KR20210071804A - 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법 - Google Patents

디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 제조 공정이 용이하고 상업적 대량생산이 가능한 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자에 관한 것이다.
본 발명에 의하면 자외선 차단효과가 우수한 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자를 안정적이며 높은 수율로 얻을 수 있다.

Description

디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법 {A preparing method of diethylamino hydroxybenzoyl hexylbenzoate}
본 발명은 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 제조 공정이 용이하고 상업적 대량생산이 가능한 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법, 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 결정성 입자 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트에 관한 것이다.
햇빛에 포함된 자외선을 비롯한 모든 자외선은 발암 물질이다. 국제 암 연구기관인 IARC 는 모든 종류의 자외선을 1군 발암 물질, 즉 암 유발이 확인된 물질로 분류하고 있다.
발암성 외에도 자외선은 피부와 눈, 면역체계에 손상을 입히며, 피부 노화를 일으킨다. 이론적으로 자외선을 받지 않으면 노화가 27 배 지연된다고 한다. 특히 햇빛에 많이 포함된 UV-B (320 nm ~ 280 nm)는 화상을 일으키고, 자외선 살균에 쓰이는 UV-C (280 nm ~ 100 nm)는 에너지가 커서 UV-A (400 nm ~ 320 nm)나 UV-B보다 더 해롭다. 그리고 과거에는 별로 해롭지 않다고 알려진 UV-A 또한 높은 에너지를 가지고 있어서 활성 산소를 통한 DNA 손상이 가능한 것으로 밝혀졌다. 햇빛을 받았을 때 피부가 타는 것은 유해물질로부터 피부를 보호하기 위해 일어나는 현상이라고 볼 수 있다. 피부 노화, 피부 손상 같은 건강상의 피해 외에도 주근깨나 점을 만드는 등 미용적으로도 자외선은 해를 끼친다.
위와 같이 자외선은 각종 노화와 주름의 주범으로 여겨져 남녀노소 자외선 차단제가 권장되고 있다. 자외선 차단제는 물리적인 차단제와 화학적인 차단제로 나뉘며, 물리적인 차단제는 주로 자외선을 반사시키는 무기 화합물을 이용한 것이고 (무기 차단제), 화학적인 차단제는 자외선 에너지를 열 형태로 변화시켜 방출시키는 조성물을 이용한 것이다 (유기 차단제).
무기 차단제는 티타늄디옥사이드 (이산화티타늄)과 산화아연이 주로 사용된다. 차단 효과가 우수하기는 하나 발림성이 뻑뻑한 편이고, 많이 바를 경우 피부가 허옇게 뜨는 백탁 현상이 발생하는 문제점이 있다.
한편, 유기 차단제는 무기 차단제와 달리 그 종류가 매우 다양하나, bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine(BEMT), Butyl Methoxydibenzoylmethane, Diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate(DHHB), disodium phenyl dibenzimidazole tetrasulfonate(DPDT) 등이 주로 사용된다. 이 중 하기 화학식으로 표시되는 DHHB는 UV-A를 차단하는 대표적인 유기 차단제로서 BASF사가 유럽공개공보 제1046391호를 통해 처음 개발한 제품이며 현재 Uvinul A plus라는 상품명으로 시판되고 있는 제품이다.
Figure pat00001
BASF는 국제공개공보 WO 03/097578를 통해 하기 반응식에 의하여 DHHB를 제조하는 방법을 소개하고 있다.
Figure pat00002
그러나, 이 제조방법은 에스터화 반응 (esterification) 단계에서 강산인 황산을 사용하고 고온 (105 ~ 110 ℃)에서 반응해야 하며, 반응 결과물에 붉은색의 불순물을 발생시키게 됨에 따라 탈색을 위해 많은 양의 탈색제를 사용해야 할 뿐만 아니라 여러 차례의 정제 과정을 거쳐야 하는 문제점을 가지고 있다.
한편, BASF는 국제공개공보 WO 2008/135360에서 DHHB를 결정화시키는 방법을 개시하였다. 그러나, 위 특허에 개시된 결정화 방법은 DHHB의 융점 (54℃) 위에서 완전히 용해 후 다시 융점 아래로 냉각시켜 고체 형태의 DHHB를 얻는 방법이며, 분쇄가 필수적이다. 이는 일반적인 양산 설비에 적용하기에 어렵기 때문에, 대량 생산에 제약이 있다. 따라서, 제조 공정이 용이하고 상업적으로 대량 생산이 가능한 DHHB 제조방법의 개발이 요구된다.
본 발명은 강산에서 반응하여 붉은색의 불순물을 다량 발생시켜 탈색이 어려운 기존 제조방법을 개선할 수 있는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 적은 양의 탈색제를 사용하면서도 정제 횟수를 줄일 수 있어 높은 수율과 경제적으로 생산할 수 있는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트를 제공하고자 한다.
본 발명은 하기 화학식 II로 표시되는 N,N-디에틸아미노-하이드록시벤조일-벤조산에 하기 화학식 III로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계를 포함하는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 제조방법에 따르면, 강산에서 반응하여 붉은색의 불순물을 다량 발생시켜 탈색이 어려운 기존 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 제조방법을 개선할 수 있다. 구체적으로 본 발명은 적은 양의 탈색제를 사용하면서도 정제 횟수를 줄일 수 있어 높은 수율로 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조할 수 있으며, 경제적으로 대량 생산할 수 있다.본 발명의 제조방법에 따르면, 강산에서 반응하여 붉은색의 불순물을 다량 발생시켜 탈색이 어려운 기존 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 제조방법을 개선할 수 있다. 구체적으로 본 발명은 적은 양의 탈색제를 사용하면서도 정제 횟수를 줄일 수 있어 높은 수율로 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조할 수 있으며, 경제적으로 대량 생산할 수 있다.
이하, 본원의 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시형태를 들어 상세히 설명한다. 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 발명의 명세서 전체에서, 어떤 단계가 다른 단계와 "상에" 또는 "전에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 단계가 다른 단계와 직접적 시계열적인 관계에 있는 경우뿐만 아니라, 각 단계 후의 혼합하는 단계와 같이 두 단계의 순서에 시계열적 순서가 바뀔 수 있는 간접적 시계열적 관계에 있는 경우와 동일한 권리를 포함할 수 있다.
본 발명의 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 본원 명세서 전체에서 사용되는 용어 "~ (하는) 단계" 또는 "~의 단계"는 "~를 위한 단계"를 의미하지 않는다.
본 발명은 하기 화학식 II로 표시되는 N,N-디에틸아미노-하이드록시벤조일-벤조산에 하기 화학식 III로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계를 포함하는, 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법을 제공한다:
[화학식 I]
Figure pat00003
[화학식 II]
Figure pat00004
[화학식 III]
Figure pat00005
L은 클로로, 브로모, 아이오도, 메탄설포닐, 톨루엔설포닐, 벤젠설포닐, 트리플루오로메탄설포닐, 헥실설파이트 또는 헥실알킬설포닐이다.
본 발명의 일 구체예에 따르면, 상기 반응은 염기 조건 하에 수행될 수 있다.
구체적으로, 상기 염기는 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨, 수산화나트륨 및 수산화칼륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 무기 염기일 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않는다.
또한, 상기 염기는 트리에틸아민, 다이아이소프로필에틸아민, 다이에틸아민 및 피리딘으로 이루어진 군으로부터 선택된 유기 염기일 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않는다.
또한 본 발명의 일 구체예에 따르면, 상기 화학식 II로 표시되는 화합물은 3-디에틸아미노페놀과 무수 프탈산을 반응시켜 제조된 것일 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않는다.
또한 본 발명의 일 구체예에 따르면, 상기 화학식 III로 표시되는 화합물은 n-헥산올을 출발물질로 하여 제조된 것일 수 있다.
본 발명에 따르면, 본 발명은 하기 화학식 1의 화합물을 결정성 입자 제조 방법을 제공한다.
상기 결정화는 C1~C4 알코올을 결정화 용매로 사용하여 수행될 수 있다. 예를 들어, 상기 결정화는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-부탄올, 이소부탄올 또는 t-부탄올일 수 있다.
구체적으로, 상기 결정화 제조 방법은 아래 단계들을 포함할 수 있다:
1) 상기 화학식 I로 표시되는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 농축 잔사에 상기 결정화 용매를 투입하는 단계;
2) 내부 온도 30 ~ 50 ℃로 승온하여 용해시키는 단계;
3) 완전 용해를 확인 후, 2 ~ 4 ℃/hr의 속도로 서냉하여 결정을 천천히 석출시키며 내부 온도 15 ~ 20 ℃까지 서냉하는 단계;
4) 2 ~ 4 ℃/hr의 속도로 서냉하여 0 ~ 5 ℃까지 냉각하여 결정성 입자를 제조하는 단계.
위에서 언급한 본 발명의 제조방법에 따르면, 강산에서 반응하여 붉은색의 불순물을 다량 발생시켜 탈색이 어려운 기존 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 제조 방법을 개선할 수 있다. 구체적으로 본 발명은 적은 양의 탈색제를 사용하면서도 정제 횟수를 줄일 수 있어 높은 수율로 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조할 수 있으며, 경제적으로 대량 생산할 수 있다.
또한, 본 발명은 본 발명의 제조방법에 따라 제조된, 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자를 제공한다.
본 발명의 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자는 본 발명의 제조방법에 따라 수득됨으로써 결정형으로 얻어지므로 분쇄 없이 그대로 사용할 수 있는 장점을 가진다.
본 발명의 제조방법에 따라 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자는 평균 입자 크기가 1 μm ~ 500 μm일 수 있다. 구체적으로 평균 입자 크기는 10 μm ~ 100 μm이다.
또한, 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자는 벌크 밀도가 0.28 g/ml를 초과하는 것이다.
또한, 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자는 그 순도가 98 중량% 이상이다.
실시예
이하, 본 발명을 제조예 및 실시예에 의해 상세히 설명한다. 단, 하기 제조예 또는 실시예들은 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 제조예 또는 실시예에 한정되는 것은 아니다.
제조예 1. 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산의 합성
3-디에틸아미노페놀 (1.0 kg, 7.87 mol), 무수 프탈산 (1.17 kg, 7.87 mol)을 3-neck 플라스크에 넣은 뒤 톨루엔 (5.0 L)과 함께 교반하였다. 반응기 내부 온도를 110 ~ 115 ℃까지 승온하고 2 시간 동안 교반한 후, 0 ~ 10 ℃로 냉각하여 석출된 고체를 여과하여 표제 화합물 (1.7 kg, 89.9 %)를 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.52 (s, 1H), 7.91 (dd, 1H), 7.62 (m, 2H), 7.33 (dd, 1H), 6.74 (d, 1H), 6.13 (dd, 1H), 6.20 (d, 1H), 1.16 (m, 6H)
제조예 2-1. 1-클로로헥산의 합성
1-헥산올 (1.2 kg, 11.70 mol), DMF(8.5 g, 0.12 mol)를 교반하며, 내부 온도 30 ℃ 이하를 유지하면서 SOCl2 (2.1 kg, 17.6 mol)를 적가하였다. 적가 완료 후 내부 온도를 80 ~ 90 ℃로 승온하여 5 시간 동안 교반하였다. 반응 종결 확인 후, 냉각하여 정제수 5 L를 투입하고 층분리하여 표제 화합물 (1.3 kg, 94.2 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 3.49 (t, 2H), 1.72 (m, 2H), 1.28 (m, 2H), 1.27 (m, 4H), 0.88 (m, 3H).
제조예 2-2. 1-브로모헥산의 합성
1-헥산올 (1.2 kg, 11.70 mol), THF (6.0 L)를 교반하며, 내부 온도 10 ℃ 이하를 유지하면서 PBr3(3.2 kg, 17.6 mol)를 적가하였다. 적가 완료 후 내부 온도를 10 ℃ 이하로 유지하며 3 시간 동안 교반하였다. 반응 종결 확인 후, 정제수 5 L를 투입하고 층분리하여 표제 화합물 (1.8 kg, 91.4 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 3.40 (t, 2H), 1.85 (m, 2H), 1.43 (m, 2H), 1.31 (m, 4H), 0.90 (m, 3H).
제조예 2-3. 헥실 메탄설포네이트의 합성
1-헥산올 (1.2 kg, 11.70 mol), 트리에틸아민 (2.4 kg, 23.40 mol), 염화메틸렌 (12.0 L)를 교반하며, 내부온도 10 ℃ 이하를 유지하면서 MsCl (1.6 kg, 14.0 mol)를 적가하였다. 적가 완료 후 내부 온도를 10 ℃ 이하로 유지하며 3 시간 동안 교반하였다. 정제수 5 L를 투입하여 층분리 후, 분리된 유기층을 감압 농축하여 표제 화합물 (1.9 kg, 88.1 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 4.23 (t, 2H), 3.00 (s, 3H), 1.75 (m, 2H), 1.40 (m, 3H), 1.32 (m, 3H), 0.90 (m, 3H).
제조예 2-4. 헥실 4-메틸벤젠설포네이트의 합성
1-헥산올 (1.2 kg, 11.70 mol), TsCl (2.7 kg, 14.0 mol), 염화메틸렌 (12.0 L)를 교반하며, 내부 온도 10 ℃ 이하를 유지하면서 트리에틸아민 (2.4 kg, 23.40 mol)를 적가하였다. 적가 완료 후 내부 온도를 10 ℃ 이하로 유지하며 6 시간 동안 교반하였다. 정제수 5 L를 투입하여 층분리 후 분리된 유기층을 감압 농축하여 표제 화합물 (2.8 kg, 93.2 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 7.78 (m, 2H), 7.34 (m, 2H), 4.02 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 1.65 (m, 2H), 1.47-1.04 (m, 6H), 0.85 (m, 3H).
제조예 2-5. 디헥실설파이트의 합성
1-헥산올 (1.2 kg, 11.70 mol), DMF (8.5 g, 0.12 mol)를 교반하며, 내부 온도 30 ℃ 이하를 유지하면서 SOCl2 (0.7 kg, 5.9 mol)를 적가하였다. 적가 완료 후 내부 온도를 30 ~ 40 ℃로 승온하여 8 시간 동안 교반하였다. 반응 종결 확인 후, 냉각하여 정제수 5 L를 투입하고 층분리하여 표제 화합물 (1.3 kg, 90.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 3.95 (m, 4H), 1.63 (m, 4H), 1.27 (m, 6H), 0.86 (m, 12H).
제조예 2-6. 디헥실설페이트의 합성
1-헥산올 (1.2 kg, 11.70 mol), DMF (8.5 g, 0.12 mol)를 교반하며, 내부 온도 30 ℃ 이하를 유지하면서 SO2Cl2 (0.8 kg, 5.9 mol)를 적가하였다. 적가 완료 후 내부 온도를 30 ~ 40 ℃로 승온하여 8 시간 동안 교반하였다. 반응 종결 확인 후, 냉각하여 정제수 5 L를 투입하고 층분리하여 표제 화합물 (1.4 kg, 87.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 4.00 (m, 4H), 1.69 (m, 4H), 1.30 (m, 6H), 0.90 (m, 12H).
실시예 1 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
단계 1 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조
제조예 1에서 합성한 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 (1.1 kg, 3.51 mol), 제조예 2-1에서 합성한 1-클로로헥산 (0.5 kg, 4.22 mol), K2CO3 (0.9 kg, 7.02 mol)를 DMF 1.65 L와 교반하였다. 내부 온도를 100 ~ 110 ℃로 승온하여 4 시간 동안 교반 후, 냉각하고 에틸아세테이트 3.5 L, 정제수 3.5 L를 사용하여 추출하였다. 분리된 최종 유기층은 내부 온도 30 ~ 50 ℃에서 5 % charcoal을 사용하여 1 시간 동안 탈색 처리 후, 감압 농축하였다.
단계 2
단계 1에서 얻어진 농축 잔사에 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 대비 4 v/w의 메탄올 투입 후, 내부 온도 30 ~ 50 ℃로 승온하여 맑게 용해시켰다. 완전 용해를 확인 후, 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 결정을 천천히 석출시키며 내부 온도 15 ~ 20 ℃까지 서냉하였다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후, 다시 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 0 ~ 5 ℃까지 냉각한다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후 여과하여 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (1.2 kg, 86.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 80.3 μm;
벌크 밀도: 0.34 g/ml;
순도 99.4 %.
실시예 2 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
실시예 1의 단계 1에서 얻어진 농축 잔사에 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 대비 4 v/w의 에탄올 투입 후, 내부 온도 30 ~ 50 ℃로 승온하여 맑게 용해시켰다. 완전 용해를 확인 후, 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 결정을 천천히 석출시키며 내부 온도 15 ~ 20 ℃까지 서냉하였다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후, 다시 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 0 ~ 5 ℃까지 냉각한다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후 여과하여 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (1.1 kg, 80.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 73.7 μm;
벌크 밀도: 0.32 g/ml
순도 99.6 %.
실시예 3 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
실시예 1의 단계 1에서 얻어진 농축 잔사에 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 대비 4 v/w의 이소프로판올 투입 후, 내부 온도 30 ~ 50 ℃로 승온하여 맑게 용해시켰다. 완전 용해를 확인 후, 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 결정을 천천히 석출시키며 내부 온도 15 ~ 20 ℃까지 서냉하였다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후, 다시 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 0 ~ 5 ℃까지 냉각한다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후 여과하여 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (1.10 kg, 80.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 91.2 μm
벌크 밀도: 0.38 g/ml;
순도 99.2 %.
실시예 4 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
실시예 1의 단계 1에서 얻어진 농축 잔사에 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 대비 4 v/w의 2-부탄올 투입 후, 내부 온도 30 ~ 50 ℃로 승온하여 맑게 용해시켰다. 완전 용해를 확인 후, 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 결정을 천천히 석출시키며 내부 온도 15 ~ 20 ℃까지 서냉하였다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후, 다시 3 ℃/hr의 속도로 서냉하여 0 ~ 5 ℃까지 냉각한다. 목표 온도에 도달하면 해당 온도를 유지하며 1 시간 동안 교반 후 여과하여 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (1.00 kg, 75.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 12.0 μm;
벌크 밀도: 0.28 g/ml;
순도 99.5 %.
실시예 5 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
제조예 1에서 합성한 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산(1.1 kg,3.51 mol), 제조예 2-2에서 합성한 1-브로모헥산 (0.7 kg, 4.22 mol), K2CO3 (0.9 kg, 7.02 mol)를 DMF 1.65 L와 교반하였다. 내부 온도를 100 ~ 110 ℃ 로 승온하여 4 시간 동안 교반 후, 냉각하고 에틸아세테이트 3.5 L, 정제수 3.5 L를 사용하여 추출하였다. 분리된 최종 유기층은 내부 온도 30 ~ 50 ℃에서 5 % charcoal을 사용하여 1 시간 동안 탈색 처리 후, 감압 농축하였다.
농축 잔사는 실시예 3의 결정화 방법으로 결정화시켜 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (0.90 kg, 65.0 %)를 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 69.4 μm;
벌크 밀도: 0.32 g/ml;
순도 99.4 %.
실시예 6 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
제조예 1에서 합성한 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산(1.1 kg, 3.51 mol), 제조예 2-3에서 합성한 헥실 메탄설포네이트 (0.8 kg, 4.22 mol), K2CO3 (0.9 kg, 7.02 mol)를 DMF 1.65 L와 교반하였다. 내부 온도를 100 ~ 110 ℃로 승온하여 4 시간 동안 교반 후, 냉각하여 에틸아세테이트 3.5 L, 정제수 3.5 L를 사용하여 추출하였다. 분리된 최종 유기층은 내부 온도 30 ~ 50 ℃에서 5 % charcoal을 사용하여 1 시간 동안 탈색 처리 후, 감압 농축하였다.
농축 잔사는 실시예 3의 결정화 방법으로 결정화시켜 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (0.73 kg, 52.4 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 25.8 μm;
벌크 밀도: 0.30 g/ml;
순도 99.8 %.
실시예 7 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
제조예 1에서 합성한 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산(1.1 kg, 3.51 mol), 제조예 2-4에서 합성한 헥실 4-메틸벤젠설포네이트 (1.1 kg, 4.22 mol), K2CO3 (0.9 kg, 7.02 mol)를 DMF 1.65 L와 교반하였다. 내부 온도를 100 ~ 110 ℃로 승온하여 4 시간 동안 교반 후, 냉각하여 에틸아세테이트 3.5 L, 정제수 3.5 L를 사용하여 추출하였다. 분리된 최종 유기층은 내부 온도 30 ~ 50 ℃에서 5 % charcoal을 사용하여 1 시간 동안 탈색 처리 후 감압 농축하였다.
농축 잔사는 실시예 3의 결정화 방법으로 결정화시켜 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (0.66 kg, 47.6 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 81.3 μm;
벌크 밀도: 0.37 g/ml;
순도 99.5 %.
실시예 8 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
제조예 1에서 합성한 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 (1.1 kg, 3.51 mol), 제조예 2-5에서 합성한 디헥실설파이트 (1.1 kg, 4.22 mol), K2CO3 (0.9 kg, 7.02 mol)를 DMF 1.65 L와 교반하였다. 내부 온도를 100 ~ 110 ℃로 승온하여 4 시간 동안 교반 후, 냉각하여 에틸아세테이트 3.5 L, 정제수 3.5 L를 사용하여 추출하였다. 분리된 최종 유기층은 내부 온도 30 ~ 50 ℃에서 5 % charcoal을 사용하여 1 시간 동안 탈색 처리 후 감압 농축하였다.
농축 잔사는 실시예 3의 결정화 방법으로 결정화시켜 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (1.12 kg, 80.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 45.2 μm;
벌크 밀도: 0.32 g/ml;
순도 99.1 %.
실시예 9 : 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 합성
제조예 1에서 합성한 2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 (1.1 kg, 3.51 mol), 제조예 2-6에서 합성한 디헥실설페이트 (1.2 kg, 4.22 mol), K2CO3 (0.9 kg, 7.02 mol)를 DMF 1.65 L와 교반하였다. 내부 온도를 100 ~ 110 ℃로 승온하여 4 시간 동안 교반 후, 냉각하여 에틸아세테이트 3.5 L, 정제수 3.5 L를 사용하여 추출하였다. 분리된 최종 유기층은 내부 온도 30 ~ 50 ℃에서 5 % charcoal을 사용하여 1 시간 동안 탈색 처리 후 감압 농축하였다.
농축 잔사는 실시예 3의 결정화 방법으로 결정화시켜 결정성 입자 상태의 표제 화합물 (1.09 kg, 78.0 %)을 얻었다.
1H NMR (CDCl3): 12.59 (s, 1H), 8.04 (dd, 1H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (dd, 1H), 6.87 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.02 (dd, 1H), 4.10 (t, 2H), 3.35 (q, 4H), 1.45 (m, 2H), 1.16 (m, 12H), 0.82 (t, 3H);
평균 입자 크기: 82.0 μm;
벌크 밀도: 0.39 g/ml;
순도 99.4 %.
실시예에서 확인된 바와 같이, 본 발명의 제조방법에 따라 높은 수율로 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트를 얻을 수 있으며, 탈색 및 정제 공정을 간소화할 수 있으므로 경제적으로 대량 생산이 가능하다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위, 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (4)

  1. 하기 화학식 I로 표시되는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 결정성 입자 제조 방법:
    [화학식 1]
    Figure pat00006
    .
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 결정화는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, t-부탄올 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 결정화 용매로 사용하여 수행되는 것인, 결정성 입자 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    1) 상기 화학식 I로 표시되는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 농축 잔사에 상기 결정화 용매를 투입하는 단계;
    2) 내부 온도 30 ~ 50 ℃로 승온하여 용해시키는 단계;
    3) 완전 용해를 확인 후, 2 ~ 4 ℃/hr의 속도로 서냉하여 결정을 천천히 석출시키며 내부 온도 15 ~ 20 ℃까지 서냉하는 단계;
    4) 2 ~ 4 ℃/hr의 속도로 서냉하여 0 ~ 5 ℃까지 냉각하여 결정성 입자를 제조하는 단계를 포함하는 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 결정성 입자 제조 방법.
  4. 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 순도가 98 중량% 이상이며, 벌크 밀도가 0.28 g/ml를 초과하고, 평균 입자 크기가 10 μm ~ 100 μm인 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 결정성 입자.
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