KR20150056526A - 노광 장치의 제진장치 및 제진방법 - Google Patents

노광 장치의 제진장치 및 제진방법 Download PDF

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Abstract

제진 중에 제진 롤러에 일단 부착되어 제거된 먼지, 쓰레기나 이물질 등이 제진대상물에 재부착될 우려가 없는 노광 장치의 제진장치 및 제진방법을 얻는다.
감광성 기판에 대해서 패턴을 노광하는 노광장치에 있어서, 둘레면에 의해, 상기 노광 장치 내의 제진대상물의 제진표면에 접리 가능한 제진 롤러와, 상기 제진 롤러의 둘레면을 상기 제진대상물의 제진표면에 접촉시키면서, 상기 제진 롤러가 회전하도록, 상기 제진 롤러와 제진대상물을 상대 이동시키는 이동 기구를 구비하고, 상기 제진 롤러의 둘레 길이는, 상기 이동 기구에 의한 상기 제진 롤러의 둘레면과 상기 제진대상물의 제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제진장치.

Description

노광 장치의 제진장치 및 제진방법{DUST REMOVAL DEVICE AND DUST REMOVAL METHOD FOR EXPOSURE DEVICE}
본 발명은, 감광성 기판에 대해서 패턴을 노광시키는 노광 장치에 관한 것으로, 특히 그 제진장치 및 제진방법에 관한 것이다.
프린트 기판, 반도체 기판 등의 각종 기판의 제조에는, 포토레지스트(photoresist)(감광 재료)를 도포한 워크(감광성 기판)에 소정의 패턴을 노광하여 인화하고, 그 후 에칭 공정에 의해 워크 상에 패턴을 형성하는 포토그라피 기술을 이용한 노광 장치가 넓게 이용되고 있다. 이러한 노광 장치에는, 마스크와 워크를 밀착시켜 노광하는 컨택트 노광 방식, 마스크와 워크가 비접촉의 프록시미티 갭(proximity gap) 방식 및 프로젝션 방식, 마스크를 가지지 않는 다이렉트 노광 방식 등의 각종이 알려져 있다. 또, 워크의 양면을 노광하는 양면 노광 방식, 한 면에만 노광을 실시하는 편면 노광 방식도 알려져 있다.
어느 방식의 노광 장치에 있어서도, 외부 환경에서 먼지, 쓰레기 혹은 이물 등(이하에서는 적당하게 이것들을 「먼지」라고 총칭한다)에 오염된 워크가 노광 장치 내에 들어가면, 오염된 워크 자체에 노광 결함, 현상 결함이 생겨버린다. 또, 워크를 재치하는 노광 테이블이나, 마스크를 이용하는 장치에서는 마스크에 먼지가 전사되어버려서, 마찬가지로 노광 결함, 현상 결함의 원인이 될 가능성이 있다. 또, 워크의 포토레지스트로부터의 발진도 동일한 문제를 발생시킨다.
일본특허공개 특개2002-162749호 공보 일본특허공개 특개2007-25436호 공보 일본특허공개 특개2009-157249호 공보
특허문헌 1, 2, 3은, 이러한 노광 장치의 제진대상물(워크, 노광 테이블 혹은 마스크)의 제진을 실시하기 위해, 둘레면에 점착재를 가지는 제진 롤러(점착 롤러)를 제진대상물 표면에서 전동시키는 제진장치를 제안하고 있다.
그러나, 특허문헌 1의 제진장치는, 제진 롤러가 마스크와 노광 테이블 위에서 전동할 때, 일단 제진 롤러에 부착된 먼지가 다시 마스크 또는 노광 테이블로 이동(재부착)할 우려가 있다. 특허문헌 2의 제진장치는, 마스크 제진용의 제진 롤러와 노광 테이블 제진용의 제진 롤러를 개별적으로 설치하고 있지만, 마찬가지로, 일단 제진 롤러에 부착된 먼지가 다시 마스크 또는 노광 테이블로 이동(재부착)할 우려가 있다. 특허문헌 3의 제진장치는, 워크, 노광 테이블 및 마스크의 각각을 제진하는 제진 롤러를 1개의 클리닝 유닛에 설치하고 있기 때문에, 장치가 대형화, 중량화된다. 또, 특허문헌 1, 2의 제진장치와 달리, 워크의 반송 장치와의 겸용화를 할 수 없다는 문제가 있다.
본 발명은, 종래 장치에 대한 이상의 문제 의식에 근거하여, 제진 중에 제진 롤러에 일단 부착되어 제거된 먼지, 쓰레기 혹은 이물 등이 제진대상물에 재부착될 우려가 없는 노광 장치의 제진장치 및 제진방법을 얻는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 노광 장치의 제진장치는, 감광성 기판에 대해서 패턴을 노광하는 노광 장치에 있어서, 둘레면에 의해, 상기 노광 장치 내의 제진대상물의 제진표면에 접리(接離) 가능한 제진 롤러와, 상기 제진 롤러의 둘레면을 상기 제진대상물의 제진표면에 접촉시키면서, 상기 제진 롤러가 회전하도록, 상기 제진 롤러와 제진대상물을 상대 이동시키는 이동 기구를 구비하고, 상기 제진 롤러의 둘레 길이는, 상기 이동 기구에 의한 상기 제진 롤러의 둘레면과 상기 제진대상물의 제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정되는 것을 특징으로 하고 있다.
상기 제진 롤러로서, 단일의 제진대상물의 제진표면을 복수로 분할한 분할제진표면 상을 전동하는 복수의 제진 롤러를 설치하고, 각 제진 롤러의 둘레 길이를, 각 제진 롤러의 둘레면과 각 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정할 수 있다.
상기 제진 롤러로서, 단일의 제진대상물의 제진표면을 2개로 분할한 제1, 제2 분할제진표면 상을 전동하는 제1, 제2 제진 롤러를 설치하고, 상기 제1 제진 롤러의 둘레 길이를, 상기 제1 제진 롤러의 둘레면과 상기 제1 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정하고, 상기 제2 제진 롤러의 둘레 길이를, 상기 제2 제진 롤러의 둘레면과 상기 제2 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정할 수 있다.
본 발명의 노광 장치의 제진장치는, 상기 제1 제진 롤러의 상기 제1 분할제진표면 상의 전동과, 상기 제2 제진 롤러의 상기 제2 분할제진표면 상의 전동을 교대로 실시하게 하는 제어부를 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 제진 롤러는, 단일의 제진대상물의 전(全) 제진표면 상을 전동하는 단일 롤러로 구성할 수도 있다.
상기 이동 기구는, 감광성 기판을 보관 유지해 이동시키는 워크 이동 기구를 겸할 수 있다.
상기 제진대상물은, 감광성 기판, 노광 테이블 및 마스크의 하나 이상을 포함할 수 있다.
본 발명의 노광 장치의 제진장치는, 상기 제진 롤러에 부착된 먼지를 집진하는 집진장치를 더 구비하는 것이 바람직하다.
본 발명의 노광 장치의 제진방법은, 제진 롤러를 그 둘레면을 노광 장치 내의 제진대상물의 제진표면에 접촉시키면서 전동시켜 제진하는 제진 공정과, 제진 공정이 종료된 상기 제진 롤러의 둘레면을 청소하는 청소 공정을 교대로 실행하는 노광 장치의 제진방법에 있어서, 1회의 제진 공정에서는, 상기 제진 롤러의 둘레면 상의 동일 부분을 상기 제진대상물의 제진표면에 두번 접촉시키는 일이 없이 제진하는(제진 롤러가 1회전 미만의 전동으로 제진한다) 것을 특징으로 하고 있다.
본 발명에 의하면, 제진 롤러는, 제진 중에, 그 동일 부분이 제진대상물의 제진표면에 두 번 접촉하는 일이 없다(제진 롤러가 1회전 미만의 전동으로 제진한다). 이 때문에, 제진 중에 제진 롤러에 일단 부착되어 제거된 먼지, 쓰레기 혹은 이물 등이 제진대상물에 재부착될 우려가 없고, 재부착에 기인하는 노광 결함이나 현상 결함을 미연에 방지할 수 있다.
[도 1] 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광 장치의 제진장치의 개략 구성을 나타내는 측면 투시도이다.
[도 2] 제진장치(클리닝 유닛)의 상세한 구성을 나타내는 평면도이다.
[도 3] 제진장치(클리닝 유닛)의 상세한 구성을 나타내는 측면도이다.
[도 4] 제진 롤러와 전사 롤러와의 위치 관계를 나타내는 이면(二面)도이다.
[도 5] 제1 제진 롤러 및 제2 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)와 제진대상물인 워크의 제진표면과의 관계를 나타내는 도면이다.
[도 6] 제1 제진 롤러 및 제2 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)와 제진대상물인 노광 테이블의 제진표면과의 관계를 나타내는 도면이다.
[도 7] 제1 제진 롤러 및 제2 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)와 제진대상물인 마스크의 제진표면과의 관계를 나타내는 도면이다.
[도 8] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제1 공정도이다.
[도 9] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제2 공정도이다.
[도 10] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제3 공정도이다.
[도 11] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제4 공정도이다.
[도 12] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제5 공정도이다.
[도 13] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제6 공정도이다.
[도 14] 노광 장치의 제진장치의 동작을 나타내는 제7 공정도이다.
이하, 도 1 내지 도 14를 참조하여, 본 발명에 의한 노광 장치의 제진장치의 일 실시 형태에 대해 설명한다. 본 실시 형태는, 마스크와 워크를 밀착시켜 노광하는 컨택트 노광 방식에 의해 워크의 양면에 노광하는 타입의 노광 장치(EX)에 본 발명을 적용한 것이다. 이하의 설명에서의 x, y, z의 각 방향은, 도면 중에 기재한 화살표 방향을 기준으로 하고 있다.
본 실시형태에서 사용하는 워크(감광성 기판, 제진대상물)(W)는, 노광 및 에칭 처리 후에 회로 배선으로서 남는 금속막과 포토레지스트층을 양면에 각각 적층한 평면기재로 이루어진다.
<노광 장치의 전체 구성>
도 1에 나타내듯이, 노광 장치(EX)는, 도 1 중의 좌측에서 우측을 향하는 순서로, 투입부(1), 제1 노광부(2), 반전부(3), 제2 노광부(4), 및 배출부(5)를 구비하고 있다.
투입부(1)는, 미노광의 워크(감광성 기판, 제진대상물)(W)를 노광 장치(EX)의 외부에서 내부로 반입하기 위한 반입구이다. 투입부(1)에는, 작업자 또는 반송 장치(도시하지 않음)에 의해서 반입된 워크(W)를 재치하기 위한 스테이지(1a)가 설치되어 있다.
제1 노광부(2)는, 미노광의 워크(W)의 제1 면(상면)에 노광하기 위한 노광 장치이다. 제1 노광부(2)는, 워크(W)를 재치하는 노광 테이블(제진대상물)(8)과, 이 노광 테이블(8)의 윗쪽에 위치하는 소정의 패턴이 그려진 마스크(제진대상물)(10)와, 이 마스크(10)의 윗쪽에 위치하는 광원(14)을 구비하고 있다. 제1 노광부(2)는, 노광 테이블(8)을 마스크(10)에 대해서 승강시키는 승강기구(도시하지 않음)를 구비하고 있고, 이 승강기구에 의해서 노광 테이블(8)을 마스크(10)를 향해서 상승시켰을 때, 노광 테이블(8)에 재치된 워크(W)의 제1 면(상면)에 마스크(10)가 밀착된다. 워크(W)와 마스크(10)을 밀착시킨 상태에서, 광원(14)에 의해서 워크(W)의 포토레지스트층을 감광시키는 파장 대역의 광(예를 들면 자외광)을 조사하면, 마스크(10)에 그려진 소정의 패턴이 워크(W)의 제1 면(상면)의 포토레지스트층에 노광된다. 또, 노광 테이블(8)의 상면에는 다수의 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 이 흡인구를 통해서 공기가 흡인되는 것에 의해서, 노광 테이블(8)의 표면에 워크(W)가 흡착 고정된다.
반전부(3)는, 제1 노광부(2)에 의해서 제1 면(상면)이 노광된 워크(W)의 상하면을 반전시키는 반전 장치(9)를 구비하고 있다. 반전부(3)(반전 장치(9))에 의해서 워크(W)의 상하면을 반전시키면, 노광이 끝난 워크(W)의 제1 면이 하면을 향하고, 미노광의 워크(W)의 제2면이 상면을 향한다.
제2 노광부(4)는, 제1 면(하면)이 노광이 끝난 워크(W)의 제2면(상면)에 노광하기 위한 노광 장치이다. 제2 노광부(4)의 구성은, 제1 노광부(2)의 구성과 동일하기 때문에, 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
배출부(5)는, 제1 노광부(2)와 제4 노광부(4)에 의해서 양면에 노광이 실시된 워크(W)를 노광 장치(EX)의 내부에서 외부로 반출하기 위한 반출구이다. 배출부(5)에는, 노광이 끝난 워크(W)를 재치하기 위한 스테이지(5a)가 설치되어 있고, 스테이지(5a) 상에 재치된 워크(W)가 작업자 또는 반송 장치(도시하지 않음)에 의해서 반출된다.
노광 장치(EX)는, 워크(W)를 보관 유지하고 이를 투입부(1)로부터 제1 노광부(2) 그리고 반전부(3)로 이동시키는 제1 핸들러(워크 이동 기구)(6)를 구비하고 있다. 제1 핸들러(6)는, 워크(W)를 투입부(1)의 스테이지(1a)로부터 제1 노광부(2)의 노광 테이블(8)로 이동시키는 반입 핸들러(6a)와, 워크(W)를 제1 노광부(2)의 노광 테이블(8)로부터 반전부(3)의 반전 장치(9)로 이동시키는 반출 핸들러(6b)를 독립된 구성요소로서 구비하고 있다. 반입 핸들러(6a)와 반출 핸들러(6b)는, 워크(W)를 착탈이 자유롭게 흡착되는 흡착 패드(P)(도 2, 도 3)를 구비하고 있다. 반입 핸들러(6a)와 반출 핸들러(6b)는, 후술하는 반송 프레임(20)에 의해서 도 1 중의 좌우 방향으로 독립하여 이동 가능하게 되어 있다.
노광 장치(EX)는, 워크(W)를 보관 유지하고 이를 반전부(3)로부터 제2 노광부(4) 그리고 배출부(5)로 이동시키는 제2 핸들러(워크 이동 기구)(7)를 구비하고 있다. 제2 핸들러(7)는, 워크(W)를 반전부(3)의 반전 장치(9)로부터 제2 노광부(4)의 노광 테이블(8)로 이동시키는 반입 핸들러(7a)와, 워크(W)를 제2 노광부(4)의 노광 테이블(8)로부터 배출부(5)의 스테이지(5a)로 이동시키는 반출 핸들러(7b)를 독립된 구성요소로서 구비하고 있다. 반입 핸들러(7a)와 반출 핸들러(7b)는, 워크(W)를 착탈이 자유롭게 흡착되는 흡착 패드(P)(도 2, 도 3)를 구비하고 있다. 반입 핸들러(7a)와 반출 핸들러(7b)는, 후술하는 반송 프레임(20)에 의해서 도 1 중의 좌우 방향으로 독립하여 이동 가능하게 되어 있다.
<제진장치의 구성>
제1 노광부(2) 및 제2 노광부(4)에는 각각 동일 구성의 제진장치(클리닝 유닛)(12)가 설치되어 있다. 도 2, 도 3에서는, 제1 노광부(2)에 설치된 제진장치(12)만을 그리고 있으며, 제2 노광부(4)의 구성요소에 대응하는 부호를 괄호 안에 써서 나타내고 있다.
도 2, 도 3에 나타내듯이, 제진장치(12)는, 서로 대향하는 제1 제진장치(12a)와 제2 제진장치(12b)를 구비하고 있다.
제1 제진장치(12a) 및 제2 제진장치(12b)는, 제1 노광부(2)(제2 노광부(4)) 내에 배치된 반송 프레임(20)에 의해서 보관 유지되고 있다. 반송 프레임(20)은, y 방향(워크 반송 방향)으로 뻗은 고정 부재인 한 쌍의 가이드 레일(21), 이 한 쌍의 가이드 레일(21)에 의해서 y 방향(워크 반송 방향)으로 슬라이드가 자유롭게 지지된 한 쌍의 y 방향 이동 테이블(22), 한 쌍의 가이드 레일(21)에 걸치도록 하여 y 방향 이동 테이블(22)에 건너질러진 x 방향으로 뻗은 접속 프레임(23), 한 쌍의 y 방향 이동 테이블(22)에 의해서 z 방향(중력 방향)으로 슬라이드가 자유롭게 지지된 한 쌍의 z 방향 이동 테이블(25), 및 이 한 쌍의 z 방향 이동 테이블(25)로부터 y 방향을 향해서 서로 접근하도록 돌출 형성된 한 쌍의 스테이(26)를 구비하고 있다. 한 쌍의 z 방향 이동 테이블(25)은, z 방향(중력 방향)으로 뻗은 고정 부재인 한 쌍의 가이드 레일(24)에 슬라이드가 자유롭게 지지되어 있다. y 방향 이동 테이블(22)과 z 방향 이동 테이블(25)은, 도시하지 않은 액츄에이터에 의해서 가이드 레일(21)과 가이드 레일(24)에 대해서 슬라이드하여 위치 결정된다.
제1 제진장치(12a)는, 회전축을 x 방향으로 향한 제1 제진 롤러(16a)를 구비하고 있다. 이 제1 제진 롤러(16a)는, 한 쌍의 스테이(26)의 일방의 선단부에 회전이 자유롭게 지지된다. 제2 제진장치(12b)는, 회전축을 x 방향으로 향한 제2 제진 롤러(16b)를 구비하고 있다. 이 제2 제진 롤러(16b)는, 한 쌍의 스테이(26)의 타방의 선단부에 회전이 자유롭게 지지되어 있다. 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 외주면에는 점착재의 층이 형성되어 있다. 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 재질은, 제진대상에 맞춰서 적당하게 선택할 수 있고, 일반적으로는 실리콘 고무계의 재질이 선택된다.
반송 프레임(20)은, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)를, 제진대상물인 워크(W), 노광 테이블(8) 또는 마스크(10)의 제진표면에 대해서 접리 이동시킴과 동시에, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면을 제진대상물의 제진표면에 접촉시키면서 회전 구동하여, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)와 제진대상물을 상대 이동시키는 이동 기구를 구성한다. 반송 프레임(20)의 이동에 종동하고, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)가 제진대상물의 제진표면 상을 회전이동하면, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 외주면의 점착재의 점착력에 의해, 제진대상물의 제진표면 상에 부착되어 있는 먼지를 휘감을 수 있다.
노광 장치(EX)에는, 반송 프레임(이동 기구)(20)에 의한 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 구동을 제어하는 제어부(16c)가 구비되어 있다. 제어부(16c)는, 제1 제진 롤러(16a)에 의한 제진대상물 상의 전동과 제2 제진 롤러(16b)에 의한 제진대상물 상의 전동을 교대로 실시하게 한다. 즉 제어부(16c)는, 제1 제진 롤러(16a)와 제2 제진 롤러(16b)가 동시에 제진대상물 상을 전동하지 않도록 반송 프레임(20)을 제어한다. 이것에 의해, 제진대상물 상에서 제1 제진 롤러(16a)와 제2 제진 롤러(16b)가 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
도 2, 도 3에 나타내듯이, 반송 프레임(20)의 한 쌍의 접속 프레임(23)의 일방과 타방에는 제1 핸들러(6)의 반입 핸들러(6a)와 반출 핸들러(6b)(제2 핸들러(7)의 반입 핸들러(7a)와 반출 핸들러(7b))가 각각 고정되어 있으며, 제1 제진 롤러(16a)와 반입 핸들러(6a)(반입 핸들러(7a)) 및 제2 제진 롤러(16b)와 반출 핸들러(6b)(반출 핸들러(7b))는 일체가 되어 이동한다. 즉 반송 프레임(20)은, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)를 이동시키는 이동 기구를 구성함과 동시에, 제1 핸들러(6) 및 제2 핸들러(7)와 협동하여 워크(W)를 이동시키는 워크 이동 기구를 구성하고 있다(이동 기구와 워크 이동 기구를 겸하고 있다).
도 1, 도 3, 도 4에 나타내듯이, 노광 장치(EX)는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 외주면에 부착된 먼지를 집진하여 외주면을 청소하는 전사 롤러(집진장치)(18)를 구비하고 있다. 전사 롤러(18)는, 제1 노광부(2) 및 제2 노광부(4)에 설치된 프레임(17)(반송 프레임(20)과는 별개로 독립되어 있다)에 지지되어 있다. 전사 롤러(18)는, 체인이나 기어 등의 공지의 전달 장치를 통해서, 구동 모터(27)에 의해서 회전 구동되고, 그 외주면에는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)보다 강한 점착력을 가지는 테이프가 감겨져 있다. 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)는, 그 청소 위치에 있어서 전사 롤러(18)에 접촉하고, 전사 롤러(18)가 회전하는 것에 의해서 종동회전한다. 그 결과, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 외주면에 부착되어 있던 먼지는, 전사 롤러(18)의 표면에 전사되어 회수된다. 이와 같이 전사 롤러(18)에 의해서 회수된 먼지는, 전사 롤러(18)의 외주면으로부터 점착 테이프를 한 번 감는 정도 벗겨내는 것에 의해서, 폐기된다. 또, 벗겨내기나 전사 롤러(18)의 교환의 편리성을 위해, 프레임(17)의 기초부에는 가이드 레일(19)이 설치되어 있고, 도시하지 않은 스톱퍼를 제거하는 것에 의해서 전사 롤러(18)를 작업자 측으로 꺼내는 것이 가능하게 되어 있다. 또 프레임(17)에는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)가 청소 위치에 있을 때, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 정전 제거를 행하기 위한 제전기(28)가 설치되어 있다.
지금, 도 5, 도 6, 도 7을 참조하면서, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 둘레 길이(유효지름)에 주목한다. 도 5는 노광 테이블(8)에 재치된 워크(W)를 제진대상물로 한 경우, 도 6은 노광 테이블(8)을 제진대상물로 한 경우, 도 7은 마스크(10)를 제진대상물로 한 경우를 각각 나타내고 있다.
도 5에 나타내듯이, 제진대상물인 워크(W)의 제진표면(WS)은, 제1 제진표면(분할제진표면)(WS1)과 제2 제진표면(분할제진표면)(WS2)으로 균등하게 분할되어 있고, 제1 제진 롤러(16a)가 제1 제진표면(WS1) 상을 전동하고, 제2 제진 롤러(16b)가 제2 제진표면(WS2) 상을 전동하도록 되어 있다. 그리고, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레 길이(16ar)는, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레면과 제1 제진표면(WS1)과의 접촉 이동거리(도 5 중의 제1 제진표면(WS1)의 폭)보다 길게 설정되어 있고, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레 길이(16br)는, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면과 제2 제진표면(WS2)과의 접촉 이동거리(도 5 중의 제2 제진표면(WS2)의 폭)보다 길게 설정되어 있다.
도 6에 나타내듯이, 제진대상물인 노광 테이블(8)의 제진표면(8S)은, 제1 제진표면(분할제진표면)(8S1)과 제2 제진표면(분할제진표면)(8S2)으로 균등하게 분할되어 있고, 제1 제진 롤러(16a)가 제1 제진표면(8S1) 상을 전동하고, 제2 제진 롤러(16b)가 제2 제진표면(8S2) 상을 전동하도록 되어 있다. 그리고, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레 길이(16ar)는, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레면과 제1 제진표면(8S1)과의 접촉 이동거리(도 6 중의 제1 제진표면(8S1)의 폭)보다 길게 설정되어 있고, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레 길이(16br)는, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면과 제2 제진표면(8S2)과의 접촉 이동거리(도 6 중의 제2 제진표면(8S2)의 폭)보다 길게 설정되어 있다.
도 7에 나타내듯이, 제진대상물인 마스크(10)의 제진표면(10S)은, 제1 제진표면(분할제진표면)(10S1)과 제2 제진표면(분할제진표면)(10S2)으로 균등하게 분할되어 있고, 제1 제진 롤러(16a)가 제1 제진표면(10S1) 상을 전동하고, 제2 제진 롤러(16b)가 제2 제진표면(10S2) 상을 전동하도록 되어 있다. 그리고, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레 길이(16ar)는, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레면과 제1 제진표면(10S1)과의 접촉 이동거리(도 7 중의 제1 제진표면(10S1)의 폭)보다 길게 설정되어 있고, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레 길이(16br)는, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면과 제2 제진표면(10S2)과의 접촉 이동거리(도 7 중의 제2 제진표면(10S2)의 폭)보다 길게 설정되어 있다.
따라서, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)가 제진대상물의 제진표면을 전동하여 제진할 때, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면 상의 동일 부분이 제진대상물의 제진표면에 두 번 접촉하는 일이 없다(제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)가 1회전 미만의 전동으로 제진한다). 이 때문에, 제진 중에 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)에 일단 부착되어 제거된 먼지가 제진대상물에 재부착될 우려가 없고, 재부착에 기인하는 노광 결함이나 현상 결함을 미연에 방지할 수 있다.
<노광 장치의 제진장치의 동작>
도 8 내지 도 14를 참조하여, 본 실시 형태의 노광 장치(EX)의 제진장치(12)의 동작을 설명한다. 여기에서는, 제1 노광부(2)의 마스크(10)와 노광 테이블(8)을 제진대상물로서, 마스크(10)을 제진한 후에 노광 테이블(8)을 제진하는 경우를 예시해 설명한다.
우선, 작업자 또는 반송 장치(도시하지 않음)에 의해서 반입된 미노광의 워크(W)가 투입부(1)의 스테이지(1a)에 재치된다. 그 다음에, 제1 핸들러(6)의 반입 핸들러(6a)에 의해서 워크(W)가 투입부(1)의 스테이지(1a)로부터 제1 노광부(2)의 노광 테이블(8)로 이동된다. 노광 테이블(8)로 이동된 워크(W)는, 노광 테이블(8)의 상면에 형성된 흡인구(도시하지 않음)에 의해서 흡착 고정된다. 그 다음에, 승강기구(도시하지 않음)에 의해서 노광 테이블(8)을 마스크(10)를 향해서 상승시키고, 노광 테이블(8)에 재치된 워크(W)의 제1 면(상면)에 마스크(10)을 밀착시킨다. 그 다음에, 이 밀착 상태로, 광원(14)에 의해서 워크(W)의 포토레지스트층을 감광시키는 파장 대역의 광(예를 들면 자외광)을 조사함으로써, 마스크(10)에 그려진 소정의 패턴을 워크(W)의 제1 면(상면)의 포토레지스트층에 노광한다. 그 다음에, 승강기구(도시하지 않음)에 의해서 노광 테이블(8)을 그 상면이 패스 레벨과 면일(面一)로 될 때까지 하강시킴과 동시에(도 1), 노광 테이블(8)의 흡인구(도시하지 않음)에 의한 워크(W)의 흡착을 해제한다. 그리고, 제1 핸들러(6)의 반출 핸들러(6b)에 의해서 워크(W)를 제1 노광부(2)의 노광 테이블(8)로부터 반전부(3)의 반전 장치(9)로 이동시킨다.
워크(W)가 반전부(3)의 반전 장치(9)로 이동한 후에, 제진장치(12)에 의한 제1 노광부(2)의 마스크(10)와 노광 테이블(8)의 제진작업이 실행된다.
우선, 도 8에 나타내듯이, 제1 제진장치(12a) 및 제2 제진장치(12b)를 초기 위치로 이동시킨 후, 반송 프레임(20)에 의해서 제1 제진장치(12a)의 제1 제진 롤러(16a)를 구동함으로써, 제1 제진 롤러(16a)에 제1 제진표면(10S1) 상을 전동시키고, 마스크(10)의 제1 제진표면(10S1)을 제진한다.
그 다음에, 도 9에 나타내듯이, 반송 프레임(20)에 의해서 제1 제진 롤러(16a)를 전사 롤러(18)와 접촉하는 청소 위치로 이동시키고, 전사 롤러(18)를 회전시킴으로써 제1 제진 롤러(16a)의 청소를 개시한다. 동시에, 반송 프레임(20)에 의해서 제2 제진장치(12b)의 제2 제진 롤러(16b)를 구동함으로써, 제2 제진 롤러(16b)에 제2 제진표면(10S2) 상을 전동시키고, 마스크(10)의 제2 제진표면(10S2)을 제진한다.
그 다음에, 도 10에 나타내듯이, 반송 프레임(20)에 의해서 제2 제진 롤러(16b)를 전사 롤러(18)와 접촉하는 청소 위치로 이동시켜, 전사 롤러(18)를 회전시킴으로써 제2 제진 롤러(16b)의 청소를 개시한다.
도 11에 나타내듯이, 제1 제진 롤러(16a)의 청소가 종료되면, 제2 제진 롤러(16b)의 청소를 계속한 채로, 반송 프레임(20)에 의해서 제1 제진장치(12a)의 제1 제진 롤러(16a)를 구동함으로써, 제1 제진 롤러(16a)에 제1 제진표면(8S1) 상을 전동시키고, 노광 테이블(8)의 제1 제진표면(8S1)을 제진한다. 노광 테이블(8)의 제1 제진표면(8S1)을 제진하고 있는 동안에, 제2 제진 롤러(16b)의 청소가 종료된다.
그 다음에, 도 12에 나타내듯이, 반송 프레임(20)에 의해서 제1 제진 롤러(16a)를 전사 롤러(18)와 접촉하는 청소 위치로 이동시키고, 전사 롤러(18)를 회전시킴으로써 제1 제진 롤러(16a)의 청소를 개시한다. 동시에, 반송 프레임(20)에 의해서 제2 제진장치(12b)의 제2 제진 롤러(16b)를 구동함으로써, 제2 제진 롤러(16b)에 제2 제진표면(8S2) 상을 전동시키고, 노광 테이블(8)의 제2 제진표면(8S2)을 제진한다.
그 다음에, 도 13에 나타내듯이, 반송 프레임(20)에 의해서 제2 제진 롤러(16b)를 전사 롤러(18)와 접촉하는 청소 위치로 이동시키고, 전사 롤러(18)를 회전시킴으로써 제2 제진 롤러(16b)의 청소를 개시한다.
마지막으로, 도 14에 나타내듯이, 제1 제진 롤러(16a)의 청소가 종료되어 제1 제진장치(12a)를 초기 위치로 이동시키고, 그 후, 제2 제진 롤러(16b)의 청소가 종료되어 제2 제진장치(12b)를 초기 위치로 이동시킨다.
이상 설명한 것처럼, 본 실시 형태의 노광 장치(EX)의 제진방법에서는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)에 의한 제진대상물의 제진 공정과, 제진 공정이 종료된 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면을 전사 롤러(18)에 의해서 청소하는 청소 공정을 교대로 실행한다.
여기에서는, 제1 노광부(2)에 있어서의 제진동작을 설명했지만, 제2 노광부(4)에 있어서도 완전히 동일한 제진동작이 행해진다. 제1 노광부(2) 및 제2 노광부(4)에 있어서 제진을 실시하는 타이밍은, 노광 테이블(8)과 마스크(10)의 사이에 공간이 생기는 타이밍이면 좋고, 미리 일정한 노광 사이클로 제진을 개시하는 태양(態樣), 혹은 임의의 노광이 완료되어 워크(W)가 배출된 타이밍에 제진을 개시하는 태양이 가능하다.
또 제1 노광부(2) 및 제2 노광부(4)에 있어서 제진을 실시하는 순서는 어디까지나 일례이며 이것으로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 제2 제진장치(12b)(제2 제진 롤러(16b))에 의한 제진을 먼저 실시하고, 제1 제진장치(12a)(제1 제진 롤러(16a))에 의한 제진을 뒤에 실시해도 좋다. 또 노광 테이블(8)의 제진을 먼저 실시하고, 마스크(10)의 제진을 뒤에 실시해도 좋다. 또 제1 제진장치(12a)(제1 제진 롤러(16a))와 제2 제진장치(12b)(제2 제진 롤러(16b))가 동시에 제진동작을 개시해도 좋다.
이와 같이 본 실시 형태에 의하면, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레 길이(16ar)를, 제1 제진 롤러(16a)의 둘레면과 제진대상물의 제1 제진표면(WS1, 8S1, 10S1)과의 접촉 이동거리보다 길게 설정하고, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레 길이(16br)를, 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면과 제진대상물의 제2 제진표면(WS2, 8S2, 10S2)과의 접촉 이동거리보다 길게 설정하고 있다. 따라서, 1회의 제진 공정에 있어서, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)가 제진대상물의 제진표면을 전동하여 제진할 때, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 둘레면 상의 동일 부분이 제진대상물의 제진표면에 두 번 접촉하는 일이 없다(제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)가 1회전 미만의 전동으로 제진한다). 이 때문에, 제진 중에 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)에 일단 부착되어 제거된 먼지가 제진대상물에 재부착될 우려가 없고, 재부착에 기인하는 노광 결함이나 현상 결함을 미연에 방지할 수 있다.
이상의 실시 형태에서는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 2개의 제진 롤러를 설치한 경우를 예시해 설명했지만, 단일의 제진대상물의 전(全) 제진표면 상을 전동하는 단일의 제진 롤러를 설치하는 태양도 가능하다. 이 경우, 단일의 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)을, 단일의 제진 롤러의 둘레면과 제진대상물의 제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정한다.
이상의 실시 형태에서는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 2개의 제진 롤러를 설치한 경우를 예시해 설명했지만, 3 개 이상의 제진 롤러를 설치하는 태양도 가능하다. 이 경우, 각 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)을, 각 제진 롤러의 둘레면과 제진대상물의 각 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 한다.
이상의 실시 형태에서는, 마스크와 워크(감광성 기판)를 밀착시켜 노광하는 컨택트 노광 방식에 의해 워크의 양면에 순서대로 노광하는 타입의 노광 장치(EX)를 예시하여 설명했지만, 본 발명의 적용 대상은 이것으로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 본 발명은, 컨택트 노광 방식 외에도, 마스크와 워크가 근접하고 비접촉의 프록시미티 갭(proximity gap) 방식, 마스크를 가지지 않고, 광을 변조하면서 주사하여 패턴을 직접 그리는 다이렉트 노광 방식, 마스크와 기판의 사이에 투영 광학계가 설치되는 프로젝션 방식 등의 각종 방식의 노광 장치에 적용할 수 있다. 또 본 발명은, 워크의 양면을 동시에 노광하는 양면 동시 노광 방식이나 워크의 한 면에만 노광하는 편면 노광 방식의 노광 장치에 적용할 수 있다.
이상의 실시 형태에서는, 워크를 수평 방향으로 반송하면서 노광을 실시하는 횡형 노광 장치를 예시하여 설명했지만, 워크를 연직 방향으로 반송하면서 노광을 실시하는 종형 노광 장치에도 본 발명은 적용 가능하다.
이상의 실시 형태에서는, 워크(감광성 기판), 노광 테이블 또는 마스크를 제진대상물로 한 경우를 예시하여 설명했지만, 노광 장치의 내부에 있어서 먼지가 부착될 수 있는 모든 부재를 제진대상물로 할 수 있다.
이상의 실시 형태에서는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)에 부착된 먼지를 집진하는 전사 롤러(집진장치)(18)를 이용한 경우를 예시하여 설명했다. 그러나 전사 롤러(집진장치)(18)를 생략하고, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)에 의한 제진동작이 종료될 때마다, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 외주면으로부터 점착재(점착 테이프)를 한 번 감는 정도 벗겨내는 태양도 가능하다. 이 태양에서는, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 외주면으로부터 점착재(점착 테이프)를 벗겨낼 때마다 그 둘레 길이가 작아지므로, 점착재(점착 테이프)의 감김량이 가장 적은 상태를 기준으로서, 제1 제진 롤러(16a) 및 제2 제진 롤러(16b)의 둘레 길이를 설정한다.
[산업상의 이용 가능성]
본 발명의 노광 장치의 제진장치 및 제진방법은, 예를 들면 감광성 기판에 대해서 패턴을 노광시키는 노광 장치의 제진장치 및 제진방법에 적용하기에 매우 적합하다.
EX 노광 장치
W 워크(감광성 기판, 제진대상물)
WS 제진표면
WS1 제1 제진표면(분할제진표면)
WS2 제2 제진표면(분할제진표면)
1 투입부
1a 스테이지
2 제1 노광부
3 반전부
4 제2 노광부
5 배출부
5a 스테이지
6 제1 핸들러(워크 이동 기구)
6a 반입 핸들러
6b 반출 핸들러
7 제2 핸들러(워크 이동 기구)
7a 반입 핸들러
7b 반출 핸들러
8 노광 테이블(제진대상물)
8S 제진표면
8S1 제1 제진표면(분할제진표면)
8S2 제2 제진표면(분할제진표면)
9 반전 장치
10 마스크(제진대상물)
10S 제진표면
10S1 제1 제진표면(분할제진표면)
10S2 제2 제진표면(분할제진표면)
12 제진장치(클리닝 유닛)
12a 제1 제진장치
12b 제2 제진장치
14 광원
16a 제1 제진 롤러
16ar 제1 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)
16b 제2 제진 롤러
16br 제2 제진 롤러의 둘레 길이(유효지름)
16c 제어부
17 프레임
18 전사 롤러(집진장치)
19 가이드 레일
20 반송 프레임(이동 기구, 워크 이동 기구)
21 가이드 레일
22 y 방향 이동 테이블
23 접속 프레임
24 가이드 레일
25 z 방향 이동 테이블
26 스테이
27 구동 모터
28 제전기

Claims (9)

  1. 감광성 기판에 대해서 패턴을 노광하는 노광 장치에 있어서,
    둘레면에 의해, 상기 노광 장치 내의 제진대상물의 제진표면에 접리(接離) 가능한 제진 롤러와,
    상기 제진 롤러의 둘레면을 상기 제진대상물의 제진표면에 접촉시키면서, 상기 제진 롤러가 회전하도록, 상기 제진 롤러와 제진대상물을 상대 이동시키는 이동 기구를 구비하고,
    상기 제진 롤러의 둘레 길이는, 상기 이동 기구에 의한 상기 제진 롤러의 둘레면과 상기 제진대상물의 제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제진장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제진 롤러는, 단일의 제진대상물의 제진표면을 복수로 분할한 분할제진표면 상을 전동하도록 복수가 구비되어 있고,
    각 제진 롤러의 둘레 길이는, 각 제진 롤러의 둘레면과 각 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정되어 있는 노광 장치의 제진장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제진 롤러는, 단일의 제진대상물의 제진표면을 2개로 분할한 제1, 제2 분할제진표면 상을 전동하도록, 제1, 제2 제진 롤러를 구비하고 있고,
    상기 제1 제진 롤러의 둘레 길이는, 상기 제1 제진 롤러의 둘레면과 상기 제1 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정되어 있고,
    상기 제2 제진 롤러의 둘레 길이는, 상기 제2 제진 롤러의 둘레면과 상기 제2 분할제진표면과의 접촉 이동거리보다 길게 설정되어 있는 노광 장치의 제진장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 제진 롤러의 상기 제1 분할제진표면 상의 전동과, 상기 제2 제진 롤러의 상기 제2 분할제진표면 상의 전동을 교대로 실시하게 하는 제어부를 더 구비하고 있는 노광 장치의 제진장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제진 롤러는, 단일의 제진대상물의 전(全) 제진표면 상을 전동하는 단일 롤러로 이루어져 있는 노광 장치의 제진장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이동 기구는, 감광성 기판을 보관 유지하여 이동시키는 워크 이동 기구를 겸하고 있는 노광 장치의 제진장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 한에 있어서,
    상기 제진대상물은, 감광성 기판, 노광 테이블 및 마스크 중 어느 하나 이상을 포함하고 있는 노광 장치의 제진장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제진 롤러에 부착된 먼지를 집진하는 집진장치를 더 구비하고 있는 노광 장치의 제진장치.
  9. 제진 롤러를 그 둘레면을 노광 장치 내의 제진대상물의 제진표면에 접촉시키면서 전동시켜 제진하는 제진 공정과,
    제진 공정이 종료된 상기 제진 롤러의 둘레면을 청소하는 청소 공정을 교대로 실행하는 노광 장치의 제진방법에 있어서,
    1회의 제진 공정에 있어서는, 상기 제진 롤러의 둘레면 상의 동일 부분을 상기 제진대상물의 제진표면에 두 번 접촉시키는 일이 없이 제진하는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제진방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180109045A (ko) * 2017-03-26 2018-10-05 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 노광 장치

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI553423B (zh) * 2014-11-11 2016-10-11 Beac Co Ltd Exposure device
TWI553424B (zh) * 2014-11-11 2016-10-11 Beac Co Ltd Exposure device
CN104716795B (zh) * 2015-03-28 2017-08-08 东莞市森江机电科技有限公司 除尘单元
CN105093854B (zh) * 2015-09-09 2017-04-12 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置
CN105470150B (zh) * 2015-12-21 2018-07-10 中国电子科技集团公司第五十五研究所 一种硅台面二极管的玻璃钝化方法
JP6811015B2 (ja) * 2016-02-02 2021-01-13 株式会社アドテックエンジニアリング ロールツーロール両面露光装置
JP6215986B2 (ja) * 2016-02-24 2017-10-18 株式会社オーク製作所 除塵装置を備えた露光装置
CN108646525B (zh) * 2017-06-16 2020-05-12 深圳市前海野马自动化设备有限公司 一种带升降机构的自动对位装置及其曝光设备
CN108255029A (zh) * 2018-03-09 2018-07-06 广东华恒智能科技有限公司 一种双面曝光机及其曝光方法
CN109739071A (zh) * 2019-01-30 2019-05-10 广东华恒智能科技有限公司 一种卷对卷全自动曝光机
CN112269302B (zh) * 2020-09-16 2023-05-30 上海光起电子设备有限公司 曝光机除尘装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08152690A (ja) * 1994-09-29 1996-06-11 Noritsu Koki Co Ltd 除塵装置
JP2002162749A (ja) 2000-09-12 2002-06-07 Seiichiro Toyoda 露光機の除塵装置及び除塵方法
JP2007025436A (ja) 2005-07-20 2007-02-01 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP2009157249A (ja) 2007-12-27 2009-07-16 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
JP2009300542A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
KR20110057886A (ko) * 2009-11-25 2011-06-01 엘지디스플레이 주식회사 필름 제진 장치

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3478075B2 (ja) * 1997-08-13 2003-12-10 富士電機ホールディングス株式会社 レーザ加工用クリーナ
JP2002169145A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Minolta Co Ltd 表示パネルの製造方法及び可撓性基板の加工装置
JP2004017362A (ja) * 2002-06-13 2004-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平面記録装置のクリーニング方法及び平面記録装置
JP2004327485A (ja) * 2003-04-21 2004-11-18 Canon Inc 露光用マスクの異物除去方法
JP2005334836A (ja) * 2004-05-31 2005-12-08 Renesas Technology Corp 搬送台車、およびそれを用いた軌道清掃方法、走行検査方法並びに半導体装置の製造方法
JP2007212765A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Nsk Ltd 近接露光装置の手動式クリーナ及びクリーナ装置
JP2007306382A (ja) * 2006-05-12 2007-11-22 Pentax Corp 撮像素子用清掃器具
JP2008040287A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP2008241987A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Mitsubishi Paper Mills Ltd 連続露光装置
JP2009157247A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
JP2011133724A (ja) * 2009-12-25 2011-07-07 Nikon Corp 流体静圧軸受、移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及び清掃装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08152690A (ja) * 1994-09-29 1996-06-11 Noritsu Koki Co Ltd 除塵装置
JP2002162749A (ja) 2000-09-12 2002-06-07 Seiichiro Toyoda 露光機の除塵装置及び除塵方法
JP2007025436A (ja) 2005-07-20 2007-02-01 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP2009157249A (ja) 2007-12-27 2009-07-16 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
JP2009300542A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
KR20110057886A (ko) * 2009-11-25 2011-06-01 엘지디스플레이 주식회사 필름 제진 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180109045A (ko) * 2017-03-26 2018-10-05 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 노광 장치

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Publication number Publication date
KR102062419B1 (ko) 2020-01-03
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