JPS60786B2 - 絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路 - Google Patents

絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路

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JPS60786B2
JPS60786B2 JP50133696A JP13369675A JPS60786B2 JP S60786 B2 JPS60786 B2 JP S60786B2 JP 50133696 A JP50133696 A JP 50133696A JP 13369675 A JP13369675 A JP 13369675A JP S60786 B2 JPS60786 B2 JP S60786B2
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JP
Japan
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gate
field effect
voltage
effect transistor
protection
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JP50133696A
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JPS5257785A (en
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満郎 磯部
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0266Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements

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  • Protection Of Static Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は絶縁ゲート型電界効果トランジスタ集積回路
に係り、特にその入力保護回路の改良に関する。
絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(以下MOSトラン
ジスタと略称する)を用いた集積回路(以下ICと略称
する)では、信号入力機のMOSトランジスタのゲート
を静電破壊から保護するための入力保護回路が必要であ
る。
通常は、第1図に示すような入力保護回路が一枚の半導
体基板内にICを構成する他の素子と共に設けられる。
即ち、Q,がICの入力段のドライバ用MOSトランジ
スタ、Q2がその負荷用MOSトランジスタであり「ド
ライバ用MOSトランジスタQ,のゲートと信号入力機
INの間に抵抗Rを接続し、かつドライバ用MOSトラ
ンジスタQ,のゲートと基準電位間に、ゲートとソース
を接続した保護用MOSトランジスタQを介在させて入
力保護回路を構成している。このような入力保護回路で
は、抵抗Rと保護用MOSトランジスタQが持つキヤパ
シタンスで定まる時定数により、速い静電的パルスに対
して有効な保護機能を果たす。
また、静電入力パルスの大きさに関しては、保護用MO
SトランジスタQ3のドレィン接合の破壊電圧より高い
静電入力パルスに対して有効になる。即ち、パルス的に
入力する高電圧に対してICの入力ゲートを保護するの
は、従来はMOSトランジスタQのドレィン側のPn接
合の耐圧であった。ところが、MOS一にの高密度化、
高集積化が進むに従って、ICを構成するMOSトラン
ジスタ自体が小型化され、このゲート酸化膜も次第に薄
いものになりつつある。
そして、例えばゲート酸化膜が500A程度以下に薄く
なると、そのゲ−ト耐圧は通常のドレィン耐圧である約
30Vよりも低いものとなってしまう。このような状態
では、もはや第1図の保護用MOSトランジスタQ3は
入力段のドライバ用MOSトランジスタQ,のゲート保
護の機能を果たせなくなる。この発明は上記事情に鑑み
てなされたもので、入力段MOSトランジスタのゲート
を静電破壊から確実に保護する保護回路を備えたMOS
−ICを提供しようとするものである。
この発明の一実施例の要部を等価回路で示すと第2図の
ようになる。
Q,.は入力段のドライバ用MOSトランジスタ、Q,
2はその負荷用MOSトランジスタであり、Q,3が保
護用MOSトランジスタである。即ち、保護用MOSト
ランジスタQ,3は関値電位がOV2であって、ソース
をドライバ用MOSトランジスタQ,.のゲートに、ド
レインを信号入力端INにそれぞれ接続し、ゲートには
所定のバイアス電圧VGとして電源電圧VDDを印加し
てこの保護用MOSトランジスタQ,3をオン状態に保
つようにしている。このように構成すれば、保護用MO
SトランジスタQ,3は通常はオンしているから信号入
力端INに入った信号はドライバ用MOSトランジスタ
Q,.のゲートに入る。
一方、この保護用MOSトランジスタQ,3のバック・
ゲートバイアス効果を考慮したときの関値電圧をVTと
すると、そのソース電圧、即ちドライバ用MOSトラン
ジスタQ,.のゲート電圧はVG−VT=VDD−VT
に制限され「これより大きくなることはない。例えば、
信号入力端に大きな静電的パルス電圧VIが入ったとす
ると、保護用MOSトランジスタQ,3を通ってドライ
バ用MOSトランジスタQ,.のゲート基準電位との間
に存在する浮遊容量に充電が行われるが、その充電電圧
がVG−VTになると保護用MOSトランジスタQ,3
はカットオフとなり、従って、ドライバ用MOSトラン
ジスタQ,.のゲートにはVG−VT以上の電圧は印加
されず、そのゲートは確実に保護されることになる。よ
り具体的な数値例を挙げて説明する。
比抵抗200−抑のP型シリコンウェハを用い、MOS
トランジスタQ,.,Q,2,Q,3を全てnチャネル
多結晶シリコンゲート構造とし、またそれらのゲート酸
化膜厚を500AとしたICを作った。ドライバ用MO
SトランジスタQ,.についてはボロンをイオン注入法
により打込んで(打込み電圧60KV、打込み量1.8
×1011肌‐2)、閥値電圧0.8Vとした。保護用
MOSトランジスタQ,3はウェハ濃度そのままで、閥
値電圧はOVである。この場合、第2図の構成で、保護
用MOSトランジスタQ,3のバック・ゲートバイアス
効果を考慮した閥値電圧はVTごIVとなる。そして、
VDD=VG=5Vとし、信号入力端IN‘こVI=3
0Vのパルス電圧を入力した。
ドライバ用MOSトランジスタQ,.のゲート電圧は約
4V(=VG−VT)に制限され、そのゲートが破壊さ
れることはなかった。ゲート酸化膜が500△程度のM
OSトランジスタのゲート耐圧は通常30V以下である
から、保護用MOSトランジスタQ.3のゲート破壊が
危曝されたが、VG=5Vを印加しているため、保護用
MOSトランジスタQ,3のゲート・ドレィン間の電圧
は入力V・=30Vに対してVI−VG=25Vとなり
、ゲート破壊に至ることはなかった。また保護用MOS
トランジスタQ,3は、閥値電圧がバックバイアスを無
視すればOVであり、ゲートにVG=VDD=5Vが印
加されているため、信号入力端INに入る高レベル(=
VDD)の信号レベルが殆んど減衰することなく、入力
段ドライバMOSトランジスタQ,.のゲートに伝達さ
れる。なお、この発明は上記実施例に限られるものでは
なく、例えば第3図或いは第4図のような構成としても
よい。
第3図,第4図において第2図と相対応する部分には第
2図と同一符号を付してある。第3図では、保護用MO
SトランジスタQ,2の他に、ドライバ用MOSトラン
ジスタQ,.のゲートと基準電位との間にダイオードD
を入れて二重の保護機能を持たせている。また、第4図
では保護用MOSトランジスタQ,3のドレインと信号
入力端INの間に、更に第1図で説明したと同機な抵抗
R,とソース・ゲートを接続したMOSトランジスタQ
,4からなる保護回路を設けて、やはり二重の保護機能
を持たせている。以上述べたように、この発明によれば
、ゲート耐圧が低くても入力段MOSトランジスタのゲ
−トを静電破壊から確実に保護するような機能を備えた
MOS−ICを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の保護回路を備えたMOS−ICの入力端
部を示す等価回路図、第2図はこの発明に係るMOS−
ICの一実施例の要部を示す等価回路図、第3図および
第4図はこの発明に係るMOS−ICの他の実施例の要
部を示す等価回路図である。 Qu…ドライバ用MOSトランジスタ「 Q,2…負荷
用MOSトランジスタ、Q,3…保護用MOSトランジ
スタ、IN・・・信号入力端、VG…ゲートバイアス電
圧。 グノ幻 メチ幻 グJ解 〆つめ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 入力段のドライバ用絶縁ゲート型電界効果トランジ
    スタのゲートと信号入力耐の間に、ゲートに直接電源電
    圧を印加してオン状態にした閾値電圧が0Vの保護用絶
    縁ゲート型電界効果トランジスタを介在させたことを特
    徴とする絶縁ゲート型電界効果トランジスタ集積回路。
JP50133696A 1975-11-07 1975-11-07 絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路 Expired JPS60786B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50133696A JPS60786B2 (ja) 1975-11-07 1975-11-07 絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路

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JP50133696A JPS60786B2 (ja) 1975-11-07 1975-11-07 絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路

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JPS5257785A JPS5257785A (en) 1977-05-12
JPS60786B2 true JPS60786B2 (ja) 1985-01-10

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ID=15110730

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JP50133696A Expired JPS60786B2 (ja) 1975-11-07 1975-11-07 絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ集積回路

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0691196B2 (ja) * 1984-07-25 1994-11-14 株式会社日立製作所 半導体装置
JPS63164258A (ja) * 1986-12-25 1988-07-07 Fujitsu Ltd 高耐圧入出力回路
CA1314946C (en) * 1989-02-01 1993-03-23 Colin Harris Protection of analog reference and bias voltage inputs
US6812766B2 (en) 2001-05-22 2004-11-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Input/output circuit of semiconductor integrated circuit

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