KR20210104706A - 광학 재료용 경화성 조성물 및 광학 재료 - Google Patents

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다이치 하나사키
준지 다케나카
준지 모모다
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Abstract

본 발명은, (A) 라디칼 중합성 단량체 100질량부, (B) 극대 흡수 파장이 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 테트라아자포르피린 화합물 0.005 내지 0.5질량부, (C) 극대 흡수 파장이 330㎚ 이상 350㎚ 이하의 범위에 있는 자외선 흡수제 0.1 내지 10질량부를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 경화성 조성물이다. 본 발명에 따르면, 양호한 방현성과, 우수한 내후성을 갖는 광학 재료를 용이하게 제공할 수 있는 코팅 재료로서 적합하게 사용할 수 있는 광학 재료용 경화성 조성물을 제공할 수 있다.

Description

광학 재료용 경화성 조성물 및 광학 재료
본 발명은, 테트라아자포르피린을 포함하여 이루어지는 광학 재료용 경화성 조성물 및 해당 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화체에 관한 것이다. 더 상세하게는, 안경 렌즈 등의 광학 기재의 표면에 해당 조성물을 코팅하여 경화함으로써, 방현 성능을 갖는 광학 재료를 간단하게 제공할 수 있는 재료로서 적합하게 사용할 수 있는 광학 재료용 경화성 조성물에 관한 것이다.
근년, 안경 렌즈와 같은 광학 기재에 대하여, 물체의 윤곽이나 색채를 명료하게 하여, 가시광에 대한 눈부심이나 시각 피로 등을 경감하기 위해 안경 렌즈에 방현성 기능을 부여하는 것이 요망되고 있다. 그것을 위한 수단으로서, 눈부심을 부여하기 쉬운 파장을 가능한 한 선택적으로 차광하는 것을 들 수 있다. 예를 들어, 네오디뮴 화합물은, 585㎚ 부근의 가시광을 고선택적으로 흡수할 수 있고, 네오디뮴 화합물을 포함하는 안경 렌즈는, 시인되는 물체의 콘트라스트를 향상시키는 것이 알려져 있다. 또한, 테트라아자포르피린 화합물은, 네오디뮴 화합물과 마찬가지로, 우수한 방현 성능과 콘트라스트성의 개선을 안경 렌즈에 부여할 수 있다. 즉, 특정 흡수 파장에 있어서의 피크의 샤프함에 유래하여 585㎚ 부근 이외에서의 광투과성이 양호해 명시야를 확보할 수 있기 때문에, 방현성과 시인성(콘트라스트성)의 밸런스가 극히 양호한 안경 렌즈를 제공할 수 있다.
특허문헌 1에는 테트라아자포르피린 화합물을 모노머 조성물 중에 미리 용해시켜 두고, 그 후, 중합하여 렌즈를 얻는 방법이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는, 테트라아자포르피린 화합물을 프리폴리머에 혼합하고, 그 후, 가열 경화하여 렌즈를 얻는 방법이 기재되어 있다.
그러나, 플라스틱 렌즈와 같은 광학 기재 위에, 테트라아자포르피린 화합물을 함유하는 경화체를 적층하여, 방현 성능을 부여하려고 시도한 경우, 안경 렌즈로서 사용하기에는 내후성이 불충분한 것이 명확해졌다.
일본 특허 공개 제2008-134618호 공보 일본 특허 공개 제2011-237730호 공보
본 발명의 목적은, 양호한 방현성과 우수한 내후성을 갖는 광학 재료를, 용이하게 제공할 수 있는 코팅 재료로서 적합하게 사용할 수 있는 광학 재료용 경화성 조성물을 제공하는 데 있다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해, 예의 검토를 거듭했다. 그 결과, 테트라아자포르피린 화합물에 대하여, 극대 흡수 파장이 330 내지 350㎚인 자외선 흡수제를 특정한 비율로 첨가함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하는 데 이르렀다.
즉, 본 발명은,
[1] (A) 라디칼 중합성 단량체: 100질량부, (B) 극대 흡수 파장이 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 테트라아자포르피린 화합물: 0.005 내지 0.5질량부, (C) 극대 흡수 파장이 330㎚ 이상 350㎚ 이하의 범위에 있는 자외선 흡수제: 0.1 내지 10질량부를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 경화성 조성물이다.
본 발명은, 이하의 양태를 취할 수 있다.
[2] 상기 (B) 테트라아자포르피린 화합물이 하기 식(1)로 표현되는 테트라아자포르피린 화합물인, 상기 [1]에 기재된 광학 재료용 경화성 조성물.
Figure pct00001
(식(1) 중, X1 내지 X8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 혹은 환형의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 혹은 환형의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통해 방향족환을 제외한 환을 형성해도 된다. M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1치환 금속 원자, 3가의 치환 금속 원자, 4가의 치환 금속 원자, 또는 산화 금속 원자를 나타낸다.)
[3] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 재료용 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화체.
[4] 광학 기재와 상기 [3]에 기재된 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료.
[5] 상기 경화체의 두께가 5 내지 70㎛인 상기 [4]에 기재된 광학 재료.
[6] 파장 600㎚ 내지 700㎚의 평균 투과율과, 파장 580㎚ 내지 600㎚의 평균 투과율의 차가 10％ 이상인 상기 [5]에 기재된 광학 재료.
또한, 본 발명에 있어서, 각 화합물의 극대 흡수 파장 등의 측정은, 해당 측정에 영향을 끼치지 않는 용매 중에서 측정했다. 해당 용매로서는, 예를 들어 클로로포름을 들 수 있다.
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물을 사용함으로써, 안경 렌즈 등의 광학 기재에 있어서, 효과적으로 방현 성능을 부여할 수 있고, 또한 내후성도 양호하기 때문에, 그 이용 가치는 높다.
또한, 본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물은, 광학 재료용 경화성 조성물로부터 얻어지는 경화체와 플라스틱 렌즈 기재 등의 광학 기재가 적층된 광학 재료 용도에 적합하게 사용되지만, 얻어지는 경화체 단체에서도 상기한 우수한 효과를 발휘한다.
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물은,
(A) 라디칼 중합성 단량체: 100질량부
(B) 극대 흡수 파장이 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 테트라아자포르피린 화합물: 0.005 내지 0.5질량부,
(C) 극대 흡수 파장이 330㎚ 이상 350㎚ 이하의 범위에 있는 자외선 흡수제: 0.1 내지 10질량부
를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 경화성 조성물이다.
이하, 각 성분에 대하여 설명한다.
<(A) 라디칼 중합성 단량체>
라디칼 중합성 단량체((A) 성분)로서는, 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 라디칼 중합성의 화합물을 특별히 제한없이 사용할 수 있고, 그 중에서도 (메트)아크릴레이트기를 갖는 중합성 화합물을 적합하게 사용할 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴레이트기를 분자 내에 2개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, (메트)아크릴레이트기를 분자 내에 2개 갖는 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 「(A1) 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물」, 또는 「(A1) 성분」이라고 하는 경우도 있음), 해당 (메트)아크릴레이트기를 분자 내에 3개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 「(A2) 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물」, 또는 「(A2) 성분」이라고 하는 경우도 있음)을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, (메트)아크릴레이트기를 1개 갖는 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 「(A3) 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물」, 또는 「(A3) 성분」이라고 하는 경우도 있음)이나 (메트)아크릴레이트기를 갖지 않는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 라디칼 중합성 단량체(이하, 단순히 「(A4) 비닐 화합물」 또는 「(A4) 성분」이라고 하는 경우도 있음)를 포함할 수도 있다. 이들 (A) 라디칼 중합성 단량체에 대하여 설명한다.
<(A1) 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
본 발명에 있어서의 (A1) 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물은, 하기 식(2), (3) 및 (4)에 나타내는 화합물을 적합하게 사용할 수 있다.(이하, 하기 식(2)로 나타나는 화합물을, 단순히 (A1-1) 성분이라고 하는 경우도 있고, 하기 식(3)으로 나타나는 화합물을, 단순히 (A1-2) 성분이라고 하는 경우도 있고, 하기 식(4)로 나타나는 화합물을, 단순히 (A1-3) 성분이라고 하는 경우도 있다.). 기타, 우레탄 결합을 갖는 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 (A1-4) 성분이라고 하는 경우도 있음), 상기 (A1-1) 성분, 상기 (A1-2) 성분, 상기 (A1-3) 성분 및 상기 (A1-4) 성분에 해당하지 않는 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 (A1-5) 성분이라고 하는 경우도 있음)도 사용할 수 있다.
이하, 상세하게 설명한다.
<(A1-1) 하기 식(2)로 나타나는 화합물>
Figure pct00002
식 중, R1 및 R2는, 각각, 수소 원자, 또는 메틸기이고, a 및 b는 각각 독립적으로 0 이상의 정수이고, 또한 a＋b는 평균값으로 2 이상 50 이하이다.
또한, 상기 식(2)로 나타나는 화합물은, 통상, 분자량이 다른 분자의 혼합물의 형태로 얻어진다. 그 때문에, a 및 b는 평균값으로 나타냈다.
상기 식(2)로 나타나는 화합물을 구체적으로 예시하면, 이하와 같다.
디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 펜타에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 펜타프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 펜타에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 테트라프로필렌글리콜디아크릴레이트, 펜타프로필렌글리콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜과 폴리에틸렌글리콜의 혼합물을 포함하는 디메타크릴레이트(폴리에틸렌이 2개, 폴리프로필렌이 2개인 반복 단위를 가짐), 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트(특히 a＝4, b＝0, 평균 분자량 330), 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트(특히 평균 분자량 a＝9, b＝0, 536), 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트(특히 a＝14, b＝0, 평균 분자량 736), 트리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트(특히 a＝0, b＝7, 평균 분자량 536), 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(특히 a＝3, b＝0, 평균 분자량 258), 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(특히 a＝4, b＝0, 평균 분자량 308), 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(특히 a＝9, b＝0, 평균 분자량 508), 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(특히 a＝14, b＝0, 평균 분자량 708), 폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트아크릴레이트(특히 a＝9, b＝0, 평균 분자량 522).
<(A1-2) 하기 식(3)으로 나타나는 화합물>
Figure pct00003
식 중, R3 및 R4는, 각각, 수소 원자 또는 메틸기이고,
R5 및 R6은, 각각, 수소 원자 또는 메틸기이고,
R7은 수소 원자 또는 할로겐 원자이고,
A는, -O-, -S-, -(SO2)-, -CO-, -CH2-,
-CH＝CH-, -C(CH3)2-, -C(CH3)(C6H5)-
의 어느 것이고,
c 및 d는 각각 1 이상의 정수이고, c＋d는 평균값으로 2 이상 30 이하이다.
또한, 상기 식(6)으로 나타나는 화합물은, 통상, 분자량이 다른 분자의 혼합물의 형태로 얻어진다. 그 때문에, c 및 d는 평균값으로 나타냈다.
상기 식(3)으로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 예를 들어 이하의 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시에톡시)페닐]프로판(c＋d＝2, 평균 분자량 452), 2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시디에톡시)페닐]프로판(c＋d＝4, 평균 분자량 540), 2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝7, 평균 분자량 672), 2,2-비스[3,5-디브로모-4-(메타크릴로일옥시에톡시)페닐]프로판(c＋d＝2, 평균 분자량 768), 2,2-비스(4-(메타크릴로일옥시디프로폭시)페닐)프로판(c＋d＝4, 평균 분자량 596), 2,2-비스[4-(아크릴로일옥시디에톡시)페닐]프로판(c＋d＝4, 평균 분자량 512), 2,2-비스[4-(아크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝3, 평균 분자량 466), 2,2-비스[4-(아크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝7, 평균 분자량 642), 2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝10, 평균 분자량 804), 2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝17, 평균 분자량 1116), 2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝30, 평균 분자량 1684), 2,2-비스[4-(아크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝10, 평균 분자량 776), 2,2-비스[4-(아크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(c＋d＝20, 평균 분자량 1216).
<(A1-3) 하기 식(4)로 나타나는 화합물>
Figure pct00004
식 중, R8 및 R9는, 각각, 수소 원자 또는 메틸기이고,
e는 평균값으로 1 내지 20의 수이고,
B 및 B'은, 서로 동일해도 되고 달라도 되고,
각각 탄소수 2 내지 15의 직쇄상 또는 분지상의 알킬렌기이고,
B가 복수 존재하는 경우에는, 복수의 B는 동일한 기여도 되고, 다른 기여도 된다.
상기 식(4)로 나타나는 화합물은, 폴리카르보네이트디올과 (메트)아크릴산을 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 원료가 되는 폴리카르보네이트디올로서는, 이하의 것을 예시할 수 있다. 구체적으로는, 트리메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 테트라메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 펜타메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 헥사메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 옥타메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 노나메틸렌글리콜과의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 트리에틸렌글리콜과 테트라메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 테트라메틸렌글리콜과 헥사메틸렌디글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 펜타메틸렌글리콜과 헥사메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 테트라메틸렌글리콜과 옥타메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 헥사메틸렌글리콜과 옥타메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000), 1-메틸트리메틸렌글리콜과의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500 내지 2000)을 들 수 있다.
<(A1-4) 우레탄 결합을 갖는 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
(A1-4) 성분은, 폴리올과 폴리이소시아네이트와 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 반응물이 대표적이다. 여기서, 폴리이소시아네이트로서는, 예를 들어 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 리신이소시아네이트, 2,2,4-헥사메틸렌디이소시아네이트, 이량체산디이소시아네이트, 이소프로필리덴비스-4-시클로헥실이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 노르보르넨디이소시아네이트 또는 메틸시클로헥산디이소시아네이트를 들 수 있다.
한편, 폴리올로서는, 탄소수 2 내지 4의 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드, 헥사메틸렌옥시드의 반복 단위를 갖는 폴리알킬렌글리콜, 혹은 폴리카프로락톤디올 등의 폴리에스테르디올을 들 수 있다. 또한, 폴리카르보네이트디올, 폴리부타디엔디올, 또는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 1,8-노난디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,4-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 예시할 수 있다.
수산기 함유 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 이들 폴리이소시아네이트 및 폴리올의 반응에 의해 우레탄 프리폴리머로 한 것을, 2-히드록시(메트)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메트)아크릴레이트로 다시 반응시킨 반응 혼합물이나, 상기 디이소시아네이트를 2-히드록시(메트)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메트)아크릴레이트와 직접 반응시킨 반응 혼합물인 우레탄(메트)아크릴레이트 등도 사용할 수 있다.
우레탄 결합을 갖는 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물은, 시판되고 있는 것도 전혀 제한없이 사용할 수 있고, 예를 들어 신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤제의 U-2PPA(분자량 482), UA-122P(분자량 1,100), U-122P(분자량 1,100), U-108A, U-200PA, UA-511, U-412A, UA-4100, UA-4200, UA-4400, UA-2235PE, UA-160TM, UA-6100, UA-6200, U-108, UA-4000, UA-512 및 다이셀 유씨비 가부시키가이샤제의 EB4858(분자량 454) 및 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제 UX-2201, UX3204, UX4101, 6101, 7101, 8101 등이 예시된다.
<(A1-5) 기타의 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
(A1-5) 성분으로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기의 양 말단에 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 들 수 있다. (A1-5) 성분으로서는, 탄소수 6 내지 20의 알킬렌기를 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 1,9-노난디올디메타크릴레이트, 1,10-데칸디올디아크릴레이트, 1,10-데칸디올디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
기타, (A1-5) 성분으로서, 황 원자를 포함하는 2관능 (메트)아크릴레이트 화합물도 들 수 있다. 황 원자는 술피드기로서 분자쇄의 일부를 이루고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 비스(2-메타크릴로일옥시에틸티오에틸)술피드, 비스(메타크릴로일옥시에틸)술피드, 비스(아크릴로일옥시에틸)술피드, 1,2-비스(메타크릴로일옥시에틸티오)에탄, 1,2-비스(아크릴로일옥시에틸)에탄, 비스(2-메타크릴로일옥시에틸티오에틸)술피드, 비스(2-아크릴로일옥시에틸티오에틸)술피드, 1,2-비스(메타크릴로일옥시에틸티오에틸티오)에탄, 1,2-비스(아크릴로일옥시에틸티오에틸티오)에탄, 1,2-비스(메타크릴로일옥시이소프로필티오이소프로필)술피드, 1,2-비스(아크릴로일옥시이소프로필티오이소프로필)술피드를 들 수 있다.
이상의 (A1-1) 성분, (A1-2) 성분, (A1-3) 성분, (A1-4) 성분 및 (A1-5) 성분에 있어서는, 단독 성분을 사용할 수도 있고, 상기에서 설명한 복수 종류의 것을 사용할 수도 있다. 복수 종류의 것을 사용하는 경우에는, (A1) 성분의 기준이 되는 질량은, 복수 종류의 것의 합계량이다.
<(A2) 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
(A2) 성분으로서는, 하기 식(5)로 나타나는 화합물(이하, 단순히 (A2-1) 성분이라고 하는 경우도 있음), 우레탄 결합을 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 (A2-2) 성분이라고 하는 경우도 있음), 그리고 상기 (A2-1) 성분 및 상기 (A2-2) 성분에 해당하지 않는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 단순히 (A2-3) 성분이라고 하는 경우도 있음)을 들 수 있다.
<(A2-1) 하기 식(5)로 나타나는 화합물>
다관능 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 하기 식(5)로 나타나는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00005
식 중, R10은, 수소 원자 또는 메틸기이고,
R11은, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 2의 알킬기이고,
R12는, 탄소수 1 내지 10인 3 내지 6가의 유기기이고,
f는, 평균값으로 0 내지 3의 수이고, g는 3 내지 6의 수이다.
R11로 나타나는 탄소수 1 내지 2의 알킬기로서는 메틸기가 바람직하다. R12로 나타나는 유기기로서는, 폴리올로부터 유도되는 기, 3 내지 6가의 탄화수소기, 3 내지 6가의 우레탄 결합을 포함하는 유기기를 들 수 있다.
상기 식(5)로 나타나는 화합물을 구체적으로 나타내면 이하와 같다. 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리메타크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라메타크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리에틸렌글리콜트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리에틸렌글리콜트리아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라메타크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트.
<(A2-2) 우레탄 결합을 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
(A2-2) 성분은, (A1-4) 성분으로 설명한 폴리이소시아네이트 화합물과, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 폴리올 화합물을 반응시켜 얻어지는 것이고, 분자 중에 3개 이상의 (메트)아크릴레이트기를 갖는 화합물이다. (A2-2) 성분은, 시판되고 있는 것도 전혀 제한없이 사용할 수 있고, 예를 들어 신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤제의 U-4HA(분자량 596, 관능기 수 4), U-6HA(분자량 1,019, 관능기 수 6), U-6LPA(분자량 818, 관능기 수 6), U-15HA(분자량 2,300, 관능기 수 15)를 들 수 있다.
<(A2-3) 기타의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
(A2-3) 성분으로서는, 폴리에스테르 화합물의 말단을 (메트)아크릴기로 수식한 화합물이다. 원료가 되는 폴리에스테르 화합물의 분자량이나 (메트)아크릴기의 수식량에 의해 다양한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 화합물이 시판되고 있고, 이것들을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 4관능 폴리에스테르 올리고머(분자량 2,500 내지 3,500, 다이셀 유씨비 가부시키가이샤, EB80 등), 6관능 폴리에스테르 올리고머(분자량 6,000 내지 8,000, 다이셀 유씨비 가부시키가이샤, EB450 등), 6관능 폴리에스테르 올리고머(분자량 45,000 내지 55,000, 다이셀 유씨비 가부시키가이샤, EB1830 등), 4관능 폴리에스테르 올리고머(특히 분자량 10,000의 다이이치 고교 세야쿠 가부시키가이샤, GX8488B 등) 등을 들 수 있다.
이상에 예시한 (A2) 성분((A2-1) 성분, (A2-2) 성분, (A2-3) 성분)을 사용함으로써, 경화에 의해 가교 밀도가 향상되고, 얻어지는 경화체의 표면 경도를 높일 수 있다. 따라서, 특히, 광학 기재 위에 경화체를 적층하는 경우에 있어서는, (A2) 성분을 포함하는 것이 바람직하다. 특히 (A2) 성분 중에서도 (A2-1) 성분을 사용하는 것이 바람직하다.
이상의 (A2-1) 성분, (A2-2) 성분 및 (A2-3) 성분은, 단독 성분을 사용할 수도 있고, 상기에서 설명한 복수 종류의 것을 사용할 수도 있다. 복수 종류의 것을 사용하는 경우에는, (A2) 성분의 기준이 되는 질량은, 복수 종류의 것의 합계량이다.
<(A3) 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물>
(A3) 성분으로서는, 하기 식(6)으로 나타나는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00006
식 중, R13은, 수소 원자 또는 메틸기이고,
R14는, 수소 원자, 메틸디메톡시실릴기, 트리메톡시실릴기 또는 글리시딜기이고,
h는 0 내지 10의 정수이고,
i는 0 내지 20의 정수이다.
상기 식(6)으로 나타나는 화합물을 구체적으로 나타내면 이하와 같다.
메톡시폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트(특히 평균 분자량 293), 메톡시폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트(특히 평균 분자량 468), 메톡시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트(특히 평균 분자량 218), 메톡시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, (특히 평균 분자량 454), 스테아릴메타크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, γ-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란, 글리시딜메타크릴레이트.
<(A4) 비닐 화합물>
비닐 화합물 (A4)로서는, 메틸비닐케톤, 에틸비닐케톤, 에틸비닐에테르, 스티렌, 비닐시클로헥산, 부타디엔, 1,4-펜타디엔, 디비닐술피드, 디비닐술폰, 1,2-디비닐벤젠, 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸프로판디실록산, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 아디프산디비닐, 세바스산디비닐, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 디비닐술폭시드, 디비닐퍼술피드, 디메틸디비닐실란, 1,2,4-트리비닐시클로헥산, 메틸트리비닐실란, N-비닐피롤리돈, α-메틸스티렌 및 α-메틸스티렌 이량체 등을 들 수 있다.
상기에서 예시한 비닐 화합물 (A4) 중에서, α-메틸스티렌 및 α-메틸스티렌 이량체는, 중합 조정제로서 기능하여, 경화체의 성형성을 향상시킨다.
<(A) 성분에 있어서의 각 성분의 배합 비율>
라디칼 중합성 단량체 (A)는, 상기 (A1) 성분 및 상기 (A2) 성분, 필요에 따라, 상기 (A3) 성분, 상기 (A4) 성분을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 (A) 성분의 전량을 100질량부로 했을 때, 각 성분은, 얻어지는 경화체의 경도, 기계적 특성을 고려하면, 상기 (A1) 성분 30 내지 90질량부, 상기 (A2) 성분 5 내지 50질량부, 상기 (A3) 성분 0 내지 20질량부, 상기 (A4) 성분 0 내지 20질량부로 하는 것이 바람직하다.
<(B) 테트라아자포르피린 화합물>
이어서, 테트라아자포르피린 화합물에 대하여 설명한다.
본 발명에서 사용하는 (B) 테트라아자포르피린 화합물(이하, 「(B) 성분」이라고 하는 경우도 있음)은, 극대 흡수 파장이 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 화합물이다. 이 (B) 성분을 배합함으로써, 경화체에 방현 성능을 부여할 수 있다.
본 발명에 있어서, 극대 흡수 파장이란, 흡수 스펙트럼에 있어서 나타나는 극대 흡수의 정점(볼록 형상의 스펙트럼의 정점)의 파장을 의미한다. 또한, 극대 흡수 파장이 복수 확인되는 경우가 있지만, 이 경우는, 적어도 하나의 극대 흡수 파장이 본 발명에 있어서 특정하는 파장 범위에 확인되면 된다. 예를 들어, 상기한 극대 흡수 파장이 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 테트라아자포르피린 화합물이란, 극대 흡수 파장의 적어도 하나가 560㎚ 이상 620㎚ 이하에 존재하는 테트라아자포르피린 화합물을 의미한다.
본 발명에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물이란, 테트라아자포르피린 골격을 갖는 화합물을 의미한다. 테트라아자포르피린 골격은, 4개의 피롤환이 질소 원자에 의해 연결된 복소환 골격이고, 구체적으로는, 이하의 식(A)로 표현된다.
Figure pct00007
테트라아자포르피린 화합물은, 상기 테트라아자포르피린 골격을 갖는 금속 착체여도 된다. 상기 금속 착체를 구성하는 금속으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 구리, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금 등을 들 수 있다. 또한, 테트라아자포르피린 화합물은, 각 피롤환에 치환기를 갖는 것이어도 된다.
테트라아자포르피린 화합물은, 하기 식(1)로 표현되는 테트라아자포르피린 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00008
식(1) 중, X1 내지 X8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 혹은 환형의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 혹은 환형의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통해 방향족환을 제외한 환을 형성해도 된다. M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1치환 금속 원자, 3가의 치환 금속 원자, 4가의 치환 금속 원자, 또는 산화 금속 원자를 나타낸다.
또한, 연결기를 통해 방향족환을 제외한 환을 형성한다는 것은, 예를 들어 X1 내지 X6 중 2개의 기가 연결기를 통해 방향족환을 제외한 환을 형성하는 것을 말하고, 바람직하게는 X1 내지 X6 중 동일한 피롤환에 결합한 기끼리(즉, X1 및 X2, X3 및 X4, X5 및 X6, X7 및 X8)가 연결기를 통해 방향환을 제외한 환을 형성하는 것을 의미한다.
또한, M은 상기 중에서도 구체적으로는, 구리, 산화바나듐, 니켈, 아연, 철, 코발트, 망간, 마그네슘, 산화티타늄, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금 등이 바람직하다.
일반식(1)에 나타나는 테트라아자포르피린 화합물은, 시판되는 것을 전혀 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤 등으로부터 판매되고 있는 테트라아자포르피린 화합물이나, 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤의 상품명; FDG-005, FDG-006, FDG-007, FDR-001 등을 사용할 수 있다. 또한, 야마모토 가세이 가부시키가이샤의 상품명; PD-320 등을 사용할 수 있다.
일반식(1)에 나타나는 테트라아자포르피린 화합물 중에서도, 방현 성능이 우수한 성능을 갖는 경화체를 얻기 위해서는, 극대 흡수 파장이 580㎚ 이상 610㎚ 이하에 있는 테트라아자포르피린 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 취급이 양호하고, 효율적으로 효과를 발휘하기 위해서는, 상기 (B) 성분의 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 극대 흡수 파장에 있어서의 흡광 계수는, 10 내지 1000(L/(g·㎝))의 범위인 것이 바람직하다. 이 범위를 만족시킴으로써, 얻어지는 경화체의 강도를 저하시키지 않아, 방현 성능이 우수한 효과가 얻어진다. 이러한 효과를 더 높이기 위해서는, 상기 (B) 화합물의 흡광 계수는, 25 내지 800(L/(g·㎝))인 것이 보다 바람직하고, 50 내지 500(L/(g·㎝))인 것이 더욱 바람직하다.
또한, (B) 성분은, 방현성 효과를 더 발휘하기 위해서는, 상기 (B) 성분의 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 극대 흡수 파장의 반값 폭은 40㎚ 이하인 것이 바람직하다. 이 범위를 만족시킴으로써, 경화체의 방현 성능을 효과적으로 발휘할 수 있다. 즉, 태양광선이나 자동차의 헤드라이트 등의 눈부심과 그것에 관련한 불쾌감이나 콘트라스트의 불선명감, 시각 피로 등을 경감시킬 수 있다. 이러한 효과를 더 높이기 위해서는, 상기 (B) 성분의 반값 폭은 35㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 30㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 해당 반값 폭은 좁은 쪽이 더 제어가 가능해지기 때문에 적합하지만, (B) 성분의 공업적인 생산을 고려하면, 5㎚ 이상이다. 그 때문에, (B) 성분의 극대 흡수 파장의 반값 폭은 5㎚ 이상 40㎚ 이하가 바람직하고, 5㎚ 이상 35㎚ 이하가 보다 바람직하고, 5㎚ 이상 30㎚ 이하가 더욱 바람직하다.
또한 극대 흡수 파장의 반값 폭은, 극대 흡수 파장에 있어서의 흡광도의 반값이 되는 파장 A1(㎚) 및 파장 A2(㎚)를 판독하고, 이들 파장의 차의 절대값을 구함으로써 산출된다.
상기 (B) 성분의 배합량은, 상기 (A) 성분 100질량부당, 0.005 내지 0.5질량부인 것이 중요하다. 이 범위를 만족시킴으로써, 얻어지는 경화체의 강도를 저하 시키지 않고, 효과가 높은 방현 성능을 부여할 수 있다. 이러한 효과를 더 높이기 위해서는, (B) 성분의 배합량은, 상기 (A) 성분 100질량부당, 0.005 내지 0.2질량부인 것이 보다 바람직하다.
<(C) 자외선 흡수제>
본 발명에 사용하는 (C) 자외선 흡수제(이하, 「(C) 성분」이라고 하는 경우도 있음)는, 극대 흡수 파장이 330㎚ 이상 350㎚ 이하의 범위에 있는 자외선 흡수제이다. (C) 성분은, 테트라아자포르피린 화합물(B)의 Soret대에 닿는 광을 커트하여, 경화체의 내후성을 향상시키는 역할이 있다. 또한, (C) 성분에는 상기한 (B) 성분에 해당하는 화합물은 포함하지 않는다.
(C) 성분으로서는, 상기 극대 흡수 파장을 갖는 자외선 흡수제라면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 벤조트리아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 트리아진 화합물 등을 들 수 있다. 구체적인 (C) 성분을 예시하면, 이하의 것을 들 수 있다.
2-(2-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3,5-디-tert-펜틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-(3,4,5,6-테트라히드로프탈이미딜메틸)페놀, 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀], 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-tert-부틸페놀 등의 벤조트리아졸 화합물;
2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2'-히드록시-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논 화합물;
2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-[2-(2-에틸헥사노일옥시)에톡시]페놀, 2,4-비스(2-히드록시-4-부틸록시페닐)-6-(2,4-비스-부틸록시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-[(2-히드록시-3-(2'-에틸)헥실)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 등의 트리아진 화합물.
이들 (C) 성분에 관해서는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다. 복수 종류의 것을 사용하는 경우에는, (C) 성분의 기준이 되는 질량은, 복수 종류의 것의 합계량이다.
본 발명에 있어서, (C) 성분의 330㎚ 이상 350㎚ 이하의 범위에 있는 극대 흡수 파장에 있어서의 흡광 계수는 10 내지 200(L/(g·㎝))의 범위인 것이 바람직하다. 이 범위를 만족시킴으로써, 경화체의 강도를 저하시키지 않고 형성할 수 있다.
또한, (B) 테트라아자포르피린 화합물의 Soret대에 닿는 광을 커트할 목적으로부터, 상기 (B) 성분과 (C) 성분의 각각에 있어서의 330 내지 350㎚에서의 극대 흡수 파장에 있어서의 흡광 계수(L/(g·㎝))의 비((B) 성분의 흡광 계수:(C) 성분의 흡광 계수)가 0.5:1 이상 5:1 이하인 것이 바람직하고, 0.5:1 이상 4:1 이하인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 330 내지 350㎚에 있어서의 (B) 성분과 (C) 성분의 극대 흡수 파장의 차((B) 성분의 극대 흡수 파장－(C) 성분의 극대 흡수 파장)의 절댓값이 10㎚ 이하이면, Soret대에 닿는 광을 효과적으로 커트할 수 있어, 바람직하다.
경화체에 효과적으로 내후성을 부여하기 위해서는, (C) 성분의 배합량은, 상기 (A) 성분 100질량부당, 0.1 내지 10질량부인 것이 중요하다. 그 중에서도, 경화체의 강도를 저하시키지 않고, 효과적으로 내후성을 부여하기 위해서는, 0.5 내지 5질량부인 것이 보다 바람직하다.
경화체에 효과적으로 내광성을 부여하기 위해서는, 광학 재료용 경화성 조성물 중의 (B) 성분에 대한 (C) 성분의 양((C) 성분의 양/(B) 성분의 양)은, 바람직하게는 1 내지 100이고, 보다 바람직하게는 5 내지 70이고, 더욱 바람직하게는 10 내지 50이다.
또한, 상기 (B) 성분의 Soret대에 닿는 광을 효과적으로 커트할 목적으로부터, (B) 성분과 (C) 성분의 각각의 첨가량에 있어서의 330 내지 350㎚에서의 극대 흡수 파장에 있어서의 흡광도의 비((B) 성분의 흡광도:(C) 성분의 흡광도)가 1:4 이상 1:30 이하의 범위 내에 있도록 (B) 성분과 (C) 성분의 첨가량을 조정하는 것이 바람직하다. 이 범위를 만족시킴으로써, 내후성이 양호한 경화체를 얻을 수 있다. 이러한 효과를 더 높이기 위해서는, (B) 성분과 (C) 성분의 흡광도의 비((B) 성분의 흡광도:(C) 성분의 흡광도)를 1:5 이상 1:25 이하로 되도록, 첨가량을 조정하는 것이 보다 바람직하다.
<첨가제>
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물은, 이상의 (A) 성분, (B) 성분 및 (C) 성분을 필수 성분으로 하는 것이다. 해당 조성물은, 상기한 것 외에, 이하의 공지의 첨가제를 배합할 수 있다.
<중합 개시제>
본 발명에 있어서, 경화체를 형성하기 위해서는, 열 중합 개시제나 광중합 개시제 등의 라디칼 중합 개시제를, 본 발명의 라디칼 중합성 조성물에 배합하는 것이 바람직하다. 공지의 열 중합 개시제, 광중합 개시제 등의 라디칼 중합 개시제를 특별히 제한없이 사용할 수 있고, 대표적인 중합 개시제를 예시하면, 이하의 것을 들 수 있다.
열 중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조일퍼옥사이드, p-클로로벤조일퍼옥사이드, 데카노일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드 등의 디아실퍼옥사이드; tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사네이트, tert-부틸퍼옥시네오데카네이트, 쿠밀퍼옥시네오데카네이트, tert-부틸퍼옥시벤조에이트 등의 퍼옥시에스테르; 디이소프로필퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트 등의 퍼카르보네이트; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다.
광중합 개시제로서는, 아세토페논계나 아실포스핀계와 같은 화합물을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 벤조페논; 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온 등의 아세토페논계 화합물; 1,2-디페닐에탄디온, 메틸페닐글리콕실레이트 등의 α-디카르보닐계 화합물; 2,6-디메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀산메틸에스테르, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,6-디메톡시벤조일디페닐포스핀옥시드 등의 아실포스핀옥시드계 화합물; 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)] 등을 들 수 있다.
이들 중합 개시제는 1종, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 상관없다. 또한, 열 중합 개시제와 광중합 개시제를 병용할 수도 있다. 광중합 개시제를 사용하는 경우에는 3급 아민 등의 공지의 중합 촉진제를 병용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 중합 개시제를 사용할 때, 그 중합 개시제의 사용량은, (A) 성분의 합계량을 100질량부로 하고, 바람직하게는 0.01 내지 0.5질량부, 보다 바람직하게는 0.05 내지 0.4질량부의 범위이다.
<기타의 배합 성분>
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 그 자체 공지의 각종 배합제, 예를 들어, 계면 활성제, 이형제, 적외선 흡수제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 착색 방지제, 대전 방지제, 형광 염료, 염료, 안료, 향료 등의 각종 안정제, 첨가제, 중합 조정제를 필요에 따라 혼합할 수 있다. 또한, (B) 자외선 흡수제에 더하여, 극대 흡수 파장이 330 내지 350㎚의 범위에는 없는, 공지의 자외선 흡수제를 포함할 수도 있다.
안정제로서, 예를 들어, 힌더드아민 광안정제, 힌더드페놀 산화 방지제, 페놀계 라디칼 보충제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다. 이러한 안정제의 첨가량은, 상기 (A) 성분 100질량부당, 0.01 내지 10질량부로 하는 것이 바람직하고, 또한 0.1 내지 5질량부로 하는 것이 바람직하다.
계면 활성제로서는, 실리콘쇄(폴리알킬실록산 유닛)를 소수기로 하는 실리콘계의 계면 활성제, 또한 불화탄소쇄를 갖는 불소계의 계면 활성제 등의, 공지의 계면 활성제를 전혀 제한없이 사용할 수 있다. 계면 활성제를 첨가함으로써, 후술하는 코팅법에 의해 본 발명의 경화체를 광학 기재가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 형성할 때, 밀착성에 악영향을 끼치는 일 없이, 광학 기재나, 광학 기재 위에 밀착성 등을 개선할 목적으로 형성된 프라이머층에 대한 습윤성을 향상시킴과 함께 외관 불량의 발생을 방지하는 것이 가능해진다.
본 발명에서 적합하게 사용할 수 있는 실리콘계 계면 활성제 및 불소계 계면 활성제는, 시판되고 있는 것도 전혀 제한없이 사용할 수 있고, 예를 들어 도레이·다우코닝 가부시키가이샤제 『L-7001』, 『L-7002』, 『L-7604』, 『FZ-2123』, 다이닛폰 잉크 가가쿠 고교 가부시키가이샤제 『메가팍F-470』, 『메가팍F-1405』, 『메가팍F-479』, 스미토모 쓰리엠사제 『플로래드FC-430』 등을 적합하게 사용할 수 있다. 계면 활성제의 사용에 있어서는, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 계면 활성제의 첨가량은, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 상기 (A) 성분 100질량부당, 0.001 내지 1질량부로 하는 것이 바람직하고, 또한 0.01 내지 0.5질량부로 하는 것이 바람직하다.
<경화체의 제조 방법>
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물은, 공지의 방법으로 제조할 수 있고, 예를 들어 각 성분을 혼련하여 용해시킴으로써, 광학 재료용 경화성 조성물을 제조할 수 있다.
본 발명의 경화체도, 특별히 제한되는 것은 아니고, 광학 재료용 경화성 조성물을 경화시키는 공지의 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 열이나, 자외선(UV선)·α선·β선·γ선 등의 조사 혹은 양자의 병용에 의해 경화할 수 있다.
또한, 광학 기재와 적층하는 경우의 경화체에 대해서도, 특별히 제한되는 것은 아니고, 공지의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 플라스틱 렌즈 등의 광학 기재 위에, 광학 재료용 경화성 조성물을 코팅법 등으로 도포하여, 해당 조성물을 경화시키면 된다. 이때, 열 중합 개시제나 광중합 개시제 등의 라디칼 중합 개시제를, 본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물에 배합하는 것이 바람직하다. 광학 기재에 본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물을 도포·경화하여 경화체를 얻는 경우에는, 균일한 막 두께가 얻어지는 이유로부터, 광경화를 채용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물을 광경화시킬 때는, 경화 조건 중, 특히 UV 강도는 얻어지는 경화체의 성상에 영향을 끼친다. 이 조도 조건은, 광중합 개시제의 종류와 양이나 단량체의 종류에 따라 영향을 받으므로 일률적으로 한정할 수는 없지만, 일반적으로 365㎚의 파장에서, 50 내지 500㎽/㎠의 UV광을, 0.5 내지 5분의 시간으로 광조사하도록 조건을 선택하는 것이 바람직하다.
코팅법에 의해 광학 재료를 제조하는 경우, 광학 기재 위에, 광중합 개시제를 혼합한 본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물을 스핀 코팅법 등에 의해 도포하고, 질소 등의 불활성 가스 중에 설치한 후에, UV 조사를 행함으로써, 경화체를 얻을 수 있다. 그리고, 경화체와 플라스틱 렌즈 등의 광학 기재의 밀착성을 높이기 위해, 80 내지 120℃의 온도 범위에서 0.5 내지 5시간 정도 가열 처리하는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 플라스틱 렌즈 등의 광학 기재/필요에 따라 형성되는 프라이머 코팅층 등의 기타 층/경화체가 이 순으로 적층된 광학 재료를 얻을 수 있다. 코팅법으로 형성되는 경화체의 두께는, 경화체에 평활성을 갖게 하면서, 효과적으로 방현성을 부여하는 관점에서, 5 내지 70㎛로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물을 포함하는 경화체와 광학 기재가 적층되어 이루어지는 광학 재료는, 효과적인 방현 성능을 갖기 위해서는, 파장 600㎚ 내지 700㎚의 평균 투과율과, 파장 580㎚ 내지 600㎚의 평균 투과율의 차((파장 600㎚ 내지 700㎚의 평균 투과율)－(파장 580㎚ 내지 600㎚의 평균 투과율))가 10％ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 「평균 투과율」이란, 각각의 파장 범위에 있어서 5㎚ 피치로 측정한 측정값을 평균함으로써 구한 값이다.
<광학 기재, 광학 재료>
본 발명에 있어서의 광학 재료는, 광학 기재와 상기 광학 재료용 경화성 조성물을 포함하는 경화체가 적층되어 이루어지는 것이다.
본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물을 포함하는 경화체와 적층되는 광학 기재로서는, 예를 들어 플라스틱 렌즈 기재를 들 수 있다. 플라스틱 렌즈 기재로서는, 특별히 제한되는 것은 아니고, 공지의 기재를 사용할 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴 수지, 폴리카르보네이트 수지 등의 열가소성 수지 렌즈나, 다관능 (메트)아크릴 수지, 알릴 수지, 티오우레탄 수지, 우레탄 수지 및 티오에폭시 수지 등의 가교성 수지 렌즈 등을 들 수 있다. 또한, 이들 플라스틱 렌즈 기재 위에, 하드 코트층 등을 적층한 플라스틱 렌즈 기재에도 적용 가능하다.
광학 기재는, 얻어지는 경화체와의 밀착성 향상을 위해, 알칼리 용액, 산 용액 등에 의한 화학적 처리, 코로나 방전, 플라스마 방전, 연마 등에 의한 물리적 처리를 시용한 것이어도 된다.
또한, 본 발명의 광학 재료는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 광학 기재와 경화체 사이에 다른 층을 적층해도 된다. 예를 들어, 코팅법에 의해 광학 재료용 경화성 조성물을 광학 기재의 표면 위에 도포하여 경화체를 형성하기 전에, 광학 기재의 표면에 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리비닐아세탈계, 에폭시계 등의 프라이머를 도포, 경화해 두는 것도 가능하다. 그 중에서도, 본 발명의 광학 재료용 경화성 조성물은, 플라스틱 렌즈 기재 등의 광학 기재와 경화체의 밀착성을 높이기 위해, 접착층으로서 프라이머층을 갖는 광학 기재를 사용한 경우에, 특히 적합하게 적용할 수 있다.
상기 프라이머층으로서는, 공지의 폴리우레탄 수지를 사용하는 것이 가능하다. 그 중에서도, 밀착성의 관점에서, 일본 특허 제4405833호 공보에 기재되어 있는 습기 경화형 폴리우레탄 수지/그 전구체, 또는 일본 특허 제5016266호 공보, 일본 특허 5084727호 공보에 기재되어 있는 수분산 우레탄에멀션을 포함하는 프라이머층인 것이 바람직하다.
<경화체의 2차 가공; 코팅층의 적층>
상기 방법으로 제조한 광학 재료는, 그대로 사용하는 것도 가능하지만, 필요에 따라, 편면 또는 양면에 다른 코팅층을 적층해도 된다.
다른 코팅층으로서, 구체적으로는, 프라이머층, 하드 코트층, 반사 방지층, 방담 코트층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 사용할 수도 있고 복수의 코팅층을 다층화하여 사용할 수도 있다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 실시해도, 다른 코팅층을 실시해도 된다.
이들 코팅층은 각각, 공지의 자외선 흡수제, 적외선으로부터 눈을 지킬 목적으로 적외선 흡수제, 렌즈의 내후성을 향상시킬 목적으로 광안정제나 산화 방지제, 렌즈의 패션성을 높일 목적으로 염료나 안료, 또한 포토크로믹 염료나 포토크로믹 안료, 대전 방지제, 기타, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지의 첨가제를 병용해도 된다. 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 관해서는 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 된다.
하드 코트층으로서는, 유기 규소 화합물, 산화주석, 산화규소, 산화지르코늄, 산화티타늄 등의 미립자상 무기물 등을 함유하는 코팅액을 도포, 경화함으로써 얻어진다. 또한, 내충격성을 향상 혹은 하드 코트층과의 밀착성의 향상의 목적으로, 플라스틱 렌즈의 표면에, 폴리우레탄을 주성분으로 하는 프라이머층을 마련할 수 있다. 또한, 하드 코트층 위에, 반사 방지의 성능을 부여하기 위해, 산화규소, 이산화티타늄, 산화지르코늄, 산화탄탈 등을 사용하여 반사 방지층을 실시할 수도 있다. 또한, 그 반사 방지층 위에, 발수성 향상을 위해, 불소 원자를 갖는 유기 규소 화합물을 사용하여 발수막을 실시할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해, 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시예에 있어서 사용한 평가 방법은 이하와 같다.
[극대 흡수 파장의 측정 방법]
측정 기기로서, 가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제 시마즈 분광 광도계 UV-2550을 사용했다. 측정은, 측정 대상물을 용매(클로로포름)에 용해시킨 용액(농도 3.0×10-3㎎/mL)을 조제하고, 광로 길이 10㎜의 석영 셀을 사용하여 행하였다.
[평균 투과율의 측정 방법]
파장 580 내지 700㎚의 투과율을, 가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제 시마즈 분광 광도계 UV-2550을 사용하여 측정하고, 5㎚마다의 투과율(T(％))의 평균값을 산출함으로써, 파장 600㎚ 내지 700㎚의 평균 투과율과, 파장 580㎚ 내지 600㎚의 평균 투과율을 산출했다.
[내후성 시험]
스가 시켄키 가부시키가이샤제 크세논 웨더미터 X25를 사용하여, 테트라아자포르피린 화합물의 극대 흡수 파장에 있어서의 초기(웨더미터 사용 전)와 96시간 사용 후의 흡광도 변화를 잔존율(％)로서 평가했다.
잔존율(％)＝(초기 흡광도)/(96시간 웨더미터 사용 후의 흡광도)×100
이하에, 본 실시예에서 사용한 화합물의 약호와 명칭을 나타낸다.
(A) 성분: 라디칼 중합성 단량체
(A1-1) 성분
· ADE-400: 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(식(2) 중, a＝9, b＝0이고, 평균 분자량이 508).
· 14G: 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트(식(2) 중, a＝14, b＝0이고, 평균 분자량이 736).
(A1-2) 성분
· A-BPE-10: 2,2-비스[4-(아크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(식(3) 중, c＋d＝10이고, 평균 분자량이 776).
· KT50: 2,2-비스[4-(메타크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]프로판(식(3) 중, c＋d＝10이고, 평균 분자량이 804).
(A1-3) 성분
· A-PC: 펜타메틸렌글리콜과 헥사메틸렌글리콜의 포스겐화로 얻어지는 폴리카르보네이트디올(평균 분자량 500)과 아크릴산의 에스테르 화합물.
(A2-1) 성분
· TMPT: 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트.
(A3) 성분
· GMA: 글리시딜메타크릴레이트
· TSL8370: γ-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란
(B) 성분: 테트라아자포르피린 화합물
· FDG-005: 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤제 테트라아자포르피린 화합물
극대 흡수 파장: 581㎚, 흡광 계수 140(L/(g·㎝)), 반값 폭 19㎚, Soret대 극대 흡수 파장: 338㎚, 흡광 계수: 60(L/(g·㎝))
· FDG-006: 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤제 테트라아자포르피린 화합물
극대 흡수 파장: 584㎚, 흡광 계수 80(L/(g·㎝)), 반값 폭 25㎚, Soret대 극대 흡수 파장: 335㎚, 흡광 계수: 48(L/(g·㎝))
· FDG-007: 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤제 테트라아자포르피린 화합물
극대 흡수 파장: 591㎚, 흡광 계수 145(L/(g·㎝)), 반값 폭 19㎚, Soret대 극대 흡수 파장: 342㎚, 흡광 계수: 80(L/(g·㎝))
(C) 성분: 극대 흡수 파장이 330 내지 350㎚의 범위에 있는 자외선 흡수제
· UVA-1: 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 극대 흡수 파장: 342㎚, 흡광 계수 45(L/(g·㎝))
· UVA-2: 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-2-(2-에틸헥사노일옥시)페놀 극대 흡수 파장: 338㎚, 흡광 계수 35(L/(g·㎝))
(기타 첨가제)
(라디칼 중합 개시제)
· PI: 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥시드
(레벨링제)
· L7001: 폴리에테르 변성 실리콘(도레이·다우코닝 가부시키가이샤제).
(극대 흡수 파장이 330 내지 350㎚의 범위 외에 있는, (C) 성분 이외의 자외선 흡수제)
(단순히, 「(C) 성분 이외의 자외선 흡수제」라고 하는 경우도 있음)
· UVA-3: 2,4-디히드록시벤조페논
극대 흡수 파장: 325㎚, 흡광 계수 35(L/(g·㎝))
· UVA-4: 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논
극대 흡수 파장: 328㎚, 흡광 계수 30(L/(g·㎝))
<실시예 1>
(A1-1) ADE-400 17질량부, 14G 6질량부, /(A1-2) A-BPE-10 5질량부, KT50 38질량부, /(A2-1) TMPT 28질량부, /(A3) GMA 1질량부, TSL8370 5질량부를 포함하는 모노머 혼합액 (I) 100질량부에, (B) FDG-007 0.085질량부, (C) 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(UVA-1) 1.0질량부, (C) 성분 이외의 자외선 흡수제 2,4-디히드록시벤조페논(UVA-3) 3.0질량부, 중합 개시제로서 (D) 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥시드(PI) 0.25질량부, 레벨링제로서 L7001 0.1질량부를 첨가하고, 충분히 혼합하여 광학 재료용 경화성 조성물을 제조했다.
이어서, 혼합액인 해당 조성물을 사용하여, 광학 기재에 코팅 및 경화함으로써, 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 얻었다. 이하 상세하게 나타낸다.
먼저, 광학 기재로서 중심 두께가 2㎜이고 굴절률이 1.60인 티오우레탄계 플라스틱 렌즈(MR-8)를 준비했다. 또한, 이 플라스틱 렌즈는, 사전에 10％ 수산화나트륨 용액을 사용하여, 50℃에서 5분간의 알칼리 에칭을 행하고, 그 후 충분히 증류수로 세정을 행하였다.
스핀 코터(1H-DX2, MIKASA제)를 사용하여, 상기한 플라스틱 렌즈 표면에, 습기 경화형 프라이머(제품명; TR-SC-P, 가부시키가이샤 도쿠야마제)를 회전수 70rpm으로 15초, 계속해서 1000rpm으로 10초 코트했다. 그 후, 상기에서 얻어진 광학 재료용 경화성 조성물 약 2g을, 회전수 60rpm으로 40초, 계속해서 700rpm으로 10 내지 20초 걸려서, 두께가 40㎛로 되도록 스핀 코트했다.
이렇게 광학 재료용 경화성 조성물이 표면에 도포되어 있는 광학 기재를, 질소 가스 분위기 중에서 출력 10J/㎠의 메탈 할라이드 램프를 사용하여, 40초간 광을 조사하여, 경화시켰다. 그 후 다시 110℃에서 1시간 가열하여, 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작했다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<실시예 2>
(C) 성분을 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-2-(2-에틸헥사노일옥시)페놀(UVA-2) 1.5질량부로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 광학 재료용 경화성 조성물을 얻었다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<실시예 3>
(B) 성분의 첨가량을 FDG-007 0.024질량부로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 광학 재료용 경화성 조성물을 얻었다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<실시예 4>
(B) 성분을 FDG-006 0.15질량부, (C) 성분을 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(UVA-1) 1.5질량부로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 광학 재료용 경화성 조성물을 얻었다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<실시예 5>
(B) 성분을 FDG-005 0.085질량부로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 광학 재료용 경화성 조성물을 얻었다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<실시예 6>
(A1-1) 14G 44질량부, /(A1-3) A-PC 10질량부, /(A2-1) TMPT 39질량부, /(A3) GMA 1질량부, TSL8370 6질량부를 포함하는 모노머 혼합액 (II) 100질량부에, (B) FDG-007 0.085질량부, (C) 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(UVA-1) 1.0질량부, (C) 성분 이외의 자외선 흡수제 2,4-디히드록시벤조페논(UVA-3) 3.0질량부, 중합 개시제로서 (D) 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥시드(PI) 0.25질량부, 레벨링제로서 L7001 0.1질량부를 첨가하고, 충분히 혼합하여 광학 재료용 경화성 조성물을 제조했다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<비교예 1>
(C) 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(UVA-1)을 제외한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 광학 재료용 경화성 조성물을 얻었다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
<비교예 2>
(C) 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(UVA-1)을 제외하고, 그 대신에 (C) 성분 이외의 자외선 흡수제 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논(UVA-4) 1.0질량부를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 광학 재료용 경화성 조성물을 얻었다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 광학 기재와 경화체가 적층되어 이루어지는 광학 재료를 제작하여, 시료의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
Figure pct00009
이상의 실시예, 비교예의 결과로부터, 다음의 것을 알 수 있다.
실시예 1 내지 6에서는, 580 내지 600㎚ 및 600 내지 700㎚의 평균 투과율이 일정 정도 낮고 모두 양호한 방현성을 갖고, 또한 내후성도 우수한 광학 재료가 얻어지고 있다. 이에 비해, 비교예 1, 2에 있어서 얻어진 광학 재료에서는, 실시예 1 내지 6에서 얻어진 광학 재료와 비교하여, 내후성 시험에 있어서의 잔존율이 낮은 결과가 얻어졌다. 이것으로부터, (C) 성분으로서 본 발명의 범위 외의 자외선 흡수제를 사용하면, 내후 성능이 불충분해지는 것이 명확하다.

Claims (6)

  1. (A) 라디칼 중합성 단량체: 100질량부
    (B) 극대 흡수 파장이 560㎚ 이상 620㎚ 이하의 범위에 있는 테트라아자포르피린 화합물: 0.005 내지 0.5질량부,
    (C) 극대 흡수 파장이 330㎚ 이상 350㎚ 이하의 범위에 있는 자외선 흡수제: 0.1 내지 10질량부
    를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 경화성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 (B) 테트라아자포르피린 화합물이 하기 식(1)로 표현되는 테트라아자포르피린 화합물인, 광학 재료용 경화성 조성물.
    Figure pct00010

    (식(1) 중, X1 내지 X8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 혹은 환형의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 혹은 환형의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통해 방향족환을 제외한 환을 형성해도 된다. M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1치환 금속 원자, 3가의 치환 금속 원자, 4가의 치환 금속 원자, 또는 산화 금속 원자를 나타낸다.)
  3. 제1항 또는 제2항에 기재된 광학 재료용 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는, 경화체.
  4. 광학 기재와 제3항에 기재된 경화체가 적층되어 이루어지는, 광학 재료.
  5. 제4항에 있어서, 상기 경화체의 두께가 5 내지 70㎛인, 광학 재료.
  6. 제5항에 있어서, 파장 600㎚ 내지 700㎚의 평균 투과율과, 파장 580㎚ 내지 600㎚의 평균 투과율의 차가 10％ 이상인, 광학 재료.
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