JP2001210232A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】シャドウマスクのスジムラの発生を抑制し、開
口マスクの貫通孔のエッジ形状が良好で、電子ビーム透
過率のバラツキの少ないシャドウマスクの製造方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】長尺状のＦｅ−Ｎｉ系のインバー合金から
なる金属基材２１を塩化第二鉄溶液からなるエッチング
液を用いて両面からエッチングを行い、小孔マスク２５
及び大孔マスク２６からなる開口マスクを形成するシャ
ドウマスクの製造方法において、前記小孔マスク２５を
形成する際のエッチング液として、液温が７０℃以上、
前記液温での比重が１．５１以上である第一のエッチン
グ液を用い、前記大孔マスク２６を形成する際のエッチ
ング液として、液温が５５℃以上６５℃以下、前記液温
での比重が１．４５以上１．５０以下である第二のエッ
チング液を用いてシャドウマスクを作製する。
口マスクの貫通孔のエッジ形状が良好で、電子ビーム透
過率のバラツキの少ないシャドウマスクの製造方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】長尺状のＦｅ−Ｎｉ系のインバー合金から
なる金属基材２１を塩化第二鉄溶液からなるエッチング
液を用いて両面からエッチングを行い、小孔マスク２５
及び大孔マスク２６からなる開口マスクを形成するシャ
ドウマスクの製造方法において、前記小孔マスク２５を
形成する際のエッチング液として、液温が７０℃以上、
前記液温での比重が１．５１以上である第一のエッチン
グ液を用い、前記大孔マスク２６を形成する際のエッチ
ング液として、液温が５５℃以上６５℃以下、前記液温
での比重が１．４５以上１．５０以下である第二のエッ
チング液を用いてシャドウマスクを作製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はテレビ、コンピュー
ターなどのカラーディスプレーのブラウン管中に用いら
れるシャドウマスクの製造方法に関するものである。
ターなどのカラーディスプレーのブラウン管中に用いら
れるシャドウマスクの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、シャドウマスクの高精度高精細
化、大画面化が進み、シャドウマスクの金属基材として
従来主に使用されてきた純鉄（アルミキルド鋼）に替わ
り、室温での熱膨張係数が純鉄（アルミキルド鋼）に比
べ極めて低く、シャドウマスクの開口マスク（電子ビー
ム透過孔）の位置精度を温度に依存せず正確に保つこと
のできるＦｅ−Ｎｉ（３６重量％）合金（いわゆるイン
バー合金）をはじめとする低熱膨張特性を有するＦｅ−
Ｎｉ系合金を使用する必要が生じている。
化、大画面化が進み、シャドウマスクの金属基材として
従来主に使用されてきた純鉄（アルミキルド鋼）に替わ
り、室温での熱膨張係数が純鉄（アルミキルド鋼）に比
べ極めて低く、シャドウマスクの開口マスク（電子ビー
ム透過孔）の位置精度を温度に依存せず正確に保つこと
のできるＦｅ−Ｎｉ（３６重量％）合金（いわゆるイン
バー合金）をはじめとする低熱膨張特性を有するＦｅ−
Ｎｉ系合金を使用する必要が生じている。
【０００３】Ｆｅ−Ｎｉ系合金は熱膨張による開口マス
ク（電子ビーム透過孔）の位置ズレの極めて少ない金属
材料であるが、金属基材の板材製造過程でＮｉ偏析部と
非偏析部が生じ、それが微妙なエッチング状態の違いに
起因するとみられる圧延方向に平行なスジ状のムラ（以
下、スジムラという）が発生し、シャドウマスクの品質
低下に繋がり問題となっている。このスジムラは図３に
示すシャドウマスク１００のマスク領域１０１全体を見
たときにスジ状にかすかに見えるもので、スジムラを判
断するにはかなりの熟練を要する。
ク（電子ビーム透過孔）の位置ズレの極めて少ない金属
材料であるが、金属基材の板材製造過程でＮｉ偏析部と
非偏析部が生じ、それが微妙なエッチング状態の違いに
起因するとみられる圧延方向に平行なスジ状のムラ（以
下、スジムラという）が発生し、シャドウマスクの品質
低下に繋がり問題となっている。このスジムラは図３に
示すシャドウマスク１００のマスク領域１０１全体を見
たときにスジ状にかすかに見えるもので、スジムラを判
断するにはかなりの熟練を要する。
【０００４】こうしたスジムラを抑制する方法として特
開平７−２０７４１５号公報、特公平７−７８２７０号
公報及び特公平７−１１６５５８号公報等で、金属材料
中のＮｉ等の元素の偏析を低減する方法が提案されてい
るが、製造工程上、安定的にＮｉ等の元素の偏析発生を
完全に回避することは困難であり、スジムラ発生を完全
に無くすことは困難である。
開平７−２０７４１５号公報、特公平７−７８２７０号
公報及び特公平７−１１６５５８号公報等で、金属材料
中のＮｉ等の元素の偏析を低減する方法が提案されてい
るが、製造工程上、安定的にＮｉ等の元素の偏析発生を
完全に回避することは困難であり、スジムラ発生を完全
に無くすことは困難である。
【０００５】図２（ａ）にシャドウマスク１００の開口
マスクの一例を示す拡大平面図を、図２（ｂ）に開口マ
スクの拡大平面図をＡ−Ａ線で切断した拡大断面図を示
す。スジムラは、小孔マスク２５と大孔マスク２６の交
点である貫通孔２７のエッジ部分２７ａの形状がギザつ
いた状態になっており、その状態の開口マスクが圧延方
向に並ぶとスジムラとして見える。開口マスクの貫通孔
２７のエッジ部分２７ａの形状のギザつきはエッチング
状態（特に小孔側）に依存し、従来使用されている比較
的高速エッチングが可能な液温６０〜７０℃、その温度
での比重１．５０以下の条件下で、貫通孔２７のエッジ
部分２７ａの形状がギザついた状態となることが判明し
ており、電子ビーム透過率のシャドウマスク面内の分布
へ与える影響も大きい。
マスクの一例を示す拡大平面図を、図２（ｂ）に開口マ
スクの拡大平面図をＡ−Ａ線で切断した拡大断面図を示
す。スジムラは、小孔マスク２５と大孔マスク２６の交
点である貫通孔２７のエッジ部分２７ａの形状がギザつ
いた状態になっており、その状態の開口マスクが圧延方
向に並ぶとスジムラとして見える。開口マスクの貫通孔
２７のエッジ部分２７ａの形状のギザつきはエッチング
状態（特に小孔側）に依存し、従来使用されている比較
的高速エッチングが可能な液温６０〜７０℃、その温度
での比重１．５０以下の条件下で、貫通孔２７のエッジ
部分２７ａの形状がギザついた状態となることが判明し
ており、電子ビーム透過率のシャドウマスク面内の分布
へ与える影響も大きい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するためになされたものであり、シャドウマス
クのスジムラの発生を抑制し、開口マスクの貫通孔のエ
ッジ形状が良好で、電子ビーム透過率のバラツキの少な
いシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とす
る。
点を解決するためになされたものであり、シャドウマス
クのスジムラの発生を抑制し、開口マスクの貫通孔のエ
ッジ形状が良好で、電子ビーム透過率のバラツキの少な
いシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項１においては、長尺状の
金属基材を塩化第二鉄溶液からなるエッチング液を用い
て両面からエッチングを行い、小孔マスク及び大孔マス
クからなる開口マスクを形成するシャドウマスクの製造
方法において、前記小孔マスクを形成する際のエッチン
グ液として、液温が７０℃以上、前記液温での比重が
１．５１以上である第一のエッチング液を用い、前記大
孔マスクを形成する際のエッチング液として、液温が５
５℃以上６５℃以下、前記液温での比重が１．４５以上
１．５０以下である第二のエッチング液を用いることを
特徴とするシャドウマスクの製造方法としたものであ
る。
を達成するために、まず請求項１においては、長尺状の
金属基材を塩化第二鉄溶液からなるエッチング液を用い
て両面からエッチングを行い、小孔マスク及び大孔マス
クからなる開口マスクを形成するシャドウマスクの製造
方法において、前記小孔マスクを形成する際のエッチン
グ液として、液温が７０℃以上、前記液温での比重が
１．５１以上である第一のエッチング液を用い、前記大
孔マスクを形成する際のエッチング液として、液温が５
５℃以上６５℃以下、前記液温での比重が１．４５以上
１．５０以下である第二のエッチング液を用いることを
特徴とするシャドウマスクの製造方法としたものであ
る。
【０００８】また、請求項２においては、前記金属基材
としてＮｉ３０〜５０質量％、残部をＦｅを主体とする
Ｆｅ−Ｎｉ系合金を用いることを特徴とする請求項１記
載のシャドウマスクの製造方法としたものである。
としてＮｉ３０〜５０質量％、残部をＦｅを主体とする
Ｆｅ−Ｎｉ系合金を用いることを特徴とする請求項１記
載のシャドウマスクの製造方法としたものである。
【０００９】さらにまた、請求項３においては、前記金
属基材の開口マスクの貫通孔の形状が円形状であること
を特徴とする請求項１または請求項２記載のシャドウマ
スクの製造方法としたものである。
属基材の開口マスクの貫通孔の形状が円形状であること
を特徴とする請求項１または請求項２記載のシャドウマ
スクの製造方法としたものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明では開口マスクの貫通孔の
エッジ形状がエッチング条件に起因していることに着目
し、発明者等は一般的に化学エッチング工程に用いられ
る塩化第二鉄溶液での化学エッチング条件の検討を行っ
た。因子としては、エッチング条件の中でも塩化第二鉄
エッチング液の温度、比重を選択し各種比較実験を行
い、エッチング条件とスジムラの発生及び貫通孔形状に
ついて比較検討を行った。スジムラ発生状態に付いては
目視による判定を行い、貫通孔形状に付いては開口マス
クの顕微鏡等による拡大形状評価を行った。
エッジ形状がエッチング条件に起因していることに着目
し、発明者等は一般的に化学エッチング工程に用いられ
る塩化第二鉄溶液での化学エッチング条件の検討を行っ
た。因子としては、エッチング条件の中でも塩化第二鉄
エッチング液の温度、比重を選択し各種比較実験を行
い、エッチング条件とスジムラの発生及び貫通孔形状に
ついて比較検討を行った。スジムラ発生状態に付いては
目視による判定を行い、貫通孔形状に付いては開口マス
クの顕微鏡等による拡大形状評価を行った。
【００１１】塩化第二鉄エッチング液の温度を５５〜８
５℃、比重を１．４５〜１．５４の間で変化させ図４
（ａ）〜（ｆ）に示すような工程でシャドウマスクを作
製し、スジムラの発生状態及び開口マスクの形状評価を
行った。その結果を図１に示す。スジムラについてはわ
ずかにスジムラが認識できるレベルをレベル１、はっき
りスジムラが認識できるレベルをレベル４として４段階
で評価した。図１の結果から分かるように、スジムラの
発生状態については、スジムラレベルの段階評価の結果
図１の右下の高温、低比重領域でスジムラレベルが小と
なっているが、この領域ではエッチング表面が極度に粗
面化されており、エッチング面粗さの点で実用領域でな
いことが判明した。
５℃、比重を１．４５〜１．５４の間で変化させ図４
（ａ）〜（ｆ）に示すような工程でシャドウマスクを作
製し、スジムラの発生状態及び開口マスクの形状評価を
行った。その結果を図１に示す。スジムラについてはわ
ずかにスジムラが認識できるレベルをレベル１、はっき
りスジムラが認識できるレベルをレベル４として４段階
で評価した。図１の結果から分かるように、スジムラの
発生状態については、スジムラレベルの段階評価の結果
図１の右下の高温、低比重領域でスジムラレベルが小と
なっているが、この領域ではエッチング表面が極度に粗
面化されており、エッチング面粗さの点で実用領域でな
いことが判明した。
【００１２】図１の右下領域を除いてスジムラレベルが
低く、貫通孔形状の良好な領域を検討した結果小孔マス
ク側のエッチング条件として、塩化第二鉄エッチング液
の温度が７０℃以上、同温度での比重が１．５１以上の
条件域が、小孔マスク側のエッチング条件として、塩化
第二鉄エッチング液の温度が５５℃以上６８℃以下、同
温度での比重が１．４５以上１．５０以下という条件域
でスジムラの発生が少なくなり、且つ開口マスクの貫通
孔形状が良好であることが判明した。ここで、スジムラ
は小孔マスク側に比べ、エッチング表面が比較的観察し
やすい大孔マスク側に観察されるのがそのほとんどであ
ることも分かった。
低く、貫通孔形状の良好な領域を検討した結果小孔マス
ク側のエッチング条件として、塩化第二鉄エッチング液
の温度が７０℃以上、同温度での比重が１．５１以上の
条件域が、小孔マスク側のエッチング条件として、塩化
第二鉄エッチング液の温度が５５℃以上６８℃以下、同
温度での比重が１．４５以上１．５０以下という条件域
でスジムラの発生が少なくなり、且つ開口マスクの貫通
孔形状が良好であることが判明した。ここで、スジムラ
は小孔マスク側に比べ、エッチング表面が比較的観察し
やすい大孔マスク側に観察されるのがそのほとんどであ
ることも分かった。
【００１３】また、本課題の一つである開口マスクの貫
通孔の形状については、小孔マスク側のエッチング条件
に大きく影響される。すなわち、塩化第二鉄エッチング
液の温度が７０℃以上、同温度での比重が１．５１以
上、好ましくは１．５１〜１．５３で、この条件は大孔
マスク側のエッチング条件にほとんど影響されないた
め、上記条件を同時に満たすことにより、スジムラの発
生が抑制され、且つ開口マスクの貫通孔の形状が良好で
あるシャドウマスクを得ることができる。
通孔の形状については、小孔マスク側のエッチング条件
に大きく影響される。すなわち、塩化第二鉄エッチング
液の温度が７０℃以上、同温度での比重が１．５１以
上、好ましくは１．５１〜１．５３で、この条件は大孔
マスク側のエッチング条件にほとんど影響されないた
め、上記条件を同時に満たすことにより、スジムラの発
生が抑制され、且つ開口マスクの貫通孔の形状が良好で
あるシャドウマスクを得ることができる。
【００１４】
【実施例】以下実施例により本発明のエッチング条件で
作製したシャドウマスクの製造方法について説明する。
図４（ａ）〜（ｅ）は、本発明によるシャドウマスク製
造方法の一実施例を示すシャドウマスクの開口マスクの
構成断面図である。まず、板厚１３０μｍのインバー合
金基板（ＹＥＴ３６：日立金属（株）製）からなる金属
基材２１の両面に重クロム酸アンモニウムを１重量％添
加した水溶性レジスト（ＦＲ−１７：富士薬品工業
（株））を、ディップコーティングにより塗布し、６０
℃・３０分の乾燥を行い、感光層２２を形成した（図４
（ａ）参照）。
作製したシャドウマスクの製造方法について説明する。
図４（ａ）〜（ｅ）は、本発明によるシャドウマスク製
造方法の一実施例を示すシャドウマスクの開口マスクの
構成断面図である。まず、板厚１３０μｍのインバー合
金基板（ＹＥＴ３６：日立金属（株）製）からなる金属
基材２１の両面に重クロム酸アンモニウムを１重量％添
加した水溶性レジスト（ＦＲ−１７：富士薬品工業
（株））を、ディップコーティングにより塗布し、６０
℃・３０分の乾燥を行い、感光層２２を形成した（図４
（ａ）参照）。
【００１５】次に、金属基材２１の感光層２２に、パタ
ーンを描いたネガ型のフォトマスクを通して、３ｋＷの
超高圧水銀灯で１５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量で露光
し、一般の上水を０．１ＭＰａの圧力で９０秒間スプレ
ー現像を行い、小孔パターン２３及び大孔パターン２４
を有する小孔レジストパターン２２ａ及び大孔レジスト
パターン２２ｂを形成した（図４（ｂ）参照）。ここ
で、小孔パターン２３及び大孔パターン２４は、小孔用
が直径１００μｍ、大孔用が直径１４０μｍの円形状パ
ターンを用いた。
ーンを描いたネガ型のフォトマスクを通して、３ｋＷの
超高圧水銀灯で１５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量で露光
し、一般の上水を０．１ＭＰａの圧力で９０秒間スプレ
ー現像を行い、小孔パターン２３及び大孔パターン２４
を有する小孔レジストパターン２２ａ及び大孔レジスト
パターン２２ｂを形成した（図４（ｂ）参照）。ここ
で、小孔パターン２３及び大孔パターン２４は、小孔用
が直径１００μｍ、大孔用が直径１４０μｍの円形状パ
ターンを用いた。
【００１６】次に、金属基材２１の大孔レジストパター
ン２２ｂ側にプラスチックフイルム等を貼着しエッチン
グ液に対する保護膜３１を形成し、金属基材２１の小孔
レジストパターン２２ｂ側から、比重１．５１５、温度
７５℃の塩化第二鉄溶液からなる第一のエッチング液を
０．３ＭＰａの圧力で３分間スプレーエッチングするこ
とにより、小孔マスク２５を形成した（図４（ｃ）参
照）。
ン２２ｂ側にプラスチックフイルム等を貼着しエッチン
グ液に対する保護膜３１を形成し、金属基材２１の小孔
レジストパターン２２ｂ側から、比重１．５１５、温度
７５℃の塩化第二鉄溶液からなる第一のエッチング液を
０．３ＭＰａの圧力で３分間スプレーエッチングするこ
とにより、小孔マスク２５を形成した（図４（ｃ）参
照）。
【００１７】次に、金属基材２１の小孔マスク２５側に
耐食性ニス（アロニックスＭ−５４００：東亞合成化学
工業製）をロールコーターにより塗布し、乾燥、硬化し
て膜厚３０μｍの耐蝕樹脂層３２を形成した（図４
（ｄ）参照）。
耐食性ニス（アロニックスＭ−５４００：東亞合成化学
工業製）をロールコーターにより塗布し、乾燥、硬化し
て膜厚３０μｍの耐蝕樹脂層３２を形成した（図４
（ｄ）参照）。
【００１８】次に、金属基材２１の大孔レジストパター
ン２２ｂ側の保護膜３１を剥離し、大孔レジストパター
ン２２ｂをマスクにして、比重１．４６、温度５７℃の
塩化第二鉄溶液からなる第二のエッチング液を０．３Ｍ
Ｐａの圧力で６分間スプレーエッチングすることによ
り、大孔マスク２６を形成した（図４（ｅ）参照）。
ン２２ｂ側の保護膜３１を剥離し、大孔レジストパター
ン２２ｂをマスクにして、比重１．４６、温度５７℃の
塩化第二鉄溶液からなる第二のエッチング液を０．３Ｍ
Ｐａの圧力で６分間スプレーエッチングすることによ
り、大孔マスク２６を形成した（図４（ｅ）参照）。
【００１９】次に、上記金属基材２１を８０℃の２０重
量％の水酸化ナトリウム水溶液中に３分間浸漬すること
により、耐蝕樹脂層３２、小孔レジストパターン２２ａ
及び大孔レジストパターン２２ｂを除去し、１４５μｍ
径の小孔マスク２５、２７０μｍ径の大孔マスク２６及
び１４０μｍ径の貫通孔２７からなる開口マスクを有す
るシャドウマスク１００を得た（図４（ｅ）参照）。
量％の水酸化ナトリウム水溶液中に３分間浸漬すること
により、耐蝕樹脂層３２、小孔レジストパターン２２ａ
及び大孔レジストパターン２２ｂを除去し、１４５μｍ
径の小孔マスク２５、２７０μｍ径の大孔マスク２６及
び１４０μｍ径の貫通孔２７からなる開口マスクを有す
るシャドウマスク１００を得た（図４（ｅ）参照）。
【００２０】上記シャドウマスク１００のマスク領域１
０１を目視検査した結果スジムラの発生は見られず、ま
た開口マスクの貫通孔のエッジ形状も良好であり、本発
明のシャドウマスクの製造方法によれば、得られたシャ
ドウマスクにはスジムラが発生しないことが確認され
た。
０１を目視検査した結果スジムラの発生は見られず、ま
た開口マスクの貫通孔のエッジ形状も良好であり、本発
明のシャドウマスクの製造方法によれば、得られたシャ
ドウマスクにはスジムラが発生しないことが確認され
た。
【００２１】
【発明の効果】本発明のシャドウマスクの製造方法によ
れば、Ｆｅ−Ｎｉ合金系インバー金属基材でスジムラの
ない、且つ開口マスクの貫通孔部分の形状が良好なシャ
ドウマスクを得ることができる。さらに、カラーブラウ
ン管に内装された場合電子ビーム透過率の面内分布が良
好なカラーディスプレイが得られ、優れた実用上の効果
を発揮する。
れば、Ｆｅ−Ｎｉ合金系インバー金属基材でスジムラの
ない、且つ開口マスクの貫通孔部分の形状が良好なシャ
ドウマスクを得ることができる。さらに、カラーブラウ
ン管に内装された場合電子ビーム透過率の面内分布が良
好なカラーディスプレイが得られ、優れた実用上の効果
を発揮する。
【図１】Ｆｅ−Ｎｉ合金系のインバー金属基材を各種の
エッチング条件で作製したシャドウマスクのスジムラレ
ベルの目視判定結果を示す説明図である。
エッチング条件で作製したシャドウマスクのスジムラレ
ベルの目視判定結果を示す説明図である。
【図２】シャドウマスクの開口マスクの形状を示すもの
で、（ａ）は開口マスクの一例を示す拡大平面図であ
る。（ｂ）は開口マスクの拡大平面図をＡ−Ａ線で切断
した開口マスクの拡大断面図である。
で、（ａ）は開口マスクの一例を示す拡大平面図であ
る。（ｂ）は開口マスクの拡大平面図をＡ−Ａ線で切断
した開口マスクの拡大断面図である。
【図３】シャドウマスクの構成を示す平面図である。
【図４】（ａ）〜（ｆ）は、本発明によるシャドウマス
ク製造方法の一実施例の工程をを示すシャドウマスクの
開口マスクの構成断面図である。
ク製造方法の一実施例の工程をを示すシャドウマスクの
開口マスクの構成断面図である。
２１……金属基材 ２２……感光層 ２２ａ……小孔レジストパターン ２２ｂ……大孔レジストパターン ２３……小孔パターン ２４……大孔パターン ２５……小孔マスク ２６……大孔マスク ２６ａ……大孔マスクのテーパー部 ２７……貫通孔 ２７ａ……貫通孔のエッジ部分 ３１……保護膜 ３２……耐蝕樹脂層 ４１……スジムラレベル１ ４２……スジムラレベル２ ４３……スジムラレベル３ ４４……スジムラレベル４ １００……シャドウマスク １０１……マスク領域 １０２……スカート形成エリア
Claims (3)
- 【請求項１】長尺状の金属基材を塩化第二鉄溶液からな
るエッチング液を用いて両面からエッチングを行い、小
孔マスク及び大孔マスクからなる開口マスクを形成する
シャドウマスクの製造方法において、前記小孔マスクを
形成する際のエッチング液として、液温が７０℃以上、
前記液温での比重が１．５１以上である第一のエッチン
グ液を用い、前記大孔マスクを形成する際のエッチング
液として、液温が５５℃以上６５℃以下、前記液温での
比重が１．４５以上１．５０以下である第二のエッチン
グ液を用いることを特徴とするシャドウマスクの製造方
法。 - 【請求項２】前記金属基材としてＮｉ３０〜５０質量
％、残部をＦｅを主体とするＦｅ−Ｎｉ系合金を用いる
ことを特徴とする請求項１記載のシャドウマスクの製造
方法。 - 【請求項３】前記金属基材の開口マスクの貫通孔の形状
が円形状であることを特徴とする請求項１または請求項
２記載のシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000020077A JP2001210232A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000020077A JP2001210232A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001210232A true JP2001210232A (ja) | 2001-08-03 |
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ID=18546694
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000020077A Pending JP2001210232A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001210232A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015139757A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 大日本印刷株式会社 | フィルターおよびその製造方法 |
-
2000
- 2000-01-28 JP JP2000020077A patent/JP2001210232A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2015139757A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 大日本印刷株式会社 | フィルターおよびその製造方法 |
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