JPS61201763A - シヤドウマスク - Google Patents
シヤドウマスクInfo
- Publication number
- JPS61201763A JPS61201763A JP3867085A JP3867085A JPS61201763A JP S61201763 A JPS61201763 A JP S61201763A JP 3867085 A JP3867085 A JP 3867085A JP 3867085 A JP3867085 A JP 3867085A JP S61201763 A JPS61201763 A JP S61201763A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- annealing
- less
- minutes
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
見匪立且枚
本発明はカラーテレビ用受像管に用いられるシャドウマ
スクに関する。
スクに関する。
従Jノロ14
従来、カラーテレビ受像管用シャドウマスクとしては低
炭素リムド冷延鋼板や低炭素Alキルド冷延綱板が用い
られてるが、これらの材料より低熱膨張特性を有してい
るFe −Ni系アンバー合金の使用が提案され工業上
の使用も試みられている。
炭素リムド冷延鋼板や低炭素Alキルド冷延綱板が用い
られてるが、これらの材料より低熱膨張特性を有してい
るFe −Ni系アンバー合金の使用が提案され工業上
の使用も試みられている。
カラー受像管を動作させた際、シャドウマスクの開孔を
通過する電子ビームは全体の173以下であり、残りの
電子ビームはシャドウマスクに射突してシャドウマスク
は時として80℃にも達する程加熱される。この際熱膨
張による色純度の低下が生じるわけであるが、Fe −
Ni系アンバー合金の使用によりこの熱膨張が軽減され
るというものである。
通過する電子ビームは全体の173以下であり、残りの
電子ビームはシャドウマスクに射突してシャドウマスク
は時として80℃にも達する程加熱される。この際熱膨
張による色純度の低下が生じるわけであるが、Fe −
Ni系アンバー合金の使用によりこの熱膨張が軽減され
るというものである。
しかし、このFe−Ni系アンバー合金もシャドウマス
クとして全ての条件を具備しているとは言い難い。
クとして全ての条件を具備しているとは言い難い。
° の間 点
まず、その第1がプレス成型性の悪さである。
一般にシャドウマスクの製造は、おおよそエツチングに
よる穿孔する工程とプレス成型性を付与するための焼鈍
と所定の形状にプレス成型する工程と、その他黒化処理
等の工程からなるが、Fe −Ni系アンバー合金は従
来のAlキルド綱やリムド綱と焼鈍軟化特性が異なり、
通常の焼鈍では十分に耐力が低下しないという問題が生
じる。その結果、弾性によるスプリングバックが生じ形
状に微妙な狂いを生じる上に局部的な歪みが残留するた
め、球面成型性が劣ってしまう。Fe −Ni系アンバ
ー合金の場合、1000℃以上の高温で焼鈍を行なって
も24〜25 kg/+m+”位までしか耐力が低下せ
ず、金型等のプレス条件の変更でも成型性を補うなうこ
とが難しい。経験的に工業的に安定してプレス成型し、
良好なシャドウマスクを得るためにはプレス成型前に2
0 kg / mm”以下の耐力であることが望まれて
おり、これを満足する材料が望まれていた。
よる穿孔する工程とプレス成型性を付与するための焼鈍
と所定の形状にプレス成型する工程と、その他黒化処理
等の工程からなるが、Fe −Ni系アンバー合金は従
来のAlキルド綱やリムド綱と焼鈍軟化特性が異なり、
通常の焼鈍では十分に耐力が低下しないという問題が生
じる。その結果、弾性によるスプリングバックが生じ形
状に微妙な狂いを生じる上に局部的な歪みが残留するた
め、球面成型性が劣ってしまう。Fe −Ni系アンバ
ー合金の場合、1000℃以上の高温で焼鈍を行なって
も24〜25 kg/+m+”位までしか耐力が低下せ
ず、金型等のプレス条件の変更でも成型性を補うなうこ
とが難しい。経験的に工業的に安定してプレス成型し、
良好なシャドウマスクを得るためにはプレス成型前に2
0 kg / mm”以下の耐力であることが望まれて
おり、これを満足する材料が望まれていた。
第2の問題点は腰の弱さである。腰の弱さは耐力の低下
を狙うあまり高温での焼鈍を行なわざるを得ないため、
結晶粒が粗大化してしまうためと。
を狙うあまり高温での焼鈍を行なわざるを得ないため、
結晶粒が粗大化してしまうためと。
Fe−Ni系アンバー合金のヤング率がもともと低いこ
との2点による。この腰の弱さによって生じる問題とは
共振現象と座屈である。共振現象とは、シャドウマスク
をカラー受像管に組立てた際スピーカーの音等の外部振
動により、シャドウマスク自体が共振してしまう現象で
あり、その結果、シャドウマスクの孔と電子ビームの微
妙な位置関係がずれ色純度の低下につながるものであり
、ヤング率が低いつまり腰の弱い材料はど低振動数で共
振する、つまりは耐共振性に劣るというものである。座
屈というのは特にシャドウマスクが大型の場合に問題と
されており、腰の弱さのために成型後のシャドウマスク
の特に中央部の強度が不十分となりカラー受像管組立て
時のわずかな衝撃や応力でヘタリを生じるものである。
との2点による。この腰の弱さによって生じる問題とは
共振現象と座屈である。共振現象とは、シャドウマスク
をカラー受像管に組立てた際スピーカーの音等の外部振
動により、シャドウマスク自体が共振してしまう現象で
あり、その結果、シャドウマスクの孔と電子ビームの微
妙な位置関係がずれ色純度の低下につながるものであり
、ヤング率が低いつまり腰の弱い材料はど低振動数で共
振する、つまりは耐共振性に劣るというものである。座
屈というのは特にシャドウマスクが大型の場合に問題と
されており、腰の弱さのために成型後のシャドウマスク
の特に中央部の強度が不十分となりカラー受像管組立て
時のわずかな衝撃や応力でヘタリを生じるものである。
これらの腰の弱さに起因する現象は、シャドウマスクに
用いる合金板の板厚を厚くすることでも防止できるが、
これではコスト高となってしまい、やはり腰の強いつま
りヤング率の十分に高い材料、経験的にヤング率が17
000kg/mm”以上の材料が望まれていた。
用いる合金板の板厚を厚くすることでも防止できるが、
これではコスト高となってしまい、やはり腰の強いつま
りヤング率の十分に高い材料、経験的にヤング率が17
000kg/mm”以上の材料が望まれていた。
第3の問題点が黒化膜の密着性である。
前述したように、シャドウマスクの開孔を通過する電子
ビームは全体の1/3以下であり、残りの電子ビームは
シャドウマスクに射突する。この射突する電子の反射、
散乱が多いと画面上において色純度の低下が生じる。そ
こで、シャドウマスクの表面を黒化させることによりシ
ャドウマスクに射突する電子を吸収させ、散乱電子の発
生を抑えるという対策が講じられる。しかるに、Fe
−Ni系アンバー合金は黒化酸化膜が形成されに<<シ
かも、形成した酸化膜は密着性が十分でなく、電子ビー
ム通過孔部分で剥離が起ることがあった。
ビームは全体の1/3以下であり、残りの電子ビームは
シャドウマスクに射突する。この射突する電子の反射、
散乱が多いと画面上において色純度の低下が生じる。そ
こで、シャドウマスクの表面を黒化させることによりシ
ャドウマスクに射突する電子を吸収させ、散乱電子の発
生を抑えるという対策が講じられる。しかるに、Fe
−Ni系アンバー合金は黒化酸化膜が形成されに<<シ
かも、形成した酸化膜は密着性が十分でなく、電子ビー
ム通過孔部分で剥離が起ることがあった。
以上3点の問題つまりプレス成型性の悪さと腰の弱さ及
び黒化膜密着性の悪さを同時に解決するためにはヤング
率が17000 kg / w+ ”以上の材料を用い
、プレス成型前にその耐力を20kg10n”以下にし
密着性良好な黒化膜を形成させることが必要であるが同
時にFe−Ni系アンバー合金の持っている良好な低熱
膨張特性を大きく損なわないことが必要であり、実用上
30−100℃で6.OX 1(1’ /℃以下の熱膨
張係数が必要である。
び黒化膜密着性の悪さを同時に解決するためにはヤング
率が17000 kg / w+ ”以上の材料を用い
、プレス成型前にその耐力を20kg10n”以下にし
密着性良好な黒化膜を形成させることが必要であるが同
時にFe−Ni系アンバー合金の持っている良好な低熱
膨張特性を大きく損なわないことが必要であり、実用上
30−100℃で6.OX 1(1’ /℃以下の熱膨
張係数が必要である。
見匪勿鼠双
本発明者らはかかる点に鑑み種々の研究を行った結果、
特定の組成のFe−Ni−Cr系合金に適正な焼鈍及び
特殊な黒化処理を行うことによりこれらの要求特性を満
足できることを見い出したものであり、すなわち1重量
%でC0.10%以下、Si 0.30%以下、Al
0.30%以下、 Mn 0.1〜1.0%、Ni30
〜45%。
特定の組成のFe−Ni−Cr系合金に適正な焼鈍及び
特殊な黒化処理を行うことによりこれらの要求特性を満
足できることを見い出したものであり、すなわち1重量
%でC0.10%以下、Si 0.30%以下、Al
0.30%以下、 Mn 0.1〜1.0%、Ni30
〜45%。
Cr 2.0〜10.0%、残部Fe及び不可避的不純
物からなる鉄基合金板をエツチング穿孔後、露点0〜4
0℃の水素又は水素を含む雰囲気中にて750〜110
0℃で3〜60分焼鈍した後プレス成型し、その後酸素
を1体積%以上含有する雰囲気中にて450〜700℃
で3〜60分焼鈍し黒化膜を形成させたシャドウマスク
及び重量%でC0.10%以下、Si 0.30%以下
、Al 0.30%以下、Mn 0.1〜1.0%、N
i30〜45%、 Cr 2゜0〜10.0%にTi、
Zr、 Mo、Nb、 B、 V、 Beのうち1種
又は2種以上を合計で0.1〜1.0%含み、残部Fe
及び不可避的不純物からなる鉄基合金板をエツチング穿
孔後、露点0〜40℃の水素又は水素を含む雰囲気中に
て750〜1100℃で3〜60分焼鈍した後プレス成
型し、その後酸素を1体積%以上含有する雰囲気中にて
450〜700℃で3〜60分焼鈍し黒化膜を形成させ
たシャドウマスクに関する。
物からなる鉄基合金板をエツチング穿孔後、露点0〜4
0℃の水素又は水素を含む雰囲気中にて750〜110
0℃で3〜60分焼鈍した後プレス成型し、その後酸素
を1体積%以上含有する雰囲気中にて450〜700℃
で3〜60分焼鈍し黒化膜を形成させたシャドウマスク
及び重量%でC0.10%以下、Si 0.30%以下
、Al 0.30%以下、Mn 0.1〜1.0%、N
i30〜45%、 Cr 2゜0〜10.0%にTi、
Zr、 Mo、Nb、 B、 V、 Beのうち1種
又は2種以上を合計で0.1〜1.0%含み、残部Fe
及び不可避的不純物からなる鉄基合金板をエツチング穿
孔後、露点0〜40℃の水素又は水素を含む雰囲気中に
て750〜1100℃で3〜60分焼鈍した後プレス成
型し、その後酸素を1体積%以上含有する雰囲気中にて
450〜700℃で3〜60分焼鈍し黒化膜を形成させ
たシャドウマスクに関する。
発明の詳細な説明
次に本発明における成分及び焼鈍条件の限定理由を述べ
る。
る。
C;Cが0.10%を超えると熱膨張係数が高くなり、
また、鉄炭化物の生成のためエツチング性が阻害されシ
ャドウマスクに適さない。よってCは0.10%以下と
する。
また、鉄炭化物の生成のためエツチング性が阻害されシ
ャドウマスクに適さない。よってCは0.10%以下と
する。
Si; Siは脱酸目的に添加するものであるが、0.
30%を超えて含有すると合金の硬さを増し、焼鈍後の
耐力の低下も十分でない。よってSiは0.30%以下
とする。
30%を超えて含有すると合金の硬さを増し、焼鈍後の
耐力の低下も十分でない。よってSiは0.30%以下
とする。
Al; AlもSiと同様に脱酸目的であり、0.30
%を超えて含有すると焼鈍後に十分に低い耐力が得られ
ない。よってAlは0.30%以下とする。
%を超えて含有すると焼鈍後に十分に低い耐力が得られ
ない。よってAlは0.30%以下とする。
Mn; Mnは脱酸目的と熱間加工性を付与する目的と
で添加するが、0.1%より少ないと効果がなく、1゜
0%を超えて含有すると熱膨張係数が上昇し、焼鈍後の
耐力の低下も十分でない。よってその成分範囲を0.1
〜i、o%とする。
で添加するが、0.1%より少ないと効果がなく、1゜
0%を超えて含有すると熱膨張係数が上昇し、焼鈍後の
耐力の低下も十分でない。よってその成分範囲を0.1
〜i、o%とする。
Ni; Niが30%より少ないと熱膨張係数が極めて
高くなり、カラーブラウン管の色純度の低下につながる
6Niを45%を超えて含有しても熱膨張係数が高くな
る。よってその成分範囲を30〜4錦とする。
高くなり、カラーブラウン管の色純度の低下につながる
6Niを45%を超えて含有しても熱膨張係数が高くな
る。よってその成分範囲を30〜4錦とする。
Cr; Crはヤング率の上昇を目的にするが、適性量
を含有することで焼鈍後の耐力も低下する。Crの含有
量が2.0%より少ないとヤング率の上昇が十分でなく
、焼鈍後の耐力の低下も十分ではない。Crを10.0
%より多く含有すると熱膨張の上昇が著しくなる。よっ
てその成分範囲を2.0〜106部とする。
を含有することで焼鈍後の耐力も低下する。Crの含有
量が2.0%より少ないとヤング率の上昇が十分でなく
、焼鈍後の耐力の低下も十分ではない。Crを10.0
%より多く含有すると熱膨張の上昇が著しくなる。よっ
てその成分範囲を2.0〜106部とする。
Ti、 Zr、 Mo、 Nb、 B、 V、 Be:
これらの元素はヤング率の上昇及び結晶粒の微細化を
目的とし、耐共振性、耐座屈性を向上せしめる。その効
果が0.01%以上で現れる。また、合計で1.0%を
超えて含有すると合金が硬度を増し、その結果焼鈍後の
耐力の低下が十分でなく、熱膨張係数も上昇する。よっ
てその成分範囲を0,01〜1.0%とする。
これらの元素はヤング率の上昇及び結晶粒の微細化を
目的とし、耐共振性、耐座屈性を向上せしめる。その効
果が0.01%以上で現れる。また、合計で1.0%を
超えて含有すると合金が硬度を増し、その結果焼鈍後の
耐力の低下が十分でなく、熱膨張係数も上昇する。よっ
てその成分範囲を0,01〜1.0%とする。
上記のような成分からなるシャドウマスク材をエツチン
グ穿孔によりフラットマスクに加工、プレス成型前に、
露点θ〜40℃の水素又は水素を含む雰囲気中にて75
0〜1100℃で3〜60分焼鈍し望まれる焼鈍後の耐
力と結晶粒度に調整すると同時に材料表面でCrを優先
酸化させCr20.を主体とした密着性の良い緻密な酸
化膜を表面に形成する。ここで焼鈍温度を750〜11
00℃に規定したのは700℃未満では耐力が十分低下
せず、1100℃では結晶粒が粗大化してしまい好まし
くないからである。また、焼鈍時間を3〜60分に規定
したのは、3分未満では1枚のフッラドマスク全体の特
性値の均一性に問題があり、焼鈍時間が60分より長い
とコスト高になり生産性も悪く実際的でないからである
。
グ穿孔によりフラットマスクに加工、プレス成型前に、
露点θ〜40℃の水素又は水素を含む雰囲気中にて75
0〜1100℃で3〜60分焼鈍し望まれる焼鈍後の耐
力と結晶粒度に調整すると同時に材料表面でCrを優先
酸化させCr20.を主体とした密着性の良い緻密な酸
化膜を表面に形成する。ここで焼鈍温度を750〜11
00℃に規定したのは700℃未満では耐力が十分低下
せず、1100℃では結晶粒が粗大化してしまい好まし
くないからである。また、焼鈍時間を3〜60分に規定
したのは、3分未満では1枚のフッラドマスク全体の特
性値の均一性に問題があり、焼鈍時間が60分より長い
とコスト高になり生産性も悪く実際的でないからである
。
また、露点を0〜40℃に規定したのは0℃未満では満
足な酸化膜が得られず40℃を超えるとCrのみでなく
Feが酸化し始め最終的に黒化膜密着性が劣化するから
である。この後、このフラットマスクをプレス成型しさ
らに大気中にて450〜700℃で3〜60分焼鈍する
と密着性が非常に良好な黒化膜が得られる。これは、大
気中での黒化処理の前に表面にCr、 0.の酸化膜を
あらかじめ形成させておいたために、黒化膜として特に
有害なFe20.の生成を抑制し酸化物皮膜が厚くなり
すぎるのを防ぎ、しかも最終的にシャドウマスク地金と
酸化膜層の界面に緻密で密着性の良いCr20.の濃化
層が形成されるためである。焼鈍温度を450〜700
℃に規定したのは、450℃未満では酸化が十分に進ま
ず、満足な黒化膜が形成されなく、700℃を超えると
シャドウマスクが軟化してしまい強度的に不利になるか
らである。また、焼鈍時間を3〜60分に規定したのは
3分未満では酸化が十分進まず、満足な黒化膜が得られ
ず、60分より長いと酸化が進みすぎまた生産性も悪く
なるためである。なお、この方法であると黒化処理の予
備処理とプレス成型のための軟化焼鈍を兼ねるため工程
数も増えず経済的である。以下に実施例を示し本発明の
詳細な説明する。
足な酸化膜が得られず40℃を超えるとCrのみでなく
Feが酸化し始め最終的に黒化膜密着性が劣化するから
である。この後、このフラットマスクをプレス成型しさ
らに大気中にて450〜700℃で3〜60分焼鈍する
と密着性が非常に良好な黒化膜が得られる。これは、大
気中での黒化処理の前に表面にCr、 0.の酸化膜を
あらかじめ形成させておいたために、黒化膜として特に
有害なFe20.の生成を抑制し酸化物皮膜が厚くなり
すぎるのを防ぎ、しかも最終的にシャドウマスク地金と
酸化膜層の界面に緻密で密着性の良いCr20.の濃化
層が形成されるためである。焼鈍温度を450〜700
℃に規定したのは、450℃未満では酸化が十分に進ま
ず、満足な黒化膜が形成されなく、700℃を超えると
シャドウマスクが軟化してしまい強度的に不利になるか
らである。また、焼鈍時間を3〜60分に規定したのは
3分未満では酸化が十分進まず、満足な黒化膜が得られ
ず、60分より長いと酸化が進みすぎまた生産性も悪く
なるためである。なお、この方法であると黒化処理の予
備処理とプレス成型のための軟化焼鈍を兼ねるため工程
数も増えず経済的である。以下に実施例を示し本発明の
詳細な説明する。
実施例
供試材は真空溶解、鋳造後、熱間圧延、酸洗、冷間圧延
、焼鈍、冷間圧延の工程で製造し、板厚0.15rrI
Mの冷延板としたものであり、4種の成分のものを用い
た。供試材の成分を第1表に示す。
、焼鈍、冷間圧延の工程で製造し、板厚0.15rrI
Mの冷延板としたものであり、4種の成分のものを用い
た。供試材の成分を第1表に示す。
供試材を脱脂後、レジスト液を湿布、乾燥、現像、焼付
は等の工程を経てエツチング穿孔により多数の開孔を設
けた後、種々の条件で焼鈍したうえ゛でプレス成型を行
い、プレス成型性、耐座屈性、耐共振性を調査した。そ
の結果を第2表に示す。
は等の工程を経てエツチング穿孔により多数の開孔を設
けた後、種々の条件で焼鈍したうえ゛でプレス成型を行
い、プレス成型性、耐座屈性、耐共振性を調査した。そ
の結果を第2表に示す。
さらにその後種々の条件で黒化処理を行い黒化膜を形成
させた。黒化膜の密着性はシャドウマスクの1部を90
”繰り返し曲げ往復1回行い、その曲げ部において粘着
テープによる剥離試験を行い評価した。その結果を第3
表に示す。
させた。黒化膜の密着性はシャドウマスクの1部を90
”繰り返し曲げ往復1回行い、その曲げ部において粘着
テープによる剥離試験を行い評価した。その結果を第3
表に示す。
第2表かられかるように本発明例1〜12の焼鈍条件に
おいては、プレス成型性、耐座屈性、耐共振性とも良好
である。これに対して比較例13〜20においては焼鈍
温度が低すぎたり高すぎたり焼鈍時間が十分でなかった
りのためシャドウマスクとしての十分満足な特性を得ら
れない。比較例21〜27は露点が本発明の範囲からは
ずれているが、プレス成型性、耐座屈性、耐共振性につ
いては問題がない、しかし、第3表かられかるように本
発明例1−1〜12−2は黒化膜密着性が良好であるが
、比較例21−3〜27−1はプレ入信の焼鈍時の露点
が本発明の範囲からはずれているために黒化膜の密着性
が悪い。また比較例21−1は黒化処理温度が低すぎて
黒化膜が十分形成されず好ましくない。
おいては、プレス成型性、耐座屈性、耐共振性とも良好
である。これに対して比較例13〜20においては焼鈍
温度が低すぎたり高すぎたり焼鈍時間が十分でなかった
りのためシャドウマスクとしての十分満足な特性を得ら
れない。比較例21〜27は露点が本発明の範囲からは
ずれているが、プレス成型性、耐座屈性、耐共振性につ
いては問題がない、しかし、第3表かられかるように本
発明例1−1〜12−2は黒化膜密着性が良好であるが
、比較例21−3〜27−1はプレ入信の焼鈍時の露点
が本発明の範囲からはずれているために黒化膜の密着性
が悪い。また比較例21−1は黒化処理温度が低すぎて
黒化膜が十分形成されず好ましくない。
比較例21−2は黒化処理温度が高すぎ、強度が低下し
好ましくない。
好ましくない。
以上、述べたように本発明は製造性に優れ、また、黒化
膜密着性の優れたシャドウマスクを提供するものである
。
膜密着性の優れたシャドウマスクを提供するものである
。
以下余白
Claims (2)
- (1)重量%でC0.10%以下、Si0.30%以下
、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、Ni3
0〜45%、Cr2.0〜10.0%、残部Fe及び不
可避的不純物からなる鉄基合金板をエッチング穿孔後、
露点0〜40℃の水素又は水素を含む雰囲気中にて75
0〜1100℃で3〜60分焼鈍した後プレス成型し、
その後酸素を1体積%以上含有する雰囲気中にて450
〜700℃で3〜60分焼鈍し黒化膜を形成させたシャ
ドウマスク。 - (2)重量%でC0.10%以下、Si0.30%以下
、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、Ni3
0〜45%、Cr2.0〜10.0%にTi、Zr、M
o、Nb、B、V、Beのうち1種又は2種以上を合計
で0.01〜1.0%含み、残部Fe及び不可避的不純
物からなる鉄基合金板をエッチング穿孔後、露点0〜4
0℃の水素又は水素を含む雰囲気中にて750〜110
0℃で3〜60分焼鈍した後プレス成型し、その後酸素
を1体積%以上含有する雰囲気中にて450〜700℃
で3〜60分焼鈍し黒化膜を形成させたシャドウマスク
。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3867085A JPS61201763A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | シヤドウマスク |
DE19853545354 DE3545354A1 (de) | 1984-12-28 | 1985-12-20 | Schattenmaske und verfahren zur herstellung von schattenmasken |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3867085A JPS61201763A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | シヤドウマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61201763A true JPS61201763A (ja) | 1986-09-06 |
Family
ID=12531704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3867085A Pending JPS61201763A (ja) | 1984-12-28 | 1985-03-01 | シヤドウマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61201763A (ja) |
-
1985
- 1985-03-01 JP JP3867085A patent/JPS61201763A/ja active Pending
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