KR930008197A - 에칭액의 처리방법 - Google Patents
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- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
Abstract
간단한 조작으로 그리고 낮은 운전 코스트로 이쳉폐액을 처리함과 동시에 발생하는 염소가스를 계외로 방출하는 일 없이 안전하게 유효 이용하기 위하여, 염화제 1구리 또는 구리를 포함하는 염화제 2철의 에칭 폐액을 격막전해법으로 처리하여 음극실에서 구리를 전석회수함과 동시에, 양극실에서 발생하는 염소가스를 에칭공정으로 사용되고 있는 별도의 에칭액으로 공급하여 당해액을 재생한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 관한 개념 플로우도이고,
제2도는 본 발명이 별도의 실시예에 관한 개념플로우도이다.
Claims (6)
- 염화제1구리의 함유 에칭액을 격막 전해법으로 처리하여, 음극실에서 구리를 전석회수함과 동시에, 양극실에서 발생하는 염소가스를 에칭공정에서 사용하고 있는 별도의 염화제1구리 함유 에칭액으로 공급하여 당해액을 재생하는 것을 특징으로 하는 에칭액의 처리방법.
- 제1항에 있어서, 염화제1구리 함유 에칭액을, 격막 전해조의 음극실로 공급하여 금속구리를 회수하는 공정과, 구리회수후의 액을 양극실로 공급하여 함유되어 있는 1가의 구리이온을 2가의 구리이온으로 산화시킴과 동시에 염소가스를 발생시키는 공정과, 당해 발생 염소가스를 별도의 염화제1구리 함유 에칭액에 접촉시켜서 당해액을 산화시키는 공정을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 에칭액의 처리방법.
- 제1항에 있어서, 염화제1구리 함유 에칭액을 격막전해조의 음극실로 공급하여 금속구리를 회수하는 공정과, 구리회수후의 액을 별도의 염화제1구리 함유 에칭액과 합류시키는 공정과, 상기 금속구의 회수공정에서 발생하는 염소가스를 합류액에 접촉시켜서 당해 합유액을 산화시키는 공정을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 에칭액의 처리방법.
- 구리를 포함하는 염화제2 철 에칭액을 결막 전해법으로 처리하여, 3가의 철이온 농도를 30g/ℓ이하, 구리이온을 20g/ℓ이하로 조정한 음극실에서 구리를 회수함과 동시에, 양극실에서 발생하는 염소가스를 에칭공정에서 사용되고 있는 별도의 구리를 포함하는 염화제2 철 에칭액으로 공급하여 당해액을 재생하는 것을 특징으로 하는 에칭액의 처리방법.
- 제4항에 있어서, 구리를 포함하는 염화제2 철 에칭액을 격막전해조의 음극실로 공급하여 음극액중의 3가의 철이온 농도를 30g/ℓ이하, 구리이온을 20g/ℓ이하로 조정하면서 금속구리를 회수하는 공정과, 구리회수후의 액을 양극실로 공급하고 함유되어 있는 1가의 구리이온 및 2가의 철이온을 2가의 구리이온 및 3가의 철이온으로 산화함과 동시에 염소가스를 발생시키는 공정과, 당해 발생염소가스를 별도의 구리를 포함하는 염화제2 철 에칭액에 접촉시켜서 당해액을 산화시키는 공정을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 에칭액의 처리방법.
- 제4항에 있어서, 구리를 포함하는 염화제2 철 에칭액을 격막 전해조의 음극실로 공급하여 음극액중의 3가의 철 이온농도를 30g/ℓ이하, 구리이온을 20g/ℓ이하로 조정하면서 금속구리를 회수하는 공정과, 구리 회수후의 액을 별도의 구리를 포함하는 염화제2 철 에칭액과 합류시키는 공정과, 상기 금속 구리회수공정에서 발생하는 염소가스를 합류액에 접촉시켜서 당해 합류액을 산화시키는 공정을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 에칭액의 처리방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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