JPH04103743A - シャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金薄板およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の目的」 （産業上の利用分野） 本発明はシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板およびそ
の製造方法に係り、カラーテレビブラウン管のシャドウ
マスクを製造するためのＦｅ　−Ｎｉ系合金薄板におい
てエツチング穿孔性が優れ、特に穿孔時のムラ発生を防
止し、かつ穿孔後のフラットマスクを焼鈍するときの密
着焼付を防止し適切な製品を得るための技術に関するも
のである。

（従来の技術） 近年、カラーテレビの高品位化に伴い、色ずれの問題に
対応できる低熱膨脂のシャドウマスク材料としてＦｅ−
Ｎｉ系のインバー合金が注目されているが、この合金は
従来の低炭素鋼によるシャドウマスク材に比し、エツチ
ング穿孔時におけるフラットマスクのムラ発生および穿
孔後のフラットマスクを焼鈍するときに密着焼付性が著
しい。

これらのうち、前者の問題を解決すべく、■特開昭６１
−３９３４４号公報、■特開昭６２−２４３７８０号公
報、■同２４３７８１号公報および■同２４３７８２号
公報が提案されている。

即ち■はシャドウマスク用素材の表面粗さ（中心線平均
粗さＲａ）を０．１〜０．４μｍとすることにより開孔
形状の規則性および開孔のシャドウマスク全体における
均一性を得ている。又■はシャドウマスク用素材の表面
粗度（Ｒａ）を０．２〜０．７μｍ、Ｓｍ　（基準長さ
内における表面粗度を示す断面曲線の凹凸間隔平均値）
を１００μｍ以下、結晶粒度を粒度番号で８．０以上と
することによりエツチング穿孔後のムラ品位の高いマス
クを提供している。

更に■は前記■の規定に加えてＲｅ　（透過孔径α１／
エツチング孔径α２）を０．９以上とすることによりエ
ツチング穿孔後のムラ品位の高いマスクを提供している
。なお■はエツチング素材の集合組織を強冷延−再結晶
焼鈍によって集積させ、且つ結晶粒度を粒度番号で８．
０以上とし、その後に前記■に記載の表面粗度への調整
をダルロールによる冷間加工度を３〜１５％としてエツ
チング穿孔後のムラ品位の高いマスクを製造しようとす
るものである。

一方上記した後者の問題を解決するに好ましい提案はな
されていない。

即ち■特開昭６２−２３８００３号公報の如き従来の低
炭素鋼フラットマスクの焼鈍時密着焼付を表面粗度の適
正化、即ちＲａを０．２〜２．０μｍで、Ｒｓｋ　（粗
さ曲線の高さ方向における偏りの指標）を０以上とする
ような提案はみられるとしてもＰｅ−Ｎｉ系インバー合
金のフラットマスクにおける焼鈍時密着焼付防止に関す
る好ましい技術は見当らない。

（発明が解決しようとする課題） 上記したエツチング穿孔時におけるフラットマスクのム
ラ品位向上を図った前記■〜■の技術では何れも曲面プ
レス前の焼鈍における密着焼付防止が達成されていない
。又■では上述のように従来における低炭素鋼フラット
マスクの焼鈍時密着焼付を防止しているのみで、実際の
インバー合金強度は低炭素鋼に比して高く、その曲面プ
レス前の焼鈍温度は低炭素鋼の場合に比し高く採らざる
を得す、ブラウン管メーカーではＦｅ−Ｎｉインバー合
金のフラットマスク焼鈍を数十枚〜数百枚重ね合わせて
８１０〜１１００℃という低炭素鋼フラットマスクの焼
鈍温度よりも相当の高温で行っているのが現状である。

このような焼鈍温度においては前記■の技術ではインバ
ー合金フラットマスク焼鈍時の焼付防止をなし得ない。

従って従来のＦｅ−Ｎｉ系インバー合金のシャドウマス
ク用素材においてエツチング穿孔時のムラ発生を防止し
、又穿孔後の焼鈍時密着焼付を適切に防止する技術が確
立されていない。

「発明の構成」 （課題を解決するための手段） 本発明は上記したような実情に鑑み、エツチング穿孔性
が優れ、特に穿孔時のムラ発生を防止し、かつ穿孔後の
フラットマスクを焼鈍するときの密着焼付を防止したＦ
ｅ−Ｎｉ系インバー合金のシャドウマスク用素材を得べ
く、検討を重ねて創案されたものであって、以下の如く
である。

１．Ｓｉ：０．０１〜０．１５ｗｔ％、Ｎｉ：３４〜３
８−ｔ％を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物か
ら成り、かつその合金鋼帯の板厚はフラ・ットマスクの
多数枚を積み重ねて焼鈍処理する工程を含むシャドウマ
スクの製造に供する該フラットマスクと実質上同等であ
り、その表面粗度（Ｒａ）が０．３〜０．７μｍ、粗さ
曲線の凸凹の平均間隔（Ｓｍ　：以下単にＳｍと略す）
が７０〜１６０μｍで、しかも粗さ曲線の高さ方向にお
ける片寄り指標であるスキューネス（Ｒｓｋ）が０．３
〜１．２で、且つ、（Ｒａ）　　≧−（Ｒｓｋ）　＋０
．５の条件を満足し、またエツチング直前での合金板の
表面におけるＳｉの成分偏析率 １０％以下であることを特徴とするシャドウマスク用Ｆ
ｅ−Ｎｉ合金薄板。

２、前記１項の成分および表面粗度を有し、しかも該表
面粗度の異方性が、下記式 ％式％ 但しＲａ（Ｌ）　、Ｒｓｋ（Ｌ）、Ｓｍ（Ｌ）は圧延方
向における測定値で、Ｒａ（ｃ）　、Ｒｓｋ（ｃ）、Ｓ
ｍ　（ｃ）は圧延方向と垂直な方向における測定値であ
る。

の関係を満足することを特徴とするシャドウマスク用Ｆ
ｅ　　Ｎｉ合金薄板。

３、前記１項の成分を有する薄板を製造するに当り、そ
の最終冷延または調質圧延時にダルロールを用い、前記
１項の表面粗度を該薄板の表面に付与することを特徴と
するシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板の製造方法。

４、　前記１項の成分を有する薄板を製造するムこ当り
、その最終冷延または調質圧延時にダルロールを用い、
前記２項の表面粗度を該薄板の表面に付与することを特
徴とするシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板の製造方
法。

なお、上記各式におけるＲａ、　Ｒｓｋ　、　Ｓｍは以
下の如くである。

Ｒａとは、中心線平均粗さであり、下記の式に示される
。

但し、Ｌ：測定長さ ｆ（ｘ）：粗さ曲線 Ｒｓｋとは、平均線に対しての粗さ曲線の高さ方向の片
寄り（スキューネス）の度合を示すものであり、下記の
数式により表わされる。

トを示す。

Ｓｙａとは基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線
の凸凹の間隔の平均値 のことである。

（作用） 上記したような本発明について説明すると、本発明はシ
ャドウマスク用のインバー合金を対象としているが、事
実上問題のない熱膨脹特性として平均熱膨脹係数（３０
〜１００℃）の上限を２．ＯＸ　Ｉ　Ｑ−６７”Ｃとし
、この熱膨脹特性はＮｉ量に依存するもので、上述した
平均熱膨脹係数の条件を満たす成分範囲は−ｔ％（以下
単に％という）で、Ｎｉ量が３４〜３８％の場合である
から本発明合金のＮｉ量としてはこの３４〜３８％とす
る。なおこのＮｉ量は必要とされる熱膨張係数に応じ上
記範囲内において適当に選択される。

次に本発明が目標とするエツチング性およびフラットマ
スク焼鈍時の密着焼付防止は表面粗度の適正化と合金中
Ｓｉ量およびその分布適正化が同時に満たされて始めて
達成される。即ちＳｉはＦｅ−Ｎｉ系インバー合金にお
いて焼鈍時の密着焼付防止に有効な元素であって、この
Ｓｔが０．０１％以上となるとこの焼付防止に有効な酸
化膜が形成される。

一方このＳｔが０．１５％を越えるとエツチング穿孔時
のムラ発生が著しくなるのでこれを上限とし、これらか
らして焼付が防止でき、しかもエツチング穿孔時にムラ
発生のないＳｉ量として０．０１〜０．１５％と定めた
。なおＳｉ量がこの範囲内の場合でも合金板表面でのＳ
ｉの成分変動が大きいと、局部的にエツチング穿孔状態
の差に起因するムラ発生や焼鈍時に形成される酸化膜の
性状に差が生じ、結果として局部的に焼付くなどの問題
が発生するため斯様な成分変動は制御されねばならない
。従って本発明では上記Ｓｉ量の規定に加え、エツチン
グ直前での合金板表面におけるＳｉの成分偏析率、を１
０％以下とすることにより上記の成分変動によるエツチ
ング穿孔性の局部劣化、焼鈍時の局部的焼付を解決する
。なお、このＳｉの成分偏析率が１０％以下であっても
最小濃度部で０．０１％未満となったり、最大濃度部で
０．１５％を超えるような場合には焼鈍時の焼付、エツ
チング穿孔時のムラがそれぞれ発生するので、このよう
なことにならないように制御する。

本発明で意図する焼鈍時の焼付防止効果およびエツチン
グ穿孔時のムラ発生の抑制は上述したような成分規定に
加えて、表面粗度の適正化が必要である。即ち第１図は
、Ｓ≦０．００２５％で、Ｓｉ：０．０１〜０．１５％
（板面内の何れの場所でもＳｉは０．０１〜０．１５％
）　、Ｓｉの成分偏析率≦１０％の合金板についてエツ
チング穿孔性、焼鈍時の密着焼付きについて調査し、そ
れら両者を共に満足する領域を表面粗度のパラメータＲ
ａおよびＲｓｋで示したものである。Ｓｍは７０〜１６
０μ紹の範囲内にある。５ＬＩｌはエツチング穿孔時の
ムラ発生の抑制、および焼鈍時の焼付きの点で制御すべ
き重要なパラメータである。エツチング穿孔時のムラ発
生を抑制し、かつ焼鈍時の焼付きを防止するＳＩＩ＋の
範囲は７０〜１６０μ■である。Ｓｍが７０μｍ未満で
は、焼鈍時の焼付きが発生し、一方Ｓｍが１６０μＭを
超える場合はエツチング穿孔時のムラ発生が問題となる
。５Ｉ１１を７０〜１６０μｍとしてはじめて以下に示
すようなＲａ、　Ｒｓｋの制御のもとで、本発明で意図
する効果が得られる。Ｒｓｋが何れの値の場合でもＲａ
が０．７μ鋼を超える場合にはエツチング穿孔時のムラ
発生が著しくなり、−方Ｒａが０．３μ請未満の場合に
はフラットマスク焼鈍時の密着焼付が全面に発生し、且
つフラットマスクの均一密着性不良が発生するので本発
明におけるＲａの範囲は０．３〜０．７μｍとする。

又このようなＲａの適正化に加え、焼鈍時の焼付き防止
のためにはＲｓｋの適正化も必要である。即ちＲａが０
．３〜０．７．ｃｒｇｎの範囲でも、Ｒｓｋが＋０．３
未満では、フラットマスク焼鈍時の密着が全面にわたっ
て発生し、一方Ｒｓｋが＋１．３を越える場合ではフラ
・ノドマスク焼鈍時の局部的焼付きが発生する。また、
Ｒａ＜　−１／ａ　Ｒｓｋ　十０．５の条件ではフラッ
トマスク焼鈍時の密着が全面にわたり発生する。

以上より本発明で意図する効果を得るための表面粒度の
条件として、Ｒａ：　０．３〜０．７　μｍ　、　Ｒｓ
ｋ：０、３〜１．２かつ（Ｒａ）ミー１／３（Ｒｓｋ）
　＋　０．５と定めた。

以上のような、Ｓｉ量及びその分布の適正化、と表面粗
度の適正化により、Ｆｅ−Ｎｉインバー合金をシャドウ
マスク用薄板に適用する際での工・ノチング穿孔性及び
焼鈍時の密着焼付を防止できるが、フラットマスクの１
回の焼鈍での積層枚数を従来よりも、さらに多くし焼鈍
時のコストの低減を計ろうとする場合には、上記の表面
粗度の規定に加え、表面粗さの面内での異方性を特定値
以下にしなければならない。即ち表面粗度の異方性をＲ
ａ　　（Ｌ）−Ｒａ　　（ｃ）ｌ≦０．１μｍＲｓｋ　
（Ｌ）−ＲｓＶ　（ｃ）ｌ≦０．２とすることにより、
従来よりフラットマスクの積層枚数を多くした際でも、
部分的な焼付きは回避できる。

また、ｌｓｍ　　（Ｌ）−３ｌｌ　（ｃ）ｌ≦５．ｃｒ
ｍとすることにより、エツチング穿孔時のムラ発生をよ
り小さくすることができる。

なお、フラットマスクの焼鈍時の密着焼付の発生しない
臨界温度を高くするためには、上記の成分、表面粗度の
規定に加え、Ｓの低減が有効である。第２図は、Ｒａ、
　Ｒｓｋ　、Ｓｉ及びＳｉの偏析率が本発明範囲内でか
つＳｉが変化した材料を用いて焼鈍温度を変えて、密着
焼付の状態を調べたものである。Ｓｉの低減により、焼
付の生じない臨界の焼鈍温度を高くすることができる。

このようなＳの低減による効果の明確な機構は必ずしも
判然としないが、本発明範囲内Ｓｉ量のインバー合金に
おけるプレス前焼鈍時に表面に形成される密着防止に有
効なＳｉの酸化膜形成と、Ｓの表面偏析が、表面に競合
して起るためではないかと推察される。

又、Ｓｔの偏析低域の手段としては、たとえば、鋼塊又
は連続鋳造（ＣＣ）スラブを１２００℃×２０ｈｒの加
熱をなし、１次分塊での断面減少率２０〜６０％にて分
塊圧延を行ないその軽分塊スラブを１２００℃Ｘ２０ｈ
ｒで加熱し、２次分塊での断面減少率３０〜５０％で分
塊圧延し、徐冷する工程があげられる。この工程の中で
は１次の加熱・均熱によるＳｉの鋼塊偏析低減、１次分
塊での加工及び引き続く加熱・均熱によるＳｉの鋼塊偏
析及びミクロ偏析の低減促進および２次分塊による加工
並びに引き続く徐冷過程でのＳｉの鋼塊偏析及びミクロ
偏析の低減のさらなる促進という大きく分けて３つの工
程における均質化の相乗効果によりはじめてＳｔの均質
化が達成されているのである。なお分塊前の加熱は、雰
囲気中のＳ含有量を８０ｐｐｍ以下と極力低くして加熱
中の粒界脆化を抑制し、分塊スラブにおける表面疵の発
生抑制を配慮した。

更に本発明で特徴としているシャドウマスク用薄板は上
記のような製造履歴のものに限らず、溶鋼から直接に冷
延素材を鋳造するストリップキャスティングまたはスト
リップキャスティング乙こより鋳造された調帯を熱延軽
圧下することにより冷延素材を製造する工程を経たもの
でも本発明の効果は充分に発揮される。又このような表
面をもつシャドウマスク用インバー合金素材の製造は最
終冷延または調質圧延時にダルロールを用いて圧延する
ことにより達成し得る。

なお、アンバー合金のエツチング穿孔性、特にエツチン
グ穿孔後の孔界面の品質を向上させ、かつエツチング工
程におけるエツチング液の汚れを少なくし、エツチング
の作業性を向上させるためには、合金中の非金属介在物
の組成を第３図に示すへ１２０３−ＣｕＯ−ＭｇＯ系三
元状態図の点１．２．３．４、および５を結んだ５辺形
で囲まれた領域外の組成に制御することが必要である。

すなわち、このような介在物の組成制御により、エツチ
ング直前での非金属介在物はサイズ３μ蒙以下の球形の
介在物が主体となり、展伸性を有する圧延方向に伸びた
線型の介在物が極めて少なくなる結果エツチング孔の界
面における介在物に起因したビットの形成が抑制され、
かつ線状介在物がエツチング液に混入してエツチング液
の汚れることも極めて少なくなる。

上記したようなダルロールを得るには放電加工、レーザ
ー加工なども採用し得るが、ショツトブラスト法によっ
てダル目付はすることが好ましく、この場合においてロ
ール材質としてはＳＫＨ（硬度Ｈｓ８５〜９５）を採用
し、又径１００〜１２５■φのものを用いることが適切
である。シヨ・７トブラスト法によるロール加工条件と
しては＃１２０〜＃２４０のスチールグリソト（Ｈν４
００〜９５０）を用い、投射エネルギーとしては＃１２
゜で低目、＃２４０では高目のものを採用する。

適正ロール表面粗度を得るには、加工前においてＲａ：
０．１μｍ以下（Ｒｓｋ＜０）としたものに対し加工処
理してＲａ：　０．４〜０．９ｐｍ　、　Ｒｓｋ　　：
　＜０．２、より好ましくは＜−０，５、Ｓｍ：　４０
〜２００μｍのものとし、このようなロール粗度として
本発明範囲の表面粗度を適切に得しめる。

圧延に関しては、最終冷延または調質圧延に当り前述し
たようなダルロールで１バス当り１０％以上、しかも合
計２パス以上を採用し、１バス当り１０％以上の圧下を
なすことでロール粗度が充分に転写され、しかも２パス
以上とすることより所定のＲｓｋおよびＳｍを有効に得
しめる。

更に具体的な圧延に際して用いられる圧延油としては温
度１０〜５０℃で粘度７〜８ｃｓｔのものを０．１〜０
．５ｋｇ／ｃｄで吐出して用い、圧延速度は３０〜２０
０ｍｐＩ１１、圧延時の張力は前方が１５〜４５ｋｇ／
ｍ２、後方を１０〜４０ｋｇ／■２程度となし、単位幅
当りの圧下刃としては０．１５〜０．２５トン／ｆｌと
することが好ましい。前記した圧延油吐出圧力が０．１
ｋｇ／ｃｄ未満であり、あるいは０．５　ｋｇ／ｃｄ超
えではその他の条件が適正でも本発明で目標とする合金
薄板の表面粗度が得難い傾向が認められ、又０．５ｋｇ
／Ｃｉ超えでは表面粗度にムラが発生する。父上記した
ような圧延時の張力条件適正化によって圧延材である合
金薄板の平坦度を良好なレベルとすることができる。

薄板圧延に当ってアイアニングロール、アンチクリンピ
ンクロールなどが採用され、又中間焼鈍、ＳＲ焼鈍とし
て軟鋼用連続焼鈍炉（Ｈ２濃度５〜１５％、ＤＰ−１０
〜−３０℃の雰囲気ガス）または光輝焼鈍炉（Ｈ，濃度
１５〜１００％、ＤＰ−２０〜−６０℃）などが用いら
れる。

（実施例） 上記したような本発明によるものの具体的実施例を示し
、その作用効果の仔細を説明すると以下の如くである。

実施例１ 次の第１表に示すような成分組成を有する合金隘１〜４
を電気炉にて出鋼し、その後に取鍋精錬を行うことによ
って７トン鋼塊として得た。

なお、出鋼後の取鍋精錬は、Ｃａｂ：４０％以下のＭｇ
Ｏ−ＣａＯ系耐火物よりなる取鍋を使用し、溶滓は成分
か−ｔ％で（Ｃａｂ）　／　（Ｃａｂ）　＋　（八ｐ　
ｚＯ：＋）が０．４５％以下、ＭｇＯが２５％以下、Ｓ
ｉＯｚが１５％以下、Ｓｉより酸化力の弱い金属の酸化
物が３％以下である　ＣａＯＡｌｔｏｓ−ＭｇＯ系のも
のであり、これにより処理することで第１表中の化学成
分および後述する第２表のような合金を得た。

上記したようにして得られた各鋼塊を手入れの後、１２
００℃で２０時間加熱し、１次分塊にて断面減少率６０
％で分塊圧延を行い、しかるのち１２００℃で２０時間
加熱し、２次分塊にて断面減少率４５％で分塊圧延を行
い、徐冷することにより、合金磁１よりａ　ｗ　ｆの供
試材を得、合金隘２は供試材ｇ、合金隘３は供試材ｈ、
合金階４は供試材ｉとして夫々用意した。なお供試材す
の材料は７トン鋼塊を手入れ後、１２００℃にて１５時
間加熱し、１次分塊にて断面減少率７８％で分塊圧延を
行い徐冷することによりスラブを準備した。

これらのスラブを手入れし酸化防止剤を塗布後、加熱温
度１１００℃で加熱してから熱間圧延を行った。なおこ
の際、１０００℃以上での合計圧下率は８２％であり、
８５０℃以上での合計圧下率は９８％であって、熱間圧
延された熱延コイルの巻取り温度は５５０〜７５０℃で
あった。

上記のようにして得られた熱延コイルは脱スケール後、
冷延、焼鈍を繰返し、最終冷延または調質圧延時にダル
ロールを用いて圧延することにより後述する第３表に示
す表面粗度を有する板厚０．２５ｍの合金板を夫々得た
。なお、エツチングテスト材の介在物の形態、大きさ分
類は、原板の圧延方向における板厚断面で測定した。測
定方法は８００倍にて６０ｔ１２検鏡し、視野内すべて
の介在物の厚さ、長さを測定し、（長さ／厚さ）≦３を
球状介在物、（長さ／厚さ）〉３を線状介在物として分
類し、かつそれらの介在物のサイズ別の個数（１日２当
り）で表記した。

用いたロールのダル目付けはショツトブラスト法で材質
ＳＫＨ（Ｈｓ　９０）の径１２０ｔＩのロールに対し＃
１２０のスチールグリソト（Ｈν４００〜９５０）で加
工し、加工後の表面粗度がＲａ：０．３〜０．９０、Ｒ
ｓｋ　　：　−０，２〜１．３のロールを用い、この実
施例では最終調質圧延時に前記ダルロールにより１パス
目は１８．６％、２バス目は１２．３％（合計圧下率２
８．６％で行った。またこの圧延に当って採用された圧
延油の粘度は７．５ｃｓｔであり、圧延速度は１００ｍ
ｐｍであって、圧延時張力については前方２０眩／　ｆ
ｉｌｌ　”　、後方１５ｋｇ／鶴２で実施した。

なお、この圧延において用いられた単位幅当りの圧下刃
は０．２０）ン／ｎ、圧延油の吐出圧力は０．４ｋｇ／
ｃｄであって、円滑に圧延処理することができ、得られ
た合金板の平坦度その他は良好なレベルのものとして得
ることができた。

上記のような各合金板の板面におけるＳｉの偏析率はＥ
ＰＭＡによるマフピングアナライザーにより調査した。

又これらの合金薄板コイルにエツチング穿孔し、フラッ
トマスクを作製し、ムラ発生の状況を調査した。さらに
エツチング孔の界面を走査型電子顕微鏡により観察し、
ビットの有無を調べ、またエツチング液の汚れは、エツ
チング穿孔後の残滓の量を調べることにより行った。更
に焼鈍時の密着焼付については上記したようなフラット
マスクを３０枚積層し、９００℃の温度で焼鈍した後に
密着の状況を調査した。合金階１〜４の各村は、次の第
２表に示すような介在物の組成を有し、この介在物は液
相線温度１６００°Ｃ以上の融点を有するもので、エツ
チング直前の合金薄板での介在物は形状からして球状、
大きさも幅でみて、３μ園以下のものが主体となってお
り、エツチング穿孔性でみても、孔界面のピントは見ら
れず、エツチング液の汚れも極めて少なく、エツチング
性に優れている。即ち本発明で意図する合金素材として
は、このようにエツチング穿孔性に優れているものを基
本としている。

上記したような各調査の結果は何れも次の第３表に示す
如くであり、又各合金階１〜４については第４図のＡ　
ｌ　２０３−ＣａＯ−Ｍｇｏ系三元状態図に■〜■とし
て示した。

即ち供試材ａ、ｉおよびｐの材料は、Ｓｉ量、Ｓｉ偏析
率、Ｒａ（Ｌ）　、Ｒａ（Ｃ）　、Ｒｓｋ（Ｌ）、Ｒｓ
ｋ　（Ｃ）、（Ｒａ）＋１／３　（Ｒｓｋ）　、５ＩＩ
ｌ（Ｌ）　、Ｓｍ（Ｃ）の値が何れも本発明範囲内にあ
り、エツチング穿孔時のムラ発生および焼鈍時の密着焼
付はともに認められない。特にｐ、ｉの材料は、ｌ　Ｓ
ｍ（Ｌ）　−３ｍ（Ｃ）　ｌも本発明規定内となってお
り、エツチング穿孔時のムラ発生はまったくなく、特に
優れたムラ品位を有している。

これに対し、供試材ｑ、ｒ、ｂのものは、何れも表面粗
度のパラメータが本発明範囲内にあるものの、Ｓｉ量に
ついては本発明規定範囲下限を下まわるもの、その上限
値を越えるもの、あるいは偏析率が上限を越えるもので
あり、エツチング穿孔時のムラ発生、焼鈍時の密着焼付
のうち、１つまたは２つに問題が認められる。

なお供試材ｃ、ｄ、ｅ、ｆの各村は何れもＳｉ量および
Ｓｉの偏析率が本発明の規定範囲内にあるが、それぞれ
本発明におけるＲａの上限、（Ｒａ）　＋　１／３（Ｒ
ｓｋ）　−０，５の値、Ｒｓｋの下限、Ｒｓｋの上限か
ら外れるものであって、エツチング穿孔時のムラ発生、
焼鈍時の密着焼付性のうち１つ以上の性能が好ましくな
い。なおＧおよびｈの材料はそれぞれ５Ｉ１１が本発明
規定の上限を越えるもの、下限未満のものであり、Ｒａ
、　Ｒｓｋ　、（Ｒａ）　＋１／３　（Ｒｓｋ）　−０
，５は本発明規定内であるが、それぞれエツチング穿孔
時のムラ発生、焼鈍時の密着焼付に問題が生じている。

このように、本発明は、５ＩＩｌの適正制御のもとでは
じめて達成されることが理解される。

即ち本発明で目的とする効果は、Ｓｉ量、Ｓｉの偏析率
という成分的配慮に加え、表面粗度の適正化が図られて
始めて達成されることが理解される。

実施例２ 前記した実施例１の供試材ａの作製のために用いた熱延
コイルおよび供試材ｐの作製に用いた熱延コイルを脱ス
ケール後、冷延と焼鈍を繰返し最終冷延または調質圧延
時にダルロールを用いて圧延し、次の第４表に示すよう
な表面粗度を有する板厚０．２５ｍ５の合金板（供試材
ｊ、に、ｌ、ｍ、ｎおよび０）を得た。

これらの供試材における板面でのＳｉ偏析率は実施例１
と同じ方法で調べたが何れも４〜７％の範囲であった。

又これらの合金薄板コイルをエツチング穿孔してフラッ
トマスクを作製し、ムラ発生状況を調査した。更に焼鈍
時の密着焼付は上記したフラットマスクを５０枚積層し
第４表に示す温度で焼鈍してその後の密着状況を調べた
。これらの結果は何れも次の第４表に示す如くである。

なお、この実施例において用いられたダルロール、圧延
条件などについては前記した実施例１に述べたところと
同様であるが、ロールの表面粗度は加工後においてＲａ
：　０．４５〜０．７０ｐｍ　、　Ｒｓｋニー０．４〜
−０．９、Ｓｍ：　４０〜２００Ｉ！ｍのものであった
。

即ち供試材ｊは、Ｓｔ量、Ｓｉ偏析率および表面粗度が
何れも本発明規定範囲内で、Ｓ量は０．０００５％のも
のであり、エツチング穿孔時のムラ発生はまったくな（
、ムラ品位は極めて優れており、しかもこの実施例の焼
鈍条件においても密着焼付は発生していない。

これに対し供試材０は、Ｓｉ量、Ｓｉ偏析率および表面
粗度が本発明の規定範囲内のもので、Ｓ量が０．００２
５％のものであり、エツチング穿孔時のムラ発生はない
が、焼鈍時の密着焼付が一部で発生している。このよう
に本発明の構成要件を満たす場合であっても焼鈍温度が
実施例１より高温となるような場合にはＳ量を低くする
ことにより密着焼付の発生を防止し得ることが理解され
る。

また供試材ｎはＲａの面内異方性およびＲｓｋの面内異
方性以外は本発明の規定範囲内のものであって、この材
料はエツチング穿孔時のムラ発生はなく、８５０℃の焼
鈍では密着焼付が発生していない。これに対し供試材ｍ
は供試材ｎのフラットマスクを９５０℃で焼鈍した場合
であって、この場合は焼鈍時の密着焼付が全面にわたっ
て発生している。

なお供試材に、Ｊの各村も夫々Ｒａの面内異方性、Ｒｓ
ｋＯ面内異方性以外は本発明の規定範囲内のものである
が、これらの材料でも９５０℃の焼鈍で密着焼付きが一
部に発生している。これらの供試材に、１ｍに対し、供
試材ｊのものではＲａの面内異方性およびＲｓｋの面内
異方性も含め、すべてが本発明規定範囲内であって、こ
の場合には焼鈍温度が９５０℃でも密着焼付は発生して
いない。

このように８５０℃で焼鈍密着が発生しない材料であっ
ても、焼鈍温度をより高温とする際にはＲａおよびＲｓ
ｋの面内異方性について適正化が必要である。

「発明の効果」 以上説明したような本発明によるときは、エツチング穿
孔性に優れ、又穿孔時のムラ発生を的確に防止し、且つ
穿孔後のフラットマスクを焼鈍するに当っての密着焼付
をも適切に防止したＦｅ−Ｎｉ系インバー合金のシャド
ウマスク用薄板を提供し、又その好ましい製造法を得し
めて高品位のフラットマスクを歩留り高く製造せしめ、
それによってコスト低減を可能ならしめるなどの効果を
有し、工業的にその効果の大きい発明である。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の技術的内容を示すものであって、第１図
はフラットマスクにおけるエツチング穿孔時のムラ発生
および焼鈍時の密着焼付性とＲａ、Ｒｓｋの関係を示し
た図表、第２図はフラットマスクの焼鈍密着性とＳ量の
関係を焼鈍時フラットマスク積層数３０枚の場合につい
て示した図表、第３図はＣａＯＡ　１２０３　　ＭｇＯ
系非金属介在物の三元状態図の一部であって本発明の実
施例において用いた各合金！ｌ＆ｉｌ〜４として示した
ものであり、第４図はその全般的関係を示した三元状態
図である。 第３図 ＣａＯ 第４図 重 量 手続補正書 （自発） 平成２年９月１８日

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. １．Ｓｉ：０．０１〜０．１５ｗｔ％、Ｎｉ：３４〜３
   ８ｗｔ％を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物か
   ら成り、かつその合金鋼帯の板厚はフラットマスクの多
   数枚を積み重ねて焼鈍処理する工程を含むシャドウマス
   クの製造に供する該フラットマスクと実質上同等であり
   、その表面粗度（Ｒａ）が０．３〜０．７μｍ、粗さ曲
   線の凸凹の平均間隔（Ｓｍ：以下単にＳｍと略す）が７
   ０〜１６０μｍで、しかも粗さ曲線の高さ方向における
   片寄り指標であるスキューネス（Ｒｓｋ）が０．３〜１
   ．２で、且つ、 （Ｒａ）≧−（１／３）（Ｒｓｋ）＋０．５の条件を満
   足し、またエッチング直前での合金板の表面におけるＳ
   ｉの成分偏析率 （偏析域の成分濃度−平均成分濃度）／平均成分濃度×
   １００が１０％以下であることを特徴とするシャドウマ
   スク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板。
2. ２．請求項１の成分および表面粗度を有し、しかも該表
   面粗度の異方性が、下記式 ｜Ｒａ（Ｌ）−Ｒａ（ｃ）｜≦０．１μｍ ｜Ｒｓｋ（Ｌ）−Ｒｓｋ（ｃ）｜≦０．２ ｜Ｓｍ（Ｌ）−Ｓｍ（ｃ）｜≦５μｍ 但しＲａ（Ｌ）、Ｒｓｋ（Ｌ）、Ｓｍ（Ｌ）は圧延方向
   における測定値で、Ｒａ（ｃ）、Ｒｓｋ（ｃ）、Ｓｍ（
   ｃ）は圧延方向と垂直な方向における測定値 である。 の関係を満足することを特徴とするシャドウマスク用Ｆ
   ｅ−Ｎｉ合金薄板。
3. ３．請求項１の成分を有する薄板を製造するに当り、そ
   の最終冷延または調質圧延時にダルロールを用い、請求
   項１の表面粗度を該薄板の表面に付与することを特徴と
   するシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板の製造方法。
4. ４．請求項１の成分を有する薄板を製造するに当り、そ
   の最終冷延または調質圧延時にダルロールを用い、請求
   項２の表面粗度を該薄板の表面に付与することを特徴と
   するシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板の製造方法。