JP2014210715A - アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体およびその製造方法、ならびに、それを用いた紫外線吸収剤および皮膚外用剤 - Google Patents

Abstract

【課題】紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性かつ中性の新規化合物およびその製造方法、ならびに、それを用いた紫外線吸収剤および皮膚外用剤の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩。

（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基等を、Ｘは、ＣＯＯＲ^３等を表し、Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基等を、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基等を表す。）
【選択図】なし

Description

本発明は、親水性かつ中性の紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する新規のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体およびその製造方法、ならびに、それを用いた紫外線吸収剤および皮膚外用剤に関するものである。

地表に届く紫外線としてＵＶ−Ａ（３２０〜４００ｎｍ）およびＵＶ−Ｂ（２９０〜３２０ｎｍ）がある。そのうちＵＶ−Ａは、過度に浴びると皮膚に紅斑を惹起させ、急性の炎症反応や黒化をもたらし、皮膚がんの原因の一つとなることが知られている。また、ＵＶ−Ａは、紅斑惹起は弱いものの、皮膚の還元メラニンを酸化させてメラニン色素沈着や黒化を生じさせ、長期暴露により皮膚の早期老化の原因となることが明らかになっている。また、紫外線には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＰＶＣ、ＡＢＳ樹脂などの種々の合成樹脂や塗料の劣化の原因となる等の有害な点も存在する。

このように皮膚等に及ぼす紫外線の影響が明らかになるにつれて、紫外線遮断効果の高い日焼け止め化粧料に対する要求が高まってきている。通常、日焼け止め化粧料には、皮膚への紫外線照射を遮断するために、紫外線散乱剤や紫外線吸収剤が用いられる。

紫外線散乱剤は、紫外線を散乱させることによって紫外線を遮蔽するものであり、従来から酸化亜鉛、酸化チタン、カオリン、炭酸カルシウム等の無機顔料が用いられている。これらは広帯域にわたって紫外線を遮蔽することができ、しかも不活性であるため皮膚安全性も高く、より有用な紫外線遮蔽剤である。

しかしながら、これらの無機顔料、特に酸化チタンや酸化亜鉛は前述するように紫外線遮蔽効果は高いものの、被覆力（隠蔽力）も大きいため、皮膚に塗布すると化粧膜が白くなり、白浮きの原因となる。このため、微粒子状にした酸化チタンや酸化亜鉛を用いることが提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。これらの粒子は微細であるほど紫外線の遮蔽効果は高く、かつ可視光線部での光透過性が高まるので透明性が高まることが知られている。

しかし、これらの無機顔料の微粒子は一般に凝集性が高く、化粧料等の配合系に微粒子状態で安定的に分散させることは困難である。そのため、期待されるほど紫外線遮蔽効果ならびに透明性は得られていないのが実情である。また、これらの微粒子状顔料は光の屈折率が高いため、多量に用いると隠蔽性が高くなり、やはり白浮き等が生じて不自然な化粧仕上がりになってしまう。さらに粒子の凝集によって、化粧料の展延性を妨げ、また皮膚に塗布した時にきしみ感を生じる等、使用上の問題が生じる。このため、これらの紫外線散乱剤は配合量がおのずと制限され、所望の紫外線遮蔽効果を有する化粧料は得られていない。

一方、紫外線吸収剤は、光エネルギーを吸収することによって紫外線を遮蔽するものであるが、一般に紫外線吸収剤の吸収帯は２８０〜３５０ｎｍ域に存在するため広帯域の紫外線を防止する上では必ずしも十分とはいえない。

また、これまでの日焼け止め等に用いられる親油性の紫外線吸収剤は、肌に水が触れても落ちない特性（親油性）を有しており、肌から落とすためには基本的には専用の洗浄剤が必要であった。近年、紫外線による皮膚の被害等が明らかになるにつれ、日焼け止めが日常生活で使用されるようになってきており、日焼け止めを水で容易に洗浄することが求められてきている。さらに、親油性の化合物は配合量の増加によって、特に水系溶剤等に対して、化粧料への溶解性や安定性等といった製品への影響が問題となっている。

特公昭４７−４２５０２号公報 特開昭４９−００４５０号公報 特開昭６４−０７９４１号公報 特開平２−１１１７６０号公報 特許第３４９７２４６号明細書 特許第４７０５２２０号明細書

本発明は、このような事情に照らし、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性かつ皮膚にも安全な中性の新規化合物であるアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体およびその塩、ならびにその製造方法を提供することを目的とする。

また、本発明は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体及びその塩を含む、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性かつ皮膚にも安全な中性の紫外線吸収剤および皮膚外用剤を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、以下に示す新規アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の創製に成功し、上記化合物により上記目的を達成できることを見出して、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする。

（式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。
Ｘは、ＣＯＯＲ^３またはＣＯＮＲ^４Ｒ^５を表し、Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表し、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１２−Ｏ）_ｒ−Ｒ^１３を表し（ただし、Ｒ^４またはＲ^５の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^４Ｒ^５は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
Ｒ^１０は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１１は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｑは、１〜４の整数であり、ｑが２以上の場合には、複数存在するＲ^１０は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^１２は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｒは、１〜４の整数であり、ｒが２以上の場合には、複数存在するＲ^１２は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、０〜４の整数であり、ｍとｎはそれぞれ独立しており、ｍが２以上の場合には、複数存在するＲ^６は同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ^７は同一でも異なっていてもよい。）

本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩によると、上記一般式（Ｉ）で表される構造を有するため、３２０〜４００ｎｍの紫外線吸収特性を強く有し、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用に優れたものとなる。

さらに、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩によると、上記一般式（Ｉ）で表される構造を有するため、親水性に優れ、また、スルホン酸基のような皮膚への安全性に懸念が生じる残基もなく、ほぼ中性（およそｐＨ５〜９程度の範囲内）を示すものである。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩において、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｘは、ＣＯＯＲ^３であって、Ｒ^３は、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１であることが好ましい。この場合、アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）にあたるが、上記構造のアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）は、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有し、親水性および皮膚の安全性により優れたものとなる。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体において、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｘは、ＣＯＮＲ^４Ｒ^５であって、Ｒ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であることが好ましい。この場合、アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）にあたるが、上記構造のアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）は、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有し、親水性および皮膚の安全性に優れたものとなる。さらには、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）を合成する際の有用な前駆体として用いることもできる。

また、本発明の一般式（ＩＶ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩の製造方法は、

一般式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩と、

（式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
Ｙは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、または、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などのスルホン酸エステル基を表す。
Ｒ^１４は、−Ｏ−Ｒ^１５、塩素、臭素、または、ヨウ素を表し、Ｒ^１５は、炭素数１〜４の直鎖、または、分岐のアルキル基を表す。
Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、０〜４の整数であり、ｍとｎはそれぞれ独立しており、ｍが２以上の場合には、複数存在するＲ^６は同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ^７は同一でも異なっていてもよい。）
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物またはその塩とを反応させることを特徴とする。

（式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。）。

本発明の一般式（ＩＶ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩の製造方法によると、上記一般式（ＩＩ）で表される化合物（またはその塩）と、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物（またはその塩）とを反応させることにより、簡便に高収率でアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）を得ることができる。さらには、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）を合成する際の有用な前駆体として用いることもできる。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩の製造方法において、Ｙは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素であって、Ｒ^１４は、−Ｏ−Ｒ^１５を表し、Ｒ^１５は、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であることが好ましい。上記構成の一般式（ＩＩ）で表される化合物（またはその塩）および一般式（ＩＩＩ）で表される化合物（またはその塩）を用いることにより、アミノヒドロキシベンゾフェノン構造の芳香環上のアミノ化および置換基のアミド化をより容易かつ高収率で行うことができる。

また、本発明の一般式（ＶＩ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体またはその塩の製造方法は、

一般式（ＩＶ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩と、

（式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。）
一般式（Ｖ）で表される化合物またはその塩とを反応させることを特徴とする。

（式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表す。
Ｒ^１０は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１１は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｑは、１〜４の整数であり、ｑが２以上の場合には、複数存在するＲ^１０は同一でも異なっていてもよい。）。

本発明の一般式（ＶＩ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体またはその塩の製造方法によると、上記一般式（ＩＶ）で表される化合物（またはその塩）と、一般式（Ｖ）で表される化合物（またはその塩）とを反応させることにより、簡便に高収率でアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）を得ることができる。さらには、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（およびその塩）を用いることができる。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体およびその塩の製造方法において、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｒ^３は、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１であることが好ましい。上記構成の一般式（ＶＩ）で表される化合物（またはその塩）および一般式（Ｖ）で表される化合物（またはその塩）を用いることにより、アミノヒドロキシベンゾフェノン構造の置換基のアミドのエステル置換反応をより容易かつ高収率で行うことができる。

また、本発明の紫外線吸収剤は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を含むことを特徴とする。本発明の紫外線吸収剤によると、上記のような作用効果を奏するアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を用いるため、特に水溶性組成物として配合が容易であり、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性かつ皮膚にも安全な中性の紫外線吸収剤を得ることができる。

また、本発明の皮膚外用剤は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を含むことを特徴とする。本発明の皮膚外用剤によると、上記のような作用効果を奏するアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を用いるため、特に水溶性剤として成形、製剤することが容易であり、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性かつ皮膚にも）安全な中性の皮膚外用剤を得ることができる。

本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、新規化合物であって、親水性を有し、中性で皮膚に安全であって、優れた紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する。

また、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩の製造方法を用いることにより、簡便に高収率で新規化合物であるアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）を得ることができる。また、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体またはその塩の製造方法を用いることにより、簡便に高収率でアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）を得ることができる。

また、本発明の紫外線吸収剤および皮膚外用剤は、上記の新規アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を含むため、親水性を有し、中性で皮膚に安全であって、優れた紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有し、紫外線吸収剤および皮膚外用剤として有用である。

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。

〔アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩〕
本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする。

（式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。
Ｘは、ＣＯＯＲ^３またはＣＯＮＲ^４Ｒ^５を表し、Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表し、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１２−Ｏ）_ｒ−Ｒ^１３を表し（ただし、Ｒ^４またはＲ^５の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^４Ｒ^５は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
Ｒ^１０は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１１は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｑは、１〜４の整数であり、ｑが２以上の場合には、複数存在するＲ^１０は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^１２は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｒは、１〜４の整数であり、ｒが２以上の場合には、複数存在するＲ^１２は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、０〜４の整数であり、ｍとｎはそれぞれ独立しており、ｍが２以上の場合には、複数存在するＲ^６は同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ^７は同一でも異なっていてもよい。）

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表す。上記Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい。また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。

上記Ｒ^１およびＲ^２における、上記ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、上記アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、または２−ヒドロキシエチル基）が好ましい。

上記Ｒ^１またはＲ^２における、上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、１−メチル−１−エチル基、１−ブチル基、１−メチル−１−プロピル基、１，１−ジメチル−１−エチル基、２−メチル−１−プロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表す。上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基として、たとえば、メチレン基、エチレン基、１−プロピレン基、１−メチル−１−エチレン基、１−ブチレン基、１−メチル−１−プロピレン基、１，１−ジメチル−１−エチレン基、２−メチル−１−プロピレン基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキレン基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチレン基またはエチレン基）が好ましい。

上記Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表す。上記ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しかつ汎用な試薬原料から製造しうるという観点からは、上記ｐは、１〜２の整数であることが好ましく、１であることがより好ましい。

上記−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９として、たとえば、−（ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_２−ＣＨ_２ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_２−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_２−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_２−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_３−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_４−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_４−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨなどをあげることができる。

上記ＮＲ^１Ｒ^２が５または６員のヘテロ環を形成する場合、ＮＲ^１Ｒ^２として、たとえば、２−ヒドロキシ−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−１−ピロリジニル基、２，３−ジヒドロキシ−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジニル基、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジニル基、２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジニル基、２，４−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジニル基、２，３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシ−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシ−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシ−１−ピロリジニル基、２，３−ジヒドロキシ−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、２，５−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、３，４−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、３，５−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、３，４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル基、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシエチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシエチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、２，３−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、２，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、３，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシエチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシエチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシエチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジニル基などをあげることができる。

また、上記ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。置換される場合の置換基として、たとえば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１−メチルエチル基（ｉ−プロピル基）、１−ブチル基（ｎ−ブチル基）、１−メチルプロピル基（ｉ−ブチル基）、２−メチルプロピル基（ｓ−ブチル）、１，１−ジメチルエチル基（ｔ−ブチル基）などのアルキル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、１−メチル−１−エチル基、１−ブチル基、１−メチル−１−プロピル基、１，１−ジメチル−１−エチル基、２−メチル−１−プロピル基などをあげることができる。上記ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記ｍは、０〜３の整数であり、上記ｎは、０〜４の整数であり、ｍとｎはそれぞれ独立している。ｍが２以上の場合には、複数存在するＲ^６は同一でも異なっていてもよい。ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ^７は同一でも異なっていてもよい。

上記一般式（Ｉ）において、Ｘは、ＣＯＯＲ^３またはＣＯＮＲ^４Ｒ^５を表し、Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表し、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１２−Ｏ）_ｒ−Ｒ^１３を表す。上記Ｒ^４またはＲ^５の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい。また、ＮＲ^４Ｒ^５は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。

上記Ｒ^３における、上記少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。

上記Ｒ^１０は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表す。上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基として、たとえば、メチレン基、エチレン基、１−プロピレン基、１−メチル−１−エチレン基、１−ブチレン基、１−メチル−１−プロピレン基、１，１−ジメチル−１−エチレン基、２−メチル−１−プロピレン基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキレン基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチレン基またはエチレン基）が好ましい。

上記Ｒ^１１は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表す。上記ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記ｑは、１〜４の整数であり、ｑが２以上の場合には、複数存在するＲ^１０は同一でも異なっていてもよい。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しかつ汎用な試薬原料から製造しうるという観点からは、上記ｑは、１〜２の整数であることが好ましく、１であることがより好ましい。

上記−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１として、たとえば、−（ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_２−ＣＨ_２ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_２−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_２−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_２−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_３−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_４−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_４−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨなどをあげることができる。

上記Ｒ^４およびＲ^５における、上記ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、上記アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、または２−ヒドロキシエチル基）が好ましい。

上記Ｒ^４またはＲ^５における、上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、１−メチル−１−エチル基、１−ブチル基、１−メチル−１−プロピル基、１，１−ジメチル−１−エチル基、２−メチル−１−プロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記Ｒ^１２は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表す。上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基として、たとえば、メチレン基、エチレン基、１−プロピレン基、１−メチル−１−エチレン基、１−ブチレン基、１−メチル−１−プロピレン基、１，１−ジメチル−１−エチレン基、２−メチル−１−プロピレン基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキレン基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチレン基またはエチレン基）が好ましい。

上記Ｒ^１３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表す。上記ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１，２−ジヒドロキシプロピル基、１，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、１，１−ジヒドロキシプロピル基、２，２−ジヒドロキシプロピル基、３，３−ジヒドロキシプロピル基、１-メチル−１−ヒドロキシエチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１，１−ジメチル−１−ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，４−ジヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，４−ジヒドロキシブチル基、１，１−ジヒドロキシブチル基、２，２−ジヒドロキシブチル基、３，３−ジヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、１−ヒドロキシメチルプロピル基、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル基、２−メチル−１−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−２−ヒドロキシプロピル基、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記ｒは、１〜４の整数であり、ｒが２以上の場合には、複数存在するＲ^１２は同一でも異なっていてもよい。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しかつ汎用な試薬原料から製造しうるという観点からは、上記ｒは、１〜２の整数であることが好ましく、１であることがより好ましい。

上記−（Ｒ^１２−Ｏ）_ｒ−Ｒ^１３として、たとえば、−（ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_２−ＣＨ_２ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_２−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_２−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_２−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_３−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ、−（ＣＨ_２Ｏ）_４−ＣＨ_２ＯＨ、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_４−Ｃ_２Ｈ_４ＯＨなどをあげることができる。

上記ＮＲ^４Ｒ^５が５または６員のヘテロ環を形成する場合、ＮＲ^４Ｒ^５として、たとえば、２−ヒドロキシ−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−１−ピロリジニル基、２，３−ジヒドロキシ−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジニル基、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジニル基、２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジニル基、２，４−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジニル基、２，３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシ−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシ−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシ−１−ピロリジニル基、２，３−ジヒドロキシ−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、２，５−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジニル基、３，４−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、３，５−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、３，４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル基、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシエチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシエチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピロリジニル基、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピロリジニル基、２−ヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、２，３−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、２，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、３，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシエチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシエチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシエチル−１−ピペリジニル基、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジニル基、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジニル基、４−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジニル基などをあげることができる。

また、上記ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。置換される場合の置換基として、たとえば、メチル基、エチル基、１−プロピル基（ｎ−プロピル基）、１−メチルエチル基（ｉ−プロピル基）、１−ブチル基（ｎ−ブチル基）、１−メチルプロピル基（ｉ−ブチル基）、２−メチルプロピル基（ｓ−ブチル）、１，１−ジメチルエチル基（ｔ−ブチル基）などのアルキル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基などをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩において、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｘは、ＣＯＯＲ^３であって、Ｒ^３は、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１であることが好ましい。この場合、アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）にあたるが、上記構造のアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）は、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性および皮膚の安全性に優れたものとなる。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体において、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｘは、ＣＯＮＲ^４Ｒ^５であって、Ｒ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であることが好ましい。この場合、アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）にあたるが、上記構造のアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）は、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有する、親水性および皮膚の安全性に優れたものとなる。さらには、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（またはその塩）は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（またはその塩）を合成する際の有用な前駆体として用いることもできる。

また、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体は、塩基性の窒素原子を有しており、酸を付加した塩構造をとりうる。上記酸として、たとえば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、および臭化水素酸等の無機酸、または、酢酸、クエン酸、グルコン酸、酒石酸、乳酸、マレイン酸、フマル酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ニトロベンゼンスルホン酸等の有機酸があげられる。これらの酸は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。本発明には、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体の酸付加塩も含まれる。

また、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体は、酸性のフェノール性水酸基を有しており、ｐＨの条件によっては、プロトンが解離し、生成するアニオン（フェノキシドアニオン）にナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、カルシウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオン、トリエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン等のカウンターカチオンが結合した塩構造をとりうる。これらのカウンターカチオンは単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。本発明には、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体の酸付加塩も含まれる。

上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、ベンゼン環上に、電子供与性のヒドロキシル基および窒素原子（アミノ基。さらに当該アミノ基には電子供与性基であるＲ^１およびＲ^２が結合しており、より窒素原子上の電子密度を高めている。）があり、さらには、一般に電子吸引性であるカルボニル基を介して隣接ベンゼン環および当該ベンゼン環上のカルボキシル基（またはアミド基など）が結合しており共役系が拡張され、吸収波長がより長波長側にシフトしている。このため、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、長波長側の紫外線、すなわち、紫外線Ａ波（ＵＶＡ）を有効に吸収することができる。また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩のＵＶＡ領域における吸光度（濃度５ｐｐｍで、光路長１ｃｍの石英セルを用いて測定）は通常０．０２以上であり、より好ましくは０．２〜１である。

本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の分子量は、通常１５０〜１０００程度であり、好ましく１５０〜５００である。分子量が大きくなると、単位重量当たりのＵＶＡ吸収能力が低下する傾向にあり、紫外線吸収剤および皮膚外用剤などとして用いる際により多量に添加する必要が生じてしまう。

また、本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、同一ベンゼン環上に結合したヒドロキシル基（フェノール性水酸基）とカルボニル基が化学構造上オルト位の位置関係にある。このため、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は分子内水素結合（下記化学式参照）を形成しやすく、その結果、アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の安定性が、従来の紫外線吸収剤（特にＵＶＡ吸収剤）よりも高い安定性を有しており、長期使用が可能となると推測される。

〔アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の製造方法〕
本発明の（Ｉ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、容易に入手可能な原料（たとえば３−ハロゲン化フェノール）を用いて、公知の反応によって、製造することができる。上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の合成例のスキーム（スキーム１）を示すがあくまで一例であって、本発明の（Ｉ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は下記合成例により得られたものに限定されない。

化合物（Ｃ）は、たとえば、化合物（Ａ）またはその塩と、化合物（Ｂ）とをルイス酸触媒を用いて反応（Ｓｔｅｐ１）させて製造することができる。上記反応には、たとえば、Ｆｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応を用いることが好ましい。

上記Ｙは、後の工程でアミン化合物（Ｆ）の求核攻撃を受けて置換・脱離しうる官能基であればよい。上記Ｙとしては、たとえば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、または、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などのスルホン酸エステル基などをあげることができる。なかでも、反応収率等の観点から、上記Ｙとして、フッ素、塩素、臭素、および、ヨウ素を好ましいものとしてあげることができる。

化合物（Ａ）の上記Ｒ^６、およびｍについては、目的生成物である化合物（Ｇ）および化合物（Ｉ）に対応する構造を用いることができる。

化合物（Ａ）として、たとえば、３−フルオロフェノール、３−クロロフェノール、３−ブロモフェノール、３−ヨードフェノール、３−フルオロ−５−メチル−フェノール、３−クロロ−５−メチル−フェノール、３−ブロモ−５−メチル−フェノール、３−ヨード−５−メチル−フェノールなどをあげることができる。

化合物（Ｂ）の上記Ｒ^７、およびｎについては、目的生成物である化合物（Ｇ）および化合物（Ｉ）に対応する構造を用いることができる。

化合物（Ｂ）としては、たとえば、フタル酸無水物、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、４−カルボキシフタル酸無水物などをあげることができる。また、化合物（Ｂ）に替えて、フタル酸の一方のカルボキシル基を保護したモノアシル誘導体等も用いることができる。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、上記ルイス酸触媒は、公知のＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応等で用いることができるルイス酸触媒を適宜用いることができる。上記ルイス酸触媒として、たとえば、塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ_３）、塩化アンチモン（ＳｂＣｌ_５）、塩化鉄（ＦｅＣｌ_３）、塩化チタン（ＴｉＣｌ_４）、塩化ビスマス（ＢｉＣｌ_３）、塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_２）などをあげることができる。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、化合物（Ａ）に対する化合物（Ｂ）のモル比（化合物（Ｂ）のｍｏｌ／化合物（Ａ）のｍｏｌ）を、たとえば、１．０〜３．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、１．０〜２．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、化合物（Ａ）に対する上記ルイス酸触媒のモル比（上記ルイス酸触媒のｍｏｌ／化合物（Ａ）のｍｏｌ）を、たとえば、１．０〜３．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、１．０〜２．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、上記反応は各原料（および触媒等）を適宜溶液中で行ってもよく、原料が溶媒となる場合には、原料のみを混合して反応溶液として用いてもよい。上記溶液とする場合の溶媒として、公知の溶媒を適宜用いることができる。上記溶媒として、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタンなどをあげることができる。これらの溶媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、反応温度は、たとえば、８０〜１８０℃で行うことができ、１００〜１６０℃で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、反応時間は、たとえば、１〜２４ｈｒで行うことができ、２〜１２ｈｒで行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ１）において、反応生成物の生成は、公知の精製手法を適宜用いることができる。上記精製手法として、たとえば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、再結晶法、再沈澱法、溶媒抽出方法、蒸留、減圧蒸留などをあげることができる。これらの精製手法は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

化合物（Ｅ）（上記化合物（ＩＩ））は、たとえば、化合物（Ｃ）またはその塩と、化合物（Ｄ）とを反応（Ｓｔｅｐ２）させて製造することができる。

上記Ｒ^１４は、後の工程でアミン化合物（Ｆ）の求核攻撃を受けて置換・脱離しうる官能基であればよい。上記Ｒ^１４としては、たとえば、−Ｏ−Ｒ^１５、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素をあげることができる。

上記Ｒ^１５は、たとえば、炭素数１〜４の直鎖、または、分岐のアルキル基などをあげることができる。上記Ｒ^１５における、上記炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基として、たとえば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、１−メチル−１−エチル基、１−ブチル基、１−メチル−１−プロピル基、１，１−ジメチル−１−エチル基、２−メチル−１−プロピル基などをあげることができる。合成反応時の取り扱いの容易さの観点から、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１４がエステル構造を形成する場合には、化合物（Ｄ）はアルコール（またはヒドロキシル基含有構造）または当該アルコール前駆体であり、公知のエステル化反応を用いることができる。上記エステル化反応としては、たとえば、公知の酸触媒を用いて加熱する方法や、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）などの縮合剤を用いる方法などをあげることができる。

上記酸触媒としては、公知の酸触媒を適宜用いることができる。上記酸触媒として、たとえば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、安息香酸、サリチル酸、フタル酸、ｐ−トルエンスルホン酸などをあげることができる。これらの酸触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

また、上記反応（ｓｔｅｐ２）において、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１４がハロゲン化アシル構造（たとえば、酸クロライド誘導体）を形成する場合には、化合物（Ｄ）に替えてハロゲン化試薬等を用い、公知のハロゲン化反応を適宜用いることができる。

上記ハロゲン化試薬としては、たとえば、塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化ホスホリル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、三臭化リンなどをあげることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、化合物（Ｃ）に対する化合物（Ｄ）のモル比（化合物（Ｃ）のｍｏｌ／化合物（Ｄ）のｍｏｌ）を、たとえば、１０〜１００（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、２０〜８０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、化合物（Ｃ）に対する上記酸触媒の添加量は、公知の方法を用いて適宜添加することで行うことができる。化合物（Ｃ）（０．５〜５ｇ）の溶液１０ｍｌに対して、たとえば、５ｍｌピペットで１〜１０滴の範囲で添加して行うことができ、好ましくは３〜５滴添加して行うことができる。また、上記酸触媒が溶媒として用いることができる場合には、上記触媒を溶媒として、化合物（Ｃ）を直接溶解または懸濁させて反応させてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、上記反応は各原料（および触媒等）を適宜溶液中で行ってもよく、原料が溶媒となる場合、原料のみを混合して反応溶液として用いてもよい。特に化合物（Ｄ）として常温（２５℃）で液状であるアルコール化合物を用い、原料のみを混合して反応溶液として用いることが好ましい。上記溶液とする場合の溶媒として、公知の溶媒を適宜用いることができる。上記溶媒として、たとえば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−メチル−２−プロパノールなどをあげることができる。これらの溶媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、反応温度は、たとえば、８０〜１４０℃で行うことができ、１００〜１２０℃で行われることが好ましい。また、特にエステル化反応などにおいて、縮合により生じる水を留去して反応の平衡をシフトさせる（反応転化率をあげる）手法を用いてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、反応時間は、たとえば、２〜４８ｈｒで行うことができ、４〜２４ｈｒで行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、反応生成物の生成は、公知の精製手法を適宜用いることができる。上記精製手法として、たとえば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、再結晶法、再沈澱法、溶媒抽出方法、蒸留、減圧蒸留などをあげることができる。これらの精製手法は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

化合物（Ｇ）（上記化合物（ＩＶ））は、たとえば、化合物（Ｅ）（上記化合物（ＩＩＩ）またはその塩と、化合物（Ｆ）またはその塩とを反応（Ｓｔｅｐ３）させて製造することができる。

化合物（Ｆ）において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表す。化合物（Ｆ）のＲ^１およびＲ^２ついては、目的生成物である化合物（Ｇ）に対応する構造のアミンまたはその塩を用いることができる。また、化合物（Ｆ）は、上記化合物（Ｉ）における、ＸがＣＯＮＲ^１Ｒ^２にあたる化合物であるが、このようにＸがＣＯＮＲ^１Ｒ^２の化合物は上記反応によって特に簡便かつ高収率で得ることができる。

上記アミド化反応としては、公知のアミド化反応を用いることができる。上記アミド化反応として、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１４がエステル構造を形成する場合には、たとえば、モル等量以上の化合物（Ｆ）を加えて加熱処理する方法などをあげることができる。また、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１４がハロゲン化アシル構造（たとえば、酸クロライド誘導体）を形成する場合には、たとえば、生成する塩素アニオンを反応系から除去するために、ピリジンなど求核性の低い塩基存在下またはアミンである化合物（Ｆ）をモル等量以上に加え、加熱する方法などをあげることができる。また、上記アミド化反応において、公知の触媒を適宜用いてもよい。

化合物（Ｆ）として、たとえば、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（４−ヒドロキシブチル）アミン、２−ヒドロキシ−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２，４−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、２，３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピペリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，５−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，５−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，３−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジンなどをあげることができる。

上記触媒としては、公知の触媒を適宜用いることができる。上記触媒として、たとえば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピロリジン、ピペリジンなどの三級アミン類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどの求核性の低い芳香族アミンなどをあげることができる。これらの触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。また、特に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１４として酸クロライドを用いる場合には、上記の求核性の低い三級アミンや芳香族アミンを塩化物イオンの受容体として等量または過剰に加えて、反応の平衡をシフトさせる（反応転化率をあげる）手法を用いてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ３）において、化合物（Ｅ）に対する化合物（Ｆ）のモル比（化合物（Ｆ）のｍｏｌ／化合物（Ｅ）のｍｏｌ）を、たとえば、２〜１０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、４〜８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ２）において、化合物（Ｅ）に対する上記触媒のモル比（上記触媒のｍｏｌ／化合物（Ｅ）のｍｏｌ）を、たとえば、０．０１〜１（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、０．０５〜０．５（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ３）において、上記反応は各原料（および触媒等）を適宜溶液中で行ってもよく、原料が溶媒となる場合、原料のみを混合して反応溶液として用いてもよい。特に化合物（Ｆ）として常温（２５℃）で液状であるアミン類を用い、原料のみを混合して反応溶液として用いることが好ましい。上記溶液とする場合の溶媒として、公知の溶媒を適宜用いることができる。上記溶媒として、たとえば、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（４−ヒドロキシブチル）アミン、２−ヒドロキシ−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２，４−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、２，３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピペリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，５−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，５−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，３−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジンなどをあげることができる。これらの溶媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ３）において、反応温度は、たとえば、８０〜１８０℃で行うことができ、１００〜１６０℃で行われることが好ましい。また、反応により生じる反応物を留去して反応の平衡をシフトさせる（反応転化率をあげる）手法を用いてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ３）において、反応時間は、たとえば、２〜４８ｈｒで行うことができ、４〜２４ｈｒで行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ３）において、反応生成物の生成は、公知の精製手法を適宜用いることができる。上記精製手法として、たとえば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、再結晶法、再沈澱法、溶媒抽出方法、蒸留、減圧蒸留などをあげることができる。これらの精製手法は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

化合物（Ｉ）（上記化合物（ＶＩ））は、たとえば、化合物（Ｇ）またはその塩と、化合物（Ｈ）（上記化合物（Ｖ））またはその塩とを反応（Ｓｔｅｐ４）させて製造することができる。

化合物（Ｈ）において、Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表す。化合物（Ｆ）のＲ^３ついては、目的生成物である化合物（Ｉ）に対応する構造のアミンまたはその塩を用いることができる。

上記エステル化反応としては、公知のエステル化反応を用いることができる。上記エステル化反応として、たとえば、酸触媒を加えて加熱する方法、まず加水分解反応（酸触媒、塩基性触媒）した（Ｇ）にモル等量以上の化合物（Ｈ）を加えて加熱処理する方法、化合物（Ｇ）を加水分解後もしくは化合物（Ｇ）から直接にエステル化求核置換反応が有利になるような脱離基に変換した後に化合物（Ｈ）によるエステル化を行う方法、加水分解した化合物（Ｇ）と化合物（Ｈ）とを縮合剤等を用いて反応する方法などなどをあげることができる。

上記Ｒ^３−ＯＨとしては、たとえば、１，２−ジヒドロキシエタン、１，２−ジヒドロキシプロピレン、１，３−ジヒドロキシプロピレン、１，２−ジヒドロキシブチル基、１，３−ジヒドロキシブチル基、１，２−ジヒドロキシ−２−メチルプロパン、１，３−ジヒドロキシ−２−メチルプロパンなどをあげることができる。より高い吸光度（質量あたりの紫外線の吸光度）を発揮しうるという観点からは、アルキル基の炭素数は、１〜２の整数であること（すなわち、メチル基またはエチル基）が好ましい。

加水分解反応における上記酸触媒としては、公知の酸触媒を適宜用いることができる。上記酸触媒として、たとえば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、安息香酸、サリチル酸、フタル酸、ｐ−トルエンスルホン酸などをあげることができる。これらの酸触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

加水分解反応における上記塩基性触媒としては、公知の塩基性触媒を適宜用いることができる。上記塩基性触媒として、たとえば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミンおよびピリジン等の有機アミン類などをあげることができる。これらの塩基性触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ４）において、化合物（Ｇ）に対する化合物（Ｈ）のモル比（化合物（Ｈ）のｍｏｌ／化合物（Ｇ）のｍｏｌ）を、たとえば、１０〜１００（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、２０〜８０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ４）において、化合物（Ｇ）に対する上記触媒の添加量は、公知の方法を用いて適宜添加することで行うことができる。化合物（Ｇ）（０．５〜５ｇ）の溶液１０ｍｌに対して、たとえば、５ｍｌピペットで１〜１０滴の範囲で添加して行うことができ、好ましくは３〜５滴添加して行うことができる。また、上記触媒が溶媒として用いることができる場合には、上記触媒を溶媒として、化合物（Ｇ）を直接溶解または懸濁させて反応させてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ４）において、上記反応は各原料（および触媒等）を適宜溶液中で行ってもよく、原料が溶媒となる場合、原料のみを混合して反応溶液として用いてもよい。特にまず加水分解だけ行う手法の場合、濃硫酸や濃塩酸を液状の化合物（Ｇ）に加えて加熱処理する手法などを用いることができる。上記溶液とする場合の溶媒として、必要に応じて水などの公知の溶媒を適宜用いることができる。これらの溶媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ４）において、反応温度は、たとえば、８０〜１８０℃で行うことができ、１００〜１６０℃で行われることが好ましい。また、特にエステル化反応などにおいて、縮合により生じる水を留去して反応の平衡をシフトさせる（反応転化率をあげる）手法を用いてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ４）において、反応時間は、たとえば、２〜４８ｈｒで行うことができ、４〜２４ｈｒで行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ４）において、反応生成物の生成は、公知の精製手法を適宜用いることができる。上記精製手法として、たとえば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、再結晶法、再沈澱法、溶媒抽出方法、蒸留、減圧蒸留などをあげることができる。これらの精製手法は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

また、本発明の（Ｉ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩のうち、化合物（Ｋ）はＸがＣＯＮＲ^３Ｒ^４にあたる化合物またはその塩の合成例のスキーム（スキーム２）を示す。

化合物（Ｋ）は、たとえば、化合物（Ｇ）またはその塩と、化合物（Ｊ）またはその塩とを反応（Ｓｔｅｐ５）させて製造することができる。

化合物（Ｊ）において、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１２−Ｏ）ｒ−Ｒ^１３（ただし、Ｒ^４またはＲ^５の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）を表す。化合物（Ｋ）のＲ^４およびＲ^５ついては、目的生成物である化合物（Ｇ）に対応する構造のアミンまたはその塩を用いることができる。

上記アミド化反応としては、たとえば、公知の加水分解反応およびアミド化反応を用いることができる。上記加水分解反応として、たとえば、酸触媒または塩基性触媒を加えて加熱する方法などをあげることができる。また、上記アミド化反応として、たとえば、加水分解した（Ｇ）にモル等量以上の化合物（Ｊ）を加えて加熱処理する方法、化合物（Ｇ）を加水分解後もしくは化合物（Ｇ）から直接にアミド化求核置換反応が有利になるような脱離基に変換した後に化合物（Ｊ）によるアミド化を行う方法、加水分解した化合物（Ｇ）と化合物（Ｊ）とを縮合剤等を用いて反応する方法などをあげることができる。また、上記アミド化反応において、公知の触媒を適宜用いてもよい。

化合物（Ｊ）として、たとえば、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（４−ヒドロキシブチル）アミン、２−ヒドロキシ−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２，４−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、２，３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピペリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，５−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，５−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，３−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジンなどをあげることができる。

上記加水分解反応における酸触媒としては、公知の酸触媒を適宜用いることができる。上記酸触媒として、たとえば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、安息香酸、サリチル酸、フタル酸、ｐ−トルエンスルホン酸などをあげることができる。これらの酸触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記加水分解反応における塩基性触媒としては、公知の塩基性触媒を適宜用いることができる。上記塩基性触媒として、たとえば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミンおよびピリジン等の有機アミン類などをあげることができる。これらの塩基性触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記アミド化触媒としては、公知の触媒を適宜用いることができる。上記触媒として、たとえば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピロリジン、ピペリジンなどの三級アミン類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどの求核性の低い芳香族アミンなどをあげることができる。これらの触媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。また、特に、化合物（Ｇ）を一旦酸クロライドに変換してアミド化を行う場合には、上記の求核性の低い三級アミンや芳香族アミンを塩化物イオンの受容体として等量または過剰に加えて、反応の平衡をシフトさせる（反応転化率をあげる）手法を用いてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、化合物（Ｇ）に対する化合物（Ｊ）のモル比（化合物（Ｊ）のｍｏｌ／化合物（Ｇ）のｍｏｌ）を、たとえば、１０〜１００（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、２０〜８０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、化合物（Ｇ）に対する上記触媒の添加量は、公知の方法を用いて適宜添加することで行うことができる。化合物（Ｇ）（０．５〜５ｇ）の溶液１０ｍｌに対して、たとえば、５ｍｌピペットで１〜１０滴の範囲で添加して行うことができ、好ましくは３〜５滴添加して行うことができる。また、上記触媒が溶媒として用いることができる場合には、上記触媒を溶媒として、化合物（Ｇ）を直接溶解または懸濁させて反応させてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、化合物（Ｇ）に対する上記アミド化触媒のモル比（上記触媒のｍｏｌ／化合物（Ｇ）のｍｏｌ）を、たとえば、０．０１〜１（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行うことができ、０．０５〜０．５（ｍｏｌ／ｍｏｌ）で行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、上記反応は各原料（および触媒等）を適宜溶液中で行ってもよく、原料が溶媒となる場合、原料のみを混合して反応溶液として用いてもよい。特に化合物（Ｊ）として常温（２５℃）で液状であるアミン類を用い、原料のみを混合して反応溶液として用いることが好ましい。上記溶液とする場合の溶媒として、公知の溶媒を適宜用いることができる。上記溶媒として、たとえば、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルエチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルブチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシプロピル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−１−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−２−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−３−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ−４−ヒドロキシブチル−Ｎ−プロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシプロピル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヒドロキシブチル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（４−ヒドロキシブチル）アミン、２−ヒドロキシ−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピロリジン、２，４−ヒドロキシ−３−エチル−１−ピロリジン、２，３−ヒドロキシ−２−エチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシ−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−１−ピロリジン、２，３−ジヒドロキシ−１−ピペリジン、２−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、２，５−ジヒドロキシ−３−メチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，５−ジヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、３，４−ヒドロキシ−２−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピロリジン、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピロリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピロリジン、２−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，３−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、３，４−ジヒドロキシメチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシメチル−３−メチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−１−ピペリジン、２−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジン、３−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−２−メチル−１−ピペリジン、４−ヒドロキシエチル−３−メチル−１−ピペリジンなどをあげることができる。これらの溶媒は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、反応温度は、たとえば、８０〜１８０℃で行うことができ、１００〜１６０℃で行われることが好ましい。また、反応により生じる反応物を留去して反応の平衡をシフトさせる（反応転化率をあげる）手法を用いてもよい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、反応時間は、たとえば、２〜４８ｈｒで行うことができ、４〜２４ｈｒで行われることが好ましい。

上記反応（ｓｔｅｐ５）において、反応生成物の生成は、公知の精製手法を適宜用いることができる。上記精製手法として、たとえば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、再結晶法、再沈澱法、溶媒抽出方法、蒸留、減圧蒸留などをあげることができる。これらの精製手法は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

〔アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の用途〕
（紫外線吸収剤）
本発明の紫外線吸収剤は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を必須の成分として含むことを特徴としている。このため、本発明の紫外線吸収剤は、親水性を有し、中性で皮膚にも（さらに環境や生体にも）より安全であって、優れた紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有するものとなる。特に、水系組成物（水系溶液やエマルションなど）に好適に用いることができる。また、上記紫外線吸収剤は、それぞれ必要に応じて任意成分を含んでいてもよい。また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記紫外線吸収剤において、上記紫外線吸収剤（全体量）に対する上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体（およびその塩）の含有量は、たとえば、０．００１〜１００（重量％）とすることができ、０．１〜１０（重量％）であることがより好ましく、０．１〜１（重量％）であることがさらに好ましい。

上記任意成分としては、たとえば、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩と異なる公知の有機系紫外線吸収剤や無機紛体系紫外線遮蔽剤などをあげることができる。また、適宜その他の任意成分を加えて、または他の任意成分中に加えて、紫外線吸収組成物として用いてもよい。

（皮膚外用剤）
本発明の皮膚外用剤は、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を必須の成分として含むことを特徴としている。このため、親水性を有し、中性で皮膚に安全であって、優れた紫外線Ａ波（ＵＶＡ）吸収作用を有するものとなり、特に、ヒトおよび動物の毛および皮膚の適用箇所において、ＵＶ曝露に起因する損傷を低減することができる。また、水系皮膚外用組成物（水溶液型またはエマルション型の皮膚外用組成物）に好適に用いることができ、皮膚外用剤の適用箇所を洗浄する際に、適用箇所からアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を、特殊な洗浄剤を用いなくても水洗で容易に除去できる高い洗浄性を発揮することができる。上記皮膚外用剤は、たとえば、化粧料、日焼け止め組成物などとして用いることができる。また、上記皮膚外用剤は、それぞれ必要に応じて任意成分を含んでいてもよい。また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

上記皮膚外用剤において、上記皮膚外用剤（全体量）に対する上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体（およびその塩）の含有量は、たとえば、０．１〜１００（重量％）とすることができ、０．５〜２０（重量％）であることがより好ましく、１〜１０（重量％）であることがさらに好ましい。

上記水系皮膚外用組成物とは、化粧水等、水を、たとえば、組成物１００重量％あたり、３０〜９９重量％の量で含む皮膚外用組成物を指す。

また、上記アミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、スルホン酸基などのような酸性基、または塩基性基を基本構造として有しておらず皮膚外用組成物のｐＨにあまり影響を与えない。よって、本発明の皮膚外用剤は、皮膚に安全であって、かつ、特に制限なく公知の成分を含むことができる。

上記皮膚外用剤は、特に、日常生活で使用され、良好な洗浄性が求められているような現在のニーズにかなった日焼け止め組成物等として使用することができる。

なお、本発明の皮膚外用剤には、たとえば、上述の有機系紫外線吸収剤や無機粉体系紫外線遮蔽剤、液体油脂、固体油脂、ロウ、炭化水素、高級脂肪酸、高級アルコール、エステル類、シリコーン類、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、保湿剤、水溶性高分子化合物、増粘剤、被膜剤、金属イオン封鎖剤、低級アルコール、多価アルコール、糖類、アミノ酸類、有機アミン類、ｐＨ調整剤、皮膚栄養剤、ビタミン類、酸化防止剤、香料、粉末、色材または水等を配合することができる。これらの任意成分は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

（その他の用途）
本発明のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩は、皮膚外用剤以外の製品、たとえば、塗料、染料、顔料、各種樹脂、合成ゴム、ラテックス、包装材料（フィルム、合成樹脂製容器等）、コンタクトレンズまたは繊維等に配合して各種の組成物または製品として、これら塗料等を紫外線から防御することも可能である。

以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。なお、実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。

＜ＵＶスペクトルの測定＞
ＵＶスペクトルの測定は、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−４２５０）を用いて行った。より詳細には、各ＵＶスペクトルの測定は、溶媒としてエタノールを用い、試料溶液の濃度５ｐｐｍで、光路長１ｃｍの石英セルを用いて行った。なお、吸光度は、Ｌａｍｂｅｒｔ−ｂｅｅｒの法則に従って、Ｉｏを空のセルの透過光強度、Ｉが試料セルの透過光強度とした場合、吸光度＝−ｌｏｇ_１０（Ｉ／Ｉ_０）で算出した。また、得られたＵＶスペクトルにおける吸光度が最大となる波長をλｍａｘ（ｎｍ）とした。

＜^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定＞
^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定は、核磁気共鳴装置（日本電子社製、ＪＮＭ−ＥＣＰ５００）を用いて行った。より詳細には、各^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定は、溶媒としてＤＭＳＯ−ｄ_６を用い、内部標準としてテトラメチルシランを用いて行った。

＜親水性の評価＞
試料化合物を下記試験溶媒に溶解させ、性状確認を行うとともに、２５℃下での試験溶媒１００ｇに対する溶解度（ｇ／１００ｇ試験溶媒）を測定した。

（試験溶媒）
ジプロピレングリコール、エタノール、および精製水を、それぞれ１０質量％、１０質量％、８０質量％の量で含む混合溶媒を試験溶媒として用いた。ただし、ジプロピレングリコール、エタノール、および精製水の合計量を１００質量％とした。

（評価方法）
測定された上記溶解度が、１．０（ｇ／１００ｇ試験溶媒）以上であった場合、上記試料化合物は親水性を有すると評価し、一方、上記溶解度が、１．０（ｇ／１００ｇ試験溶媒）未満であった場合、上記試料化合物は親水性を有さないと評価した。

〔実施例１〕
＜２−［４−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミド（化合物（１））の合成＞

１００ｍｌナス型フラスコ中に、３−フルオロフェノール３．３６ｇ（３０ｍｍｏｌ）、フタル酸無水物４．８９ｇ（３３ｍｍｏｌ）、塩化アルミニウム８．００ｇ（６０ｍｍｏｌ）を加えて、１４０℃で３時間加熱した。反応混合液が室温まで冷えた後、水および２Ｎ塩酸を適量加え、クロロホルム１００ｍｌで３回抽出した。得られた有機層を合わせ、５Ｎ水酸化ナトリウム５０ｍｌで３回抽出した。得られた水層を合わせ、濃塩酸を加えてｐＨ１以下に調整した後、クロロホルム１００ｍｌで３回抽出した。得られた有機層を合わせ、水５０ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。その後、硫酸ナトリウムをろ過して除去し、溶剤を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−（４−フルオロ−２−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸（化合物（ａ））７４０ｍｇ（収率９．５％）を得た。

３０ｍｌナス型フラスコに、得られた化合物（ａ）７４０ｍｇを加え、さらにメタノール３ｍｌ、および濃硫酸をピペットで３滴を加え、１４時間還流下で撹拌しながら加熱した。反応混合液が室温まで冷えた後、水を適量加え、酢酸エチル３０ｍｌで３回抽出した。得られた有機層を合わせ、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍｌで１回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。その後、硫酸ナトリウムをろ過して除去し、溶剤を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−（４−フルオロ−２−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸メチルエステル（化合物（ｂ））４４０ｍｇ（収率５６％）を得た。

３０ｍｌナス型フラスコ中に、得られた化合物（ｂ）３８４ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）およびＮ−メチルエタノールアミン６３１ｍｇ（８．４ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で４時間撹拌しながら加熱した。溶剤を減圧下で留去し、黄褐色油状物質を得た。得られた物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝５０／１→２０／１（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−［４−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミド（化合物（１））３９０ｍｇ（収率７５％）を得た。また、上記化合物（１）は親水性を有するものであった（＞２５（ｇ／１００ｇ試験溶媒））。

（化合物（１）のスペクトルデータ）
ＵＶスペクトル：λｍａｘ；３６２ｎｍ、吸光度；０．５０（エタノール）
^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル：δ〔ｐｐｍ、ＤＭＳＯ−ｄ_６〕＝２．８７（ｓ、３Ｈ）、３．０４（ｓ、３Ｈ）、３．３７−３．３９（ｍ、２Ｈ）、３．４３−３．５７（ｍ、６Ｈ）、４．８０（ｔ、２Ｈ）、６．１３（ｄ、１Ｈ）、６．３１（ｄｄ、１Ｈ）、７．０９（ｄ、１Ｈ）、７．４３−７．５８（ｍ、４Ｈ）、１２．６２（ｓ、１Ｈ）。

〔実施例２〕
＜２−［４−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステル（化合物（２））の合成＞

３０ｍｌナス型フラスコ中に、得られた化合物（１）１２７ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ）を加え、さらに濃塩酸２ｍｌを加え、１００℃で３時間撹拌しながら加熱した。薄層クロマトグラフィーを用いて化合物（１）が消失したことを確認した後、得られた黄褐色の液にジエチレングリコール２ｍｌを加えて、１３０℃で３時間撹拌しながら加熱した。溶剤を減圧下で留去し、黄褐色油状物質を得た。得られた物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝２０／１（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−［４−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステル（化合物（２））９３ｍｇ（収率６８％）を得た。また、上記化合物（２）は親水性を有するものであった（＞２５（ｇ／１００ｇ試験溶媒））。

（化合物（２）のスペクトルデータ）
ＵＶスペクトル：λｍａｘ；３５３ｎｍ、吸光度；０．３７（エタノール）
^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル：δ〔ｐｐｍ、ＤＭＳＯ−ｄ_６〕＝３．０２（ｓ、３Ｈ）、３．３４−３．３７（ｍ、２Ｈ）、３．４２−３．４５（ｍ、２Ｈ）、３．４６−３．５０（ｍ、２Ｈ）、３．５３−３．５６（ｍ、４Ｈ）、４．２０（ｔ、２Ｈ）、４．６０（ｔ、１Ｈ）、４．７９（ｔ、１Ｈ）、６．１５（ｄ、１Ｈ）、６．２４（ｄｄ、１Ｈ）、６．８１（ｄ、１Ｈ）、７．４４（ｄ、１Ｈ）、７．６６（ｔ、１Ｈ）、７．７４（ｔ、１Ｈ）、７．９９（ｄ、１Ｈ）、１２．５３（ｓ、１Ｈ）。

〔実施例３〕
＜２−［４−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルエステル（化合物（３））の合成＞

３０ｍｌナス型フラスコ中に、得られた化合物（１）４０９ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）を加え、さらに濃塩酸３ｍｌを加え、１００℃で１時間撹拌しながら加熱した。薄層クロマトグラフィーを用いて化合物（１）が消失したことを確認した後、得られた黄褐色の液にテトラエチレングリコール３ｍｌを加えて、１３０℃で９時間撹拌しながら加熱した。溶剤を減圧下で留去し、黄褐色油状物質を得た。得られた物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝２０／１（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−［４−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルエステル（化合物（３））２０６ｍｇ（収率３８％）を得た。また、上記化合物（３）は親水性を有するものであった（＞２５（ｇ／１００ｇ試験溶媒））。

（化合物（３）のスペクトルデータ）
ＵＶスペクトル：λｍａｘ；３５２ｎｍ、吸光度；０．３２（エタノール）
^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル：δ〔ｐｐｍ、ＤＭＳＯ−ｄ_６〕＝３．０２（ｓ、３Ｈ）、３．３６−３．４０（ｔ、２Ｈ）、３．４４−３．４５（ｍ、４Ｈ）、３．４６−３．５１（ｍ、８Ｈ）、３．５２−３．５６（ｍ、４Ｈ）、４．１９（ｔ、２Ｈ）、４．５９（ｔ、１Ｈ）、４．７８（ｔ、１Ｈ）、６．１５（ｄ、１Ｈ）、６．２４（ｄｄ、１Ｈ）、６．８２（ｄ、１Ｈ）、７．４４（ｄ、１Ｈ）、７．６６（ｔ、１Ｈ）、７．７４（ｔ、１Ｈ）、７．９９（ｄ、１Ｈ）、１２．５３（ｓ、１Ｈ）。

〔実施例４〕
＜２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミド（化合物（４））の合成＞

３０ｍｌナス型フラスコ中に、得られた化合物（ｂ）４１５ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）、およびジエタノールアミン９４６ｍｇ（９．０ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で１．５時間撹拌しながら加熱した。溶剤を減圧下で留去し、黄褐色油状物質２．１５ｇ得た。得られた物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝２０／１→５／１（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミド（化合物（４））３８０ｍｇ（収率５９％）を得た。また、上記化合物（４）は親水性を有するものであった（＞２５（ｇ／１００ｇ試験溶媒））。

（化合物（４）のスペクトルデータ）
ＵＶスペクトル：λｍａｘ；３６２ｎｍ、吸光度；０．４５（エタノール）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル：δ〔ｐｐｍ、ＤＭＳＯ−ｄ_６〕＝３．２６（ｔ、２Ｈ）、３．４１−３．４５（ｍ、４Ｈ）、３．４９−３．５７（ｍ、１０Ｈ）、４．６９（ｔ、１Ｈ）、４．７８（ｔ、１Ｈ）、４．８５（ｔ、２Ｈ）、６．１７（ｄ、１Ｈ）、６．３０（ｄｄ、１Ｈ）、７．０５（ｄ、１Ｈ）、７．４４−７．５９（ｍ、４Ｈ）、１２．６２（ｓ、１Ｈ）。

〔実施例５〕
＜２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステル（化合物（５））の合成＞

３０ｍｌナス型フラスコ中に、得られた化合物（４）３６０ｍｇ（０．０８３ｍｍｏｌ）を加え、さらに濃塩酸７ｍｌを加え、１２０℃で２時間撹拌しながら加熱した。薄層クロマトグラフィーを用いて化合物（４）が消失したことを確認した後、得られた黄褐色の液にジエチレングリコール３．５ｍｌを加えて、１２０℃で３時間撹拌しながら加熱した。溶剤を減圧下で留去し、黄褐色油状物質６４０ｍｇ得た。得られた物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝２０／１（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステル（化合物（５））１４９ｍｇ（収率４１％）を得た。また、上記化合物（５）は親水性を有するものであった（＞２５（ｇ／１００ｇ試験溶媒））。

（化合物（５）のスペクトルデータ）
ＵＶスペクトル：λｍａｘ；３５３ｎｍ、吸光度；０．３７（エタノール）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル：δ〔ｐｐｍ、ＤＭＳＯ−ｄ_６〕＝３．３５−３．３６（ｍ、２Ｈ）、３．４２−３．４５（ｍ、２Ｈ）、３．４８−３．５１（ｍ、４Ｈ）、３．５４−３．５６（ｍ、６Ｈ）、４．２１（ｔ、２Ｈ）、４．５９（ｔ、１Ｈ）、４．８４（ｔ、２Ｈ）、６．１８（ｄ、１Ｈ）、６．２４（ｄｄ、１Ｈ）、６．８０（ｄ、１Ｈ）、７．４４（ｄ、１Ｈ）、７．６６（ｔ、１Ｈ）、７．７４（ｔ、１Ｈ）、７．９９（ｄ、１Ｈ）、１２．５１（ｓ、１Ｈ）。

〔実施例６〕
＜２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルエステル（化合物（６））の合成＞

３０ｍｌナス型フラスコ中に、得られた化合物（４）５５７ｍｇを加え、さらに濃塩酸３ｍｌを加え、１００℃で１時間撹拌しながら加熱した。薄層クロマトグラフィーを用いて化合物（４）が消失したことを確認した後、得られた黄褐色の液にテトラエチレングリコール３ｍｌを加えて、１３０℃で８時間撹拌しながら加熱した。溶剤を減圧下で留去し、黄褐色油状物質を得た。得られた物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝２０／１（Ｖ／Ｖ））を用いて精製し、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ−２−ヒドロキシベンゾイル］安息香酸 ２−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルエステル（化合物（６））２４８ｍｇ（収率３７％）を得た。また、上記化合物（６）は親水性を有するものであった（＞２５（ｇ／１００ｇ試験溶媒））。

（化合物（６）のスペクトルデータ）
ＵＶスペクトル：λｍａｘ；３５３ｎｍ、吸光度；０．３１（エタノール）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル：δ〔ｐｐｍ、ＤＭＳＯ−ｄ_６〕＝３．３７−３．４０（ｍ、２Ｈ）、３．４２−３．４４（ｍ、４Ｈ）、３．４６−３．５１（ｍ、１０Ｈ）、３．５３−３．５６（ｍ、６Ｈ）、４．２０（ｔ、２Ｈ）、４．６０（ｔ、１Ｈ）、４．８４（ｔ、２Ｈ）、６．１８（ｄ、１Ｈ）、６．２４（ｄｄ、１Ｈ）、６．８１（ｄ、１Ｈ）、７．４４（ｄ、１Ｈ）、７．６６（ｔ、１Ｈ）、７．７４（ｔ、１Ｈ）、７．９９（ｄ、１Ｈ）、１２．５２（ｓ、１Ｈ）。

〔実施例７〜９９〕
実施例１において、Ｎ−メチルエタノールアミンに代えて下記アミン化合物１〜９３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして（必要であれば適宜溶媒等を加え）、下記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体（化合物（７）〜（９９））を得ることができる（表１〜４参照）。

〔実施例１００〜３６７〕
実施例２において、化合物（１）に代えて下記アミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体を、ジエチレングリコールに代えて下記アルコール化合物を、それぞれ用いたこと以外は、実施例２と同様にして（必要であれば適宜溶媒等を加え）、下記アミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体（化合物（１００）〜（３８７））を得ることができる（表５〜１２参照）。

Claims (9)

1. 一般式（Ｉ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩。
   

   

   （式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
   Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
   Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。
   Ｘは、ＣＯＯＲ^３またはＣＯＮＲ^４Ｒ^５を表し、Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表し、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１２−Ｏ）_ｒ−Ｒ^１３を表し（ただし、Ｒ^４またはＲ^５の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^４Ｒ^５は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
   Ｒ^１０は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１１は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｑは、１〜４の整数であり、ｑが２以上の場合には、複数存在するＲ^１０は同一でも異なっていてもよい。
   Ｒ^１２は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｒは、１〜４の整数であり、ｒが２以上の場合には、複数存在するＲ^１２は同一でも異なっていてもよい。
   Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、０〜４の整数であり、ｍとｎはそれぞれ独立しており、ｍが２以上の場合には、複数存在するＲ^６は同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ^７は同一でも異なっていてもよい。）
2. Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｘは、ＣＯＯＲ^３であって、Ｒ^３は、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１である、請求項１に記載のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩。
3. Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｘは、ＣＯＮＲ^４Ｒ^５であって、Ｒ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基である、請求項１に記載のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩の製造方法。
4. 一般式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩と、
   

   

   （式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
   Ｙは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、または、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などのスルホン酸エステル基を表す。
   Ｒ^１４は、−Ｏ−Ｒ^１５、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、Ｒ^１５は、炭素数１〜４の直鎖、または、分岐のアルキル基を表す。
   Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立して、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、ヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、０〜４の整数であり、ｍとｎはそれぞれ独立しており、ｍが２以上の場合には、複数存在するＲ^６は同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ^７は同一でも異なっていてもよい。）
   一般式（ＩＩＩ）で表される化合物またはその塩とを反応させることを特徴とする、
   

   

   （式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
   Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
   Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。）
   一般式（ＩＶ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩の製造方法。
   

   
5. Ｙは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素であって、Ｒ^１４は、−Ｏ−Ｒ^１５を表し、Ｒ^１５は、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基である、請求項４に記載のアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩の製造方法。
6. 一般式（ＩＶ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンアミド誘導体またはその塩と、
   

   

   （式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
   Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^８−Ｏ）_ｐ−Ｒ^９を表し（ただし、Ｒ^１またはＲ^２の１つが水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であってもよい）、また、ＮＲ^１Ｒ^２は、５または６員のヘテロ環を形成していてもよく、該ヘテロ環は少なくとも１つのヒドロキシル基で置換されており、該ヘテロ環はさらに置換されていてもよい。
   Ｒ^８は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^９は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｐは、１〜４の整数であり、ｐが２以上の場合には、複数存在するＲ^８は同一でも異なっていてもよい。）
   一般式（Ｖ）で表される化合物またはその塩とを反応させることを特徴とする、
   

   

   （式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有する。
   Ｒ^３は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１を表す。
   Ｒ^１０は、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｒ^１１は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｑは、１〜４の整数であり、ｑが２以上の場合には、複数存在するＲ^１０は同一でも異なっていてもよい。）
   一般式（ＶＩ）で表されるアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体またはその塩の製造方法。
   

   
7. Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも一方は、少なくとも１つのヒドロキシル基で置換された炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基であって、Ｒ^３は、−（Ｒ^１０−Ｏ）_ｑ−Ｒ^１１である、請求項６に記載のアミノヒドロキシベンゾフェノンエステル誘導体またはその塩の製造方法。
8. 請求項１〜３のいずれかに記載のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を含む紫外線吸収剤。
9. 請求項１〜３のいずれかに記載のアミノヒドロキシベンゾフェノン誘導体またはその塩を含む皮膚外用剤。