JPS62130221A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS62130221A JPS62130221A JP26907585A JP26907585A JPS62130221A JP S62130221 A JPS62130221 A JP S62130221A JP 26907585 A JP26907585 A JP 26907585A JP 26907585 A JP26907585 A JP 26907585A JP S62130221 A JPS62130221 A JP S62130221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- less
- press
- blackening
- annealing
- steel sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
先ず、本発明における成分の限定理由を述べる：Ｃ：Ｃ
が（１０１％より多いと、炭化物（Ｆｅ３Ｃ）の生成量
が増え、エツチング穿孔時にエツチングされにくい炭化
物が残存し、適当なシャドウマスク孔の形成をもたらさ
々い。また、降伏点伸びが大きいため孔形状を著しく悪
化させる。この為、α０１％を上限とした。
が（１０１％より多いと、炭化物（Ｆｅ３Ｃ）の生成量
が増え、エツチング穿孔時にエツチングされにくい炭化
物が残存し、適当なシャドウマスク孔の形成をもたらさ
々い。また、降伏点伸びが大きいため孔形状を著しく悪
化させる。この為、α０１％を上限とした。
Ｍｎ ： Ｍｎは従来脱酸目的と熱間加工性を付与する
ため添加された。しかし、本発明においてＭｎは黒化膜
の密着性に関しても重要な役割を果たす。Ｍｎはプレス
成形前の焼鈍において適切表焼鈍条件の下ではシャドウ
マスク表面に目視しえない程薄いが緻密な酸化膜ＭｎＯ
或いはＭｎ ＯＦ ａ２０３を形成する。この酸化膜は
、後の黒化処理において、赤色でしかも密着性の著しく
悪いＦ２Ｏ３の生成を抑え、またＦｅ１０４を主体とす
る黒化膜を緻密に成長させる効果がある。従来、熱間脆
性の面からＭｎを（Ｌ１％程度添加することが行われて
いるが、黒化ｙ密着性を改善するためには、従来レベル
では少く、最低でも（１２５％は必要であり、最高の黒
化膜密着性を得るためには０３０％以上が望ましい。し
かし、α６０チを超えると、硬化が著しく、プレス成型
性が劣化する。以上の理由で、Ｍｎ含有量は０２５〜０
．６０チとした。
ため添加された。しかし、本発明においてＭｎは黒化膜
の密着性に関しても重要な役割を果たす。Ｍｎはプレス
成形前の焼鈍において適切表焼鈍条件の下ではシャドウ
マスク表面に目視しえない程薄いが緻密な酸化膜ＭｎＯ
或いはＭｎ ＯＦ ａ２０３を形成する。この酸化膜は
、後の黒化処理において、赤色でしかも密着性の著しく
悪いＦ２Ｏ３の生成を抑え、またＦｅ１０４を主体とす
る黒化膜を緻密に成長させる効果がある。従来、熱間脆
性の面からＭｎを（Ｌ１％程度添加することが行われて
いるが、黒化ｙ密着性を改善するためには、従来レベル
では少く、最低でも（１２５％は必要であり、最高の黒
化膜密着性を得るためには０３０％以上が望ましい。し
かし、α６０チを超えると、硬化が著しく、プレス成型
性が劣化する。以上の理由で、Ｍｎ含有量は０２５〜０
．６０チとした。
Ｓ：Ｓは少ない方が望ましく、０．０２５チを超えると
ＭｎＳ系介、在物が増え、シャドウマスクの孔形状に悪
影智を与えるため、その上限を０．０２５チとした。
ＭｎＳ系介、在物が増え、シャドウマスクの孔形状に悪
影智を与えるため、その上限を０．０２５チとした。
Ｓｏｌ Ａｌ ：降伏点伸びを抑え、プレス成型時のス
トレッチャーストレインの発生を防止するべく、固溶Ｎ
を ＡＩＮとして固定するために、５ｏｌＡｌとして（
ＬＯ１％以上のＡ１が必要である。しかし、必要以上に
高くすると、製造コストを上げるに加えて、製鋼工程に
おいて湯流れを悪くシ、非金属介在物が浮上し難くなる
ので上限は０．２％とする必要がある。以上の理由で５
ｏｌＡ１ はα０１〜０．１２％としたＯＮ＝降伏点
伸びを増加させ、プレス成型時のストレッチャーストレ
インを発生せしめるので［Ｌ０１０％以下に抑える必要
がある。
トレッチャーストレインの発生を防止するべく、固溶Ｎ
を ＡＩＮとして固定するために、５ｏｌＡｌとして（
ＬＯ１％以上のＡ１が必要である。しかし、必要以上に
高くすると、製造コストを上げるに加えて、製鋼工程に
おいて湯流れを悪くシ、非金属介在物が浮上し難くなる
ので上限は０．２％とする必要がある。以上の理由で５
ｏｌＡ１ はα０１〜０．１２％としたＯＮ＝降伏点
伸びを増加させ、プレス成型時のストレッチャーストレ
インを発生せしめるので［Ｌ０１０％以下に抑える必要
がある。
次に焼鈍条件について説明する：焼鈍雰囲気は、ａＳが
５体＆−未満ではＭｎの酸化が進みすぎまた酸化膜が
緻密に形成され危いので、Ｈ２を ５体Ｍ％以上含ませ
る必要がある。この場合、Ｈ２０割合が高いと露点をか
なシ高くしなければならず、実際的でなくなるから、望
ましいＨ２範囲は５〜２０体積チである。ＰＨｚＯ／
が１０ 未満でＰ Ｈ。
５体＆−未満ではＭｎの酸化が進みすぎまた酸化膜が
緻密に形成され危いので、Ｈ２を ５体Ｍ％以上含ませ
る必要がある。この場合、Ｈ２０割合が高いと露点をか
なシ高くしなければならず、実際的でなくなるから、望
ましいＨ２範囲は５〜２０体積チである。ＰＨｚＯ／
が１０ 未満でＰ Ｈ。
はＭｎの酸化が進まず、十分な酸化膜が形成されないの
で好しくない。最高の酸化膜密着性を得るにはＰ＆０／
ＰＨｍ≧１０−１ とすることが好ましい。
で好しくない。最高の酸化膜密着性を得るにはＰ＆０／
ＰＨｍ≧１０−１ とすることが好ましい。
Ｐ山０／Ｐａｍが３を超えると酸化が進みすぎまた、酸
化膜が緻密に形成されないためＰ Ｈ，°／Ｐ Ｈ２の
上限を３とすることが好ましい０焼鈍源度は６００℃未
満では十分なプレス成型性が得られず、逆に９００℃を
越えると重ねて焼鈍することが多いフラットマスクの密
着が生じやすくなりまた ＡＩＮの再固溶が始まり、降
伏点伸びが増加するので好ましくない。焼鈍時間は、３
分未満では十分なプレス成型性が得られず、またＭｎ酸
化膜の形成も不十分となり、他方３０分を越えると生産
性が悪くなって好ましくない。
化膜が緻密に形成されないためＰ Ｈ，°／Ｐ Ｈ２の
上限を３とすることが好ましい０焼鈍源度は６００℃未
満では十分なプレス成型性が得られず、逆に９００℃を
越えると重ねて焼鈍することが多いフラットマスクの密
着が生じやすくなりまた ＡＩＮの再固溶が始まり、降
伏点伸びが増加するので好ましくない。焼鈍時間は、３
分未満では十分なプレス成型性が得られず、またＭｎ酸
化膜の形成も不十分となり、他方３０分を越えると生産
性が悪くなって好ましくない。
Ｎ２、Ｎ２及び水蒸気（Ｎ２０）から成る混合ガス雰囲
気を上記条件に合うようＮ４整した上で、前記組成のフ
ラットマスクを焼鈍すると、フラットマスクはプレス成
型に適した軟化を生じると共に。
気を上記条件に合うようＮ４整した上で、前記組成のフ
ラットマスクを焼鈍すると、フラットマスクはプレス成
型に適した軟化を生じると共に。
その表面にごく僅かの緻密なＭｎＯ系酸化換を発現する
。
。
更に、本発明に従えば、悪化膜の密着性は結晶粒が小さ
い方が優れまた表面粗さも適度に粗い方が優れているこ
とが判明した０焼鈍工程での結晶粒度を粒度番号７．０
以上とするのが好ましい０結晶粒度は、フラットマスク
の加工性等にも影響するので好ましい結晶粒度は粒度番
号１０〜１ｆｌＯである。フラットマスクの表面粗さは
Ｒａ＝［１２５〜１，０μｍとされる。係留効果による
密着性の改善を得るにはＲａ＝α２５μｍ以上の粗さが
必要であるが、１．０μｍを越えると弊害が出る。
い方が優れまた表面粗さも適度に粗い方が優れているこ
とが判明した０焼鈍工程での結晶粒度を粒度番号７．０
以上とするのが好ましい０結晶粒度は、フラットマスク
の加工性等にも影響するので好ましい結晶粒度は粒度番
号１０〜１ｆｌＯである。フラットマスクの表面粗さは
Ｒａ＝［１２５〜１，０μｍとされる。係留効果による
密着性の改善を得るにはＲａ＝α２５μｍ以上の粗さが
必要であるが、１．０μｍを越えると弊害が出る。
本発明において、エツチング工程、プレス成型工程及び
黒化処理工程は従来態様で実施される。
黒化処理工程は従来態様で実施される。
エツチング工程は、塩化第２鉄を主成分とするエツチン
グ液によシ多数の開孔を所定の配列様称で形成する。プ
レス成型工程は１、フラットマスクをシャドウマスク形
態にプレス機を使用して成型する。黒化処理は、酸化雰
囲気中にて４５０〜７００℃の温度で３〜６０分焼鈍す
ることによって黒化膜を形成する。焼鈍温度が４５０℃
未満では酸化が十分に進まず、満足な黒化膜が形成され
ず、７００℃を越えるとシャドウマスクの軟化が生じて
強度的に不利となる。焼鈍時間が５分未満では酸化が十
分進まず、満足な黒化膜が得られない。
グ液によシ多数の開孔を所定の配列様称で形成する。プ
レス成型工程は１、フラットマスクをシャドウマスク形
態にプレス機を使用して成型する。黒化処理は、酸化雰
囲気中にて４５０〜７００℃の温度で３〜６０分焼鈍す
ることによって黒化膜を形成する。焼鈍温度が４５０℃
未満では酸化が十分に進まず、満足な黒化膜が形成され
ず、７００℃を越えるとシャドウマスクの軟化が生じて
強度的に不利となる。焼鈍時間が５分未満では酸化が十
分進まず、満足な黒化膜が得られない。
６０分より長いと酸化が進みすぎまた生産性も悪くなる
。
。
ＭｎＯ系酸化膜を黒化処理前に表面にあらかじめ形成さ
せておくことにより、上記黒化処理において、有害なＦ
ｅｚｏｇの生成が抑制されまた酸化物皮膜が浮くなシ過
ぎるのを防ぎ、しかも密着性のよい緻密なＦｔ３０４の
発現が促進される０発明の効果 密着性の良い良質の黒化膜を具備するシャドウマスクの
製造を通して今後発展の予想される高品位テレビに対応
する。
せておくことにより、上記黒化処理において、有害なＦ
ｅｚｏｇの生成が抑制されまた酸化物皮膜が浮くなシ過
ぎるのを防ぎ、しかも密着性のよい緻密なＦｔ３０４の
発現が促進される０発明の効果 密着性の良い良質の黒化膜を具備するシャドウマスクの
製造を通して今後発展の予想される高品位テレビに対応
する。
実施例及び比較例
供試材は真空溶解、鋳造後、熱間圧延、酸洗、冷間圧延
、焼鈍、冷間圧延の工程で製造し、板厚０．１５■の冷
延板としたものである。供試材の成分を第１表に示す０ 供試材を脱脂後、レジスト液を湿布、乾燥、現像、焼付
は等の工程を経てエツチング工程により多数の開孔を設
けた後、第１表に示す種々の条件で焼鈍したうえでプレ
ス成型を行い、その後黒化処理した。
、焼鈍、冷間圧延の工程で製造し、板厚０．１５■の冷
延板としたものである。供試材の成分を第１表に示す０ 供試材を脱脂後、レジスト液を湿布、乾燥、現像、焼付
は等の工程を経てエツチング工程により多数の開孔を設
けた後、第１表に示す種々の条件で焼鈍したうえでプレ
ス成型を行い、その後黒化処理した。
黒化膜の密着性はシャドウマスクの１部を９０６繰υ返
し曲げ往復１回行い、その曲げ部において粘着テープに
よる剥離試験を行い評価した。結果を第１表に示す。表
中◎は大変良好、Ｏは良好、△はやや不良、×は不良を
示す０ 本発明例（１）のム１−８は、Ｍｎを０．２５〜０．６
０チを含有し、適切な焼鈍条件の下でしかも結晶度及び
表面粗さとも好ましい範囲にあるため大変に優れた結果
を示した０ 本発明例（ＩＯのＡ９は、Ａ６と同一の組成の供試材で
あるが、結晶粒度が好ましい値である粒度番号７未満の
ため悪化膜の密着性が例（１）群よりもわずかに劣つ７
’Ｃｏ本発明例（ＩＩ＞のＡ１０及び０．は点７と同一
の化学組成であるが、表萌粗さが好ましい範囲に較べて
扁１０は粗さが小さいためまた扁０．は粗さが大きすぎ
るため黒化膜の密着性が例（１）群よシもわずかに劣っ
たｏしかし、これら（ＴＩ）群も良好な水準にあると言
える。
し曲げ往復１回行い、その曲げ部において粘着テープに
よる剥離試験を行い評価した。結果を第１表に示す。表
中◎は大変良好、Ｏは良好、△はやや不良、×は不良を
示す０ 本発明例（１）のム１−８は、Ｍｎを０．２５〜０．６
０チを含有し、適切な焼鈍条件の下でしかも結晶度及び
表面粗さとも好ましい範囲にあるため大変に優れた結果
を示した０ 本発明例（ＩＯのＡ９は、Ａ６と同一の組成の供試材で
あるが、結晶粒度が好ましい値である粒度番号７未満の
ため悪化膜の密着性が例（１）群よりもわずかに劣つ７
’Ｃｏ本発明例（ＩＩ＞のＡ１０及び０．は点７と同一
の化学組成であるが、表萌粗さが好ましい範囲に較べて
扁１０は粗さが小さいためまた扁０．は粗さが大きすぎ
るため黒化膜の密着性が例（１）群よシもわずかに劣っ
たｏしかし、これら（ＴＩ）群も良好な水準にあると言
える。
ＡＩ２〜１９は比較例である。扁１２及び１３はＭｎ含
有量がα２５％未満であるため、黒化処理を行うと赤錆
が発生し、また黒化膜の密着性も悪かった。Ａ１４−１
５は、Ａ５と同一の化学成分のものであるが、焼鈍条件
が本発明の指定範囲より外れているため赤錆が発生し、
また密着性が悪かったシした。
有量がα２５％未満であるため、黒化処理を行うと赤錆
が発生し、また黒化膜の密着性も悪かった。Ａ１４−１
５は、Ａ５と同一の化学成分のものであるが、焼鈍条件
が本発明の指定範囲より外れているため赤錆が発生し、
また密着性が悪かったシした。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）重量％で表わして、Ｃ ０．０１％以下、Ｍｎ０．
２５〜０．６０％、Ｓ ０．０２５以下、ＳｏｌＡｌ０
．０１〜０．１２％、Ｎ ０．０１０％以下、そして残
部Ｆｅ及び不可避的不純物から成るＡｌキルド冷延銅板
をエッチング穿孔する工程と、Ｈ＿２を５体積％以上含
み且つ３≧ＰＨ＿２Ｏ／ＰＨ＿２≧１０＾−＾２である
Ｈ＿２、Ｎ＿２及び水蒸気（Ｈ＿２Ｏ）の混合ガス雰囲
気中にて６００〜９００℃の温度で３〜３０分焼鈍する
工程と、焼鈍したフラットマスクをプレス成型する工程
と、プレス成型体を黒化処理する工程とを包含する、黒
化膜密着性に優れたシャドウマスクの製造方法。 ２）重量％で表わして、Ｃ ０．０１％以下、Ｍｎ０．
２５〜０．６０％、Ｓ ０．０２５％以下、ＳｏｌＡｌ
０．０１〜０．１２％をＮ ０．０１０％以下そして残
部Ｆｅ及び不可避的不純物から成るＡｌキルド冷延鋼板
をエッチング穿孔する工程と、Ｈ＿２を５体積％以上含
み且つ３≧ＰＨ＿２Ｏ／ＰＨ＿２≧１０＾−＾２である
Ｈ＿２、Ｎ＿２及び水蒸気（Ｈ＿２Ｏ）の混合ガス雰囲
気中にて６００〜９００℃の温度で３〜３０分間焼鈍し
そして結晶粒度を粒度番号７．０以上とする工程と、焼
鈍したフラットマスクをプレス成型する工程と、プレス
成型体を黒化処理する工程とを包含する、黒化膜密着性
に優れたシャドウマスクの製造方法。 ３）重量％で表わして、Ｃ ０．０１以下、Ｍｎ０．２
５〜０．６０％、Ｓ ０．０２５％以下、ＳｏｌＡｌ０
．０１〜０．１２％、Ｎ ０．０１０％以下そして残部
Ｆｅ及び不可避的不純物から成り、且つ表面粗さをＲａ
＝０．２５〜１．０μｍとしたＡｌキルド冷延鋼板をエ
ッチング穿孔する工程と、Ｈ＿２を５体積％以上含み且
つ３≧ＰＨ＿２Ｏ／ＰＨ＿２≧１０＾−＾２であるＨ＿
２、Ｎ＿２及び水蒸気（Ｈ＿２Ｏ）の混合ガス雰囲気中
にて６００〜９００℃の温度で３〜３０分焼鈍する工程
と、焼鈍したフラットマスクをプレス成型する工程と、
プレス成型体を黒化処理する工程とを包含する、黒化膜
密着性に優れたシャドウマスクの製造方法。 ４）重量％で表わして、Ｃ ０．０１％以下、Ｍｎ０．
２５〜０．６０％、Ｓ ０．０２５％以下、ＳｏｌＡｌ
０．０１〜０．１２％、Ｎ ０．０１０％以下そして残
部Ｆｅ及び不可避的不純物から成り、且つ表面粗さをＲ
ａ＝０．２５〜１．０μｍとしたＡｌキルド冷延銅板を
エッチング穿孔する工程と、Ｈ＿２を５体積％以上含み
且つ３≧ＰＨ＿２Ｏ／ＰＨ＿２≧１０＾−＾２であるＨ
＿２、Ｎ＿２及び水蒸気（Ｈ＿２Ｏ）の混合ガス雰囲気
中にて６００〜９００℃の温度で３〜３０分間焼鈍しそ
して結晶粒度を粒度番号７．０以上とする工程と、焼鈍
したフラットマスクをプレス成型する工程と、プレス成
型体を黒化処理する工程とを包含する、黒化膜密着性に
優れたシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26907585A JPS62130221A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26907585A JPS62130221A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62130221A true JPS62130221A (ja) | 1987-06-12 |
Family
ID=17467310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26907585A Pending JPS62130221A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62130221A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999010556A1 (de) * | 1997-08-22 | 1999-03-04 | Messer Griesheim Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum gemeinsamen oxidieren und wärmebehandeln von teilen |
| JP4919958B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2012-04-18 | Ｔｈｋ株式会社 | 運動案内装置用の保持器及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP26907585A patent/JPS62130221A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999010556A1 (de) * | 1997-08-22 | 1999-03-04 | Messer Griesheim Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum gemeinsamen oxidieren und wärmebehandeln von teilen |
| CZ298967B6 (cs) * | 1997-08-22 | 2008-03-26 | Messer Group Gmbh | Zpusob spolecné oxidace a tepelného zpracování soucástek a prístroj pro provádení tohoto zpusobu |
| JP4919958B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2012-04-18 | Ｔｈｋ株式会社 | 運動案内装置用の保持器及びその製造方法 |
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