JPS59105243A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS59105243A JPS59105243A JP21329482A JP21329482A JPS59105243A JP S59105243 A JPS59105243 A JP S59105243A JP 21329482 A JP21329482 A JP 21329482A JP 21329482 A JP21329482 A JP 21329482A JP S59105243 A JPS59105243 A JP S59105243A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- blackened
- annealing
- film
- blackened film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
- H01J9/146—Surface treatment, e.g. blackening, coating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、シャドウマスクの製造方法に関するものであ
る。
る。
カラー受像管のシャドウマスクの機能については周知で
あるので説明は省略する。
あるので説明は省略する。
本発明者らは、既にシャドウマスクの品質向上および製
造コスト低減のために種々の出願を行なってきた。例え
ばシャドウマスクなどに予めニッケルめっきを０．５〜
３．０μ施し、その上に黒化処理を行ない黒化膜の脱落
を低減させるもの（％開昭５４−６２７７３号公報）、
またフラットマスクの焼鈍と黒化とを同時に行ない成形
後補充の黒化な行ない製造コストを低減させるもの（特
願昭５５−１３１５４０）さらにはフォトエツチング加
工後のフラットマスクにニッケルめっきを０．５ ＝
３．０μ施し、焼鈍兼黒化を連続的に行ない品質向上と
製造コストの低減を行なったもの（特願昭５６−１９０
５３８）などがある。
造コスト低減のために種々の出願を行なってきた。例え
ばシャドウマスクなどに予めニッケルめっきを０．５〜
３．０μ施し、その上に黒化処理を行ない黒化膜の脱落
を低減させるもの（％開昭５４−６２７７３号公報）、
またフラットマスクの焼鈍と黒化とを同時に行ない成形
後補充の黒化な行ない製造コストを低減させるもの（特
願昭５５−１３１５４０）さらにはフォトエツチング加
工後のフラットマスクにニッケルめっきを０．５ ＝
３．０μ施し、焼鈍兼黒化を連続的に行ない品質向上と
製造コストの低減を行なったもの（特願昭５６−１９０
５３８）などがある。
これら出願を行なった時期においては、シャドウマスク
の素材は鉄−ニッケル合金のような特殊なものを除いて
、炭素数に差があってもリムド鋼がほとんどであった。
の素材は鉄−ニッケル合金のような特殊なものを除いて
、炭素数に差があってもリムド鋼がほとんどであった。
これに対し最近ではリムド鋼の代りにキルド鋼、特にア
ルミニウムーキルド鋼がシャドウマスクの素材に多く使
用されるようになつできた。
ルミニウムーキルド鋼がシャドウマスクの素材に多く使
用されるようになつできた。
そして、シャドウマスクの素材としてアルミニウムーキ
ルド鋼を採用することにより、内質欠陥の減少や成形向
上により、シャドウマスクとしての性能はリムド鋼より
も飛躍的に向上させることが可能となったが、黒化膜の
密着強度が弱いという新らしい問題が生じ、黒化の条件
を厳しくコントロールしたり、表材に所定量のクロムを
添加して対策を行なっている（特願昭５６−１７８７５
５．５６−１７８３７１） 我々が既に出願している焼鈍と黒化を同時に行なう方法
（特願昭５６−１３１５４０．５６−１９０５３８ ）
においても同様であり、クロムを添加した材料を使用し
ない場合には製造条件をきびしくコントロールする必要
がある。
ルド鋼を採用することにより、内質欠陥の減少や成形向
上により、シャドウマスクとしての性能はリムド鋼より
も飛躍的に向上させることが可能となったが、黒化膜の
密着強度が弱いという新らしい問題が生じ、黒化の条件
を厳しくコントロールしたり、表材に所定量のクロムを
添加して対策を行なっている（特願昭５６−１７８７５
５．５６−１７８３７１） 我々が既に出願している焼鈍と黒化を同時に行なう方法
（特願昭５６−１３１５４０．５６−１９０５３８ ）
においても同様であり、クロムを添加した材料を使用し
ない場合には製造条件をきびしくコントロールする必要
がある。
本発明は、上述した諸量；・１点に鑑みなされたもので
あり、クロムを添加するような特殊な材料を使用しない
で製造条件を工夫することにより品位の良好なシャドウ
マスクを得ることが可能なシャドウマスクの製造方法を
提供することを目的としている。
あり、クロムを添加するような特殊な材料を使用しない
で製造条件を工夫することにより品位の良好なシャドウ
マスクを得ることが可能なシャドウマスクの製造方法を
提供することを目的としている。
即ち、木兄ｎＡはシャド・クマスク素材からフォトエツ
チングにより加工形成されたフラットマスクを露点が０
〜５０℃の１Ｏ−５０１Ｈ，−残Ｎ、混合気流中で６０
０〜９５０ ℃の温度域において熱処理し、焼鈍を行な
うと同時に薄い黒化膜を形成させ、プレス成形、脱脂後
黒化な行ない所定の黒化膜を形成することを特徴とする
シャドウマスクの製造方法と、フォトエツチング加工後
のフラットマスクに０，５〜３μのニッケルめっきを施
したのち露点がθ〜５０″ＣのｌＯ〜５０チｌち一部Ｎ
２混合気流中で６００〜９５０℃の温度域において熱処
理し、焼鈍を行なうと同時にニッケルめっき上に薄い黒
化膜を形成させ、プレス成形、脱脂を行うことを特徴と
するシャドウマスク製造方法でいずれもフォトエツチン
グ後のフラットマスクから熱処理までを連続した製造ラ
インで行な１ことを特撮としている。
チングにより加工形成されたフラットマスクを露点が０
〜５０℃の１Ｏ−５０１Ｈ，−残Ｎ、混合気流中で６０
０〜９５０ ℃の温度域において熱処理し、焼鈍を行な
うと同時に薄い黒化膜を形成させ、プレス成形、脱脂後
黒化な行ない所定の黒化膜を形成することを特徴とする
シャドウマスクの製造方法と、フォトエツチング加工後
のフラットマスクに０，５〜３μのニッケルめっきを施
したのち露点がθ〜５０″ＣのｌＯ〜５０チｌち一部Ｎ
２混合気流中で６００〜９５０℃の温度域において熱処
理し、焼鈍を行なうと同時にニッケルめっき上に薄い黒
化膜を形成させ、プレス成形、脱脂を行うことを特徴と
するシャドウマスク製造方法でいずれもフォトエツチン
グ後のフラットマスクから熱処理までを連続した製造ラ
インで行な１ことを特撮としている。
次に、本発明の一実施例を説明するが、本実施例では黒
化膜密着性の悪いアルミニウムーキルド鋼を素材とした
シャドウマスクで実験を行なった。
化膜密着性の悪いアルミニウムーキルド鋼を素材とした
シャドウマスクで実験を行なった。
先ずアルミニウムーキルド鋼の化学成分の一例を述べる
と、Ｃ： Ｕ、００２％、 ｆＶＩｎ ： ０．０３７
％ 、 Ｓ ： ０．０１６つｇ、Ｐ：０．０１１％
、Ｓｉ ：０．０２ ％ 、 ｋｌ ： ０．
０５２ ％ 、 Ｆｅ 二 Ｂａ／となっている
。但し不可避不純物は除いている。
と、Ｃ： Ｕ、００２％、 ｆＶＩｎ ： ０．０３７
％ 、 Ｓ ： ０．０１６つｇ、Ｐ：０．０１１％
、Ｓｉ ：０．０２ ％ 、 ｋｌ ： ０．
０５２ ％ 、 Ｆｅ 二 Ｂａ／となっている
。但し不可避不純物は除いている。
次に図によりＮ、中の１（２ＵＩｍと、熱処理温度によ
る黒化膜品位の状態を説明する。即ち第１の領域（１）
即ら６００’Ｏ以下では焼鈍が不足する。また第２の領
域（２）即ち９６０’Ｏ以上では黒化膜が厚くてプレス
により黒化膜が剥れる。また第３の領域（３）即ちｌＩ
２濃度１０％以下では黒化膜の密層性が悪い。更に第４
の領域（４）即ち１′］２濃度５０係以上では黒化しな
い。
る黒化膜品位の状態を説明する。即ち第１の領域（１）
即ら６００’Ｏ以下では焼鈍が不足する。また第２の領
域（２）即ち９６０’Ｏ以上では黒化膜が厚くてプレス
により黒化膜が剥れる。また第３の領域（３）即ちｌＩ
２濃度１０％以下では黒化膜の密層性が悪い。更に第４
の領域（４）即ち１′］２濃度５０係以上では黒化しな
い。
この結果から焼鈍と密着性のよい黒化膜が得られる範囲
はこれら第１乃至第４の領域（１）（２＋ （：３）
（４）に囲まれた領域（５）が良いことになる。但し図
においては露点３０”０の混合ガスを使用した。
はこれら第１乃至第４の領域（１）（２＋ （：３）
（４）に囲まれた領域（５）が良いことになる。但し図
においては露点３０”０の混合ガスを使用した。
そして、この領域（５）は雰囲気ガス（ｎ、 十へ２）
の露点が０−５０”Ｏの間において同じであり、Ｊイ６
点が０°Ｃ未満では黒化反応および素材の脱炭反応が充
分進行せず、また（資）℃を越えると脱炭反応は充分で
あるが、黒化膜氷厚くてプレスで剥れを生じたり、炉の
出入口で水蒸気が露結し、シャドウマスク上に落下して
錆を発生させたりする不都合が生じる。
の露点が０−５０”Ｏの間において同じであり、Ｊイ６
点が０°Ｃ未満では黒化反応および素材の脱炭反応が充
分進行せず、また（資）℃を越えると脱炭反応は充分で
あるが、黒化膜氷厚くてプレスで剥れを生じたり、炉の
出入口で水蒸気が露結し、シャドウマスク上に落下して
錆を発生させたりする不都合が生じる。
このように本実施例によると、シャドウマスク素材の如
何にかかわらず、焼鈍において、薄い黒化・膜を形成さ
せることが可能となり、この薄い黒化膜は非常にち密で
あり、密層性が良く、プレス成形、脱ｒｌ”６′後に黒
化を行なっても黒化膜の密着性を劣化させることがない
。
何にかかわらず、焼鈍において、薄い黒化・膜を形成さ
せることが可能となり、この薄い黒化膜は非常にち密で
あり、密層性が良く、プレス成形、脱ｒｌ”６′後に黒
化を行なっても黒化膜の密着性を劣化させることがない
。
また、本実姉例はフォトエツチング後のフラットマスク
Ｋ Ｏ，５〜３．σのニッケルめっきをノ萌した場合圧
も適用できる。この場合はニッケルめっきによる耐蝕性
の向上によりプレス成彩後の黒化（ま不要となることは
勿論である。
Ｋ Ｏ，５〜３．σのニッケルめっきをノ萌した場合圧
も適用できる。この場合はニッケルめっきによる耐蝕性
の向上によりプレス成彩後の黒化（ま不要となることは
勿論である。
更に、本発明１ｄフオトエツチングによるフラットマス
クの形成工程乃至熱処理を別々に行なってもよいが、連
続した製造ラインで行なうことにより省エネルギー、省
力効果を上げることが町１６目である。
クの形成工程乃至熱処理を別々に行なってもよいが、連
続した製造ラインで行なうことにより省エネルギー、省
力効果を上げることが町１６目である。
上述のように、本発明のシャドウマスクの≦（遣方法に
よれば黒化：莫の’ｉ！ 着：生の悪いアルミニウムギ
ルド’！ＪｊｆＱを用いても、焼鈍時に薄い黒化；貞を
、形成させることにより、プレス成形、脱脂後の黒化膜
例れの対策ができるので最１径的にカラー受像゛Ｎの耐
電圧特性の向上、孔詰り不良の低減に大きく寄与するこ
とが可能となるのでその工業的Ｈａ値は大である。
よれば黒化：莫の’ｉ！ 着：生の悪いアルミニウムギ
ルド’！ＪｊｆＱを用いても、焼鈍時に薄い黒化；貞を
、形成させることにより、プレス成形、脱脂後の黒化膜
例れの対策ができるので最１径的にカラー受像゛Ｎの耐
電圧特性の向上、孔詰り不良の低減に大きく寄与するこ
とが可能となるのでその工業的Ｈａ値は大である。
図は本発明の一実施例（（おける焼鈍と密着性のよい黒
化膜が得られる範囲を示す説明図である。 ■・・・焼鈍が不足する＠囲 ２・・・黒化膜が厚くプレスで剥れる範囲３・・・黒化
膜の密着性が悪い範囲 ４・・・黒化しない範囲 ５・・・焼鈍と督着性のよい黒化膜が得られる範囲代理
人 弁理士 井 上 −男
化膜が得られる範囲を示す説明図である。 ■・・・焼鈍が不足する＠囲 ２・・・黒化膜が厚くプレスで剥れる範囲３・・・黒化
膜の密着性が悪い範囲 ４・・・黒化しない範囲 ５・・・焼鈍と督着性のよい黒化膜が得られる範囲代理
人 弁理士 井 上 −男
Claims (4)
- （１）フォトエツチング加工後のフラットマスクを露点
が０〜５０℃の１０−５０％Ｈ，−残Ｎ２混合気流中で
６００〜９５０℃の温度域において熱処理し、焼鈍を行
なうと同時に薄い黒化膜を形成させ、プレス成形、脱脂
後に黒化を行ない所定の黒化膜を形成することを特徴と
するシャドウマスクの製造方法。 - （２） 少なくともフォトエツチング加工、及び熱処
理を連続した製造ラインで行なうことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のシャドウマスクの製造方法。 - （３） ７オトエツチング加工後のフラットマスクに
０，５〜３μのニッケルめっきを施したのち、露点力０
−５０”０Ｏ１０−５０％鴇−残Ｎ２混合気流中で６０
０〜９５０℃の温度域において熱処理し、焼鈍を行なう
と同時に前記ニッケルめっき上に薄い黒化膜を形成させ
、プレス成形、脱脂を行うことを特徴とするシャドウマ
スクの製造方法。 - （４） 少なくともフォトエツチング加工ニッケルめ
っき、及び熱処理を連続した製造ラインで行なうことを
特徴とする特許請求の範囲第３項記載のシャドウマスク
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21329482A JPS59105243A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21329482A JPS59105243A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59105243A true JPS59105243A (ja) | 1984-06-18 |
| JPH0459731B2 JPH0459731B2 (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=16636734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21329482A Granted JPS59105243A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59105243A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0259979A2 (en) * | 1986-09-12 | 1988-03-16 | Hitachi, Ltd. | Method of producing shadow mask of color cathode ray tube |
| EP0305038A2 (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Allegheny Ludlum Corporation | Method of annealing an aperture shadow mask for a colour cathode ray tube |
| JPH0481284U (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-15 | ||
| NL1003652C2 (nl) * | 1995-07-27 | 1997-07-25 | Samsung Display Devices Co Ltd | Werkwijze voor het maken van een schaduwmasker voor kleurenbeeldschermen en een schaduwmasker hiermede gemaakt. |
| US5821686A (en) * | 1992-07-16 | 1998-10-13 | Tokyo Kohan Co., Ltd. | Inner-shield material to be attached inside a color cathode ray tube |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5757448A (en) * | 1980-09-24 | 1982-04-06 | Toshiba Corp | Production of shadow mask |
-
1982
- 1982-12-07 JP JP21329482A patent/JPS59105243A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5757448A (en) * | 1980-09-24 | 1982-04-06 | Toshiba Corp | Production of shadow mask |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0259979A2 (en) * | 1986-09-12 | 1988-03-16 | Hitachi, Ltd. | Method of producing shadow mask of color cathode ray tube |
| US4872924A (en) * | 1986-09-12 | 1989-10-10 | Hitachi, Ltd. | Method of producing shadow mask of color cathode ray tube |
| EP0305038A2 (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Allegheny Ludlum Corporation | Method of annealing an aperture shadow mask for a colour cathode ray tube |
| JPH0481284U (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-15 | ||
| JP2527752Y2 (ja) * | 1990-11-21 | 1997-03-05 | 日本ビクター株式会社 | テープレコーダ |
| US5821686A (en) * | 1992-07-16 | 1998-10-13 | Tokyo Kohan Co., Ltd. | Inner-shield material to be attached inside a color cathode ray tube |
| NL1003652C2 (nl) * | 1995-07-27 | 1997-07-25 | Samsung Display Devices Co Ltd | Werkwijze voor het maken van een schaduwmasker voor kleurenbeeldschermen en een schaduwmasker hiermede gemaakt. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0459731B2 (ja) | 1992-09-24 |
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