JP5385870B2 - カリックスアレーン・ブレンド分子ガラス・フォトレジスト及び使用のプロセス - Google Patents
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Description
の構造を有する部分が挙げられ、式中mは0又は4であり、nは0又は1であり、R1はCR2R3R4、SiR5R6R7又はGeR5R6R7であり、ここでR2、R3及びR4は独立して、水素、アルキル、アルコキシ、アリール若しくはアリールオキシであり、典型的には、水素、低級アルキル若しくは低級アルコキシであり、又は連結してシクロアルキル若しくはシクロオキシアルキル環、典型的には5員乃至12員環を形成し、R5、R6及びR7は同じ又は異なり、各々、アルキル、典型的には低級アルキル、置換基である。
Claims (20)
- ポジ型フォトレジスト組成物であって、
少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレンと少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンとのブレンドであって、前記完全保護カリックス[4]レゾルシンアレンが酸不安定性保護機で保護されたフェノール基を有する、前記ブレンドと、
光酸発生剤と、
溶媒であって、前記ブレンド及び前記光酸発生剤が該溶媒に可溶である、前記溶媒と
を含む、前記ポジ型フォトレジスト組成物。 - 前記カリックス[4]レゾルシンアレンが構造式(I):
- 前記少なくとも1つの完全保護又は少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンが、C−テトラメチル−カリックス[4]レゾルシンアレン、C−テトラフェニル−カリックス[4]レゾルシンアレン、及びC−イソプロピルフェニル−カリックス[4]レゾルシンアレンから成る群から選択される構造を有する、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレン及び前記少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンの各々が、(ccc)異性体である、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレン及び前記少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンの各々が、(ctt)異性体である、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレン及び前記少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンの各々が、(ccc)及び(ctt)異性体の混合物である、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレンが、前記ブレンドの少なくとも25モル%である、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 顔料、増感剤、保存剤、酸拡散制御剤、付着促進剤、コーティング助剤、可塑剤、表面改質剤、及び/又は溶解抑制剤をさらに含む、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレンが、25モル%〜90モル%である、請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 基板上にレジスト像を生成するためのプロセスであって、
少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレンと少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンとのブレンド、光酸発生剤、及び溶媒を含むレジスト組成物を含む膜で基板を被覆すること、
像の形状に合わせて前記膜を放射線に露光してその中に潜像を形成すること、及び
前記レジスト像を水性塩基現像剤で現像すること
を含む、前記プロセス。 - 前記カリックス[4]レゾルシンアレンが構造式(I):
- 前記カリックス[4]レゾルシンアレンが、C−テトラメチル−カリックス[4]レゾルシンアレン、C−テトラフェニル−カリックス[4]レゾルシンアレン、及びC−イソプロピルフェニル−カリックス[4]レゾルシンアレンから成る群から選択される、請求項11に記載のプロセス。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレン及び前記少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンの各々が、(ctt)異性体である、請求項11に記載のプロセス。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレン及び前記少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンの各々が、(ccc)異性体である、請求項11に記載のプロセス。
- 前記少なくとも1つの完全保護カリックス[4]レゾルシンアレン及び前記少なくとも1つの非保護カリックス[4]レゾルシンアレンの各々が、(ccc)及び(ctt)異性体の混合物である、請求項11に記載のプロセス。
- 像の形状に合わせて前記膜を放射線に露光した後、かつ現像の前に、前記膜が25℃〜150℃の温度に加熱される、請求項11に記載のプロセス。
- 前記放射線が、紫外線、X線、EUV、又は電子ビームである、請求項11に記載のプロセス。
- 顔料、増感剤、保存剤、酸拡散制御剤、付着促進剤、コーティング助剤、可塑剤、表面改質剤、及び/又は溶解抑制剤をさらに含む、請求項11に記載のプロセス。
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