KR20120084656A

KR20120084656A - 광 단층 화상 촬상방법 및 광 단층 화상 촬상장치

Info

Publication number: KR20120084656A
Application number: KR1020110116745A
Authority: KR
Inventors: 노부히토 스에히라; 카즈히로 마쓰모토; 노부히로 토마쓰
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2011-01-20
Filing date: 2011-11-10
Publication date: 2012-07-30
Also published as: US8517537B2; EP2478830A2; CN102599882B; EP2478830A3; KR101442519B1; US20120188510A1; CN102599882A

Abstract

안과에서 사용되는 OCT 장치에서는, 피검안과 대물렌즈의 워킹 디스턴스가 변화하면, 얻어진 단층 화상의 형상이 변한다. 이것은, 안구 형상의 변화 등을 조사하는 용도에 OCT 장치를 사용할 수 없다는 것을 의미한다. 피검안의 제 1 단층 화상에 대응하는, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 1 거리를 취득하는 단계와, 상기 제 1 거리와는 다른, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 2 거리에 대응하는 제2 단층 화상으로 상기 제 1 단층 화상을 보정하는 단계를 포함하는 광 단층 화상 촬상방법이 제공된다.

Description

광 단층 화상 촬상방법 및 광 단층 화상 촬상장치{OPTICAL COHERENCE TOMOGRAPHIC IMAGING METHOD AND OPTICAL COHERENCE TOMOGRAPHIC IMAGING APPARATUS}

본 발명은, 광 단층 화상 촬상방법 및 광 단층 화상 촬상장치에 관한 것으로서, 특히, 안과 진료에 사용되는 광 단층 화상 촬상방법 및 광 단층 화상 촬상장치에 관한 것이다.

현재, 광학기기를 사용하는 다양한 종류의 안과용 기기가 사용되고 있다. 광학기기의 예로는, 전안부 촬상기, 안저 카메라, 공초점 레이저 주사 검안경(scanning laser ophthalmoscope)(SLO)을 들 수 있다. 이중에서도, 저코히어런스 광을 이용한 광 코히어런스 토모그래피(optical coherence tomography)(OCT)를 채용하는 광 단층 화상 촬상장치는, 피검안의 단층 화상을 고해상도로 얻을 수 있는 장치로서, 안과용 기기로서 망막의 전문 외래에서는 필요 불가결한 장치가 되고 있다. 이하, 이 장치를 OCT 장치로 기재한다.

일본국 특개 2009-279031호에 기재된 안저 관찰장치는, 안저 카메라 유닛, OCT 유닛과, 연산 제어장치를 포함한다. 안저 카메라는 안저의 2차원 화상을 취득하고, OCT 유닛은 안저의 단층 화상을 취득한다. 더구나, 안저의 특징 부위를 특정하고, 측정광의 조사 위치를 변경함으로써 측정을 행할 수 있다. 그리고, 안저의 단층 화상과 3차원 화상을 형성할 수 있다.

본 발명의 제 1 국면에 따르면, 대물렌즈를 통해 측정광을 조사하여 얻어지는 피검안의 망막으로부터의 귀환광과 상기 측정광에 대응하는 참조광의 합성 광에 근거하여 피검안의 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상방법으로서, 상기 피검안의 제 1 단층 화상에 대응하는, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 1 거리를 취득하는 단계와, 상기 제 1 거리와는 다른, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 2 거리에 대응하는 제2 단층 화상으로 상기 제 1 단층 화상을 보정하는 단계를 포함하는 광 단층 화상 촬상방법이 제공된다.

피검안과 대물렌즈의 간격인 워킹 디스턴스가 다르면, 단층 화상에 있어서 망막의 형상도 다르다. 본 발명의 제 1 국면에 따르면, 워킹 디스턴스의 차이에 의한 단층 화상에 있어서의 망막의 형상의 차이를 작게 할 수 있다. 따라서, 안구의 형상의 경시 변화 등을 관찰하는데 적합한 단층 화상을 제공할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 2 국면에 따르면, 피검안과 대물렌즈 사이의 거리를 조정하여, 측정광으로 피검안을 조사함으로써 얻어지는 피검안으로부터의 귀환광과 참조광의 합성 광에 근거하여, 피검안의 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상방법으로서, 상기 피검안과 상기 대물렌즈 사이의 상기 거리를 계측하는 단계와, 상기 피검안의 상기 단층 화상을 취득하는 단계와, 상기 단층 화상에 있어서 곡률을 계산할 영역을 설정하는 단계와, 상기 계측한 거리를 사용하여, 상기 설정한 영역의 상기 곡률을 계산하는 단계를 포함하는 광 단층 화상 촬상방법이 제공된다.

피검안과 대물렌즈의 간격인 워킹 디스턴스가 다르면, 단층 화상에 있어서 망막의 형상도 다르다. 본 발명의 제2 국면에 따르면, 워킹 디스턴스의 차이에 의한 단층 화상에 있어서 망막의 형상 차이를 작게 할 수 있다. 따라서, 망막의 곡률 등 눈의 형상을 정량적으로 계측할 수 있다.

본 발명의 또 다른 특징은 첨부된 도면을 참조하여 주어지는 이하의 실시예의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다.

도 1은 OCT 장치를 설명하는 도면이다.
도 2a, 도 2b 및 도 2c는 워킹 디스턴스와 주사 반경을 설명하는 도면이다.
도 3은 워킹 디스턴스와, 회전 중심과 망막 사이의 거리의 관계를 도시한 도면이다.
도 4는 워킹 디스턴스의 변화에 따른 단층 화상과 2차원 상의 변화를 도시한 도면이다.
도 5a, 도 5b 및 도 5c는 워킹 디스턴스의 변화에 따른 전안부 관찰의 변화를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예 1에 있어서의 신호 처리의 절차를 도시한 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 보정량의 개념도이다.
도 8은 본 발명의 실시예 2에 있어서의 신호 처리의 절차를 도시한 도면이다.
도 9a 및 도 9b는 좌표 변환을 설명하는 도면이다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 실시예 3에 있어서 곡률의 계산을 설명하는 도면이다.

이하, 본 발명의 실시예에 대해, 도면을 사용해서 상세하게 설명한다.

실시예 1

도 1은, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광 단층 화상 촬상장치의 구성을 도시한 도면이다.

(광학계)

광 단층 화상 촬상장치는 마이켈슨 간섭계로 구성되어 있다. 광원(101)의 출사광(102)은 싱글 모드 파이버(107)에 안내되어 광 커플러(108)에 입사한다. 광 커플러(108)는 빛을 참조광(103)과 측정광(104)으로 분할한다. 그리고, 측정광(104)은, 관찰 대상인 망막(125)의 측정 개소에 의해 반사 혹은 산란되고, 귀환광(105)으로 되어 광 커플러(108)로 되돌아간다. 그리고, 광 커플러(108)는 참조 광로를 경유해 전파해 온 참조광(103)과 귀환광(105)을 합성하고, 이것은 합성광(106)이 되어 분광기(119)에 도달한다.

광원(101)은 대표적인 저코히어런트 광원인 슈퍼 루미네센트 다이오드(super luminescent diode)(SLD)이다. 측정광이 눈을 측정하는데 사용되는 것을 감안하면, 그것의 파장에 대해서는 근적외광의 파장이 적합하다. 더구나. 파장은 얻어지는 단층 화상의 횡방향의 분해능에 영향을 미치므로, 가능한한 단파장인 것이 바람직하다. 본 실시예에서는, 중심 파장이 840nm이고, 대역 폭이 50nm이다. 당연히 관찰 대상의 측정 부위에 따라서는, 다른 파장을 선택해도 된다. 본 실시예에서는 SLD 타입의 광원을 사용했지만, 광원이 저코히어런트 광을 출사할 수 있으면, 자연 증폭 방출(amplified spontaneous emission)(AES) 타입 등도 사용할 수 있다.

다음에, 참조광(103)의 참조 광로에 대해 설명한다. 광 커플러(108)에 의해 분할된 참조광(103)은, 렌즈 109-1에서 대략 평행광으로 되어 출사된다. 그후, 참조광(103)은 분산 보상용 글래스(110)를 통과하고, 미러 111에 의해 그것의 방향을 바꾼다. 그리고, 다시 광 커플러(108)를 거쳐 분광기(119)로 참조광(103)이 안내된다. 이때, 분산 보상용 글래스(110)는 피검안(124) 및 주사 광학계 사이에서 왕복하는 측정광(104)의 분산을, 참조광(103)에 대해 보상하는 것이다. 여기에서는, 분산 보상용 글래스(110)의 길이는 일본인의 평균적인 안구 직경을 성정한 대표적인 값으로서 24mm로 설정한다. 참조광의 광로 길이는, 전동 스테이지(112)를 화살표 방향으로 이동함으로써 코히어런스 게이트의 위치를 조정함으로써 조정할 수 있다. 코히어런스 게이트란, 측정광의 광로 상에 있어서, 참조광의 광로 길이와 등거리가 되는 위치이다. 전동 스테이지(112)의 제어는 컴퓨터(120)에 의해 행해진다.

다음에, 측정광(104)의 측정 광로에 대해 설명한다. 광 커플러(108)에 의해 분할된 측정광(104)은, 렌즈 109-2에서, 대략 평행광으로 되어 출사되고, 주사 광학계를 구성하는 XY 스캐너(113)의 미러에 입사한다. 도 1에 있어서 XY 스캐너(113)는 1개로 미러로 나타냈지만, 실제로는 X 스캔용 미러와 Y 스캔용 미러의 근접 배치된 2매의 미러를 포함한다. 측정광은 렌즈 114, 다이클로익 미러(115) 및 대물렌즈(128)를 통해 피검안(124)에 도달한다.

여기에서, 전안부, 즉 각막(122)의 관찰에 대해 설명한다. 전안부의 관찰을 위한 조명광으로서는, 대물렌즈의 외측의 링 형상의 광원(미도시)이 사용된다, 이 조명광은 각막(122)에서 반사하고, 그 반사광이 대물렌즈(128)를 다시 통과한다. 그후, 이 빛은 다이클로익 미러(115)에서 반사되어, 스플릿 프리즘(116) 및 광학계(117)를 통해, 관찰 시스템(118)에 도달한다. 이때, 스플릿 프리즘(116)은 각막(122)과 공역의 위치에 배치되어 있다.

또한, 대물렌즈(128)는 피검안(124)을 대향하여 배치되고, 피검안(124)으로 이끌어지는 측정광의 형상을 정형한다.

(워킹 디스턴스)

다음에, 워킹 디스턴스에 대해 설명한다. 여기에서는, 워킹 디스턴스(126)를 각막(122) 표면과 대물렌즈(128) 표면 사이의 길이(거리)로 규정한다. 이 길이는 본 발명에 있어서 제1 거리에 대응한다. 우선, 일반적인 OCT 장치의 광학계는, 피검안(124)의 동공(129)이 측정광(104)의 주사의 회전 중심이 되도록 설계되어 있다. 그 때문에, 워킹 디스턴스를 설계값이 되도록, 대물렌즈(128)와 피검안(124) 사이의 거리를 조정함으로써 OCT 측정을 행하는 것이 바람직하다. 단, OCT 장치의 광학계는 NA가 작기 때문에 초점심도가 깊다. 그 결과, 워킹 디스턴스가 설계값으로부터 벗어나도, 문제가 없이 촬상할 수 있다. 이때, 워킹 디스턴스가 설계값으로부터 크게 벗어나면, 홍채(127)에 의해 빛이 차단되거나, 초점이 흐려지게 된다.

여기에서, 도 2a 내지 도 2c에 도시된 눈의 모식도를 참조하여, 워킹 디스턴스, 측정광의 주사의 회전 중심(202) 및 코히어런스 게이트의 궤적(205) 사이의 관계에 대해 설명한다. 이들 도면에 있어서, 횡축이 퍼스트 스캔의 x축을 나타내고, 종축이 깊이 방향의 z축을 나타낸다. 그리고, 회전 중심의 원점을 설계값인 동공의 위치로 상정한다. 이때, 이들 도면에 있어서, 회전 중심(202)은 망막(201)에 입사하여 그래도 연장된 광선의 교점이고, 각막이나 수정체(123)에서 굴절된 광선의 교점은 아니다.

측정광의 주사의 회전 중심(202)은 워킹 디스턴스(126)의 변화에 따라 이동한다. 더구나, 측정광(104)을 주사할 때의 주사 반경(204) 및 주사각(206)도 워킹 디스턴스(126)의 변화에 따라 변한다. 또한, XY 스캐너(113)는 2매의 미러로 이루어진 경우가 많다. 예를 들면, y축의 회전 중심은 예를 들면 1mm만큼 대물렌즈측에 있는 것으로 상정한다. 이와 같은 경우, 3차원 측정에 의한 y축 방향의 이동은 별도 보정을 할 필요가 있다. 여기에서는, x축과 y축 사이에서 회전 중심이 같은 것으로 가정한다.

도 2a는, 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 짧기 때문에, 회전 중심(202)이 동공(129)에 대해 망막(201)에 더 가까운 쪽에 있는 경우를 나타낸 것이다. 당연히, 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 거리는 설계값보다 짧아진다. 이때, OCT 측정에 있어서, 코히어런스 게이트는 망막(201)을 관찰할 수 있도록 초자체측에 배치한다. 코히어런스 게이트의 궤적(205)의 위치는 레퍼런스 미러(111)에 의해 바꿀 수 있다. 도 2b는, 워킹 디스턴스(126)가 설계값과 거의 일치하는 경우를 나타낸 것이다. 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 거리는 설계값이다. 도 2c는, 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 길어, 회전 중심(202)이 동공(129)에 대해 대물렌즈(128)에 더 가까운 위치에 배치되어 있는 경우를 나타낸 것이다.

이들 도 2a 내지 도 2c에 나타낸 것과 같이, 주사 반경(204)이 길어질수록 그것의 궤적은 평탄해진다. 즉, OCT 장치에서는, 망막(201)과 코히어런스 게이트의 궤적(205)의 차이가 상으로서 표시된다. 그 때문에, 주사 반경(204)이 길어질수록, 겉보기 상의 곡률이 커진다. 단, 워킹 디스턴스(126)가 변화하더라도, 광축에 대해 같은 각도로 입사하는 빛은 안구의 같은 위치에 결상한다고 하는 특성이 있다. 따라서, 주사 범위(207)는 크게 바뀌지는 않는다.

더구나, 워킹 디스턴스(126)의 거리 변화와 회전 중심(202)의 위치 사이의 관계에 대해 설명한다. 이때, 워킹 디스턴스(126)의 설계값으로부터의 차이(210)를 공간거리로서 변수 g로서 표시한다. 원점이 동공(129)이기 때문에, 변수 g의 값은 z축의 값이다. 또한, 기준의 워킹 디스턴스는 본 발명의 제2 거리에 해당하고, 예를 들면, 설계값(g=0)이다. 여기에서, 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 공간거리는 변수 g를 사용해서 f(g)로 표시된다. 또한, 코히어런스 게이트는 표준적인 눈의 망막 위치를 기준으로 근거를 두고 있으며, 구체적으로는 동공으로부터 24mm의 위치에 있다. 이 기준으로부터 z축 위의 차이(203)를 공간거리로서 변수 s로서 표시한다. 이들을 사용해서, 주사 반경(204) L(g)은 수학식 1로 표시된다.

코히어런스 게이트의 이동은 레퍼런스 미러(111)의 이동량 ΔM으로 환산하면, 피검안의 굴절률 n_H를 사용해서 수학식 2와 같이 표시된다.

이때, 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 공간거리 f(g)의 변화는 워킹 디스턴스(126)의 변화에 비례하고 있지 않다. 그 이유는 각막(122)과 수정체(123)가 굴절을 일으키기 때문이다. 도 3에 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 공간거리 f(g)의 시뮬레이션 결과를 나타낸다. 횡축은 워킹 디스턴스(126)의 설계값으로부터의 변화량 g를 나타낸다. 종축은 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 공간거리를 나타낸다. 워킹 디스턴스(126)가 마이너스일 때에는, 워킹 디스턴스(126)의 변화량보다 회전 중심의 이동이 작은 것을 알 수 있다. 반대로 워킹 디스턴스(126)가 플러스일 때에는, 워킹 디스턴스(126)의 변화량보다 회전 중심의 이동이 큰 것을 알 수 있다. 이 시뮬레이션에서, 축 길이가 24mm인 모델을 사용하였다. 축 길이가 변하는 경우에는, f(g)도 당연히 변화한다. 이 경우, 각각의 축 길이의 모델에 대해 시뮬레이션을 행하는 것이 필요하게 된다. 또한, x축과 y축 사이에서 회전 중심이 다른 경우에는, 시뮬레이션이 더 필요하게 된다.

여기에서, OCT 장치에 의해 모형 눈을 촬상한 예를 도 4를 사용하여 설명한다. 이 모형 눈은, 망막에 해당하는 부분에 배치된 방사형 및 원형 패턴을 갖는다. 망막에 해당하는 부분은 유리의 표면에 위치한다. 이들의 촬상은, 워킹 디스턴스(126)를 변화시켜, 단층 화상에 있어서 모형 눈의 망막 위치의 정점이 코히어런스 게이트로부터 등거리가 되도록 조정해서 측정했다. 도 4의 (a)는 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 4mm 짧은 경우의 단층 화상을 나타낸 것이고, 도 4의 (b)는 그것의 2차원 투영 상을 나타낸 것이다. 도 4의 (c)는 워킹 디스턴스(126)가 설계값인 경우의 단층 화상을 나타낸 것이고, 도 4의 (d)는 그것의 2차원 투영 상을 나타낸 것이다. 도 4의 (e)는 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 4mm 긴 경우의 단층 화상을 나타낸 것이고, 도 4의 (f)는 그것의 2차원 투영 상을 나타낸 것이다. 이때, 각 단층 화상에는, 모형 눈의 망막이 서로 다른 곡률의 원호로서 촬상되어 있다. 또한, 투영 상의 동심원 및 방사선은, 모형 눈의 망막 위치에서 동심원 및 방사선이 촬상되어 그것이 투영된 것이다. 원과 직선의 교점 404에 주목하여, 보조선 405를 대응하는 단층 화상에 그린다. 도 4의 (a)에서는 보조선의 하측으로, 도 4의 (e)에서는 상측으로, 망막의 상이 이동하고 있는 것을 알 수 있다. 단, 도 4의 (b), (d) 및 (f)에 나타낸 것과 같이 측정범위는 거의 변화가 없다.

다음에, 워킹 디스턴스의 계측에 대해 도 5a 내지 도 5c를 참조하여 설명한다. 도 5a 내지 도 5c는 전안부의 관찰 시스템(118)에 의해 촬상된 각막의 상을 나타낸 것으로, 동공(501) 및 홍채(502)가 관찰되고 있다. 동공(501)의 상은 빔 스플리터 프리즘에 의해 x축의 양측에 y 방향으로 양의 영역과 음의 영역으로 각각 분리되어 관찰 시스템(118)에 결상하도록 설계되어 있다. 도 5a는 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 짧은 경우를 나타내고, 도 5b는 워킹 디스턴스(126)가 설계값과 거의 일치하는 경우를 나타내고, 도 5c는 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 긴 경우를 나타낸 것이다. 워킹 디스턴스(126)가 설계값과 거의 일치하는 경우에는, 동공(501)은 분리되어 있지 않은 상으로 된다. 한편, 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 짧은 경우에는, 동공 위의 상은 우측으로 이동한다. 워킹 디스턴스(126)가 설계값보다 긴 경우에는, 동공 위의 상은 좌측으로 이동한다. 이 상하의 동공(501)의 상의 차이(503)를 계측함으로써, 워킹 디스턴스(126)의 길이를 알 수 있다.

워킹 디스턴스(126)는 전술한 본 발명에 있어서의 제1 거리에 대응한다. 이상에서 서술한 워킹 디스턴스(126)의 길이를 아는 구성은, 대물렌즈(128)(미도시)의 위치를 조정하는 구성과 함께, 본 발명에 있어서의 제1 거리를 조정 및 계측하는 유니트에 대응한다. 또는, 이 워킹 디스턴스(126)의 길이를 아는 구성은, 본 발명에 있어서의 제 1 단층 화상에 대응하는, 대물렌즈와 피검안 사이의 제 1 거리를 취득하는 취득부에 대응한다.

이때, 워킹 디스턴스(126)와 미러 111의 이동량을 측정하면, 회전 중심과 망막 사이의 거리를 알 수 있다. 즉, 코히어런스 게이트를 설계값의 위치에 배치하고 망막과 일치하면, 축 길이가 설계대로 24mm인 것을 알 수 있다. 이 위치가 망막과 일치하고 있지 않으면, 코히어런스 게이트를 이동하여, 망막과 일치하는 위치를 찾는다. 이 이동량으로부터, 참된 축 길이를 알 수 있다. 이때, 망막은 두께를 가지며, 예를 들면, 초자체와 신경섬유층의 경계를 설계값으로서 생각한다.

(신호처리)

여기에서, OCT 측정의 신호처리에 대해 도 6을 참조하여 설명한다.

스텝 A1에서, 측정을 개시한다. 이 상태에서는, OCT 장치가 기동되어 있고, 피검안이 측정 위치에 배치되어 있다.

A2 단계에서, 워킹 디스턴스(WD)(126)의 조정과 계측을 행한다. 여기에서는, 동공의 위치를 좌표계의 원점으로 간주한다. 얼라인먼트는 전안부 관찰 시스템(118)으로 각막(122)을 관찰하면서 행한다. 워킹 디스턴스(126)는 설계값의 ±5mm의 범위에 들어가는 것을 목표값으로 하여 조정을 행한다. 특히 곡률이 큰 경우, 구체적으로는 곡률의 값이 소정값보다도 큰 경우에는, 측정광이 홍채 등에 의해 블록되지 않는 범위에서 대물렌즈를 피검안에 더 가깝게 해도 된다. 이것은, 곡률을 측정하는 유닛을 설치하고, 그 측정값에 따라 대물렌즈를 피검안에 더 가깝게 하는 조작이 된다. 해당 조작을 가함으로써, 망막의 곡률이 큰 피검안에 대해서도, 적합하게 단층 화상을 얻어 스텝 A3 및 그 이후의 단계를 실행하는 것이 가능해진다. 이때, 마이너스 방향이란 대물렌즈가 각막에 접근하는 방향을 의미한다. 당연히, 워킹 디스턴스의 조정과 함께 코히어런스 게이트 및 포커스의 위치를 조정한다.

스텝 A3에서, OCT 측정을 행한다. 주사 범위(207)는 예를 들면, 황반을 촬상하기 위한 6mm의 범위, 또는 황반과 유두를 촬상하기 위한 10mm의 범위이다. 여기에서는, 6mm의 범위에서 촬상하기 위해, x 방향으로는 512 라인, y 방향으로는 512 라인을 포함하는 데이터를 취득한다. 분광기(119)로부터는 라인마다 1차원 배열의 라인 데이터(1024 화소)가 취득되어, 컴퓨터(120)로 순차 보내진다. 그리고, x 방향으로 연속하는 512 라인의 데이터는 2차원 배열의 데이터를 단위로 하여 보존한다. 그것의 데이터 사이즈는 1024×512×12비트이다. 그 결과, y 방향으로 512개의 데이터가 생기게 된다.

측정한 2차원 배열의 데이터로부터, 고정 노이즈의 제거, 파장-파수 변환, 푸리에 변환 등을 행한 후 단층 화상(B-Scan 상)을 얻을 수 있다. 이 단층 화상을 확인한다. 원하는 측정이 달성되었다고 판단되면, 피검안을 측정 위치로부터 제거한다. 이상의 OCT 측정을 행하는 구성은, 본 발명에 있어서 복수의 라인 형상 데이터로 이루어진 피검안의 단층 화상을 생성하기 위한 정보를 취득하는 유닛에 대응한다.

다음에, 스텝 A4에서, 보정량을 계산한다. 우선, 일반적인 단층 화상은, 코히어런스 게이트의 위치를 기준으로 상대적으로 표시되어 있다. 그러나, 도 7a에 나타낸 것과 같이, 코히어런스 게이트의 궤적(205)은 부채형의 호를 이룬다. 점 B를 j라인째의 스캔이라고 했을 때에, z축 위에 투영한 곳을 점 C로 한다. 코히어런스 게이트가 z축 위의 점 A에 대해 어느 만큼 변화하는가를 나타내는 변화량 d(g)를 수학식 3으로 표시된다. 여기에서는, 워킹 디스턴스가 설계값과 g만큼 다른 경우의 주사각(θ(g))(206)을 사용하여, 스캐너가 한번에 θ(g)/(N-1)씩 회전하는 것으로 한다. 또한, j는 0∼N-1의 정수를 나타내고, N은 x 방향의 라인수, 즉 512이다.

이때, 워킹 디스턴스(126)의 변화에 의해 망막(201)에서 본 회전 중심(202)과 망막(201) 사이의 거리 f(g)와 주사각(206)은 변화하지만, 주사 범위(207)(W)는 거의 변화하지 않는다. 따라서, 망막(201)에서 본 주사각 θ(g)은 수학식 4로 표시되는 관계를 갖는다. 당연히, 시뮬레이션에 의해 θ(g)을 결정할 수 있다.

f(g)는 도 3에 나타낸 것과 같이 미리 시뮬레이션해 두면 되므로, d_j(g)을 구할 수 있다. 이 변화량 d_j(g)을 구하는 수학식을 사용함으로써, 전술한 라인 데이터 각각의 보정이 가능해진다. 스텝 A4는 컴퓨터(120)에 의해 행해진다. 상기 컴퓨터(120)는 본 발명에 있어서의 복수의 라인 데이터의 각각에 있어서의 보정량을 계산하는 유니트에 대응한다. 이상에서 설명한 것과 같이, 스텝 A3에서는, 피검안과 대물렌즈의 제 1 거리(g), 측정광으로 주사되는 망막에서 본 주사의 회전 중심과 망막 사이의 거리(f(g)), 망막에서 본 측정광을 주사할 때의 주사각(θ(g)), 및 참조광의 광로 길이에 의해 결정되는 코히어런스 게이트 위치(s)에 근거하여 라인 데이터 각각의 보정량이 구해진다.

더구나, 스텝 A5에서 단층 화상을 생성한다. 수학식 3은 공간거리를 표시하므로, 굴절률 n_h를 곱한 후, 픽셀 분해능으로 제산을 행하여, 시프트할 픽셀수를 계산한다. 도 7b는, 구한 보정량으로 각 라인(701)을 보정한 개념도를 나타낸 것이다. 이 예는, 워킹 디스턴스가 설계값보다 짧은 경우를 나타내고 있으며, 점선으로 표시되는 전체의 촬상범위가 중심 부분의 라인을 기준으로 하여 화상으로서 추출되는 것을 나타내고 있다. 데이터가 없는 부분(702)에 노이즈 레벨의 데이터가 추가된다. 깊이 방향으로 데이터를 여분으로 계산하고 있는 경우에는, 그 데이터를 사용해서 채운다. 당연히, 기준이 되는 워킹 디스턴스는 설계값이 아니고, 다른 값이어도 된다.

스텝 A6에서 처리를 종료한다. 원하는 데이터가 얻어진 것을 확인한 후 처리를 종료한다. 이때, 이상의 단층 화상을 생성하는 단계는, 전술한 제1 거리와는 다르며 피검안과 대물렌즈 사이의 기준 워킹 디스턴스인 제2 거리에 대응하는 제 2 단층 화상으로 제 1 단층 화상을 보정하는 컴퓨터(120)에 의해 실시된다. 이와 같은 구성은, 본 발명에 있어서의 보정부에 대응한다.

이 결과, 워킹 디스턴스가 설계값으로부터 다른 경우에도, 기준의 워킹 디스턴스의 화상을 만들 수 있다. 즉, 곡률이 큰 사람이라도, 곡률을 고려한 측정을 행함으로써, 상대적으로 동일한 워킹 디스턴스를 갖는 화상을 얻을 수 있다.

이때, 전술한 것과 같이, 측정광은 다른 회전축, 즉 회전 중심을 갖는 x 스캐너 및 y 스캐너에 의해 망막을 주사한다. 따라서, 이들 스캐너의 회전 중심들 사이의 위치 차이를 고려하여, 단층 화상의 보정을 행할 필요가 있다. 본 발명에서는, 스텝 A4에 있어서, 이와 같은 회전 중심의 차이를 워킹 디스턴스에 반영시킨 단층 화상을 생성하는 것이 가능하다. 이에 따라, 실제의 OCT 장치에 있어서, 보다 적정한 단층 화상을 얻는 것이 가능해진다.

이상에서 설명한 것과 같이, 본 실시예에 따르면, 피검안과 대물렌즈 사이의 워킹 디스턴스의 조정과 계측을 행하여, 화상을 보정한다. 이에 따라, 워킹 디스턴스의 차이에 의한 형상의 차이를 줄일 수 있다. 또한, 곡률이 큰 피검안인 경우에도, 얻어진 단층 화상을 형상의 해석에 사용할 수 있다. 또한, 촬상시에 워킹 디스턴스를 설계값에 맞추어 조정할 필요가 없어지기 때문에, 측정 시간의 단축이 가능해진다.

실시예 2

여기에서, 본 발명의 실시예 2에 따른 OCT 측정의 신호처리에 대해 도 8을 참조하여 설명한다.

스텝 A2에서, 워킹 디스턴스(WD)(126)의 조정과 계측을 행한다. 우선, OCT 장치와 피검안의 얼라인먼트는 전안부 관찰 시스템(118)을 사용하여 각막(122)을 관찰하면서 행한다. 워킹 디스턴스(126)는 설계값의 ±5mm의 범위에 들어가는 것을 목표값으로 하여 조정한다. 단, 곡률이 큰 경우에는, 측정광이 홍채에 의해 블록되지 않는 범위에서 대물렌즈를 피검안에 더 가깝게 해도 된다. 당연히, 워킹 디스턴스의 조정과 함께 코히어런스 게이트 및 포커스의 위치를 조정한다. 이때, 축 길이는 다른 장치에 의해 계측할 수 있지만, 필요하면 이 단계에서 OCT 장치를 사용해서 계측을 한다. 즉, 워킹 디스턴스(126)를 측정한 상태에서 코히어런스 게이트를 이동시켜, 초자체와 신경섬유층의 경계를 찾는다. 그리고, 그 때의 코히어런스 게이트의 위치를 기억한다. 코히어런스 게이트의 위치는 인코더(미도시)에 의해 측정하면 된다. 이때, 이상에서 설명한 것과 같이, OCT 장치는, 본 발명에 있어서의 피검안의 단층 화상을 취득하는 화상 취득부에 대응한다.

스텝 A3에서, OCT 측정을 행하여, 피검안의 단층 화상을 취득한다. 주사 범위(207)는, 예를 들면, 황반을 촬상하기 위해서는 6mm의 범위이고, 황반과 유두를 촬상하기 위해서는 10mm의 범위이다. 여기에서는, 6mm의 범위에서 촬상하기 위해, x 방향으로는 512 라인, y 방향으로는 512 라인을 포함하는 데이터를 취득한다. 분광기(119)로부터는 라인마다 1차원 배열의 데이터(1024 화소)가 취득되어, 컴퓨터(120)에 순차 보내진다. 그리고 x 방향의 연속하는 512 라인의 데이터를 2차원 배열의 데이터를 단위로 하여 보존한다. 그것의 데이터 사이즈는 1024×512×12 비트이다. 이 결과, y 방향으로 512개의 데이터가 생기게 된다.

측정한 2차원 배열의 데이터로부터, 고정 노이즈의 제거, 파장-파수 변환, 푸리에 변환 등을 행한 후 단층 화상(B-Scan 상)을 얻을 수 있다. 이 단층 화상을 확인한다. 원하는 측정을 달성했다고 판단하면, 피검안을 측정 위치로부터 제거한다.

스텝 A4에서, 곡률을 계산하기 위해 단층 화상으로부터 공간 좌표로의 좌표 변환을 행한다. 이 경우, 곡률을 구하고 싶은 영역, 또는 부분의 설정을 미리 행한다. 이와 같은 설정에 대해 도 9a 및 도 9b를 참조하여 설명한다. 도 9a는 피검안의 단층 화상을 나타낸 것이며, 사이즈는 500(깊이)×512(가로)×12비트이다. 일반적인 단층 화상은, 코히어런스 게이트(701)가 일직선으로 배열되도록 표시되어 있다. 그러나, 코히어런스 게이트의 위치는, 도 2a 내지 도 2c에 도시한 것과 같이 부채형의 호 위에 놓인다. 즉, 단층 화상을 공간 좌표로 변환하면, 도 9b와 같이 부채면(702)에 화상을 배치할 필요가 있다. 따라서, 곡률을 계산하기 위해서는, 이 좌표 변환이 필요하게 된다. 우선, 단층 화상에 있어서의 I행째 및 j열째의 점에 관한 좌표 변환을 고려한다. 이때, I 및 j는 0∼511의 범위에 놓이는 정수이다.

i행째의 위치는 코히어런스 게이트로부터 등거리의 위치를 가지므로, 이 위치를 원의 공식으로 표현할 수 있다. 그 때문에, 곡선은 픽셀 분해능 h 및 굴절률 n_h를 사용해서 다음과 같이 표시된다. 이때, 0째행(704)은 코히어런스 게이트의 위치이다.

스캐너는 z축에 대해 대칭이며, 스캔 각을 동일한 간격으로 z축에 대해 대칭으로 샘플링하는 것으로 가정한다. 따라서, j열째의 직선의 식은 N을 사용해서 수학식 6으로 표시된다. 여기에서는 N은 512이다.

이때, 워킹 디스턴스(126)의 변화에 의해 망막(201)에서 본 주사 반경(204) 및 주사각(206)은 변화하지만, 주사 범위(207)(W)는 거의 변하지 않는다. 따라서, 망막(201)에서 본 주사각 θ(g)은 수학식 7과 같은 관계를 갖는다.

주사 범위 W는 예를 들면 6mm의 범위이다. f(g)는 시뮬레이션 등에 의해 미리 구해 두므로, θ(g)를 구할 수 있다. 당연히, 시뮬레이션에 의해 θ(g)을 구할 수 있다.

이들을 사용해서, 공간 좌표에 있어서의 위치는 수학식 8 및 9로 표시될 수 있다.

다음에, 곡률을 계산하고 싶은 부분 또는 영역을 추출하고, 좌표 변환에 의해 변환한다. 여기에서는, 망막 색소 상피 위의 3점으로부터 곡률반경을 구한다. 각각의 점을 A₁(x₁,z₁), A₂(x₂,z₂) 및 A₃(x₃,z₃)로 표시한다. 추출할 점은 자동적으로 선택해도 되고, 표시된 단층 화상 위에서 조작자가 지정함으로써 선택해도 된다. 당연히, 이와 같은 영역은, 망막 내부의 소정의 영역이거나, 또는, 맥락막, 망막 색소 상피층(retinal pigment epithelium)(RPE), IS/OS(내절과 외절 사이의 접합면), 외부 경계막(external limiting membrane)(ELM), 외부 과립층(outer nuclear layer)(ONL), 외부 망상층(outer plexiform layer)(OPL), 내부 과립층(INL), 내부 망상층(IPL), 신경 세포층(ganglion cell layer)(GCL), 신경섬유층 (NFL) 등의 층, 또는 층의 경계이어도 된다. 이 곡률을 계산한 영역 또는 부분의 설정은, 본 발명의 다양한 구성을 제어하는 컴퓨터(120)에 대응하는, 계산할 영역을 설정하는 설정부에 의해 실행된다.

스텝 A5에서, 곡률을 계산한다. 이것은 점 A₁, A₂및 A₃을 통과하는 원의 반경을 구하는 것에 귀착한다. 이 경우, 변 A₁A₂의 수직 이등분선과 변 A₂A₃의 수직 이등분선의 교점이 중심이 된다. 변 A₁A₂의 수직 이등분선은 수학식 10으로 표시된다.

또한, 변 A₂A₃의 수직 이등분선은 수학식 11로 표시된다.

따라서, 원의 중심(x_c, z_c)은 이 식들을 푸는 것에 의해 얻어지며, 수학식 12와 수학식 13으로 표시된다.

이 결과, 곡률반경(208)(r)은 점 A₁, A₂ 및 A₃중 어느 한개와 원의 중심 사이의 거리이기 때문에m 수학식 14에 의해 구할 수 있다.

이상의 수학식을 사용해서 계산된 곡선은 단층 화상에 겹쳐 표시된다. 또한, 이들 계산을 수행하는 컴퓨터(120)는, 본 발명에 있어서 계측한 워킹 디스턴스를 사용해서 설정한 영역의 곡률을 계산하는 계산부에 대응한다. 이때, 계산된 곡률에 근거한 곡선을 갖는 단층 화상 위에 중첩된 표시는 컴퓨터(120) 및 표시장치(미도시)에 의해 행해지고, 이들 구성은 본 발명에 있어서의 표시부에 대응한다.

이때, 이 수학식 14는 3점을 통과하는 원을 나타낸 것으로, 단층 화상에 중첩하여 표시한 경우에 RPE로부터 결과가 벗어나는 일이 있다. 문제가 있는 경우에는, 범위를 좁힘으로써 다시 3점을 설정하여 계산을 한다.

당연히, 영역을 몇개의 영역으로 구분하여 국소적인 곡률을 구해도 된다. 더구나, 3차원의 단층 화상의 각각의 영역에 있어서 곡률을 구함으로써, 2차원의 맵을 생성하여 이 맵을 표시(맵 표시)해도 된다. 이 맵 표시는 컴퓨터(120) 및 표시장치(미도시)에 의해 행해지고, 이들 구성은 본 발명에 있어서의 곡률을 맵으로서 표시하는 맵 표시부에 대응한다. 또한, 구한 곡률을 표준적인 곡률과 비교해도 된다.

스텝 A6에서 처리를 종료한다. 원하는 데이터가 얻어진 것을 확인한 후 처리를 종료한다.

이상에서 설명한 것과 같이, 본 실시예에 따르면, 워킹 디스턴스와 레퍼런스 미러의 이동량을 측정함으로써, 눈의 형상, 특히 망막의 곡률을 정확하게 계측할 수 있다.

실시예 3

이하, 본 발명의 실시예 3에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 여기에서는, 간이적으로 곡률을 구하는 방법에 대해 서술한다.

도 10a는 피검안과 측정계 사이의 공간거리를 모식적으로 나타낸 것이다. 여기에서는, 곡률반경을 계산하고 싶은 영역은 망막 색소 상피(802)이다. 도 10b는 이 배치에 의해 얻어지는 피검안의 단층 화상이며, 신경섬유층의 표면(801)과 망막 색소 상피(802)를 모식적으로 표시한 것이다. 점 A 및 점 B는 동일한 깊이의 망막 색소 상피(802)를 갖는다. 점 C는 변 AB의 수직 이등분선과 선 AB의 교점이고, 점 D는 변 AB의 수직 이등분선과 망막 색소 상피(802)의 교점이다. 점 F는 코히어런스 게이트와 변 AB의 수직 이등분선의 교점이다. 점 G는 코히어런스 게이트와, 점 B과 회전 중심을 연결하는 직선의 교점이다. 즉, 곡률의 계산은, 적어도 단층 화상에서 깊이가 같은 2점과 그것의 수직 이등분선 위의 1점으로 구성되는 삼각형의 저변과 높이, 및 참조광의 광로 길이에 의해 결정되는 코히어런스 게이트 위치를 포함하는 정보를 사용해서 행해진다. 도 10b에서, 대응하는 점을 A'으로 표시한다. 여기에서, BC=u, CD=v 및 BE=r이 성립하는 것으로 가정하면, 수학식 15와 같은 관계를 만족한다.

이 수학식을 곡률반경 r에 대해 풀면, 수학식 16이 얻어진다.

곡률반경 r을 구하기 위해서는 u와 v의 값을 알 필요가 있다. 이때, u는 변 B'C'에 대응하므로 그것을 계측하면 된다. 미리 모형 눈 등을 사용하여 교정해 두면, 픽셀수를 셈으로써 용이하게 u를 알 수 있다. 다음에, v에 대해서는, 도 9a에 도시된 같이 단층 화상에서는 코히어런스 게이트의 위치가 일직선으로 정렬되기 때문에, z 방향으로 보정이 필요하다. 즉 G를 z축에 투영했을 때에 F와의 차이가 발생한다. 그것의 보정량을 d로 표시하면, 변 F'C'을 광학거리 p로 가정하고, B'이 q열째인 것을 가정하면, 수학식 17의 관계가 얻어진다.

변 C'D'의 광학거리를 T로 놓으면 수학식 18의 관계가 성립된다. 이때, T는 단층 화상의 픽셀 분해능과 픽셀수를 곱한 것이다.

이와 같은 관계를 사용함으로써, 곡률반경 r의 근사값을 구할 수 있다.

이때, 전술한 것과 같이, 측정광은 다른 회전축, 즉 회전 중심을 각각 갖는 x 스캐너 및 y 스캐너를 사용하여 망막을 주사한다. 따라서, 이들 스캐너의 회전 중심의 위치의 차이를 고려하여, 단층 화상의 보정을 행할 필요가 있다. 본 발명에서는, 제4 단계에 있어서, 이와 같은 회전 중심의 차이를 워킹 디스턴스에 반영시킨 단층 화상을 생성할 수도 있다. 이에 따라, 실제의 OCT 장치에 있어서, 보다 적정한 단층 화상을 얻는 것이 가능해진다.

이상에서 설명과 같이, 본 실시예에 따르면, 피검안의 곡률을 간이적으로 구할 수 있다.

(기타 실시예)

또한, 본 발명은, 이하의 처리를 실행함으로써도 실현된다. 즉, 이와 같은 처리에서는, 전술한 실시예의 기능을 실현하는 소프트웨어(프로그램)를 네트워크 또는 각종 기억매체를 거쳐 시스템 또는 장치에 공급하고, 그 시스템 또는 장치의 컴퓨터(또는 CPU나 MPU 등)가 프로그램을 판독해서 실행한다.

예시적인 실시예들을 참조하여 본 발명을 설명하였지만, 본 발명이 이러한 실시예에 한정되지 않는다는 것은 자명하다. 이하의 청구범위의 보호범위는 가장 넓게 해석되어 모든 변형, 동등물 구조 및 기능을 포괄하여야 한다.

Claims

대물렌즈를 통해 측정광을 조사하여 얻어지는 피검안의 망막으로부터의 귀환광과 상기 측정광에 대응하는 참조광의 합성광에 근거하여 피검안의 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상방법으로서,
상기 피검안의 제 1 단층 화상에 대응하는, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 1 거리를 취득하는 단계와,
상기 제 1 거리와는 다른, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 2 거리에 대응하는 제2 단층 화상으로 상기 제 1 단층 화상을 보정하는 단계를 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 거리에 근거하여 상기 제 1 단층 화상의 복수의 라인 데이터의 각각에 대한 보정량을 계산하는 단계를 더 포함하고,
상기 보정량을, 상기 제1 거리, 상기 측정광이 상기 망막을 주사할 때 상기 망막에서 본 주사의 회전 중심과 상기 피검안의 망막 사이의 거리, 상기 측정광을 주사할 때 상기 망막에서 본 주사각, 및 상기 참조광의 광로 길이에 의해 결정되는 코히어런스 게이트 위치를 사용해서 계산하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 2항에 있어서,
상기 측정광을 주사하기 위한 다른 회전 중심들인 2개의 스캐너의 회전 중심들의 위치 차이를 보정하는 단계를 더 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 1항에 있어서,
상기 피검안의 상기 망막의 곡률을 측정하고 또한, 상기 곡률이 소정의 값보다도 큰 경우에, 상기 제 1 거리를 짧게 하여, 상기 제 1 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상방법.
피검안과 대물렌즈 사이의 거리를 조정하여, 측정광으로 피검안을 조사함으로써 얻어지는 피검안으로부터의 귀환광과 참조광의 합성광에 근거하여, 피검안의 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상방법으로서,
상기 피검안과 상기 대물렌즈 사이의 상기 거리를 계측하는 단계와,
상기 거리를 사용하여, 상기 피검안의 상기 단층 화상에 있어서 소정 영역의 곡률을 계산하는 단계를 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 5항에 있어서,
상기 영역이 맥락막, 색소 상피층, 내절과 외절의 접합면, 외부 경계막, 외부 과립층, 외부 망상층, 내부 과립층, 내부 망상층, 신경 세포층, 신경섬유층, 및 이들 층의 경계를 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 5항에 있어서,
상기 곡률을 계산하는 단계는, 상기 측정광의 주사의 회전 중심과 망막 사이의 거리, 주사각, 상기 참조광의 광로 길이에 의해 결정되는 코히어런스 게이트 위치, 상기 단층 화상 위의 좌표, 및 상기 단층 화상의 깊이 방향의 픽셀 분해능을 사용해서 상기 곡률을 계산하는 것을 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 7항에 있어서,
상기 측정광을 주사하기 위한 다른 회전 중심들을 갖는 2개의 스캐너를 제공하는 단계를 더 포함하고,
상기 곡률을 계산하는 단계는, 상기 곡률을 계산하기 전에, 상기 2개의 스캐너의 상기 회전 중심들 사이의 위치의 차이를 보정하는 것을 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 5항에 있어서,
상기 곡률은, 적어도 상기 단층 화상에서 같은 깊이를 갖는 2점과 그것의 수직 이등분선 위의 1점으로 구성되는 삼각형의 저변 및 높이와, 상기 참조광의 광로 길이에 의해 결정되는 코히어런스 게이트 위치를 포함하는 정보를 사용해서 계산하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 5항에 있어서,
상기 곡률에 근거하여 결정된 곡선을 상기 단층 화상 위에 표시하도록 표시부를 제어하는 단계를 더 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
제 5항에 있어서,
상기 단층 화상의 복수의 영역에 대해 계산된 곡률을 맵으로서 표시하도록 표시부를 제어하는 단계를 더 포함하는 광 단층 화상 촬상방법.
대물렌즈를 거쳐 측정광으로 조사되는 피검안으로부터의 귀환광과, 상기 측정광에 대응하는 참조광의 합성광에 근거하여 상기 피검안의 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상장치로서,
제 1 단층 화상에 대응하는, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 1 거리를 취득하는 취득부와,
상기 제 1 거리와는 다른, 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 제 2 거리에 대응하는 제2 단층 화상으로 상기 제 1 단층 화상을 보정부를 구비한 광 단층 화상 촬상장치.
제 12항에 있어서,
상기 제 1 단층 화상을 생성하기 위한 복수의 라인 데이터를 취득해서 상기 보정부에 상기 복수의 라인 데이터를 보내는 분광기를 더 구비한 광 단층 화상 촬상장치.
제 12항에 있어서,
상기 대물렌즈를 이동하여 상기 제1 거리를 조정하는 유닛을 더 구비한 광 단층 화상 촬상장치.
제 12항에 있어서,
상기 측정광을 주사하기 위한 다른 회전 중심들을 갖는 2개의 스캐너를 더 구비하고,
상기 보정부는, 상기 2개의 스캐너의 상기 회전 중심들 사이의 위치의 차이를 보정하는 광 단층 화상 촬상장치.
제 12항에 있어서,
상기 보정부는, 상기 피검안의 망막의 곡률이 소정의 값보다도 큰 것으로 측정되었을 때, 상기 제1 거리를 짧게 하여, 상기 제 1 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상장치.
대물렌즈를 거쳐 측정광으로 조사되는 피검안으로부터의 귀환광과, 상기 측정광에 대응하는 참조광의 합성광에 근거하여 상기 피검안의 망막의 단층 화상을 취득하는 광 단층 화상 촬상장치로서,
상기 단층 화상에 대응하는 상기 피검안과 상기 대물렌즈의 거리를 취득하는 취득부와,
상기 거리에 근거하여 상기 단층 화상에 있어서의 망막의 곡률을 계산하는 계산부를 구비한 광 단층 화상 촬상장치.
제 17항에 있어서,
상기 단층 화상으로부터 상기 망막의 소정의 층을 포함하는 영역을 결정하는 결정부를 더 구비하고,
상기 계산부는, 상기 거리에 근거하여 상기 영역의 상기 층의 곡률을 계산하는 광 단층 화상 촬상장치.
제 17항에 있어서,
상기 곡률에 근거하여 결정된 곡선을 상기 단층 화상에 겹쳐 표시하도록 표시부를 제어하는 표시 제어부를 더 구비한 광 단층 화상 촬상장치.
제 17항에 있어서,
상기 단층 화상의 복수의 영역에 대해 계산된 곡률을 맵으로서 표시하도록 표시부를 제어하는 표시 제어부를 더 구비한 광 단층 화상 촬상장치.