JPS63128185A - シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 - Google Patents
シヤドウマスク用金属薄板の製造方法Info
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- JPS63128185A JPS63128185A JP27204986A JP27204986A JPS63128185A JP S63128185 A JPS63128185 A JP S63128185A JP 27204986 A JP27204986 A JP 27204986A JP 27204986 A JP27204986 A JP 27204986A JP S63128185 A JPS63128185 A JP S63128185A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims abstract description 9
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 16
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 abstract description 9
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910000714 At alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940071162 caseinate Drugs 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラー受像管に用いるシャドウマスク用薄板
の製造方法に関するものであり、特にはシャドウマスク
電子ビーム通過用開孔をエツチング穿孔により形成する
為のブランク素材としてのシャドウマスク用薄板の製造
方法に関する。本発明は、当該シャドウマスク用薄板の
製造工程において生じた有害表面層を取除く工程を組込
むことを特徴とし、それによりむらの発生のない高精細
度シャドウマスクの製造を可能とし、最近開発が進めら
れている高品位テレビジョン等の製造に大きく寄与する
ものである。
の製造方法に関するものであり、特にはシャドウマスク
電子ビーム通過用開孔をエツチング穿孔により形成する
為のブランク素材としてのシャドウマスク用薄板の製造
方法に関する。本発明は、当該シャドウマスク用薄板の
製造工程において生じた有害表面層を取除く工程を組込
むことを特徴とし、それによりむらの発生のない高精細
度シャドウマスクの製造を可能とし、最近開発が進めら
れている高品位テレビジョン等の製造に大きく寄与する
ものである。
発明の背景
従来、カラー受像管用シャドウマスクには、低炭素リム
ド冷延鋼板や低炭素Alキルド冷延鋼板といった軟鋼板
が用いられてきたが、これらの材料より低熱膨張特性を
有するFe−Ni系合金、例えば56Ni−Feアンバ
ーなどの使用が検討されている。
ド冷延鋼板や低炭素Alキルド冷延鋼板といった軟鋼板
が用いられてきたが、これらの材料より低熱膨張特性を
有するFe−Ni系合金、例えば56Ni−Feアンバ
ーなどの使用が検討されている。
一般にカラー受像管を作動させた場合、シャドウマスク
の開孔を通過する電子ビームは全体の1/3以下であり
、残りの電子ビームはシャドウマスクに射突するので、
シャドウマスクは時として80℃にも達する程加熱され
る。この際、シャドウマスクが熱により膨張し該シャド
ウマスクと螢光面の距離が変化して色純度の低下が生じ
るわけであるが、Fe−Ni系アンバー合金の使用によ
りこの熱膨張が軽減されるというものである。
の開孔を通過する電子ビームは全体の1/3以下であり
、残りの電子ビームはシャドウマスクに射突するので、
シャドウマスクは時として80℃にも達する程加熱され
る。この際、シャドウマスクが熱により膨張し該シャド
ウマスクと螢光面の距離が変化して色純度の低下が生じ
るわけであるが、Fe−Ni系アンバー合金の使用によ
りこの熱膨張が軽減されるというものである。
しかし、Fe−Ni系合金もシャドウマスク材として全
ての条件を具備しているとは言い難い。
ての条件を具備しているとは言い難い。
プレス成型性の悪さ、成型マスクの座屈現象その他様々
の問題点があり、本件出願人等の努力によりその多くが
解決されまた解決されつつある。
の問題点があり、本件出願人等の努力によりその多くが
解決されまた解決されつつある。
こうして実用化が急速に進展しているFe−Ni系シャ
ドウマスクにおいて、残された幾つかの問題の一つは、
従来の軟鋼に比べ電子線ビーム通過用の多数の細孔を開
ける為のエツチング性である。
ドウマスクにおいて、残された幾つかの問題の一つは、
従来の軟鋼に比べ電子線ビーム通過用の多数の細孔を開
ける為のエツチング性である。
Fe−N1系合金の場合、レジストの密着性やエツチン
グ液に対する腐食性が軟鋼と異るため、従来のエツチン
グ穿孔法では孔径や孔形状のばらつきが大きくなり、そ
の結果、該エツチングにより穿孔した細孔部に光を透過
させるとマスクにもやがかったよりなむらが生じる。特
ζ近年急速に増加しているピッチ及び孔径の小さい高精
細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずかが乱れに
よってもむらが生じてしまい、カラー受像管の品位を著
しく低下させてしまう。
グ液に対する腐食性が軟鋼と異るため、従来のエツチン
グ穿孔法では孔径や孔形状のばらつきが大きくなり、そ
の結果、該エツチングにより穿孔した細孔部に光を透過
させるとマスクにもやがかったよりなむらが生じる。特
ζ近年急速に増加しているピッチ及び孔径の小さい高精
細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずかが乱れに
よってもむらが生じてしまい、カラー受像管の品位を著
しく低下させてしまう。
Fe−Ni系シャドウマスク薄板のエツチング性に関し
ては、従来、材質面の検討、特にC,N等の不純物含有
量の規制等と云った対策が採られてきたが、高一度シャ
ドウ!スクに対してはこれだけでは十分でない。これら
と併せて、より高品位の高精細度シャドウマスクの作製
を可能ならしめるF e −N i系合金シャドウマス
ク用薄板の開発が要望されている。
ては、従来、材質面の検討、特にC,N等の不純物含有
量の規制等と云った対策が採られてきたが、高一度シャ
ドウ!スクに対してはこれだけでは十分でない。これら
と併せて、より高品位の高精細度シャドウマスクの作製
を可能ならしめるF e −N i系合金シャドウマス
ク用薄板の開発が要望されている。
発明の概要
本発明者等は、上述したFe−Ni系合金シャドウマス
クのむらの原因たるレジストの密着性及びエツチング液
に対する腐食性について種々の角度から調査を行った。
クのむらの原因たるレジストの密着性及びエツチング液
に対する腐食性について種々の角度から調査を行った。
その結果、シャドウマスク薄板の製造工程において生ず
る酸化層と簀化層とがエツチング性を損い、こうしたむ
らの発生原因となっているとの知見を得るに至った。即
ち、F e −N i系合金シャドウマスク薄板は、通
常、溶解、鋳造、鍛造、熱間圧延、酸洗の後、冷間圧延
と焼鈍を繰り返して製造される。その際、焼鈍は水素と
窒素の混合ガス(アンモニア分解ガス)中で行われるた
め、シャドウマスク材の表面にいわゆるBA皮膜と呼ば
れる酸化層と窒化層が生成してしまう@そして・この酸
化層と窒化層はエツチングの前処理工程における脱脂洗
浄工程において取り除くことができないためエツチング
性に悪影響を及ばずのである。
る酸化層と簀化層とがエツチング性を損い、こうしたむ
らの発生原因となっているとの知見を得るに至った。即
ち、F e −N i系合金シャドウマスク薄板は、通
常、溶解、鋳造、鍛造、熱間圧延、酸洗の後、冷間圧延
と焼鈍を繰り返して製造される。その際、焼鈍は水素と
窒素の混合ガス(アンモニア分解ガス)中で行われるた
め、シャドウマスク材の表面にいわゆるBA皮膜と呼ば
れる酸化層と窒化層が生成してしまう@そして・この酸
化層と窒化層はエツチングの前処理工程における脱脂洗
浄工程において取り除くことができないためエツチング
性に悪影響を及ばずのである。
この知見に基いて、本発明は、最終焼鈍後、酸洗、化学
研磨等の手段により材料表面層を除去したことを特徴と
する、電子ビーム通過用開孔形成の為のエツチング工程
に供せられるF e −N i系合金シャドウマスク用
金属薄板の製造方法を提供する。表面層の除去後、表面
粗さ等のコントロールの為に冷間圧延を行うことが好ま
しい。
研磨等の手段により材料表面層を除去したことを特徴と
する、電子ビーム通過用開孔形成の為のエツチング工程
に供せられるF e −N i系合金シャドウマスク用
金属薄板の製造方法を提供する。表面層の除去後、表面
粗さ等のコントロールの為に冷間圧延を行うことが好ま
しい。
発明の詳細な説明
シャドウマスク用Fe−Ni系合金については多くのも
のがこれまで提唱されている。参考までに数例を示して
おくが、本発明は決してこれらに制限されるものでな(
、Fe−Niを基とするオーステナイ)At合金のすべ
てを対象とするものであることは云うまでもない。
のがこれまで提唱されている。参考までに数例を示して
おくが、本発明は決してこれらに制限されるものでな(
、Fe−Niを基とするオーステナイ)At合金のすべ
てを対象とするものであることは云うまでもない。
例1 (残部Fe及び不可避的不純物)Cα10チ以下
S α30%以下
AI Q、50チ以下
Mn α1〜tOチ
N1 540〜38.0%
例2
例1+(T11 Zrt lMo1 Nbl peCu
t Ve Mge Co、W)の1種以上101〜10
% 例3 (残部Fe及び不可避的不純物)C010%以下 SI IIL30チ以下 Al (L30%30 %以下1〜t0% Ni 50〜45チ Cr2.O〜1αaqb 例4 例2+(Ti Zr、Mol Nb、B@ V。
t Ve Mge Co、W)の1種以上101〜10
% 例3 (残部Fe及び不可避的不純物)C010%以下 SI IIL30チ以下 Al (L30%30 %以下1〜t0% Ni 50〜45チ Cr2.O〜1αaqb 例4 例2+(Ti Zr、Mol Nb、B@ V。
Be)の1種以上0.01〜to%
例5 (残部Fe及び不可避的不純物)Mn
α1〜t OチNi
5 α0〜34.0 %Crto〜4.O% Co Z O〜5. O%こうした
合金組成においてエツチング穿孔性を害する非金属介在
物を形成しやすいC,S、0.N等の微量不純物を低水
準に規制することも行われている。
α1〜t OチNi
5 α0〜34.0 %Crto〜4.O% Co Z O〜5. O%こうした
合金組成においてエツチング穿孔性を害する非金属介在
物を形成しやすいC,S、0.N等の微量不純物を低水
準に規制することも行われている。
シャドウマスクは、上述したような組成の合金を、溶解
(真空+ V OD g A OD 等)、D造、鍛造
、熱間圧延及び酸洗の熱間加工工程を経由した後、大き
く分けて次の2つの方法により作製される: (1)一般法(プレス成型性を付与する為の焼鈍をプレ
ス成型直前に行う方法) これは、冷間圧延及び焼鈍を適宜繰返し、最終冷間圧延
によりシャドウマスク用金属薄板を製造し、脱脂・レジ
スト塗布・現像を行つた後、電子ビーム通過用開孔を形
成する穿孔工程、フラットマスクを形成する切断工程、
プレス成型性を付与する為の焼鈍工程、マスクを成形す
るプレス成型工程及び底面に黒色皮膜を生成する黒化処
理を経由してシャドウマスクを製造するものである。
(真空+ V OD g A OD 等)、D造、鍛造
、熱間圧延及び酸洗の熱間加工工程を経由した後、大き
く分けて次の2つの方法により作製される: (1)一般法(プレス成型性を付与する為の焼鈍をプレ
ス成型直前に行う方法) これは、冷間圧延及び焼鈍を適宜繰返し、最終冷間圧延
によりシャドウマスク用金属薄板を製造し、脱脂・レジ
スト塗布・現像を行つた後、電子ビーム通過用開孔を形
成する穿孔工程、フラットマスクを形成する切断工程、
プレス成型性を付与する為の焼鈍工程、マスクを成形す
るプレス成型工程及び底面に黒色皮膜を生成する黒化処
理を経由してシャドウマスクを製造するものである。
(I[)プレアニール法(プレス成型性を付与する為の
焼鈍を最終冷間圧延直後に行う方法)これは、上記と同
様にして最終圧延工程によりシャドウマスク薄板を製造
した後、線径のプレス成型性を付与する為の焼鈍を施し
、必要ならスキンパス冷間加圧延を行った上で、脱脂・
レジスト塗布・現像を行った後、電子ビーム通過用開孔
な形成する穿孔工程、フラットマスクを形成する切断工
程、上記と同じプレス威武工程及び上記と同じ黒化処理
工程を経てシャドウマスクを製造するものである。
焼鈍を最終冷間圧延直後に行う方法)これは、上記と同
様にして最終圧延工程によりシャドウマスク薄板を製造
した後、線径のプレス成型性を付与する為の焼鈍を施し
、必要ならスキンパス冷間加圧延を行った上で、脱脂・
レジスト塗布・現像を行った後、電子ビーム通過用開孔
な形成する穿孔工程、フラットマスクを形成する切断工
程、上記と同じプレス威武工程及び上記と同じ黒化処理
工程を経てシャドウマスクを製造するものである。
本発明は基本的には、(I)及び(n)いずれの方法に
も適用しうる。
も適用しうる。
(I)の方法の場合には、最終冷間圧延前の焼鈍が最終
焼鈍でありそして(II)の方法の場合は最終冷間圧延
後のプレス成型性付与の為の焼鈍が最終焼鈍となる。
焼鈍でありそして(II)の方法の場合は最終冷間圧延
後のプレス成型性付与の為の焼鈍が最終焼鈍となる。
本発明に従えば、最終焼鈍後にそれまでの何回かの焼鈍
工程中に材料表面に形成されたエツチング性に有害な表
面層が除去される。焼鈍は水素と窒素の混合ガス(アン
そニア分解ガス)中で実施されるのが一般であるため、
有害な表面層としては主に酸化層と窒化層とが生成する
。
工程中に材料表面に形成されたエツチング性に有害な表
面層が除去される。焼鈍は水素と窒素の混合ガス(アン
そニア分解ガス)中で実施されるのが一般であるため、
有害な表面層としては主に酸化層と窒化層とが生成する
。
これらの恕影響についてさらに詳しく述べると、まず、
酸化層はレジスト密着性を著しく悪くし、孔形状の乱れ
やむらの原因になる。
酸化層はレジスト密着性を著しく悪くし、孔形状の乱れ
やむらの原因になる。
また、酸化層はエツチングされにくく、酸化層は全く均
一の厚さで生成しているわけではないので、エツチング
の進み具合が局所的に異なり、むらの原因となる。
一の厚さで生成しているわけではないので、エツチング
の進み具合が局所的に異なり、むらの原因となる。
次に4化層であるが、窒化層もエツチングされにくいた
め窒′化の程度の微妙なばらつきにより、エツチング後
のむらの原因となる。
め窒′化の程度の微妙なばらつきにより、エツチング後
のむらの原因となる。
したがって、焼鈍後、酸洗や化学研摩等によって酸化層
と窒化層を取り除けばエツチング性は良好になり、エツ
チング後のむらの発生を押さえることができる。
と窒化層を取り除けばエツチング性は良好になり、エツ
チング後のむらの発生を押さえることができる。
なお、最終焼鈍後酸洗等により表面層を取り除いた後、
冷間圧[(スキンパス)により形状及び底面粗さをコン
トロールすることが望ましい。
冷間圧[(スキンパス)により形状及び底面粗さをコン
トロールすることが望ましい。
こうして生成されたシャドウマスク用金属薄板は、15
0m以下の板厚のものであり、エツチング工程に供せら
れる。エツチング工程は、脱脂洗浄後、片面或いは両面
にレジスト膜を形成し、所定の開孔パターンを現像し、
乾燥及びバーニングを経てエツチングが行われる。エツ
チングは一般に塩化第2鉄溶液を用いて行われる。
0m以下の板厚のものであり、エツチング工程に供せら
れる。エツチング工程は、脱脂洗浄後、片面或いは両面
にレジスト膜を形成し、所定の開孔パターンを現像し、
乾燥及びバーニングを経てエツチングが行われる。エツ
チングは一般に塩化第2鉄溶液を用いて行われる。
上記の通り、本発明に従うシャドウマスク用金属薄板は
レジストの密着性を妨げまたエツチングの均一性を妨げ
る表面有害層が除去されているので、エツチングは開ロ
バターン通りに良好に進行し、孔形状や寸法のバラツキ
のない開孔を生成しうる。本発明は、エツチング性に有
害な介在物の排除といった材質面からの対策と併用して
、むらの力い高精細度シャドウマスクの製造を可能なら
しめるものである。
レジストの密着性を妨げまたエツチングの均一性を妨げ
る表面有害層が除去されているので、エツチングは開ロ
バターン通りに良好に進行し、孔形状や寸法のバラツキ
のない開孔を生成しうる。本発明は、エツチング性に有
害な介在物の排除といった材質面からの対策と併用して
、むらの力い高精細度シャドウマスクの製造を可能なら
しめるものである。
シャドウマスク材として36%Ni−Feアンバー合金
を用いた。これを第1表に示す工程により最終的に板厚
12闘の金属薄板とした。この金属薄板を供試材として
エツチング試験を行った。
を用いた。これを第1表に示す工程により最終的に板厚
12闘の金属薄板とした。この金属薄板を供試材として
エツチング試験を行った。
まず、脱脂洗浄を行い、その後両面に牛乳カゼイン酸ア
ルカリと重クロム酸アンモニウムとからなる感光液を塗
布して所定のレジスト膜を形成する。
ルカリと重クロム酸アンモニウムとからなる感光液を塗
布して所定のレジスト膜を形成する。
次K、両面の感光膜に大小マスク孔のネガ像を有するパ
ターンを密着配置し、超高圧水銀ランプで露光すること
によりマスク孔の像を得る。その後、現像、乾燥、バー
ニングを経てエツチング工程に進む。エツチング工程で
はエツチング液として塩化第2鉄液を用いた。
ターンを密着配置し、超高圧水銀ランプで露光すること
によりマスク孔の像を得る。その後、現像、乾燥、バー
ニングを経てエツチング工程に進む。エツチング工程で
はエツチング液として塩化第2鉄液を用いた。
エツチングを終えたマスクを暗室内で透過光により観察
しむら品位を評価した。その結果も第1表に示す。
しむら品位を評価した。その結果も第1表に示す。
第1表かられかるように、最終焼鈍後、酸洗あるいは化
学研摩で表面層を取り除いた本発明例は比較例に比べむ
ら品位が優れている。
学研摩で表面層を取り除いた本発明例は比較例に比べむ
ら品位が優れている。
発明の効果
以上のように、本発明によれば孔径や孔形状のばらつき
を小さくし、むらの発生しない高品質のシャドウマスク
を製造できるシャドウマスク用金属薄板を製造すること
ができ、高品位カラーテレビジョンの開発に貢献する。
を小さくし、むらの発生しない高品質のシャドウマスク
を製造できるシャドウマスク用金属薄板を製造すること
ができ、高品位カラーテレビジョンの開発に貢献する。
Claims (1)
- 1)最終焼鈍後、酸洗、化学研磨等の手段により材料表
面層を除去したことを特徴とする、電子ビーム通過用開
孔形成の為のエッチング工程に供せられるFe−Ni系
合金シヤドウマスク用金属薄板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27204986A JPS63128185A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27204986A JPS63128185A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63128185A true JPS63128185A (ja) | 1988-05-31 |
Family
ID=17508397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27204986A Pending JPS63128185A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63128185A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012144791A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 無電解ニッケル合金膜のパターニング方法 |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP27204986A patent/JPS63128185A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012144791A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 無電解ニッケル合金膜のパターニング方法 |
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