KR102142752B1 - 수지 밀착성이 우수한 Fe-Ni계 합금 포일, 그 제조방법, 증착용 마스크 및 상기 증착용 마스크 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수지 밀착성이 우수한 Fe-Ni계 합금 포일, 그 제조방법, 증착용 마스크 및 상기 증착용 마스크 제조방법에 관한 것으로서, 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일로서, 상기 합금 포일은 표면에 철 및 니켈의 산화물 층을 포함하고, 상기 철 및 니켈의 산화물 층의 니켈 함량은 상기 평균 조성의 니켈 함량보다 높은 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 및 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일 표면의 산화물 층을 산을 포함하는 산 용액으로 표면 개질하는 산 처리 단계를 포함하며, 상기 산 처리 단계에 의해 산화물 층의 Ni 함량이 상기 철-니켈 합금 포일의 니켈 조성보다 높아지는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법을 제공한다.

Description

수지 밀착성이 우수한 Fe-Ni계 합금 포일, 그 제조방법, 증착용 마스크 및 상기 증착용 마스크 제조방법{Fe-Ni BASED FOIL HAVING RESIN ADHESION, METHOD FOR PREPARING THE Fe-Ni BASED FOIL, MASK FOR DEPOSITION AND METHOD FOR PREPARING THE MASK}
본 발명은 수지 밀착성이 우수한 Fe-Ni계 합금 포일, 그 제조방법, 증착용 마스크 및 상기 증착용 마스크 제조방법에 관한 것이다.
Fe-Ni계 합금 포일은 다양한 용도로 개발되어 가정/산업에 널리 이용되고 있다. Fe-Ni계 합금 포일의 경우 열 팽창 계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)가 낮아 유기 EL 디스플레이장치(OLED, Organic Light Emitting Diodes)의 화소를 형성하는 증착용 마스크의 재료로 널리 사용되고 있는 것으로 알려져 있다. 또한, OLED 용 봉지재, 전자소자 기판 등으로 이용되기도 하고, 나아가 이차전지의 음극 집전체 및 리드 프레임으로도 각광받고 있는 상황이다.
최근 스마트기기의 대중화와 함께 VR(가상현실) 기기의 요구가 높아져 가고 있는 가운데, 응답속도가 빠르고, 시야각이 넓으며, 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 소비 전력의 낮은 유기 EL 디스플레이 장치가 주목 받고 있다. 특히 VR은 해상도가 높아질수록 더욱 높은 현실감을 제공해주기 때문에 향후 VR 기기들의 화질 향상이 더욱 요구되고 있다.
고화질의 유기 EL 디스플레이를 제조하기 위해서는 디스플레이 장치 화소의 미세화가 요구된다. 이러한 유기 EL 디스플레이 장치의 화소를 형성하는 방법은 형성하고자 하는 패턴의 배열로 관통 홀을 갖는 증착용 마스크를 사용하여 원하는 패턴의 화소를 형성하는 방법이 알려져 있다.
구체적으로는, 관통 홀의 배열들을 포함하는 증착용 마스크를 유기 EL 디스플레이 기판에 밀착하여 진공 증착 방식을 통해서 증착되는 유기 재료의 화소를 형성하는 것이다.
일반적으로 증착용 마스크는 합금 포일에 포토레지스트 막을 코팅하고 포토리소그래피 기술을 사용하여 포토레지스트의 패턴을 형성한 후, 습식 또는 건식 에칭을 통해 합금 포일에 관통하는 관통 홀을 형성함으로써 제조될 수 있다.
이러한 에칭 방법을 통해 증착용 마스크를 제조하는 경우, 포토레지스트의 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 문제가 발생하게 된다. 이러한, 측면 에칭이 발생하면, 에칭의 깊이와 측면 에칭의 깊이와의 비를 나타내는 부식 계수(Etch Factor)가 낮을 경우 미세한 패턴을 갖는 증착용 마스크를 제조할 때 인접 관통홀의 형성에 영향을 미치기 때문에 고화소의 증착용 마스크를 제조할 수 없게 되는 문제점이 발생한다.
특히, 일반적으로 에칭 마스크로 사용되는 포토레지스트의 하부에서 합금 포일과 포토레지스트와의 접착력이 낮고 합금 포일의 표면 에칭 속도가 빠를 경우 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 현상이 증가하여 인접 관통홀 간에 간섭을 야기하는 현상이 증가하게 된다.
본 발명은 상술한 과제를 해결하기 위하여 도출된 것으로, Fe-Ni계 합금 금속박의 표면의 특성을 개질시켜 금속박 상에 도포되는 수지에 대한 밀착성이 우수한 금속박을 제공하고자 한다.
본 발명은 수지밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일을 제공하고자 하는 것으로서, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일로서, 상기 합금 포일은 표면에 철 및 니켈의 산화물 층을 포함하고, 상기 철 및 니켈의 산화물 층의 니켈 함량은 상기 평균 조성의 니켈 함량보다 높은 것인 철-니켈 합금 포일이 제공된다.
상기 산화물 층의 니켈 함량은 산화물층의 철 함량보다 높은 것이 바람직하다.
상기 산화물 층의 니켈 함량은 53 내지 75중량%인 것이 바람직하다.
상기 철-니켈 합금 포일은 10 내지 100㎛의 두께를 갖는 것일 수 있다.
상기 철-니켈 합금 포일은 전기주조에 의해 형성된 것일 수 있다.
본 발명은 또한 수지 밀착성이 우수한 합금 포일 제조방법을 제공하며, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일 표면의 산화물 층을 산을 포함하는 산 용액으로 표면 처리하는 산 처리 단계를 포함하며, 상기 산 처리 단계에 의해 산화물 층의 Ni 함량이 상기 철-니켈 합금 포일의 니켈 조성보다 높아지는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법을 제공한다.
상기 산은 질산, 염산, 염화철 또는 이들의 혼합 산일 수 있다.
상기 혼합 산은 염산과 질산을 1:0.5 내지 3의 중량비로 포함하는 것일 수 있다.
상기 산 용액은 산 농도가 1 내지 20%일 수 있다.
상기 산 처리는 상기 산화물 층의 니켈 함량이 철 함량보다 높도록 수행하는 것이 바람직하다.
상기 산 처리는 산화물 층의 니켈 함량이 53 내지 75중량%가 되도록 수행하는 것이 바람직하다.
상기 산 처리 단계는 1분 내지 10분 동안 수행하는 것이 바람직하다.
상기 철-니켈 합금 포일은 전기주조에 의해 형성된 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 견지로는 상기 철-니켈 합금 포일로 된 증착용 마스크를 제공한다.
상기 철-니켈 합금 포일은 포토레지스트 형성 후의 부식지수가 2.0 이상일 수 있다.
본 발명의 또 다른 견지로는 증착용 마스크 제조방법을 제공하며, 상기 본 구현예로 제공되는 표면 개질된 합금 포일 표면에 소정 패턴의 포토레지스트를 형성하는 단계, 상기 포토레지스가 형성된 합금 포일을 습식 또는 건식 에칭하여 소정 패턴의 관통 홀을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트를 제거하는 단계를 포함하는 증착용 마스크 제조방법을 제공한다.
본 발명의 실시예에 따른 Fe-Ni계 합금 금속박은 수지 밀착성이 매우 우수하여, 습식 에칭 공정을 통해 제조되는 증착용 마스크의 관통 홀을 형성하는 공정에서, 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭을 억제하여 부식 계수(etch factor)를 향상시킬 수 있으며, 이로 인해 고화소의 증착용 마스크를 제조할 수 있다.
도 1은 Fe-Ni계 합금 금속박의 표면에 대한 표면처리 전 및 후의 XPS O1s 측정 결과를 나타내는 그래프이다.
본 발명은 수지 밀착성 및 에칭 지수가 우수한 Fe-Ni계 합금 포일 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 이에 의해 제공되는 합금 포일은 예를 들어, FMM(Fine Metal Mask), 전자소자용 유연 기판 또는 봉지재로 활용 가능하다.
일반적으로 에칭 마스크로 사용되는 포토레지스트의 하부에서 합금 포일과 포토레지스트와의 접착력이 낮고 합금 포일의 표면 에칭 속도가 빠를 경우 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 문제가 있다. 이러한 측면방향으로의 에칭이 일어나는 경우, 즉, 부식계수(부식지수, Etch Factor)가 낮은 경우에는 인접 관통홀 간에 간섭을 야기하여 미세한 패턴을 갖는 고화소의 증착용 마스크 제조할 수 없는 문제가 있다.
이와 같은 측면 방향으로는 에칭은 합금 포일과 에칭 마스크인 포토레지스트와의 접착력이 낮은 경우에 더욱 현저하게 된다. 이에, 본 발명은 합금 포일의 표면 상태 변화를 통해 합금 포일과 포토레지스트와의 밀착력을 향상시켜 이와 같은 측면 방향으로의 에칭으로 인한 문제를 방지하고자 한다.
본 발명자들은 연구를 거듭한 결과, 증착용 마스크로 사용되는 Fe-Ni 합금 포일은 합금 포일의 전체 조성과 동일한 조성의 철 산화물 및 니켈 산화물이 형성되며, 이중에서 철 산화물이 포토레지스트에 대한 밀착력을 저하시키는 원인임을 확인하였다.
이에, 본 발명은 Fe-Ni 합금 포일의 표면을 개질하여 수지 밀착성을 향상시킴으로써 측면 방향으로의 에칭 현상을 억제하고, 이를 통해 보다 정밀한 관통 홀을 형성할 수 있다는 것으로부터 본 발명을 완성하였다.
이러한 표면에 열팽창율이 낮은 Invar와 같은 Fe-Ni 합금을 증착용 마스크로 사용하는 기술이 증가하고 있다. 이러한 Invar는 표면에 산화막이 형성되는데, 산화막 조성은 포토레지스트에 대한 접착력이 낮은 철 산화물의 함량이 높다. 이로 인해, 포토레지스트에 대한 밀착성이 낮아, 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 현상이 높아 정밀한 관통 홀 형성에 방해 요소로 작용하고 있다.
본 발명이 적용되는 합금 포일은 Fe와 Ni의 합금 포일이라면 특별히 한정하지 않는다. 보다 바람직하게는 상기 합금 포일은 중량%로, Ni 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 합금 포일에 적용될 수 있다. 즉, 이와 같은 Fe-Ni 합금 포일은 철의 함량이 높은 것으로서, 표면의 산화막 조성 역시 철 산화물량이 많다. 따라서, 철 산화물로 인해 표면에 수지 밀착성이 낮다. 따라서, 본 발명을 적용함으로써 수지 밀착성을 향상시킬 수 있다.
상기 합금 포일의 두께는 특별히 한정하지 않으나, 증착용 마스크로서의 용도로 제공되며, 최근의 고해상도의 구현을 위한 요구에 부응하는 측면에서 상기 합금 포일의 두께는 100㎛ 이하(0㎛ 제외한다), 보다 바람직하게는 10 내지 100㎛의 두께를 갖는 것일 수 있다.
금속 포일의 두께가 100㎛를 초과하는 경우에는 관통 홀 패턴을 형성할 때 금속 박의 두께가 두껍기 때문에 에칭 과정에서 인접 패턴간의 간섭이 발생하여 정확한 패턴을 형성할 수 없는 등, 고해상도의 패턴을 얻기에 기술적 어려움이 있으며, 또, 10㎛ 미만의 두께의 합금 포일을 사용하는 경우에는 강도가 저하되어, 증착용 마스크를 제작할 때에 기판의 변형이 나타나는 등, 운용 및 취급에서의 어려움이 동반되는 문제점이 있다.
이와 같은 Fe-Ni 합금 포일은 압연법(Rolling)에 의해 얻어진 것은 물론, 전기주조법(Electroforming, 전주법)에 의해 얻어진 것일 수 있는 것으로서, 특별히 한정하지 않는다.
상기 압연법은 Fe 및 Ni을 잉곳(Ingot)으로 주조한 후, 압연과 소둔을 반복 실시하여 합금 포일로 만드는 방법으로서, 이러한 압연법에 의해 제조된 Fe-Ni계 합금 포일은 신장율이 높고, 표면이 평활하기 때문에 크랙이 발생하기 어려운 장점이 있다. 그러나, 제조시 기계적인 제약에 의해 폭 1m 이상인 것은 제조가 곤란하며, 극박(50㎛ 이하)인 경우 제조 원가가 지나치게 많이 소요되는 단점이 있다. 또한, 이러한 제조 원가 측면에서의 불리함을 감수하고 압연법에 의해 합금 포일을 제조한다고 하더라도, 조직의 평균 결정립 크기가 조대하여 기계적 물성이 열위하게 나타나는 단점이 있다.
한편, 전주법은 전해조 내에 설치되어 회전하는 원통형의 음극 드럼과 대향하는 한 쌍의 원호 형상의 양극에 둘러싸인 틈으로 급액 노즐을 통해 전해액을 공급하여 전류를 통전함으로써, 상기 음극 드럼의 표면에 금속을 전착시키고, 이를 떼어낸 후 권취함으로써 합금 포일로 만드는 방법이다. 이러한 전주법에 의해 제조된 합금 포일은 평균 결정립 크기가 미세하여 기계적 물성이 우수하다는 장점이 있으며, 더욱이 낮은 제조 비용으로도 제조가 가능하여 제조 원가가 낮다는 장점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 합금 포일의 적어도 일 표면을 개질함으로써 수지 밀착성을 향상시키고자 하는 것이다. 본 발명에 있어서, 상기 합금 포일의 표면 개질은 표면의 산화물층을 산으로 에칭함으로써 수행할 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 에칭은 산화물층을 모두 제거하는 것이 아니라, 에칭에 의해 산화물층의 일부, 보다 구체적으로는 산화물층을 구성하는 철 산화물을 일부 제거함으로써 철 산화물의 함량을 낮추는 것을 의미한다. 보다 구체적으로는 Fe-Ni 합금 포일의 니켈 함량에 비하여 산화물층의 니켈 함량이 증가하도록 에칭하는 것이다. 상기 에칭에 의해 산화물 층의 니켈 함량이 철 함량보다 많게 되는 것이 보다 바람직하며, 산화물층의 니켈 함량은 53 내지 75중량%로 되는 것이 더욱 더 바람직하다.
이와 같은 Fe-Ni 합금 포일의 산화물층에 대한 표면 개질은 염산, 질산, 염화철 또는 혼합 산의 산 용액을 이용하여 수행할 수 있다. 상기 산 용액은 특별히 한정하지 않으나, 상기 산이 1 내지 10%의 농도로 포함하는 용액을 사용하는 것이 바람직하다. 산 농도가 1% 미만인 경우에는 충분한 표면 개질이 일어나지 않아 수지 밀착성 개선 효과가 미미하며, 20%를 초과하는 경우에는 산화물층이 부분적으로 또는 전면적으로 제거되어 오히려 표면 조도 증대를 초래하여 에칭 시 공경 형상의 불량을 초래할 수 있다. 보다 바람직하게는 상기 산 농도는 5 내지 20%일 수 있다.
본 발명에 있어서, 혼합 산을 사용하는 경우에는 염산과 질산의 혼합 산일 수 있으며, 염산과 질산을 1: 0.5 내지 3의 중량비로 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 산 용액을 사용하여 표면처리하는 경우, 표면처리 시간은 특별히 한정하지 않으나, 30초 내지 10분 동안 수행하는 것이 바람직하다. 30초 미만으로 수행하는 경우에는 충분한 표면 개질 효과가 일어나지 않아 수지 밀착성 개선 효과가 적으며, 10분을 초과하는 경우에는 산화물층이 부분적으로 또는 전면적으로 제거되어 오히려 표면 조도 증대를 초래하여 에칭 시 공경 형상의 불량을 초래할 수 있다.
상기와 같은 표면 처리액은 Fe-Ni 합금 포일의 산화물층에 존재하는 철 산화물 및 니켈 산화물에 대하여 에칭성을 가지지만, 상대적으로 철 산화물에 대한 에칭성이 높은 반면, 니켈 산화물에 대하여는 에칭성이 낮아 철 산화물에 대한 선택성이 높다. 따라서, Fe-Ni 합금 포일의 산화물 층에 존재하는 철 산화물을 선택적으로 에칭 제거하여 산화물층의 니켈 산화물의 함량을 증대시킬 수 있다.
이와 같은 본 발명의 방법에 의해 Fe-Ni 합금 포일의 산화물 층의 조성을 변화시킬 수 있어 Fe-Ni 합금 포일의 표면을 개질할 수 있다. 이에 의해 Fe-Ni 합금 포일이 수지에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다.
이러한 수지 밀착성은 포토레지스트를 도포한 후에 두께 방향의 에칭 깊이와 측면 방향의 에칭 깊이의 비를 나타내는 부식지수(Etch Factor)로부터 확인할 수 있는 것으로서, 본 발명에 따른 Fe-Ni 합금 포일은 부식지수는 2.0 이상인 것이 바람직하다. 상기 부식지수가 2.0 미만이면 수지 밀착성이 열악하여 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 큰 문제가 있다. 상기 부식지수는 2.0 이상이라면 그 상한은 특별히 한정하지 않으며, 부식지수가 클수록 측면 방향으로의 에칭에 비하여 두께 방향으로의 에칭율이 큰 것인바, 보다 바람직하다. 예를 들면, 상기 부식지수의 상한은 4.0, 5.0, 6.0 또는 7.0일 수 있다.
본 발명에 의해 얻어진 표면 개질된 Fe-Ni 합금 포일은 증착용 마스크로 사용할 수 있다. 상기 증착용 마스크로 사용함에 있어서는 소정 패턴의 관통홀을 갖는다.
상기 관통홀은 상기 Fe-Ni 합금 포일 표면에 소정의 관통홀 패턴으로 포토레지스트를 도포하고, 습식 또는 건식법에 의해 에칭함으로써 상기 소정의 관통홀 패턴을 형성할 수 있다. 이후, 상기 포토레지스트를 제거하여 증착용 마스크를 제조할 수 있다. 본 발명에 의해 얻어진 증착용 마스크는 수지와의 밀착성이 우수하여 측면으로의 에칭이 적어 인접 관통홀과의 간섭 현상을 방지할 수 있어, 고 정밀도의 관통홀 패턴을 갖는 증착용 마스크를 얻을 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예를 들어 보다 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 구현예에 대한 것으로서, 이에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
전기주조에 의해 얻어진 Ni 함량이 40중량%인 30㎛ 두께의 Fe-Ni 합금 포일을 준비하였다. 상기 전주 Fe-Ni 합금 포일의 표면 조성을 분석하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다. 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 표면에 Ni 조성이 40중량%임을 알 수 있었다.
나아가, Fe-Ni 합금 포일의 표면에 대하여 XPS O1s를 측정하고 그 결과를 도 1에 나타내었다(bare). 도 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 철 산화물층과 니켈 산화물층이 존재함을 확인하였다. 따라서, Fe-Ni 합금 포일은 표면에 Fe-Ni 합금 포일의 평균 조성과 동등한 조성 비율로 Fe2O3와 Ni2O3의 산화물이 존재함을 알 수 있었다.
상기 Fe-Ni 합금 포일을 표 1에 나타낸 바와 같은 산을 포함하는 산 용액을 사용하여 5분 동안 표면 개질하였다(단, 발명예 1은 1분 동안 표면 개질하였다).
표면 개질된 Fe-Ni 합금 포일 표면의 니켈 조성을 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
나아가, 발명예 3의 산 용액을 사용하여 1분, 5분 및 10분 동안 산처리하고, 그에 의해 얻어진 Fe-Ni 합금 포일의 표면 산화물층을 XPS 01s 측정을 수행하고, 그 결과를 도 1에 나타내었다.
도 1로부터 알 수 있는 바와 같이 비교예 1의 Fe-Ni 합금 포일은 표면 산화물층에 Ni 성분보다 Fe 성분이 많기 때문에 표면에 Fe2O3 피크가 높게 나타났다. 반면, 본 발명에 따른 산 용액에 의한 표면 처리된 Fe-Ni 합금 포일은 Fe2O3 피크에 비하여 Ni2O3 피크가 높아짐을 확인할 수 있으며, 상기 표면 처리 시간이 증가할수록 Ni2O3 피크가 더 크게 나타남을 확인할 수 있다. 이는 합금 포일 표면의 산 처리에 의해서 Fe2O3가 먼저 용해가 되고 Ni2O3는 상대적으로 적게 용해가 이루어진 결과이다.
아래 표 1에 나타낸 바와 같이, 각종의 산 용액에 의해 산처리된 Fe-Ni 합금 포일 표면에 대하여 소정 관통홀 패턴으로 포토레지스트를 도포하였다. 상기 Fe-Ni 합금 포일에 대한 포토레지스트의 밀착성을 에칭 공정 중에 테스트하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
상기 수지 밀착성은 에칭 공정이 완료될 때까지 합금 포일에 정상적으로 부착되어 있는지 또는 탈락하는지 여부로 평가하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다. 평가 기준은 다음과 같다.
◎: 패턴영역과 미패턴 영역 모두 부착
○: 패턴영역은 문제 없으나, 미패턴 영역에서 탈락
△: 패턴영역에서 탈락 발생
상기 소정 관통홀 패턴으로 포토레지스트가 도포된 Fe-Ni 합금 포일에 대하여 에칭액(FeCl3, 염화 제Ⅱ철 용액)으로 분무 에칭(Spray etching)하여 Fe-Ni 합금 포일에 포일 두께의 2/3 수준까지 관통홀을 형성하였다. 상기 에칭 후에 포토레지스트를 제거한 후, 부식지수를 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
부식지수는 에칭 후 포토레지스트의 개구부 크기를 측정하고, 포토레지스트를 제거한 후 포일의 에칭부의 개구부를 측정하여 단일부 크기(포토레지스트 하부에서 측면방향으로 에칭이 진행된 크기)를 얻은 후 에칭 깊이와의 비를 계산하여 기재하였다.
산종류 농도(%) 수지밀착성 부식지수(E/F) 표면 Ni조성(%)
비교예 1 무처리 △ 1.6 40
발명예 1 HCl 1 ○ 2.0 45
발명예 2 HCl 1 ○ 2.2 50
발명예 3 HCl 5 ◎ 2.3 54
발명예 4 HCl 10 ◎ 2.5 58
발명예 5 HCl 15 ◎ 2.5 60
발명예 6 HCl 20 ◎ 2.6 61
발명예 7 HNO3 1 ○ 2.1 52
발명예 8 HNO3 5 ◎ 2.5 57
발명예 9 HNO3 10 ◎ 2.5 60
발명예 10 HNO3 15 ◎ 2.6 62
발명예 11 HNO3 20 ◎ 2.7 65
발명예 12 혼산(10%HCl+10%HNO3) 1:1 ◎ 2.7 67
발명예 13 혼산(10%HCl+10%HNO3) 1:2 ◎ 3.0 70
발명예 14 혼산(10%HCl+10%HNO3) 1:3 ◎ 3.2 72
상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 Fe-Ni 합금 포일 표면을 에칭함으로써 표면의 Ni 조성을 높일 수 있으며, 이에 따라 수지 밀착성이 향상됨을 알 수 있다. 이와 같은 결과에 의해 에칭에 대한 부식지수를 향상시킬 수 있다.
그러나, 산처리를 수행하지 않은 경우에는 표면 Ni 조성이 낮기 때문에 상대적으로 수지 밀착성이 낮고, 부식지수가 낮아서 메탈 마스크를 제작하는 공정에 직접 사용하기에 어려움이 있다.

Claims (16)

  1. 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일로서, 상기 합금 포일은 표면에 철 및 니켈의 산화물 층을 포함하고, 상기 철 및 니켈의 산화물 층의 니켈 함량이 상기 철-니켈 합금 포일의 평균 조성의 니켈 함량보다 높은 53 내지 75중량%이고, 철 및 니켈의 산화물 층은 철 및 니켈의 수산화물을 포함하지 않는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 철-니켈 합금 포일은 10 내지 100㎛의 두께를 갖는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일.
  5. 제1항 및 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 철-니켈 합금 포일은 전기주조에 의해 형성된 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일.
  6. 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일 표면의 산화물 층을 산을 포함하는 산 용액으로 표면 개질하는 산 처리 단계를 포함하며, 상기 산 처리 단계에 의해 산화물 층의 Ni 함량이 53 내지 75중량%로서, 상기 철-니켈 합금 포일의 평균 조성의 니켈 함량보다 높고, 철 및 니켈의 산화물 층은 철 및 니켈의 수산화물을 포함하지 않는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 산은 질산, 염산, 염화철 또는 이들의 혼합 산인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법.
  8. 제7항에 있어서 상기 혼합 산은 염산과 질산을 1:0.5 내지 3의 중량비로 포함하는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 산 용액은 산 농도가 1 내지 20%인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 제6항에 있어서, 상기 산 처리 단계는 1분 내지 10분 동안 수행하는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법.
  13. 제6항 내지 제9항 및 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 철-니켈 합금 포일은 전기주조에 의해 형성된 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법.
  14. 제1항 및 제4항 중 어느 한 항의 철-니켈 합금 포일로 된 증착용 마스크.
  15. 제14항에 있어서, 상기 철-니켈 합금 포일은 포토레지스트 형성 후의 부식지수가 2.0 이상인 증착용 마스크.
  16. 제1항 및 제4항 중 어느 한 항의 합금 포일 표면에 소정 패턴의 포토레지스트를 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트가 형성된 합금 포일을 습식 또는 건식 에칭하여 소정 패턴의 관통 홀을 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트를 제거하는 단계
    를 포함하는 증착용 마스크 제조방법.
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