JPH0452585B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0452585B2 JPH0452585B2 JP59158621A JP15862184A JPH0452585B2 JP H0452585 B2 JPH0452585 B2 JP H0452585B2 JP 59158621 A JP59158621 A JP 59158621A JP 15862184 A JP15862184 A JP 15862184A JP H0452585 B2 JPH0452585 B2 JP H0452585B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- shape
- pitch
- holes
- definition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
［発明の技術分野］
本発明はシヤドウマスクに関し、さらに詳しく
は、高制度・高精細のシヤドウマスクに関する。 ［発明の技術的背景とその問題点］ カラー受像管蛍光面の直前には、所定の設計基
準に基づいて穿設された多数の開孔（ドツト状、
すだれ状）を有するシヤドウマスクが配設されて
いる。 この材料としては、通常、厚み約0.15mmの薄い
軟鋼板が採用される。最近では、低熱膨張特性を
備えた鉄−ニツケル系合金であるインバ合金
（Inver）が採用され始めている。 これらシヤドウマスクは概ね次のようにして製
造されている。 まず、この板材を洗浄し、フオトレジストを塗
り露光した後、塩化第二鉄でエツチングすること
により開孔を形成する。 その後、全体にプレス加工を施して所定の曲率
半径の湾曲面を形成し、最後にスチームで酸化し
て熱輻射能の向上・乱反射防止のためにその表面
全体を黒化する。 しかしながら、このようなフオトエツチング法
を適用したシヤドウマスクの製造方法には、以下
のような問題点がある。 すなわち、穿設される開孔は板材の材質、形
状、エツチングの条件などによつてその形状が微
妙に影響を受けるので設計基準に忠実な高精度・
高精細の開孔の穿設制御がはなはだ困難であるこ
と、特に、近年用いられ始めているインバ合金を
使用するときには、そのエツチング速度が軟鋼板
に比べて著しく小さいことと相俟つて形成された
開孔それ自体の形状、開孔間のピツチなどが不均
一になるという問題がある。 ［発明の目的］ 本発明は、開孔それ自体の形状、開孔間のピツ
チなどが比較的均一である高精度・高精細なシヤ
ドウマスクを提供することを目的とする。 ［発明の概要］ 本発明者らは、シヤドウマスクについて鋭意研
究した結果、シヤドウマスクが高精度かつ高精細
になるほど、すなわち、シヤドウマスクの開孔間
ピツチが小さくなるほど、シヤドウマスクの均一
性はシヤドウマスクの中心線平均粗さ（Ra）に
より影響されやすくなることを知見し、更に、こ
の中心線平均粗さ（Ra）と開孔間ピツチを制御
することにより、高精度かつ高精細なシヤドウマ
スクが得られることを見い出した。 本発明は、この知見をもとに完成さたものであ
る。 即ち、本発明のシヤドウマスクは、フオトエツ
チング法により得られるシヤドウマススにおい
て、JIS B0601で中心線平均粗さ（Ra）が0.10〜
0.20μｍであり、かつシヤドウマスクの開孔間ピ
ツチが0.70mm以下であることを特徴とするシヤド
ウマスクである。 このように、表面粗さおよび開孔間ピツチを規
定することにより、開孔形状の不均一性を軽減す
ることができ、高精度かつ高精細なシヤドウマス
クが得られる。 即ち、表面がなめらかすぎると、レジストに対
する密着性が低下し、レジストが必要な部分に密
着せず、一方、表面があれすぎていると、その凸
状の部分だけエツチング速度が遅くなり、その
為、開孔壁の一部は、十分にエツチングされずに
残り、開孔の形状は不均一になる。 したがつて、これらの点を考慮すると、中心線
平均粗さ（Ra）は0.10〜0.20μｍが好ましい。 以上述べた表面粗さは、素材の圧延上り後、例
えば、バフ研磨、酸洗、シヨツトブラスト又はダ
ルロール加工等を適用することによつて得られ
る。 また、開孔間ピツチとは、隣接する開孔中心点
間の距離であり、この距離が短い程、高精度かつ
高精細な画像が得られる。 即ち、本発明は高精度・高精細なシヤドウマス
ク程有用である。具体的には、開孔間ピツチが、
0.38〜0.7mm（中精細）から0.2mm（高精細）にな
るにつれ、開孔形状は、表面粗さにより影響され
やすく本発明は有用となる。 よつて、その値は0.70mm以下とした。 これらのシヤドウマスクの素材としては、例え
ば、インバ合金、鉄−ニツケル−コバルト系合金
等がある。これらの合金はエツチング速度が特に
おそい為、開孔形状が表面粗さにより影響されや
すく、本発明が特に有用である。 また、開孔の形状は、ドツト状或いはすだれ状
が一般的であるが、これに限られるものではな
い。 このような本願発明の高精度かつ高精細のシヤ
ドウマスクは、ハイビジヨンやカラーデイスプレ
イに特に有用である。 ［発明の実施例］ 第１表に示す開孔間ピツチおよび中心線平均粗
さを有する14インチ用のシヤドウマスクを製造し
た。その結果、形成された開孔に関して、開孔形
状及び開孔均一性を顕微鏡および目視によつて全
体に渡つて均一かどうか観察し、第１表に併記し
た。 この表から明らかな如く、本発明の中心線平均
粗さが0.10〜0.20μｍ、かつ開孔間ピツチが0.70mm
以下のシヤドウマスクは開孔形状の規則性及び開
孔のシヤドウマスク全体の均一性が得られること
がわかる。
は、高制度・高精細のシヤドウマスクに関する。 ［発明の技術的背景とその問題点］ カラー受像管蛍光面の直前には、所定の設計基
準に基づいて穿設された多数の開孔（ドツト状、
すだれ状）を有するシヤドウマスクが配設されて
いる。 この材料としては、通常、厚み約0.15mmの薄い
軟鋼板が採用される。最近では、低熱膨張特性を
備えた鉄−ニツケル系合金であるインバ合金
（Inver）が採用され始めている。 これらシヤドウマスクは概ね次のようにして製
造されている。 まず、この板材を洗浄し、フオトレジストを塗
り露光した後、塩化第二鉄でエツチングすること
により開孔を形成する。 その後、全体にプレス加工を施して所定の曲率
半径の湾曲面を形成し、最後にスチームで酸化し
て熱輻射能の向上・乱反射防止のためにその表面
全体を黒化する。 しかしながら、このようなフオトエツチング法
を適用したシヤドウマスクの製造方法には、以下
のような問題点がある。 すなわち、穿設される開孔は板材の材質、形
状、エツチングの条件などによつてその形状が微
妙に影響を受けるので設計基準に忠実な高精度・
高精細の開孔の穿設制御がはなはだ困難であるこ
と、特に、近年用いられ始めているインバ合金を
使用するときには、そのエツチング速度が軟鋼板
に比べて著しく小さいことと相俟つて形成された
開孔それ自体の形状、開孔間のピツチなどが不均
一になるという問題がある。 ［発明の目的］ 本発明は、開孔それ自体の形状、開孔間のピツ
チなどが比較的均一である高精度・高精細なシヤ
ドウマスクを提供することを目的とする。 ［発明の概要］ 本発明者らは、シヤドウマスクについて鋭意研
究した結果、シヤドウマスクが高精度かつ高精細
になるほど、すなわち、シヤドウマスクの開孔間
ピツチが小さくなるほど、シヤドウマスクの均一
性はシヤドウマスクの中心線平均粗さ（Ra）に
より影響されやすくなることを知見し、更に、こ
の中心線平均粗さ（Ra）と開孔間ピツチを制御
することにより、高精度かつ高精細なシヤドウマ
スクが得られることを見い出した。 本発明は、この知見をもとに完成さたものであ
る。 即ち、本発明のシヤドウマスクは、フオトエツ
チング法により得られるシヤドウマススにおい
て、JIS B0601で中心線平均粗さ（Ra）が0.10〜
0.20μｍであり、かつシヤドウマスクの開孔間ピ
ツチが0.70mm以下であることを特徴とするシヤド
ウマスクである。 このように、表面粗さおよび開孔間ピツチを規
定することにより、開孔形状の不均一性を軽減す
ることができ、高精度かつ高精細なシヤドウマス
クが得られる。 即ち、表面がなめらかすぎると、レジストに対
する密着性が低下し、レジストが必要な部分に密
着せず、一方、表面があれすぎていると、その凸
状の部分だけエツチング速度が遅くなり、その
為、開孔壁の一部は、十分にエツチングされずに
残り、開孔の形状は不均一になる。 したがつて、これらの点を考慮すると、中心線
平均粗さ（Ra）は0.10〜0.20μｍが好ましい。 以上述べた表面粗さは、素材の圧延上り後、例
えば、バフ研磨、酸洗、シヨツトブラスト又はダ
ルロール加工等を適用することによつて得られ
る。 また、開孔間ピツチとは、隣接する開孔中心点
間の距離であり、この距離が短い程、高精度かつ
高精細な画像が得られる。 即ち、本発明は高精度・高精細なシヤドウマス
ク程有用である。具体的には、開孔間ピツチが、
0.38〜0.7mm（中精細）から0.2mm（高精細）にな
るにつれ、開孔形状は、表面粗さにより影響され
やすく本発明は有用となる。 よつて、その値は0.70mm以下とした。 これらのシヤドウマスクの素材としては、例え
ば、インバ合金、鉄−ニツケル−コバルト系合金
等がある。これらの合金はエツチング速度が特に
おそい為、開孔形状が表面粗さにより影響されや
すく、本発明が特に有用である。 また、開孔の形状は、ドツト状或いはすだれ状
が一般的であるが、これに限られるものではな
い。 このような本願発明の高精度かつ高精細のシヤ
ドウマスクは、ハイビジヨンやカラーデイスプレ
イに特に有用である。 ［発明の実施例］ 第１表に示す開孔間ピツチおよび中心線平均粗
さを有する14インチ用のシヤドウマスクを製造し
た。その結果、形成された開孔に関して、開孔形
状及び開孔均一性を顕微鏡および目視によつて全
体に渡つて均一かどうか観察し、第１表に併記し
た。 この表から明らかな如く、本発明の中心線平均
粗さが0.10〜0.20μｍ、かつ開孔間ピツチが0.70mm
以下のシヤドウマスクは開孔形状の規則性及び開
孔のシヤドウマスク全体の均一性が得られること
がわかる。
【表】
※(1) 顕微鏡による開孔形状の観察
※(2) 目視による全体ムラの観察
［発明の効果］ 以上述べた如く、本発明のシヤドウマスクは、
中心線平均粗さおよび開孔間ピツチを規定したこ
とにより、開孔それ自体の形状及び開孔全体を比
較的均一にできるため高精度かつ高精細のシヤド
ウマスクに極めて有用である。
※(2) 目視による全体ムラの観察
［発明の効果］ 以上述べた如く、本発明のシヤドウマスクは、
中心線平均粗さおよび開孔間ピツチを規定したこ
とにより、開孔それ自体の形状及び開孔全体を比
較的均一にできるため高精度かつ高精細のシヤド
ウマスクに極めて有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フオトエツチング法により得られるシヤドウ
マスクにおいて、JIS B0601で中心線平均粗さ
（Ra）が0.10〜0.20μｍであり、かつシヤドウマス
クの開孔間ピツチが0.70mm以下であることを特徴
とするシヤドウマスク。 ２ シヤドウマスクが鉄−ニツケル系合金からな
る特許請求の範囲第１項に記載のシヤドウマス
ク。 ３ シヤドウマスクが鉄−ニツケル−コバルト系
合金からなる特許請求の範囲第１項に記載のシヤ
ドウマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15862184A JPS6139344A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | シャドウマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15862184A JPS6139344A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | シャドウマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139344A JPS6139344A (ja) | 1986-02-25 |
| JPH0452585B2 true JPH0452585B2 (ja) | 1992-08-24 |
Family
ID=15675708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15862184A Granted JPS6139344A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | シャドウマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139344A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62238003A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-19 | Nisshin Steel Co Ltd | シャドウマスクの製造法 |
| JPH07116558B2 (ja) * | 1990-02-15 | 1995-12-13 | 日本鋼管株式会社 | シャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金薄板およびその製造方法 |
| DE69126252T2 (de) * | 1990-02-15 | 1997-10-02 | Nippon Kokan Kk | Dünnblech aus einer eisen-nickel-legierung für eine schattenmaske und verfahren zu ihrer herstellung |
| JPH0826437B2 (ja) * | 1990-08-22 | 1996-03-13 | 日本鋼管株式会社 | シャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金薄板およびその製造方法 |
| US5127965A (en) * | 1990-07-17 | 1992-07-07 | Nkk Corporation | Fe-ni alloy sheet for shadow mask and method for manufacturing same |
| JPH07116559B2 (ja) * | 1990-08-22 | 1995-12-13 | 日本鋼管株式会社 | シャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金薄板およびその製造方法 |
| JP2596210B2 (ja) * | 1990-10-31 | 1997-04-02 | 日本鋼管株式会社 | 焼鈍時の密着焼付き防止法、ガス放散性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金およびその製造法 |
| JP3316909B2 (ja) * | 1992-01-31 | 2002-08-19 | 日本鋼管株式会社 | 黒化処理性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系およびＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板 |
| JP2762328B2 (ja) * | 1992-07-16 | 1998-06-04 | 東洋鋼鈑株式会社 | インナーシールド用素材およびその製造法 |
| CN117187746A (zh) * | 2017-11-14 | 2023-12-08 | 大日本印刷株式会社 | 金属板的制造方法和蒸镀掩模的制造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232607A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Toyo Kohan Co Ltd | シヤドウマスク用金属板の製造法 |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP15862184A patent/JPS6139344A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232607A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Toyo Kohan Co Ltd | シヤドウマスク用金属板の製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6139344A (ja) | 1986-02-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0452585B2 (ja) | ||
| US6620554B1 (en) | Etching substrate material, etching process, and article obtained by etching | |
| US3423261A (en) | Method of etching fine filamentary apertures in thin metal sheets | |
| US4303466A (en) | Process of forming graded aperture masks | |
| US5567555A (en) | Method for manufacturing shadow mask and shadow mask manufactured by said method | |
| JP3155782B2 (ja) | シャドウマスク用原板 | |
| JPS6139345A (ja) | シヤドウマスク | |
| JPS62243782A (ja) | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 | |
| JP2771372B2 (ja) | アパーチャグリルおよびその製造方法 | |
| JP2597971B2 (ja) | シヤドウマスク | |
| US4585518A (en) | Method of manufacturing shadow mask | |
| US5348827A (en) | Plate material for shadow mask | |
| US5863681A (en) | Composite shadow mask | |
| KR100680669B1 (ko) | 섀도우마스크 및 섀도우마스크용 기재 | |
| JPH0344842B2 (ja) | ||
| JPH0487235A (ja) | シャドウマスク | |
| JPS60187682A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
| JP3152446B2 (ja) | シャドウマスクの製造方法 | |
| JPH059756A (ja) | エツチング方法 | |
| JP3049388B2 (ja) | シャドウマスク用素材の製造方法 | |
| JPS62243780A (ja) | シヤドウマスク用薄板材 | |
| JPH02197301A (ja) | シャドウマスク用素材およびその製造法 | |
| JPS58214252A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
| JPH01191790A (ja) | シャドウマスクの製造方法 | |
| JP2001210232A (ja) | シャドウマスクの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |