JPH01195630A - カラー陰極線管用電子部品の黒化方法 - Google Patents
カラー陰極線管用電子部品の黒化方法Info
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- JPH01195630A JPH01195630A JP1700588A JP1700588A JPH01195630A JP H01195630 A JPH01195630 A JP H01195630A JP 1700588 A JP1700588 A JP 1700588A JP 1700588 A JP1700588 A JP 1700588A JP H01195630 A JPH01195630 A JP H01195630A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はＦｅ及びＮｉを主成分とする合金を基材とする
カラー陰極線管用電子部品、特にアンバー製シャドウマ
スクの表面の黒化に好適な方法に関する。
カラー陰極線管用電子部品、特にアンバー製シャドウマ
スクの表面の黒化に好適な方法に関する。
［従来の技術］
近年、カラー陰極線管に対して高精細化、大型化、高輝
度化、フラットフェース化などへの要求が高まり、この
ような傾向に伴ってシャドウマスクのドーミングによる
色純度の劣化が問題になって来ている。このため、ドー
ミングの抑制を目的とした種々の手法が試みられており
、一部のものは実用化されるまでに到っている。これら
の中で最も基本的、かつ有効なものは、シャドウマスク
の材料を、従来のアルミキルド鋼などの軟鋼から、室温
近傍で熱膨張が極めて小さい３６ Ｎ ｉ −Ｆ ｅ合
金、所謂アンバーに変更することである。これにより、
ドーミングは約１／１０まで低減することが期待されて
いる。
度化、フラットフェース化などへの要求が高まり、この
ような傾向に伴ってシャドウマスクのドーミングによる
色純度の劣化が問題になって来ている。このため、ドー
ミングの抑制を目的とした種々の手法が試みられており
、一部のものは実用化されるまでに到っている。これら
の中で最も基本的、かつ有効なものは、シャドウマスク
の材料を、従来のアルミキルド鋼などの軟鋼から、室温
近傍で熱膨張が極めて小さい３６ Ｎ ｉ −Ｆ ｅ合
金、所謂アンバーに変更することである。これにより、
ドーミングは約１／１０まで低減することが期待されて
いる。
しかし、アンバー材は軟鋼材に比べて熱伝導率が小さい
。このため、アンバー材を用いたシャドウマスクをカラ
ー陰極線管に実装した場合、電子ビームの射突に起因す
る温度上昇が周囲への熱伝導によって軽減されることは
殆ど期待できず、熱放射によるものが支配的にならざる
を得ない、従って、アンバー材を用いた効果を得るため
には、表面に黒化膜を形成させて、表面からの熱放射が
十分行われるようにしなければならない。
。このため、アンバー材を用いたシャドウマスクをカラ
ー陰極線管に実装した場合、電子ビームの射突に起因す
る温度上昇が周囲への熱伝導によって軽減されることは
殆ど期待できず、熱放射によるものが支配的にならざる
を得ない、従って、アンバー材を用いた効果を得るため
には、表面に黒化膜を形成させて、表面からの熱放射が
十分行われるようにしなければならない。
ところが、実際には、アンバー材は軟鋼材に比ベて黒色
酸化膜を形成させることが極めて難しく、現状では、ア
ンバー材の持つ低熱膨張という特長を活かし切っている
とは言えない状況にある。
酸化膜を形成させることが極めて難しく、現状では、ア
ンバー材の持つ低熱膨張という特長を活かし切っている
とは言えない状況にある。
アンバー材の黒化が難しいのは、Ｎｉが酸化され難い全
屈であり、これがＮｉのみならずＦｅの酸化をも抑えて
しまうためである。
屈であり、これがＮｉのみならずＦｅの酸化をも抑えて
しまうためである。
すなわち、表面においてＦｅが選択的に酸化されると、
その下にＮｉの高濃度層が形成され、その後のＦｅの酸
化が、此のＮｉ高濃度層を通したＦｅまたは酸素の拡散
に律速されるため黒色酸化膜の形成が遅くなるのである
。
その下にＮｉの高濃度層が形成され、その後のＦｅの酸
化が、此のＮｉ高濃度層を通したＦｅまたは酸素の拡散
に律速されるため黒色酸化膜の形成が遅くなるのである
。
［発明が解決しようとする課題］
この点に対して、特公昭６２−５０９３７号公報には、
黒色酸化膜の形成を促進させて放射率を向上させる方法
として、焼鈍を例えば湿潤水素中で行うことにより、ア
ンバー材中に含まれる微量のＳｉ等を選択酸化させて表
面の結晶組織を微細化し、多くの結晶粒界を通してアン
バー材内部に酸素を拡散させて黒色酸化膜の形成を促進
させることが記載されている。
黒色酸化膜の形成を促進させて放射率を向上させる方法
として、焼鈍を例えば湿潤水素中で行うことにより、ア
ンバー材中に含まれる微量のＳｉ等を選択酸化させて表
面の結晶組織を微細化し、多くの結晶粒界を通してアン
バー材内部に酸素を拡散させて黒色酸化膜の形成を促進
させることが記載されている。
しかし、この方法によっても、得られた黒化膜の放射率
は０．５程度であり、軟鋼材の場合の０．８に比べて不
十分である。これは表面の結晶組織を微細化したとは言
うものの、黒色酸化膜の形成が結晶粒界近傍に限定され
ており、全体から見ると形成されない領域が残されてい
るためである。
は０．５程度であり、軟鋼材の場合の０．８に比べて不
十分である。これは表面の結晶組織を微細化したとは言
うものの、黒色酸化膜の形成が結晶粒界近傍に限定され
ており、全体から見ると形成されない領域が残されてい
るためである。
本発明はアンバー製シャドウマスクなどＮｉ及びＦｅを
主成分とする合金を基材とするカラー陰極線管用電子部
品に対する黒化膜形成を、容易かつ確実に行うことがで
き、高い放射率を得ることができる方法を提供すること
を目的とする。
主成分とする合金を基材とするカラー陰極線管用電子部
品に対する黒化膜形成を、容易かつ確実に行うことがで
き、高い放射率を得ることができる方法を提供すること
を目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記課題を解決するために本発明においては、Ｆａ及び
Ｎｉを主成分とする合金を基材とするカラー陰極線管用
電子部品の表面に、該部品を先ず酸化性雰囲気中で加熱
し、次いで非酸化性または還元性雰囲気中で再加熱した
後、黒色酸化膜を形成させるようにした。
Ｎｉを主成分とする合金を基材とするカラー陰極線管用
電子部品の表面に、該部品を先ず酸化性雰囲気中で加熱
し、次いで非酸化性または還元性雰囲気中で再加熱した
後、黒色酸化膜を形成させるようにした。
［作用］
上記のような手段をとれば１表面は最初に酸化作用を受
けるので粒界に阻まれて結晶粒が発達せず、結晶組織は
圧延組織に極めて近い状態を維持でき、かつ表面が粗面
化されるため、はぼ均一に黒色酸化膜を形成でき、その
結果、高い放射率が得られるので、シャドウマスクのド
ーミングを大幅に低減することが可能となる。
けるので粒界に阻まれて結晶粒が発達せず、結晶組織は
圧延組織に極めて近い状態を維持でき、かつ表面が粗面
化されるため、はぼ均一に黒色酸化膜を形成でき、その
結果、高い放射率が得られるので、シャドウマスクのド
ーミングを大幅に低減することが可能となる。
［実施例コ
以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明する。こ
こでは、シャドウマスクの黒化処理について説明するが
、フレームやインナシールドに対しても適用可能なこと
は勿論である。
こでは、シャドウマスクの黒化処理について説明するが
、フレームやインナシールドに対しても適用可能なこと
は勿論である。
シャドウマスクは先ずアンバーの平らな原板に多数のマ
スク孔をホトエツチングによって穿設する。次に、これ
を大気巾約７００℃で３０分間加熱し、続いて水素と窒
素を体積比で１：１にした混合ガス巾約９００℃で３０
分間加熱する。このとき、雰囲気の露点は黒化処理後の
放射率に大きな影響は及ぼさないが、０℃以上、更には
約２０℃程度であることが望ましい。その後、プレス加
工を行い、最後に、大気巾約６５０℃で３０分間加熱し
、表面に黒化酸化膜を形成させた。
スク孔をホトエツチングによって穿設する。次に、これ
を大気巾約７００℃で３０分間加熱し、続いて水素と窒
素を体積比で１：１にした混合ガス巾約９００℃で３０
分間加熱する。このとき、雰囲気の露点は黒化処理後の
放射率に大きな影響は及ぼさないが、０℃以上、更には
約２０℃程度であることが望ましい。その後、プレス加
工を行い、最後に、大気巾約６５０℃で３０分間加熱し
、表面に黒化酸化膜を形成させた。
このようにして製作したシャドウマスクについて１００
℃における放射率を測定した。参考例として、最初の大
気中加熱を行わなかったものにっかなように、本発明に
より製作した品は従来品に比べて放射率が高い。シャド
ウマスク表面の走査電子顕微鏡によるｉ察結果によれば
、本発明実施例製品は参考側製品に比べて黒色酸化膜が
均一に形成され、かつ粗面化されているから、これらの
ことが高い放射率が得られる理由と考えられる。
℃における放射率を測定した。参考例として、最初の大
気中加熱を行わなかったものにっかなように、本発明に
より製作した品は従来品に比べて放射率が高い。シャド
ウマスク表面の走査電子顕微鏡によるｉ察結果によれば
、本発明実施例製品は参考側製品に比べて黒色酸化膜が
均一に形成され、かつ粗面化されているから、これらの
ことが高い放射率が得られる理由と考えられる。
なお１本発明者の実験で下記のような条件が判っている
。
。
Ｆ ｅ −Ｎ ｉ合金組成：Ｎ１＝３０〜４２％、 Ｃ
ｒを５％以下、その他の不純物を合計３％以下の範囲で
含んでも良い。
ｒを５％以下、その他の不純物を合計３％以下の範囲で
含んでも良い。
酸化性雰囲気：大気に限定されず、二酸化炭素、水蒸気
、又はこれらの混合ガスでも良い。
、又はこれらの混合ガスでも良い。
２回目の処理の雰囲気：水素と窒素の混合ガスに限定さ
れず、還元性または非酸化性ガスであれば良い。
れず、還元性または非酸化性ガスであれば良い。
薫化雰囲気二大気に限定されない。
［発明の効果コ
Claims (1)
- １、Ｆｅ及びＮｉを主成分とする合金を基材とするカラ
ー陰極線管用電子部品の表面に、該部品を先ず酸化性雰
囲気中で加熱し、次いで非酸化性または還元性雰囲気中
で再加熱した後、黒色酸化膜を形成させるようにしたこ
とを特徴とするカラー陰極線管用電子部品の黒化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1700588A JPH01195630A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | カラー陰極線管用電子部品の黒化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1700588A JPH01195630A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | カラー陰極線管用電子部品の黒化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01195630A true JPH01195630A (ja) | 1989-08-07 |
Family
ID=11931890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1700588A Pending JPH01195630A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | カラー陰極線管用電子部品の黒化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01195630A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993004210A1 (en) * | 1991-08-19 | 1993-03-04 | Tadahiro Ohmi | Method for forming oxide film |
| US6146135A (en) * | 1991-08-19 | 2000-11-14 | Tadahiro Ohmi | Oxide film forming method |
| JP2006274386A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Ｎｉ基合金の製造方法 |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP1700588A patent/JPH01195630A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993004210A1 (en) * | 1991-08-19 | 1993-03-04 | Tadahiro Ohmi | Method for forming oxide film |
| US6146135A (en) * | 1991-08-19 | 2000-11-14 | Tadahiro Ohmi | Oxide film forming method |
| US6949478B2 (en) | 1991-08-19 | 2005-09-27 | Tadahiro Ohmi | Oxide film forming method |
| JP2006274386A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Ｎｉ基合金の製造方法 |
| JP4556740B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2010-10-06 | 住友金属工業株式会社 | Ｎｉ基合金の製造方法 |
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