JPS62243780A - シヤドウマスク用薄板材 - Google Patents
シヤドウマスク用薄板材Info
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- JPS62243780A JPS62243780A JP8513586A JP8513586A JPS62243780A JP S62243780 A JPS62243780 A JP S62243780A JP 8513586 A JP8513586 A JP 8513586A JP 8513586 A JP8513586 A JP 8513586A JP S62243780 A JPS62243780 A JP S62243780A
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（９！明の目的）
本発明はカラー受像管に用いるシャドウマスク用薄板材
に関する。
に関する。
（従来の技術及び問題点）
従来、カラー受像管用シャドウマスクには、低炭素リム
ド冷延鋼板や低炭素ＡＱキルト冷延鋼板といった軟鋼板
が用いられているが、これらの材料より低熱膨張特性を
有するＦｅ−Ｎｉ系合金。
ド冷延鋼板や低炭素ＡＱキルト冷延鋼板といった軟鋼板
が用いられているが、これらの材料より低熱膨張特性を
有するＦｅ−Ｎｉ系合金。
例えば３６Ｎｉ−Ｆｅアンバーなどの使用が検討されて
いる。
いる。
一般にカラー受像管を作動させた場合、シャドウマスク
の開孔を通過する電子ビームは全体のｌ／；１以ドであ
り、残りの電子ビームはシャドウマスフに射突するので
、シャドウマスクは時として８０℃にも達する程加熱さ
れる。この際、シャドウマスクが熱により膨張し該シャ
ドウマスクと蛍光面の距離が変化して色純度の低下が生
じるわけであるが、Ｆｅ−Ｎｉ系アンバー合金の使用に
よりこの熱膨張が軽減されるというものである。しかし
、このＦ’ ｅ −Ｎ ｉ系アンバー合金は従来の軟鋼
に比べ多数の細孔を開けるためのエツチング性に問題が
ある。
の開孔を通過する電子ビームは全体のｌ／；１以ドであ
り、残りの電子ビームはシャドウマスフに射突するので
、シャドウマスクは時として８０℃にも達する程加熱さ
れる。この際、シャドウマスクが熱により膨張し該シャ
ドウマスクと蛍光面の距離が変化して色純度の低下が生
じるわけであるが、Ｆｅ−Ｎｉ系アンバー合金の使用に
よりこの熱膨張が軽減されるというものである。しかし
、このＦ’ ｅ −Ｎ ｉ系アンバー合金は従来の軟鋼
に比べ多数の細孔を開けるためのエツチング性に問題が
ある。
前記アンバー合金の場合、レジストの密着性やエツチン
グ液に対する腐食性が軟鋼と異なるため、従来のエツチ
ング穿孔法では孔径や孔形状のばらつきが大きくなり、
その結果、Ｍエツチングにより穿孔した細孔部に光を透
過させるとマスクにもやがかったようなむらが生じる。
グ液に対する腐食性が軟鋼と異なるため、従来のエツチ
ング穿孔法では孔径や孔形状のばらつきが大きくなり、
その結果、Ｍエツチングにより穿孔した細孔部に光を透
過させるとマスクにもやがかったようなむらが生じる。
特に、近年急速に増加しているピッチ及び孔径の小さい
高精細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずかな乱
れによってもむらが生じてしまい、カラー受像管の品位
を著しく低下させてしまう、これを防ぐため、エツチン
グ液温を低くし、エツチング速度を低下させる方法も検
討されているが、この方法では生産性が極端に低下して
、経済的に適合しない。
高精細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずかな乱
れによってもむらが生じてしまい、カラー受像管の品位
を著しく低下させてしまう、これを防ぐため、エツチン
グ液温を低くし、エツチング速度を低下させる方法も検
討されているが、この方法では生産性が極端に低下して
、経済的に適合しない。
このため生産効率がよく、かつ高品位のシャドウマスク
を得ることができるＮｉ−Ｆｅ系合金のシャドウマスク
用薄板材が待ち望まれていた。
を得ることができるＮｉ−Ｆｅ系合金のシャドウマスク
用薄板材が待ち望まれていた。
（発明の構成）
本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、シャドウマ
スクの孔径や孔形状のばらつきを小さくし、むらの発生
しない高品位のシャドウマスクを生産効率よく製造でき
るシャドウマスク用薄板材を提供するものである。すな
わち、本発明はエツチングにより電子ビーム透過孔を形
成するための１’／ ｅ及びＮｊを主成分とするＦｅ−
Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板材が下記の表面粗さＲ
ａ及び表面粗さの凸凹の平均間隔Ｓｍを有することを特
徴とする前記シャドウマスク用薄板材 Ｒａ０．２〜０．７μｍ Ｓｍ １００μｍ以下 （但し、ＲａはＪＩＳ Ｂ ０６０１の表面粗さ。
スクの孔径や孔形状のばらつきを小さくし、むらの発生
しない高品位のシャドウマスクを生産効率よく製造でき
るシャドウマスク用薄板材を提供するものである。すな
わち、本発明はエツチングにより電子ビーム透過孔を形
成するための１’／ ｅ及びＮｊを主成分とするＦｅ−
Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板材が下記の表面粗さＲ
ａ及び表面粗さの凸凹の平均間隔Ｓｍを有することを特
徴とする前記シャドウマスク用薄板材 Ｒａ０．２〜０．７μｍ Ｓｍ １００μｍ以下 （但し、ＲａはＪＩＳ Ｂ ０６０１の表面粗さ。
Ｓｍは基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸
凹の間隔の平均値である。）及びエツチングにより電子
ビーム透過孔を形成するためのＦｅ及びＮｉを主成分と
するＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板材が下記の
表面粗さＲａ及び表面粗さの凸凹の平均間隔Ｓｍを有し
、かつ結晶粒度が粒度番号で８．０以上であることを特
徴とするＯＪ記ラシャドウマスク用薄板 材ａ ０．２〜Ｏ，ｌｐｍ Ｓｍ １１００ｕ以下 （但し、ＲａはＪＩＳ Ｂ ０６０１の表面粗さ、
Ｓｍは基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸
凹の間隔の平均値である。）に関する。
凹の間隔の平均値である。）及びエツチングにより電子
ビーム透過孔を形成するためのＦｅ及びＮｉを主成分と
するＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板材が下記の
表面粗さＲａ及び表面粗さの凸凹の平均間隔Ｓｍを有し
、かつ結晶粒度が粒度番号で８．０以上であることを特
徴とするＯＪ記ラシャドウマスク用薄板 材ａ ０．２〜Ｏ，ｌｐｍ Ｓｍ １１００ｕ以下 （但し、ＲａはＪＩＳ Ｂ ０６０１の表面粗さ、
Ｓｍは基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸
凹の間隔の平均値である。）に関する。
（発明の詳細な説明）
次に本発明のシャドウマスク用薄板材の各条件の限定に
ついて述べる。
ついて述べる。
まず１表面粗さであるが、表面粗さはレジストの密着性
に大きく影響を与える。レジストの密着性が適切でない
と孔形状の乱れがおこり、開孔の精度が低下する。特に
、高精細度マスクではレジス１−の密着性のわずかな差
による孔形状の乱れが致命的な欠陥となる。そこで１表
面粗さは次のように厳しく規定する必要がある０表面粗
さＲａが０．２μｍより小さいとレジストの密着性か弱
すぎるためサイドエツチングが進みすぎ、精度良く開孔
できない。また、０．７μｍより大きいと密着性が強す
ぎるため現象後に穿孔されるべき部分にもレジストが残
存することがあり好ましくない。
に大きく影響を与える。レジストの密着性が適切でない
と孔形状の乱れがおこり、開孔の精度が低下する。特に
、高精細度マスクではレジス１−の密着性のわずかな差
による孔形状の乱れが致命的な欠陥となる。そこで１表
面粗さは次のように厳しく規定する必要がある０表面粗
さＲａが０．２μｍより小さいとレジストの密着性か弱
すぎるためサイドエツチングが進みすぎ、精度良く開孔
できない。また、０．７μｍより大きいと密着性が強す
ぎるため現象後に穿孔されるべき部分にもレジストが残
存することがあり好ましくない。
また、生産性を高めるためにはエツチング湿度を高くし
なければならないが、その場合、腐食反応が激しくなる
ため、より一層表面粗さを厳しくコントロールして良好
なレジストの密着性を得ろ必要がある。Ｒａのさらに好
ましい範囲は０．４超〜０．６μｍである。
なければならないが、その場合、腐食反応が激しくなる
ため、より一層表面粗さを厳しくコントロールして良好
なレジストの密着性を得ろ必要がある。Ｒａのさらに好
ましい範囲は０．４超〜０．６μｍである。
しかしながら、また上記のＲａだけでは適切な細孔を得
るための十分なエツチング穿孔ができない。そこで種々
検討されたのがＳｍである。Ｓｍは第１図に示すように
基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹の間
隔の平均値を表すものであり、Ｓｍが大きすぎると孔形
状が悪くなる。この様子を第２図に示す。第２図（ａ）
はＳｍが太きすぎる場合を概念的に示したもので粗さの
ピッチが太きいためＪｌ）部的にレジストの密着性が弱
くなり、その部分で図の点線４に示すようにサイドエツ
チング（側壁方向へのエツチング）が過度に進むため孔
形状が乱れる。第２図（ｂ）はＳｍが適度に小さい場合
を概念的に示したものでレジストの密着性が孔のどの部
分のも均一なため孔形状は乱れない。このようにＳｍは
レジス１−の密着性の重要な因子であり、１００μｍを
超えると孔形状の乱れを生ずるので、本発明のようにＳ
ｍを１００μｍ以下とする必要がある。
るための十分なエツチング穿孔ができない。そこで種々
検討されたのがＳｍである。Ｓｍは第１図に示すように
基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹の間
隔の平均値を表すものであり、Ｓｍが大きすぎると孔形
状が悪くなる。この様子を第２図に示す。第２図（ａ）
はＳｍが太きすぎる場合を概念的に示したもので粗さの
ピッチが太きいためＪｌ）部的にレジストの密着性が弱
くなり、その部分で図の点線４に示すようにサイドエツ
チング（側壁方向へのエツチング）が過度に進むため孔
形状が乱れる。第２図（ｂ）はＳｍが適度に小さい場合
を概念的に示したものでレジストの密着性が孔のどの部
分のも均一なため孔形状は乱れない。このようにＳｍは
レジス１−の密着性の重要な因子であり、１００μｍを
超えると孔形状の乱れを生ずるので、本発明のようにＳ
ｍを１００μｍ以下とする必要がある。
特に高湿でエツチングする場合や孔径が小さい高精細マ
スクの場合は、Ｓｍ５０μｍ以下とすることが望ましい
。
スクの場合は、Ｓｍ５０μｍ以下とすることが望ましい
。
次に結晶粒であるが１粒度番号で８．０未満の粗粒であ
ると、結晶面によってエツチング性に差異があるので孔
の縁がギザギザになり孔形状が悪くなるという傾向があ
る。したがって、より孔精度を良好にするためには結晶
粒度を粒度番号で８．０以」ユとするのが望ましい。
ると、結晶面によってエツチング性に差異があるので孔
の縁がギザギザになり孔形状が悪くなるという傾向があ
る。したがって、より孔精度を良好にするためには結晶
粒度を粒度番号で８．０以」ユとするのが望ましい。
このようにエツチングによる細孔の精度を」二げるため
には、Ｒａ、Ｓｍさらには結晶粒度を本願発明の条件に
厳密に調節する必要がある。
には、Ｒａ、Ｓｍさらには結晶粒度を本願発明の条件に
厳密に調節する必要がある。
次に実施例について説明する。
（実施例）
シャドウマスク用金属簿板材として３６Ｎｉ−Ｆｅ合金
いわゆるアンバーを用いた。この材料を圧延により板厚
を０．２ｎｏとし、ダル仕上げにより表面粗さを調整し
た。また、結晶粒度は最終圧延の前の焼鈍により調整し
た。
いわゆるアンバーを用いた。この材料を圧延により板厚
を０．２ｎｏとし、ダル仕上げにより表面粗さを調整し
た。また、結晶粒度は最終圧延の前の焼鈍により調整し
た。
まず、圧延油及び防錆油を取除くため脱脂を行い、その
後マスク材の両面に牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム
酸アンモニウムとからなる感光液を塗布して所定のレジ
ス１〜膜を形成する。次に両面の感光膜に大小マスク孔
のネガ像を有するパターンを密着配置し、超高圧水銀ラ
ンプで露光することによりマスク孔の像を得る。その後
、現像。
後マスク材の両面に牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム
酸アンモニウムとからなる感光液を塗布して所定のレジ
ス１〜膜を形成する。次に両面の感光膜に大小マスク孔
のネガ像を有するパターンを密着配置し、超高圧水銀ラ
ンプで露光することによりマスク孔の像を得る。その後
、現像。
乾燥、バーニングを経てエツチング工程に進む。
エツチング工程では、エツチング液として塩化第２鉄を
用いた。
用いた。
このようにして製造したシャドウマスクを暗室内で透過
光により観察しむら品位を評価した。
光により観察しむら品位を評価した。
以上の実験によって得た本発明例及び比較例を第１表に
示す。
示す。
本発明例１〜５はＲａ、Ｓｍ、結晶粒度の全てが適切な
ためむら品位の高い良好なマスクが得られている。特に
、本発明例１，２はＲａ、Ｓｍがさらに好ましい範囲に
あるためむらの全くない特に良好なマスクが得られてい
る。
ためむら品位の高い良好なマスクが得られている。特に
、本発明例１，２はＲａ、Ｓｍがさらに好ましい範囲に
あるためむらの全くない特に良好なマスクが得られてい
る。
本発明例６．７は結晶粒度が粒度番号８．０未満なため
むらが少しあるが実用上は問題ないレベルである。
むらが少しあるが実用上は問題ないレベルである。
比較例８〜１１はＲａ、Ｓｍに本発明範囲を外れるもの
があるため、むらが強く実用不可である。
があるため、むらが強く実用不可である。
以下余白
第 １ 表
むら品位
Ａ むらは全くなく特に良好
Ｂ むらはほとんどなく良好
Ｃむらが少しあるが実用」二問題ない
Ｄ むらがあり実用不可
Ｅ むらがかなり強い
また１以上の実施例ではシャドウマスク用素材として３
６ Ｎ ｉ −Ｆ ｅ合金を用いたが１本発明はこれに
限るものでなく、４２ Ｎ ｉ −Ｆｅ合金。
６ Ｎ ｉ −Ｆ ｅ合金を用いたが１本発明はこれに
限るものでなく、４２ Ｎ ｉ −Ｆｅ合金。
３６ Ｎ ｉ −４Ｃｒ −Ｆ ｅ合金、３２Ｎｉ−５
Ｃ。
Ｃ。
−ドｅ合金、３２ Ｎ ｉ −４Ｃｏ −２Ｃｒ −Ｆ
’ ｅ合金等のＦｅ及びＮｉを主成分とする合金であれ
ば同様に適用できることは言うまでもない。
’ ｅ合金等のＦｅ及びＮｉを主成分とする合金であれ
ば同様に適用できることは言うまでもない。
（発明の効果）
以上のように本発明によれば孔径や孔形状のばらつきの
小さく、むらのない高品位のシャドウマスクが得られる
。
小さく、むらのない高品位のシャドウマスクが得られる
。
第１図は表面粗さＳｍの説明図、第２図（ａ）及び第２
図（ｂ）はＳｍの孔形状に及ぼす影響を概念的に説明す
るための説明図である。 Ｑ： 平均線 ＳｍＬ、Ｓｍ、：・・・凸凹の間隔 １： 粗さのあらい凸部 ２： 粗さの密な凸部 ３：孔 ４： サイドエツチングが進み孔形状が点線のように膨
らんだ部位
図（ｂ）はＳｍの孔形状に及ぼす影響を概念的に説明す
るための説明図である。 Ｑ： 平均線 ＳｍＬ、Ｓｍ、：・・・凸凹の間隔 １： 粗さのあらい凸部 ２： 粗さの密な凸部 ３：孔 ４： サイドエツチングが進み孔形状が点線のように膨
らんだ部位
Claims (2)
- （１）エッチングにより電子ビーム透過孔を形成するた
めのＦｅ及びＮｉを主成分とするＦｅ−Ｎｉ系合金シャ
ドウマスク用薄板材が下記の表面粗さＲａ及び表面粗さ
の凸凹の平均間隔Ｓｍを有することを特徴とする前記シ
ャドウマスク用薄板材Ｒａ ０．２〜０．７μｍ Ｓｍ １００μｍ以下 （但し、ＲａはＪＩＳ Ｂ ０６０１の表面粗さ、 Ｓｍは基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸
凹の間隔の平均値である）。 - （２）エッチングにより電子ビーム透過孔を形成するた
めのＦｅ及びＮｉを主成分とするＦｅ−Ｎｉ系合金シャ
ドウマスク用薄板材が下記の表面粗さＲａ及び表面粗さ
の凸凹の平均間隔Ｓｍを有し、かつ結晶粒度が粒度番号
で８．０以上であることを特徴とする前記シャドウマス
ク用薄板材 Ｒａ ０．２〜０．７μｍ Ｓｍ １００μｍ以下 （但し、ＲａはＪＩＳ Ｂ ０６０１の表面粗さ、 Ｓｍは基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸
凹の間隔の平均値である）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8513586A JPS62243780A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | シヤドウマスク用薄板材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8513586A JPS62243780A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | シヤドウマスク用薄板材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62243780A true JPS62243780A (ja) | 1987-10-24 |
| JPH0373640B2 JPH0373640B2 (ja) | 1991-11-22 |
Family
ID=13850206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8513586A Granted JPS62243780A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | シヤドウマスク用薄板材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62243780A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4123567A1 (de) * | 1990-07-17 | 1992-01-23 | Nippon Kokan Kk | Fe-ni-legierungsblech fuer lochmasken und verfahren zu seiner herstellung |
| DE4131396A1 (de) * | 1990-10-31 | 1992-05-07 | Nippon Kokan Kk | Blech aus einer fe-ni-legierung und verfahren zu seiner herstellung |
| US5252151A (en) * | 1990-02-15 | 1993-10-12 | Nkk Corporation | Fe-Ni alloy sheet for shadow mask having a low silicon segregation and method for manufacturing same |
-
1986
- 1986-04-15 JP JP8513586A patent/JPS62243780A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5252151A (en) * | 1990-02-15 | 1993-10-12 | Nkk Corporation | Fe-Ni alloy sheet for shadow mask having a low silicon segregation and method for manufacturing same |
| EP0468059B1 (en) * | 1990-02-15 | 1997-05-28 | Nkk Corporation | Thin sheet of iron-nickel alloy for shadow mask and production thereof |
| DE4123567A1 (de) * | 1990-07-17 | 1992-01-23 | Nippon Kokan Kk | Fe-ni-legierungsblech fuer lochmasken und verfahren zu seiner herstellung |
| US5127965A (en) * | 1990-07-17 | 1992-07-07 | Nkk Corporation | Fe-ni alloy sheet for shadow mask and method for manufacturing same |
| DE4131396A1 (de) * | 1990-10-31 | 1992-05-07 | Nippon Kokan Kk | Blech aus einer fe-ni-legierung und verfahren zu seiner herstellung |
| DE4131396C2 (de) * | 1990-10-31 | 1997-09-18 | Nippon Kokan Kk | Blech aus einer Fe-Ni-Legierung und Verfahren zu seiner Herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0373640B2 (ja) | 1991-11-22 |
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