KR900018186A - 광저항물에 있어서 다 분기(多 分岐)된 노볼랙(highly branched novolak)의 사용법 - Google Patents

광저항물에 있어서 다 분기(多 分岐)된 노볼랙(highly branched novolak)의 사용법 Download PDF

Info

Publication number
KR900018186A
KR900018186A KR1019900006666A KR900006666A KR900018186A KR 900018186 A KR900018186 A KR 900018186A KR 1019900006666 A KR1019900006666 A KR 1019900006666A KR 900006666 A KR900006666 A KR 900006666A KR 900018186 A KR900018186 A KR 900018186A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
branched
novolac
photoresist
phenol
novolac resin
Prior art date
Application number
KR1019900006666A
Other languages
English (en)
Inventor
에드워드 보간 2세 레오나드
앤 그래지아노 카렌
Original Assignee
윌리암 이 램버트 3세
롬 앤드 하스 컴퍼니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윌리암 이 램버트 3세, 롬 앤드 하스 컴퍼니 filed Critical 윌리암 이 램버트 3세
Publication of KR900018186A publication Critical patent/KR900018186A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

광저항물에 있어서 다 분기(多 分岐)된 노볼랙(highly branched novolak)의 사용법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. 노볼랙 수지 함유 광저항조성물의 석판인쇄성능을 증진시키기 위한 향상법에서, 효과적인 양의 다분기된 노볼랙 수지를 포함하는 노볼랙 수지 함유 광저항물로 제조되는 것.
  2. 제1항에 있어서, 다 분기된 노볼랙 수지의 분기의 범위가 적어도 20%인 것.
  3. 제1항에 있어서, 다 분기된 노볼랙 수지가 메틸올-반응성 페놀과 트리- 또는 테트라-메틸을 디페놀과의 산 촉매 축합반응에 의해 제조되는 것.
  4. 제1항에 있어서, 다 분기된 노볼랙이 산성 매질에서 트리스(하이드록시메틸) 페놀과 페놀과의 반응에 의해 형성되는 것.
  5. 제4항에 있어서, 다 분기된 노볼랙이 트리스(디알킬아미노 메틸) 페놀과 부가적 페놀과의 반응에 의해 형성되는 것.
  6. 제1항에 있어서, 다 분기된 노볼랙이 반응생성물의 정제에 뒤이어, 적어도 하나의 비치환된 오르토- 또는 파라- 고리위치를 갖는 페놀과 트리스나 테트라키스(디알킬아미노알킬) 페놀 또는 비스페놀과의 산 촉매 반응에 의해 형성되는 것.
  7. 제1항에 있어서, 광저항 조성물이 음의 작용 광저항물인 것.
  8. 노볼랙 수지를 함유하는 향상된 상 경화 광저항 조성물과 상술한 향상성을 가지며 노볼랙이 다 분기된 광산 생성제.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900006666A 1989-05-12 1990-05-11 광저항물에 있어서 다 분기(多 分岐)된 노볼랙(highly branched novolak)의 사용법 KR900018186A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US35115389A 1989-05-12 1989-05-12
US351153 1989-05-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR900018186A true KR900018186A (ko) 1990-12-20

Family

ID=23379794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900006666A KR900018186A (ko) 1989-05-12 1990-05-11 광저항물에 있어서 다 분기(多 分岐)된 노볼랙(highly branched novolak)의 사용법

Country Status (11)

Country Link
EP (1) EP0397460A3 (ko)
JP (1) JPH0379619A (ko)
KR (1) KR900018186A (ko)
CN (1) CN1047398A (ko)
AU (1) AU635928B2 (ko)
BR (1) BR9002205A (ko)
CA (1) CA2015721A1 (ko)
FI (1) FI902375A0 (ko)
IL (1) IL94353A (ko)
NO (1) NO902061L (ko)
ZA (1) ZA903560B (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4939229A (en) * 1989-05-12 1990-07-03 Rohm And Haas Company Method for preparing lithographically sensitive branched novolaks using a mannich base intermediate
US5667934A (en) * 1990-10-09 1997-09-16 International Business Machines Corporation Thermally stable photoimaging composition
TW207009B (ko) * 1991-01-31 1993-06-01 Sumitomo Chemical Co
TWI263861B (en) * 1999-03-26 2006-10-11 Shinetsu Chemical Co Resist material and pattern forming method
JP2002203869A (ja) 2000-10-30 2002-07-19 Seiko Epson Corp バンプの形成方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
US6828383B2 (en) * 2002-12-13 2004-12-07 Occidental Petroleum Phenolic modified resorcinolic resins for rubber compounding
WO2022076984A1 (en) * 2020-10-05 2022-04-14 Advanced Polymer Coatings, Inc. Process for preparing branched phenolic novolak

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS505084B1 (ko) * 1970-09-16 1975-02-28
US4624909A (en) * 1984-04-27 1986-11-25 Nec Corporation Silicon-containing novolak resin and resist material and pattern forming method using same
CA1307695C (en) * 1986-01-13 1992-09-22 Wayne Edmund Feely Photosensitive compounds and thermally stable and aqueous developablenegative images
DE3810247A1 (de) * 1987-03-26 1988-10-06 Toshiba Kawasaki Kk Lichtempfindliche beschichtungsmasse
US4939229A (en) * 1989-05-12 1990-07-03 Rohm And Haas Company Method for preparing lithographically sensitive branched novolaks using a mannich base intermediate

Also Published As

Publication number Publication date
AU5488290A (en) 1990-11-15
IL94353A (en) 1994-02-27
CA2015721A1 (en) 1990-11-12
NO902061D0 (no) 1990-05-10
ZA903560B (en) 1991-01-30
CN1047398A (zh) 1990-11-28
BR9002205A (pt) 1991-08-13
AU635928B2 (en) 1993-04-08
NO902061L (no) 1990-11-13
JPH0379619A (ja) 1991-04-04
EP0397460A3 (en) 1992-02-26
IL94353A0 (en) 1991-03-10
EP0397460A2 (en) 1990-11-14
FI902375A0 (fi) 1990-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890005563A (ko) 포지티브 감광성내식막용 노볼락 수지
KR880009291A (ko) 포지티브-작용성 감광성 내식막 조성물
KR890015070A (ko) 감광성 수지 조성물
JPS561044A (en) Photosensitive composition
KR960008428A (ko) 화학적으로 증폭된 방사선-민감성 조성물
KR880000494A (ko) 내식막 조성물 및 이의 용도
ATE8820T1 (de) Lichtempfindliches gemisch auf basis von onaphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial.
KR900018746A (ko) 공중합체 결합제를 사용한 감광성 내식막
EP0136110A3 (en) Positive photosensitive compositions useful as photoresists
KR840004589A (ko) 포지티브형(positive type) 감광성 내식막 조성물
KR900018186A (ko) 광저항물에 있어서 다 분기(多 分岐)된 노볼랙(highly branched novolak)의 사용법
KR920015158A (ko) 네거티브 포토레지스트 조성물
KR880002050A (ko) 고내열성 포지티브형 포토레지스트 조성물
KR970022549A (ko) 포지티브 내식막 조성물 및 감광제
KR870011505A (ko) 포지티브-워킹(Positive-Working)감광성 내식막 조성물
KR890015069A (ko) 양성-작용 감광성 혼합물 및 이로부터 제조된 고열 안정성 기록물질
KR920001243A (ko) 포지티브 감 방사선성 레지스트 조성물
KR900002125A (ko) 내식막 조성물
KR870007446A (ko) 감광성 조성물
KR940704014A (ko) 선택된 노볼락 수지 및 선택된 방사선 민감성 조성물(Selected novolak resins and selected radiation-sensitive compositions)
KR960034162A (ko) 테트라페놀 화합물 및 이의 제조방법
KR900010465A (ko) 양성 레지스트 조성물의 제조방법
KR920000010A (ko) 방사선-감작 포지티브 레지스트 조성물
KR870011502A (ko) 감광제 조성물
MY105698A (en) Method for preparing lithographically sensitive branched novolaks.

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application