금 박판제의 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크의 소부를 방지할 수 있다.

에칭 천공성을 보다 향상시키고 플래트 마스크 소둔시 플래트 마스크의 소부를 보다 확실히 방지하기 위해서는 Fe-Ni계 합금 박판의 표면 거칠기를 나타내는 파라메터인 평균 피이크 간격(Sm)의 값을 적정한 범위내로 한정할 필요가 없다.

평균 피이크 간격(Sm)은 아래식으로 나타내어지는 단면곡선의 표면 거칠기이다.

위의 식에서, sm₁, Sm₂: 피이크 간격

n : 피이크의 수

그러나 Fe-Ni계 합금 박판의 평균 피이크 간격(Sm)의 값이 70㎛ 미만인 경우는 플래트 마스크의 소부 방지효과가 우수하게 나타나지 않는다. 한편으로는 평균 피이크 간격(Sm)의 값이 160㎛ 이상인 경우는 우수한 에칭 천공성이 나타나지 않는다. 따라서 Fe-Ni계 합금 박판의 평균 피이크 간격(Sm)의 값은 아래식(4)을 만족해야 한다.

70㎛Sm160㎛ ……………………………………………… (4)

위에 나온 바와같이 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)의 값 및 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)와의 사이의 관계를 위와 같이 한정함으로써 Fe-Ni계 합금 박판의 에칭 천공성을 향상시키고, Fe-Ni계 합금 박판제의 플래크 마스크 소둔시의 플래트 마스크의 소부를 방지할 수 있다. 1회 소둔에서 플래트 마스크의 적층 매수를 증가시키면서도 플래트 마스크에 소부가 생기지 않도록 하면서 플래트 마스크의 생산비를 절감하기 위해서는 Fe-Ni계 합금 박판의 두 방향에 있어서의 표면 거칠기의 값은 아래식(5)을 만족할 필요가 있다.

위의 식에서

Ra(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기,

Ra(C) : 합금 박판의 압연방향에 직교하는 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기,

Rkr(L) : 합금 박판의 압연방향에 있어서의 쿠르토시스,

Rkr(C) : 합금 박판의 압연방향에 직교하는 방향의 쿠르토시스.

위에 나온 바와같이 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 평균 피이크 간격(Sm)이 위의 식(4)을 만족하고, 또한 두 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)가 위의 식(5)를 만족함으로써 Fe-Ni계 합금 박판제의 플래트 마스크의 소부를 보다 확실하게 방지할 섀도우 마스크용 있다.

Fe-Ni계 합금 박판제의 에칭 천공성을 더 한층 향상시키자면 위의 식(4)와 (5)를 만족하는 외에 Fe-Ni계 합금 박판의 두 방향에 있어서의 평균 피이크 간격(Sm)은 아래식(6)을 만족해야 한다.

│Sm(L)-Sm(C)│5.0㎛ ……………………………… (6)

위의 식에서,

Sm(L) : 합금 박판의 압연방향에 있어서의 평균 피이크 간격.

Sm(C) : 합금 박판의 압연방향과 직교하는 방향에 있어서의 평균 피이크 간격.

섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판제의 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않는 임계 소둔 온도를 올려주자면 Fe-Ni계 합금 박판의 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)의 적정화와 항(S) 함량의 감소가 효과적인 방안이다.

제 3 도는 화학 성분 조성, 실리콘 편석율, 중심선 평균 거칠기(Ra), 쿠르토시스(Rkr) 및 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)이 어느것이라도 본 발명의 범위내에 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판제의 플래트 마스크를 30매 중첩시켜 소둔했을 때 플래트 마스크의 소부에 중요한 영향을 미치는 Fe-Ni계 합금 박판의 황 함량과 소둔온도와의 관계를 나타내는 그래프이다.

제 3 도에 있어서 "O" 표는 마스크에 소부가 생기기 아니한 것을 나타내고, "△" 표는 플래트 마스크의 표면 일부가 소부가 생긴 것을 나타내며, "×" 표는 플래트 마스크의 전체 표면에 소부가 생긴 것을 각각 나타낸다.

제 3 도로부터 명백한 바와 같이 황 함량을 감소시킴으로써 플래트 마스크 소둔시 소부가 생기지 않는 암계 소둔온도를 올려줄 수가 있다.

이와 같은 황 함량을 감소시킴에 따라 나타나는 효과는 메카니즘은 명확히 알려져 있지는 않으나, 플래트 마스크의 소둔시에 있어서 어느 것이라도 플래트 마스크 소부방지에 효과적인 플래트 마스크 표면상의 실리콘 산화막 형성과 플래트 마스크 표면의 황의 석출이 경합하여 일어나기 때문인 것으로 추측된다.

위에 나온 바와 같이 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 황 함량을 감소시킴으로써 Fe-Ni계 합금 박판제 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않는 임계 소둔온도를 높여줄 수가 있다. 제 4 도에 있는 바와 같이 Fe-Ni계합금 박판의 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)을 특정범위내로 유지함으로써 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크의 소부가 생기지 아니하는 임계 소둔온도를 동일한 황 함량인 경우에 대해서도 높여줄 수 있다.

따라서 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)는 아래식(7)을 만족해야 한다.

0.3라디안≤Rθa≤0.05라디안 ……………………………… (7)

본 발명의 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 제조하자변 위에 나온 화학성분 조성과 실리콘 편석율을 가진 원판을 준비하여 위에 나온 바 있는 원판의 최종압연시, 즉 최종 냉간 압연 또는 최종 조질 압연시에 한쌍의 덜 로울을 사용하여 위에 나온바 있는 소정의 포면 거칠기를 원판의 양 표면에 부여한다.

위에 나온 덜 로울은 방전 가공 또는 레이저 가공, 바람직하게는 쇼트 블라스트법(shot blast method)에 의하여 표면 가공전의 로울에다 소정의 표면 거칠기를 부여함으로써 얻을 수가 있다.

쇼트 블라스트법을 사용할 경우에는 투사입(投射粒 : shot)으로서는 #120(JIS기호 G120)∼#240(JIS기호 G240)의 입도를 가지며 400∼950의 경도(Hv)를 가진 강제 그리트(steel grit)를 사용하고, 또한 로울 표면에 대한 강제 그리트의 투사에너지를 #120의 강제 그리트 사용시에는 낮게 설정하고 #240의 강데 그리트 사용시에는 높게 설정한다.

덜 로울용의 원 로울(material roll)은 SKH(JIS기호 G4403)로 제조된 것으로서 경도(Hs)가 85∼95, 직경이 100∼125mm. 그리고 중심선 평균 거칠기(Ra)가 0.1㎛ 이하인 것이 바람직하다. 그리고 이에 나온 조건에 따라 쇼트 블라스트법으로 각각의 원 로울로부터 여러개의 덜 로울을 제조한다. 여러개의 덜 로울 각각은 서로 상이한 표면 거칠기를 가지고 있는데, 각각의 표면 거칠기는 0.4∼1.5㎛의 중심선 평균 거칠기(Ra), 3∼12의 쿠르토시스(Rkr) 및 필요에 따라서는 40∼200㎛의 범위내의 평균 피이크 간격(Sm)의 범위내에서 변동하고 있다.

위에 나온 덜 로울을 최종 냉간 압연기 또는 최종 조절 압연기내에 조립하여 Fe-Ni계 합금 박판의 원판 표면상에 소정의 표면 거칠기를 부여한다. 덜 로울로 소정의 표면 거칠기를 정확하게 원판 표면에 부여하자면 원판을 덜 로울 사이로 2회 이상 통과시키며 1회 통과당 압하율(reduction ratio)을 10% 이상으로 설정한다.

덜 로울에 의한 원판에 대한 표면 거칠기의 부여시 10∼50℃의 온도 범위내에서 7∼8cst의 점도를 가진 압연유(rolling oil)를 사용하여 이 압연유를 0.1∼0.5kg/㎠ 의 범위내의 양으로 하여 가압하에 덜 로울 표면에다 공급한다. 압연유의 공급량을 위에 나온 범위내로 한정한 것은 압연유의 공급량이 0.1kg/㎠ 미만인 경우에는 원판의 표면에 소정의 표면 거칠기를 부여할 수 없고, 또한 공급량이 0.5kg/㎠ 이상인 경우에는 원판에 부여된 표면 거칠기가 불규칙하게 되기 때문이다. 덜 로울에 의한 압연 속도는 30∼200/분, 덜 로울의 하류쪽에 있어서의 원판의 장력은 15∼45kg/㎟, 덜 로울의 상류쪽에 있어서의 원판의 장력은 10∼40kg/㎟, 그리고 단위 판폭(sheet width)당 압하력(reduction force)는 0.15∼0.25톤/mm의 범위내로 각각 설정하는 것이 바람직하다.

덜 로울에 의한 압연시의 원판의 장력을 위에 나온 범위내로 설정하는 것은 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 평판도(flatness)를 증가시킬 수 있기 때문이다.

위에 나온 바와 같이 하여 소정의 표면 거칠기를 원판에 부여하는데, 소정의 표면 거칠기를 원판에 부여하기 전에 원판을 중간 소둔처리하여 원판의 경도를 저하시키거나, 소정의 표면 거칠기를 원판에 부여한 후 원판의 잔존응력을 제거하기 위해 원판에 응력제거 소둔처리를 하여도 좋다.

위에 나온 중간 소둔 처리와 응력제거 소둔의 경우에 있어서 수소농도 5∼15% 및 이슬점(dew point) -10∼-30℃의 분위기 가스를 가진 연강용(軟鋼用) 연속 소둔로 또는 수소농도 15∼100% 및 이슬점 -20∼-60℃의 분위기 가스를 가진 광휘도(光輝度) 소둔로 등을 사용한다.

본 발명을 실시예에 따라 구체적으로 설명한다.

[실시예 1]

레이들 정련(ladle refining : 取鍋精練)으로 표 1에 나와 있는 화학 성분 조성을 가지며 표 2에 나와 있는 화학성분 조성을 가진 비금속 개재물을 함유하는 A∼E의 각 합금으로 되어 있는 한개 중량이 7톤 되는 잉고트를 각각 제조하였다.

[표 1]

[표 2]

제 5 도는 합금 A∼E의 각각에 함유되어 있는 비금속 개재물의 성분 조성을 나타낸 CaO-Al₂O₃-MgO 삼원계 상태도이다.

위에 나온 잉고트의 레이들 정련에 사용된 레이들(ladle : 取鍋)은 CaO를 40wt.% 이하 함유하는 MgO-Cao계 내화물(耐火物)로 되어 있고, 사용된 용융슬랙(molten slag : 溶倖은 (CaO)/{(CaO)+(AL₂O₃)}의 비가 0.45이상이며 MgO 25wt.%이하, SiO₂15wt.% 이하 및 실리콘(Si)보다 산소 친화력이 약한 금속 산화물 3wt.% 이하를 함유하는 CaO-Al₂O₃-MgO계 슬랙이었다.

그 다음에는 위와 같이 해서 제조한 잉고트 각각을 손질하고 1200℃에서 20시간 가열하여 60%의 단면 감소율로 제 1 차 분과 압연함으로써 슬랩(slab)을 만들었다. 이어서, 이렇게 제조한 슬랩 각각을 1200℃의 온도에서 20시간 가열하여 45%의 단면 감소율로 제 2 차 분괴 압연한 후 서서히 냉각하여 최종 슬랩을 만들었다. 이렇게 하여 제조한 합금 A∼E을 각각 함유한 최종 슬랩 각각으로부터 표 3에 있는 바와 같이 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 No.1∼/No.10을 후술하는 방법에 따라 각각 제조하였다. 즉 합금 A의 슬랩으로부터는 합금 박판 No.1∼No.6을 제조하였고, 합금 B의 슬랩으로부터는 합금 박판 No.7을 제조하였으며, 합금 C의 슬랩으로부터는 합금 박판 No.8을 제조하였고, 합금 D의 슬랩으로부터는 합금 박판 No.9를, 그리고 합금 E의 슬랩으로부터는 합금 박판 No.10을 각각 제조하였다.

그런데 합금 박판 No.2를 제조한 합금 A의 최종 술랩은 위에 나온 최종 슬랩 A∼D의 제조방법과 상이한데, 잉고트를 1200℃의 온도에서 15시간 가열하여 78%의 단면감소율로 제 1 차 분괴 압연한 후 서냉(徐冷) 처리하여 제조한 것이다.

이하 합금 박판 No.1∼No.10의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다. 우선 슬랩 각각을 손질하고 슬랩표면에 산화 방지제를 도포한 후 1100℃의 온도로 가열하여 열간 압연하여 열연(熱延) 코일(hot coil)을 만들었다. 이때의 열간 압연 조건은 1,000℃ 이상의 온도에서의 합계 압하율(reduction ratio)이 82%, 850℃이상의 온도에서의 합계 합하율이 98%, 그리고 열연 코일의 권취 온도가 550∼750℃이었다.

위와 같이 하여 제조한 열연 코일 각각을 탈스케일 처리(descaling)한 다음 냉간 압연과 소둔처리를 반복해서 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 원판을 만들였다.

그 다음에는 최종 조질 압연시에, 조질 압연기내에 조립된 후술하는 바의 덜 로울을 사용하여 이와 같이 제조된 원판의 양 표면상에 표 3에 있는 바와 같은 표면 거칠기를 부여함으로써 0.25mm의 판두께를 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 No.1∼No.10을 각각 제조하였다.

이와 같이 하여 제조한 섀도우 마스크용 합금 박판 No.1∼No.10 각각에 함유된 비금속 개재물의 분포를 비금속 개재물의 화학성분 조성과 함께 합금 A∼E 각각에 대하여 표 2에 나타내었다.

표 2에서 명백한 바와 같이 합금 A∼E의 각각에 함유된 비금속 개재물은 1, 600℃ 이상의 융점을 가졌으며, 3㎛ 이하의 두께를 가진 구상 개재물이 주체이었다. 따라서 Fe-Ni계 합금 박판의 에칭 천공성에 비금속 개재물에 의하여 구멍 계면에 생기는 피트(pit) 형성이 억제되었고 에칭액중으로의 선상 개재물의 혼입에 의한 에칭액의 오염이라는 문제도 극소화 되었다.

비금속 개재물의 위와 같은 분포를 다음 방법에 따라 평가하였다. 즉 합금 박판의 압연방향을 따라 단면을 현미경으로 800배로 확대하여 시야에 들어오는 모든 비금속 개재물의 판두께 방향의 두께와 압연방향의 길이를 각각 측정하였다. 측정 단면의 면적은 합계 60㎟이었다. 그리고 구상 개재물 및 선상 개재물의 판두께 방향이 두께를 크기별로 분류하여 1㎟당의 개재물의 개수에 따라 위와 같은 분포를 평가하였다.

구상 개재물이란 것은 개재물의 길이와 두께와의 비가 3이하, 즉 (길이/두께)≤3인 것들이고, 선상 개재물이란 것은 개재물의 길이와 두께와의 비가 3이상, 즉 (길이/두께)〉3인 것들이다.

덜 로울을 다음과 같은 방법에 따라 제조하였다.

즉 SKH(JIS기호 G4403)로 제조된 것으로서 경도(Hs)가 90이고 직경이 120mm인 평활한 표면을 가진 원 로울(material roll)의 표면에 쇼트 블라스트법으로 #120(JIS기호 G120)의 입도와 400∼950의 경도(Hv)를 가진 강제 그리트(steel grit)를 투사(投射) 함으로써 각각의 원 로울로부터 중심선 평균 거칠기(Ra) 0.30∼1.20㎛이고 쿠르토시스(Rkr) 3∼12인 표면 거칠기를 가진 덜 로울을 여러개 제조하였다.

덜 로울에 의한 Fe-Ni계 합금 박판의 압연에 있어서 합금 박판의 1회 통과시의 압하량(壓下量)을 18.6%, 2회 통과시의 압하량을 12.3%, 그리고 합계 압하량을 28.6%로 각각 설정하였다.

점도가 7.5cst인 압연유를 사용하였고 압연유의 사용량은 0.4kg/㎠이었다. 덜 로울에 의한 압연속도는 100m/분이었고, 덜 로울의 하류쪽에 있어서는 합금 박판이 장력은 20kg/㎟이었으며, 덜 로울의 상류쪽에 있어서의 합금 박판의 장력은 15kg/㎟이었고, 그리고 단위 판폭당 압하력(壓下力)은 0.20톤/mm이었다.

Fe-Ni계 합금 박판의 표면 부분에 있어서의 실리콘 편석율을 EPMA(Electron Probe Micro Analyzer)에 의한 맵핑 아날라이저(mapping analyzer)로 조사하였다.

합금 박판 No.1∼No.10의 각각에 에칭 천공성에 의해 구멍을 형성하고 플래트 마스크를 제조하여 에칭 천공성에 대해 조사하였고, 또한 에칭에 의하여 형성된 구멍의 계면(界面)을 주사(走査) 전자 현미경으로 관찰하여 피트 유무를 조사하였다. 그리고 에칭액의 오염을 에칭 천공후의 에칭액중에 잔존하는 슬랙의 양에 따라 평가하였다. 또한 플래트 마스크를 30매 적층하고 900℃의 온도에서 소둔하여 플래트 마스크의 소부 발생 상황을 조사하였다. 이들 결과는 표 3에 나와 있다.

[표 3]

표 3에서 중심선 평균 거칠기(Ra)의 평가는 Ra(L) 및 Ra(C)의 두가지가 본 발명의 범위를 만족하는지의 여부에 따라 실시하였다. 쿠르토시스(Rkr) 및 후술하는 평균 피이크 간격(Sm)의 값의 평가에 있어서도 마찬가지로 하였다. 표 3에서 (L)은 압연방향에 있어서의 측정치이고, (C)는 압연방향과 직교하는 방향에 있어서의 측정치이다. "(Ra)+1/5(Rkr)-0.6"의 계산에 있어서 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값과 쿠르토시스(Rkr)의 값으로서는 위에 나온 (L)에 있어서의 측정치와 위에 나온(C)에 있어서의 측정치중 작은쪽의 값을 채용하였다. 이들은 다음에 나오는 모든 실시예에 대해서도 마찬가지로 하였다.

표 3의 "에칭 천공성"의 란에서 "◎"표는 에칭 천공에 의하여 형성된 구멍의 지름과 형상에 불규칙성이 전혀 발생하지 않고 에칭 천공성이 극히 우수한 것을 나타내고, "○"표는 에칭에 이해 형성된 구멍의 지름과 형상에 약간 정도의 불규칙성이 발생하였으나 실용상 문제가 없는 에칭 천공성이 우수한 것을 나타내며, "△"표는 구멍지름과 구멍형성에 불규칙성이 발생한 것을 나타내고, 그리고 "×"표는 구멍지름과 구멍형상에 현저한 불규칙성이 발생한 것을 각각 나타낸다.

이 평가는 다음에 나오는 모든 실시예에 대해서도 마찬가지이다.

표 3의 플래트 마스크의 "소둔시의 소부의 유무"의 란에 있어서 "○"표는 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않은 것을 나타내고, "△"표는 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생한 것을 나타내며, "×"표는 플래트 마스크의 전체 표면에 소부가 발생한 것을 각각 나타낸다. 이 평가는 다음에 나오는 모든 실시예에 대해서도 마찬가지이다.

표 3에서 명백한 바와같이 합금 박판 No.1, No.7 및 No.10은 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기가 어느것이나 본 발명의 범위내에 있다.

따라서 이들 합금 박판 No.1, NO.7 및 No.10은 어느것이나 에칭 천공성이 우수하고 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크에 소부가 발생하여 있지 않다.

여기에 반해서 합금 박판 No.2, No.8 및 No.9에서는 표면 거칠기는 본 발명의 범위내에 있으나 합금박판 No.2는 실리콘 편석율이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타내고, 합금박판 No.8은 실리콘 함량이 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값을 나타내며, 합금 박판 No.9는 실리콘 함량이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타낸다.

따라서 합금 박판 No.2는 에칭 천공성이 다소 불량하고 더욱이 프래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있고, 합금 박판 No.8은 에칭 천공성이 우수하나 플래트 마스크 전체 표면에 소부가 발생하며, 합금 박판 No.9는 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않으나 에칭 천공성이 불량하다.

합금 박판 No. 3, 4, 5 및 6에 있어서 실리콘 함량 및 실리콘 편석율은 어느것이나 본 발명의 범위에 있으나 합금 박판 No. 3은 중심선 평균거칠기(Ra)가 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타내고, 합금 박판 No.4는 "(Ra)+1/15(Rkr)-0.6"의 값이 본 발명의 범위밖에 있고, 합금 박판 No.5은 쿠르토시스(Rkr)가 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값을 나타내고, 그리고 합금 박판 No. 6은 쿠르토시스(Rkr)가 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타낸다.

따라서 합금 박판 No. 3은 플래트 마스크에 소부는 발생하지 않고 있으나 에칭 천공성이 불량하고, 합금 박판 No. 4 및 No. 5는 모두 에칭성 천공성이 우수하나 플래트 마스크 전체 표면에 소부가 발생하며, 그리고 합금 박판 No. 6은 에칭 천공성이 다소 불량하고 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

이와같이 에칭 천공성이 우수하고 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크의 소부가 발생하지 않는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 제조하자면 실리콘 함량, 실리콘 편석율, 중심선 평균 거칠기(Ra), 쿠르토시스(Rkr) 및 "(Ra)+1/15(Rkr)-0.6"의 값을 본 발명의 범위내로 한정한 필요가 있다.

[실시예 2]

실시에 1에서 합금 박판 No. 1, No. 7 및 No. 10을 제조한 각각의 열연 코일을 제조하여 이것을 사용해서 실시에 1에서와 마찬가지로 냉간 압연과 소둔을 반복해서 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 원판을 제조하였다. 최종 조질 압연시에, 조질 압연기내에 조립한 후술하는 덜 로울을 사용하여 원판의 표면에 표 4에 나와 있는 표면 거칠기를 부여함으호써 0.25mm의 판 두께를 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 No. 11∼No. 22의 각각을 제조하였다. 즉 합금 박판 No. 1용의 열연 코일로부터는 합금 박판 No. 11∼No. 15를, 합금 박판 No. 7용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No. 16∼No. 21을 그리고 합금 박판 No. 10용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No. 22를 각각 제조하였다.

덜 로울은 서로 사잉한 표면 거칠기 값을 가지고 있었는데, 표면 거칠기는 중심선 평균 거칠기(Ra)가 0.45∼1.00㎛이었고, 쿠르토시스(Rkr)가 3∼12이었다.

덜 로울의 제조 조건과 덜 로울에 의한 Fe-Ni계 합금 박판용 원판의 압연조건은 실시예 1에서와 동일하였다.

합금박판 No. 11∼No. 22의 각각의 실리콘 편석율을 실시예 1에서와 동일한 방법으로 조사한 결과 어느것이나 4∼7%의 범위내로 있었다. 이어서 합금 박판 No. 11∼No. 22의 각각에 에칭 천공에 의하여 구멍을 형성하여 플래트 마스크를 제조하고 실시예 1에서와 동일한 방법으로 에칭 천공성에 대하여 조사하였다. 그리고 플래트 마스크를 50매 적층하여 표 4에 나타나 있는 온도에서 소둔하에 플래트 마스크의 소부 발생 상황을 조사하였다. 이들 결과는 표 4에 나와 있다.

[표 4]

표 4에서 명백한 바와같이 합금 박판 No.11 및 No.22는 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기가 어느것이나 본 발명의 범위내에 있고, 더욱이 합금 박판 No.11의 황 함량은 0.0005wt.%이었으며 합금 박판 No.22의 황 함량은 0.006wt.%이었다.

따라서 이들 합금 박판 No.11 및 No.22는 에칭 천공성이 우수하고 950℃의 소둔온도에서도 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않고 있다.

여기에 반하여 합금 박판 No.21은 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면거칠기가 어느것이나 본 발명의 범위내에 있으나 황 함량이 0.0025wt.%이고, 합금 박판 No.11 및 No.22의 황 함량에 비하여 많다. 따러서 합금 박판 No.21은 에칭 천공성이 우수하기는 하나 950℃의 소둔 온도에서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

이러한 사실은 실리콘, 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기가 본 발명의 범위내에 있다 하더라도 고온에서 플래트 마스크를 소둔할 경우에는 황 함량을 감소기킴으로써 플래트 마스크의 소부를 방지할 수 있다는 것을 뜻한다.

두방향에서의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)가 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타내는 반면 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있는 합금박판 No.15는 에칭 천공성이 우수하고 900℃의 소둔온도에서 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않고 있다.

이것에 대하여 합금 박판 No. 15와 마찬가지의 두 방향에서의 중심선 평균거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)를 가진 합금 박판 No.14는 에칭 천공성이 우수하기는 하나 합금 박판 No.15의 소둔온도보다 높은 950℃의 온도에서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

두 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값이 본 발명의 범위를 벗어나 큰 값을 나타내고 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있는 합금박판 No.12는 에칭 천공성이 우수하나 소둔온도가 950℃의 고온이기 때문에 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

두 방향에 있어서의 쿠르토시스(Rkr)의 값이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타내고 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있는 합금박판 No.13은 에칭 천공성이 우수하나 합금 박판 No.12와 마찬가지로 소둔온도가 950℃의 고온이기 때문에 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

따라서 고온에서 플래트 마스크를 소둔할 경우에는 두방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)의 값을 각각 본 발명의 범위내로 한정할 필요가 있다.

합금 박판 No.16과 No.17에서의 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)이 각각의 열연 코일을 사용하여 실시예 1에서와 마찬가지로 냉간 압연과 소둔을 반복하여 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 원판을 제조하였다. 이어서 최종 조질 압연시에, 조질 압연기내에 조립한 후술하는 덜 로울을 사용하여 원판 표면에 표 5에 나와 있는 바와같은 표면 거칠기를 부여함으로써 0.25mm의 판두께를 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 No.3∼No.35의 각각을 제조하였다.

즉 합금 박판 No.1용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.23 및 No.25∼No.31을 합금 박판 No.2용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.24를 합금 박판 No.7용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.32를, 합금 박판 No.8용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.3을, 합금 박판 No.9용의 열연 코일로부터는 합금 박판 No.34를, 그리고 합금 박판 No.10용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.35를 각각 제조하였다.

덜 로울은 서로 상이한 표면 거칠기 값을 가지고 있었는데, 표면 거칠기는 중심선 평균 거칠기(Ra)가 0.30∼1.20㎛이었고, 쿠르토시스(Rkr)가 3∼12, 그리고 단면곡선의 평균 피이크 간격(Sm)이 30∼210㎛이었다.

덜 로울의 제조조건과 덜 로울에 의한 Fe-Ni계 합금 박판용 원판의 압연 조건은 실시예 1에서와 동일하였다.

합금 박판 No.23∼No.35의 각각의 실리콘 편석율을 실시예 1에서와 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값을 가지나 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있다.

합금 박판 No.16의 소둔온도는 850℃로서 플래트 마스크의 소부가 발생하지 않고 있는 반면, 합금 박판 No.17의 소둔온도는 900℃로서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

합금 박판 No. 18과 No.19에서는 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지나 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있다. 합금 박판 No.18의 소둔온도는 850℃로서 플래트 마스크의 소부가 발생하지 않고 있는 반면, 합금 박판 No.19의 소둔온도는 900℃로서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

여기에 대하여 합금 박판 No.22은 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)을 비롯한 모든 조건이 본 발명의 범위내에 있으므로 소둔온도가 900℃라하더라도 플래트 마스크의 소부가 발생하지 않고 있다.

이상과 같이 황 함량이 동일하다 하더라도 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)을 본 발명의 범위내로 유지함으로써 플래트 마스크의 소부가 생기지 아니하는 임계 소둔 온도를 상승시킬 수가 있다.

[실시예 3]

실시예 1에서 합금 박판 No.1, No.2 및 No. 7 내지 No.10을 제조한 마찬가지 방법으로 조사하였다. 이어서 합금 박판 No.23∼No.35의 각각에 에칭 천공에 의하여 구멍을 형성하여 플래트 마스크를 제조하고 실시예 1에서와 마찬가지 방법에 따라 에칭 천공성을 조사하였다. 그리고 플래트 마스크를 30매 적층하고 900℃의 온도에서 소둔하여 플래트 마스크의 소부발생을 조사하였다. 그 결과는 표 5에 나와 있다.

[표 5]

표 5로부터 명백한 바와같이 합금 박판 No.23, No.31, No.32는 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기가 어느것이나 본 발명의 범위내에 있다.

따라서 이들 합금 박판 No.23, No.31, No.32 및 No.35는 어느것이나 에칭천공성이 우수하고 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않고 있다. 특히 합금 박판 No.31, No.32 및 No.35는 두 방향에 있어서의 단면곡선의 평균 피이크 간격(Sm)의 값이 본 발명의 범위내에 있기 때문에 에칭 천공성이 현저하게 우수하다.

여기에 반하여 합금 박판 No.24, No.33 및 No.34에서는 표면 거칠기가 본 발명의 범위내에 있으나, 합금 박판 No.24는 실리콘 편석율이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타내고, 합금 박판 No.33은 실리콘 함량이 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값을 가지며, 합금 박판 No.34는 실리콘 함량이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지고 있다.

따라서 합금 박판 No.24는 에칭 천공성이 약간 불량하고 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 생기며, 합금 박판 No.33은 에칭 천공성이 현저히 우수하나 플래트 마스크 전체 표면에 소부가 생기고, 합금 박판 No.34는 플래트 마스크에 소부가 생기지 않으나 에칭 천공성이 극히 불량하다.

합금 박판 No.25∼No.28에서는 실리콘 함량 및 실리콘 편석율은 본 발명의 범위내에 있으나, 합금 박판 No.25는 중심선 평균 거칠기(Ra)가 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지고, 합금 박판 No.26은 "(Ra)+1/15(Rkr)-0.6"의 값이 본 발명의 범위밖에 있으며, 합금 박판 No.27은 구르토시스(Rkr)가 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값을 나타내고, 합금 박판 No.28은 쿠르토시스(Rkr)가 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가진다.

따라서 합금 박판 No.25는 플래트 마스크에 소부는 생기지 않고 있으나 에칭 천공성이 불량하고, 합금 박판 No.26과 No.27는 모두 에칭 천공성이 극히 우수하나 플래트 마스크 전체 표면에 소부가 생기고 합금 박판 No.28은 에칭 천공성이 약간 불량하고 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 생겨 있다.

합금 박판 No.29는 표면 거칠기의 값이 본 발명의 범위내에 있으나 단면곡선의 평균 피이크 간격(Sm)이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 나타내므로 플래트 마스크에 소부는 생기고 있지 않지만 에칭 천공성이 약간 불량하다.

합금 박판 No.30은 표면 거칠기의 값이 본 발명의 범위내에 있으나 단면곡선의 평균 피이크 간격(Sm)이 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값이므로 에칭 천공성이 우수하지만 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 생겨 있다.

이와 같이 에칭 천공성이 극히 우수하고 플래트 마스크 소둔시에 플래트 마스크의 소부가 발생하지 않는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 제조하자면 실리콘 함량, 실리콘 편석율, 중심선 평균 거칠기(Ra), 쿠르토시스(Rkr), "(Ra)+1/15(Rkr)-0.6"의 값 및 두 방향에서의 단면곡선의 평균 피이크 간격(Sm)의 값을 본 발명의 범위내로 한정할 필요가 있다.

[실시예 4]

실시에 1에서 합금 박판 No.1, No.7 및 No.10을 제조한 각각의 열연 코일을 사용하여 실시예 1에서와 마찬가지로 냉간 압연과 소둔을 반복하여 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 원판을 제조하였다. 이어서 최종 조질 압연시에, 조질 압연기내에 조립된 후술하는 바의 더 로울을 사용하여 원판 표면에 표 6에 나와 있는 표면 거칠기를 부여함으로써 0.25mm의 판두께를 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판 No.36∼No.47의 각각을 제조하였다.

즉, 합금 박판 No.1용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.36∼No.40을, 합금 박판 No.7용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.41∼No.46을, 그리고 합금 박판 No.10용의 열연 코일로 부터는 합금 박판 No.47을 각각 제조하였다.

덜 로울은 서로 상이한 표면 거칠기 값을 가지고 있었는데, 표면 거칠기는 0.45∼1.00㎛의 중심선 평균 거칠기(Ra), 3∼12의 쿠르토시스(Rkr) 및 40∼200㎛의 단면곡선의 평균 피이크 간격(Sm)을 가지고 있었다. 덜 로울의 제조 조건과 덜 로울에 의한 Fe-Ni계 합금 박판용 원판의 압연조건은 실시예 1에서와 동일하였다.

합금 박판 No.36∼No.47의 실리콘 편석율을 실시예 1에서와 마찬가지 방법으로 조사한 결과 어느것이나 4∼7%의 범위내에 있었다. 그리고 합금 박판 No.36∼No.47의 각각에 에칭에 의하여 구멍을 형성하여 플래트 마스크를 제조하여 실시예 1에서와 마찬가지 방법으로 에칭천공성을 대하여 조사하였다. 그리고 플래트 마스크를 50매 적층하여 표 6에 나와 있는 온도에서 소둔하여 플래트 마스크의 소부 발생상황을 조사하였다. 그 결과는 표 6에 나와 있다.

[표 6]

표 6으로부터 명백한 바와 같이 합금 박판 No.36 및 No.47은 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기가 어느것이나 본 발명의 범위내에 있고, 더욱이 합금 박판 No.36의 황 함량은 0.0005wt.%이었으며 합금 박판 No.47의 황 함량은 0.0006wt.%이었다.

따라서 이들 합금 박판 No.36과 No.47은 에칭 천공성이 극히 우수하고 950℃의 소둔온도에서도 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않고 있다.

여기에 대하여 합금 박판 No.46은 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기는 어느것이나 본 발명의 범위내에 있으나 황 함량이 0.0025wt.%이고, 합금 박판 No.36과 No.47의 황 함량에 비하여 많다. 따라서 합금 박판 No.46은 에칭 천공성이 극히 우수하기는 하나 950℃의 소둔온도에서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

이와 같은 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기가 본 발명이 범위 내에 있다 하더라도 고온에서 플래트 마스크를 소둔할 경우에는 황 함량을 감소시킴으로써 플래트 마스크의 소부를 방지할 수 있다.

두 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)가 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지며 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있는 합금 박판 No.40은 에칭 천공성이 극히 우수하고 900℃의 소둔온도에서도 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않고 있다.

여기에 대하여 합금 박판 No.40과 유사한 두 방향에서 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)를 가진 합금 박판 No.39는 에칭 천공성이 극히 우수하나 합금 박판 No.40의 소둔온도보다 높은 950℃의 온도에서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생해 있다. 두 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기(Ra)의 값이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지고, 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있는 합금 박판 No.37은 에칭 천공성이 극히 우수하나 소둔온도가 950℃의 고온이기 때문에 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

두 방향에 있어서의 쿠르토시스(Rkr)의 값이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지고, 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있는 합금 박판 No.38은 에칭 천공성이 극히 우수하나, 합금 박판 No.37과 마찬가지로 소둔온도가 950℃의 고온이기 때문에 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

따라서 고온에서 플래트 마스크를 소둔할 경우에는 두 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기(Ra)와 쿠르토시스(Rkr)를 본 발명의 범위내로 한정할 필요가 있다.

합금 박판 No.41과 No.42에서는 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)이 본 발명의 범위를 벗어나서 작은 값을 가지고, 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있다.

합금 박판 No.41의 소둔온도는 850℃로서 플래트 마스크에 소부가 발생하여 있지 않은 반면, 합금 박판 No.42의 소둔온도는 900℃로서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

합금 박판 No.43과 NO.44에서는 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)이 본 발명의 범위를 벗어나서 큰 값을 가지고 기타 조건은 본 발명의 범위내에 있다. 합금 박판 No.43의 소둔온도는 850℃로서 플래트 마스크에 소부가 발생하지 않은 반면, 합금 박판 No.42의 소둔온도는 900℃로서 플래트 마스크 표면 일부에 소부가 발생하여 있다.

여기에 대하여 합금 박판 No.45는 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)을 비롯하여 모든 조건이 본 발명의 범위내에 있기 때문에 소둔온도가 900℃라 하더라도 플래트 마스크에 소부는 발생하지 않고 있다.

이와 같이 황 함량이 동일하다 하더라도 거칠기 곡선의 평균 경사각(Rθa)을 본 발명의 범위내로 유지함으로써 플래트 마스크의 소부가 생기지 않는 임계 소둔온도를 높일 수가 있다.

이상 상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 실리콘 함량, 실리콘 편석율 및 표면 거칠기를 적정 범위내로 한정함으로써 에칭 천공성이 우수하고 소둔시의 소부를 확실히 방지할 수 있는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판을 제조할 수 있으므로 유용한 효과를 발휘하게 된다.

Claims

본질적으로 아래와 같은 성분 조성과 실리콘(Si) 편석율 및 표면거칠기를 가진 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판.

가) 니켈 : 34∼38wt.%, 실리콘 : 0.01∼0.15wt.%, 망간 : 0.01∼1.00wt%, 나머지 : 철 및 불가피한 불순물

나) 합금 박판의 표면 부분의 아래식으로 나타내어지는 실리콘(Si) 편석율은 10% 이하이고,

다) 그리고 합금 박판의 표면거칠기는 아래식(1) 내지 (3) 전부를 만족하고 있다.

0.3㎛Ra0.8㎛ ………………………………… (1)

단, Ra : 중심선 평균 거칠기

3Rkr7 ……………………………………… (2)

단 Rkr : 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서 첨예도 지수인 쿠르토시스
제 1 항에 있어서, 합금 박판의 표면거칠기가 아래식(4) 내지 (7)중에서 적어도 하나를 만족하는 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판.

70㎛Sm160㎛ ………………………………… (4)

단, Sm : 단면곡선의 평균 피이크 간격

｜Ra(L)-Ra(C)｜≤0.1㎛

｜Rkr(L)-Rkr(C)｜≤0.5 ………………………… (5)

단, Ra(L) : 합금 박판의 압연방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Ra(C) : 합금 박판의 압연 방향과 직교하는 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Rkr(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 쿠르토시스, Rkr(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 쿠르토시스.

70㎛Sm160㎛

｜Ra(L)-Ra(C)｜≤0.1㎛ …………………………… (6)

｜Rkr(L)-Rkr(C)｜≤0.5

｜Sm(L)-Sm(C)｜≤5.0㎛

단, Sm : 단면 곡선의 평균 피이크 간격, Ra(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Ra(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Rkr(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 쿠르토시스, Rkr(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 쿠르토시스, Sm(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 평균 피이크 간격, Sm(C) : 합금 박판의 압연 방향과 직교하는 방향에 있어서의 평균 피이크 간격.

0.3라디안≤Rθa≤0.05라디안 …………………… (7)

단 Rθa : 거칠기 곡선의 평균 경사각.
하기 단계로 된 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 제조 방법.

가) 본질적으로 아래의 성분 조성으로 되어 있는 Fe-Ni계 합금 박판을 준비하고, 니켈 : 34∼38wt.%, 실리콘 : 0.01∼0.15wt.%, 망간 : 0.01∼1.00wt%, 나머지 : 철 및 불가피한 불순물.

나) 상기 합금 박판의 준비에 있어서, 상기 합금 박판 표면부분의 아래식으로 나타내어지는 실리콘(Si) 편석율을 100% 이하로 조절하고,

다) 그리고 상기 합금 박판의 준비를 위한 최종 압연에 있어서 한쌍의 덜 로울(dull roll)로 합금 박판의 양 표면상에 아래식(1) 내지 (3)의 모두를 만족하는 표면 거칠기를 부여한다.

0.3㎛dRa0.8㎛ ……………………………… (1)

단, Ra : 중심선 평균 거칠기

3Rkr7 …………………………………… (2)

단 Rkr : 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서 첨예도 지수인 쿠르토시스.
하기 단계로 된 섀도우 마스크용 Fe-Ni계 합금 박판의 제조 방법.

가) 본질적으로 아래의 성분 조성으로 되어 있는 Fe-Ni계 합금 박판을 준비하고, 니켈 : 34∼38wt.%, 실리콘 : 0.01∼0.15wt.%, 망간 : 0.01∼1.00wt%, 나머지 : 철 및 불가피한 불순물.

나) 상기 합금 박판의 준비에 있어서, 상기 합금 박판 표면 부분의 아래식으로 나타내어지는 실리콘(Si) 편석율을 100% 이하로 조절하고,

다) 그리고 상기 합금 박판의 준비를 위한 최종 압연에 있어서 한쌍의 덜 로울(dull roll)로 합금 박판의 양 표면상에 아래식(1) 내지 (3)의 모두를 만족하고,

0.3㎛dRa0.8㎛ ……………………………… (1)

단, Ra : 중심선 평균 거칠기

3Rkr7 …………………………………… (2)

단, Rkr : 거칠기 곡선의 높이 방향에 있어서 첨예도 지수인 쿠르토시스,

또한 아래식(4) 내지 (7)중의 적어도 하나를 만족하는 표면 거칠기를 부여한다.

70㎛Sm160㎛ ……………………………… (4)

단, Sm : 단면곡선의 평균 피이크 간격

｜Ra(L)-Ra(C)｜≤0.1㎛

｜Rkr(L)-Rkr(C)｜≤0.5 ……………………… (5)

단, Ra(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Ra(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Rkr(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 쿠르토시스, Rkr(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 쿠르토시스.

70㎛Sm160㎛

｜Ra(L)-Ra(C)｜≤0.1㎛ ……………………… (6)

｜Rkr(L)-Rkr(C)｜≤0.5

｜Sm(L)-Sm(C)｜≤5.0㎛

단, Sm : 단면 곡선의 평균 피이크 간격, Ra(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Ra(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 중심선 평균 거칠기, Rkr(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 쿠르토시스, Rkr(C) : 합금 박판의 압연 방향에 직교하는 방향에 있어서의 쿠르토시스, Sm(L) : 합금 박판의 압연 방향에 있어서의 평균 피이크 간격, Sm(C) : 합금 박판의 압연 방향과 직교하는 방향에 있어서의 평균 피이크 간격

0.3라디안≤Rθa≤0.05라디안 …………………… (7)

단 Rθa : 거칠기 곡선의 평균 경사각.
제 3 항에 있어서, 최종 압연은 냉간 압연인 제조 방법.
제 3 항에 있어서, 최종 압연은 조질 압연인 제조 방법.
제 4 항에 있어서, 최종 압연은 냉간 압연인 제조 방법.
제 4 항에 있어서, 최종 압연은 조질 압연인 제조 방법.