JP3348565B2 - 脱脂性に優れた電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板ならびにＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラー受像管用等のシ
ャドウマスク、ＩＣリードフレーム等の各種電子部品の
機能材料として用いられるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板および
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ｎｉを２６〜５２％含むＦｅ−Ｎｉ系合
金およびＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金は室温から３００℃に
わたる温度域で低い熱膨張係数を示し、これらの合金か
らなる薄板は、カラー受像管用等のシャドウマスク、Ｉ
Ｃリードフレーム等の各種電子部品の機能材料として広
く用いられる。

【０００３】以下に、シャドウマスクを例に取って説明
する。シャドウマスク用素材の合金薄板は所定の板厚に
加工された後、脱脂後、レジストを両面に塗布した後、
パターンを焼付け、現像後、塩化第二鉄を主体とするエ
ッチング液を用いてエッチング穿孔、レジストを除去し
た後、個々に切断してフラットマスクにする。フラット
マスクは、成形性を向上するために非酸化性雰囲気中で
焼鈍され、次いでレベラー加工後プレス成形されてマス
ク形状に成形される。さらに、脱脂後、水蒸気または燃
焼ガス雰囲気中で黒化処理が施されて表面に黒色酸化膜
が形成され、シャドウマスクが作製される。

【０００４】近年、コンピュータのディスプレィ装置等
への用途拡大と相まって、ディスプレイ画像のきめの細
かさに対する要求が一段と高まっている。そのために、
エッチング穿孔により形成される孔をさらに高密度で微
細にした孔径ピッチが３００μｍ以下の高精細マスクが
要求されている。高精細マスクの場合、エッチング穿孔
により形成される細孔の径や形状のバラツキがあると画
像のきめの細かさに影響するので、これらのエッチング
むらを改善する技術が提案されている。

【０００５】例えば、特開平１−５６８２４号公報に
は、レジストの密着性のバラツキによりエッチング穿孔
により形成される細孔の径や形状にバラツキが生じるこ
とに着目して、シャドウマスク素材の製造に際して、最
終冷間圧延工程で、レーザ加工により表面ダル加工を施
した圧延ロールを用いて、素材の表面粗さＲａ（中心線
平均粗さ）を０．２〜１．０μｍ、ＲＳｍ（基準長さ内
における表面粗さを示す粗さ曲線の凹凸の間隔の平均
値）を１００μｍ以下にして、レジストの密着力を適切
な範囲にすることによりエッチングむらを改善する技術
が提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記の技術に
よるものは、レーザ加工による特別なロールを用いるこ
とが必要であり、そのための新たな設備が必要となり、
コスト上昇を招くという弊害がある。このため、新たな
装置を必要とすることなく、エッチングむらの少ない電
子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板ならびにＦｅ−Ｎｉ−Ｃ
ｏ系合金薄板を安価に得ることができる技術が望まれて
いた。

【０００７】本発明はかかる事情を考慮してなされたも
のであり、新たな設備を必要とすることなく、エッチン
グむらの少ない電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板ならびに
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板の製造方法を提供すること
を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記したよう
な実情に鑑み、検討を重ねて創案されたものであって、
その要旨とする構成は、以下のとおりである。

【０００９】

【００１０】

【００１１】

【００１２】

【００１３】（１）重量％で、Ｎｉ：２６〜５２％、Ｓ
ｎ：０．１％以下を含有するＦｅ−Ｎｉ系合金薄板を、
１回ないし２回以上、冷間圧延、焼鈍をくりかえした
後、仕上げ圧延、応力除去焼鈍してＦｅ−Ｎｉ系合金薄
板を製造するにあたり、前記仕上げ圧延をダルロールを
用いて圧延率１５〜８０％で圧延し、その表面粗さをＲ
Ｓｍ：４０〜２００μｍ、Ｒｓｋ：０．３〜１．５と
し、前記応力除去焼鈍を、Ｈ₂ １ｖｏｌ％以上、Ｏ₂
０．０２ｖｏｌ％以下、残部実質的に不活性ガスからな
り、露点が−１０〜−６０℃の雰囲気で、昇温速度３〜
５０℃／秒で昇温し、焼鈍温度４５０〜６９０℃で焼鈍
後、冷却速度３〜１５０℃／秒で冷却を行い、その表面
に厚さ１０〜２００Åの酸化膜を形成し、水滴接触角法
による表面の接触角を４０〜９０°とする脱脂性に優れ
た電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板の製造方法。

【００１４】（２）重量％で、Ｎｉ：２６〜５２％、Ｃ
ｏ：１〜２０％、Ｓｎ：０．１％以下を含有するＦｅ−
Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板を、１回ないし２回以上、冷間圧
延、焼鈍をくりかえした後、仕上げ圧延、応力除去焼鈍
してＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板を製造するにあたり、
前記仕上げ圧延をダルロールを用いて圧延率１５〜８０
％で圧延し、その表面粗さをＲＳｍ：４０〜２００μ
ｍ、Ｒｓｋ：０．３〜１．５とし、前記応力除去焼鈍
を、Ｈ₂ １ｖｏｌ％以上、Ｏ₂ ０．０２ｖｏｌ％以下、
残部実質的に不活性ガスからなり、露点が−１０〜−６
０℃の雰囲気で、昇温速度３〜５０℃／秒で昇温し、焼
鈍温度４５０〜６９０℃で焼鈍後、冷却速度３〜１５０
℃／秒で冷却を行い、その表面に厚さ１０〜２００Åの
酸化膜を形成し、水滴接触角法による表面の接触角を４
０〜９０°とする脱脂性に優れた電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ
−Ｃｏ系合金薄板の製造方法。

【００１５】

【作用】本発明者等は、前記した観点から安価なＦｅ−
Ｎｉ系合金薄板およびＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板（以
下、Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板等という）を開発すべく、鋭
意研究を重ねた結果、以下の知見を得たことに基づくも
のである。

【００１６】（１）エッチングむらにはエッチング穿孔
に先立って塗布されるレジストの膜厚のバラツキに起因
するものがあり、このバラツキがレジスト塗布前の合金
薄板の脱脂の程度を表す水滴接触角法による接触角の測
定値と密接に関係していること。

【００１７】（２）Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板等の化学成
分、表面粗さ、Ｆｅリッチな酸化膜の厚さを適正な範囲
に規定することにより、優れた脱脂性の表面となり、レ
ジスト膜厚のバラツキを少なくできること。さらに、
（３）前記合金薄板の製造方法として、特定の成分組成
を持つＦｅ−Ｎｉ系合金帯板等について、冷延、焼鈍を
１回ないし２回以上繰返した後、仕上げ圧延、応力除去
焼鈍して合金薄板を製造するに当たり、仕上げ圧延の圧
延率、応力除去焼鈍の雰囲気の組成と露点、焼鈍温度、
昇温速度、冷却速度を所定の範囲に規定することによ
り、優れた脱脂性のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板等を得ること
ができること。

【００１８】以下に、本発明の限定理由について説明す
る。Ｎｉは、本発明の合金薄板を低熱膨張とするための
重要な成分元素である。シャドウマスク用材料の場合、
色ずれを防止するために要求される３０〜１００℃の温
度域における平均熱膨張係数の上限は３．０×１０^-6／
℃である。この平均熱膨張係数の条件を満たすＮｉ量は
Ｆｅ−Ｎｉ系合金の場合、３０〜３８％の範囲である。
従って、シャドウマスク用材料の場合、Ｎｉ量は３０〜
３８％の範囲に限定すべきである。なお、このようなＮ
ｉ量の範囲内でも、平均熱膨張係数を低下させうるより
好ましいＮｉ量は３５〜３７％である。

【００１９】なお、Ｃｏを１％未満の範囲内で含有する
場合でも上記した平均熱膨張係数の上限を満足するＮｉ
量は３０〜３８％であり、平均熱膨張係数を低下させる
好ましいＮｉ量は３５〜３７％である。

【００２０】また、１〜８％のＣｏを含有するＦｅ−Ｎ
ｉ−Ｃｏ系合金の場合、上述した平均熱膨張係数の条件
を満たすＮｉ量は２６〜３８％であり、Ｎｉ量が３０〜
３３％、Ｃｏ量が３〜８％の場合、平均熱膨張係数は更
に低く優れたものとなる。

【００２１】また、ＩＣリードフレーム用材料の場合、
半導体素子、ガラスおよびセラミックス等との熱膨張の
整合性を保つ必要があり、そのためには、Ｎｉ量を３８
％以上、５２％以下とする必要がある。従って、ＩＣリ
ードフレーム用材料の場合、Ｎｉ量は３８％以上、５２
％以下の範囲に限定すべきである。このようなＮｉ量の
範囲内で、半導体素子、ガラスおよびセラミックス等の
熱膨張係数に応じてＮｉ量は適切に選択される。

【００２２】なお、Ｃｏを１％未満の範囲内で含有する
場合、ＩＣリードフレーム用としての熱膨張の整合性を
保つためのＮｉ量は３８〜５２％である。また、ＩＣリ
ードフレーム用材料としてはＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金も
本発明の対象としているが、この場合、Ｃｏ量は１〜２
０％、Ｎｉ量は２６〜３８％であれば、ＩＣリードフレ
ーム用としての熱膨張の整合性を保つことができる。

【００２３】さて、上記した化学成分のＦｅ−Ｎｉ系合
金薄板等において、レジスト塗布前の合金薄板の脱脂性
を適切にすることにより、レジスト膜厚のバラツキを少
なくすることができる。

【００２４】レジスト膜厚のバラツキを少なくするに
は、水滴接触角法により測定される接触角を４０〜９０
°にする必要がある。接触角が４０°未満では脱脂後の
水きり性が悪く、水分の軽度の残存によりレジストの塗
布状態が不均一になる。接触角が９０°を超えると、脱
脂の均一性が劣るため、油脂分等の局部的な残存によ
り、レジストの塗布状態が不均一になる。

【００２５】接触角を前記した範囲にするためには、合
金薄板の表面粗さ（Ｒｓｋ、ＲＳｍ）の適正化、Ｆｅリ
ッチな酸化膜の形成および合金中のＳｎ含有量の適正化
が必要である。

【００２６】合金薄板表面の表面粗さは、Ｒｓｋ（粗さ
曲線の高さ方向の片寄り比率）を０．３〜１．３、ＲＳ
ｍ（基準長さ内における表面粗さを示す粗さ曲線の凹凸
の間隔の平均値）を４０〜２００μｍにする必要があ
る。Ｒｓｋが０．３未満、ＲＳｍが２００μｍを超える
と脱脂の均一性が悪くなる。一方、Ｒｓｋが１．３超
え、ＲＳｍが４０μｍ未満では、脱脂の水きり性が悪く
なる。

【００２７】本発明においては、上記したような表面粗
度の規定に加え、厚さ１０〜２００ÅのＦｅリッチな酸
化膜の形成が必要である。この酸化膜の厚さが１０Å未
満では、脱脂の水きり性が劣り、また、２００Åを超え
ると、脱脂の均一性が得られない。酸化膜の厚さが１０
〜２００Åの場合、後述するＳｎの添加とも相まって本
発明で意図する水きり性に優れた脱脂性が得られる。

【００２８】脱脂の均一性の向上のために。上記したＦ
ｅリッチな酸化膜厚さの適正化に加え、合金中のＳｎ量
の規定が有効である。Ｓｎは本合金にあっては、鉄源の
スクラップ等から混入する不純物元素であるが、Ｓｎ量
が０．１％を超えると、本合金で要求される脱脂の均一
性が低下するため好ましくないため、その上限を０．１
％とする。Ｓｎは合金薄板の製造工程中では、酸化物を
生成しないため、酸化膜と合金下地の界面に濃縮し、Ｆ
ｅリッチな酸化膜の形成を促進する。

【００２９】なお、本合金薄板において、前記したＮ
ｉ、Ｃｏ、Ｓｎ以外の成分組成は、優れた加工性を確保
するため、Ｃ：０．０６ｗｔ％以下、Ｏ：０．００５ｗ
ｔ％以下、Ｓ：０．００３ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗ
ｔ％以下、Ｎ：０．００３ｗｔ％以下、Ｈ：３．０ｐｐ
ｍ以下であることが好ましい。さらに、Ｍｎ：０．５０
ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．００１〜０．２５ｗｔ％、Ｂ：
０．０００５ｗｔ％以下とすることが望ましい。

【００３０】Ｍｎは高い黒色度を有する黒化膜の形成の
ためには有害な元素であり低減するこが好ましい。Ｍｎ
量が０．５０ｗｔ％を超えるとＭｎを含むスピネル酸化
物が形成され、黒色度の優れた黒化膜が形成されにくい
ため、０．５０ｗｔ％上限とする。なお、このＭｎ量は
０．５０ｗｔ％以下で低ければ低いほど黒色度は高ま
り、熱輻射率も高くすることができる。

【００３１】また、Ｓｉはシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ
系合金薄板によって作られたフラットマスクの焼鈍時に
おいて焼付防止に有効なＳｉを主体とする酸化膜をフラ
ットマスクの表面に形成し、フラットマスクの焼付を防
止する作用を有している。しかし、このＳｉ含有量が
０．００１ｗｔ％未満では、上述した作用に所望の効果
が得られない。一方、Ｓｉ含有量が０．２５ｗｔ％を超
えると、Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板のエッチング穿孔時に孔
界面が著しく荒れてエッチング穿孔性が悪くなる。従っ
て、Ｓｉ含有量は０．００１〜０．２５ｗｔ％の範囲に
限定することが望ましい。

【００３２】Ｂは、熱間加工性を向上させるが含有量が
多くなるとプレス前の焼鈍時に形成される再結晶粒の粒
界に偏析し、粒界を移動しにくくさせ、結果的にオース
テナイト結晶粒の成長性が阻害され、プレス成型前の焼
鈍後で所要のオーステナイト結晶粒径が得られなくな
る。粒成長の阻害作用はすべての結晶粒に対して一様に
働かないため結果的には著しい混粒組織を示し、プレス
成型時の伸びムラが発生し、透過ムラの原因となる。こ
のＢ量が０．０００５ｗｔ％を超えると、プレス成型時
の形状凍結性向上、合金板の割れ発生抑制及びプレス成
型後の透過ムラ発生の防止のために要求される平均オー
ステナイト粒径（１５〜４５μｍ）が得られなくなり、
かつプレス時の透過ムラ等の問題も発生するため、Ｂ量
の上限は０．０００５ｗｔ％とすることが望ましい。

【００３３】前記した成分組成の合金帯板を、冷延・焼
鈍を１回ないし２回以上繰返した後、仕上げ圧延、応力
除去焼鈍して本発明のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板等を製造す
るに際して、前記仕上げ圧延条件と応力除去焼鈍条件の
適正化が必要である。

【００３４】仕上げ圧延の圧延率は１５〜８０％とする
必要がある。圧延率が１５％未満では、後述する最適な
応力除去焼鈍下で、Ｆｅリッチな酸化膜が１０Å未満し
か形成されず、優れた脱脂の水きり性が得られない。一
方、圧延率が８０％を超えると、最適な応力除去焼鈍下
でも、２００Åを超える酸化膜が形成され、脱脂の均一
性が確保できない。

【００３５】また、前記した本発明の合金薄板の表面粗
さは、仕上げ圧延において、表面粗さがＲｓｋ：−０．
５〜−１．３、ＲＳｍ：４０〜２５０μｍの直径２００
ｍｍ以下のダル仕上げのワークロールを用いて、１５％
以上の圧延率で圧延することによって得ることができ
る。

【００３６】応力除去焼鈍としては、雰囲気ガスを、Ｈ
₂ が１ｖｏｌ％以上、Ｏ₂ が０．０２ｖｏｌ％以下、残
部を実質的に不活性ガスとし、その露点が−１０〜−６
０℃の雰囲気で、昇温速度３〜５０℃／秒で昇温し、焼
鈍温度４５０〜６９０℃で焼鈍後、冷却速度３〜１５０
℃／秒で冷却することが必要である。

【００３７】昇温速度が５０℃／秒超え、焼鈍温度が４
５０℃未満、冷却速度が１５０℃／秒超え、露点が−６
０℃未満では、応力除去焼鈍でＦｅリッチな酸化膜の厚
さが１０Å未満しか形成されないので、優れた脱脂の水
きり性を得ることができない。

【００３８】また、昇温速度が３℃／秒未満、焼鈍温度
が６９０℃超、冷却速度が３℃／秒未満、露点が−１０
℃より高い場合、Ｈ₂ 濃度が１ｖｏｌ％未満、Ｏ₂ 濃度
が０．０２ｖｏｌ％超えでは、応力除去焼鈍で形成され
るＦｅリッチな酸化膜の厚さが２００Åを超えるため、
優れた脱脂の均一性が確保できない。

【００３９】

【実施例】以下に、実施例について説明する。

【００４０】（実施例１）取鍋精錬によって、表１に示
す成分組成と残部がＦｅおよび不可避不純物からなる合
金鋼を溶製し、合金鋼Ａ、Ｃ、Ｊ〜Ｍについては造塊法
で鋼塊とした後、鋼塊を手入れ、分塊圧延してスラブと
し、また合金鋼Ｂ、Ｄについては連続鋳造法でスラブと
した。これらのスラブについて、表面疵取り、熱間圧
延、疵取りして熱延コイルとした。この熱延コイルを、
冷間圧延−焼鈍−仕上げ圧延−応力除去焼鈍を施して、
板厚０．１５ｍｍの合金薄板Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１０を得
た。

【００４１】仕上げ圧延は、径１２０ｍｍのワークロー
ルを使用し、圧延率３０％で圧延した。使用したワーク
ロールの表面粗さは、Ｎｏ．６についてはＲｓｋ−１．
０、ＲＳｍ２８０μｍ、Ｎｏ．８についてはＲｓｋ＋
０．５、ＲＳｍ１０５μｍ、Ｎｏ．６、Ｎｏ．８以外に
ついてはＲｓｋ−０．５〜−１．３、ＲＳｍ４０〜２５
０μｍである。

【００４２】応力除去焼鈍は以下の条件によった。Ｎ
ｏ．９については、Ｈ₂ ：６０ｖｏｌ％、Ｏ₂ ：０．０
０５ｖｏｌ％、残りがＮ₂ からなり、露点が−５０℃の
雰囲気で、７０℃／秒で昇温し、５４０℃で０．２秒焼
鈍した後１００℃／秒で冷却した。Ｎｏ．１０について
は、Ｎｏ．９と同様の雰囲気で、３℃／秒で昇温し、５
４０℃で４００秒焼鈍した後１℃／秒で冷却した。その
他については、Ｈ₂ ：９９ｖｏｌ％、Ｏ₂ ：０．００５
ｖｏｌ％、残りがＮ₂ からなり、露点が−５０℃の雰囲
気で、２５℃／秒で昇温し、５４０℃で３００秒焼鈍し
た後５０℃／秒で冷却した。

【００４３】得られた合金薄板の表面粗さ、酸化膜厚
さ、接触角、脱脂性を調査した。酸化膜厚さは、オージ
ェ分光分析法により、Ａｒイオンによって表面より深さ
方向にスパッタし、オージェ電子ピークを測定し、表面
からバルク（母材）と同一のオージェスペクトルが得ら
れるまでの厚さを測定し、酸化膜厚さとした。

【００４４】接触角は、水滴接触角法、すなわち、試験
片上に水道水を滴下し、試験片上にできた水滴の角度を
分度器目盛り付きの倍率１０倍の顕微鏡を用いて測定
し、図１に示す角度θから求めた。

【００４５】均一性は、水滴接触角法で接触角が４０°
以上を「○」、４０°未満を「×」と評価した。また、
水きり性は水滴接触角法で接触角が９０°以下を
「○」、９０°超えを「×」と評価した。結果を表２に
示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】

【表２】

【００４８】この結果より、本発明例のＮｏ．１〜Ｎ
ｏ．４は、均一性、水きり性とも良好であり、優れた脱
脂性を示す。これに対して、Ｓｎ含有量が本発明の上限
を超えるＮｏ．５とＮｏ．７、Ｒｓｋが本発明の下限を
下回るＮｏ．８、冷却速度が本発明の下限を外れるＮ
ｏ．１０はいずれも均一性が劣る。また、ＲＳｍが本発
明の上限を超えるＮｏ．６、昇温速度が本発明の上限を
超えるＮｏ．９は水きり性が劣る。

【００４９】（実施例２）取鍋精錬によって、表３に示
す成分組成と残部がＦｅおよび不可避不純物からなる合
金鋼を溶製し、合金鋼Ｅ、Ｇ、Ｎ〜Ｑについては造塊法
で鋼塊とした後、鋼塊を手入れ、分塊圧延してスラブと
し、また合金鋼Ｆ、Ｈ、Ｉについては連続鋳造法でスラ
ブとした。これらのスラブについて、表面疵取り、熱間
圧延、疵取りして熱延コイルとした。この熱延コイル
を、冷間圧延−焼鈍−仕上げ圧延−応力除去焼鈍を施し
て、板厚０．１５ｍｍの合金薄板Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．２
１を得た。

【００５０】仕上げ圧延は、径１２０ｍｍのワークロー
ルを使用し、圧延率７０％で圧延した。使用したワーク
ロールの表面粗さは、Ｎｏ．１７についてはＲｓｋ−
１．０、ＲＳｍ３００μｍ、Ｎｏ．１９についてはＲｓ
ｋ−１．５、ＲＳｍ１２０μｍ、Ｎｏ．１７、Ｎｏ．１
９以外についてはＲｓｋ−０．５〜−１．３、ＲＳｍ４
０〜２５０μｍである。

【００５１】歪取り焼鈍は以下の条件によった。Ｎｏ．
２０については、Ｈ₂ ：６０ｖｏｌ％、Ｏ₂ ：０．００
６ｖｏｌ％、残りがＮ₂ からなり、露点が−４０℃の雰
囲気で、６０℃／秒で昇温し、５４０℃で０．１秒焼鈍
した後１２０℃／秒で冷却した。Ｎｏ．２１について
は、Ｎｏ．２０と同様の雰囲気で、１５℃／秒で昇温
し、５４０℃で４５０秒焼鈍した後２．５℃／秒で冷却
した。その他については、Ｈ₂ ：７０ｖｏｌ％、Ｏ₂ ：
０．００５ｖｏｌ％、残りがＮ₂ からなり、露点が−５
０℃の雰囲気で、５℃／秒で昇温し、５４０℃で３００
秒加熱した後２０℃／秒で冷却した。

【００５２】得られた合金薄板の表面粗さ、酸化膜厚
さ、接触角、脱脂性を実施例１と同様にして調査，評価
した。結果を表４に示す。

【００５３】

【表３】

【００５４】

【表４】

【００５５】この結果より、本発明例のＮｏ．１１〜Ｎ
ｏ．１５は、均一性、水きり性とも良好であり、優れた
脱脂性を示す。また、これらの材料のフォトエッチング
は良好であった。これに対して、Ｓｎ含有量が本発明の
上限を超えるＮｏ．１６とＮｏ．１８、ＲＳｍが本発明
の上限を超えるＮｏ．１７、冷却速度が本発明の範囲を
下回るＮｏ．２１、Ｒｓｋが本発明の下限を下回るＮ
ｏ．１９はいずれも均一性が劣る。また、昇温速度が本
発明の範囲を上回るＮｏ．２０は水きり性が劣る。

【００５６】（実施例３）実施例１の合金Ａ〜Ｄを用い
てＮｏ．１〜Ｎｏ．４の条件で作成した熱延コイルと同
様の熱延コイルを用いて、冷間圧延−焼鈍−仕上げ圧延
−応力除去焼鈍を行ない、板厚０．１５ｍｍの合金薄板
Ｎｏ．３１〜Ｎｏ．５１を得た。

【００５７】仕上げ圧延は、Ｒｓｋ−０．３〜−１．
３、ＲＳｍ４０〜２５０μｍのロール径が１２０ｍｍの
ワークロールを用いて圧延を行った。仕上げ圧延の圧延
率、応力除去焼鈍の条件を表５に示す。

【００５８】得られた合金薄板の表面粗さ、酸化膜厚
さ、水ぬれ角、脱脂性を実施例１と同様にして調査，評
価した。結果を表６に示す。

【００５９】

【表５】

【００６０】

【表６】

【００６１】本発明例のＮｏ．４３〜Ｎｏ．５１は、本
発明規定範囲内の酸化膜厚さ、表面粗度を有し、脱脂性
の均一性および水きり性とも良好であり優れた脱脂性を
示す。１％以上のＣｏを含有するＮｏ．５１についても
良好な脱脂性を示している。

【００６２】これに対して、仕上げ圧延の圧延率が本発
明規定上限を超えるＮｏ．３１、焼鈍温度が本発明の上
限を超えるＮｏ．３３、昇温速度が本発明の下限を下回
るＮｏ．３５、冷却速度が本発明の下限を下回るＮｏ．
３７、露点が本発明の上限を超えるＮｏ．３９、焼鈍雰
囲気中のＯ₂ 濃度が本発明の上限を超えるＮｏ．４１、
雰囲気中のＨ₂ 濃度が本発明の下限を下回るＮｏ．４２
は、いずれも酸化膜厚さが２００Åを超え、接触角は本
発明の上限を超え、均一性が劣っている。

【００６３】一方、仕上げ圧延の圧延率が本発明の下限
を外れるＮｏ．３２、焼鈍温度が本発明の範囲を下回る
Ｎｏ．３４、昇温速度が本発明の上限を超えるＮｏ．３
６、冷却速度が本発明の上限を超えるＮｏ．３８、露点
が本発明の下限を下回るＮｏ．４０は、いずれも酸化膜
厚さが１０Å未満であり、水ぬれ角が本発明の下限を下
回り、水きり性が劣っている。

【００６４】（実施例４）実施例２の合金Ｅ〜Ｉを用い
てＮｏ．１１〜Ｎｏ．１５の条件で作成した熱延コイル
と同様の熱延コイルを用いて、冷延圧延−焼鈍−仕上げ
冷延−応力除去焼鈍を行ない、板厚０．１５ｍｍの合金
薄板Ｎｏ．６２〜Ｎｏ．８３を得た。

【００６５】仕上げ圧延は、Ｒｓｋ−０．５〜−１．
５、ＲＳｍ４０〜２５０μｍでロール径が１２０ｍｍの
ワークロールを用いて圧延を行った。仕上げ圧延の圧延
率、応力除去焼鈍の条件を表７に示す。

【００６６】得られた合金薄板の表面粗さ、酸化膜厚
さ、接触角、脱脂性を実施例１と同様にして調査，評価
した。結果を表８に示す。

【００６７】

【表７】

【００６８】

【表８】

【００６９】本発明例のＮｏ．７４〜Ｎｏ．８３は、本
発明規定範囲内の酸化膜厚さ、表面粗度を有し、脱脂性
の均一性および水きり性が良好である。１％以上のＣｏ
を含有するＮｏ．８２およびＮｏ．８３についても同様
に優れた脱脂性を示している。

【００７０】これに対して、仕上げ圧延の圧延率が本発
明の上限を超えるＮｏ．６２、焼鈍温度が本発明の上限
を超えるＮｏ．６４、昇温速度が本発明の下限を外れる
Ｎｏ．６６、冷却速度が本発明の下限を外れるＮｏ．６
８、露点が本発明の上限を超えるＮｏ．７０、雰囲気中
のＯ₂ 濃度が本発明の上限を超えるＮｏ．７２、雰囲気
中のＨ₂ 濃度が本発明の下限を外れるＮｏ．７３は、い
ずれも酸化膜厚さが２００Åを超え、接触角は本発明の
下限を下回り、均一性が劣っている。

【００７１】一方、仕上げ圧延の圧延率が本発明の下限
を外れＮｏ．６３、焼鈍温度が本発明の下限を外れるＮ
ｏ．６５、昇温速度が本発明の上限を超えるＮｏ．６
７、冷却速度が本発明の上限を超えるＮｏ．６９、露点
が本発明の下限を外れるＮｏ．７１は、いずれも酸化膜
厚さが１０Å未満であり、接触角は本発明の範囲を超え
ており、水きり性が劣っている。

【００７２】

【発明の効果】本発明によれば、脱脂性に優れるＦｅ−
Ｎｉ系合金薄板およびＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板の安
価な製造方法を提供することができ、これらの合金薄板
を素材としてより高精細なエッチング加工が可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】水滴接触角法における接触角を示す図。

【符号の説明】

１ 試験材 ２ 水滴 θ 接触角

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ２２Ｃ 38/10 Ｃ２２Ｃ 38/10 (72)発明者 鹿毛 勇 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 若狭 浩 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日本鋼管株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−139850（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−251249（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−220503（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−221024（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−13101（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−252601（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−252600（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−233443（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−73935（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−255757（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−301（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−243780（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C22C 38/00 - 38/60 C21D 9/46,8/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 重量％で、Ｎｉ：２６〜５２％、Ｓｎ：
   ０．１％以下を含有するＦｅ−Ｎｉ系合金薄板を、１回
   ないし２回以上、冷間圧延、焼鈍をくりかえした後、仕
   上げ圧延、応力除去焼鈍してＦｅ−Ｎｉ系合金薄板を製
   造するにあたり、前記仕上げ圧延をダルロールを用いて
   圧延率１５〜８０％で圧延し、その表面粗さをＲＳｍ：
   ４０〜２００μｍ、Ｒｓｋ：０．３〜１．５とし、前記
   応力除去焼鈍を、Ｈ₂ １ｖｏｌ％以上、Ｏ₂ ０．０２ｖ
   ｏｌ％以下、残部実質的に不活性ガスからなり、露点が
   −１０〜−６０℃の雰囲気で、昇温速度３〜５０℃／秒
   で昇温し、焼鈍温度４５０〜６９０℃で焼鈍後、冷却速
   度３〜１５０℃／秒で冷却を行い、その表面に厚さ１０
   〜２００Åの酸化膜を形成し、水滴接触角法による表面
   の接触角を４０〜９０°としたことを特徴とする脱脂性
   に優れた電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板の製造方法。
2. 【請求項２】 重量％で、Ｎｉ：２６〜５２％、Ｃｏ：
   １〜２０％、Ｓｎ：０．１％以下を含有するＦｅ−Ｎｉ
   −Ｃｏ系合金薄板を、１回ないし２回以上、冷間圧延、
   焼鈍をくりかえした後、仕上げ圧延、応力除去焼鈍して
   Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板を製造するにあたり、前記
   仕上げ圧延をダルロールを用いて圧延率１５〜８０％で
   圧延し、その表面粗さをＲＳｍ：４０〜２００μｍ、Ｒ
   ｓｋ：０．３〜１．５とし、前記応力除去焼鈍を、Ｈ₂
   １ｖｏｌ％以上、Ｏ₂ ０．０２ｖｏｌ％以下、残部実質
   的に不活性ガスからなり、露点が−１０〜−６０℃の雰
   囲気で、昇温速度３〜５０℃／秒で昇温し、焼鈍温度４
   ５０〜６９０℃で焼鈍後、冷却速度３〜１５０℃／秒で
   冷却を行い、その表面に厚さ１０〜２００Åの酸化膜を
   形成し、水滴接触角法による表面の接触角を４０〜９０
   °としたことを特徴とする脱脂性に優れた電子部品用Ｆ
   ｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板の製造方法。