KR880008077A - 김광성 내식막의 제조방법과 그 조성물 및 성분 - Google Patents

김광성 내식막의 제조방법과 그 조성물 및 성분 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

김광성 내식막의 제조방법과 그 조성물 및 성분
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 상대흡수 a =A/A0에 대한 트리-DAQ광활성 화합물의 복사에 의해 생성된 광생성물 m0= m3의 상대농도의 그래프이고,
제 2도는 총광생성물 농도, m*에 대한 감광성 내식막 조성물의 용해율의 그래프이며,
제 3도는 트리-인덴 카르복실산 에스테르 광생성물 농도, m3에 대한 감광성 내식막 조성물 용해율의 그래프이다.

Claims (58)

  1. 적어도 하나의 알칼리 용해성 수지와 고체 기질상의 적어도 하나의 PAC를 포함하는 혼합물로 구성하여 알칼리 용해성 수지와 PAC의 중량비가 1 : 12 - 12 : 1, 광활성 치환기와 PAC중 밸러스트기의 평균 몰비가 2.1 : 1 이상이며 PAC분자중 적어도 44wt%가 산성 친수성기를 갖지 않는 용매-유리방사선-감수성 필름을 얻고, 상기 필름을 영양식(imagewise) 또는 무늬식(pattern-wise)으로 여러 화학 반응이 결합된 에너지를 조사하여 필름이 노출된 부분의 광활성 치환기를 소수성에서 산상 친수성으로 15-100% 전환시킨 다음; 노출된 부분을 수용성 알칼리 현상액과 접촉시켜 용해시키므로써 내식막 무늬를 현상하고 (여기에서 용해율은 PAC 복사 분해생성물이나 또는 하나의 밸러스트 분자에 3개 또는 그 이상의 복사 또는 광화학적으로 생성된 친수성기를 갖는 광생성물에 의해 필수적으로 제어된다); 현상액으로 부터 필름을 신속히 제거하거나 또는 현상액을 물 또는 산으로 신속히 희석 또는 중화하여 5분 이내에 현상을 완료 하므로써 노출된 필름이 실질적으로 남지 않고 비노출된 필름의 두께가 상기 용매 유리내식막 필름의 초기 두께의 적어도 97%가되도록 함을 특징으로 하는 무늬 형성 방법(pattern-forming process).
  2. 제 1항에 있어서, 수지는 알칼리 용해성 폐놀수지, PAC는 특허 청구범위 제3항에 기재된 것이고, 용매 유리 필름은 355-450nm의 스펙트럼 범위에서 10% 이하의 비표백성 흡수(non-bleachable absorption)를 나타내는 것이며, 광활성기 : PAC중 밸러스트기의 비는 2.4 : 1 이상이고 PAC분자중 적어도 54wt%가 산상 소수 성기를 갖지 않으며, 노출시킴에 의해 광활성 치환체기중 35-100%가 전환되며 현상액은 수중에 0.12-0.6몰 농도의 테트라알킬암모늄 하이드록사이드를 포함함을 특징으로하는 조성물.
  3. 수지 : PAC의 중량비가 1 : 12 - 12 : 1, 옥소sy342;디아조 나프탈렌기 : PAC중 밸러스트 화합물의 평균 몰비가 2.1 : 1이상, PAC 분자중 적어도 44wt%가 산성 소수성기를 갖지 않으며, 정상조건에서 조성물로 된 얇고 건조된 용매-유리필름이 복사분해나 또는 광분해 되어 인덴카르복실산 광분해 생성물이나 또는 하나의 밸러스트 화합물에 결합된 3개 또는 그이상의 인덴카르복실산기를 갖는 광생성물이 수용성 알칼리 현상액 중에서 광조사된 필름의 용해속도를 제어하고 현상이 완료된 후에는 남아있는 비 노출된 필름의 두께가 최초 필름 두께의 적어도 97%가 되도록 옥소-디아조 나프탈렌-설포네이트나 또는 폴리하이드록시 밸러스트 화합물인 카르복실레이트 폴리에스테르로 구성된 적어도 하나의 PAC와 적어도 하나의 알칼리 수용성 페놀수지 및 용매로 구성된 단일상 액체 혼합물을 포함함을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 3항에 있어서, 용매는 특허청구의 범위 제15항의 기재된 용매군으로 부터 선택된 것임을 특징으로하는 조성물.
  5. 수지 : PAC의 중량비가 1 : 12 - 12 : 1, 옥소-디아조나프탈렌기 : PAC중 밸러스트 화합물의 평균 몰비가 2.1 : 1이상, PAC 분자중 적어도 44wt%가 산성 소수성기를 갖지 않으며, 정상조건에서 조성물로 된 얇고 건조된 용매-유리 필름이 복사분해나 또는 광분해 되어 인덴카르복실산 광분해 생성물이나 또는 하나의 밸러스트 화합물에 결합된 3개 또는 그이상의 인덴카르복실산기를 갖는 광생성물이 수용성 알칼리 현상액 중에서 광조사된 필름의 용해속도를 제어하고 현상이 완료된 후에는 남아있는 비노출된 필름의 두께가 최초 필름 두께의 적어도 97%가 되도록 옥소-디아조 나프탈렌-설포네이트나 또는 폴리하이드록시 밸러스트 화합물인 카르복실레이트 폴리에스테르로 구성된 적어도 하나의 PAC와 특허청구의 범위 제23, 29, 30, 41항 및 제 42항에 기재된 수지로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 수지 및 용매로 구성된 단일상 액체 혼합물을 포함함을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 5항에 있어서, 용매는 특허청구의 범위 제 15항에 기재된 용매로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  7. 수지 : PAC의 중량비가 1 : 12 - 12 : 1, 옥소-디아조나프탈렌기 : PAC중 밸러스트 화합물의 평균 몰비가 2.1 : 1이상, PAC 분자중 적어도 44wt%가 산성 수소성기를 갖지 않으며, 정상조건에서 조성물로 된 얇고 건조된 용매-유리 필름이 복사분해나 또는 광분해 되어 인덴카르복실산 광분해 생성물이나 또는 하나의 밸러스트 화합물에 결합된 3개 또는 그이상의 인덴카르복실산기를 갖는 광생성물이 수용성 알칼리 현상액 중에서 광조사된 필름의 용해속도를 제어하고 현상이 완료된 후에는 남아있는 비노출된 필름의 두께가 최초 필름 두께의 적어도 97%가 되도록 옥소-디아조나프탈렌-설포네이트나 또는 폴리하이드록시 밸러스트 화합물인 카르복실레이트 폴리에스테르로 구성된 적어도 하나의 PAC와 특허청구의 범위 제23, 29, 30, 41항 및 제 42항에 기재된 수지로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 수지 및 특허청구의 범위 제15, 17항 및 제18항에 기재된 용매로 구성된 단일상 액체 혼합물을 포함함을 특징으로 하는 조성물.
  8. 355-450nm의 스펙트럼범위에서의 용매-유리 필름의 비료백성 흡수는 10% 이하이고 현상액은 수중에 0.15 - 0.6몰 농도로 테트라알킬암모늄 하이드록사이드를 포함함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제3항과 제7항에 의한 조성물로 부터 선택된 조성물.
  9. 제 8항에 있어서, PAC는 450-650nm의 스펙트럼범위에서 투명한 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 특허청구의 범위 제 52항에 기재된 적어도 하나의 PAC를 폴리에스테르와 특허청구의 범위 제 15항에 기재된 용매에 특허청구의 범위 제 23, 29, 30, 41항 및 제 42항에 기재된 수지군으로 부터 선택된 수지를 용해한 혼합물로 구성된 조성물. 여기에서 수지 : PAC 폴리에스테르의 중량비는 2 : 1 - 12 : 1이다.
  11. PAC 에스테르 및 특허청구의 범위 제 53항과 제 54항에 기재된 폴리에스테르군으로 부터 선택된 적어도 하나의 PAC 에스테르나 또는 폴리에스테르와 특허청구의 범위 제 15항에 기재된 용매군으로 부터 선택된 적어도 하나의 용매에 특허청구의 범위 제 23, 29, 30, 41 및 제 42항에 기재된 수지군으로 부터 선택된 적어도 하나의 수지를 용해한 혼합물로 구성된 조성물. 여기에서 수지 : PAC의 중량비는 2 : 1 - 12 : 1이다.
  12. PAC는 구조식 6으로 표현되는 폴리에스테르군으로 부터 선택된 것으로 여기에서 R1- R3는 X를 1-옥소-2-디아조나프달렌-4 또는 5-설포네이트 잔류물의 수로, Y를 수산기의 수로 할때 X의 평균비가2.1-2.85 범위이고 수지 : PAC의 중량비가2 : 1-12 : 1의 범위내에서 선택된 것임을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 7항과 제 8항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  13. PAC는 특허청구의 범위 제 12항에 기재된 것으로 X가 2.4 - 2.85임을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 8항과 제 9항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  14. PAC는 구조식 7로 표현되는 폴리에스테르로 여기에서 R1- R3는 X를 1-옥소-2-디아조나프달렌-4 또는 5-설포네이트 전류물의 수로, Y를 수산기의 수로 할때 X의 평균비가 2.1 -2.85 범위이고 수지 : PAC의 중량비가 2 : 1 -12 : 1의 범위내에서 선택된 것임을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 7항, 제 8항 및 제 9항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  15. 적어도 하나의 용해성 수지와 에테르 또는 옥소-디아조나프탈렌 설포닐이나 카르복실산 할라이드와 하이드록시 또는 폴리하이드록시 밸러스트 화합물의 반응으로 부터 유도되는 형의 폴리에스테르로 구성된 적어도 하나의 PAC 및 단위가 (cal/㎤)0.5로 표현되는 용해도 매개 변수 δd,δp및δk가 다음과 같고, δd〉4.4, δp〉3.6, δh3.0, δp/δk〉0.59 정상비점이 110 - 180℃이내의 범위이며, C, H 및 하나 또는 그이상의 헤테로 원자 O, F, Cl은 포함하되 시크로지방족케론과 알칼렌 글리콜 모노알킬에테르 아세테이트는 포함하지 않는 특성을 갖는 각각의 화합물이나 이들의 혼합물이 5-100wt%로 구성되거나 또는 정상비점이 110-180℃의 범위이고, C, H 및 하나 또는 그이상의 헤테로 원자인 O, F, Cl은 포함하되 시크로지방족케론과 알칼렌 글리콜 모노알킬에테르 아세테이트는 포함하지 않으며 단위가(cal/㎤)0.5로 표현되는 용해도 매개 변수 δd, δp및 δh가 다음과 같고, δd〉4.4, δp〉3.6, δh3.0, δp/δh〉0.59 분획물중 화합물에 대한 중량평균비점이 110-180℃이고 분획물은 용매중 전체 화합물의 적어도 30wt%로 구성된 특성을 갖는 각각의 화합물로 구성된 혼합물을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 15항에 있어서, 용해성 수지는 알칼리 용해성 페놀 수지임을 특징으로 하는 조성물.
  17. 적어도 하나의 용해성 수지와 에스테르 또는 옥소-디아조나프탈렌 설포닐이나 카르복실산 할라이드와 하이드록시 또는 폴리하이드록시 밸러스트 화합물의 반응으로 부터 유도되는 형의 폴리에스테르로 구성된 적어도 하나의 PAC 및 아니솔, 에틸락테이트, 메틸락테이트, 에틸-2-에톡시 아세테이트, 메틸-2-메록시 아세테이트, 메틸-3-메톡시 프로피오네이트, 에틸-3-메톡시프로피오네이트, 피루빅 알데히드 디메틸 아세탈, 아세톨, 에틸2-에톡시-2-하이드록시 아세테이트, 에틸2-하이드록시이소-부티레이트, 아밀아세테이트, 헥실 아세테이트와 메틸 아세토아세테트로 구성된 군으로 부터 선택된 용매로 구성된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 용매에는 클로로벤젠, 크실렌, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올 및 3-에톡시-프로탄올로 구성된 군으로 부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함함을 특징으로 하는 조성물.
  19. 용매는 에틸락테이트와 아니솔로 구성된 군으로 부터 선택된 화합물을 포함함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 15항과 제 17항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  20. 용매는 에틸 락테이트, 아니솔과 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 화합물과 아밀 아세테이트, n-부틸 아세테이트, n-부틸 프로피오네이트, 클로로벤젠, 이소부틸이소부티레이트와 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 화합물과의 혼합물임을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 15항과 제 17항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  21. 수지, PAC와 단일의 액상을 형성하기 위해 수지와 PAC를 용해할 수 있는 아니솔, 에틸락테이트, 메틸락테이트, 에틸-2-에톡시 아세테이트, 메틸 2-메톡시 아세테이트- 메틸 3-메톡시 프로피오네이트, 에틸-3-메톡시 프로피오네이트, 피루브 알데히드 디메틸 아세탈, 아세톨, 에틸 2-에톡시-2-하이드록시 아세테이트, 에틸 2-하이드록시이소-부티레이트, 아밀아세테이트, 헥실 아세테이트 및 메틸 아세토 아세테이트로 구성된 군으로 부터 선택된 충분한 량의 용매로 구성된 것을 특징으로 하는 양성 감광성 내식막 조성물.
  22. 용매나 용매의 혼합물은 순도가 99% 이상인 증류틸락테이트를 포함함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 15항과 제 17항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  23. 적어도 하나의 용해성 페놀수지, 적어도 하나의 감광제, 적어도 하나의 용매와 부가제의 혼합물을 함유하는 감광성 내식막 조성물로서 여기에서 수지는 포름 알데히드를 가진 적어도 두개의 크레졸 이성질체의 혼합물의 축합반응 생성물이며 크레졸 화합물에 메타 크레졸은 전체 크레졸의 46% 이하임을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 23항에 있어서, 크레졸 호합물의 크레졸 이성질체에는 30% 이하 o-크레졸, 25 - 46%의 m-크레졸, 24 - 75%의 p-크레졸이 존재함을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제 23항에 있어서, 크레졸 혼합물의 크레졸 이성질체에는 10% 이하 o-크레졸, 40 - 46%의 m-크레졸, 44 - 60%의 p-크레졸이 존재함을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제 23항에 있어서, 크레졸 혼합물의 크레졸 이성질체는 43 - 46%의 m-크레졸과54 - 57%의 p-크레졸이 존재함을 특징으로 하는 조성물.
  27. 수지는 산존재하에서 포름알데히드와 크레졸 이성질체의 축합에 의해 생성된것임을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 23항 내지 제 26항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  28. 제 27항에 있어서, 수지는 무게 평균 분자량이 4,000 - 35,000달톤임을 특징으로 하는 조성물.
  29. 제 23항에 있어서, 수지는 산존재하에서 적어도 하나의 비스하이드록시 메틸 치환 페놀화합물과 폴리머화 할 수 있는 반응성 페놀 화합물 적어도 하나를 축합반응시켜 제조된 폴리머임을 특징으로 하는 조성물.
  30. 제 23항에 있어서, 수지는 산존재하에서 제 29항에서와 같이 형성된 수지와 포름알데히드 및 적어도 하나의 폴리머화 할 수 있는 반응성 페놀화합물을 축합시켜 형성된 블록 혼성 중합체인것은 특징으로 하는 조성물.
  31. 반응성 페놀 화합물은 페놀, 크레졸, 디메틸 페놀, 트리메틸 페놀, 나프틀, 비페놀, 페닐 페놀, 비스(하이드록시페닐)메탄, 이소프로필인덴-디페놀, 카테콜, 리솔시놀, 티오디페놀, 비스(하이드록시 페놀)-1,2-에탄과 비페놀 에테르로 구성된군으로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 29항과 제 30항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  32. 제 23항에 있어서, 수지는 2, 6-비스(하이드록시 메틸)-p-크레졸 혼합물과 적어도 하나의 크레졸 이성질체를 축합반응시켜 형성된 생성물인을 특징으로 하는 조성물.
  33. 제23항에 있어서, 크레졸 이성질체는 o-크레졸과 m-크레졸로 구성된 군으로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  34. 제32항에 있어서, 크레졸 이성질체는 o-크레졸과 m-크레졸의 혼합물임을 특징으로 하는 조성물.
  35. 제 29항에 있어서, 수지는 2, 6-비스(하이드록시 메틸)-p-크레졸과 1-나프톨 혼합물을 축합시켜 형성된 생성물인을 특징으로 하는 조성물.
  36. 제 29항에 있어서, 수지는 2, 4-비스(하이드록시 메틸)-o-크레졸 혼합물, m-크레놀과 p-크레졸로 구성된 군으로 부터 선택된 크레졸 이성질체를 축합 반응시켜 형성된 생성물인을 특징으로 하는 조성물.
  37. 제 30항에 있어서, 수지는 산존재하에서 포름알데히드, m-크레졸과 제 32항에서와같이 수지를 축합반응시켜 형성된 생성물이고 크레졸 이성질체는 m-크레졸 인것을 특징으로 하는 조성물.
  38. 제 30항에 있어서, 수지는 산존재하에서 포름알데히드, 1-나프톨이나 2-나프톨과 제32항에서와같이 수지를 축합반응시켜 형성된 생성물이고 크레졸 이성질체는 m-크레졸 인것을 특징으로 하는 조성물.
  39. 제 30항에 있어서, 수지는 포름알데히드, 메타크레졸과 제35항에서와 같이 수지를 산존재하에서 축합반응시켜 형성된 생성물임을 특징으로 하는 조성물.
  40. 제 23항에 있어서, 수지는 산존재하에서 (i) m-크레졸과 포름알데히드, (ii) (i)과 2,6-비스(하이드록시 메틸)-p-크레졸 생성물을 축합반응시켜 형성된 블록 혼성중합체임을 특징으로 하는 조성물.
  41. 제 23항에 있어서, 수지는 폴리머화 할 수 있는 반응성 페놀 화합물 적어도 하나와 방향족 알데히드의 혼합물을 축합반응시켜 형성된 폴리머로써 이 폴리머는 적어도 1,500달톤의 무게 평균 분자량을 갖음을 특징으로 하는 조성물.
  42. 제 41항에 있어서, 축합반응은 산이나 황화합물 존재하에서 수행됨을 특징으로 하는 조성물.
  43. 제 41항 또는 제 42항에 있어서, 방향족 알데히드는 벤즈알데히드, 살리실 알데히드, 3-하이드록시 벤즈 알데히드, 4-하이드록시 벤즈 알데히드, 1-나프타 알데히드로 구성된 군으로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  44. 제 43항에 있어서, 반응성 페놀 화합물은 m-크레졸임을 특징으로 하는 조성물.
  45. 제 41항 또는 제 42항에 있어서, 수지는 방향족 알데히드, 반응성 페놀 화합물과 적어도 하나의 비스(하이드록시 메틸) 크레졸의 축합 반응에 의해 형성된 중합체임을 특징으로 하는 조성물.
  46. 제 45항에 있어서, 방향족 알데히드는 제 43항에서와 같은 군으로 부터 선택된 것이고 비스(하이드록시메틸) 크레졸은 o-, m-, p-크레졸 유도체의 화합물임을 특징으로 하는 조성물.
  47. 제 46항에 있어서, 반응성 페놀 화합물은 m-크레졸임을 특징으로 하는 조성물.
  48. 폴리머화 될 수 있는 반응성의 페놀 화합물과 적어도 하나의 방향족 알데히드의 혼합물을 산이나 황화합물 존재하에서 응축시켜 제조함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제 42항 조성물의 제조 방법.
  49. 구조식 1의 아틸-하이드록시 화합물. 여기에서 Z는 탄소수2 - 27개를 가진 탄수화물 스페이서 그룹이과, R1-R6는 하이드록시기나 적어도 4개의 하이드록시기를 가진 수소원자이다.
  50. 제 49항에 있어서, Z는 탄소수 7 - 21인 아릴-아킬 스페이서 그룹이고 R1-R6는 하이드록시기임을 특징으로 하는 화합물.
  51. 구조식 2, 3, 4, 5로 표현되는 아릴-하이드록시 화합물.
  52. 적어도 하나의 1-옥소-2-디아조나프탈렌-4 또는 5-술포닐 할리드가 특허청구의 범위 제49, 50, 51항에 기재된 화합물로 구성된 군으로 부터 선택된 화합물과 반응하여 형성된 것임을 특징으로 하는 PAC 폴리에스테르.
  53. 구조식 6의 PAC 에스테르와 폴리에스테르, 여기에서 R1-R3는 다음과 같이 선택된 것이다 : 1-옥소-2-디아조나프탈렌-4나 5-술포네이트 잔유물의 수 X와 1-옥소-2-디아조나프탈렌-4나 5-술포네이트잔유물을 제외한 유기기나 유기금속기의 수 Y, 여기서 X : Y는 1 : 3 - 20 : 1의 범위이고 X + Y는 1 - 3이고 나머지, 즉 3 - X - Y는 하이드록시기이다.
  54. 제 53항에 있어서, 유기기나 유기금속기 아세테이트, 알킬 에스테르기, 알킬-할리드에스테르기-에스테르기, 아릴-할리드 에스테르기, 알킬 에스테르기, 트리오르가노 실릴 에테르기, 트리플루오르 아세테이트, 피바로에이트, 밴조에이트, 파라-니트로 베조에이트, 4-니트로-3 클로로벤조에이트, 아니세이트, 타우레이트, 메톡시와 트리페닐실릴 에테르기로 구성된 군으로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 PAC 에스테르와 폴리에스테르.
  55. 고체지지체로 피막된 것임을 특징으로 하는 제 3, 4, 5, 7, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 23, 29, 30, 41 및 42항의 조성물로 부터 선택된 조성물.
  56. 제 55항에 있어서, 지지체는 반도체물질, 금속, 평판, 유기나 무기층의 배리어(barrier)나 식각 내식막 형태, 하충필림과 피막, 다른형태의 내식막 필림, 비반사 피막, 플라스틱 필림, 목재, 종이, 세라믹, 유리, 라미네이트, 직물로 구성된 군으로 부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  57. 제 55항에 있어서, 지지체는 실리콘을 기본으로 하거나 갈륨 아르시니드를 기본으로한 웨이피, 알루미늄과 실리콘 디옥사이드로 구성된 군으로 부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  58. 착색제, 염료, 무늬제거제, 가소제, 속도증강제, 콘트라스트 증강제, 용매와 계면활성제로 구성되는 군으로 부터 선택된 하나이상의 첨가제를 함유함을 특징으로 하는 제3, 4, 5, 7, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 23, 29, 30, 41, 42항의 조성물로 선택된 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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