KR860001479A - 반도체 집적 회로장치 - Google Patents

반도체 집적 회로장치 Download PDF

Info

Publication number
KR860001479A
KR860001479A KR1019850004783A KR850004783A KR860001479A KR 860001479 A KR860001479 A KR 860001479A KR 1019850004783 A KR1019850004783 A KR 1019850004783A KR 850004783 A KR850004783 A KR 850004783A KR 860001479 A KR860001479 A KR 860001479A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
misfet
channel
integrated circuit
circuit device
semiconductor
Prior art date
Application number
KR1019850004783A
Other languages
English (en)
Other versions
KR930008982B1 (ko
Inventor
다쯔아기 우에노 (외 1)
Original Assignee
미쓰다 가쓰시게
가부시기 가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 (외 1)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰다 가쓰시게, 가부시기 가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 (외 1) filed Critical 미쓰다 가쓰시게
Publication of KR860001479A publication Critical patent/KR860001479A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR930008982B1 publication Critical patent/KR930008982B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0266Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

반도체 집적 회로장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 보호회로를 도시한 도면.
제2도와 제3도는 제1도의 입력 보호 회로를 이용한 반도체 장치의 평면도와 단면도.
제4도는 본 발명의 보호회로의 다른 실시예를 도시한 도면.

Claims (9)

  1. 다음 사항으로 되는 반도체 집적회로장치, 외부로 부터의 입력신호 전압을 인가하기 위한 입력단자, 상기 입력단자에 접속된 MISFET로 된 회로, 적어도 1개의 상기 MISFET의 게이트 전극은 상기 입력 단자에 접속되어 있다. 그리고, 상기 입력단자와 상기 회로와의 사이에 접속된 보호회로, 상기 보호 회로는 적어도 1개의 MISFET와 1개의 저항으로 된다. 상기 MISFET의 소오스 또는 드레인 영역인 2개의 반도체 영역의 한쪽은, 상기 저항보다도 가까운 위치에서 상기 입력 단자에 접속한다.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적회로 장치에 있어서, 상기 한쪽의 반도체 영역은 약 1500㎛2이상의 면적은 갖는다.
  3. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적회로 장치에 있어서, 상기 한쪽의 반도체 영역을 가진 상기 MISFET는 P찬넬 MISFET이다.
  4. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적회로 장치에 있어서, 상기 한쪽의 반도체 영역을 가진 상기 MISFET는 N찬넬 MISFET이고, 상기 한쪽의 반도체 영역은 약 2000㎛2이상의 면적을 갖는다.
  5. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적회로장치에 있어서, 상기 한쪽의 반도체 영역은 상기 2개의 반도체 영역의 다른쪽의 반도체 영역보다 큰 면적이다.
  6. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적 회로 장치에 있어서, 상기 보호 회로의 상기 MISFET는 N찬넬과 P찬넬 MISFET로 된다. 상기 N찬넬 및 P찬넬 MISFET의 상기 한쪽의 반도체 영역은, 각각 약 2000㎛2이상과 1500㎛2이상의 면적이다.
  7. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적회로장치에 있어서, 상기 보호회로의 상기 MISFET의 게이트 전극과 상기 2개의 반도체 영역의 다른쪽의 반도체 영역에는 고정 전위가 인가된다.
  8. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적 회로 장치에 있어서, 상기 보호 회로의 상기 MISFET는 N찬넬과 P찬넬 MISFET로 되고, 상기 N찬넬 및 P찬넬 MISFET에 인가되는 상기 고정 전위는 각각 접지전위와 전원 전위이다.
  9. 특허청구의 범위 제1항에 따른 반도체 집적회로 장치에 있어서, 상기 N찬넬과 P찬넬 MISFET의 상기 한쪽의 반도체 영역은 각각 약 2000㎛2이상과 1500㎛2이상의 면적이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850004783A 1984-07-25 1985-07-04 반도체집적회로장치 KR930008982B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59-152996 1984-07-25
JP59152996A JPH0691196B2 (ja) 1984-07-25 1984-07-25 半導体装置
JP152996 1984-07-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR860001479A true KR860001479A (ko) 1986-02-26
KR930008982B1 KR930008982B1 (ko) 1993-09-17

Family

ID=15552670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019850004783A KR930008982B1 (ko) 1984-07-25 1985-07-04 반도체집적회로장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4691217A (ko)
JP (1) JPH0691196B2 (ko)
KR (1) KR930008982B1 (ko)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH065749B2 (ja) * 1986-05-22 1994-01-19 日本電気株式会社 半導体装置
JPH0616558B2 (ja) * 1987-01-28 1994-03-02 三菱電機株式会社 半導体装置の入力保護装置
JPS63202056A (ja) * 1987-02-18 1988-08-22 Toshiba Corp 半導体集積回路
JPS63208324A (ja) * 1987-02-24 1988-08-29 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JPH061894B2 (ja) * 1987-10-31 1994-01-05 日本電気株式会社 サンプルホールド回路
JPH0770614B2 (ja) * 1988-06-14 1995-07-31 日本電気株式会社 半導体集積回路装置
JP3199808B2 (ja) * 1991-05-14 2001-08-20 セイコーインスツルメンツ株式会社 半導体集積回路装置
US5257238A (en) * 1991-07-11 1993-10-26 Micron Technology, Inc. Dynamic memory having access transistor turn-off state
KR950007572B1 (ko) * 1992-03-31 1995-07-12 삼성전자주식회사 Esd 보호장치
JP3184298B2 (ja) * 1992-05-28 2001-07-09 沖電気工業株式会社 Cmos出力回路
JPH07321306A (ja) * 1994-03-31 1995-12-08 Seiko Instr Inc 半導体装置およびその製造方法
DE4423591C2 (de) * 1994-07-06 1996-08-29 Itt Ind Gmbh Deutsche Schutzstruktur für integrierte Schaltungen
US5654860A (en) * 1995-08-16 1997-08-05 Micron Technology, Inc. Well resistor for ESD protection of CMOS circuits
US6507074B2 (en) 1995-11-30 2003-01-14 Micron Technology, Inc. Structure for ESD protection in semiconductor chips
WO1997020348A1 (en) * 1995-11-30 1997-06-05 Micron Technology, Inc. Structure for esd protection in semiconductor chips
US5714785A (en) * 1996-01-16 1998-02-03 Vlsi Technology, Inc. Asymmetric drain/source layout for robust electrostatic discharge protection
KR970072681A (ko) * 1996-04-03 1997-11-07 김광호 기판 바이어스가 분리된 회로에서의 정전기 보호회로
JPH08298292A (ja) * 1996-06-14 1996-11-12 Matsushita Electron Corp 半導体集積回路
US6191633B1 (en) * 1997-09-12 2001-02-20 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit with protection circuit against electrostatic discharge
US6090650A (en) * 1997-09-30 2000-07-18 Intel Corporation Method to reduce timing skews in I/O circuits and clock drivers caused by fabrication process tolerances
US7855862B1 (en) * 2006-03-28 2010-12-21 Cypress Semiconductor Corporation Electrostatic discharge (ESD) circuit and method that includes P-channel device in signal path

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3947727A (en) * 1974-12-10 1976-03-30 Rca Corporation Protection circuit for insulated-gate field-effect transistors
JPS60786B2 (ja) * 1975-11-07 1985-01-10 株式会社東芝 絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路
JPS54116887A (en) * 1978-03-02 1979-09-11 Nec Corp Mos type semiconductor device
JPS56146277A (en) * 1980-04-15 1981-11-13 Toshiba Corp Semiconductor device
US4342045A (en) * 1980-04-28 1982-07-27 Advanced Micro Devices, Inc. Input protection device for integrated circuits
JPS577969A (en) * 1980-06-18 1982-01-16 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit
US4609931A (en) * 1981-07-17 1986-09-02 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Input protection MOS semiconductor device with zener breakdown mechanism
JPS58162065A (ja) * 1982-03-20 1983-09-26 Nippon Gakki Seizo Kk ゲ−ト保護回路
JPS58178610A (ja) * 1982-04-12 1983-10-19 Toshiba Corp 半導体集積回路

Also Published As

Publication number Publication date
US4691217A (en) 1987-09-01
KR930008982B1 (ko) 1993-09-17
JPS6132562A (ja) 1986-02-15
JPH0691196B2 (ja) 1994-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR860001479A (ko) 반도체 집적 회로장치
KR910003940A (ko) 반도체집적회로
KR840008097A (ko) 기판 바이어스 전압제어회로 및 방법
KR860002153A (ko) 반도체 장치
KR880011809A (ko) 불휘발성 반도체기억장치
KR920022505A (ko) 보호 소자를 갖고있는 반도체 집적회로
KR950012707A (ko) 반도체 장치
KR900002558A (ko) 출력회로
KR830002453A (ko) 전압 비교기
KR890009000A (ko) 디지탈 집적 회로
KR910005448A (ko) 반도체 집적회로
SE8301708D0 (sv) Temperature-independent gain control circuit
KR880004564A (ko) 반도체 집적회로
KR880014675A (ko) 정전 보호회로
KR870007514A (ko) 반도체 집적회로
KR910016005A (ko) 반도체 집적회로
KR870700181A (ko) 고 신뢰성 상보 논리회로
KR900013655A (ko) 반도체 회로
KR900004040A (ko) 반도체 집적회로 디바이스
KR920010907A (ko) 자유 전하 회로
KR870001672A (ko) 반도체 회로장치
KR850008249A (ko) 반도체 장치
KR890013655A (ko) 집적 메모리 회로
JPS5369589A (en) Insulating gate type field effect transistor with protective device
JPS6450470A (en) Field-effect transistor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20020911

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee