JPS58162065A - ゲ−ト保護回路 - Google Patents
ゲ−ト保護回路Info
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- JPS58162065A JPS58162065A JP57044814A JP4481482A JPS58162065A JP S58162065 A JPS58162065 A JP S58162065A JP 57044814 A JP57044814 A JP 57044814A JP 4481482 A JP4481482 A JP 4481482A JP S58162065 A JPS58162065 A JP S58162065A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract 3
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0266—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート
會保験するためのゲート保@ll!l路に関し、保賎用
トランジスタのゲート破Jlll′に防止して保−機能
を向上させたものである。
會保験するためのゲート保@ll!l路に関し、保賎用
トランジスタのゲート破Jlll′に防止して保−機能
を向上させたものである。
健米、訃電気光篭寺によって絶縁ゲート電界効果トラン
ジスタのゲート絶縁膜が破壊されるのを防止するため、
第1−乃至纂3図に示すような各樵のゲート保Sa路が
提案されている。
ジスタのゲート絶縁膜が破壊されるのを防止するため、
第1−乃至纂3図に示すような各樵のゲート保Sa路が
提案されている。
謝1図の(ロ)路において、保険されるべき絶縁ゲl−
ト電界効米トランジスタTのゲートに祉、入力抵抗R1
1−介して入力端子xyか接続されると共に、保St用
の絶縁ゲート電界効果トランジスタTs 17)ゲート
及びドレインが振絖され、トランジスタT及びT1のソ
ースL基準電位点に接続されている。
ト電界効米トランジスタTのゲートに祉、入力抵抗R1
1−介して入力端子xyか接続されると共に、保St用
の絶縁ゲート電界効果トランジスタTs 17)ゲート
及びドレインが振絖され、トランジスタT及びT1のソ
ースL基準電位点に接続されている。
−4忙、トランジスタT1のゲート絶縁膜Lトランリス
タTのゲート絶縁膜よシ厚く形成されており、トランジ
スタテ11入力端子INへの通常の入力に応じてオンし
ないようになっている。
タTのゲート絶縁膜よシ厚く形成されており、トランジ
スタテ11入力端子INへの通常の入力に応じてオンし
ないようになっている。
人力錫子工MrC4大入力か加わると、トランジスタT
Iかオンし、トランジスタTのゲートに扛入力端子倉入
力抵抗翼及びトランジスタT1のオン抵抗で分圧したも
のに和尚する低い電圧が加わることになる。この良め、
トランジスタTのゲート絶縁膜は破壊を免れる。
Iかオンし、トランジスタTのゲートに扛入力端子倉入
力抵抗翼及びトランジスタT1のオン抵抗で分圧したも
のに和尚する低い電圧が加わることになる。この良め、
トランジスタTのゲート絶縁膜は破壊を免れる。
しかしなから、謝1−の回路では、人力抵抗Rt大きく
するか、トランジスタTIのオン抵抗會小さくするか゛
しないと、十分な保−効果が鞠られない欠点がある。特
に、為速動作が蚤求される集積(ロ)路で社、入力抵抗
Ri大きくできないため、トランジスタτ1のサイズを
大きくする必4i!があって、実用的でないものである
。
するか、トランジスタTIのオン抵抗會小さくするか゛
しないと、十分な保−効果が鞠られない欠点がある。特
に、為速動作が蚤求される集積(ロ)路で社、入力抵抗
Ri大きくできないため、トランジスタτ1のサイズを
大きくする必4i!があって、実用的でないものである
。
第2因の(ロ)路祉、ゲート絶縁膜の薄い禄保龜トラン
ジスタTのゲートにゲート絶縁膜の薄い株−用電界効米
トランジスタτ1のドレインを巌胱すると共に、トラン
ジスタTsのゲート及びソースを基準電位点に接続した
もので、入力端子INから入力抵抗Rf介して過大入力
か加わると、トランジスタT、がドレイン−ソース関突
仇は又はドレイン接合徹譲により入力抵抗Rに比べて十
分に低い抵抗となることによりトランジスタTのゲート
保険が連敗されるようになっている。
ジスタTのゲートにゲート絶縁膜の薄い株−用電界効米
トランジスタτ1のドレインを巌胱すると共に、トラン
ジスタTsのゲート及びソースを基準電位点に接続した
もので、入力端子INから入力抵抗Rf介して過大入力
か加わると、トランジスタT、がドレイン−ソース関突
仇は又はドレイン接合徹譲により入力抵抗Rに比べて十
分に低い抵抗となることによりトランジスタTのゲート
保険が連敗されるようになっている。
この第2図の(ロ)鮎は^速Th極−路勢におい又かな
シの保瞼効米會発揮しうゐものであるが、プロセスa術
の遊歩に伴って微細化が過むにつれてゲート絶縁膜の厚
さが薄くなってくると、トランジスタTs Q)ドレイ
ンにl1111時に為電圧が加わったときにトランジス
タT3のゲート−ドレイン間で絶縁膜が破壊され、保賎
機能が失われる欠点がある。
シの保瞼効米會発揮しうゐものであるが、プロセスa術
の遊歩に伴って微細化が過むにつれてゲート絶縁膜の厚
さが薄くなってくると、トランジスタTs Q)ドレイ
ンにl1111時に為電圧が加わったときにトランジス
タT3のゲート−ドレイン間で絶縁膜が破壊され、保賎
機能が失われる欠点がある。
第3図の1路は、被保論トランジスタTのゲートにゲー
ト絶縁膜の薄い保鰻用電界効来トランジスタテ1のドレ
インを接続すると共に、トランジスタT、のソースを基
準電位点に接続し、トランジスタT1のゲートに祉入力
端子工IJKゲート及びドレインが接続されたゲート絶
縁膜の厚い電界効果トランジスタT4のソースt−接続
したものである。この回路において祉、入力端子l1に
過大人力が加わると、瞬時にトランジスタT4がオンし
、トランジスタTsのゲートにはそのスレッショルド電
圧1vテ鳳、入力電圧1v・IIIとすると、Will
−Vテ墓なる電圧が加わる。このVX厘−V!思なる
電圧がトランジスタ?、のスレッショルド電比よシ十分
^いと、トランジスタT、はオンして低a抗になり、こ
の低抵抗と入力抵抗Rとの分圧作用によりトランジスタ
τのゲート電圧は低く抑えられ、ゲート保険が連成され
る。
ト絶縁膜の薄い保鰻用電界効来トランジスタテ1のドレ
インを接続すると共に、トランジスタT、のソースを基
準電位点に接続し、トランジスタT1のゲートに祉入力
端子工IJKゲート及びドレインが接続されたゲート絶
縁膜の厚い電界効果トランジスタT4のソースt−接続
したものである。この回路において祉、入力端子l1に
過大人力が加わると、瞬時にトランジスタT4がオンし
、トランジスタTsのゲートにはそのスレッショルド電
圧1vテ鳳、入力電圧1v・IIIとすると、Will
−Vテ墓なる電圧が加わる。このVX厘−V!思なる
電圧がトランジスタ?、のスレッショルド電比よシ十分
^いと、トランジスタT、はオンして低a抗になり、こ
の低抵抗と入力抵抗Rとの分圧作用によりトランジスタ
τのゲート電圧は低く抑えられ、ゲート保険が連成され
る。
しかしながら、第31の1gl路においても、入力電圧
が非常に^くなると、Vxm −Vtmなる電圧が上昇
してトランジスタT、のゲート絶縁膜Jlilを発生さ
せ、この結果として第3図の回路は尋価的に第2図のよ
うになる。このため、第2図について前述したと同様に
してトランジスタT、のゲート−ドレイン間で絶縁膜が
amされ、保iI!機能が失われることがある。
が非常に^くなると、Vxm −Vtmなる電圧が上昇
してトランジスタT、のゲート絶縁膜Jlilを発生さ
せ、この結果として第3図の回路は尋価的に第2図のよ
うになる。このため、第2図について前述したと同様に
してトランジスタT、のゲート−ドレイン間で絶縁膜が
amされ、保iI!機能が失われることがある。
この発明の1的は、保護用トランジスタのゲート破壊を
防止して保@IIA能【向上させたilT緘なゲート保
験tgl#11t−提供することにある。
防止して保@IIA能【向上させたilT緘なゲート保
験tgl#11t−提供することにある。
この発明によるゲート保麺1略は、保護用トランジスタ
のゲートにそのゲート破壊電圧より低い耐圧を有する半
番体素子を縁続したこと1丁%黴とするもので、以下、
厳封図面に示す東IIm例について詳述する。
のゲートにそのゲート破壊電圧より低い耐圧を有する半
番体素子を縁続したこと1丁%黴とするもので、以下、
厳封図面に示す東IIm例について詳述する。
第4図は、この発明の−91,1例によるゲート保m囲
路を示すもので、IN、R,’rは銀1図〜謝3図と一
様にそれぞれ入力端子、入力抵抗、被保諌トランジスタ
を不す。
路を示すもので、IN、R,’rは銀1図〜謝3図と一
様にそれぞれ入力端子、入力抵抗、被保諌トランジスタ
を不す。
トランジスタTのゲート及び基準電位点にはゲート絶縁
線の薄い保−用電界効未トランジスタT。
線の薄い保−用電界効未トランジスタT。
のドレイン及びソースがそれぞれ接続され、トランジス
タT、のゲートには入力端子INにゲート及びドレイン
か接続されたゲート絶縁層の厚い電界効果トランジスタ
T−のソースが接続されている。また、トランジスタT
、のゲートには、ゲート及びソースが基準電位点に級絖
されたゲート絶縁層の薄い電界効果トランジスタT1の
ドレインが接続されると系に、ゲート及びソースが基準
電位点に懐絖姑れたケート絶縁膜の雌い電界効果トラン
ジスタTm(1)ドレインが級絖されている。トランジ
スタτy#′i)ランリスタTI【保−するためのもの
でめって、7丁のドレイン−ソース間実機は電圧又扛ド
レイン級合破壊電圧はテ5のゲート4fL壊電圧よシ低
くなっている。なお、トランジスタテ1Ts−1丁#′
iいずれもエンハンスメント型のものであり、トランジ
スタTauデプリーション製のものである。
タT、のゲートには入力端子INにゲート及びドレイン
か接続されたゲート絶縁層の厚い電界効果トランジスタ
T−のソースが接続されている。また、トランジスタT
、のゲートには、ゲート及びソースが基準電位点に級絖
されたゲート絶縁層の薄い電界効果トランジスタT1の
ドレインが接続されると系に、ゲート及びソースが基準
電位点に懐絖姑れたケート絶縁膜の雌い電界効果トラン
ジスタTm(1)ドレインが級絖されている。トランジ
スタτy#′i)ランリスタTI【保−するためのもの
でめって、7丁のドレイン−ソース間実機は電圧又扛ド
レイン級合破壊電圧はテ5のゲート4fL壊電圧よシ低
くなっている。なお、トランジスタテ1Ts−1丁#′
iいずれもエンハンスメント型のものであり、トランジ
スタTauデプリーション製のものである。
いま、入力端子工NK過大入力が加わるものとすると、
第3凶の場合と同様にトランジスタT。
第3凶の場合と同様にトランジスタT。
が瞬時にオンし、トランジスタTsU入力亀圧からトラ
ンジスタT・のスレッショルド電圧を差引いた電圧に応
じてオンする。このため、トランジスタTのゲートには
入力電圧を入力抵抗RとトランジスタT、のオン抵抗と
て分圧した低い電圧が加わることになり、トランジスタ
Tのゲート株−が達成される。
ンジスタT・のスレッショルド電圧を差引いた電圧に応
じてオンする。このため、トランジスタTのゲートには
入力電圧を入力抵抗RとトランジスタT、のオン抵抗と
て分圧した低い電圧が加わることになり、トランジスタ
Tのゲート株−が達成される。
ここで、入力電圧が非常に^いものとすると、第3図に
ついて前述したように、トランジスタT。
ついて前述したように、トランジスタT。
のゲート電圧が上昇してT1のゲート絶縁破壊が生ずる
おそれがある。しかしながら、この発明によれは、トラ
ンジスタ?、のゲートにそのゲート破線電圧よシ低い耐
圧t−有するトランジスタT7を接続しであるので、T
易のゲート絶縁破壊か本然に防止される。この場合、ト
ランジスタT1#′i。
おそれがある。しかしながら、この発明によれは、トラ
ンジスタ?、のゲートにそのゲート破線電圧よシ低い耐
圧t−有するトランジスタT7を接続しであるので、T
易のゲート絶縁破壊か本然に防止される。この場合、ト
ランジスタT1#′i。
オン抵抗が小さくなるように形成する必資がないので、
サイズ【小さくすることができ、好都合である。なお、
トランジスタTwo代りに、ダイオード等の他の牛番体
本子を用いることもでIk4゜トランジスタTaは通常
入力に応じてトランジスタT、がオ/し碌、いようにす
るたりに高抵抗の抵抗集子として挿入されたもので#)
9、他の方法によって形成され九抵抗素子であってもよ
い。
サイズ【小さくすることができ、好都合である。なお、
トランジスタTwo代りに、ダイオード等の他の牛番体
本子を用いることもでIk4゜トランジスタTaは通常
入力に応じてトランジスタT、がオ/し碌、いようにす
るたりに高抵抗の抵抗集子として挿入されたもので#)
9、他の方法によって形成され九抵抗素子であってもよ
い。
なお、トランジスタ!−のゲート電極はメタルでも他の
亀他材1p#(多結晶シリコン勢)でもよい。
亀他材1p#(多結晶シリコン勢)でもよい。
しかし、多結晶シリコンを用いる場合には、オフセット
ゲート構造にするのが好ましい。すなわち、多結晶シリ
コン會ゲート電極とするシリコンゲートプロセスで社、
ソース・ドレイン拡散が薄いゲート絶縁膜上に配置した
多結晶シリコン層會介して実行されるので、ソース領域
及びドレイン領域のゲート近傍部分か博いゲート絶縁線
を介してゲー)ill極と対向することにな夛、ゲート
絶縁層の破壊が生じやすくなるか、オフセットゲート構
造七妹用すれは、このようなゲート絶縁線の破壊を防止
できる。
ゲート構造にするのが好ましい。すなわち、多結晶シリ
コン會ゲート電極とするシリコンゲートプロセスで社、
ソース・ドレイン拡散が薄いゲート絶縁膜上に配置した
多結晶シリコン層會介して実行されるので、ソース領域
及びドレイン領域のゲート近傍部分か博いゲート絶縁線
を介してゲー)ill極と対向することにな夛、ゲート
絶縁層の破壊が生じやすくなるか、オフセットゲート構
造七妹用すれは、このようなゲート絶縁線の破壊を防止
できる。
以上のように、この発明によれば、保繰用トランジスタ
のゲート破壊が未然に防止されるので、^い入力電圧に
ついても十分な保111k能が得られる効果がある。
のゲート破壊が未然に防止されるので、^い入力電圧に
ついても十分な保111k能が得られる効果がある。
第1図、fs2図及び第3図は、それぞれ従来のゲート
保s1(ロ)路を示す卸路図、 第4図は、この発鴫の一実施例によるゲート保錬回路會
示す回路−である。 IN−・・入力端子、R・・・入力抵抗、T 、 ’r
、、’r。 ・・・絶縁ゲート電界効果トランジスタ。 出願人 日本東器製造株式会社 代理人 弁理士 伊 沢 敏 紹 t 1 図 第2図
保s1(ロ)路を示す卸路図、 第4図は、この発鴫の一実施例によるゲート保錬回路會
示す回路−である。 IN−・・入力端子、R・・・入力抵抗、T 、 ’r
、、’r。 ・・・絶縁ゲート電界効果トランジスタ。 出願人 日本東器製造株式会社 代理人 弁理士 伊 沢 敏 紹 t 1 図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l、絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲー)1保−す
るためのゲート保−回路でめって、卜)入力端子と、 …) 前記トランジスタのゲートとm配入力痛子との間
に!&続された入力抵抗と、 (cl m記トランリスタのゲートと基準電位点との
間に接続された第1の絶縁ゲート亀昇効来ト2ンジスタ
と、 (d) ゲート及びドレインが#i記大入力端子接続
されると共にソースが鹸紀絽1の絶縁ゲート電界効果ト
ランジスタのゲートに接続され、#記入力端子への過大
入力に応じて前記載1の絶縁ゲート電界効果トランジス
タt−4遍させる第2の絶縁ゲート電界効果トランジス
タと、 (6111flk第1の絶縁ゲート電界効果トランジス
タのゲートと前記基準電位点との間に接続され、―記載
1の絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート鹸壊電圧
より低い耐圧を有する半導体素子と、 (fl IJ船第1の絶縁ゲート電界効果トランジス
タのゲートと前記基準電位点との間に接続式れ、前記入
力端子への通常入力に応じて創配第1の絶縁ゲート電界
効果トランジスタがオンしないようにする抵抗重子と をそなえたゲート株sli路・ λ %11!F請求の範囲第1積に記載のゲート保験回
鮎であって、 #II配半導体為子が藺配第1の杷−ゲート電界効果ト
ランジスタのゲー)#壊亀圧より低い突接は電圧又は接
合破壊電圧を有する第3の絶縁ケート電界効果トランジ
スタからなり、こ、の第3の絶縁ゲート電界5aJ来ト
ランジスタのゲート及びソースか#11icIk卑亀位
点に且ウドレインか絢に:J謝1の絶縁ゲート電界効果
トランジスタのゲートにそれぞれ接続されているゲート
保−1路。 3 %許請求の範li!Ill第1項又は第2項に記載
のゲート保―回路であって、 1配抵抗素子がデプリーション型の第4の絶縁ゲート′
wL界効来トランジスタからなり、この第4の絶縁ゲー
ト電界効果トランジスタのゲート及びソースが―」記基
準電位点に且つドレインが薊配第1の絶縁ゲート電昇効
果トランジスタのゲートにそれぞれ接続され1いるゲー
ト珠諌回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57044814A JPS58162065A (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | ゲ−ト保護回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57044814A JPS58162065A (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | ゲ−ト保護回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58162065A true JPS58162065A (ja) | 1983-09-26 |
JPH0379874B2 JPH0379874B2 (ja) | 1991-12-20 |
Family
ID=12701893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57044814A Granted JPS58162065A (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | ゲ−ト保護回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58162065A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4691217A (en) * | 1984-07-25 | 1987-09-01 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device |
JPS63157472A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Matsushita Electronics Corp | 入力端子保護回路 |
JPH01119994A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-05-12 | Nec Corp | サンプルホールド回路 |
US6078083A (en) * | 1994-05-16 | 2000-06-20 | Texas Instruments Incorporated | ESD protection circuit for dual 3V/5V supply devices using single thickness gate oxides |
JP2004129101A (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体集積回路装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4571703B1 (ja) * | 2009-09-02 | 2010-10-27 | 久雄 泉 | 家庭用ろ過湯貯湯槽装置 |
-
1982
- 1982-03-20 JP JP57044814A patent/JPS58162065A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4691217A (en) * | 1984-07-25 | 1987-09-01 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device |
JPS63157472A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Matsushita Electronics Corp | 入力端子保護回路 |
JPH01119994A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-05-12 | Nec Corp | サンプルホールド回路 |
US6078083A (en) * | 1994-05-16 | 2000-06-20 | Texas Instruments Incorporated | ESD protection circuit for dual 3V/5V supply devices using single thickness gate oxides |
JP2004129101A (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体集積回路装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0379874B2 (ja) | 1991-12-20 |
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