JPS62238003A - シャドウマスクの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラーテレビブラウン管のシャドウマスクを
製造するためのシャドウマスク用素材およびその製造法
に関する。より詳しくは、穿孔処理されたフラットマス
クを焼純する時の密着焼付を防止したシャドウマスク用
素材およびその゛製造法に関する。

〔従来の技術〕

従来、カラーテレビブラウン管用のシャドウマスクは例
えば第１図に示すような諸工程を経て製造される。第１
図はフォトエツチング後に焼純工程をもつボストアニー
ル法に基づく製造法を示しており、仕上冷間圧延までが
素材メーカーにおける素材製造工程である。この素材は
板厚が０．３ｍｎ＋以下の極薄鋼帯であり、仕上冷間圧
延は圧下率４０％以上で行なわれるのが普通である。こ
の素材のダル付けは、ダル加工ロールで直接ダル圧延す
るか、或いはｍπダル圧延を実施しているのが通常であ
る。そのさい、ロールのダル目は、ロール表面にグリッ
ドブラスト加工、液体ホーニング加工または放電加工な
どを施すことによって付けられる。この様にして製造し
たシャドウマスク用素材はコイル状にして通常はエツチ
ング穿孔メーカーに出荷される。

エツチング穿孔メーカーでは、フォトエツチング穿孔処
理によって所定の孔をあけ、裁断してフラットマスクと
する。そして、このフラットマスクを通常はブラウン管
製造メーカーに出荷する。

ブラウン管製造メーカーではフラットマスクを第２図に
示すように数十枚〜数百枚重ね合わせて６５０〜８００
℃の高温で焼純を行ない、これによってプレス成形性を
良くする。焼純後のストレッチャーストレインの発生に
対してはローラーレベラーをかけて防止することが通常
行なわれる０次いでブラウン管形状にプレス成形し最後
に黒化処理を施す。

〔発明が解決しようとする問題点〕 フォトエツチング穿孔処理後においてフラットマスクを
焼純する工程（通常はブラウン管メーカーで行なわれる
）をもつシャドウマスクの製造法（ボストアニール法）
によると、その焼純時に密着焼付の問題を生ずる。すな
わち、記述のようにフラットマスクを数十枚〜数百枚重
ね合わせて６５０〜８００℃の高温で焼純を行なう場合
に、フラットマスク同士が密着を起こして剥離しに（く
なって精密穿孔された孔形状に悪い影響を与えたり１時
には、折れしわになることもある。この焼純工程は精密
にフォトエツチング穿孔処理されたフラットマスクを扱
う工程でありボストアニール法では確立された工程であ
るから、ここでの不良品発生並びに作業性の低下は製造
性に大きな影響を与え。

製品シャドウマスクの品質並びに歩留りに対してもその
影響が大きい。

本発明はこの問題を解決できるシャドウマスク用素材の
提供を目的とする。

〔問題点を解決する手段〕

前記目的を達成するための本発明のシャドウマスク用素
材は９表面粗度（Ｒａ）が０．２〜２．０μｍの範囲で
且つ粗さ曲線の高さ方向の片寄り指標であるスキューネ
ス（Ｒｓｋ）が０以上であることを特徴とする。

本発明に従うシャドウマスク用素材を製造するには、最
終冷間圧延または調質圧延のさいに、ダル加工したあと
ポリッシング処理したロールを用いるとよい、ポリッシ
ング処理によって、ダル加工で形成されたロール表面の
山の部分（表面状態を拡大したプロフィールにおける山
と谷の部分のうち山の部分）だけが削りとられて谷の多
いプロフィールとなるので、このロールを使用して調帯
表面をダル圧延もしくはダル調質圧延すると、スキュー
ネス（Ｒｓｋ）が０以上の表面状態を鋼帯側に簡単に形
成させることができることになるからである。

本発明に従うシャドウマスク用素材は１表面粗度（Ｒａ
）が０．２〜２．０μｍの範囲で且つスキューネス（Ｒ
ｓｋ）が０以上の表面状態を有する。ここで表面粗度（
Ｒａ）およびスキューネス（Ｒｓｋ）は次のように定義
される。

第３図に示すように１表面のあらさ曲線（低周波成分を
除去した断面曲線）において、中心線の方向に長さしの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、そ
れに直角な方向をＹ軸として、あらさ曲線をｙ＝ｙ（ｘ
）で表したとき１次の（１）式で与えられる値をμ隋単
位で表したものがＲａここで、あらさ曲線の中心線とは
、あらさ曲線の平均線に平行な直線のうちでこの直線と
曲線とで囲まれる面積がその両側で等しくなるようなも
のをいう。

一方、スキューネス（Ｒｓｋ）は、第４図に示すように
、あらさ曲線の高さ方向の片寄り（スキューネス）の度
合を示すものであり、振幅分布曲線の形を測定して表示
され９次の（２）式で表される。

Ｒｑ３・　Ｎ　′ このＲｓｋによると、たとえＲａやＲｑが同じ値の表面
でも形状の非対称を比較して区別することができ、山の
多いプロフィールであればＲｓｋＯ値は正の値となり、
谷の多いプロフィールであればＲｓｋＯ値は負となる。

表面粗度（Ｒａ）が０．２〜２．０μＩでスキューネス
　（Ｒｓｋ）が０以上の表面をもつシャドウマスク用素
材であれば、後記するように、そのフラットマスクを積
み重ねて焼純処理した場合にも密着が生じない。かよう
な表面をもつシャドウマスク用素材を製造するには、そ
の最終冷間圧延（二次冷間圧延）もしくは二次冷間圧延
後の調質圧延におけるロールとして、ダル加工した後に
ポリッシング処理したロールを使用するのがよいことが
わかった。

シャドウマスク用素材の二次冷間圧延もしくは二次冷間
圧延後の調質圧延で素材表面にダル目を付けることが通
常行われているが、これは、グリフドブラスト加工１液
体ホーニング加工または放電加工したロールを用いるこ
とによって行われている。このダル圧延用ロール或いは
ダル調質圧延用ロールは、そのロールの表面の断面プロ
フィールが凹凸の激しい形状を有しているので、素材側
に転写される断面プロフィールも山と谷がほぼ１：１に
対応しているか、或いは、谷の部分が多いプロフィール
となりやすい。本発明においては。

ダル圧延用ロール或いはダルｌｌ’ｌｔ圧延用ロールの
表面をポリッシング処理することにより、より具体的に
は７グリツトブラスト加工、液体ホーニング加工または
放電加工した後に更にポリッシング処理することにより
、ロールの山の部分を削って谷の部分の多いプロフィー
ルとする。そしてこのロールを使用して二次冷間圧延も
しくは二次冷間圧延後の調π圧延を行ってダル目を付け
る。これによって素材側の表面には表面粗度（Ｒａ）が
０．２〜２．０μｍでスキエーネス　（Ｒｓｋ）が０以
上の山の部分の多い粗度プロフィールとすることができ
る。また、ポリッシング処理の付随効果として。

第一に、ロール側の山の部分が少なくなって滑らかにな
ることから、素材側でピンホールが少なくなりエツチン
グ穿孔処理時に孔の断面形状が良好となること、第二に
、ロール自身の粗度摩耗が少な（なり永い耐用寿命のも
とて均一製品の製造ができることが挙げられる。

第５図は、第１図に示すシャドウマスク用素材工程にお
ける最終冷間圧延のダル圧延のさいに。

そのロールのｍ類を換えた以外は、同じ鋼、製造工程お
よび条件でシャドウマスク用素材を製造した場合の、素
材製品の表面粗度プロフィールを示したものである。

比較例ｆｉｌはダル加工されたまま（ポリッシング処理
なし）のロールを使用した例であり、このロールは図示
のように波長の長い粗度プロフィールを有している。こ
のプロフィールのロールを使用して得られた素材製品は
表面粗度（Ｒａ）は０．２〜２．０μｍの範囲にあるが
、スキエーネス（Ｒｓｋ）が−０，３であった。このフ
ラットマスクを５０枚積み重ねて温度７５０℃で１０分
間焼純処理したところかなり振動を加えないと剥離しな
い程度の密着が生じた。

比較例（２）は、比較例（１）と同じくダル加工された
まま（ポリッシング処理なし）のロールを使用したが、
ダル加工の条件を変えて波長の短い緻密なロール粗度プ
ロフィールとしたロールを使用した例である。このロー
ルを使用した素材製品は１表面粗度（Ｒａ）は比較例（
１１と同様でありスキューネス　（Ｒｓｋ）　は−０，
Ｉ　であり、比較例（１１と同様の条件での焼純におい
て密着が生じた。このことから粗度プロフィールにおけ
る波長の長短は密着焼付において大きな有意差を生じさ
せないことがわかる。

実施例（３）は、比較例（２）と同様のダル加工を施し
たあと、ポリッシング処理することにより５図示のよう
な山の部分を削り七つだプロフィールをもつロールを使
用した例である。このポリッシング処理ロールを使用し
て得た素材製品の表面は図示のように山の多いプロフィ
ールとなった。すなわちその表面粗度は比較例Ｅｌｌや
（２）と同等であるが。

スキエーネス　（Ｒｓｋ）が０．２であった。この場合
には、比較例と同じ条件の焼純処理において全く密着が
生じなかった。

このように、フラットマスク焼純時の密着焼付を防止す
るには、ダル加工後ポリッシング処理することによって
谷の部分の多い粗度プロフィールのロールでダル目を付
け、製品素材のＲｓｋが０以上の正の値となるようにす
ることが重要であることが判明した。

なお９表面粗度（Ｒａ）については、Ｒａが０．２μｍ
未満では凹凸が小さいために粗度の断面形状を改善して
もフラットマスク同士の接触面積が大きくなって焼純密
着の防止に対してＲｓｋが有効に（妨かなくなる。一方
Ｒａが２．０μ蒙を趨えるような大きな値となると、エ
ツチング穿孔処理時において孔形状が悪くなるので、Ｒ
ａは０．２〜２．０μｍの範囲とする必要がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はシャドウマスクの通常の製造工程を説明するた
めの工程図、第２図はフラットマスクの積み重ね焼純状
態を示す斜視図、第３図は表面粗度（Ｒａ）を説明する
ためのモデルプロフィール図。 第４図はスキューネス（Ｒｓｋ）を説明するためのモデ
ルプロフィール図、第５図は本発明の実施例結果を示す
ロール粗度プロフィールと素材製品粗度プロフィールの
関係を示す図である。 出願人　日新１！１１１株式会社 し旦シ 第３図 第４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）フラットマスクの多数枚を積み重ねて焼純処理す
   る工程を含むシャドウマスクの製造方法に供する該フラ
   ットマスクと実質上同等の厚みをもつ冷延鋼帯素材であ
   って、その表面粗度（Ｒａ）が０．２〜２．０μｍの範
   囲で且つ粗さ曲線の高さ方向の片寄り指標であるスキュ
   ーネス（Ｒｓｋ）が０以上であるシャドウマスク用素材
   。
2. （２）シャドウマスク用素材の製造にさいし、その最終
   冷間圧延または調質圧延のさいに、ダル加工したあとポ
   リッシング処理したロールを用いて、表面粗度（Ｒａ）
   が０．２〜２．０μｍの範囲で且つ粗さ曲線の高さ方向
   の片寄り指標であるスキューネス（Ｒｓｋ）が０以上の
   表面状態を該素材表面に付与することを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載のシャドウマスク用素材の製造法
   。