JP3063373B2 - エッチング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板の製造方法 - Google Patents
エッチング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板の製造方法Info
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- JP3063373B2 JP3063373B2 JP4086416A JP8641692A JP3063373B2 JP 3063373 B2 JP3063373 B2 JP 3063373B2 JP 4086416 A JP4086416 A JP 4086416A JP 8641692 A JP8641692 A JP 8641692A JP 3063373 B2 JP3063373 B2 JP 3063373B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、種々のエッチング時
のムラの抑制効果にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウ
マスク用薄板の製造方法に関し、このＦｅ−Ｎｉ系合金
シャドウマスク用薄板は、特に、カラーテレビブラウン
管のシャドウマスクや蛍光表示管等の電子機器製造用材
料として用いられるものである。
のムラの抑制効果にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウ
マスク用薄板の製造方法に関し、このＦｅ−Ｎｉ系合金
シャドウマスク用薄板は、特に、カラーテレビブラウン
管のシャドウマスクや蛍光表示管等の電子機器製造用材
料として用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、カラーテレビ用ブラウン管のシ
ャドウマスクは、Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板をフォトエッチ
ングして穿孔することにより製造されることはよく知ら
れているところである。この時フォトエッチングにより
形成された細孔の孔径および形状にバラツキが生じ、孔
径差および孔形状差のある細孔を持ったシャドウマスク
をカラーテレビ用ブラウン管に組み込むと、カラー受像
管に映しだされた映像に前記孔径差および孔形状差に起
因するスジムラ等のコントラストムラが発生することが
ある。
ャドウマスクは、Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板をフォトエッチ
ングして穿孔することにより製造されることはよく知ら
れているところである。この時フォトエッチングにより
形成された細孔の孔径および形状にバラツキが生じ、孔
径差および孔形状差のある細孔を持ったシャドウマスク
をカラーテレビ用ブラウン管に組み込むと、カラー受像
管に映しだされた映像に前記孔径差および孔形状差に起
因するスジムラ等のコントラストムラが発生することが
ある。
【０００３】その理由として、カラー受像管を動作させ
た場合、電子ビームはシャドウマスクの開孔部を通過す
るが、それは全体のうちの約２０〜３０％で大部分はシ
ャドウマスク本体に照射されるためにシャドウマスクは
時として８０℃にも達するほど加熱され、この時、前述
の穿孔した細孔に孔径差および孔形状差があると、通過
ビームの量や発熱量が不均一となり、孔径や孔形状の乱
れがわずかであってもディスプレーの映像に局所的な色
ズレや色ムラが発生し、カラー受像管の品位を低下させ
てしまうと考えられている。
た場合、電子ビームはシャドウマスクの開孔部を通過す
るが、それは全体のうちの約２０〜３０％で大部分はシ
ャドウマスク本体に照射されるためにシャドウマスクは
時として８０℃にも達するほど加熱され、この時、前述
の穿孔した細孔に孔径差および孔形状差があると、通過
ビームの量や発熱量が不均一となり、孔径や孔形状の乱
れがわずかであってもディスプレーの映像に局所的な色
ズレや色ムラが発生し、カラー受像管の品位を低下させ
てしまうと考えられている。
【０００４】前記孔径差および孔形状差のある細孔がシ
ャドウマスクに形成される原因は、（１） シャドウマ
スク素材とし用いるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板をエッチング
するとムラが生ずるものがあり、このエッチングムラの
生ずるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板をフォトエッチングして穿
孔すると得られた細孔に孔径差および孔形状差が生じ
る、（２） シャドウマスク素材とし用いるＦｅ−Ｎｉ
系合金薄板の表面状態が適当でないためにレジストの密
着性が悪く、レジストの密着性のバラツキによりフォト
エッチング穿孔して得られた細孔に孔径差および孔形状
差が生じる、ことなどが考えられている。
ャドウマスクに形成される原因は、（１） シャドウマ
スク素材とし用いるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板をエッチング
するとムラが生ずるものがあり、このエッチングムラの
生ずるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板をフォトエッチングして穿
孔すると得られた細孔に孔径差および孔形状差が生じ
る、（２） シャドウマスク素材とし用いるＦｅ−Ｎｉ
系合金薄板の表面状態が適当でないためにレジストの密
着性が悪く、レジストの密着性のバラツキによりフォト
エッチング穿孔して得られた細孔に孔径差および孔形状
差が生じる、ことなどが考えられている。
【０００５】前記Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板のエッチング時
のムラを抑制するための技術として、例えば、特開平２
−１０１１１５号公報ではインゴットを熱処理−鍛造を
施すことにより、ニッケルの成分偏析の軽減および結晶
方位の制御等によりエッチングスピードの不均一性を少
なくする提案がなされている。
のムラを抑制するための技術として、例えば、特開平２
−１０１１１５号公報ではインゴットを熱処理−鍛造を
施すことにより、ニッケルの成分偏析の軽減および結晶
方位の制御等によりエッチングスピードの不均一性を少
なくする提案がなされている。
【０００６】さらに、前記レジストの密着性のバラツキ
により細孔に孔径差および孔形状差が生じることを抑制
するために、例えば、特公平３−７３６４０号では、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金薄板のＳｍおよびＲａ（ただし、Ｓｍは
基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凹凸の間
隔の平均値、ＲａはＪＩＳＢ０６０１の表面粗さであ
る。）を制御する試みがなされている。
により細孔に孔径差および孔形状差が生じることを抑制
するために、例えば、特公平３−７３６４０号では、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金薄板のＳｍおよびＲａ（ただし、Ｓｍは
基準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凹凸の間
隔の平均値、ＲａはＪＩＳＢ０６０１の表面粗さであ
る。）を制御する試みがなされている。
【０００７】それによると、表面粗さの制御は、ダルロ
ールによるダル圧延により行われているが、密着性と現
像性は、通常、相反する性質であり、密着性を優先した
ダルパターン（Ｒａが大きく、Ｓｍが小さいダルパター
ン）では、現像時に十分現像が行えず、レジストが残留
しエッチングスピードが遅くなったり、孔形状が不均一
になることによるエッチングムラが生ずることがある。
ールによるダル圧延により行われているが、密着性と現
像性は、通常、相反する性質であり、密着性を優先した
ダルパターン（Ｒａが大きく、Ｓｍが小さいダルパター
ン）では、現像時に十分現像が行えず、レジストが残留
しエッチングスピードが遅くなったり、孔形状が不均一
になることによるエッチングムラが生ずることがある。
【０００８】これに対して、現像性を優先したダルパタ
ーン（Ｒａが小さく、Ｓｍが大きいダルパターン）で
は、レジストの密着性不良によるレジスト剥離、孔形状
異常が発生することがある。従って、現状ではこれらの
性質の丁度中間的な表面粗さを持つダルパターンとなる
ように制御されている。
ーン（Ｒａが小さく、Ｓｍが大きいダルパターン）で
は、レジストの密着性不良によるレジスト剥離、孔形状
異常が発生することがある。従って、現状ではこれらの
性質の丁度中間的な表面粗さを持つダルパターンとなる
ように制御されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年、カラー
受像管の進歩はめざましく、そこで使用されるシャドウ
マスクに形成される細孔と細孔の間のピッチは益々小さ
くなり、細孔の孔径は均一でより形状安定なものが要求
されるようになり、従来のＦｅ−Ｎｉ系合金のインゴッ
トに熱処理−鍛造を施すことによりニッケルの成分偏析
を軽減する手段を施したり、Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板の表
面粗さを制御することでレジストの密着性を高めたりし
ても、カラー受像管の進歩にともなう前記要求に十分対
応することができなかった。
受像管の進歩はめざましく、そこで使用されるシャドウ
マスクに形成される細孔と細孔の間のピッチは益々小さ
くなり、細孔の孔径は均一でより形状安定なものが要求
されるようになり、従来のＦｅ−Ｎｉ系合金のインゴッ
トに熱処理−鍛造を施すことによりニッケルの成分偏析
を軽減する手段を施したり、Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板の表
面粗さを制御することでレジストの密着性を高めたりし
ても、カラー受像管の進歩にともなう前記要求に十分対
応することができなかった。
【０００９】さらに、シャドウマスクの研究は、ユーザ
ー側からもなされており、表面粗さの適正な範囲はユー
ザーのエッチング条件や製造されるシャドウマスクのピ
ッチ、孔径等のグレードによって変わってきており、素
材メーカーはこれらの要求に応じた条件を満足する表面
状態を有する材料の供給を常にせまられているが、いか
なるユーザーの要求に対しても満足のいくＦｅ−Ｎｉ系
合金薄板はいまだ提供することができないのが現状であ
る。
ー側からもなされており、表面粗さの適正な範囲はユー
ザーのエッチング条件や製造されるシャドウマスクのピ
ッチ、孔径等のグレードによって変わってきており、素
材メーカーはこれらの要求に応じた条件を満足する表面
状態を有する材料の供給を常にせまられているが、いか
なるユーザーの要求に対しても満足のいくＦｅ−Ｎｉ系
合金薄板はいまだ提供することができないのが現状であ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、い
かなるユーザーのエッチング条件に対しても対応するこ
とができ、かつシャドウマスクの孔径の不均一をなくし
孔形状を揃え、ムラの無い高品位のシャドウマスクを製
造することのできるシャドウマスク用薄板を製造すべく
研究を行った結果、ニッケルの成分偏析を軽減し結晶方
位を制御して偏析によるエッチングムラをなくした従来
のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板の表面状態がＳｍ／Ｒａ：２０
０〜２５０の範囲内にあるＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク
薄板を溶剤脱脂後、アルカリ比１．５〜２．０のＮａＯ
Ｈをベースとする洗浄脱脂液にて洗浄すると、レジスト
の密着性と現像性がともに向上し、いかなるエッチング
条件に対しても満足のいく均一な孔径を形成することが
できかつ孔形状を揃えることができる、という知見を得
たのである。
かなるユーザーのエッチング条件に対しても対応するこ
とができ、かつシャドウマスクの孔径の不均一をなくし
孔形状を揃え、ムラの無い高品位のシャドウマスクを製
造することのできるシャドウマスク用薄板を製造すべく
研究を行った結果、ニッケルの成分偏析を軽減し結晶方
位を制御して偏析によるエッチングムラをなくした従来
のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板の表面状態がＳｍ／Ｒａ：２０
０〜２５０の範囲内にあるＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク
薄板を溶剤脱脂後、アルカリ比１．５〜２．０のＮａＯ
Ｈをベースとする洗浄脱脂液にて洗浄すると、レジスト
の密着性と現像性がともに向上し、いかなるエッチング
条件に対しても満足のいく均一な孔径を形成することが
できかつ孔形状を揃えることができる、という知見を得
たのである。
【００１１】この発明は、かかる知見に基づいて成され
たものであって、Ｎｉを３０〜８０％含み、残部がＦｅ
および不可避不純物からなる組成を有し、表面状態がＳ
ｍ／Ｒａ＝２００〜２５０であるＦｅ−Ｎｉ系シャドウ
マスク薄板を溶剤脱脂後、アルカリ比１．５〜２．０の
ＮａＯＨをベースとする洗浄脱脂液にて洗浄するエッチ
ング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用薄板の
製造方法に特徴を有するものである。
たものであって、Ｎｉを３０〜８０％含み、残部がＦｅ
および不可避不純物からなる組成を有し、表面状態がＳ
ｍ／Ｒａ＝２００〜２５０であるＦｅ−Ｎｉ系シャドウ
マスク薄板を溶剤脱脂後、アルカリ比１．５〜２．０の
ＮａＯＨをベースとする洗浄脱脂液にて洗浄するエッチ
ング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用薄板の
製造方法に特徴を有するものである。
【００１２】ここでＳｍ／Ｒａが２００より小さい場合
は密着性が強く現像不良となり、また露光時の素材表面
からのハレーション（乱反射）が大きくなり、孔の形状
が歪になったり、エッチングスピードが遅くなるので好
ましくない。一方、Ｓｍ／Ｒａが２５０よりも大きい場
合は密着性が小さいため現像時にレジスト流れが生じや
すく、またレジスト剥離等による孔形不良が発生するこ
とがあるので好ましくない。
は密着性が強く現像不良となり、また露光時の素材表面
からのハレーション（乱反射）が大きくなり、孔の形状
が歪になったり、エッチングスピードが遅くなるので好
ましくない。一方、Ｓｍ／Ｒａが２５０よりも大きい場
合は密着性が小さいため現像時にレジスト流れが生じや
すく、またレジスト剥離等による孔形不良が発生するこ
とがあるので好ましくない。
【００１３】従ってＳｍ／Ｒａの範囲は適度な密着性と
現像性を有しかつハレーションの防止される２００〜２
５０の範囲に規定するのが好ましい。ＳｍおよびＲａの
値はＳｍ／Ｒａ＝２００〜２５０の条件を満足すれば良
いが、より好ましくはＲａ＝０．３〜０．８μｍ，Ｓｍ
＝８０〜１５０μｍの範囲内にあるのが良い。Ｒａが小
さすぎるとレジストの密着性が低下する危険があり、大
きすぎるとエッチング時の孔の形状が悪化する傾向があ
るためであり、またＳｍが小さすぎると現像後のレジス
トの剥離が悪くなり、Ｓｍが大きすぎるとレジストが必
要以上に剥がれる傾向にあるからである。
現像性を有しかつハレーションの防止される２００〜２
５０の範囲に規定するのが好ましい。ＳｍおよびＲａの
値はＳｍ／Ｒａ＝２００〜２５０の条件を満足すれば良
いが、より好ましくはＲａ＝０．３〜０．８μｍ，Ｓｍ
＝８０〜１５０μｍの範囲内にあるのが良い。Ｒａが小
さすぎるとレジストの密着性が低下する危険があり、大
きすぎるとエッチング時の孔の形状が悪化する傾向があ
るためであり、またＳｍが小さすぎると現像後のレジス
トの剥離が悪くなり、Ｓｍが大きすぎるとレジストが必
要以上に剥がれる傾向にあるからである。
【００１４】この発明のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板は、Ｎｉ
を３０〜８０％含み残部が主としてＦｅよりなる組成を
有する材料を使用するのが好ましく、熱膨脹係数を小さ
くする点からはＮｉ含有量が３０〜４０％のＦｅ−Ｎｉ
系合金薄板を用いるのがより好ましい。表面粗度の調整
方法としては、通常のダル調質圧延またはフッ化アンモ
ニウムを主成分とする化学研磨液で表面を研磨すること
によって調整することが可能である。
を３０〜８０％含み残部が主としてＦｅよりなる組成を
有する材料を使用するのが好ましく、熱膨脹係数を小さ
くする点からはＮｉ含有量が３０〜４０％のＦｅ−Ｎｉ
系合金薄板を用いるのがより好ましい。表面粗度の調整
方法としては、通常のダル調質圧延またはフッ化アンモ
ニウムを主成分とする化学研磨液で表面を研磨すること
によって調整することが可能である。
【００１５】ＮａＯＨをベースとするアルカリ脱脂液に
よる洗浄を行う理由は、従来の製品表面は圧延後トリク
レンやパークレン等の溶剤を用いて脱脂を行うのが通例
であるが、これらの溶剤は塩素化物系溶剤であり、塩素
化物系溶剤を用いて脱脂を行うと、素材表面に塩素また
はその化合物が吸着残留し、さらにこれらは分解して、
ＨＣｌとして残る。このＨＣｌは空気中の水分と親和し
て素材表面を発錆させ、かかる表面にＨＣｌが残留し発
錆しているＦｅ−Ｎｉ系合金薄板をユーザーが購入し、
更にユーザーが脱脂（アルカリ脱脂）しようとしても、
溶剤脱脂のため疎水性表面となっているところから浸潤
しにくく、塩素またはその化合物は依然として残留し、
ユーザーの前記不満となっていたのである。
よる洗浄を行う理由は、従来の製品表面は圧延後トリク
レンやパークレン等の溶剤を用いて脱脂を行うのが通例
であるが、これらの溶剤は塩素化物系溶剤であり、塩素
化物系溶剤を用いて脱脂を行うと、素材表面に塩素また
はその化合物が吸着残留し、さらにこれらは分解して、
ＨＣｌとして残る。このＨＣｌは空気中の水分と親和し
て素材表面を発錆させ、かかる表面にＨＣｌが残留し発
錆しているＦｅ−Ｎｉ系合金薄板をユーザーが購入し、
更にユーザーが脱脂（アルカリ脱脂）しようとしても、
溶剤脱脂のため疎水性表面となっているところから浸潤
しにくく、塩素またはその化合物は依然として残留し、
ユーザーの前記不満となっていたのである。
【００１６】上述のように、このＨＣｌは、レジスト膜
の素材表面への密着性を著しく阻害して部分的なレジス
ト剥離を生じ、またエッチング時に孔径の不均一や形状
不良を起こす原因となっているのである。
の素材表面への密着性を著しく阻害して部分的なレジス
ト剥離を生じ、またエッチング時に孔径の不均一や形状
不良を起こす原因となっているのである。
【００１７】ところが、この発明のようにＦｅ−Ｎｉ系
合金薄板の製造工程において、溶剤脱脂後ただちにＮａ
ＯＨをベースとするアルカリ脱脂液をもって脱脂洗浄を
行うと、残留するＨＣｌは中和され、さらに素材表面を
親水性表面とすることでユーザーでの浸潤処理（脱脂処
理）が効率良く行われ、その結果非常に密着性がすぐ
れ、かつ密着ムラのないレジスト膜を得ることができ、
精度良くムラのないエッチング穿孔が可能となるのであ
る。
合金薄板の製造工程において、溶剤脱脂後ただちにＮａ
ＯＨをベースとするアルカリ脱脂液をもって脱脂洗浄を
行うと、残留するＨＣｌは中和され、さらに素材表面を
親水性表面とすることでユーザーでの浸潤処理（脱脂処
理）が効率良く行われ、その結果非常に密着性がすぐ
れ、かつ密着ムラのないレジスト膜を得ることができ、
精度良くムラのないエッチング穿孔が可能となるのであ
る。
【００１８】ＮａＯＨをベースとするアルカリ脱脂液と
はアルカリ比１．５〜２．０のものが最も好ましく、洗
浄方法としてはスプレー、あるいはブラシ洗浄等、通常
行われる方法で良い。ここでアルカリ比とは、アルカリ
比＝（全アルカリ度）／（遊離アルカリ度）で定義さ
れ、前記全アルカリ度とは０．１規定ＨＣｌ：１０ｍｌ
に対してフェノールフタレイン変色となる当量であり、
また遊離アルカリ度とは０．１規定ＨＣｌ：１０ｍｌに
対してメチルオレンジ変色となる当量である。
はアルカリ比１．５〜２．０のものが最も好ましく、洗
浄方法としてはスプレー、あるいはブラシ洗浄等、通常
行われる方法で良い。ここでアルカリ比とは、アルカリ
比＝（全アルカリ度）／（遊離アルカリ度）で定義さ
れ、前記全アルカリ度とは０．１規定ＨＣｌ：１０ｍｌ
に対してフェノールフタレイン変色となる当量であり、
また遊離アルカリ度とは０．１規定ＨＣｌ：１０ｍｌに
対してメチルオレンジ変色となる当量である。
【００１９】
【実施例】３６Ｎｉ−Ｆｅ合金インゴットを通常の熱間
圧延後冷間圧延することにより板厚：０．２ｍｍの薄板
を製造し、ついで薄板をダルロールにより調質圧延を行
い、また、あるものはダルロールによる調質圧延後さら
に化学研磨によって表面粗さを調整して、表１および表
２に示される、ＳｍおよびＲａ並びにＳｍ／Ｒａの値を
有する表面状態のいずれも最終板厚が０．１５ｍｍに調
整された３６Ｎｉ−Ｆｅ合金薄板を製造した。
圧延後冷間圧延することにより板厚：０．２ｍｍの薄板
を製造し、ついで薄板をダルロールにより調質圧延を行
い、また、あるものはダルロールによる調質圧延後さら
に化学研磨によって表面粗さを調整して、表１および表
２に示される、ＳｍおよびＲａ並びにＳｍ／Ｒａの値を
有する表面状態のいずれも最終板厚が０．１５ｍｍに調
整された３６Ｎｉ−Ｆｅ合金薄板を製造した。
【００２０】この３６Ｎｉ−Ｆｅ合金薄板をまず圧延油
等を取り除くためトリクレンの蒸気脱脂を行ない、素材
表面を乾燥させ、ついで、温度：９０℃に暖められたＮ
ａＯＨ：２０％の苛性ソーダ水溶液（アルカリ比：２）
にて２分間ブラシ洗浄する予備アルカリ洗浄を行い、ま
たは予備アルカリ洗浄を行なわずにそのまま水洗し乾燥
させ、本発明法１〜６および比較法１〜６を行ない、シ
ャドウマスク用薄板を製造した。
等を取り除くためトリクレンの蒸気脱脂を行ない、素材
表面を乾燥させ、ついで、温度：９０℃に暖められたＮ
ａＯＨ：２０％の苛性ソーダ水溶液（アルカリ比：２）
にて２分間ブラシ洗浄する予備アルカリ洗浄を行い、ま
たは予備アルカリ洗浄を行なわずにそのまま水洗し乾燥
させ、本発明法１〜６および比較法１〜６を行ない、シ
ャドウマスク用薄板を製造した。
【００２１】このようにして得られたシャドウマスク用
薄板に、さらに、ユーザーが行う浸潤脱脂処理を施し、
水洗、乾燥を行った後、シャドウマスク用薄板の両面に
親水コロイド系カゼイン（牛乳カゼイン）と重クロム酸
アンモニウムからなるレジスト液を塗布して乾燥させ、
前記両面の感光膜に大小のマスク孔のネガ像を有するシ
ャドウマスクのパターンを密着させ、近紫外光を発する
高圧水銀ランプにて露光させた。
薄板に、さらに、ユーザーが行う浸潤脱脂処理を施し、
水洗、乾燥を行った後、シャドウマスク用薄板の両面に
親水コロイド系カゼイン（牛乳カゼイン）と重クロム酸
アンモニウムからなるレジスト液を塗布して乾燥させ、
前記両面の感光膜に大小のマスク孔のネガ像を有するシ
ャドウマスクのパターンを密着させ、近紫外光を発する
高圧水銀ランプにて露光させた。
【００２２】その後、水により現像を行うが、この時、
一部を取り出して孔のレジスト現像状態を顕微鏡にて観
察し、 ○：レジストが完全に除去されている。 △：レジストが完全に除去されているが、一部に剥離が
ある。 ×：レジストの残留がある。 の３段階で評価し、それらの評価結果を表１および表２
に示した。
一部を取り出して孔のレジスト現像状態を顕微鏡にて観
察し、 ○：レジストが完全に除去されている。 △：レジストが完全に除去されているが、一部に剥離が
ある。 ×：レジストの残留がある。 の３段階で評価し、それらの評価結果を表１および表２
に示した。
【００２３】その他の部分はさらに乾燥、べーキング処
理後、塩化第二鉄を含むエッチング液にてエッチング穿
孔を行った。この様にして製造したシャドウマスクを暗
室内で透過光により観察し、 Ａ：ムラは全く無く良好。 Ｂ：ムラはわずかにあるが問題なし。 Ｃ：ムラがやや強く部分的に認められる。 Ｄ：ムラが強く全面に認められる。 の４段階でムラ品位を評価し、それらの評価結果を表１
および表２に示した。
理後、塩化第二鉄を含むエッチング液にてエッチング穿
孔を行った。この様にして製造したシャドウマスクを暗
室内で透過光により観察し、 Ａ：ムラは全く無く良好。 Ｂ：ムラはわずかにあるが問題なし。 Ｃ：ムラがやや強く部分的に認められる。 Ｄ：ムラが強く全面に認められる。 の４段階でムラ品位を評価し、それらの評価結果を表１
および表２に示した。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】
【発明の効果】本発明法１〜６はＳｍ／Ｒａの範囲が適
切で且つ、予備アルカリ洗浄を行ったため、現像状態は
良好で且つ、ムラの品位が良好なマスクが得られてい
る。これに対して、比較例１〜３はＳｍ／Ｒａの範囲が
外れるため現像性に問題があり、これがムラ品位を低下
させている。さらに比較例４〜６は予備アルカリ洗浄を
行っていない従来例でもあり、Ｓｍ／Ｒａは適切な範囲
内であるが、表面の洗浄状態が悪く、レジストは残留
し、ムラ品位を低下させている。
切で且つ、予備アルカリ洗浄を行ったため、現像状態は
良好で且つ、ムラの品位が良好なマスクが得られてい
る。これに対して、比較例１〜３はＳｍ／Ｒａの範囲が
外れるため現像性に問題があり、これがムラ品位を低下
させている。さらに比較例４〜６は予備アルカリ洗浄を
行っていない従来例でもあり、Ｓｍ／Ｒａは適切な範囲
内であるが、表面の洗浄状態が悪く、レジストは残留
し、ムラ品位を低下させている。
【００２７】以上の様にこの発明の製造方法により得ら
れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板はエッチン
グ性にすぐれるため、孔径や孔形状のばらつきがなく、
しかもエッチングムラの無いシャドウマスクが得られ、
工業的生産における歩留りおよび生産性の向上に寄与す
るものである。
れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板はエッチン
グ性にすぐれるため、孔径や孔形状のばらつきがなく、
しかもエッチングムラの無いシャドウマスクが得られ、
工業的生産における歩留りおよび生産性の向上に寄与す
るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/14 Ｈ０１Ｊ 9/14 Ｇ 29/07 29/07 Ｚ (56)参考文献 特開 昭60−187682（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−114358（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−318690（ＪＰ，Ａ) 特公 平３−73640（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C21D 9/46 C22C 38/00 - 38/08 C23F 1/00 C23G 1/19 H01J 9/14,29/07
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎｉを３０〜８０％含み、残部がＦｅお
よび不可避不純物からなる組成を有し、表面状態がＳｍ
／Ｒａ＝２００〜２５０（ただし、Ｓｍは基準長さ内に
おける表面粗さを示す断面曲線の凹凸の間隔の平均値、
ＲａはＪＩＳＢ０６０１の表面粗さ）であるＦｅ−Ｎｉ
系シャドウマスク薄板を溶剤脱脂後、アルカリ比１．５
〜２．０のＮａＯＨをベースとする洗浄脱脂液にて洗浄
することを特徴とするエッチング性にすぐれるＦｅ−Ｎ
ｉ系シャドウマスク用薄板の製造方法。ただし、アルカ
リ比＝（全アルカリ度）／（遊離アルカリ度）で定義さ
れ、前記全アルカリ度とは０．１規定ＨＣｌ：１０ｍｌ
に対してフェノールフタレイン変色となる当量であり、
また遊離アルカリ度とは０．１規定ＨＣｌ：１０ｍｌに
対してメチルオレンジ変色となる当量である。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4086416A JP3063373B2 (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | エッチング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4086416A JP3063373B2 (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | エッチング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255757A JPH05255757A (ja) | 1993-10-05 |
| JP3063373B2 true JP3063373B2 (ja) | 2000-07-12 |
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ID=13886276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4086416A Expired - Fee Related JP3063373B2 (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | エッチング性にすぐれるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用薄板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3063373B2 (ja) |
-
1992
- 1992-03-10 JP JP4086416A patent/JP3063373B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05255757A (ja) | 1993-10-05 |
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