TWI828635B - 蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法 - Google Patents

蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明的蒸鍍遮罩係具備：表面、表面相對側之面即背面、及區劃各遮罩孔的內面。各遮罩孔係貫通表面與背面之間；面向表面俯視，各遮罩孔係具備位在表面的大開口、及位在大開口內側的小開口。各遮罩孔的至少一部分係具有將大開口與小開口相連的倒錐台筒狀。各內面係具備從小開口往大開口擴開的段差面。

Description

蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
本發明係有關蒸鍍遮罩(mask)、蒸鍍遮罩之製造方法、及使用蒸鍍遮罩進行的顯示裝置之製造方法。
就使用蒸鍍法製造的顯示裝置之一而言，已知有有機EL(Electro-Luminescence；電致發光)顯示器。有機EL顯示器所具備的圖案(pattern)乃係在蒸鍍步驟中昇華的蒸鍍粒子的堆積物。在蒸鍍步驟中使用的蒸鍍遮罩係含有表面與背面且具有將蒸鍍遮罩從表面貫通至背面的複數個遮罩孔。各遮罩孔乃係昇華的蒸鍍粒子通過的通路。
蒸鍍遮罩的背面乃係在蒸鍍步驟中與進行圖案形成的蒸鍍對象相接的面。蒸鍍遮罩的表面乃係在蒸鍍步驟中與蒸鍍源相對向的面。各遮罩孔係含有開口於表面的表面開口、及開口於背面的背面開口。表面開口係包含在從表面往背面漸縮的大孔中，背面開口係包含在從背面往表面的漸縮的小孔中。在蒸鍍遮罩的厚度方 向，大孔與小孔係在比蒸鍍遮罩厚度的中央更靠背面的位置互相連接。大孔與小孔連接的部分為連接部。在沿蒸鍍遮罩的厚度方向且通過連接部的剖面，與背面平行的直線為基準線。在該剖面，通過表面開口的邊緣與連接部之直線為傾斜線。此外，基準線與傾斜線所形成的角度為錐角(taper)角度(參照例如下述之專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2017-88936號公報
此外，從蒸鍍源飛向蒸鍍遮罩的蒸鍍粒子的軌跡與蒸鍍遮罩的背面所形成的角度為蒸鍍粒子的入射角度。關於能夠讓昇華的蒸鍍粒子通過大孔的入射角度的範圍、更甚而為蒸鍍粒子能夠通過遮罩孔的入射角度的範圍，係受到上述的錐角角度所限制。有鑒於此，在蒸鍍遮罩係追求使能夠讓蒸鍍粒子通過大孔的入射角度受到的限制減小。
本發明的目的在於提供做到能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小的蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法。
解決前述課題的蒸鍍遮罩乃係含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔的蒸鍍遮罩。具備： 表面；前述表面相對側之面即背面；及區劃各遮罩孔的內面。各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口。各遮罩孔的至少一部分係具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀。各內面係具備從前述小開口往前述大開口擴開的段差面。
解決前述課題的蒸鍍遮罩之製造方法乃係含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔的蒸鍍遮罩之製造方法。該蒸鍍遮罩之製造方法係含有形成蒸鍍遮罩之步驟，即藉由在金屬板形成複數個遮罩孔而形成蒸鍍遮罩；前述蒸鍍遮罩係具備：表面；前述表面相對側之面即背面；及區劃各遮罩孔的內面；各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口，各遮罩孔的至少一部分係具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀；各內面係具備從前述小開口往前述大開口擴開的段差面。
解決前述課題的顯示裝置之製造方法乃係使用含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔的蒸鍍遮罩進行的顯示裝置之製造方法。該顯示裝置之製造方法係含有：形成蒸鍍遮罩之步驟，即藉由在金屬板形成複數個遮罩孔而形成蒸鍍遮罩；及藉由使用前述蒸鍍遮罩進行的蒸鍍形成顯示裝置所具有的圖案之步驟；前述蒸鍍遮罩係具備表面、前述表面相對側之面即背面、 及區劃各遮罩孔的內面；各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口；各遮罩孔的至少一部分係具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀；各內面係具備從前述小開口往前述大開口擴開的段差面。
依據上述構成，擴開的段差面係把大開口的邊緣擴大，故相較於不具有段差面的遮罩孔，能夠縮小錐角角度。藉此，能夠使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小。
亦可為，在上述蒸鍍遮罩中，前述大開口的邊緣係具備前述段差面的邊緣即第1部、及前述第1部以外的第2部；前述大開口的邊緣的前述第2部係具備與相鄰於該大開口的其他前述大開口的前述第2部合而為一的交界部，該交界部係具有從前述表面下凹的形狀。
依據上述構成，大開口的邊緣的交界部係具有從表面下凹的形狀。因此，相較於不具備交界部的構成，還能夠縮小利用遮罩孔的內面當中段差部以外的區域形成的錐角角度。
亦可為，在上述蒸鍍遮罩中，面向前述表面俯視，前述交界部係含有前述小開口周圍當中彼此相鄰的前述小開口之間的距離為最小的部位。
依據上述構成，在彼此相鄰的小開口之間的距離為最小的部位係能夠獲得利用交界部形成的錐角角度，在彼此相鄰的小開口之間的距離較大的部位係能夠 獲得利用段差面形成的小的錐角角度。因此，在增大彼此相鄰的小開口的距離的設計中同樣能夠實現小的錐角角度。
亦可為，在上述蒸鍍遮罩中，前述大開口的邊緣係具備前述段差面的邊緣即第1部、及前述第1部以外的第2部；前述大開口的邊緣的前述第1部係具備與相鄰於該大開口的其他前述大開口的前述第1部合而為一的交界部，該交界部係具有從前述表面下凹的形狀。
依據上述構成，大開口的邊緣的交界部係具有從表面下凹的形狀。因此，相較於不具備交界部的構成，能夠縮小錐角角度。
亦可為，在上述蒸鍍遮罩中，前述小開口係位在前述背面。依據上述構成，小開口係位在背面，故能夠從表面側進行從大開口至小開口的加工。
亦可為，在上述蒸鍍遮罩中，前述段差面係具有複數段，各段係在與前述表面正交的剖面具有圓弧狀。上述構成係適於藉由溼蝕刻(wet etching)來形成各段。
解決前述課題的蒸鍍遮罩乃係含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔的蒸鍍遮罩。具備：表面；及前述表面相對側之面即背面。各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口，各遮罩孔的至少一部分係具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀；彼此相鄰的前述大 開口係藉由從前述表面下凹的輔助凹部而連接。
依據上述構成，大開口的邊緣的一部分係透過與輔助凹部的連接而具有從表面下凹的形狀。因此，相較於不具有輔助凹部的遮罩孔，能夠縮小錐角角度。藉此，可使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小。
依據本發明，可使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小。
10‧‧‧遮罩裝置
20‧‧‧主框
21‧‧‧主框孔
30、40、50‧‧‧蒸鍍遮罩
30F‧‧‧遮罩表面
30R‧‧‧遮罩背面
30S‧‧‧遮罩板
30S1‧‧‧板
31‧‧‧遮罩部
31C、31H2‧‧‧輔助凹部
31H‧‧‧遮罩孔
31H1‧‧‧主孔
32‧‧‧外周部
C1‧‧‧第1曲率中心
C2‧‧‧第2曲率中心
CA‧‧‧弧狀部
CA1‧‧‧第1圓弧
CA2‧‧‧第2圓弧
CC1‧‧‧第1曲率圓
CC2‧‧‧第2曲率圓
E‧‧‧邊緣
E1‧‧‧第1部
E2‧‧‧第2部
HB‧‧‧交界部
HC‧‧‧中央開口
HCO‧‧‧連接部
HF‧‧‧表面開口
HL‧‧‧大孔
HR‧‧‧背面開口
HS‧‧‧小孔
PL1‧‧‧第1保護層
PL2‧‧‧第2保護層
PR1‧‧‧第1阻劑層
PR2‧‧‧第2阻劑層
RC1‧‧‧第1曲率半徑
RC2‧‧‧第2曲率半徑
RM1‧‧‧第1阻劑遮罩
RM2‧‧‧第2阻劑遮罩
RMa‧‧‧第1圖案
RMb‧‧‧第1輔助圖案
RMF‧‧‧阻劑表面
SH‧‧‧階差高度
圖1係顯示一實施形態的遮罩裝置的構造之俯視圖。
圖2係顯示面向蒸鍍遮罩的第1例的遮罩表面俯視所見之構造之俯視圖。
圖3係顯示面向蒸鍍遮罩的第1例的遮罩背面仰視所見之構造之俯視圖。
圖4係沿圖2的I-I線的端面圖。
圖5係放大顯示圖4的一部分之端面圖。
圖6係沿圖2的II-II線的端面圖。
圖7係顯示面向蒸鍍遮罩的第2例的遮罩表面俯視所見之構造之俯視圖。
圖8係顯示面向蒸鍍遮罩的第2例的遮罩背面仰視所見之構造之俯視圖。
圖9係沿圖7的III-III線的端面圖。
圖10係沿圖7的IV-IV線的端面圖。
圖11(a)至圖11(f)係說明蒸鍍遮罩之製造方法的一例之步驟圖。
圖12係顯示製造蒸鍍遮罩的第1例時使用的第1阻劑遮罩(resist mask)的構造之俯視圖。
圖13係顯示製造蒸鍍遮罩的第2例時使用的第1阻劑遮罩的構造之俯視圖。
圖14係顯示實施例1的蒸鍍遮罩的構造之端面圖。
圖15係顯示比較例1的蒸鍍遮罩的構造之端面圖。
圖16係顯示實施例2的蒸鍍遮罩的構造之端面圖。
圖17係顯示比較例2的蒸鍍遮罩的構造之端面圖。
圖18係顯示面向蒸鍍遮罩的變形例的遮罩表面俯視所見之構造之俯視圖。
圖19係顯示面向蒸鍍遮罩的變形例的遮罩表面俯視所見之構造之俯視圖。
參照圖1至圖17說明蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法的一實施形態。以下係依序說明遮罩裝置的構成、蒸鍍遮罩的構成、蒸鍍遮罩之製造方法、及實施例。
[遮罩裝置的構成]
如圖1所示，遮罩裝置10係具備主框(main frame)20、及複數個蒸鍍遮罩30。主框20係具有支撐複數個蒸鍍遮罩30之用的矩形框狀，安裝至進行蒸鍍之用 的蒸鍍裝置。主框20係具有與蒸鍍遮罩30相同數目的主框孔21。各主框孔21乃係在主框20中貫通一個蒸鍍遮罩30所位在範圍的大致整個範圍之孔。蒸鍍遮罩30係具有細條板狀，具備複數個遮罩部31及包圍複數個遮罩部31的外周部32。各遮罩部31係具有複數個遮罩孔31H。但另一方面，外周部32並不具有遮罩孔31H。
蒸鍍遮罩30係由遮罩板(mask sheet)30S所構成。遮罩板30S係可由單一金屬板所構成，亦可由多層的金屬板所構成。構成遮罩板30S的金屬板的形成材料為鐵-鎳(nickel)系合金。金屬板的形成材料係例如較佳為含有質量百分比30%以上的鎳之鐵-鎳系合金。其中又以以質量百分比36%的鎳與64%的鐵之合金為主成分的合金亦即恆範鋼(invar)為金屬板的形成材料更佳。當金屬板以質量百分比36%的鎳與64%的鐵之合金為主成分時，就金屬板的其餘成分而言，例如亦可含有鉻(chrome)、錳(manganese)、碳、及鈷(cobalt)等添加物。
當遮罩板30S為恆範鋼板時，遮罩板30S的熱膨脹係數係例如為1.2×10-6/℃程度。依據具有如上述熱膨脹係數的遮罩板30S，遮罩部31的熱膨脹度與玻璃(glass)基板的熱膨脹度係匹配。因此，在使用遮罩裝置10進行的蒸鍍中，就蒸鍍對象的一例而言，較佳為使用玻璃基板。遮罩板30S的厚度係例如為10μm(micrometer；微米)以上50μm以下。
另外，在圖1所示的例子中，各蒸鍍遮罩30整個係位在比主框20的邊緣更內側，但蒸鍍遮罩30的 沿複數個遮罩部31排列方向的兩端部係亦可位在比主框20的邊緣更外側。
[蒸鍍遮罩的構成]
參照圖2至圖10說明蒸鍍遮罩30的構成。以下係說明蒸鍍遮罩30的第1例的構成、及蒸鍍遮罩30的第2例的構成。另外，在蒸鍍遮罩30的第1例與蒸鍍遮罩30的第2例之間，遮罩部31所含有的遮罩孔31H的形狀係相異。
[第1例]
參照圖2至圖6說明蒸鍍遮罩30的第1例。圖2係顯示面向遮罩表面俯視所見的遮罩部31的平面構造。相對於此，圖3係顯示面向遮罩背面仰視所見的遮罩部31的平面構造。在圖2及圖3中，為了容易區別遮罩表面或遮罩背面中遮罩孔31H所位在的部分及遮罩孔31H沒有位在的部分，在遮罩孔31H沒有位在的部分加上網點(dot)。
如圖2所示，蒸鍍遮罩30係具備遮罩表面30F、及遮罩表面30F相對側之面即遮罩背面。遮罩部31係具備貫通遮罩表面30F與遮罩背面30R之間的複數個遮罩孔31H。面向遮罩表面30F俯視，各遮罩孔31H係具備位在遮罩表面30F的表面開口HF、及位在表面開口HF內側的中央開口HC。表面開口HF為大開口的一例，中央開口HC為小開口的一例。區劃遮罩孔31H的 內面係具備將表面開口HF與中央開口HC相連的的段差面。表面開口HF的邊緣E係具備段差面的邊緣即第1部E1、及第1部E1以外的第2部E2。
在本實施形態中，複數個遮罩孔31H係沿第1方向DR1及與第1方向DR1正交的第2方向DR2排列。關於各遮罩孔31H，係與沿第1方向DR1彼此相鄰的遮罩孔31H及沿第2方向DR2彼此相鄰的遮罩孔31H兩者分開。各遮罩孔31H係具備一個主孔31H1及兩個輔助凹部31H2。各主孔31H1係在第1方向DR1被兩個輔助凹部31H2所包夾。換言之，在沿第1方向DR1彼此相鄰的主孔31H1間係有兩個輔助凹部31H2位於其間。
在各遮罩孔31H中，主孔31H1與輔助凹部31H2相連的部分乃係相對於遮罩表面30F下凹的部分，且藉由區劃主孔31H1的面及區劃輔助凹部31H2的面而沿使表面開口HF的邊緣擴大的方向形成段差。因此，上述的表面開口HF的邊緣E係由第2部E2的一例即主孔31H1的邊緣、及第1部E1的一例即輔助凹部31H2的邊緣所構成。
面向遮罩表面30F俯視，沿第1方向DR1彼此相鄰的中央開口HC間的距離為第1距離D1、沿第2方向DR2彼此相鄰的中央開口HC間的距離為第2距離D2。第1距離D1係與第2距離D2大致相等。
面向遮罩表面30F俯視，表面開口HF係具有大致正八邊形形狀。在表面開口HF中，沿第1方向 DR1的長度的最大值與沿第2方向DR2的長度的最大值係大致相等。另外，面向遮罩表面30F俯視，表面開口HF係能夠具有正八邊形形狀以外的多邊形形狀。在多邊形形狀之中，表面開口HF係又以具有2n(n為2以上的整數)邊形形狀較佳。另外，面向遮罩表面30F俯視，表面開口HF的各角部和各邊係亦可具有曲率。
面向遮罩表面30F俯視，兩個輔助凹部31H2係具有彼此大致相同的形狀且具有大致相同的大小。各輔助凹部31H2係具有沿第2方向DR2延伸的矩形形狀。另外，面向遮罩表面30F俯視，兩個輔助凹部31H2係亦可具有彼此相異的形狀，亦可具有彼此相異的大小。此外，各輔助凹部31H2的形狀係亦可為矩形形狀以外的形狀，例如亦可為橢圓狀等。另外，面向遮罩表面30F俯視，輔助凹部31H2的各角部和各邊係亦可具有曲率。
如圖3所示，面向遮罩背面30R仰視，複數個背面開口HR係沿第1方向DR1及第2方向DR2排列。面向遮罩背面30R仰視，背面開口HR係比表面開口HF小，此外，各背面開口HR的中心位置係與該背面開口HR所屬的遮罩孔31H所含有的主孔31H1的中心位置大致重疊。各背面開口HR係具有大致正八邊形形狀，各背面開口HR的形狀係與該背面開口HR所屬的遮罩孔31H的主孔31H1的邊緣的形狀大致相似。
圖4係顯示沿圖2的I-I線的端面之構造、亦即沿正交於遮罩表面30F且沿第1方向DR1延伸之平 面的端面之構造。I-I線乃係，面向遮罩表面30F俯視，沿第1方向DR1延伸且通過表面開口HF於第2方向DR2的中央之直線。
如圖4所示，各遮罩孔31H係具備開口於遮罩表面30F的表面開口HF、及位在比表面開口HF更內側的中央開口HC。遮罩孔31H的一部分係具有將表面開口HF與中央開口HC相連的倒錐台筒狀。區劃遮罩孔31H的內面係具備從中央開口HC往表面開口HF擴開的段差面。在從中央開口HC到表面開口HF之間，區劃輔助凹部31H2的內面與區劃主孔31H1的內面連接的部分為連接部HCO。
各遮罩孔31H係由大孔HL及小孔HS所構成。大孔HL係具有含有表面開口HF的倒錐台筒狀。小孔HS係具有含有背面開口HR的錐台筒狀。小孔HS係與大孔HL相連，小孔HS與大孔HL連接的部分為中央開口HC。大孔HL係由上述的主孔31H1及兩個輔助凹部31H2所構成。主孔31H1乃係將遮罩表面30F與中央開口HC相連的孔。大孔HL的內面係在遮罩孔31H的沿周方向的一部分具備兩段的段差面。如上述，兩段的段差面係由主孔31H1的內面的一部分及輔助凹部31H2的內面所構成。中央開口HC與背面開口HR之間的距離為階差高度(step height)SH。階差高度係較佳為3μm以下，更佳為1μm以下。
在沿蒸鍍遮罩30的厚度方向且通過中央開口HC的剖面，與遮罩背面30R平行的直線為基準線 BL。在該剖面，連結中央開口HC的邊緣與大孔HL的內面的一點之直線其中的與基準線BL共同形成的角度成為最大之直線為傾斜線OL。在第1例中，傾斜線OL乃係通過主孔31H1的內面與表面開口HF的邊緣的直線。基準線BL與傾斜線OL所形成的角度為錐角角度θ。另外，或有連結中央開口HC的邊緣與連接部HCO之直線為傾斜線OL的情形。
蒸鍍遮罩30所具備的遮罩孔31H的加工通常係使用溼蝕刻。該溼蝕刻乃係從金屬製的板的表面等向性地深入之蝕刻。藉由溼蝕刻而形成的遮罩孔31H乃係以遮罩表面30F為底部的例如半圓球面的一部分，遮罩孔31H的沿平行於遮罩表面30F之面的剖面積係離表面開口HF愈遠則愈急遽縮減。如上述的遮罩孔31H所具有的錐角角度θ係板的厚度愈薄則愈小，大體上由板的厚度決定。此外，為了縮小錐角角度θ而減少板的厚度亦有極限。在這點上，若為上述的構成，擴開的段差面係把表面開口HF的邊緣E擴大，故相較於不具有段差面的遮罩孔31H，能夠縮小錐角角度θ。藉此，能夠使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔31H的蒸鍍粒子的入射角度的大小和欲得到小入射角度的位置等與該些入射角度有關的限制減小。
圖5係放大顯示遮罩孔31H的端面構造的一例。其中，在沿I-I線的端面，區劃一個遮罩孔31H的側面當中的夾著遮罩孔31H沿第1方向DR1彼此相鄰的部分係具有彼此大致相同的形狀。因此，以下係僅說明 兩部分的其中一者，省略另一者的說明。此外，在沿I-I線的端面，含有區劃大孔HL的側面之遮罩要素係相對於與蒸鍍遮罩30的厚度方向平行且通過遮罩要素於第1方向DR1的中央之直線具有線對稱的形狀。
如圖5所示，段差面的各段係在沿正交於遮罩表面30F且沿第1方向DR1延伸之平面的端面、換言之即剖面，具有圓弧狀。段差面係具有適於藉由溼蝕刻來形成各段的形狀。大孔HL的內面係具備具有兩段圓弧狀的弧狀部CA。弧狀部CA係由第1圓弧CA1及第2圓弧CA2所構成。第2圓弧CA2係位在比第1圓弧CA1更靠遮罩背面30R。與第1圓弧CA1相接的第1曲率圓CC1係具有第1曲率中心C1。第1曲率圓CC1的曲率半徑為第1曲率半徑RC1。與第2圓弧CA2相接的第2曲率圓CC2係具有第2曲率中心C2。第2曲率圓CC2的曲率半徑為第2曲率半徑RC2。第1曲率中心C1及第2曲率中心C2係位在相對於弧狀部CA的遮罩孔31H側。第1曲率半徑RC1係比第2曲率半徑RC2小。
圖6係顯示沿圖2的II-II線的端面之構造、亦即沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的端面之構造。II-II線乃係，面向遮罩表面30F俯視，沿第2方向DR2延伸且通過表面開口HF於第1方向DR1的中央之直線。
如圖6所示，在沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的端面、換言之即剖面，大孔HL的內面及小孔HS的內面係分別具有往遮罩孔31H的 外側突出的圓弧狀。
在如上述的蒸鍍遮罩30中，遮罩表面30F乃係在蒸鍍裝置內與蒸鍍源相對向之用的面，遮罩背面30R乃係在蒸鍍裝置內與玻璃基板等蒸鍍對象接觸之用的面。各遮罩孔31H乃係從蒸鍍源昇華的蒸鍍粒子通過的通路，從蒸鍍源昇華的蒸鍍粒子係從表面開口HF往背面開口HR而進到遮罩孔31H內。藉由在遮罩孔31H中表面開口HF比背面開口HR大，能夠抑制針對從表面開口HF進入的蒸鍍粒子的陰影效應(shadow effect)。
[第2例]
參照圖7至圖10說明蒸鍍遮罩30的第2例。
如圖7所示，蒸鍍遮罩30係具備複數個遮罩孔31H。各遮罩孔31H係貫通遮罩表面30F與遮罩背面30R之間。面向遮罩表面30F俯視，遮罩孔31H係具備位在遮罩表面30F的表面開口HF、及位在表面開口HF內側的中央開口HC。表面開口HF為大開口的一例，中央開口HC為小開口的一例。遮罩孔31H的一部分係具有將表面開口HF與中央開口HC相連的倒錐台筒狀。彼此相鄰的表面開口HF係藉由從遮罩表面30F下凹的輔助凹部31C而連接。
各表面開口HF的邊緣E係具備與相鄰於該表面開口HF的其他表面開口HF的邊緣E合而為一的交界部HB。交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀。面向遮罩表面30F俯視，交界部HB係含有中央開 口HC周圍當中彼此相鄰的中央開口HC之間的距離為最小的部位。如前述，面向遮罩表面30F俯視，沿第1方向DR1彼此相鄰的中央開口HC間的距離為第1距離D1、沿第2方向DR2彼此相鄰的中央開口HC間的距離為第2距離D2。在蒸鍍遮罩30的第2例中，第1距離D1比第2距離D2小，交界部HB係位在沿第1方向DR1的遮罩孔31H間。
在如上述的構成中，表面開口HF的邊緣E的交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀。因此，相較於不具備交界部HB的構成，在輔助凹部31C以外的區域也能夠縮小錐角角度θ。此外，在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離為最小的部位係能夠獲得利用交界部HB形成的錐角角度θ，在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離較大的部位係能夠獲得利用輔助凹部31C形成的小的錐角角度θ。因此，在彼此相鄰的中央開口HC的距離大的設計中同樣能夠實現小的錐角角度θ。
在本實施形態中，複數個遮罩孔31H係沿第1方向DR1及第2方向DR2排列，且具有在面向遮罩表面30F俯視時沿第1方向DR1延伸的形狀。面向遮罩表面30F俯視，在每一沿第2方向DR2彼此相鄰的遮罩孔31H間各有一個輔助凹部31C位於其間。各輔助凹部31C係與沿第2方向DR2包夾該輔助凹部31C的兩個遮罩孔31H相連。
在各遮罩孔31H，面向遮罩表面30F俯視，交界部HB係位在遮罩孔31H的沿周方向的一部分。各 遮罩孔31H係含有兩個交界部HB。各交界部HB係具有沿第2方向DR2延伸的直線狀，兩個交界部HB係沿第1方向DR1排列。從遮罩孔31H的內側觀看，交界部HB乃係從遮罩表面30F下凹的凹狀。
面向遮罩表面30F俯視，表面開口HF係具有大致八邊形形狀。在表面開口HF中，沿第1方向DR1的長度的最大值係比沿第2方向DR2的長度的最大值大。另外，對應遮罩表面30F俯視，表面開口HF係同第1例的表面開口HF一樣能夠具有八邊形形狀以外的多邊形形狀。在多邊形形狀之中，表面開口HF係又以具有2n(n為2以上的整數)邊形形狀較佳。另外，面向遮罩表面30F俯視，表面開口HF的各角部和各邊係亦可具有曲率。
面向遮罩表面30F俯視，複數個輔助凹部31C係具有彼此大致相同的形狀且具有大致相同的大小。各輔助凹部31C係例如具有沿第1方向DR1延伸的矩形形狀。另外，面向遮罩表面30F俯視，複數個輔助凹部31C係亦可具有彼此相異的形狀，亦可具有彼此相異的大小。此外，各輔助凹部31C的形狀係亦可為上述的矩形形狀以外的形狀，例如亦可為橢圓狀等。另外，面向遮罩表面30F俯視，輔助凹部31C的各角部和各邊係亦可具有曲率。
如圖8所示，複數個背面開口HR係沿第1方向DR1及第2方向DR2排列。各背面開口HR的中心位置係與該背面開口HR所屬的遮罩孔31H所含有的表 面開口HF的中心位置大致重疊。各背面開口HR係具有沿第1方向DR1延伸的大致八邊形形狀，各背面開口HR的形狀係與該背面開口HR所屬的遮罩孔31H的表面開口HF的形狀大致相似。
圖9係顯示沿圖7的III-III線的端面之構造、亦即沿正交於遮罩表面30F且沿第1方向DR1延伸之平面的端面之構造。III-III線乃係，面向遮罩表面30F俯視，沿第1方向DR1延伸且通過表面開口HF於第2方向DR2的中央之直線。
如圖9所示，各遮罩孔31H係含有大孔HL及小孔HS。大孔HL係含有表面開口HF且具有從遮罩表面30F往遮罩背面30R漸縮的倒錐台筒狀。小孔HS係含有背面開口HR且具有從遮罩背面30R往遮罩表面30F漸縮的錐台筒狀。小孔HS係與大孔HL相連，小孔HS與大孔HL相連的部分為中央開口HC。此外，沿第1方向DR1彼此相鄰的遮罩孔31H係在從遮罩表面30F下凹的交界部HB彼此相連。因此，交界部HB的厚度係比外周部32的厚度薄。
圖10係顯示沿圖7的IV-IV線的端面之構造、亦即沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的端面之構造。IV-IV線乃係，面向遮罩表面30F俯視，沿第2方向DR2延伸且通過表面開口HF於第1方向DR1的中央之直線。
如圖10所示，在沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的端面，僅一個輔助凹部31C 位在彼此相鄰的遮罩孔31H間。該輔助凹部31C係與其中一者的遮罩孔31H的表面開口HF及另一者的遮罩孔31H的表面開口HF連接。亦即，遮罩孔31H並未具有兩段的段差面。在彼此相鄰的兩個遮罩孔31H，各大孔HL的內面彼此係藉由輔助凹部31C而連接。遮罩部31一部分的厚度係比外周部32的厚度薄上輔助凹部31C的厚度。
在各遮罩孔31H中，同蒸鍍遮罩30的第1例一樣，傾斜線OL與基準線BL所形成的角度為錐角角度θ。在蒸鍍遮罩30的第2例中，傾斜線OL乃係沿大孔HL的內面延伸的直線。亦即，傾斜線OL乃係沿大孔HL與小孔HS的連接部即中央開口HC的接線方向延伸的直線。
[蒸鍍遮罩之製造方法]
參照圖11(a)至圖11(f)說明蒸鍍遮罩30的製造方法。
如圖11(a)至圖11(f)所示，在蒸鍍遮罩30的製造方法中，首先，準備金屬板的一例即板30S1(參照圖11(a))。接著，在板30S1的遮罩表面30F形成第1阻劑層PR1，且在板30S1的遮罩背面30R形成第2阻劑層PR2(參照圖11(b))。接著，藉由進行對第1阻劑層PR1及第2阻劑層PR2的曝光及顯影，在遮罩表面30F形成第1阻劑遮罩RM1，且在遮罩背面30R形成第2阻劑遮罩RM2(參照圖11(c))。
接著，在形成覆蓋第1阻劑遮罩RM1的第1保護層PL1後，使用第2阻劑遮罩RM2從遮罩背面30R對板30S1進行溼蝕刻，藉此而在板30S1形成複數個小孔HS(參照圖11(d))。接著，在進行第1保護層PL1的去除及覆蓋第2阻劑遮罩RM2的第2保護層PL2的形成後，使用第1阻劑遮罩RM1從遮罩表面30F對板30S1進行溼蝕刻，藉此而在板30S1形成複數個大孔HL(參照圖11(e))。對板30S1形成複數個小孔HS的步驟及形成複數個大孔HL的步驟係包含在板形成步驟及遮罩形成步驟裡。接著，將第1阻劑遮罩RM1、第2阻劑遮罩RM2、及第2保護層PL2從板30S1去除，藉此而製造蒸鍍遮罩30(參照圖11(f))。另外，在圖11(d)中係亦可在剝離第1阻劑遮罩RM1後形成第2保護層PL2。
製造板30S1的方法係使用電解或壓延，就藉由電解或壓延而得的板30S1的後處理而言，適宜地使用研磨和退火(anneal)等。當在板30S1的製造使用電解時，係在電解所使用的電極的表面形成板30S1，然後將板30S1從電極的表面剝離。藉此而製造板30S1。另外，從電極的表面剝離下來的板30S1係可視需要進行退火。當在板30S1的製造使用壓延時，係將製造板30S1之用的母材進行壓延，然後將經壓延的母材進行退火，藉此而製得板30S1。另外，藉由電解而得的板30S1及藉由壓延而得的板30S1係皆亦可藉由使用酸性蝕刻液的溼蝕刻進行加工減少厚度。
電解所使用的電解浴係含有鐵離子供給劑、 鎳離子供給劑、及pH緩衝劑。此外，電解浴係亦可含有應力緩和劑、Fe3+離子遮蔽劑、及錯合劑等。電解浴乃係pH值調整成適於電解的弱酸性的溶液。鐵離子供給劑係例如能夠使用硫酸亞鐵七水合物、氯化亞鐵、及氨基磺酸(sulfamic acid)鐵等。鎳離子供給劑係例如能夠使用硫酸鎳(II)、氯化鎳(II)、氨基磺酸鎳、及溴化鎳等。pH緩衝劑係例如能夠使用硼酸、及丙二酸(malonic acid)。丙二酸係亦能夠作為Fe3+離子遮蔽劑發揮功能。應力緩和劑係例如能夠使用糖精鈉(saccharin sodium)等。錯合劑係例如能夠使用蘋果酸(malic acid)及檸檬酸(citric acid)等。電解所使用的電解浴係例如為含有上述添加劑的水溶液，電解浴的pH值係藉由pH調整劑而例如調整成2以上3以下。另外，pH調整劑係能夠使用5%硫酸及碳酸鎳等。
電解所使用的條件乃係將板30S1的厚度及板30S1的組成比等調節成所期望值之用的條件，如上述的條件係包括電解浴的溫度、電流密度、及電解時間。適用於上述電解浴的陽極係例如為純鐵板及鎳板等。適用於電解浴的陰極係例如為SUS304等不鏽鋼板。電解浴的溫度係例如為40℃以上60℃以下。電流密度係例如為1A/dm2以上4A/dm2以下。
另外，在形成板30S1之用的壓延用的母材時，為了將形成壓延用的母材之用的材料中混入的氧氣去除，例如將粒狀的鋁和粒狀的鎂等脫氧劑摻混進形成母材之用的材料。鋁和鎂係以氧化鋁和氧化鎂等金屬氧 化物的形式含於母材中。該些金屬氧化物的大部分係在母材進行壓延之前從母材中去除。另一方面，金屬氧化物的一部分係殘留在壓延的對象即母材中。依據使用電解的蒸鍍遮罩30的製造方法，可抑制金屬氧化物混入遮罩板30S。
關於在板30S1形成複數個遮罩孔31H之用的蝕刻，能夠使用酸性的蝕刻液作為蝕刻液。當板30S1以恆範鋼形成時，蝕刻液係只要為能夠蝕刻恆範鋼的蝕刻液即可。酸性的蝕刻液係例如為對過氯酸鐵液、及過氯酸鐵液與氯化鐵液的混合液混合過氯酸、鹽酸、硫酸、甲酸、乙酸其中任一者而成的溶液。蝕刻遮罩表面30F的方式係能夠使用浸泡(dip)式、噴灑(spray)式、旋轉(spin)式其中任一者。
參照圖12及圖13說明第1阻劑遮罩RM1。圖12係顯示製造蒸鍍遮罩30的第1例時形成的第1阻劑遮罩RM1，圖13係顯示製造蒸鍍遮罩30的第2例時形成的第1阻劑遮罩RM1。
如圖12所示，第1阻劑遮罩RM1係含有阻劑表面RMF。阻劑表面RMF乃係第1阻劑遮罩RM1中與板30S1相接的面相對側之面。第1阻劑遮罩RM1係具有複數個第1圖案RMa及複數個第1輔助圖案RMb。各第1圖案RMa及各第1輔助圖案RMb係沿第1阻劑遮罩RM1的厚度方向貫通第1阻劑遮罩RM1。
面向阻劑表面RMF俯視，各第1圖案RMa係具有大致正八邊形形狀。各第1圖案RMa係具有與藉 由該第1圖案RMa而形成的主孔31H1的第2部E2所區劃的區域大致相似的形狀。面向阻劑表面RMF俯視，複數個第1圖案RMa係沿第1方向DR1及第2方向DR2的各方向排列。
面向阻劑表面RMF俯視，各第1輔助圖案RMb係具有沿第2方向DR2延伸的矩形形狀。各第1輔助圖案RMb係具有與藉由該第1輔助圖案RMb而形成的輔助凹部31H2的第1部E1所區劃的區域大致相似的形狀。面向阻劑表面RMF俯視，有兩個第1輔助圖案RMb位在沿第1方向DR1彼此相鄰的兩個第1圖案RMa之間。
藉由使用如上述第1阻劑遮罩RM1進行的蝕刻，能夠形成由主孔31H1及兩個輔助凹部31H2構成的大孔HL。另外，在形成複數個小孔HS時，就第2阻劑遮罩RM2而言，使用面向阻劑表面RMF俯視時形成有複數個圖案的阻劑遮罩。第2阻劑遮罩RM2所具有的圖案係與第1圖案RMa大致相似且沿第1方向DR1及第2方向DR2的各方向排列。
如圖13所示，第1阻劑遮罩RM1係具有複數個第1圖案RMa及複數個第1輔助圖案RMb。各第1圖案RMa及各第1輔助圖案RMb係沿第1阻劑遮罩RM1的厚度方向貫通第1阻劑遮罩RM1。
面向阻劑表面RMF俯視，各第1圖案RMa係具有沿第1方向DR1延伸的大致八邊形形狀。各第1圖案RMa係具有與藉由該第1圖案RMa而形成的表面 開口HF所區劃的區域大致相似的形狀。面向阻劑表面RMF俯視，複數個第1圖案RMa係沿第1方向DR1及第2方向DR2排列。
面向阻劑表面RMF俯視，各第1輔助圖案RMb係具有沿第1方向DR1延伸的矩形形狀。各第1輔助圖案RMb係具有與藉由該第1輔助圖案RMb而形成的輔助凹部31C所區劃的區域大致相似的形狀。面向阻劑表面RMF俯視，有一個第1輔助圖案RMb位在沿第2方向DR2彼此相鄰的兩個第1圖案RMa之間。
藉由使用如上述第1阻劑遮罩RM1進行的蝕刻，能夠形成大孔HL及與沿第2方向DR2彼此相鄰的兩個大孔HL相連的輔助凹部31C。另外，在形成複數個小孔HS時，就第2阻劑遮罩RM2而言，使用面向阻劑表面RMF俯視時形成有複數個圖案的阻劑遮罩。第2阻劑遮罩RM2所具有的圖案係與第1圖案RMa大致相似且沿第1方向DR1及第2方向DR2的各方向排列。
在使用上述蒸鍍遮罩30製造顯示裝置的方法中，首先，將搭載有蒸鍍遮罩30的遮罩裝置10安裝至蒸鍍裝置的真空槽內。此時，以使玻璃基板等蒸鍍對象與遮罩背面30R相對向且使蒸鍍源與遮罩表面30F相對向的方式將遮罩裝置10安裝至真空槽內。接著，將蒸鍍對象搬入蒸鍍裝置的真空槽，以蒸鍍源令蒸鍍物質昇華。藉此，在與背面開口HR相對向的蒸鍍對象，形成具有依循背面開口HR而成之形狀的圖案。蒸鍍物質係例如為構成顯示裝置的像素的有機發光材料和構成顯示 裝置的像素電路的像素電極材料等。另外，藉由使用遮罩裝置10所含有的蒸鍍遮罩30進行的蒸鍍來形成顯示裝置所具有的圖案之步驟為圖案形成步驟。
[實施例]
準備具有30μm厚度的恆範鋼製的板30S1。接著，使用板30S1製作以下所說明的實施例1、實施例2、比較例1、及比較例2的蒸鍍遮罩。
[實施例1]
藉由第2阻劑層PR2的曝光及顯影，以沿第1方向DR1及第2方向DR2的各方向排列的方式形成面向遮罩背面30R仰視時具有大致正八邊形形狀的複數個圖案。藉由第1阻劑層PR1的曝光及顯影，以沿第1方向DR1及第2方向DR2的各方向排列的方式形成面向阻劑表面RMF俯視時具有大致八邊形形狀的複數個第1圖案RMa。此外，以在每一沿第1方向DR1排列的兩個第1圖案RMa之間各排列兩個的方式形成面向阻劑表面RMF俯視時具有沿第2方向DR2延伸的矩形形狀的複數個第1輔助圖案RMb。藉此，製得第1阻劑遮罩RM1及第2阻劑遮罩RM2。
使用第1阻劑遮罩RM1及第2阻劑遮罩RM2，在板30S1形成複數個遮罩孔31H。藉此，製得與上述的蒸鍍遮罩30的第1例對應的實施例1的蒸鍍遮罩30。在實施例1的蒸鍍遮罩30中，大孔HL的形狀、及 各部的尺寸係如同以下的記載。
亦即，如圖14所示，確認到大孔HL的內面係具有兩段的圓弧狀。此外，在沿正交於遮罩表面30F且沿第1方向DR1延伸之平面的端面，將沿第1方向DR1含有一個大孔HL的寬度換言之即大孔HL的間距(pitch)設定為第1寬度W1、將背面開口HR的沿第1方向DR1的寬度設定為第2寬度W2。此外，將背面開口HR間的寬度設定為第3寬度W3。
面向遮罩表面30F俯視，將一邊之長度為2.8mm的正方形狀的量測區域設定為遮罩部31，量測得到以下13處的第1寬度W1、第2寬度W2、第3寬度W3、錐角角度θ、及階差高度SH。亦即，在量測區域，將量測區域中心設定為量測點，在通過量測區域中心且沿第1方向DR1延伸的直線設定包夾量測區域中心的兩個量測點。此外，在通過量測區域中心且沿第2方向DR2延伸的直線設定包夾量測區域中心的兩個量測點。此外，在通過量測區域中心的兩條對角線的各者，在相對於量測區域中心的一方側設定兩個量測點，且在相對於量測區域中心的另一方側設定兩個量測點。另外，在各量測點所位在的直線狀，將兩個量測點間的距離設定為相同值。此外，以下係將13個量測點的錐角角度θ的平均值設定為各實施例及各比較例的錐角角度θ。此外，以下係將13個量測點的階差高度SH的平均值設定為各實施例及各比較例的階差高度SH。
確認到在實施例1的蒸鍍遮罩30中，第1 寬度W1為140μm、第2寬度W2為75μm、第3寬度W3為65μm、錐角角度θ為36°、階差高度SH為0.5μm。此外，確認到大孔HL係具有從中央開口HC往表面開口HF擴開的段差面、及含有主孔31H1以及在第1方向DR1包夾主孔31H1的兩個輔助凹部31H2。另外，確認到於同一個量測點，在沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的端面，錐角角度θ為57°。
[比較例1]
除了第1阻劑遮罩RM1僅具有複數個第1圖案RMa這點之外，係使用與上述實施例1相同的方法製造比較例1的蒸鍍遮罩40。
如圖15所示，確認到在比較例1的蒸鍍遮罩40中，第1寬度W1、第2寬度W2、第3寬度W3、及階差高度SH各者乃係與實施例1的蒸鍍遮罩30為相同的值。相對於此，確認到在比較例1的蒸鍍遮罩40中，錐角角度θ為55°。其中，量測各值時的條件設定成與實施例1相同條件。此外，確認到各遮罩孔的內面具有圓弧狀但並不具有段差面。另外，確認到於同一個量測點，在沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的端面，錐角角度θ為57°。
[實施例2]
除了將第1阻劑遮罩RM1所具有的第1圖案RMa及第1輔助圖案RMb變更如下這點之外，係使用與實施 例1相同的方法製造實施例2的蒸鍍遮罩30。亦即，在第1阻劑遮罩RM1，以沿第1方向DR1及第2方向DR2的各方向排列的方式形成面向阻劑表面RMF俯視時具有沿第1方向DR1延伸的大致八邊形形狀的複數個第1圖案RMa。此外，在每一沿第2方向DR2彼此相鄰的第1圖案RMa之間各形成一個面向阻劑表面RMF俯視時具有沿第1方向DR1延伸的矩形形狀的第1輔助圖案RMb。另外，實施例2的蒸鍍遮罩30乃係與上述的蒸鍍遮罩30的第2例對應的蒸鍍遮罩。
如圖16所示，在沿正交於遮罩表面30F且沿第2方向DR2延伸之平面的剖面，將沿第2方向DR2含有一個大孔HL的寬度換言之即大孔HL的間距設定為第4寬度W4、將背面開口HR沿第2方向DR2的寬度設定為第5寬度W5。此外，將背面開口HR間的寬度設定為第6寬度W6。
確認到在實施例2的蒸鍍遮罩30中，第4寬度W4為140μm，第5寬度W5為90μm、第6寬度為50μm、錐角角度θ為36°、階差高度SH為0.6μm。其中，量測各值時的條件設定成與實施例1相同條件。此外，確認到面向遮罩表面30F俯視，在沿第2方向DR2相鄰的兩個表面開口HF之間形成有與各表面開口HF相連的輔助凹部31C。另外，確認到於同一個量測點，在沿正交於遮罩表面30F且沿第1方向DR1延伸之平面的端面，錐角角度θ為33°。
[比較例2]
除了第1阻劑遮罩RM1僅具有複數個第1圖案RMa這點之外，係使用與上述實施例2相同的方法製造比較例2的蒸鍍遮罩50。
如圖17所示，確認到在比較例2的蒸鍍遮罩50中，第4寬度W4、第5寬度W5、第6寬度W6、及階差高度SH各者乃係與實施例2的蒸鍍遮罩30為相同的值。相對於此，確認到在比較例2的蒸鍍遮罩50中，錐角角度θ為58°。其中，量測各值時的條件設定成與實施例1相同條件。此外，確認到面向遮罩表面俯視，有複數個表面開口排列，但另一方面，未確認到位在兩個表面開口之間的輔助凹部。另外，確認到於同一個量測點，在沿正交於遮罩表面30F且沿第1方向DR1延伸之平面的端面，錐角角度θ為32°。
[評價]
如上述，確認到依據大孔HL具備主孔31H1及輔助凹部31H2的蒸鍍遮罩30，相較於不具有輔助凹部的蒸鍍遮罩40，能夠縮小錐角角度θ。此外，確認到依據有輔助凹部31C位在兩個大孔HL之間的蒸鍍遮罩30，相較於沒有輔助凹部31C位在的蒸鍍遮罩50，能夠縮小錐角角度θ。亦即，確認到依據蒸鍍遮罩30，將錐角角度θ縮小，藉此，能夠使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔31H的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小。
依據上述的實施形態，能夠獲得以下記載的 效果。
(1)擴開的段差面係把表面開口HF的邊緣E擴大，故相較於不具有段差面的遮罩孔31H，能夠縮小錐角角度θ。藉此，能夠使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔31H的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小。
(2)段差面係在與表面正交的剖面具有圓弧狀，故適於藉由溼蝕刻來形成各段。
(3)表面開口HF的邊緣E的一部分係透過與輔助凹部31C的連接而具有從遮罩表面30F下凹的形狀。因此，相較於不具有輔助凹部31C的遮罩孔31H，能夠縮小錐角角度θ。藉此，能夠使能夠讓蒸鍍粒子通過遮罩孔31H的蒸鍍粒子的入射角度受到的限制減小。
(4)表面開口HF的邊緣E的交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀。因此，相較於不具備交界部HB的構成，在輔助凹部31C以外的區域也能夠縮小錐角角度θ。
(5)在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離為最小的部位係能夠獲得利用交界部HB形成的錐角角度θ，在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離較大的部位係能夠獲得利用輔助凹部31C形成的小的錐角角度θ。因此，在彼此相鄰的中央開口HC的距離為大的設計中同樣能夠實現小的錐角角度θ。
另外，上述的實施形態係能夠如下述適宜地變更而實施。
[第1例的變形例]
‧亦可為，如圖18所示，表面開口HF的邊緣E的第2部E2係具備與相鄰於該表面開口HF的其他表面開口HF的第2部E2合而為一的交界部HB，交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀。亦即，在蒸鍍遮罩30的第1例中，同樣地，遮罩孔31H係亦可具有與蒸鍍遮罩30的第2例所具有的交界部HB同等的交界部HB。依據如上述的構成，能夠獲得以下記載的效果。
(6)表面開口HF的邊緣E的交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀，故相較於不具備交界部HB的構成，在段差面以外的區域也能夠縮小錐角角度θ。
‧亦可為，在遮罩孔31H具備交界部HB的構成中，面向遮罩表面30F俯視，交界部HB係含有中央開口HC周圍當中彼此相鄰的中央開口HC之間的距離為最小的部位。亦即，在蒸鍍遮罩30的第1例中，同樣地，例如，與蒸鍍遮罩30的第2例一樣，第1距離D1比第2距離D2小、且藉由沿第1方向DR1彼此相鄰的兩個遮罩孔31H形成交界部HB。依據如上述的構成，能夠獲得以下記載的效果。
(7)在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離為最小的區域係能夠獲得利用交界部HB形成的小的錐角角度θ，在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離較大的部位係能夠獲得利用段差面形成的小的錐角角度θ。因此，在彼此相鄰的中央開口HC之間的距離大的設計中同樣能夠實現小的錐角角度θ。
‧亦可為，如圖19所示，表面開口HF的邊緣E的第1部E1係具備與相鄰於該表面開口HF的其他 表面開口HF的第1部E1合而為一的交界部HB，交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀。亦即，亦可為，例如，藉由一個表面開口HF所含有的輔助凹部31H2的邊緣與沿第1方向DR1相鄰於該表面開口HF的其他表面開口HF所含有輔助凹部31H2的邊緣合而為一來形成交界部HB。換言之，亦可將蒸鍍遮罩30的第2例的交界部HB適用於沿第1方向DR1彼此相鄰的兩個輔助凹部31H2間。依據如上述的構成，能夠獲得以下記載的效果。
(8)表面開口HF的邊緣E的交界部HB係具有從遮罩表面30F下凹的形狀。因此，相較於不具備交界部HB的構成，能夠縮小錐角角度θ。
‧亦可為，面向遮罩表面30F俯視，各遮罩孔31H係具有位於沿第2方向DR2彼此相鄰的遮罩孔31H間的凹部。在如上述的構成中，各遮罩孔31H係可具有一個凹部，亦可具有沿第2方向DR2包夾表面開口HF的兩個凹部。依據如上述的構成，能夠在第2方向DR2獲得比照前述(1)的效果。
‧遮罩孔31H的內面係亦能夠具有環繞表面開口HF全周的段差面。在形成環繞表面開口HF全周的段差面時，係在第1阻劑遮罩RM1形成環繞第1圖案RMa全周的第1輔助圖案，而形成環繞表面開口HF全周的環狀的輔助凹部。
‧亦可為，中央開口HC係位在遮罩背面30R。換言之，各遮罩孔31H係亦可構成為具備表面開口HF及背面開口HR但不具備中央開口HC。此時，表面開口HF為大開口的一例，背面開口HR為小開口的一 例。亦即，各遮罩孔31H係亦可構成為具備大孔HL的內面但不具備小孔HS的內面。另外，在如上述的構成中，連結背面開口HR的邊緣與大孔HL的內面的一點之直線其中的與基準線BL共同形成的角度成為最大之直線為傾斜線OL。依據如上述的構成，能夠獲得以下記載的效果。
(9)小開口的一例即背面開口HR係位在遮罩背面30R，故能夠僅從遮罩表面30F側進行從表面開口HF至背面開口HR的加工。
[第2例的變形例]
‧亦可為，各遮罩孔31H並不具備交界部HB。換言之，亦可為，面向遮罩表面30F俯視，沿第1方向DR1彼此相鄰的遮罩孔31H係彼此分開。
‧亦可為，沿第1方向DR1的遮罩孔31H間的距離與沿第2方向DR2的遮罩孔31H間的距離係相等。
‧亦可為，中央開口HC係位在遮罩背面30R。換言之，各遮罩孔31H係亦可構成為具備表面開口HF及背面開口HR但不具備中央開口HC。此時，表面開口HF為大開口的一例，背面開口HR為小開口的一例。亦即，各遮罩孔31H係亦可構成為具備大孔HL的內面但不具備小孔HS的內面。另外，在如上述的構成中，連結背面開口HR的邊緣與大孔HL的內面的一點之直線其中的與基準線BL共同形成的角度成為最大之直線為傾斜線OL。依據如上述的構成，能夠獲得比照前述(9)的效果。
[其他變形例]
‧亦可構成為，蒸鍍遮罩30係具備至少一個遮罩部、及具有包圍遮罩部之矩形框狀的遮罩框，遮罩部係接合至遮罩框。在如上述的構成中，複數個遮罩孔係形成在遮罩部。
‧亦可為，藉由對板30S1照射雷射(laser)光線而在板30S1形成複數個遮罩孔31H。
30‧‧‧蒸鍍遮罩
30F‧‧‧遮罩表面
30R‧‧‧遮罩背面
31‧‧‧遮罩部
31H2‧‧‧輔助凹部
31H‧‧‧遮罩孔
31H1‧‧‧主孔
BL‧‧‧基準線
DR1‧‧‧第1方向
HC‧‧‧中央開口
HCO‧‧‧連接部
HF‧‧‧表面開口
HL‧‧‧大孔
HR‧‧‧背面開口
HS‧‧‧小孔
OL‧‧‧傾斜線
SH‧‧‧階差高度
θ‧‧‧錐角角度

Claims (8)

  1. 一種蒸鍍遮罩，係含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔，該蒸鍍遮罩係具備：表面；背面，係前述表面相對側之面；及內面，區劃各遮罩孔；各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口，各遮罩孔係包含具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀之部分；各內面係具備從前述小開口往前述大開口擴開的段差面；前述段差面為兩段的段差面，在與前述表面正交的剖面中具備具有兩段圓弧狀之弧狀部，前述弧狀部具有第1圓弧以及位於比前述第1圓弧更靠前述背面的第2圓弧，前述第1圓弧的曲率半徑比前述第2圓弧的曲率半徑小，前述第2圓弧的曲率中心位於比前述大開口更靠外側。
  2. 如請求項1之蒸鍍遮罩，其中前述大開口的邊緣係具備第1部、及前述第1部以外的第2部，該第1部為前述段差面的邊緣；前述大開口的邊緣的前述第2部係具備與相鄰於該大開口的其他前述大開口的前述第2部合而為一的 交界部，該交界部係從前述表面下凹。
  3. 如請求項2之蒸鍍遮罩，其中面向前述表面俯視，前述交界部係含有前述小開口周圍當中彼此相鄰的前述小開口之間的距離為最小的部位。
  4. 如請求項1之蒸鍍遮罩，其中前述大開口的邊緣係具備第1部、及前述第1部以外的第2部，該第1部為前述段差面的邊緣；前述大開口的邊緣的前述第1部係具備與相鄰於該大開口的其他前述大開口的前述第1部合而為一的交界部，該交界部係具有從前述表面下凹的形狀。
  5. 如請求項1之蒸鍍遮罩，其中前述小開口係位在前述背面。
  6. 如請求項1至5中任一項之蒸鍍遮罩，其中前述段差面係具有複數段，各段係在與前述表面正交的剖面具有圓弧狀。
  7. 一種蒸鍍遮罩之製造方法，係含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔，該蒸鍍遮罩之製造方法係含有形成蒸鍍遮罩之步驟，即藉由在金屬板形成複數個遮罩孔而形成蒸鍍遮罩；前述蒸鍍遮罩係具備：表面；背面，係前述表面相對側之面；及內面，區劃各遮罩孔；各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口，各遮 罩孔係包含具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀之部分；各內面係具備從前述小開口往前述大開口擴開的段差面；前述段差面為兩段的段差面，在與前述表面正交的剖面中具備具有兩段圓弧狀之弧狀部，前述弧狀部具有第1圓弧以及位於比前述第1圓弧更靠前述背面的第2圓弧，前述第1圓弧的曲率半徑比前述第2圓弧的曲率半徑小，前述第2圓弧的曲率中心位於比前述大開口更靠外側，形成前述遮罩之步驟包含：在前述金屬板的前述表面形成阻劑遮罩；以及藉由使用前述阻劑遮罩的蝕刻，形成前述段差面，前述阻劑遮罩係包含阻劑表面和用以形成各大開口的圖案及輔助圖案，該阻劑表面係與相接於前述金屬板的面相對側的面，各圖案及各輔助圖案係沿著前述阻劑遮罩的厚度方向貫通前述阻劑遮罩，面向前述阻劑表面俯視，一個前述圖案係被兩個前述輔助圖案所包夾。
  8. 一種顯示裝置之製造方法，係使用了含有金屬板及形成在前述金屬板的複數個遮罩孔的蒸鍍遮罩，該顯示裝置之製造方法係含有：形成蒸鍍遮罩之步驟，即藉由在金屬板形成複數個遮罩孔而形成蒸鍍遮罩；及 藉由使用前述蒸鍍遮罩的蒸鍍，形成顯示裝置所具有的圖案之步驟；前述蒸鍍遮罩係具備表面、背面、及區劃各遮罩孔的內面，該背面為前述表面相對側之面；各遮罩孔係貫通前述表面與前述背面之間；面向前述表面俯視，各遮罩孔係具備位在前述表面的大開口、及位在前述大開口內側的小開口；各遮罩孔係包含具有將前述大開口與前述小開口相連的倒錐台筒狀之部分；各內面係具備從前述小開口往前述大開口擴開的段差面；前述段差面為兩段的段差面，在與前述表面正交的剖面中具備具有兩段圓弧狀之弧狀部，前述弧狀部具有第1圓弧以及位於比前述第1圓弧更靠前述背面的第2圓弧，前述第1圓弧的曲率半徑比前述第2圓弧的曲率半徑小，前述第2圓弧的曲率中心位於比前述大開口更靠外側，形成前述遮罩之步驟包含：在前述金屬板的前述表面形成阻劑遮罩；以及藉由使用前述阻劑遮罩的蝕刻，形成前述段差面，前述阻劑遮罩係包含阻劑表面和用以形成各大開口的圖案及輔助圖案，該阻劑表面係與相接於前述金屬板的面相對側的面，各圖案及各輔助圖案係沿著前述阻劑遮罩的厚度方向貫通前述阻劑遮罩， 面向前述阻劑表面俯視，一個前述圖案係被兩個前述輔助圖案所包夾。
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