JP3033426B2 - レジスト密着性および耐銹性に優れた電子部品用Fe−Ni系合金薄板およびFe−Ni−Co系合金薄板とその製造方法 - Google Patents

レジスト密着性および耐銹性に優れた電子部品用Fe−Ni系合金薄板およびFe−Ni−Co系合金薄板とその製造方法

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JP3033426B2 JP6041073A JP4107394A JP3033426B2 JP 3033426 B2 JP3033426 B2 JP 3033426B2 JP 6041073 A JP6041073 A JP 6041073A JP 4107394 A JP4107394 A JP 4107394A JP 3033426 B2 JP3033426 B2 JP 3033426B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー受像管用シャド
ウマスク、ICリードフレーム等の各種機能材料として
用いられるFe−Ni系合金薄板およびFe−Ni−C
o系合金薄板とその製造法に関するものである。
【0002】Niを26〜52%含むFe−Ni系合金
およびFe−Ni−Co系合金は室温から300℃にわ
たる温度域で低い熱膨張係数を示し、カラー受像管用シ
ャドウマスク、ICリードフレーム等の各種の機能材料
として広く用いられている。
【0003】しかしながらこれらの材料は極めて錆を発
生し易く、例えば、合金鋼帯の製造工程中や上記した各
種の機器の制作中に、鋼帯および鋼板の一部が発銹する
ことが多々あり、耐銹性の向上が強く望まれており、こ
の問題を解決するため、特開昭60−21331号公報
では、Fe−Ni系インバー合金の耐銹性の向上を、C
rおよびCoの添加により達成している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来の先行技術では耐銹性を向上させているが、この
技術で特徴とするCrの添加により、シャドウマスク用
合金また、ICリードフレーム用合金においては、レジ
スト密着性の劣化がそれぞれひき起こされるという問題
がある。レジスト密着性とは、フォトエッチング工程に
て上記した電子部品用材料を製造するに当り、合金帯を
脱脂後塗布されたレジストが、以降の製造工程で剥離し
てしまう現象である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記したよう
な実情に鑑み、検討を重ねて創案されたものであって、
耐銹性に優れ、かつ、所要のレジスト密着性を有するカ
ラー受像管用シャドウマスク、ICリードフレーム等の
各種の機能材料として用いられるFe−Ni系合金薄板
およびFe−Ni−Co系合金薄板とその製造方法を提
供するものである。
【0006】その要旨とするところは、以下のとおりで
ある。 (1)重量%で、Ni:30〜52%、C:0.06%
以下、O:0.005%以下、S:0.003%以下、
P:0.01%以下、N:0.003%以下、H:3.
0ppm以下、Sn:0.001〜0.1%を含有し、
残部がFe及び不可避不純物からなるFe−Ni系合金
であって、その表面をRa0.1〜0.7μm、RSm
40〜200μmとし、さらに酸化膜を厚み10〜20
0オングストロームで形成させたことを特徴とするレジ
スト密着性と耐銹性に優れた電子部品用Fe−Ni系合
金薄板。
【0007】(2)重量%で、Ni:26〜38%、C
o:1〜20%、C:0.06%以下、O:0.005
%以下、S:0.003%以下、P:0.01%以下、
N:0.003%以下、H:3.0ppm以下、Sn
0.001〜0.1%を含有し、残部がFe及び不可避
不純物からなるFe−Ni−Co系合金であって、その
表面をRa0.1〜0.7μm、RSm40〜200μ
mとし、さらに酸化膜を厚み10〜200オングストロ
ームで形成させたことを特徴とするレジスト密着性と耐
銹性に優れた電子部品用Fe−Ni−Co系合金薄板。
【0008】(3)Sbを0.001〜0.1%付加的
に含有する上記(1)または(2)に記載のレジスト密
着性と耐銹性に優れた電子部品用Fe−Ni系合金薄板
または電子部品用Fe−Ni−Co系合金薄板。
【0009】(4)上記(1)〜(3)に記載の化学成
分を有するFe−Ni系合金帯またはFe−Ni−Co
系合金帯を1回ないし2回以上冷延、焼鈍を繰返したの
ち、仕上げ冷延、応力除去焼鈍してコイルまたはフープ
を製造するに当り、表面粗度Ra:0.05〜1.2μ
m、RSm:40〜250μmの直径200mm以下の
ルロールを用いて前記仕上げ冷延率(CR%)を15
〜80%として請求項1〜3の表面粗度を得、前記応力
除去焼鈍を温度(T℃)を450〜680℃、保持時間
(t,sec)を0.5〜300sec、雰囲気の露点
(D.P.℃)を−10〜−60℃、雰囲気をH2
50vol%以上、O2 :0.02vol%以下、残
:不活性ガスとして請求項1〜3に記載の酸化膜厚さ
を得ることを特徴とするレジスト密着性と耐銹性に優れ
た電子部品用Fe−Ni系合金薄板またはFe−Ni−
Co系合金薄板の製造方法。
【0010】
【作用】上記したような本発明について更に説明する
と、本発明者等は、上述した観点から、耐銹性に優れ、
かつ、所要の表面処理性を有するカラー受像管用シャド
ウマスク、ICリードフレーム等の各種の機能材料とし
て用いられるFe−Ni系合金薄板およびFe−Ni−
Co系合金薄板を開発すべく、鋭意研究を重ねた結果、
次の知見を得た。即ち、本合金鋼帯の化学成分、および
表面粗さの制御、Fe−richな酸化膜からなる酸化
膜の厚さを適正に制御することおよび冷延、焼鈍を1回
ないし2回以上繰返したのち、仕上げ冷延、応力除去焼
鈍してコイルまたはフープを製造するに当り、仕上げ冷
延率、応力除去焼鈍時の温度、時間、雰囲気、露点を所
定の範囲内に調整することにより、耐銹性が優れ、所要
のレジスト密着性を有する前記Fe−Ni系合金薄板お
よびFe−Ni−Co系合金薄板を得ることができる。
【0011】斯かる発明について、先ずその化学成分範
囲の限定理由の仔細を述べると、以下の如くである。
【0012】Niは、本合金の基本成分であり、熱膨張
係数を変化させる元素であって、カラー受像管シャドウ
マスク用(以下単にシャドウマスク用という)として
は、色ずれの発生を防止するために要求される30〜1
00℃の温度域における平均熱膨張係数の上限は3.0
×10-6/℃である。この平均熱膨張係数の条件を満た
すNi量はFe−Ni合金にあっては30〜38%の範
囲内である。従って、カラー受像管用シャドウマスク用
としては、Ni量を30〜38%の範囲内に限定すべき
である。なお、このようなNi量の範囲内でも、平均熱
膨張係数を低下させうる好ましいNi量は35〜37%
であり、更には、この平均熱膨張係数をより低下させう
る更に好ましいNi量は35.5〜36.5%である。
【0013】なお、Coを1%未満の範囲内で含有する
場合でも上記した平均熱膨張係数の上限を満足するNi
量は30〜38%である。このような場合でも、平均熱
膨張係数を低下させる好ましいNi量は35〜37%で
ある。また、1〜8%のCoを含有するFe−Ni−C
o系合金の場合、上述した平均熱膨張係数の条件を満た
すNi量範囲は26〜38%であり、またNi量は30
〜33%、Co量は3〜8%にすることにより、平均熱
膨張係数は更に低く優れたものとなる。
【0014】また、ICリードフレーム用としては、半
導体素子、ガラスおよびセラミックス等との熱膨張の整
合性を保つためには、Ni量を38%超、52%以下と
することが必要である。従って、ICリードフレーム用
としてはNi量を38%超、52%以下の範囲内に限定
すべきである。なお、このようなNi量の範囲内でも、
半導体素子、ガラスおよびセラミックス等の熱膨張係数
に応じてNi量は適切に選択される。
【0015】なお、Coを1%未満の範囲内で含有する
場合でも、ICリードフレーム用としての熱膨張の整合
性を保つためのNi量は38%超え、52%以下であ
る。また、ICリードフレーム用材料としてはFe−N
i−Co系合金も本発明の対象としているが、この場
合、Co:1〜20%、Ni:26〜38%の範囲内で
あれば、ICリードフレーム用としての熱膨張の整合性
を保つことが可能である。
【0016】さて、上記したFe−Ni系合金またはF
e−Ni−Co系合金においては、耐銹性とレジスト密
着性をともに優れたものとするために、表面粗度(R
a、RSm)の適正化、Fe−richな酸化膜の形成
およびSnの微量添加、更に好ましくは、Sbの複合添
加が必須となる。すなわち、合金薄板表面の表面粗さ
(中心線平均粗さRa、JISB0601の表面粗さ)
を0.1〜0.7μm、RSm(基準長さ内における表
面粗さを示す粗さ曲線の凹凸の間隔の平均値である)を
40〜200μmとすることが、レジスト密着性を優れ
たものとするため必要である。Raが0.1μm未満か
つまたはRSmが200μm超ではレジスト膜と合金薄
板表面の接合強度が低く、結果的にレジスト密着性が劣
化する。一方、Raが0.7μm超かつまたはRSmが
40μm未満では、フォトエッチング後の製品の寸法精
度が悪くなる。つまり、Ra:0.1〜0.7μm、R
Sm:40〜200μmとすることにより、レジスト密
着性が優れたレベルとなりかつ、製品の寸法精度も良好
となる。以上より、本発明合金薄板表面の表面粗さはR
a:0.1〜0.7μm、RSm:40〜200μmと
定めた。
【0017】本発明においては、上記したような表面粗
度の制御に加え、Fe−richな酸化膜の形成が必須
となる。このような酸化膜が10オングストローム以上
では、後述するSn更にはSbの添加のもとで本発明で
意図するレジスト密着性が得られるが、200オングス
トローム超となると、本発明で意図するレジスト密着性
が得られない。以上より、上記した酸化膜厚さは10〜
200オングストロームと定めた。
【0018】上記したFe−richな酸化膜厚さの適
正化に加え、本合金のレジスト密着性を確保しつつ、耐
食性の向上のためSnの適量添加が有効である。すなわ
ちSnは本合金中にあっては、合金薄板の製造工程中で
は、酸化物を生成しないため、後述するようなFe−r
ichの酸化膜と合金下地の界面に濃縮し、上記した酸
化膜の密着性を高めることを通じて、耐銹性を高める元
素である。Snが0.001%以上で、上記した効果が
得られるため、下限は0.001%と定めた。一方、S
n量が0.1%を越えると、本合金で要求されるレジス
ト密着性が劣化するため好ましくないため、上限は0.
1%とする。本合金においては、上記したSnの添加に
加え、Sbを複合添加することにより耐銹性をより高め
うる。Sbが0.001%以上で、上記したSnの濃化
層にSbも含まれるようになり、このSbの濃化層によ
り耐銹性が更に優れたものになる。一方、Sbが0.1
%を超えると、上記したような本合金で要求されるレジ
スト密着性が逆に損なわれる。以上より、付加的に添加
されうるSb量は0.001〜0.1%と定めた。
【0019】なお、本合金において、前記した、Ni、
Sn、Sbの他は、優れた加工性を確保するためC:
0.06%以下、O:0.005%以下、S:0.00
3%以下、P:0.01%以下、N:0.003%以
下、H:3.0ppm以下の範囲内とする。
【0020】さて、本発明における耐銹性向上、レジス
ト密着性の確保を達成する上記した合金薄板を得る方法
の1つとしては、本合金を冷延・焼鈍を1回ないし2回
以上繰返したのち調質圧延、応力除去焼鈍して製造する
に際して、前記調質圧延率、応力除去焼鈍条件の適正化
が必須である。
【0021】仕上げ冷延率(CR)は15%未満では、
後述する最適な応力除去焼鈍下でも、本合金の表面処理
性を確保しつつ、耐銹性を向上させうる厚さのFe−r
ichな酸化膜が10オングストローム未満しか形成さ
れず、優れた耐銹性が得られない。一方このCRが80
%を越えると、最適な応力除去焼鈍下でも、上記した酸
化膜が200オングストローム超で形成され、本合金の
表面処理性が確保できない。よって、仕上げ冷延率は1
5〜80%と定めた。なお、本発明で特徴とする合金薄
板の表面粗度は、仕上げ冷延において、表面粗度Ra:
0.05〜1.2μm、RSm:40〜250μmの直
径200mm以下のロールを用い、仕上げ冷延率を15
%以上とすることにより、適切に得ることができる。
【0022】応力除去焼鈍の条件としては、温度(T
℃)450〜680℃、保持時間(t.sec)0.5
〜300sec、雰囲気中の露点(D.P.℃)−10
〜−60℃、雰囲気ガス組成H2 :50vol以上、
2 :0.02vol%以下、残:不活性ガスとする
ことにより、本発明で意図する優れた耐銹性の向上、お
よびレジスト密着性の確保を達成することができる。
【0023】すなわち、Tが450℃未満、または、t
が0.5sec未満またはD.P.が−60℃未満で
は、本合金を最適条件下で応力除去焼鈍する際に表面処
理性を確保しつつ、耐銹性を向上させうるFe−ric
hな酸化膜が10オングストローム未満しか形成され
ず、優れた耐銹性が得られない。
【0024】また、Tが680℃超、またはtが300
sec超、またはD.Pが−10℃超またはH2 が50
vol%未満、または、O2 が0.02vol%越で
は、本合金を最適条件下で応力除去焼鈍する場合でも、
上記した酸化膜が200オングストローム超と厚くなり
すぎ、本合金のレジスト密着性が確保できない。
【0025】以上より、応力除去焼鈍条件として、T:
450〜680℃、t:0.5〜300sec、D.
P.:−10〜−60℃、ガス組成:H2 ;50vo
l%以上、O2 ;0.02vol%以下、残:不活性
ガスをそれぞれ定めた。
【0026】
【実施例】本発明によるものの具体的な実施例について
更に説明すると以下の如くである。 (実施例1)本発明者らは取鍋精錬によって、次の表1
に示すような、化学成分を有する合金A、C、J〜Mの
鋼塊を造塊法で、また合金B、DのCCスラブを連続鋳
造法でそれぞれ調整した。これらの合金A、C、J〜M
の鋼塊を手入れ後、分塊圧延して得られたスラブ、およ
び合金B、DのCCスラブを合わせて、表面疵取り、熱
間圧延、疵取りして得られた熱延コイルを用いて、以
降、冷間圧延−焼鈍−仕上げ冷延(圧下率30%)−歪
取り焼鈍(H2 :99vol%、D.P.−50℃、O
2 :0.005vol%、残:N2 、540℃×300
sec)を行ない、板厚0.15mmの合金薄板である
材料No. 42〜49を得た。また、材料No. 50とNo.
51は合金Aを用い、上記した材料No. 42と仕上げ冷
延までは同じ製造方法にて材料を作製し、その後の歪取
り焼鈍を、おのおの540℃×0.2secと540℃
×400sec(No. 50、No. 51とも他の歪取り焼
鈍条件は、H2 :60vol%、D.P.−50℃、O
2 :0.005vol%、残:N2 )で行なった板厚
0.15mmの合金薄板である。これらの材料を用い
て、耐銹性およびレジスト密着性を調べた。
【0027】
【表1】
【0028】耐銹性の評価はこれらの供試材についてJ
ISZ2371による塩水噴霧試験を10時間行い、点
錆発生頻度を調べることにより行い、更にレジスト密着
性は歪取り焼鈍後の合金板を脱脂後、レジスト塗布し
て、JISD0202に基づく碁盤目試験を行い、レジ
スト膜のはがれを観察することにより調べた。なお、本
実施例では、材料No. 47、No. 49以外は仕上げ冷延
時に、Ra0.3〜1.2μm、RSm40〜250μ
mのワークロール(ロール径120mm)のロールを用
いて仕上げ圧延では圧下率30%にて圧延することによ
り表2に示す表面粗度の材料を得た。材料No. 47では
Ra0.70μm、RSm280μm、材料No. 49で
はRa0.03μm、RSm105μmのワークロール
(ロール径120mm)を用いて、仕上げ圧延は上記と
同じ条件にて圧延することにより、表2に示す表面粗度
の材料を得た。また、材料表面の酸化膜厚さは、オージ
ェ分光分析法により調べた。
【0029】それらの結果を表2に示した。この結果よ
り、材料No. 42〜45の各材は、本発明規定内の化学
成分、表面粗度および酸化膜厚さを有しており、点錆発
生頻度は低く、耐銹性に優れており、かつレジスト密着
性も本発明で意図する優れたレベルを示している。これ
らの材料のフォトエッチング後の製品の寸法精度は良好
であった。特にSbが複合添加された材料No. 44とN
o. 45は、他の発明例に比べて、耐銹性が更に優れた
レベルとなっている。これに対して、材料No. 46、N
o. 48はそれぞれ、Sn量が本発明規定上限を超える
もの、Sbが本発明規定上限を超えるものであり、本発
明例に比べて、特に、レジスト密着性が劣る。また、材
料No. 47はSn量が本発明規定未満のものであり点錆
発生頻度は、本発明例に比べて高く、耐銹性が劣ってい
る。また、この材料では、RSmが本発明規定上限を越
えており、レジスト密着性は劣っている。材料No. 49
はRaが本発明規定の下限未満であり、レジスト密着性
は本発明例に比べて劣っている。また、材料No. 50、
No. 51はそれぞれ酸化膜厚さが、本発明規定の下限未
満のもの、本発明規定の上限を超えるものであり、それ
ぞれ本発明例に比べて耐銹性、レジスト密着性が劣って
いる。以上のように、本発明で意図する耐銹性、レジス
ト密着性を得るためには、本合金のSn、Sb量、加え
て、表面粗度、Fe−richな酸化膜厚さの制御が重
要であることが理解される。
【0030】
【表2】
【0031】(実施例2)本発明者らは取鍋精錬によっ
て、次の表3に示すような、化学成分を有する合金E、
G、N〜Qの鋼塊を造塊法で、また合金F、H、IのC
Cスラブを連続鋳造法でそれぞれ調整した。これらの合
金E、G、N〜Qの鋼塊を手入れ後、分塊圧延して得ら
れたスラブ、および合金F、H、IのCCスラブを合わ
せて、表面疵取り、熱間圧延、疵取りして得られた熱延
コイルを用いて、以降、冷間圧延−焼鈍−仕上げ冷延
(圧下率70%)−歪取り焼鈍(H2 :70vol%、
D.P.−50℃、O2 :0.005vol%、残:N
2 、540℃×300sec)を行ない、板厚0.15
mmの合金薄板である材料No. 52〜No. 60を得た。
また、材料No. 61とNo. 62は合金Eを用い、上記し
た材料No. 52と仕上げ冷延までは同じ製造方法にて材
料を作製し、その後の歪取り焼鈍を、おのおの540℃
×0.1secと540℃×450sec(No. 61、
No. 62とも他の歪取り焼鈍条件は、H2 :60vol
%、D.P.−40℃、O2 :0.006vol%、
残:N2 )で行なった板厚0.15mmの合金薄板であ
る。これらの材料を用いて、耐銹性およびレジスト密着
性を調べた。なお、耐銹性の評価方法、酸化膜の厚さ測
定方法は実施例1と同じにした。
【0032】
【表3】
【0033】なお、本実施例では、材料No. 58、No.
60以外は、仕上げ冷延時に、Ra0.05〜0.4μ
m、RSm40〜250μmのワークロール(ロール径
120mm)のロールを用いて仕上げ圧延では、圧下率
70%にて圧延することにより表4に示す材料の表面粗
度を得た。材料No. 58ではRa0.70、RSm30
0μm、材料No. 60ではRa0.02μm、RSm1
20μmのワークロール(ロール径120mm)を用い
て、仕上げ圧延は上記と同じ条件にて圧延することによ
り表4に示す表面粗度の材料を得た。これらの結果は表
4において示す如くである。
【0034】
【表4】
【0035】この結果より、材料No. 52〜56の各材
は、本発明規定内の化学成分、表面粗度および酸化膜厚
さを有しており、点錆発生頻度は低く、耐銹性に優れて
おり、かつレジスト密着性も本発明で意図する優れたレ
ベルを示している。これらの材料のフォトエッチング後
の製品の寸法精度は良好であった。特に、Sbが複合添
加された材料No. 54とNo. 55は、他の発明例に比べ
て、耐銹性が更に優れたレベルとなっている。これに対
して、材料No. 57、No. 59はそれぞれSn量が本発
明規定上限を超えるもの、Sb量が本発明規定上限を超
えるものであり、本発明例に比べて、特にレジスト密着
性が劣っている。また、材料No. 58は、Sn量が本発
明規定未満のものであり、点錆発生頻度は、本発明例に
比べて高く、耐銹性が劣っている。また、この材料では
RSmが本発明規定上限を超えており、レジスト密着性
は劣っている。材料No. 60はRaが本発明規定の下限
未満であり、レジスト密着性は本発明例に劣っている。
また、材料No. 61、No.62はそれぞれ酸化膜厚さ
が、本発明規定の下限未満のもの、本発明規定の上限を
超えるものであり、それぞれ本発明例に比べて耐銹性、
レジスト密着性が劣っている。以上のように、本発明で
意図する耐銹性、レジスト密着性を得るためには、本合
金のSn、Sb量、表面粗度加えてFe−richな酸
化膜厚さの制御が重要であることが理解される。
【0036】(実施例3)実施例1で用いたものと同様
の合金No. A〜No. Dに対応した熱延コイルを用いて、
以降、冷間圧延−焼鈍−仕上げ冷延(CR%)−歪取り
焼鈍を行ない、板厚0.15mmの合金薄板No. 1〜N
o. 19を得た。仕上げ冷延、歪取り焼鈍は次の表5に
示す条件によって行った。なお、本実施例では、仕上げ
冷延時にRa0.3〜1.2μm、RSm40〜250
μmのワークロール(ロール径120mm)のロールを
用いて、表5に示す仕上げ冷延での圧下率(以下仕上げ
冷延率と略す)にて圧延を行ない、表6に示す表面粗度
の材料を得ている。又耐銹性の評価はこれらの供試材に
ついてJISZ2371による塩水噴霧試験を10時間
行い、点錆発生頻度を調べることにより行い、更にレジ
スト密着性、酸化膜厚さの測定は実施例1と同様の方法
にて調査し、それらの結果を表6に示した。
【0037】
【表5】
【0038】
【表6】
【0039】上記表5、6に示した結果から明らかなよ
うに、本発明範囲内の仕上げ冷延率、応力除去焼鈍条件
による材料No. 11〜No. 19の各材は、本発明規定範
囲内の酸化膜厚さ表面粗度を有し点錆発生頻度は低く、
耐銹性に優れており、かつレジスト密着性も本発明で意
図する優れたレベルを示している。Coを含有する材料
No. 19は同様に優れた特性を示している。
【0040】これに対して、材料No. 1、No. 3、No.
5、No. 7、No. 9、No. 10は、それぞれ、仕上げ冷
延率が本発明規定上限を超えるもの、Tが本発明規定上
限を超えるもの、tが本発明規定上限を超えるもの、
D.Pが本発明規定上限を超えるもの、H2 (vol
%)が本発明規定下限を越えるもの、O2 (vol%)
が本発明規定上限超のものであり、酸化膜厚さは200
オングストロームを超え、点錆発生頻度は5個/100
cm2 以下であるがレジストの密着性は発明例に比べ
て、劣っている。
【0041】一方、材料No. 2、No. 4、No. 6、No.
8はそれぞれ、仕上げ冷延率が本発明規定下限未満のも
の、Tが本発明規定下限未満のものtが本発明規定下限
未満のもの、D.Pが本発明規定下限未満のものであ
り、酸化膜厚さは10オングストローム未満でありレジ
ストの密着性は前記した比較例に比べると優れている
が、錆発生頻度は、5個/100cm2 を超えており、
耐銹性が劣っている。なお、材料No. 2では、仕上げ冷
延率が本発明規定下限未満であり、表面粗度(RSm)
が本発明規定の上限を越えており、レジスト密着性が劣
っている。
【0042】以上のようにカラー受像管用Fe−Ni系
合金およびFe−Ni−Co系合金において化学成分、
表面粗度、仕上げ冷延率、応力除去焼鈍でのT、t、
D.P、H2 (vol%)、O2 (vol%)を本発明
規定値内とすることにより、本発明で意図する優れた、
耐銹性、レジスト密着性が得られることが明らかであ
る。
【0043】(実施例4)実施例2で用いたものと同様
の合金No. E〜No. Iに対応した熱延コイルを用いて、
以降、冷延圧延−焼鈍−仕上げ冷延(CR%)−歪取り
焼鈍を行ない、板厚0.15mmの合金薄板No. 21〜
No. 40を得、仕上げ冷延、歪取り焼鈍は、次の表7に
示す条件にて行なった。なお、本実施例では、仕上げ冷
延時にRa0.05〜0.4μm、RSm40〜250
μmのワークロール(ロール径120mm)のロールを
用いて、表7に示す仕上げ冷延率にて圧延を行ない、表
8に示す表面粗度の材料を得ている。耐銹性の評価は、
これらの供試材について、JISZ2371による塩水
噴霧試験を10時間行ない点錆発生頻度を調べることに
より行ない、また、レジスト密着性、酸化膜厚さの測定
は実施例1と同様の方法にて調査した。これらの結果は
表8において示す如くである。
【0044】
【表7】
【0045】
【表8】
【0046】上記表7、表8に示した結果から明らかな
ように、本発明範囲内の仕上げ冷延率、応力除去焼鈍条
件による材料No. 31〜No. 40の各材は、本発明規定
範囲内の酸化膜厚さ、表面粗度を有し点錆発生頻度が低
く、耐銹性に優れており、かつレジスト密着性も本発明
で意図する優れたレベルを示している。このように、C
oを含有する材料No. 39およびNo. 40は同様に優れ
た特性を示している。
【0047】これに対して、材料No. 21、No. 23、
No. 25、No. 27、No. 29、No. 30はそれぞれ、
仕上げ冷延率が本発明規定上限を超えるもの、Tが本発
明規定上限を超えるもの、tが本発明規定上限を超える
もの、D.Pが本発明規定上限を超えるもの、H2 (v
ol%)が本発明規定下限未満のもの、O2 (vol
%)が本発明規定上限を超えるものであり、酸化膜厚さ
は200オングストロームを超え点錆発生頻度は5個/
100cm2 以下であるがレジスト密着性は発明例に比
べて劣っている。
【0048】一方、材料No. 22、No. 24、No. 2
6、No. 28はそれぞれ、仕上げ冷延率が本発明規定下
限未満のもの、Tが本発明規定下限未満のもの、tが本
発明規定下限未満のもの、D.Pが本発明規定下限未満
のものであり、酸化膜厚さは10オングストローム未満
でありレジスト密着性は前記した比較例に比べると優れ
ているが、錆発生頻度は、5個/100cm2 を超えて
おり、耐銹性が劣っている。なお、材料No. 22では、
仕上げ冷延率が本発明規定下限未満であり、表面粗度
(RSm)が本発明規定の上限を超えており、レジスト
密着性が劣っている。
【0049】以上説明したようにICリードフレーム用
Fe−Ni系合金およびFe−Ni−Co系合金におい
て化学成分、表面粗度仕上げ冷延率、応力除去焼鈍での
T、t、D.P、H2 (vol%)、O2 (vol%)
を本発明規定値内とすることにより、本発明の目的とす
る優れた、耐銹性、レジスト密着性が得られることが明
らかである。
【0050】
【発明の効果】以上詳述したような、本発明によれば、
耐銹性が優れ、かつ優れたレジスト密着性が優れたカラ
ー受像管用Fe−Ni系合金およびFe−Ni−Co系
合金、ICリードフレーム用Fe−Ni系合金およびF
e−Ni−Co系合金などの各種の機能材料に用いられ
るFe−Ni系合金薄板およびFe−Ni−Co系合金
薄板を適切に提供することができるものであるから、工
業的に有利な効果がもたらされ、その結果の大きい発明
である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01J 29/07 H01J 29/07 Z (72)発明者 鹿毛 勇 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 若狭 浩 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−251249(JP,A) 特開 昭60−111448(JP,A) 特開 平2−268902(JP,A) 特開 平4−221024(JP,A) 特開 昭63−259027(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C22C 38/00 - 38/60 C22C 19/03 C21D 9/46 - 9/48 H01J 29/07

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重量%で、Ni:30〜52%、C:
    0.06%以下、O:0.005%以下、S:0.00
    3%以下、P:0.01%以下、N:0.003%以
    下、H:3.0ppm以下、Sn:0.001〜0.1
    %を含有し、残部がFe及び不可避不純物からなるFe
    −Ni系合金であって、その表面をRa0.1〜0.7
    μm、RSm40〜200μmとし、さらに酸化膜を厚
    み10〜200オングストロームで形成させたことを特
    徴とするレジスト密着性と耐銹性に優れた電子部品用F
    e−Ni系合金薄板。
  2. 【請求項2】 重量%で、Ni:26〜38%、Co:
    1〜20%、C:0.06%以下、O:0.005%以
    下、S:0.003%以下、P:0.01%以下、N:
    0.003%以下、H:3.0ppm以下、Sn:0.
    001〜0.1%を含有し、残部がFe及び不可避不純
    物からなるFe−Ni−Co系合金であって、その表面
    をRa0.1〜0.7μm、RSm40〜200μmと
    し、さらに酸化膜を厚み10〜200オングストローム
    で形成させたことを特徴とするレジスト密着性と耐銹性
    に優れた電子部品用Fe−Ni−Co系合金薄板。
  3. 【請求項3】Sbを0.001〜0.1%付加的に含有
    する請求項1または2に記載のレジスト密着性と耐銹性
    に優れた電子部品用Fe−Ni系合金薄板または電子部
    品用Fe−Ni−Co系合金薄板。
  4. 【請求項4】請求項1〜3に記載の化学成分を有するF
    e−Ni系合金帯またはFe−Ni−Co系合金帯を1
    回ないし2回以上冷延、焼鈍を繰返したのち、仕上げ冷
    延、応力除去焼鈍してコイルまたはフープを製造するに
    当り、表面粗度Ra:0.05〜1.2μm、RSm:
    40〜250μmの直径200mm以下のダルロールを
    用いて前記仕上げ冷延率(CR%)を15〜80%とし
    て請求項1〜3の表面粗度を得、前記応力除去焼鈍を温
    度(T℃)を450〜680℃、保持時間(t,se
    c)を0.5〜300sec、雰囲気の露点(D.P.
    ℃)を−10〜−60℃、雰囲気をH2 :50vol
    %以上、O2 :0.02vol%以下、残部:不活性
    ガスとして請求項1〜3に記載の酸化膜厚さを得ること
    を特徴とするレジスト密着性と耐銹性に優れた電子部品
    用Fe−Ni系合金薄板またはFe−Ni−Co系合
    薄板の製造方法。
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