JPH0410336A - シャドウマスク - Google Patents
シャドウマスクInfo
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- JPH0410336A JPH0410336A JP2111560A JP11156090A JPH0410336A JP H0410336 A JPH0410336 A JP H0410336A JP 2111560 A JP2111560 A JP 2111560A JP 11156090 A JP11156090 A JP 11156090A JP H0410336 A JPH0410336 A JP H0410336A
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラー受像管に用いるシャドウマスクの製造
工程において、金属材料とフォトレジストとの密着性を
向上させ、また、ネガ原板との密着性を向上させ、密着
のための吸引時間を短縮して、生産性の向上を図ること
ができ、かつ、ネガパターンを正確に転写することがで
き、さらに、カラー受像管製造工程におけるシャドウマ
スクの軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を起こさないシ
ャドウマスク用板材に関する。
工程において、金属材料とフォトレジストとの密着性を
向上させ、また、ネガ原板との密着性を向上させ、密着
のための吸引時間を短縮して、生産性の向上を図ること
ができ、かつ、ネガパターンを正確に転写することがで
き、さらに、カラー受像管製造工程におけるシャドウマ
スクの軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を起こさないシ
ャドウマスク用板材に関する。
従来、カラー受像管用シャドウマスクには、鉄を主成分
とする低炭素アルミキルド冷延綱板や鉄及びニッケルを
主成分とする合金、例えば３６ニツケル一鉄アンバー合
金板等が使用されている。
とする低炭素アルミキルド冷延綱板や鉄及びニッケルを
主成分とする合金、例えば３６ニツケル一鉄アンバー合
金板等が使用されている。
これらの板材においては、表面粗さの明確な規定は特に
ない。
ない。
上記したように、従来のシャドウマスク用板材において
は、表面粗さの明確な規定がないため、素材の板材より
シャドウマスクを製造する工程において、金属板材とフ
ォトレジストの密着性が不安定：二なりやすく、また、
ネガパターンの転写工程において、フォトレジストを塗
布した金属板材とネガパターンとの密着性が不安定な状
況となっている。さらに、カラー受像管の製造工程にお
けるプレス成形可能な変形能を与えるた約のシャドウマ
スクの軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を起こし、品質
及び生産性に悪影響を及ぼしている。
は、表面粗さの明確な規定がないため、素材の板材より
シャドウマスクを製造する工程において、金属板材とフ
ォトレジストの密着性が不安定：二なりやすく、また、
ネガパターンの転写工程において、フォトレジストを塗
布した金属板材とネガパターンとの密着性が不安定な状
況となっている。さらに、カラー受像管の製造工程にお
けるプレス成形可能な変形能を与えるた約のシャドウマ
スクの軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を起こし、品質
及び生産性に悪影響を及ぼしている。
本発明はこのような状況に鑑みたなされたものであり、
その目的は、シャドウマスク製造工程において、フォト
レジストとの密着性を安定させ、ネガパターンとの密着
性を良くして、品質及び生産性の向上を図ることができ
、また、カラー受像管の製造工程におけるシャドウマス
クの軟化焼鈍工程で、焼鈍密着を起こさない表面形状を
有する、鉄を主成分あるいは鉄及びニッケルを主成分と
するシャドウマスク用板材を提供することである。
その目的は、シャドウマスク製造工程において、フォト
レジストとの密着性を安定させ、ネガパターンとの密着
性を良くして、品質及び生産性の向上を図ることができ
、また、カラー受像管の製造工程におけるシャドウマス
クの軟化焼鈍工程で、焼鈍密着を起こさない表面形状を
有する、鉄を主成分あるいは鉄及びニッケルを主成分と
するシャドウマスク用板材を提供することである。
〔課題を解決するたｔの手段及び作用〕本発明者は上記
の目的を達成すべく研究の結果、シャドウマスク用板材
の表面粗さＲａと表面粗さの突起状態Ｒｓｋを規制する
ことによって、フォトレジストとの密着性を向上させ、
ネガパターンとの密着性を向上させ、密着のだ約の吸引
時間を短縮して生産性の向上が図れ、かつ、ネガパター
ンを正確に転写することができ、品質の向上も図れ、さ
らに、カラー受像管製造工程におけるシャドウマスクの
軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を防止することができ
ることを見い出し、かかる知見にもとづし１て本発明を
完成したものである。
の目的を達成すべく研究の結果、シャドウマスク用板材
の表面粗さＲａと表面粗さの突起状態Ｒｓｋを規制する
ことによって、フォトレジストとの密着性を向上させ、
ネガパターンとの密着性を向上させ、密着のだ約の吸引
時間を短縮して生産性の向上が図れ、かつ、ネガパター
ンを正確に転写することができ、品質の向上も図れ、さ
らに、カラー受像管製造工程におけるシャドウマスクの
軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を防止することができ
ることを見い出し、かかる知見にもとづし１て本発明を
完成したものである。
すなわち、本発明のシャドウマスク用板材は、シャドウ
マスク用板材の表面粗さＲａと表面粗さの突起状態Ｒｓ
ｋを下記のように規制することで、上記の問題点の解決
を図ったのものである。
マスク用板材の表面粗さＲａと表面粗さの突起状態Ｒｓ
ｋを下記のように規制することで、上記の問題点の解決
を図ったのものである。
Ｒａ ：０． ３〜０． ８μｍ
Ｒｓｋ：＋０．１ 以上
ここで、
Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１において規定されている
表面粗さ、 Ｒｓｋは、平均線に対しての振幅分布曲線の相対性を示
す値で、次式で示される突起状態、Ｙ（１）は、断面曲
線の基準長さにおいて、平均線をＹ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸としたときの粗さ曲線、 Ｒｑは、二乗平均粗さ、 ｎ＝２３０、 ｊ＝２〜５、を表す。
表面粗さ、 Ｒｓｋは、平均線に対しての振幅分布曲線の相対性を示
す値で、次式で示される突起状態、Ｙ（１）は、断面曲
線の基準長さにおいて、平均線をＹ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸としたときの粗さ曲線、 Ｒｑは、二乗平均粗さ、 ｎ＝２３０、 ｊ＝２〜５、を表す。
この場合、シャドウマスク用板材は鉄を主成分あるいは
鉄及びニッケルを主成分とするものであるのが望ましい
。
鉄及びニッケルを主成分とするものであるのが望ましい
。
以下に本発明の各条件について、詳細に説明する。
研究の結果、シャドウマスク用板材の表面粗さＲａは、
その上に塗布するフォトレジストの密着性、及び、ネガ
パターンとの密着性に大きく影響を及ぼすことが分かっ
た。フォトレジストの密着性が適切でないと、適正な感
光特性が得られず、フォトレジストをマスクとしてエツ
チングされる長形状が不均一となり、品質の低下を招く
。さらに、ネガパターンとの密着性が悪いと、密着のた
めの吸引時間が長時間に及び、生産性の低下を弓き起こ
す。また、ネガパターンとの密着性が悪いと言うことは
、ネガパターンの転写が正確に行えないということを意
味し、品質の低下を引き起こす要因でもある。そこで、
研究の結果、ＪＩＳＢ０６０１において規定されている
表面粗さＲａを次のように規定する必要があることが分
かった。
その上に塗布するフォトレジストの密着性、及び、ネガ
パターンとの密着性に大きく影響を及ぼすことが分かっ
た。フォトレジストの密着性が適切でないと、適正な感
光特性が得られず、フォトレジストをマスクとしてエツ
チングされる長形状が不均一となり、品質の低下を招く
。さらに、ネガパターンとの密着性が悪いと、密着のた
めの吸引時間が長時間に及び、生産性の低下を弓き起こ
す。また、ネガパターンとの密着性が悪いと言うことは
、ネガパターンの転写が正確に行えないということを意
味し、品質の低下を引き起こす要因でもある。そこで、
研究の結果、ＪＩＳＢ０６０１において規定されている
表面粗さＲａを次のように規定する必要があることが分
かった。
すなわち、表面粗さＲａが０．３μｍより小さいと、シ
ャドウマスク用板材とフォトレジストとの密着性が弱す
ぎるた約、所定の孔形状が均一に得られず、また、ネガ
パターンとの密着性も悪くなり、シャドウマスク品質の
低下を引き起こす。表面粗さＲａが０．８μｍより大き
いと、開孔後の孔形状において、丸孔パターンの場合真
円度が悪くなり、スロットパターンの場合スロットの直
線性が悪くなり、ともにシャドウマスク品質の低下を引
き起こす。このため、表面粗さＲａは０．３〜０．８μ
ｍに規定する必要がある。
ャドウマスク用板材とフォトレジストとの密着性が弱す
ぎるた約、所定の孔形状が均一に得られず、また、ネガ
パターンとの密着性も悪くなり、シャドウマスク品質の
低下を引き起こす。表面粗さＲａが０．８μｍより大き
いと、開孔後の孔形状において、丸孔パターンの場合真
円度が悪くなり、スロットパターンの場合スロットの直
線性が悪くなり、ともにシャドウマスク品質の低下を引
き起こす。このため、表面粗さＲａは０．３〜０．８μ
ｍに規定する必要がある。
しかしながら、上記表面粗さＲａの規定だけでは、シャ
ドウマスク製造工程での生産性の向上、つまり、ネガパ
ターン密着工程における密着のための吸引時間の短縮が
充分に図れず、さらに、カラー受像管製造工程における
シャドウマスク軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を防止
することはできないことが分かった。そこで、種々検討
の結果、表面粗さの突起状態Ｒｓｋの規定が重要である
ことが分かった。Ｒｓｋは、第１図に示すように、基準
長さＬ内における表面粗さ形状の平均線ｐに対しての振
幅分布曲線の相対性を示す値である。
ドウマスク製造工程での生産性の向上、つまり、ネガパ
ターン密着工程における密着のための吸引時間の短縮が
充分に図れず、さらに、カラー受像管製造工程における
シャドウマスク軟化焼鈍工程において、焼鈍密着を防止
することはできないことが分かった。そこで、種々検討
の結果、表面粗さの突起状態Ｒｓｋの規定が重要である
ことが分かった。Ｒｓｋは、第１図に示すように、基準
長さＬ内における表面粗さ形状の平均線ｐに対しての振
幅分布曲線の相対性を示す値である。
Ｒｓｋが十であることは、第１図（ａ）に示したように
、粗さ形状としては上に凸ということを意味し、突起が
多くあると言うことである。逆に、Ｒｓｋが−であるこ
とは、第１図（ｂ）に示したように、表面に平坦部が多
くあると言うことである。表面に突起が多くあると、ネ
ガパターン密着工程において、ネガパターンとシャドウ
マスク用板材との間に吸引のための空気の通り道が多く
形成されることとなり、吸引時間の短縮が図れることに
なる。
、粗さ形状としては上に凸ということを意味し、突起が
多くあると言うことである。逆に、Ｒｓｋが−であるこ
とは、第１図（ｂ）に示したように、表面に平坦部が多
くあると言うことである。表面に突起が多くあると、ネ
ガパターン密着工程において、ネガパターンとシャドウ
マスク用板材との間に吸引のための空気の通り道が多く
形成されることとなり、吸引時間の短縮が図れることに
なる。
さらに、シャドウマスク軟化焼鈍工程において、シャド
ウマスク用板材表面に突起があると言うことは、板材同
士の接触が点接触となり、焼鈍密着が防止されることに
なる。このため、表面粗さの突起状態Ｒｓｋは＋０．１
以上とする必要があることが分かった。
ウマスク用板材表面に突起があると言うことは、板材同
士の接触が点接触となり、焼鈍密着が防止されることに
なる。このため、表面粗さの突起状態Ｒｓｋは＋０．１
以上とする必要があることが分かった。
次に本発明の詳細な説明する。
シャドウマスク材料としては、鉄を主成分とする低炭素
アルミキルド冷延鋼板と、鉄及びニッケルを主成分とす
３６ニツケル一鉄アンバー合金を使用した。これらの材
料を圧延により所定の板厚とし、ダル仕上げにて表面粗
さＲａと表面粗さの突起状態Ｒｓｋを調整した。まず、
圧延油及び防錆油を除くための脱脂処理を行い、次に、
板材の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥後、所定の
ドツト形状あるいはスロット形状パターンが形成された
ネガパターンを密着させ、露光、現像後、バーニング処
理を施した。その後、塩化第二鉄液によるエツチング加
工にて所定の孔をあけ、残存するフォトレジストを除去
して、シャドウマスクとした。このようにして製造した
シャドウマスクについて、フォトレジストの密着性を、
３５％塩酸中での７オトレジストの板材からの剥離時間
で比較し、ネガパターンとの密着性については、密着の
ための吸引時間の比較で行った。さらに、ネガパターン
の転写の正確さについては、シャドウマスクのムラ品位
にて比較調査した。
アルミキルド冷延鋼板と、鉄及びニッケルを主成分とす
３６ニツケル一鉄アンバー合金を使用した。これらの材
料を圧延により所定の板厚とし、ダル仕上げにて表面粗
さＲａと表面粗さの突起状態Ｒｓｋを調整した。まず、
圧延油及び防錆油を除くための脱脂処理を行い、次に、
板材の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥後、所定の
ドツト形状あるいはスロット形状パターンが形成された
ネガパターンを密着させ、露光、現像後、バーニング処
理を施した。その後、塩化第二鉄液によるエツチング加
工にて所定の孔をあけ、残存するフォトレジストを除去
して、シャドウマスクとした。このようにして製造した
シャドウマスクについて、フォトレジストの密着性を、
３５％塩酸中での７オトレジストの板材からの剥離時間
で比較し、ネガパターンとの密着性については、密着の
ための吸引時間の比較で行った。さらに、ネガパターン
の転写の正確さについては、シャドウマスクのムラ品位
にて比較調査した。
次に、カラー受像管製造工程において、プレス成型可能
な変形能を付与するために軟化焼鈍を行うが、この軟化
焼鈍工程において、焼鈍密着の程度を比較調査した。
な変形能を付与するために軟化焼鈍を行うが、この軟化
焼鈍工程において、焼鈍密着の程度を比較調査した。
以上の調査結果を以下の第１表にあわせて示す。
（以下、余白）
第１表
（注）
ムラ品位：
ムラは全くなく良好
ムラは殆どなく良好
ムラが少しあるが実用上問題
ない
ムラがあり実用不可
ムラがかなり強い
焼鈍密着状況：
ａ 密着が全くない
ｂ 外周部において少し密着があ
る
Ｃ 密着が少し認められるが作業
性に影響なしく剥離が容易）
ｄ 密着の剥離が困難で作業性が
損なわれる
ｅ 密着が強く、剥離できない
第１表において、本発明例１．２は焼鈍密着が若干認め
られるが、作業性に影響はなく実用上は問題はないレベ
ルである。本発明例３〜９はムラ品位も問題なく、焼鈍
密着においても問題がない。
られるが、作業性に影響はなく実用上は問題はないレベ
ルである。本発明例３〜９はムラ品位も問題なく、焼鈍
密着においても問題がない。
特に本発明例６〜８はムラ品位も全く問題なく、また焼
鈍密着も全くなく、さらに、フォトレジストの密着性、
ネガパターンとの密着性においても優れており、特に良
好なマスクが得られている。
鈍密着も全くなく、さらに、フォトレジストの密着性、
ネガパターンとの密着性においても優れており、特に良
好なマスクが得られている。
この結果から、Ｒａが０．５５〜０．６５μｍ、Ｒｓｋ
が＋０． ７ＪＪ上であるのが特に好ましいことが分か
る。
が＋０． ７ＪＪ上であるのが特に好ましいことが分か
る。
これに対して、比較例１０〜１５はＲａ１Ｒ５ｋの何れ
か又は双方において本発明の規定範囲を外れるものがあ
るたｔ、ムラ品位が悪く、さらに、焼鈍密着による作業
性への影響が出ており、実用不可である。
か又は双方において本発明の規定範囲を外れるものがあ
るたｔ、ムラ品位が悪く、さらに、焼鈍密着による作業
性への影響が出ており、実用不可である。
以上、詳述した通り、本発明によるシャドウマスク用板
材を用いれば、シャドウマスク製造工程における生産性
を向上させ、さらにムラ品位の良いシャドウマスクを製
造することが可能となる。
材を用いれば、シャドウマスク製造工程における生産性
を向上させ、さらにムラ品位の良いシャドウマスクを製
造することが可能となる。
また、カラー受像管製造工程におけるシャドウマスクの
軟化焼鈍工程におし）で、焼鈍密着の発生がなく、作業
性を損なうことのないシャドウマスクを提供することが
可能である。
軟化焼鈍工程におし）で、焼鈍密着の発生がなく、作業
性を損なうことのないシャドウマスクを提供することが
可能である。
第１図は表面粗さの突起状態Ｒｓｋの説明図で、図［ａ
）は突起状態が上に凸となったＲｓｋが十となる粗さ形
状を示すもので、図（ｂ）は表面に平坦部が多くあるＲ
ｓｋが−となる粗さ形状を示すものである。 Ｌ： 基準長さ ｌ： 平均線 出 願 人 大日本印刷株式会社
）は突起状態が上に凸となったＲｓｋが十となる粗さ形
状を示すもので、図（ｂ）は表面に平坦部が多くあるＲ
ｓｋが−となる粗さ形状を示すものである。 Ｌ： 基準長さ ｌ： 平均線 出 願 人 大日本印刷株式会社
Claims (4)
- （１）カラー受像管に用いるシャドウマスク用板材が、
下記の表面粗さＲａ及び表面粗さの突起状態Ｒｓｋを有
することを特徴とするシャドウマスク用板材： Ｒａ：０．３〜０．８μｍ Ｒｓｋ：＋０．１以上 ここで、 Ｒａは、ＪＩＳＢ０６０１において規定されている表面
粗さ、 Ｒｓｋは、平均線に対しての振幅分布曲線の相対性を示
す値で、次式で示される突起状態、Ｒｓｋ＝▲数式、化
学式、表等があります▼ Ｙ（ｉ）は、断面曲線の基準長さにおいて、平均線をＸ
軸、縦倍率の方向をＹ軸としたときの粗さ曲線、 Ｒｑは、二乗平均粗さ、 ｎ＝２３０、 ｊ＝２〜５、を表す。 - （２）前記シャドウマスク用板材が鉄を主成分あるいは
鉄及びニッケルを主成分とするものであることを特徴と
する請求項１記載のシャドウマスク用板材。 - （３）前記表面粗さＲａ及び表面粗さの突起状態Ｒｓｋ
が下記の範囲にあることを特徴とする請求項１又は２記
載のシャドウマスク用板材： Ｒａ：０．５５〜０．６５μｍ Ｒｓｋ：＋０．７以上。 - （４）請求項１から３の何れか１項に記載されたシャド
ウマスク用板材から形成したことを特徴とするシャドウ
マスク。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11156090A JP3237080B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | シャドウマスク |
| US07/692,454 US5348827A (en) | 1990-04-26 | 1991-04-25 | Plate material for shadow mask |
| DE69121761T DE69121761T2 (de) | 1990-04-26 | 1991-04-25 | Plattenförmiges Material für Schattenmaske |
| KR1019910006703A KR100198919B1 (ko) | 1990-04-26 | 1991-04-25 | 샤도우 마스크용 판재 |
| EP91106677A EP0454112B1 (en) | 1990-04-26 | 1991-04-25 | Plate material for shadow mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11156090A JP3237080B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | シャドウマスク |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000023625A Division JP3122442B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | シャドウマスク用板材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0410336A true JPH0410336A (ja) | 1992-01-14 |
| JP3237080B2 JP3237080B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=14564481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11156090A Expired - Lifetime JP3237080B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | シャドウマスク |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5348827A (ja) |
| EP (1) | EP0454112B1 (ja) |
| JP (1) | JP3237080B2 (ja) |
| KR (1) | KR100198919B1 (ja) |
| DE (1) | DE69121761T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007241218A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 集積回路装置及び電子機器 |
| JP2007241221A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 集積回路装置及び電子機器 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002160246A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-06-04 | Seibu:Kk | クランプ付金型及びクランプ付金型を用いたプレス成型方法 |
| EP2078060B1 (en) * | 2006-10-30 | 2017-04-19 | Andrew W. Suman | Abradable dry film lubricant and the method for applying same and article made therefrom |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4445998A (en) * | 1981-12-02 | 1984-05-01 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Method for producing a steel lithographic plate |
| US4751424A (en) * | 1987-02-27 | 1988-06-14 | Rca Licensing Corporation | Iron-nickel alloy shadow mask for a color cathode-ray tube |
-
1990
- 1990-04-26 JP JP11156090A patent/JP3237080B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-04-25 US US07/692,454 patent/US5348827A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-25 DE DE69121761T patent/DE69121761T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-25 KR KR1019910006703A patent/KR100198919B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-04-25 EP EP91106677A patent/EP0454112B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007241218A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 集積回路装置及び電子機器 |
| JP2007241221A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 集積回路装置及び電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100198919B1 (ko) | 1999-06-15 |
| EP0454112A1 (en) | 1991-10-30 |
| JP3237080B2 (ja) | 2001-12-10 |
| EP0454112B1 (en) | 1996-09-04 |
| DE69121761D1 (de) | 1996-10-10 |
| DE69121761T2 (de) | 1997-01-02 |
| US5348827A (en) | 1994-09-20 |
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