KR20110016823A - 표면 처리제 - Google Patents

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KR20110016823A
KR20110016823A KR1020100072351A KR20100072351A KR20110016823A KR 20110016823 A KR20110016823 A KR 20110016823A KR 1020100072351 A KR1020100072351 A KR 1020100072351A KR 20100072351 A KR20100072351 A KR 20100072351A KR 20110016823 A KR20110016823 A KR 20110016823A
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Abstract

본 발명은, 잉크젯법 등의 인쇄 방법에 있어서도 미세한 패턴 막을 형성할 수 있도록, 기판 상에 용이하게 잉크 반발화 처리를 행할 수 있는 표면 처리제를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 하기 일반식(1)으로 표시되는 화합물(a)로부터 유도되는 구성 단위와, 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 공중합체, 및 용제(e)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판에 잉크 반발성을 부여하기 위한 표면 처리제에 관한 것이다.

Description

표면 처리제 {SURFACE TREATMENT AGENT}
본 발명은, 잉크젯법 등에 의한 인쇄 방법을 이용하여, 기판 상에 소정의 베타 막이나 패턴 막을 형성할 때, 미세한 패턴 막이나 요철이 적은 베타 막을 형성하는 것을 가능하게 하는 표면 처리제에 관한 것이다.
패턴화된 투명막은, 스페이서, 절연막, 보호막 등 액정 표시 소자의 많은 부분에 사용되고 있다. 지금까지 다양한 감광성 조성물이 이러한 용도에 이용되어 왔다.
또한 최근에, 잉크젯법을 비롯한 인쇄 방법이 사용되고 있고, 온디맨드에서의 패턴 형성이 가능한 잉크젯법은, 환경친화적이고, 비용상의 이점도 기대할 수 있다는 점에서 주목을 끌고 있다.
또한 최근에는, 잉크젯법에 의해 포토리소그래피법으로 얻어지는 패턴에 필적하는 미세한 패턴을 실현하는 것에 대한 요구도 있지만, 현재의 잉크젯법으로는, 잉크의 착탄(着彈) 후, 잉크가 번져서 확대되고, 또한 1회의 토출시의 액량이 많으므로, 그 요구를 실현하는 것은 어렵다.
잉크젯법에 의해 기판 상에 미세 패턴을 묘화(描畵)하기 위해서는, 기판의 표면 처리(잉크 반발 처리)가 필요하지만, 표면 처리의 방법으로서, 예를 들면, 특허 문헌 1 및 2에 기재된 기술이 제안되어 있다. 이들 문헌에 기재된 기술에서는, 4플루오르화메탄 등의 플루오로카본계 가스를 사용한 플라즈마 처리나, 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실트리에톡시실란 등의 플루오로알킬실란과 기판을 동일한 용기에 넣고 일정 기간 방치함으로써 기판의 표면 처리가 행해진다.
그러나, 상기 플라즈마 처리법에는, 소정의 장치가 필요하며, 비용 측면과, 유독 가스의 발생이 있는 등의 프로세스 측면에서도 문제가 있고, 또 일정 기간 방치하는 방법에서는, 표면 처리에 소요되는 시간이 길며, 최종 제품까지의 제조 효율이 나쁘다는 문제가 있다. 그러므로, 용이하게 기판을 표면 처리할 수 있는 방법이 요구되고 있다.
한편, 특허 문헌 3에는, (가) 하기 식으로 표시되는 실록산 마크로모노머 및/또는 특정한 실록산 마크로모노머 1∼40중량%, (나) 가수분해성 알콕시실릴기 함유 모노머 5∼50중량%, 및 (다) 이것들과 공중합 가능한 다른 불포화 모노머 10∼94중량%의 공중합에 의해 얻어지는 가수분해성 알콕시실릴기 함유 실록산 폴리머(A)를 필수 성분으로서 함유하는 것을 특징으로 하는 활수성(滑水性) 표면을 형성할 수 있는 폴리머 조성물이 개시되어 있다.
Figure pat00001
상기 식에서, Z1은 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내고, Z2는 탄소수 1∼6의 2가의 탄화수소기를 나타내고, Z3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, y는 6∼300의 수이다.
특허 문헌 3에는, 상기 폴리머 조성물을, 어떤 물체에 물이 부착된 경우에, 물을 닦아내는 등 기계적 방법으로 강제적으로 제거하지 않아도, 물체를 기울이는 것만으로 부착된 물방울이 굴러 떨어지도록 하기 위해 사용하는 것에 대해 기재되어 있다.
[특허 문헌 1] 일본 특허출원 공개번호 2005-251809호 공보 [특허 문헌 2] 일본 특허출원 공개번호 2004-6700호 공보 [특허 문헌 3] 일본 특허출원 공개번호 2000-239601호 공보
본 발명의 과제는, 잉크젯법 등의 인쇄 방법에 있어서도, 미세한 패턴 막을 형성할 수 있도록, 기판 상에 용이하게 잉크 반발 처리를 행할 수 있는 표면 처리제를 제공하는 것이다.
또한, 기판을 표면 처리하면, 기판 상에 표면 처리막이 생기지만, 전자 부품을 구성하는 재료에 따라서는, 표면 처리막의 잉크 반발성(발액성)이 지나치게 높아서, 상기 재료의 기판(표면 처리막)에 대한 젖음성이 부족한 경우가 있다. 그와 같은 경우를 고려하면, 상기 표면 처리막은, 젖음성이 낮은 재료를 기판에 도포할 때에는 용이하게 제거할 수 있는 것이 바람직하다. 본 발명은, 용이하게 제거할 수 있는 표면 처리막을 형성하는 것이 가능한 표면 처리제를 제공하는 것도 과제로 하고 있다.
또한, 잉크젯법에 의해 기판 상에 베타 막을 형성할 때에는, 통상적으로 잉크젯 헤드를, 기판 상에서 여러 번 왕복시키면서 잉크를 토출함으로써, 베타 막이 형성된다. 그 경우에, 기판 상에 착탄된 잉크가 젖어 퍼지면, 부분적으로 잉크의 덧칠이 생기는 경우가 있다. 이 덧칠이 되어 있는 부분의 잉크 막 두께는, 덧칠되어 있지 않은 부분보다 두꺼우므로, 결과적으로 베타 막에 요철이 생기고, 평탄한 베타 막을 얻을 수 없다
그래서, 본 발명은, 기판에 잉크 반발성을 부여함으로써, 상기 잉크의 젖어 퍼짐을 막아서, 요철이 없는 평탄한 베타 막을 형성하는 것을 가능하게 하는 표면 처리제를 제공하는 것도 과제로 하고 있다.
한편, 본 명세서에 있어서, 상기 베타 막이란 기판 표면 전체면이 전자 부품을 구성하는 재료(잉크)에 의해 덮여 있는 막을 나타내고, 상기 패턴 막이란, 기판 표면이 노출되어 있는 개소와 전자 부품을 구성하는 재료(잉크)에 의해 덮여 있는 개소가 혼재되어 있는 경우에, 상기 재료로 형성되어 있는 막을 말한다.
본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해 연구를 행한 결과, 규소를 포함하는 특정 화합물로부터 유도되는 구성 단위와, 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 공중합체, 및 용제를 포함하는 표면 처리제가, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여할 수 있고, 또한 용이하게 제거할 수 있는 표면 처리막을 형성할 수 있다는 것을 발견하고, 발명을 완성시켰다.
본 발명은 이하의 사항을 포함한다.
[1] 하기 일반식(1)으로 표시되는 화합물(a)로부터 유도되는 구성 단위와, 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 공중합체, 및 용제(e)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판에 잉크 반발성을 부여하기 위한 표면 처리제:
Figure pat00002
(식(1)에서, R1, R2 및 R5는 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬을 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬 또는 하기 일반식(2)으로 표시되는 기를 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시크로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고, n은 1∼1,000의 정수이며, n이 2 이상인 경우에는, 복수 개 존재하는 R3 및 R4는 각각 동일하거나 상이할 수 있고, A1은 라디칼 중합성 관능기를 나타냄);
Figure pat00003
(식(2)에서, R6, R7 및 R8은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬을 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -0- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고, m은 1∼500의 정수이며, m이 2 이상인 경우에는, 복수 개 존재하는 R6 및 R7은 각각 동일하거나 상이할 수 있음).
[2] 상기 라디칼 중합성 모노머(b)에서의 친수성기가, 하이드록실, 카르복실 또는 페놀성 하이드록실인 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 표면 처리제.
[3] 상기 공중합체가, 상기 라디칼 중합성 모노머(b) 이외의 라디칼 중합성 모노머(c)로부터 유도되는 구성 단위를 추가로 가지는 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 표면 처리제.
[4] 상기 일반식(1) 및 (2)에 있어서, 상기 직쇄형 또는 분지형 알킬의 탄소수가 1∼20이며, A1이 (메타)아크릴로일옥시알킬, (메타)아크릴 또는 비닐이며, m이 1∼300의 정수인 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 표면 처리제.
[5] 상기 화합물(a)이, 3-메타크릴옥시프로필트리스(트리메틸실록시)실란 또는 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 표면 처리제:
Figure pat00004
(식(3)에서, R9는 수소 또는 탄소수가 1∼20인 직쇄형 또는 분지형 알킬이며, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고, n은 1∼1000의 정수임).
[6] 상기 라디칼 중합성 모노머(b)가, (메타)아크릴산 또는 4-하이드록시페닐비닐케톤인 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 표면 처리제.
[7] 상기 라디칼 중합성 모노머(c)가, N-페닐말레이미드, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 또는 (메타)아크릴산 부틸인 것을 특징으로 하는 [3]에 기재된 표면 처리제.
[8] [1]에 기재된 표면 처리제를 사용하여 기판 상에 표면 처리막을 형성하는 공정을 포함하는, 기판에 잉크 반발성을 부여하는 방법.
[9] [8]에 기재된 방법에 의해 잉크 반발성이 부여된 기판 상에, 잉크젯 도포 방법에 의하여, 폭 200㎛ 이하의 패턴 막을 형성하는 방법.
[10] [9]에 기재된 방법에 의해 형성된 패턴 막을 가지는 전자 부품.
[11] [1]에 기재된 표면 처리제를 사용하여 기판 상에 표면 처리막을 형성하고, 상기 표면 처리막 상에 베타 막 또는 패턴 막을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 부품의 제조 방법.
본 발명의 표면 처리제로 형성된 표면 처리막은, 잉크젯 토출된 액적에 대하여 잉크 반발성을 나타내고, 그에 따라 잉크젯에 의해 미세한 패턴 막 및 평탄한 베타 막을 형성할 수 있다. 또한, 불필요하게 된 표면 처리막은, 알칼리 수용액 등으로 용이하게 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 표면 처리제는, 기판 상에 전자 회로 패턴을 형성하는 용도 등에 최적이다.
본 발명에 따라 기판에 잉크 반발성을 부여하기 위한 표면 처리제(이하, 간단히 "본 발명의 표면 처리제"라고도 함)는, 상기 일반식(1)으로 표시되는 화합물(a)로부터 유도되는 구성 단위와, 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 공중합체, 및 용제(e)를 포함한다.
[일반식(1)으로 표시되는 화합물(a)]
본 발명의 표면 처리제에 함유되는 공중합체를 구성하는, 하기 일반식(1)으로 표시되는 화합물(a)로부터 유도되는 구성 단위(이하, 간단히 "구성 단위(a)"라고도 함)는, 기판에 미세한 패턴 막을 형성하기에 충분한 잉크 반발성을 부여하는 기능을 가진다.
Figure pat00005
식(1)에서, Rl, R2 및 R5는 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬을 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고,
R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬 또는 하기 일반식(2)으로 표시되는 기를 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고,
n은 1∼1,000의 정수이며, n이 2 이상인 경우에는, 복수 개 존재하는 R3 및 R4는 각각 동일하거나 상이할 수 있고,
A1은 라디칼 중합성 관능기를 나타낸다.
Figure pat00006
식(2)에서, R6, R7 및 R8은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬을 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고,
m은 1∼500의 정수이며, m이 2 이상인 경우에는, 복수 개 존재하는 R6 및 R7은 각각 동일하거나 상이할 수 있다.
상기 식(1) 및 (2)의 설명에서 기재한 "탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬"에 있어서, 메틴이란 메탄으로부터 3개의 수소가 제거된 구조이며, 알킬을 구성하는 어느 하나의 탄소에 있어서 1개의 분지가 형성되어 있는 경우에 존재하고, 메탄테트라일은 메탄으로부터 4개의 수소가 제거된 구조이며, 알킬을 구성하는 1개소의 탄소에 있어서 2개의 분지가 형성되어 있는 경우에 존재한다.
예를 들면, 상기 알킬이 펜틸이고, 그 펜틸을 구성하는 1개의 메틸렌이 시클로헥실렌으로 치환된 구조의 예로서는, 이하의 것을 들 수 있다. 한편, 이하의 구조에 있어서, "*"은 결합 자리를 나타낸다.
Figure pat00007
또한, 상기 알킬이 5-프로필옥틸이고, 상기 5-프로필옥틸을 구성하는 메틴이 시클로헥산트리일로 치환된 구조의 예로서는, 이하의 것을 들 수 있다. 한편, 이하의 구조에 있어서, "*"은 결합 자리를 나타낸다.
상기 시클로알킬, 시클로알킬렌, 시클로알칸트리일 및 시클로알칸테트라일의 탄소수는 통상 4∼12이며, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서는, 바람직하게는 5∼10이고, 보다 바람직하게는 6∼8이다.
상기 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬의 탄소수는, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서는, 바람직하게는 1∼25이고, 보다 바람직하게는 1∼20이다. 한편, 이 직쇄형 또는 분지형 알킬에 있어서, 그 알킬을 구성하는 메틸 등이 치환되어 있어도 되는 시클로알킬 등의 탄소수는, 상기 알킬이 상기 "탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬"에 해당하는지를 판단하는 데 있어서는, 1로 한다. 즉, 예를 들면, 하기 식으로 표시되는 12-(5-데카닐)시클로데카닐도데카닐은, 본 발명에서의 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬에 해당한다.
Figure pat00009
상기 식에 있어서, "*"은 결합 자리를 나타낸다.
Rl, R2 및 R5로서는, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서 탄소수 1∼8의 알킬이 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알킬이 보다 바람직하다.
R3 및 R4로서는, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서 탄소수 1∼8의 알킬이 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알킬이 보다 바람직하다.
또한, 일반식(1)에 있어서, n은 1∼1000의 정수이며, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서는, 바람직하게는 1∼500의 정수이고, 보다 바람직하게는 1∼300의 정수이다.
또한, 일반식(1)에 있어서, A1은 라디칼 중합성 관능기를 나타낸다. "라디칼 중합성"이란, 광을 조사하거나 가열함으로써 발생된 자유 라디칼에 의해 중합을 개시하는 성질이다. 라디칼 중합성 관능기의 예로서는, (메타)아크릴로일옥시알킬, (메타)아크릴 및 비닐을 들 수 있다. 이것들 중에서도, (메타)아크릴로일옥시알킬이 특히 바람직하다. 한편, (메타)아크릴로일옥시알킬에서의 알킬의 탄소수는, 통상 1∼30이며, 바람직하게는 1∼20이다.
상기 일반식(2)에 있어서, R6, R7 및 R8로서는, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서 탄소수 1∼8의 알킬이 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알킬이 보다 바람직하다.
또 일반식(2)에 있어서 m은 1∼500의 정수이지만, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서 1∼300의 정수인 것이 바람직하고, 1∼100의 정수인 것이 보다 바람직하다.
이와 같은 화합물(a)의 바람직한 구체예로서는, 3-메타크릴옥시프로필트리스(트리메틸실록시)실란 및 하기 일반식(3)으로 표시되는 모노메타크릴 말단-디메틸실록산을 들 수 있다.
Figure pat00010
식(3)에서, R9는 수소 또는 탄소수가 1∼20인 직쇄형 또는 분지형 알킬이며, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고, n은 1∼1000의 정수이다.
식(3)에 있어서, 기판에 우수한 잉크 반발성을 부여하는 관점에서는, R9는 바람직하게는 부틸이며, n은 바람직하게는 1∼10O의 정수이다.
본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체를 제조하는 데 있어서는, 상기 화합물(a)은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
한편, 화합물(a)은 그 제조 방법이 공지이며, 시판도 되고 있다.
[친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)]
친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)로부터 유도되는 구성 단위(이하, 간단히 "구성 단위(b)"라고도 함)는, 본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체에 알칼리 가용성을 부여하고, 기판 상에 본 발명의 표면 처리제를 도포하고, 도막을 건조 또는 소성하여 형성되는 표면 처리막을 알칼리 수용액에 의해 용이하게 제거하는 것을 가능하게 한다.
라디칼 중합성 모노머(b)는, 친수성기를 가지고, 라디칼 중합할 수 있는 화합물이면, 특별히 한정되지 않는다.
상기 친수성기로서는, 하이드록실, 카르복실, 페놀성 하이드록실 및 아미노 등을 들 수 있고, 이것들 중에서도, 표면 처리막의 제거의 용이성, 잉크 반발성 부여의 관점에서, 하이드록실, 카르복실 및 페놀성 하이드록실이 바람직하다.
이와 같은 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)의 구체예로서는, (메타)아크릴산, 이타콘산 및 비닐아세트산 등의 불포화 카르복시산 부위를 가지는 라디칼 중합성 모노머, 4-하이드록시페닐비닐케톤 및 하이드록시스티렌 등의 페놀성 하이드록실을 가지는 라디칼 중합성 모노머를 들 수 있다.
이것들 중에서도, 본 발명의 표면 처리막의 알칼리 가용성을 높이는 관점에서, (메타)아크릴산 및 4-하이드록시페닐비닐케톤이 바람직하다.
본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체를 제조하는 데 있어서는, 상기 라디칼 중합성 모노머(b)는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
[라디칼 중합성 모노머(b) 이외의 라디칼 중합성 모노머(c)]
본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체는, 필요에 따라 상기 구성 단위(a) 및 구성 단위(b) 이외에, 라디칼 중합성 모노머(b) 이외의 라디칼 중합성 모노머(c)로부터 유도되는 구성 단위(이하, 간단히 "구성 단위(c)"라고도 함)를 가질 수도 있다. 상기 공중합체가 구성 단위(c)를 가짐으로써, 본 발명의 표면 처리제의 기판에 대한 도포성이 향상된다.
라디칼 중합성 모노머(c)는, 라디칼 중합성 모노머(b) 이외의 라디칼 중합성 모노머이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, (메타)아크릴레이트, 불포화 카르복시산 무수물 부위를 가지는 라디칼 중합성 모노머, 비닐 화합물 및 이미드 화합물이다. 상기 불포화 카르복시산 무수물 부위를 가지는 라디칼 중합성 모노머의 예로서는, 무수 말레산 및 무수 이타콘산을 들 수 있다.
라디칼 중합성 모노머(c)의 구체예로서는, N-페닐말레이미드, 시클로헥실말레이미드, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 아세트산 비닐, 디메틸아미노에틸아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸 및 (메타)아크릴산 부틸을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 도포성 향상의 관점에서, N-페닐말레이미드, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 및 (메타)아크릴산 부틸이 바람직하다.
본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체를 제조하는 데 있어서는, 상기 라디칼 중합성 모노머(c)는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
<공중합체의 중합 방법>
화합물(a), 라디칼 중합성 모노머(b) 및 필요에 따라 사용하는 라디칼 중합성 모노머(c)의 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 통상적 라디칼 중합 방법을 채용할 수 있다.
예를 들면, 화합물(a), 라디칼 중합성 모노머(b) 및 라디칼 중합성 모노머(c)의 혼합물을 용제 중에서 교반, 환류함으로써, 라디칼 중합시켜 본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체를 얻을 수 있다. 한편, 중합 용매로서 사용되는 상기 용제는, 그대로 후술하는 용제(e)로서 사용할 수도 있다.
라디칼 중합은, 중합 개시제(d)를 첨가하여 실시하는 것이 바람직하다. 중합 개시제(d)는 통상 열에 의해 라디칼을 발생하는 화합물이며, 그 구체예로서는, 아조비스이소부티로니트릴 및 디메틸-2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 아조계 개시제, 및 과산화 벤조일 등의 과산화물계 개시제를 들 수 있다.
중합 반응에서의 환류 온도는 사용한 용제의 비점이지만, 중합 개시제(d)로부터 라디칼이 충분히 발생하는 온도일 필요가 있다. 그와 같은 조건을 만족시키는 용제의 비점은, 통상 50∼150℃의 범위이다.
환류 시간에 대해서도 특별히 한정되지 않지만, 통상 1∼24시간의 범위이다. 또한, 상기 중합은, 가압, 감압 또는 대기압 중 어느 압력 하에서도 행할 수 있다.
또한, 공중합체의 분자량을 조정하기 위하여, 티오글리콜산 등의 연쇄이동제를 중합 반응계에 적당량 첨가해도 된다.
<공중합체의 조성 비율>
상기와 같이 하여 제조되는, 본 발명의 표면 처리제에 포함되는 공중합체에 있어서, 구성 단위(a)의 조성 비율은, 표면 처리막의 잉크 반발성을 발현하는 관점에서, 구성 단위(a) 및 구성 단위(b)의 합계 100중량%에 대하여, 1∼95중량%인 것이 바람직하고, 5∼90중량%인 것이 보다 바람직하고, 10∼85중량%인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 구성 단위(b)의, 상기 공중합체에서의 조성 비율은, 표면 처리막의 알칼리 수용액에 대한 용해성을 향상시키는 관점에서, 구성 단위(a) 및 구성 단위(b)의 합계 100중량%에 대하여, 5∼99중량%인 것이 바람직하고, 10∼95중량%인 것이 보다 바람직하고, 15∼90중량%인 것이 더욱 바람직하다.
상기 공중합체는, 구성 단위(c)를 가져도 되지만, 그 경우, 구성 단위(c)의 조성 비율은, 공중합체 100중량%에 대하여, 10∼90중량%인 것이 바람직하고, 20∼87중량%인 것이 보다 바람직하고, 25∼85중량%인 것이 더욱 바람직하다,
중합 반응에서의, 화합물(a), 라디칼 중합성 모노머(b) 및 라디칼 중합성 모노머(c)의 투입량을 조절함으로써, 각 화합물로부터 유도되는 구성 단위의 조성 비율을 상기 범위로 조정할 수 있다.
<공중합체의 중량 평균 분자량>
본 발명의 표면 처리제에 함유되는 공중합체의 중량 평균 분자량은 특별히 제한되지는 않지만, 통상 1,000∼100,000이며, 도포성의 관점에서, 바람직하게는 5,000∼50,000이다. 한편, 본 명세서에 있어서 중량 평균 분자량이란, GPC에 의해 측정된 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이다. 보다 상세하게는, GPC 장치로서 (株)島津製作所 제조의 1C-10AT 시스템, RID-6A(RI 검출기), CTO-6A(컬럼 오븐)를 사용하고, 컬럼으로서 POLYMER Laboratories 제조의 THF계 컬럼(PLgel 5㎛ MIXED-D 컬럼)을 사용하여 GPC법(컬럼 온도: 35℃, 유속: 1ml/분)에 의해 구한 폴리스티렌 환산의 값이다.
공중합체의 중량 평균 분자량은, 화합물(a)의 종류(일반식(1) 및 (2)에서의 n 및 m의 수), 환류 시간, 중합 개시제의 첨가량 등을 조정함으로써, 상기 범위로 할 수 있다.
[용제(e)]
본 발명의 표면 처리제에는, 상기 처리제의 도포성을 높이기 위해, 용제(e)가 포함되어 있다. 용제(e)는, 화합물(a) 및 라디칼 중합성 모노머(b), 또한 라디칼 중합성 모노머(c)를 용해할 수 있는 것이 바람직하다. 그와 같은 용제를, 상기 공중합체를 제조하기 위해 사용한 경우에, 중합 반응이 종료되었을 때 상기 용제가 잔존하고 있으면, 그것을 그대로 용제(e)로서 사용할 수 있기 때문이다.
본 발명에서 사용되는 용제(e)의 비점은, 50℃∼250℃인 것이, 기판 상에 도포된 본 발명의 표면 처리제의 건조의 용이성의 관점에서 바람직하다.
비점이 50℃∼250℃인 용제(e)의 구체예로서는, 메탄올, 메틸에틸케톤, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 아세트산 에틸, 크실렌, 톨루엔, 헥산, 이소 부틸알코올, 메틸이소부틸케톤, 메틸부틸케톤, 아세톤, 3-메톡시프로피온산 메틸, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 부틸메틸에테르, 디프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 트리프로필렌글리콜 디메틸에테르를 들 수 있다.
표면 처리제를 기판 상에 도포한 후에, 소성을 행하지 않고 표면 처리막으로서 사용하는 경우에는, 에탄올, 아세톤 및 메틸에틸케톤 등의 저비점 용매가 바람직하게 사용된다.
본 발명에서 사용되는 용제(e)는, 단일 화합물일 수도 있고, 2종 이상의 혼합 용제일 수도 있다.
또한, 본 발명의 표면 처리제에 있어서, 용제(e)는, 공중합체 및 용제(e)의 총량에 대하여, 고형분인 공중합체가 0.01∼50중량%가 되도록 배합되는 것이 바람직하다.
한편, 바람직한 고형분 농도는, 본 발명의 표면 처리제의 도포 방법에 따라 변화된다. 예를 들면, 침지법으로 표면 처리제를 도포하는 경우에는, 고형분 농도가 0.01∼30중량%인 것이 바람직하고, 0.05∼20중량%인 것이 보다 바람직하고, 천 등에 의한 도포법의 경우에는, 고형분 농도가 0.01∼20중량%인 것이 바람직하고, 0.5∼15중량%인 것이 보다 바람직하고, 스핀 코팅법의 경우에는, 고형분 농도가 0.01∼50중량%인 것이 바람직하고, 0.05∼40중량%인 것이 보다 바람직하다.
[첨가제]
본 발명의 기판에 잉크 반발성을 부여하기 위한 표면 처리제에는, 도포 균일성, 표면 처리막의 기판과의 밀착성, 알칼리 용해성 등을 향상시키기 위하여, 필요에 따라 첨가제를 가할 수 있다. 첨가제로서는, 음이온계, 양이온계, 비이온계, 불소계 또는 실리콘계의 계면활성제, 실란커플링제 등의 밀착성 향상제, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제 등을 들 수가 있다.
[표면 처리제의 보존]
본 발명의 기판에 잉크 반발성을 부여하기 위한 표면 처리제는, 온도 -30℃∼30℃의 범위에서 차광하여 보존하면 경시 안정성이 양호하여 바람직하다. 보존 온도가 -10℃∼20℃이면 석출물도 없어서 더욱 바람직하다.
[본 발명의 표면 처리제의 도포법]
본 발명의 표면 처리제에 의한 표면 처리막은, 잉크젯 분야에 있어서 통상 행해지는 방법이나, 그 외의 공지의 방법에 의하여, 유리 등의 기판 상에 표면 처리제를 도포함으로써 형성할 수 있다.
도포 방법으로서 예를 들면, 스핀 코팅, 롤 코팅, 슬릿 코팅, 또는 잉크젯법, 스크린 인쇄법 등을 들 수 있다.
본 발명의 표면 처리제를 도포하는 기판으로서는, 예를 들면, 백판(白板) 유리, 청판 유리, 실리카 코트 청판 유리 등의 투명 유리 기판, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리에스테르, 아크릴 수지, 염화비닐 수지, 방향족 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등의 합성 수지제 시트, 필름 또는 기판, 알루미늄판, 동판, 니켈판, 스테인레스판 등의 금속판, 그 외에 세라믹판, 광전변환 소자를 가지는 반도체 기판 등을 들 수 있다.
이들 기판은 평면형일 필요는 없고, 본 발명의 표면 처리제를 도포할 수 있는 것이면, 곡면형이라도 된다.
또한, 상기 방법에 따르지 않고, 웨스, 천 등에 본 발명의 표면 처리제를 함침시키고, 이것들로 기판 표면을 문지름으로써 기판 상에 본 발명의 표면 처리제를 도포하거나, 표면 처리제로 기판마다 침지하고, 소정 시간 경과 후에 인출함으로써 도포할 수도 있다.
상기 방법에 따라 표면 처리제가 도포된 기판은, 그대로 통풍 건조해도 되고, 표면 처리막의 기판에 대한 밀착성이나 신뢰성을 보다 높이기 위하여, 소성해도 된다. 소성 온도는 표면 처리제 중의 용제(e)가 건조되는 온도이면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 50∼300℃이고, 보다 바람직하게는 70∼250℃, 더욱 바람직하게는 80∼230℃이다.
표면 처리된 기판에는 잉크 반발성이 부여되어 있고, 기판 상(정확하게는 표면 처리막 상)에, 잉크젯법, 스크린 인쇄법 등으로 원하는 패턴을 묘화하면, 통상적으로는 폭 200㎛ 이하, 바람직하게는 폭 100㎛ 이하의 미세한 패턴 막을 형성할 수 있다. 또 잉크젯법으로 베타 막을 형성하는 경우에는, 기판에 잉크 반발성이 부여됨에 따라, 잉크가 젖어 퍼지지 않고, 잉크젯법을 실시해도 덧칠이 되는 부분이 생기지 않고, 요철이 없는 평탄한 베타 막을 얻을 수 있다.
한편, 패턴 등을 묘화한 후, 불필요하게 된 개소의 표면 처리 부분은, 알칼리 수용액 등에 의해 용이하게 제거할 수 있다.
<불요 부분의 표면 처리막 제거법>
잉크젯법, 스크린 인쇄법 등에 의해 잉크로 원하는 패턴 등을 묘화한 후, 표면 처리막에 대한 젖음성이 부족한 재료를 추가로 도포하는 경우에는, 재료를 도포하는 부분에 형성된 불필요한 표면 처리막은, 알칼리 수용액으로 용이하게 제거할 수 있다. 알칼리 수용액에 포함되는 알칼리의 구체예로서는, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드(TMAH), 테트라에틸암모늄 하이드록사이드, 2-하이드록시에틸트리메틸암모늄 하이드록사이드, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소칼륨, 수산화나트륨 및 수산화칼륨을 들 수 있다.
알칼리 수용액에는, 알칼리 수용액에 대한 표면 처리막의 용해성 향상 등을 목적으로 하여, 메탄올, 에탄올이나 계면활성제를 첨가해도 된다. 계면활성제로서는, 예를 들면, 음이온계, 양이온계, 및 비이온계로부터 선택되는 계면활성제를 사용할 수 있다.
알칼리 수용액의 농도는, 특별히 한정되지 않지만, O.01∼10중량%가 바람직하고, O05∼5중량%가 보다 바람직하고, 0.1∼3중량%가 더욱 바람직하다. 또한, 알칼리 수용액에 기판을 침지하는 시간은, 불필요한 표면 처리막이 완전하게 제거될 수 있는 시간이면, 특별히 한정되지 않지만, 30∼120초가 바람직하고, 40∼100초가 보다 바람직하고, 50∼90초가 더욱 바람직하다. 또한, 알칼리 수용액의 온도는 특별히 한정되지 않지만, 통상 15∼35℃이며, 바람직하게는 20∼30℃이다.
이상과 같이 하여 기판 상에 미세한 패턴 막을 형성한 후, 컬러 잉크를 도포하는 등의 소정의 제조 공정을 거쳐, 액정 표시 소자라는 전자 부품이 제조된다. 본 발명의 표면 처리제로 표면 처리된 기판 상에는 미세한 패턴 막을 형성할 수 있으므로, 보다 소형의 전자 부품을 얻을 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 추가로 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
이하에서는, 합성예 및 비교 합성예에 있어서 사용한 화합물(a), 라디칼 중합성 모노머(b), 라디칼 중합성 모노머(c), 중합 개시제(d) 및 용제(e)를, 다음과 같이 기호로 나타내는 경우가 있다.
<화합물(a)>
a-1: 3-메타크릴옥시프로필트리스(트리메틸실록시)실란
a-2: α-부틸-ω-(3-메타크릴옥시프로필)폴리디메틸실록산(상기 일반식(3)에 있어서, R9가 n-부틸기이며, n이 2인 화합물).
<라디칼 중합성 모노머(b)>
b-1: 메타크릴산
b-2: 4-하이드록시페닐비닐케톤.
<라디칼 중합성 모노머(c)>
c-1: 메타크릴산 부틸
c-2: N-페닐말레이미드
c-3: 디메틸아미노에틸아크릴레이트.
<중합 개시제(d)>
d-1: 디메틸 2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트).
<용제(e)>
e-1: 메틸에틸케톤.
[합성예 1] 공중합체(A1)의 합성
교반기가 부착된 4구 플라스크에, 화합물(a)로서α-부틸-ω-(3-메타크릴옥시프로필)폴리디메틸실록산(a-2), 라디칼 중합성 모노머(b)로서 메타크릴 산(b-1), 라디칼 중합성 모노머(c)로서 메타크릴산 부틸(c-1), 중합 개시제(d)로서 디메틸 2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트)(d-1), 용매(e)로서 메틸에틸케톤(e-1)을 하기 중량 비율로 투입하고, 80℃에서 2시간 환류를 행하였다.
a-2 8.100g
b-1 2.025g
c-1 3.375g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 공중합체(Al)를 얻었다. 용액의 일부를 샘플링하고, GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 공중합체(Al)의 중량 평균 분자량을 측정하였다. 그 결과, 중량 평균 분자량은 15,000이었다.
[합성예 2] 공중합체(A2)의 합성
합성예 1과 동일한 방법으로, 하기의 성분을 하기의 중량 비율로 투입하고, 환류를 행하였다.
a-1 8.100g
b-1 2.025g
c-1 3.375g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
합성예 1과 동일한 처리를 행하고, 얻어진 공중합체(A2)의 GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 구한 중량 평균 분자량은 14,800이었다.
[합성예 3] 공중합체(A3)의 합성
합성예 1과 동일한 방법으로, 하기의 성분을 하기의 중량 비율로 투입하고, 환류를 행하였다.
a-1 11.475g
b-1 2.025g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
합성예 1과 동일한 처리를 행하고, 얻어진 공중합체(A3)의 GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 구한 중량 평균 분자량은 15,800이었다.
[합성예 4] 공중합체(A4)의 합성
합성예 1과 동일한 방법으로, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 환류를 행하였다.
a-2 0.27g
b-1 2.025g
C-1 6.75g
c-2 4.455g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
합성예 1과 동일한 처리를 행하고, 얻어진 공중합체(A4)의 GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 구한 중량 평균 분자량은 15,200이었다.
[합성예 5] 공중합체(A5)의 합성
합성예 1과 동일한 방법으로, 하기의 성분을 하기의 중량 비율로 투입하고, 환류를 행하였다.
a-1 10.8g
b-2 2.7g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
합성예 1과 동일한 처리를 행하고, 얻어진 공중합체(A5)의 GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 구한 중량 평균 분자량은 16,200이었다.
[비교 합성예 1] 비교 공중합체(Bl)의 합성
합성예 1과 동일한 방법으로, 하기의 성분을 하기의 중량 비율로 투입하고, 환류를 행하였다.
b-1 2.025g
c-3 11.475g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
합성예 1과 동일한 처리를 행하고, 얻어진 비교 공중합체(Bl)의 GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 구한 중량 평균 분자량은 13,900이었다.
[비교 합성예 2] 비교 공중합체(B2)의 합성
합성예 1과 동일한 방법으로, 하기의 성분을 하기의 중량 비율로 투입하고, 환류를 행하였다.
b-2 2.7g
c-3 10.8g
d-1 2.025g
e-1 27.0g.
합성예 1과 동일한 처리를 행하고, 얻어진 비교 공중합체(B2)의 GPC 분석(폴리스티렌 표준)에 의해 구한 중량 평균 분자량은 16,100이었다.
[실시예 1∼5, 비교예 1∼4]
<표면 처리막의 형성>
합성예 1∼5 및 비교 합성예 1 및 2에서 얻어진 공중합체를, 메틸에틸케톤으로 333배로 희석하고, 표면 처리제를 조제했다.
유리 기판 상에, 얻어진 표면 처리제를 3000rpm로 10초 스핀 코팅하고, 그대로 통풍 건조함으로써, 유리 기판 상에 표면 처리막을 형성하였다. 한편, 비교예 3으로서 표면 처리막이 형성되어 있지 않은, 유리 기판 자체를 사용하였다. 또한, 비교예 4로서 일본 특허출원 공개번호 2004-6700호 공보(특허 문헌 2)의 실시예 1에 기재된 방법에 따라, 유리 기판 상에 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실트리에톡시실란의 표면 처리막을 형성하였다.
<표면 처리막의 평가 방법>
1) 접촉각 측정
얻어진 표면 처리막 또는 유리 기판의 잉크 반발성은, 協和界面化學社 제조의 Drop Master 500에 의해 25℃에서, 잉크젯용 잉크의 구성 성분으로서 많이 사용되는 (메타)아크릴 모노머인 2-하이드록시에틸 메타아크릴레이트(HEMA) 및 시클로헥실 메타크릴레이트(CH)의 접촉각을 측정함으로써 평가했다. 착적(着滴) 1초 후의 값을 접촉각으로 하였다.
2) 묘화 평가
(메타)아크릴 모노머인, 2-하이드록시에틸 메타아크릴레이트(HEMA) 및 시클로헥실 메타크릴레이트(CH)를 사용하여, 잉크젯법에 의해 표면 처리막 또는 기판 상에 묘화를 행하고, 표면 처리제의 종류 및 표면 처리의 유무에 의한, 형성된 라인 패턴 막의 폭의 차이를 평가했다.
(잉크젯 묘화 조건)
인쇄 장치: DMP-2831(상품명: FUJIFILM Dimatix사 제조)
제 설정값: 헤드 온도(30℃), 피에조 전압(19V), 구동 주파수(5kHz), 헤드(10pL)
도포: 1회 코팅.
(3) 알칼리 가용성
상기 <표면 처리막의 형성>에서 제조된, 표면 처리제 또는 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실트리에톡시실란으로 표면 처리한 유리 기판을, 0.4중량% TMAH 수용액에 25℃에서 60초 침지한 후, 유리 기판을 꺼내고, 초순수로 린스하고, 건조 후, 기판 표면의, 25℃에서의 순수의 접촉각을 측정함으로써, 표면 처리막이 제거되었는지를 확인하였다. 판정은, 접촉각이 50도 미만이면 AA, 50도 이상이면 BB로 하여 판정하였다.
이상의 평가의 결과를 하기 표 1에 나타낸다.

 실시예 비교예
1 2 3 4 5 1 2 3 4
공중합체 A1 A2 A3 A4 A5 B1 B2 없음 -*1
접촉각
/도		 HEMA 55 60 68 51 65 15 20 25 70
CH 31 37 50 41 47 10 15 20 40
라인패턴
폭/㎛		 HEMA 75 70 55 85 60 400 350 310 85
CH 105 120 75 115 80 435 375 340 115
알칼리 가용성 AA AA AA AA AA AA AA - BB*2
*1: 비교예 4에서는, 공중합체는 아니고 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실트리에톡시실란을 사용하였다.
*2: 비교예 4에 있어서는, 알칼리 가용성을 평가했을 때의 기판 표면의 물의 접촉각은 87도였다. 유리 기판의 물의 접촉각은 통상 40도 정도이므로, 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실트리에톡시실란의 막에 알칼리 가용성은 없었다고 판단하였다.
표 1에 나타낸 바와 같이, 규소를 포함하는 특정한 화합물로부터 유도되는 구성 단위와, 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 공중합체, 및 용제를 포함하는 표면 처리제로 형성된 막(표면 처리막)은, 잉크젯 잉크에 잘 사용되는 HEMA나 CH의, 기판에 대한 접촉각을 높일 수 있고, 잉크젯법에 따라 기판 상(정확하게는 상기 표면 처리막 상)에 미세한 패턴 막을 형성할 수 있다. 또한, 상기 표면 처리막은 알칼리 용액에 대한 용해성이 높고, 용이하게 제거할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또한, 그와 같은 본 발명의 표면 처리제에 의하면, 간편하고 신속하게, 종래 기술(특허 문헌 2, 등)과 동등한 레벨의 표면 처리막을 형성할 수 있다.

Claims (11)

  1. 하기 일반식(1)으로 표시되는 화합물(a)로부터 유도되는 구성 단위와, 친수성기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b)로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 공중합체, 및 용제(e)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판에 잉크 반발성을 부여하기 위한 표면 처리제:
    Figure pat00011

    (식(1)에서, R1, R2 및 R5는 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬을 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고,
    R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬 또는 하기 일반식(2)으로 표시되는 기를 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고,
    n은 1∼1,000의 정수이며, n이 2 이상인 경우에는, 복수 개 존재하는 R3 및 R4는 각각 동일하거나 상이할 수 있고,
    A1은 라디칼 중합성 관능기를 나타냄);
    Figure pat00012

    (식(2)에서, R6, R7 및 R8은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수가 1∼30인 직쇄형 또는 분지형 알킬을 나타내고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고,
    m은 1∼500의 정수이며, m이 2 이상인 경우에는, 복수 개 존재하는 R6 및 R7은 각각 동일하거나 상이할 수 있음).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 라디칼 중합성 모노머(b)에서의 친수성기가, 하이드록실, 카르복실 또는 페놀성 하이드록실인 것을 특징으로 하는 표면 처리제.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 공중합체가, 또한 상기 라디칼 중합성 모노머(b) 이외의 라디칼 중합성 모노머(c)로부터 유도되는 구성 단위를 가지는 것을 특징으로 하는 표면 처리제.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(1) 및 (2)에 있어서,
    상기 직쇄형 또는 분지형 알킬의 탄소수가 1∼20이며,
    A1이 (메타)아크릴로일옥시알킬, (메타)아크릴 또는 비닐이며, m이 1∼300의 정수인 것을 특징으로 하는 표면 처리제.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 화합물(a)이, 3-메타크릴옥시프로필트리스(트리메틸실록시)실란 또는 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 표면 처리제:
    Figure pat00013

    (식(3)에서, R9는 수소 또는 탄소수가 1∼20인 직쇄형 또는 분지형 알킬이고, 상기 알킬에 있어서, 임의의 메틸은 시클로알킬로 치환되어 있어도 되고, 임의의 연속하지 않는 메틸렌은 -O- 또는 시클로알킬렌으로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메틴은 시클로알칸트리일로 치환되어 있어도 되고, 임의의 메탄테트라일은 시클로알칸테트라일로 치환되어 있어도 되고, n은 1∼1000의 정수임).
  6. 제1항에 있어서,
    상기 라디칼 중합성 모노머(b)가, (메타)아크릴산 또는 4-하이드록시페닐비닐케톤인 것을 특징으로 하는 표면 처리제.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 라디칼 중합성 모노머(c)가, N-페닐말레이미드, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 또는 (메타)아크릴산 부틸인 것을 특징으로 하는 표면 처리제.
  8. 제1항에 기재된 표면 처리제를 사용하여 기판 상에 표면 처리막을 형성하는 공정을 포함하는, 기판에 잉크 반발성을 부여하는 방법.
  9. 제8항에 기재된 방법에 의해 잉크 반발성이 부여된 기판 상에, 잉크젯 도포 방법에 의하여, 폭 200㎛ 이하의 패턴 막을 형성하는 방법.
  10. 제9항에 기재된 방법에 의해 형성된 패턴 막을 가지는 전자 부품.
  11. 제1항에 기재된 표면 처리제를 사용하여 기판 상에 표면 처리막을 형성하고, 상기 표면 처리막 상에 베타 막 또는 패턴 막을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 부품의 제조 방법.
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