KR20110099341A - 리라이터블 기록 재료 - Google Patents

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사토시 고다마
히로시 후지이
다다시 가와카미
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닛뽕소다 가부시키가이샤
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Abstract

식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유함으로써, 장기간에 걸쳐서 안정적으로 발색 소색을 반복할 수 있음과 함께, 종래의 리라이터블 기록 재료에 비해 발색 화상의 내열성, 내습열성, 바탕의 내광성 등의 보존성이 우수한 리라이터블 기록 재료, 이러한 기록 재료의 발색층을 형성할 수 있는 리라이터블 발색층 형성용 조성물, 및 리라이터블 기록 재료용 현색 조성물을 제공할 수 있다.

Description

리라이터블 기록 재료{REWRITABLE RECORDING MATERIAL}
본 발명은 발색 화상의 형성과 소거가 가능한 리라이터블 기록 재료에 관한 것이다.
본원은 2009년 2월 3일에 출원된 일본 특허 출원 제2009-22195호 및 2009년 7월 3일에 출원된 일본 특허 출원 제2009-158763호에 대하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 이곳에 원용한다.
발색성 염료와 현색제의 반응에 의한 발색을 이용한 기록 재료는, 현상 정착 등의 번잡한 처리를 하지 않고 비교적 간단한 장치로 단시간에 기록할 수 있다는 점에서, 팩시밀리, 프린터 등의 출력 기록을 위한 감열 기록지 등에 널리 사용되고 있다.
또한 한편으로, 열가역적으로 발색층의 발색 화상을 형성 및 소거할 수 있는, 이른바 리라이터블 기록 재료가 제안되어 있다.
리라이터블 기록 재료는, 처음 소색(消色) 상태에 있는 조성물을 승온시켜 가면, 특정 온도에서 발색이 일어나 발색 상태가 된다. 발색 상태로부터 급랭시키면, 발색 상태인 채로 실온으로 낮출 수 있어 발색 상태가 고정된다. 한편, 발색 상태로부터 서랭시키면, 강온의 과정에서 소색이 일어나 처음과 동일한 소색 상태, 혹은 상대적으로 소색한 상태가 형성된다.
또한, 발색 상태로 고정된 것을 다시 승온시켜 가면, 발색 온도보다 낮은 온도에서 소색이 일어나고, 여기부터 강온시키면, 처음과 동일한 소색 상태로 되돌아온다. 이와 같이 발색 상태와 소색 상태를 제어함으로써, 리라이터블 기록 재료로서의 사용이 가능해진다.
종래, 이와 같은 리라이터블 기록 재료에 사용되는 현색제로는, 주로 장사슬 지방족 탄화수소기를 함유하는 현색제가 제안되어 있다. 이들 화합물은 장사슬 지방족 탄화수소기에 의한 분자간 상호 작용이 형성됨으로써, 화상의 소거를 가능하게 하고 있다 (특허문헌 1 ∼ 4, 비특허문헌 1).
또한 리라이터블 기록 재료에 사용되는 현색제로는 장사슬 지방족 탄화수소기를 함유하지 않는 화합물도 제안되어 있다 (특허문헌 5 ∼ 7). 그러나, 이들을 사용한 리라이터블 기록 재료는 발색성과 소색성의 양립, 혹은 발색 농도나 반복 등의 안정성에 있어서 문제를 남겨, 실용적인 기록 재료는 되지 못했다.
일본 공개특허공보 평8-301838호 일본 공개특허공보 평9-295458호 일본 공개특허공보 평10-67726호 일본 공개특허공보 2005-1127호 일본 공개특허공보 소60-193691호 일본 공개특허공보 소61-237684호 일본 공개특허공보 소63-173684호
Ricoh Tech Report, No.25 (1999)
본 발명의 과제는 장기간에 걸쳐서 안정적으로 발색 소색을 반복할 수 있음과 함께, 종래의 리라이터블 기록 재료에 비해 발색 화상의 내열성이 우수한 리라이터블 기록 재료, 이러한 기록 재료의 발색층을 형성할 수 있는 리라이터블 발색층 형성용 조성물 및 리라이터블 기록 재료용 현색제 조성물을 제공하는 것에 있다.
리라이터블 기록 재료에 있어서의 화상의 소색은 발색부를 재가열함으로써 현색제 화합물이 결정화되어 발색 염료와 상분리되는 것에서 기인하고 있다.
본 발명자들은 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물을 예의 검토한 결과, 결정화, 상분리가 유효하게 실시되어 리라이터블 기능이 발현되는 것, 또한 종래의 리라이터블용 현색제를 사용한 기록 재료에 비해, 발색 화상의 내열성이 우수한 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 (1) 기체 상에 발색층을 구비한 리라이터블 기록 재료로서, 상기 발색층이 발색성 염료와, 식 (Ⅰ)
[화학식 1]
Figure pct00001
[식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 기록 재료나, (2) 기체가 종이, 합성 수지 필름 또는 합성 수지 시트인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 에 기재된 리라이터블 기록 재료에 관한 것이다.
또한 본 발명은 (3) 식 (Ⅰ)
[화학식 2]
Figure pct00002
[식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 발색층 형성용 조성물이나, (4) 발색성 염료, 및 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 (3) 에 기재된 리라이터블 발색층 형성용 조성물에 관한 것이다.
또한 본 발명은 (5) 식 (Ⅰ)
[화학식 3]
Figure pct00003
[식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 기록 재료용 현색제 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, 장기간에 걸쳐서 안정적으로 발색 소색을 반복할 수 있음과 함께, 종래의 리라이터블 기록 재료에 비해 발색 화상의 내열성, 내습열성, 바탕의 내광성 등의 보존성이 우수한 리라이터블 기록 재료, 이러한 기록 재료의 발색층을 형성할 수 있는 리라이터블 발색층 형성용 조성물, 및 리라이터블 기록 재료용 현색제 조성물을 제공할 수 있다.
(리라이터블 기록 재료)
본 발명의 리라이터블 기록 재료로는, 기체 상에 발색층을 구비한 기록 재료로서, 상기 발색층이 발색성 염료와, 식 (Ⅰ)
[화학식 4]
Figure pct00004
[식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 기록 재료이면 특별히 제한되지 않으며, 이러한 발색층은 후술하는 리라이터블 발색층 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 발색층은 발색성 염료 및 현색제가 함유되어 있는 층이면 특별히 제한되지 않으며, 발색성 염료 및 현색제가 혼합 상태로 존재하는 층이나, 발색성 염료 및 현색제가 각각 다른 층에 함유되어 있는 복수 층이어도 된다.
본 발명의 리라이터블 기록 재료는, 장기간에 걸쳐서 안정적으로 발색 소색을 반복할 수 있음과 함께, 종래의 리라이터블 기록 재료에 비해 발색 화상의 보존 안정성, 특히 내열성이 우수하다.
(식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 제조 방법)
본 발명에 있어서의 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물은 식 (Ⅱ)
[화학식 5]
Figure pct00005
로 나타내는 화합물과, 식 (Ⅲ)
[화학식 6]
Figure pct00006
으로 나타내는 화합물을 아세토니트릴 등의 유기 용매 중, 피리딘 등의 염기의 존재하에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 또한, 식 (Ⅱ) 및 식 (Ⅲ) 중의 R1, R2, R3, R4, R5, p 및 q 는 식 (Ⅰ) 의 것과 동일한 의미이고, Y 는 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자를 나타낸다.
또한, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물에는, 이하에 나타내는 바와 같이, 기하 이성체가 존재하고, 반응 조건 및 정제 방법에 따라, 어느 1 종의 이성체만이 얻어지는 경우, 혹은 이성체 혼합물로서 얻어지는 경우가 있다. 이들 이성체는 모두 본 발명의 범위에 포함된다.
[화학식 7]
Figure pct00007
(식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물)
이하, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물에 대하여 설명한다. 식 (Ⅰ) 중, R1 및 R4 로는, 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, t-펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기 등의 C1 ∼ C6 알킬기, 바람직하게는 C1 ∼ C4 알킬기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, t-부톡시기 등의 C1 ∼ C6 알콕시기, 바람직하게는 C1 ∼ C4 알콕시기를 들 수 있고, R1 및 R4 로서 특히 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 메톡시기이다.
R2 및 R3 으로는, 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, t-펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기 등의 C1 ∼ C6 알킬기, 바람직하게는 C1 ∼ C4 알킬기를 들 수 있고, R2 및 R3 으로서 특히 바람직하게는 수소 원자, 메틸기이다.
R5 로는, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, t-펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기 등의 C1 ∼ C6 알킬기, 바람직하게는 C1 ∼ C4 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기, 치환되어 있어도 되는 벤질기를 들 수 있고, R5 로서 특히 바람직하게는 수소 원자이다.
그 치환기로는, 수산기, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, t-펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기 등의 C1 ∼ C6 알킬기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, t-부톡시기 등의 C1 ∼ C6 의 알콕시기를 들 수 있다.
식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 구체예를 제 1 표에 나타낸다.
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
본 발명의 리라이터블 기록 재료에 있어서는, 상기 예시한 화합물 중에서도, No.54, 62, 65, 82, 83, 101, 104, 108, 128 의 화합물이 바람직하고, No.62 의 화합물, 및 No.82 의 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
(리라이터블 기록 재료의 다른 성분)
본 발명의 리라이터블 기록 재료 중에는, 상기 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물 및 발색성 염료 외에, 화상 안정제, 증감제, 전료, 분산제, 산화 방지제, 감감제, 점착 방지제, 소포제, 광 안정제, 형광 증백제 등을 필요에 따라 1 종 또는 2 종 이상 함유시킬 수 있다. 각각의 사용량은 발색성 염료 1 질량부에 대하여 통상 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부의 범위이다.
이들 약제는 발색층 중에 함유시켜도 되지만, 다층 구조로 이루어지는 경우에는, 예를 들어 보호층 등 임의의 층 중에 함유시켜도 된다. 특히, 발색층의 상부 및/또는 하부에 오버코트층이나 언더코트층을 형성한 경우, 이들 층에는 산화 방지제, 광 안정제 등을 함유할 수 있다. 또한 산화 방지제, 광 안정제는 필요에 따라 마이크로 캡슐에 내포하는 형태로 이들 층에 함유시킬 수 있다.
본 발명의 리라이터블 기록 재료에 있어서의 발색성 염료로는, 예를 들어 플루오란계, 프탈라이드계, 락탐계, 트리페닐메탄계, 페노티아진계, 스피로피란계 등의 류코 염료를 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않으며, 산성 물질인 현색제와 접촉함으로써 발색하는 발색성 염료이면 사용할 수 있다. 또한, 이들 발색성 염료는 단독으로 사용하여, 그 발색하는 색의 기록 재료를 제조하는 것은 물론이지만, 그들의 2 종 이상을 혼합 사용할 수 있다. 예를 들어 적색, 청색, 녹색의 3 원색의 발색성 염료 또는 흑발색 염료를 혼합 사용하여 완전히 흑색으로 발색하는 기록 재료를 제조할 수 있다.
이들 발색성 염료 중, 예시하면, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디(n-부틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-시클로헥실아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디(n-펜틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-에톡시프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-n-옥틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(o,p-디메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-(N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 2,4-디메틸-6-[(4-디메틸아미노)아닐리노]플루오란, 2-클로로-3-메틸-6-p(p-페닐아미노페닐)아미노아닐리노플루오란, 3,3-비스[1-(4-메톡시페닐)-1-(4-디메틸아미노페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈라이드, 3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로[플루오렌-9,3'-프탈라이드], 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈라이드, 10-벤조일-3,7-비스(디메틸아미노)페노티아진, 3-(4-디에틸아미노-2-헥실옥시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸-3-인돌릴)-4-아자프탈라이드, 3-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)-3-(1-에틸-2-메틸-3-인돌릴)-4-아자프탈라이드, 3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸-3-인돌릴)-4-아자프탈라이드, 3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-옥틸-2-메틸-3-인돌릴)-4-아자프탈라이드, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-디벤질아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-디벤질아미노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨릴)아미노-7-N-메틸아닐리노플루오란, 3,3-비스(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-4-아자프탈라이드, 3-[2,2-비스(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)비닐]-3-[4-(디에틸아미노)페닐]이소벤조푸란-1-온, 3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로[플루오렌-9,3'-프탈라이드], 2-[3,6-비스(디에틸아미노)-9-(o-클로로아닐리노)크산틸]벤조산락탐, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3,6-비스-(디에틸아미노)플루오란-γ-(4'-니트로)-아닐리노락탐, 3-디에틸아미노-벤조[a]플루오란, 3-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-벤조[a]플루오란, 2-메틸-6-(N-에틸-N-p-톨릴아미노)플루오란, 3,3-비스(1-부틸-2-메틸-3-인돌릴)프탈라이드, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-브로모플루오란, 3-시클로헥실아미노-6-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,8-디메틸플루오란, 4,4'-이소프로필리덴디(4-페녹시)비스[4-(퀴나졸린-2-일)-N,N-디에틸아닐린] 등을 들 수 있다.
흑계 염료로서 바람직하게는 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디(n-부틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-시클로헥실아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디(n-펜틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-에톡시프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-n-옥틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-(N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란을 들 수 있다.
특히 바람직하게는, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디(n-부틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디(n-펜틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란이다.
또한, 근적외 흡수 염료로는, 3,3-비스[1-(4-메톡시페닐)-1-(4-디메틸아미노 페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈라이드, 3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로[플루오렌-9,3'-프탈라이드] 를 예시할 수 있다.
그 밖에, 청계, 녹계, 적계, 황계로서, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈라이드, 3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸-3-인돌릴)-4-아자프탈라이드, 3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-옥틸-2-메틸-3-인돌릴)-4-아자프탈라이드, 3-디에틸아미노-7-디벤질아미노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨릴)아미노-7-N-메틸아닐리노플루오란, 3,3-비스(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-4-아자프탈라이드, 3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로[플루오렌-9,3'-프탈라이드], 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-벤조[a]플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-시클로헥실아미노-6-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,8-디메틸플루오란, 4,4'-이소프로필리덴디(4-페녹시)비스[4-(퀴나졸린-2-일)-N,N-디에틸아닐린] 등을 들 수 있다.
본 발명의 조성물과 조합하여 사용할 수 있는 화상 보존 안정제로는 이하의 것을 예시할 수 있다. 이들은 필요에 따라 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-시클로헥실페닐)부탄, 4,4'-부틸리덴비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-4-t-부틸-3-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스[[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐]메틸]-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 2-메틸-2-[[4-[[4-(페닐메톡시)페닐]술포닐]페녹시]메틸]-옥시란, 2,4,8,10-(테트라(t-부틸)-6-하이드록시-12H-디벤조[d,g][1,3,2]디옥사포스포신-6-옥사이드나트륨염, 2,2-비스(4'-하이드록시-3',5'-디브로모페닐)프로판, 4,4'-술포닐비스(2,6-디브로모페놀), 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 4-벤질옥시-4-(2-메틸글리실옥시)-디페닐술폰, 4,4'-디글리실옥시디페닐술폰, 1,4-디글리실옥시벤젠, 4-(α-(하이드록시메틸)벤질옥시)-4'-하이드록시디페닐술폰, 2,2-메틸렌비스(4,6-tert-부틸페닐)포스페이트 등을 들 수 있다.
바람직하게는, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-시클로헥실페닐)부탄, 4,4'-부틸리덴비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-4-t-부틸-3-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 2-메틸-2-[[4-[[4-(페닐메톡시)페닐]술포닐]페녹시]메틸]-옥시란, 4,4'-술포닐비스(2,6-디브로모페놀), 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸을 들 수 있다.
또한, 증감제로는 이하의 것을 예시할 수 있다. 이들은 필요에 따라 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
스테아르산아미드 등의 고급 지방산아미드, 벤즈아미드, 스테아르산아닐리드, 아세토아세트산아닐리드, 티오아세트아닐리드, 옥살산디벤질, 옥살산디(4-메틸벤질), 옥살산디(4-클로로벤질), 프탈산디메틸, 테레프탈산디메틸, 테레프탈산디벤질, 이소프탈산디벤질, 비스(tert-부틸페놀), 4,4'-디메톡시디페닐술폰, 4,4'-디에톡시디페닐술폰, 4,4'-디프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디부톡시디페닐술폰, 4,4'-디이소부톡시디페닐술폰, 4,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 4,4'-디헥실페닐술폰, 2,4'-디메톡시디페닐술폰, 2,4'-디에톡시디페닐술폰, 2,4'-디프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디부톡시디페닐술폰, 2,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 2,4'-디헥실옥시디페닐술폰 등의 디페닐술폰 및 그 유도체, 4,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류, 2,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류, 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 디페닐아민, 카르바졸, 2,3-디-m-톨릴부탄, 4-벤질비페닐, 4,4'-디메틸비페닐, m-터페닐, 디-β-나프틸페닐렌디아민, 1-하이드록시-2-나프토산페닐에스테르, 2-나프틸벤질에테르, 4-메틸페닐-비페닐에테르, 1,2-비스(3,4-디메틸페닐)에탄, 2,3,5,6-테트라메틸-4'-메틸디페닐메탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 아크릴산아미드, 디페닐술폰, 4-아세틸비페닐, 탄산디페닐 등을 들 수 있다.
바람직하게는, 2-나프틸벤질에테르, m-터페닐, p-벤질비페닐, 옥살산벤질, 옥살산디(p-클로로벤질), 옥살산벤질과 옥살산디(p-클로로벤질)의 등량 혼합물, 옥살산디(p-메틸벤질), 옥살산디(p-클로로벤질)과 옥살산디(p-메틸벤질)의 등량 혼합물, 1-하이드록시-2-나프토산페닐에스테르, 1,2-디페녹시에탄, 1,2-디-(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 테레프탈산디메틸, 스테아르산아미드, 아마이드 AP-1 (스테아르산아미드와 팔미트산아미드의 7：3 혼합물), 디페닐술폰, 4-아세틸비페닐을 들 수 있다.
전료로는, 예를 들어 실리카, 클레이, 카올린, 소성 카올린, 탤크, 새틴 화이트, 수산화알루미늄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화아연, 산화티탄, 황산바륨, 규산마그네슘, 규산알루미늄, 플라스틱 피그먼트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 알칼리 토금속의 염, 그 중에서도 탄산칼슘, 탄산마그네슘 등의 탄산염을 바람직하게 예시할 수 있다. 전료의 사용 비율은 발색 염료 1 질량부에 대하여 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부이다. 또한 상기 전료를 혼합하여 사용할 수도 있다.
분산제로는, 예를 들어 폴리비닐알코올이나, 아세토아세틸화폴리비닐알코올, 카르복시 변성 폴리비닐알코올, 술폰산 변성 폴리비닐알코올 등의 각종 비누화도, 중합도의 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산소다, 메틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스, 폴리아크릴아미드, 전분, 술포숙신산디옥틸나트륨 등의 술포숙신산에스테르류, 도데실벤젠술폰산나트륨, 라우릴알코올황산에스테르의 나트륨염, 지방산염 등을 들 수 있다.
산화 방지제로는, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-프로필메틸렌비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페놀)부탄, 4-[4-｛1,1-비스(4-하이드록시페닐)에틸｝-α,α'-디메틸벤질]페놀, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-시클로헥실페닐)부탄, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸-페놀), 1,3,5-트리스(4-(1,1-디메틸에틸)-3-하이드록시-2,6-디메틸페닐)메틸-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스((3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐)메틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등을 들 수 있다.
감감제로는, 지방족 고급 알코올, 폴리에틸렌글리콜, 구아니딘 유도체 등을 들 수 있다.
점착 방지제로는, 스테아르산, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 카르나우바 왁스, 파라핀 왁스, 에스테르 왁스 등을 예시할 수 있다.
소포제로는, 예를 들어 고급 알코올계, 지방산 에스테르계, 오일계, 실리콘계, 폴리에테르계, 변성 탄화수소계, 파라핀계 등을 들 수 있다.
광 안정제로는, 페닐살리실레이트, p-tert-부틸페닐살리실레이트, p-옥틸페닐살리실레이트 등의 살리실산계 자외선 흡수제, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-하이드록시-5-벤조일페닐)메탄 등의 벤조페논계 자외선 흡수제, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1'',1'',3'',3''-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3'-(3'',4'',5'',6''-테트라하이드로프탈리이미드메틸)-5'-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3',5'-비스(α,α'-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-도데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-운데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-트리데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-테트라데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-펜타데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-헥사데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-에틸헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-에틸헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-에틸옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-에틸헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-에틸헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-에틸옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-프로필옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀, 폴리에틸렌글리콜과 메틸-3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트의 축합물 등의 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 2'-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세베케이트, 숙신산-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에스테르, 2-(3,5-디-tert-부틸)말론산-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에스테르 등의 힌더드아민계 자외선 흡수제, 1,8-디하이드록시-2-아세틸-3-메틸-6-메톡시나프탈렌 및 그 관련 화합물 등을 들 수 있다.
형광 염료로는, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨염, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨염, 4,4'-비스[2-메톡시-4-(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨염, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-(하이드록시프로필)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨염, 4,4'-비스[2-m-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨염, 4-[2-p-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]-4'-[2-m-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산4나트륨염, 4,4'-비스[2-p-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산4나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-페녹시아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산6나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-(p-메톡시카르보닐페녹시)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산6나트륨염, 4,4'-비스[2-(p-술포페녹시)-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산6나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-포르마닐릴아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산6나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산6나트륨염 등을 들 수 있다.
(리라이터블 기록 재료의 기체)
본 발명의 리라이터블 기록 재료에 있어서의 기체로는, 반복 사용할 수 있는 기체인 것이 바람직하고, 예를 들어 종이, 합성지, 합성 수지 필름, 합성 수지 시트, 부직포, 고지(古紙) 펄프 등의 재생지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 잘 열화되지 않아 장기간에 걸쳐서 계속적으로 사용할 수 있다는 점에서, 합성 수지 필름, 합성 수지 시트가 특히 바람직하다. 합성 수지 필름, 합성 수지 시트로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리메타크릴산메틸, 폴리아크릴산메틸, 폴리메타크릴산에틸, 폴리스티렌, 3아세트산셀룰로오스, 셀로판, 폴리카보네이트 등의 필름 또는 시트를 들 수 있다.
(리라이터블 발색층 형성용 조성물의 구성)
본 발명의 리라이터블 발색층 형성용 조성물로는, 발색성 염료와, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물을 함유하는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 발색성 염료 및 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 혼합물이어도 되고, 발색성 염료 및 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물이 각각 따로 따로 함유된 조성물의 조합 (별체) 이어도 된다. 또한, 본 발명의 리라이터블 발색층 형성용 조성물에는, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물 외에, 발색성 염료, 화상 안정제, 증감제, 전료, 분산제, 산화 방지제, 감감제, 점착 방지제, 소포제, 광 안정제, 형광 증백제 등을 필요에 따라 1 종 또는 2 종 이상 함유시킬 수 있다. 이들의 상세한 것에 대해서는 상기 서술한 바와 같다.
또한, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물 외에 공지된 리라이터블 기록 재료용 현색제를 조합하여 사용할 수 있다. 조합하여 사용할 수 있는 현색제로는 예를 들어 이하의 것을 들 수 있다.
[화학식 8]
Figure pct00016
(식 중, m 은 1 ∼ 3 의 정수이고, R1 은 탄소수 20 ∼ 30 의 알킬기를 나타낸다)
(특허문헌 4：일본 공개특허공보 2005-1127호에 기재된 화합물)
[화학식 9]
Figure pct00017
(식 중, n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다)
(특허문헌 1：일본 공개특허공보 평8-301838호에 기재된 화합물)
[화학식 10]
Figure pct00018
(식 중, X 는 헤테로 원자를 함유하는 2 가의 기를 나타내고, R 은 탄소수가 8 이상으로서 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 3 을 나타낸다)
(특허문헌 2：일본 공개특허공보 평9-295458호에 기재된 화합물)
[화학식 11]
Figure pct00019
(식 중, X 는 -NHCONH-, -NHCO-, -NHCOCONH-, -CONHNHCO- 또는 -SO2- 로 나타나는 기를 나타내고, n 은 2 ∼ 11, m 은 6 ∼ 21 의 정수를 나타낸다)
(특허문헌 3：일본 공개특허공보 평10-67726호에 기재된 화합물)
특히 바람직하게는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 12]
Figure pct00020
[화학식 13]
Figure pct00021
(리라이터블 기록 재료의 제조 및 사용 방법)
본 발명의 리라이터블 기록 재료의 제조 방법으로는, 종래의 기록 재료와 동일한 방법으로 제조할 수 있고, 예를 들어 발색성 염료 및 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물의 미립자의 각각을 폴리비닐알코올이나 셀룰로오스 등의 수용성 결합제의 수용액 중에 분산시켜, 각각을 혼합한 후, 기체 상에 도포하여 건조함으로써 제조할 수 있다. 또한, 발색성 염료 및 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물의 각각의 분산액을 각각 기체 상에 도포하여 건조함으로써 제조할 수도 있다. 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물의 사용 비율로는, 예를 들어 발색성 염료 1 질량부에 대하여 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부이며, 보다 바람직하게는 1.5 ∼ 5 질량부이다.
본 발명의 리라이터블 기록 재료를 사용하여 발색 화상을 형성시키기 위해서는, 일단 발색 온도 이상으로 가열한 후 급랭되도록 하면 된다. 구체적으로는, 예를 들어 서멀 헤드나 레이저 광으로 단시간 가열하면 기록 재료가 국부적으로 가열되기 때문에, 즉시 열이 확산되어 급격한 냉각이 일어나, 발색 상태를 고정시킬 수 있다.
한편, 소색시키기 위해서는 적당한 열원을 사용하여 발색 온도 이상으로 가열하고 서랭시키거나, 발색 온도보다 약간 낮은 온도로 일시적으로 가열하면 된다. 장시간 가열한 경우, 기록 재료의 넓은 범위가 승온되고, 가열 중단 후에는 서랭으로 되기 때문에, 그 과정에서 소색이 일어난다. 이 경우의 가열 방법에는, 가열 바, 열 롤러, 열 스탬프, 열풍 등을 사용할 수 있고, 서멀 헤드를 사용하여 장시간 가열하거나, 발열 소자를 일제히 가열하여, 전체폭을 가열해도 된다. 기록 재료를 소색 온도역으로 가열하기 위해서는, 예를 들어 서멀 헤드에 대한 인가 전압이나 펄스폭을 조절함으로써, 인가 에너지를 기록시보다 약간 저하시키면 된다. 이 방법을 사용하면, 서멀 헤드만으로 기록·소거를 할 수 있어, 이른바 리라이트가 가능해진다. 물론, 가열 바, 열 롤러, 열 스탬프, 열풍 등에 의해 소색 온도역으로 가열하여 소거할 수도 있다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 기술적 범위는 이들 예시에 한정되는 것은 아니다.
실시예
(실시예 1)
(감열지의 제작)
(a) 염료 분산액 (A 액)
3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
(b) 현색제 분산액 (B 액)
화합물 No.62 (제 1 표 참조) 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
(c) 증감제 분산액 (C 액)
옥살산디(4-메틸벤질) 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
(d) 전료 분산액 (D 액)
탄산칼슘 27.8 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 26.2 부
물 71 부
먼저, A ∼ D 액 각 조성의 혼합물을 각각 샌드 그라인더로 충분히 마쇄하여, A ∼ D 액의 각 성분의 분산액을 조정하고, A 액 1 질량부, B 액 2 질량부, C 액 1 질량부, D 액 4 질량부를 혼합하여 도포액으로 하였다. 이 도포액을 와이어 로드 (Webster 사 제조, 와이어 바 No.12) 를 사용하여 백색지에 도포·건조한 후, 캘린더를 가하는 처리를 하여, 감열지를 제작하였다 (도포량은 건조 중량으로 약 5.5 g/㎡).
(실시예 2)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 하기 E 액 1 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(e) 현색제 분산액 (E 액)
화합물 No.82 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
(비교예 1)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 하기 F 액 1 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(f) 현색제 분산액 (F 액)
화합물 (A) (비특허문헌 1 에 기재된 화합물) 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
[화학식 14]
Figure pct00022
(비교예 2)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 하기 G 액 1 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(g) 현색제 분산액 (G 액)
화합물 (B) (일본 공개특허공보 평10-67726호：특허문헌 3 에 기재된 화합물) 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
[화학식 15]
Figure pct00023
(비교예 3)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 하기 H 액 1 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(h) 현색제 분산액 (H 액)
4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
(실시예 3)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 B 액 0.5 질량부, G 액 0.5 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(비교예 4)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 F 액 0.5 질량부, G 액 0.5 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(비교예 5)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 F 액 0.5 질량부, H 액 0.5 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(비교예 6)
실시예 1 중의 B 액 1 질량부 대신에 G 액 0.5 질량부, H 액 0.5 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(시험 1)
실시예 1 ∼ 3 및 비교예 1 ∼ 6 에서 제작한 감열지에 대하여, 감열지 발색 장치 (오오쿠라 전기 제조 TH-PMH 형) 를 사용하여, 1 도트당 0.72 mj 의 조건으로 포화 발색시켰다. 얻어진 화상 농도를 마크베스 반사 농도계 (Macbeth 사 제조, 형번：RD-918, 사용 필터：＃106) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타냈다.
(시험 2)
시험 1 에서 얻어진 화상 부분을, 열 스탬프를 사용하여 120 ℃ 에서 5 초간 가열한 후, 마크베스 반사 농도계 (사용 필터：＃106) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타냈다.
(시험 3)
시험 2 의 샘플을 다시 감열지 발색 시험 장치 (오오쿠라 전기 제조 TH-PMH 형) 를 사용하여, 1 도트당 0.72 mj 의 조건으로 재발색시켰다. 얻어진 화상 농도를 마크베스 반사 농도계 (사용 필터：＃106) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타냈다.
(시험 4：화상 내열성)
시험 1 에서 얻어진 각 시험지를 항온기 (상품명：DK-400, YAMATO 제조) 중에서 60 ℃ 의 온도에서 24 시간 유지하였다. 유지한 후의 화상의 광학 농도를 마크베스 반사 농도계 (사용 필터：＃106) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타냈다.
(시험 5：화상 내습열성)
시험 1 에서 얻어진 각 시험지를 저온 항온 항습기 (상품명：THN050FA, ADVANTEC 제조) 중에서 40 ℃, 90 ％ 의 조건에서 24 시간 유지하였다. 유지한 후의 화상의 광학 농도를 마크베스 반사 농도계 (사용 필터：＃106) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타냈다.
(시험 6：바탕 내광성)
제작한 각 시험지의 일부를 잘라내고, 내광성 시험기 (상품명：스가 시험기 (주) 제조, 자외선 롱라이프 페이드 미터 U48 형) 를 사용하여 내광성 시험을 실시하고, 8 시간 후의 바탕 농도를 마크베스 반사 농도계로 측정하였다 (사용 필터 ＃47). 그 결과를 제 2 표에 나타냈다.
(시험 7：분산성)
각 실시예, 비교예에서 조제한 현색제 분산액을 샌드 그라인더로 마쇄하고, 50 ％ 체적 평균 입경이 0.90 ㎛ 이하가 될 때까지 걸리는 시간을 측정하였다. 50 ％ 체적 평균 입경은 입도 분포계 (상품명：LA-920, HORIBA 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타냈다. 단위는 분이다.
(콘트라스트)
시험 1 ∼ 3 과 동일하게, 동일 화상의 발색 및 소색을 15 회 반복하고, 15 회째의 발색시의 발색부와 15 회째의 소색시의 소색부를 비교하여, 소색부의 농도가 발색부의 농도의 30 ％ 미만으로 발색부와 소색부의 콘트라스트가 양호한 것을 ○, 소색부의 농도가 발색부의 농도의 30 ％ 이상 80 ％ 미만으로 콘트라스트가 불충분한 것을 △, 소색부의 농도가 발색부의 농도의 80 ％ 이상으로 가역성이 확인되지 않는 것을 × 로서 평가하였다.
Figure pct00024
상기 제 2 표의 시험 1 ∼ 3 에서 본 발명의 기록 재료는 양호한 리라이터블성을 갖고 있는 것을 알 수 있다. 또한 동시에 시험 4 ∼ 5 및 6 에서 발색 화상의 내열성, 내습열성이 매우 우수하고 바탕의 내광성도 우수하다는 것을 알 수 있다.

Claims (5)

  1. 기체 상에 발색층을 구비한 리라이터블 기록 재료로서, 상기 발색층이 발색성 염료와, 식 (Ⅰ)
    [화학식 1]
    Figure pct00025

    [식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 기록 재료.
  2. 제 1 항에 있어서,
    기체가 종이, 합성 수지 필름 또는 합성 수지 시트인 것을 특징으로 하는 리라이터블 기록 재료.
  3. 식 (Ⅰ)
    [화학식 2]
    Figure pct00026

    [식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 발색층 형성용 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서,
    발색성 염료, 및 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 발색층 형성용 조성물.
  5. 식 (Ⅰ)
    [화학식 3]
    Figure pct00027

    [식 중, R1 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 니트로기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기 또는 C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 또는 1 ∼ 4 중 어느 정수를 나타내고, q 는 0 또는 1 ∼ 5 중 어느 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상일 때, R1 및 R4 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다] 로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 리라이터블 기록 재료용 현색제 조성물.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8551911B2 (en) 2009-09-29 2013-10-08 Nippon Soda Co., Ltd. Recording material using phenolic compound

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101342799B1 (ko) * 2009-02-03 2013-12-19 닛뽕소다 가부시키가이샤 페놀성 화합물 및 기록 재료
KR101577175B1 (ko) * 2010-09-01 2015-12-14 닛뽕소다 가부시키가이샤 페놀성 화합물을 사용한 기록 재료

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3158610A (en) * 1964-01-03 1964-11-24 American Cyanamid Co 2-styrylbenzoxazole brighteners
FR2462732A1 (fr) * 1979-07-30 1981-02-13 Eastman Kodak Co Produit photothermographique formateur d'image de colorant par developpement physique a sec
GB2056103B (en) 1979-07-30 1983-03-02 Eastman Kodak Co Silver halide-containing photothermographic materials
JPS60193691A (ja) 1984-03-15 1985-10-02 Mitsubishi Paper Mills Ltd 可逆的画像形成材料
JPH0764117B2 (ja) 1985-04-15 1995-07-12 日本電信電話株式会社 書換形光記録方法および書換形光記録媒体
JPH0829621B2 (ja) 1987-01-14 1996-03-27 株式会社リコー 可逆性記録材料
JPH02153789A (ja) * 1988-12-06 1990-06-13 Oji Paper Co Ltd 感熱記録材料
US5047555A (en) * 1988-12-13 1991-09-10 Tanabe Seiyaku Co., Ltd. 4-aminophenol derivatives and processes for preparing the same
JPH0558894A (ja) * 1991-08-27 1993-03-09 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 抗腫瘍剤
JP3193166B2 (ja) * 1992-12-10 2001-07-30 三菱製紙株式会社 可逆性感熱記録材料
JP3480529B2 (ja) 1995-05-11 2003-12-22 株式会社リコー ω−フェニルアルカン酸
JP3348369B2 (ja) 1996-04-30 2002-11-20 株式会社リコー 可逆性感熱発色組成物およびそれを用いた可逆性感熱記録媒体
JP3507939B2 (ja) 1996-06-06 2004-03-15 株式会社リコー 新規なフェノール化合物
MXPA04005427A (es) 2001-12-10 2005-04-19 Amgen Inc Ligandos de receptor vainilloide y su uso en tratamientos.
JP3835749B2 (ja) * 2002-04-15 2006-10-18 日本曹達株式会社 フェノール性化合物を用いた記録材料
JP4245412B2 (ja) 2003-06-09 2009-03-25 トッパン・フォームズ株式会社 アミド化合物顕色剤、感熱リライト媒体
JP2005047146A (ja) * 2003-07-29 2005-02-24 Nippon Kayaku Co Ltd 感熱記録材料
JP2009022195A (ja) 2007-07-19 2009-02-05 Yukako Ono ペット用食器
JP2009158763A (ja) 2007-12-27 2009-07-16 Disco Abrasive Syst Ltd 保護膜被覆装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8551911B2 (en) 2009-09-29 2013-10-08 Nippon Soda Co., Ltd. Recording material using phenolic compound
KR101323543B1 (ko) * 2009-09-29 2013-10-29 닛뽕소다 가부시키가이샤 페놀성 화합물을 사용한 기록 재료

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