JP2013213157A - 樹脂組成物および該樹脂組成物からなる樹脂膜 - Google Patents

Abstract

【課題】インクジェット法などの印刷手法においても微細パターンを描画できるように、基板上に、優れた撥インク性を示す樹脂膜を形成することができ、かつ、所定のパターンで放射線照射を行うことにより、該樹脂膜の表面に親インク領域と撥インク領域とからなる微細なパターンを形成することができる樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される液晶性を示す重合性化合物及びシロキサンモノマーを含むラジカル重合性モノマーの混合物から得られる共重合体を含有する樹脂組成物。

【選択図】なし

Description

本発明は、インクジェット法などによる印刷手法を用いて、基板上に所定のベタ膜やパターン膜を形成する際に、基板への塗布性を向上させるための基板の表面処理剤として好適な樹脂組成物および該樹脂組成物からなる樹脂膜に関する。

パターン化された透明膜は、液晶表示素子の多くの部分、例えばスペーサー、絶縁膜または保護膜などに使用されている。これまで様々な感光性組成物が、これらの用途に用いられてきた。また、近年、インクジェット法を始めとする印刷手法が使用されてきており、オンデマンドでのパターン形成が可能なインクジェット法は、環境に優しく、コストメリットも期待できることから注目されてきている。このようなインクジェット法に対して、フォトリソグラフィ法で得られるパターンに匹敵する微細なパターン描画の要求もあるが、現在のインクジェット法では、その要求を実現するのは難しい。

微細パターンを描画するためには、基板の表面処理が必要であり、表面処理の方法はこれまで様々な文献に提案されている（例えば特許文献１および２参照）。表面処理法としては、これまでプラズマ処理法が多く用いられてきたが、しかるべき装置が必要であり、コスト面、および有毒ガスの発生があるなどのプロセス面からも優位ではないので、容易に表面処理できる方法が求められている。また、単に表面処理をしただけでは、インクによっては撥インク性が高いがゆえにインクを弾きすぎてしまい、所望のパターン形状を得られない場合がある。

特開２００５−２５１８０９号公報 特開２００４−６７００号公報

本発明の課題は、インクジェット法などの印刷手法においても微細パターンを描画できるように、基板上に、優れた撥インク性を示す樹脂膜を形成することができ、かつ、所定のパターンで紫外線等の放射線照射を行うことにより、該樹脂膜の表面に親インク領域と撥インク領域とからなる微細なパターンを形成することができる表面処理剤として好適な樹脂組成物を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、液晶性を示す重合性化合物およびシロキサンモノマーを含むラジカル重合性モノマーの混合物から得られる共重合体を含有する樹脂組成物が、優れた撥インク性を示し、かつ、放射線照射による親インク化性能を示す樹脂膜を形成することができ、親インク領域と撥インク領域とからなる微細なパターンを樹脂膜表面に発現できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は下記の事項を包含する。

［１］ 下記式（１）で表される液晶性を示す重合性化合物（ａ−１）およびシロキサンモノマー（ａ−２）を含むラジカル重合性モノマーの混合物から得られる共重合体を含有する樹脂組成物。

式（１）中、Ｘ¹は、水素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；
Ｒ¹は、シアノ、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシであり、該アルキルおよび該アルコキシにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｗ¹およびＷ²は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、シアノ、炭素数１〜７のアルキルまたは炭素数１〜７のアルコキシであり、該アルキルおよび該アルコキシにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｚ¹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；
Ｚ²は、独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ｎ¹は２〜１０の整数であり；ｎ²は１〜２の整数である。

［２］ 前記シロキサンモノマー（ａ−２）が、下記式（２）で表される化合物である項［１］に記載の樹脂組成物。

式（２）中、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁸は、それぞれ、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル：任意の水素が炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；または前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキルであり、
Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル；任意の水素が炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキル；または下記式（３）で表される基であり、
Ａ¹はラジカル重合性官能基を含む基であり、
ｎ³は０〜１０００の整数であり、ｎ³が１の場合、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ下記式（３）で表される基である。

式（３）中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、それぞれ独立して、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル；炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；または前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキルであり、
Ｒ¹¹は、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル；炭素数６〜２０のアリール；またはアリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数７〜２０のアリールアルキルであり、
ｌは１〜５００の整数である。

［３］ 前記ラジカル重合性モノマーの混合物が、前記重合性化合物（ａ−１）および前記シロキサンモノマー（ａ−２）以外のラジカル重合性モノマー（ａ−３）をさらに含む項［１］または［２］に記載の樹脂組成物。

［４］ 前記式（１）中、Ｘ¹が水素またはメチルであり、Ｒ¹がシアノ、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のアルコキシであり、Ｗ¹およびＷ²がすべて水素であり、Ｚ¹が−Ｏ−であり、Ｚ²が単結合であり、ｎ²が１である項［１］〜［３］のいずれか１項に記載の樹脂組成物。

［５］ 下記式（４）で表される構造を有する化合物（ｂ−１）、下記式（５）で表される化合物（ｂ−２）および１，２−キノンジアジド化合物（ｂ−３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有する項［１］〜［４］のいずれか１項に記載の樹脂組成物。

式（４）中、Ｒ¹³は、水素、スルホン酸基またはスルホン酸塩基であり、＊は結合手を表す。

式（５）中、Ｒ¹⁵は独立に水素またはメチルであり、Ｒ¹⁶はメチルであり、
Ｒ¹⁷は、炭素数２〜２０のアルキレン；炭素数５〜８のシクロアルキレン；−［（Ｃ_qＨ_2qＯ）_t（Ｃ_rＨ_2rＯ）_uＣ_sＨ_2s］−（ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に２〜６の整数であり、ｔは０または１であり、ｕは１〜３０の整数である。）で表されるポリオキシアルキレン；炭素数６〜１２の二価の芳香族基；−（Ｒ）_a−Ｃ₆Ｈ₄−Ｒ’−（ａは０または１であり、ＲおよびＲ’は、それぞれ炭素数１〜４のアルキレンまたは炭素数５〜８のシクロアルキレンである。）で表されるアルキレン・フェニレン；−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−（Ｔは、−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｃ₆Ｈ₄−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ₂−である。）で表される基；またはこれらの基の１〜３個の水素を水酸基で置換した基であり、
ｍは独立に０または１である。

［６］ 前記ラジカル重合性モノマー（ａ−３）がカルボキシルまたはヒドロキシを有する項［３］に記載の樹脂組成物。
［７］ さらに溶媒を含有する項［１］〜［６］のいずれか１項に記載の樹脂組成物。

［８］ 項［１］〜［７］のいずれか１項に記載の樹脂組成物から形成される樹脂膜。
［９］ 項［８］に記載の樹脂膜に波長１５０ｎｍ〜５００ｎｍの放射線を照射することにより、樹脂膜表面に親インク領域を形成する工程（１）と、
前記工程（１）で形成された樹脂膜の親インク領域上にインクを塗布することにより、樹脂膜上にパターン膜を形成する工程（２）と
を含むパターン膜の形成方法。

［１０］ 項［８］に記載の樹脂膜を有する電子部品。

本発明の樹脂組成物により形成された樹脂膜は、インクジェット吐出された液滴に対して優れた撥インク性を示すとともに、放射線照射による親インク化処理により、容易に親インク化させることが可能であり、これにより樹脂膜に親インク領域と撥インク領域とからなる微細なパターン表面が形成されるため、該樹脂膜上にインクジェット等の印刷による微細なパターン膜を形成することができる。

以下、本発明に係る樹脂組成物、該樹脂組成物からなる樹脂膜およびそれらの用途について詳細に説明する。
なお、本明細書において、ベタ膜とは、基板表面全面が電子部品を構成する材料（インク）によって覆われている膜を表し、パターン膜とは、基板表面（本発明の樹脂組成物から形成される樹脂膜を含む）が露出している箇所と電子部品を構成する材料（インク）によって覆われている箇所とが混在している場合における、前記材料から形成されている膜をいう。また、インクとは、種々の印刷手法を利用して回路パターンを描画する際に用いられる溶液であって、電子部品を構成する導体および半導体等の材料を溶解または分散等させて含む溶液をいう。また、放射線とは、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線等の電磁波および粒子線をいう。

また、本明細書において、インクは無色であっても有色であってもよい。光透過率の観点からは無色が好ましいが、発明の効果を妨げない範囲で有色の化合物を含有してもよい。例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。これらの場合、硬化膜の色が黄色味を帯びないことが好ましく、例えば、青色の着色剤を用いることができる。

［樹脂組成物］
本発明の樹脂組成物は、特定の構造を有する液晶性を示す重合性化合物（ａ−１）（以下単に「重合性化合物（ａ−１）」ともいう。）およびシロキサンモノマー（ａ−２）を含むラジカル重合性モノマーの混合物から得られる共重合体（以下「共重合体（Ａ）」ともいう。）を含有する。また、本発明の樹脂組成物は、後述する特定の成分（Ｂ）および／または溶媒（Ｃ）を含有することが好ましい。

１．共重合体（Ａ）
共重合体（Ａ）は、重合性化合物（ａ−１）およびシロキサンモノマー（ａ−２）を含むラジカル重合性モノマーの混合物から得られる共重合体である。また、ラジカル重合性モノマーの混合物は、重合性化合物（ａ−１）およびシロキサンモノマー（ａ−２）以外のラジカル重合性モノマー（ａ−３）（以下「他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）」という。）をさらに含んでもよい。

（1-1）重合性化合物（ａ−１）
重合性化合物（ａ−１）は、下記式（１）で表される化合物である。

式（１）中、Ｘ¹は、水素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；
Ｒ¹は、シアノ、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシであり、該アルキルおよび該アルコキシにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｗ¹およびＷ²は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、シアノ、炭素数１〜７のアルキルまたは炭素数１〜７のアルコキシであり、該アルキルおよび該アルコキシにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｚ¹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；
Ｚ²は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ｎ¹は２〜１０の整数であり；ｎ²は１〜２の整数である。

重合性化合物（ａ−１）としては、式（１）中のＸ¹が水素またはメチルであり、Ｒ¹がシアノ、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のアルコキシであり、Ｗ¹およびＷ²が水素であり、Ｚ¹が−Ｏ−であり、Ｚ²が単結合であり、ｎ²が１である化合物が好ましい。

重合性化合物（ａ−１）の具体例として、下記構造の化合物が挙げられる。

重合性化合物（ａ−１）は、公知の方法、例えば、Macromolecules, 26, 6132-6134 (1993)に記載の方法により合成することができる。また、市販品を用いてもよい。

重合性化合物（ａ−１）を用いることにより、共重合体（Ａ）を含有する樹脂組成物からなる表面処理剤の固形分濃度が希薄であっても、優れた撥インク性を発現する。
ラジカル重合性モノマーの混合物における重合性化合物（ａ−１）の含有量は、樹脂膜中での配向性および撥インク性の発現の観点から、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜７５重量％、さらに好ましくは２０〜７０重量％である。なお、重合性化合物（ａ−１）は、一種でも二種以上でもよい。

（1-2）シロキサンモノマー（ａ−２）
シロキサンモノマー（ａ−２）としては、例えば、下記式（２）で表される化合物（以下「化合物（２）」ともいう。）が挙げられる。

式（２）中、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁸は、それぞれ、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル：任意の水素が炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；または前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキルであり、
Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル；任意の水素が炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキル；または下記式（３）で表される基であり、
Ａ¹はラジカル重合性官能基を含む基であり、
ｎ³は０〜１０００の整数であり、ｎ³が１の場合、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ下記式（３）で表される基である。

式（３）中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、それぞれ独立して、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル；炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；または前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキルであり、
Ｒ¹¹は、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル；炭素数６〜２０のアリール；またはアリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数７〜２０のアリールアルキルであり、
ｌは１〜５００の整数である。

Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁸としては、それぞれ、メチル、エチル、プロピル、ブチルが好ましく、メチル、エチルがより好ましい。
Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチルが好ましく、メチル、エチルがより好ましい。

Ａ¹は、例えば、−Ｘ¹−Ｐ¹の構造を有することが好ましい。ここで、Ｐ¹はラジカル重合性官能基であり、Ｘ¹は炭素数１〜１０のアルキレンである。Ｐ¹としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロキシ基、ビニル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。Ｘ¹としては、例えば、炭素数２〜６のアルキレンが好ましく、プロピレンがより好ましい。

ｎ³は、好ましくは０〜８００、より好ましくは０〜５００である。
Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、それぞれ独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチルが好ましく、メチル、エチルがより好ましい。

Ｒ¹¹は、メチル、エチル、プロピル、ブチルが好ましく、メチル、エチルがより好ましい。
ｌは、好ましくは１〜４００の整数であり、より好ましくは１〜３００の整数である。

上記化合物（２）の具体例として、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピル（トリス）トリメチルシロキシシラン、α−ブチル−ω−（３−メタクリロキシプロピル）ポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。これらの中では、優れた撥インク性を発現することから、３−メタクリロキシプロピル（トリス）トリメチルシロキシシランが好ましい。

上記化合物（２）は、公知の方法により合成することができる。また、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、Ｓ７１０、ＴＭ０７０１、ＦＭ０７１１（以上いずれも商品名、ＪＮＣ（株）製）、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３（以上いずれも商品名、信越化学工業（株）製）などが挙げられる。

上記化合物（２）等のシロキサンモノマー（ａ−２）を用いることにより、硬化膜の表面の撥インク性が優れる。
ラジカル重合性モノマーの混合物におけるシロキサンモノマー（ａ−２）の含有量は、樹脂膜の撥インク性の発現の観点から、好ましくは１０〜７０重量％、より好ましくは１５〜６５重量％、さらに好ましくは２０〜６０重量％である。なお、シロキサンモノマー（ａ−２）は、一種でも二種以上でもよい。

（1-3）他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）
他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）は、ラジカル重合性の官能基を有していれば、特に限定されない。ラジカル重合性の官能基としては、例えば、（メタ）アクリル、ビニル、オキセタン、オキセタニルなどが挙げられる。

ラジカル重合性モノマー（ａ−３）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ／トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ／トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ／トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレートおよびジプロピレングリコールジアクリレートを挙げることができる。

他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）を用いることにより、基板への密着性、耐熱性が向上する。
なお、他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）としては、硬化膜の信頼性を向上させる観点から、カルボキシルまたはヒドロキシを有するラジカル重合性モノマーが好ましい。

ラジカル重合性モノマーの混合物における他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）の含有量は、硬化膜表面の撥液性を損なわない観点から、好ましくは１〜３０重量％、より好ましくは３〜２０重量％、さらに好ましくは５〜１８重量％である。なお、他の重合性化合物（ａ−３）は、一種でも二種以上でもよい。

（1-4）共重合体（Ａ）の製造方法
共重合体（Ａ）は、ラジカル重合性モノマーの混合物を用いて、公知のラジカル重合方法、例えば、ラジカル重合性モノマーの混合物を溶媒中で、撹拌、還流してラジカル重合させる方法などにより、得ることができる。なお、重合溶媒は、そのまま後述する樹脂組成物の溶媒（Ｃ）として使用してもよい。重合温度は、通常、５０〜１５０℃の範囲であり、重合時間は、通常、１〜２４時間の範囲である。

ラジカル重合では、重合開始剤を用いてもよい。重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリルおよび２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル等のアゾ系開始剤、ならびに過酸化ベンゾイル等の過酸化物系開始剤が挙げられる。また、共重合体（Ａ）の分子量を調整するために、チオグリコール酸等の連鎖移動剤を重合反応系に適量添加してもよい。

（1-5）共重合体（Ａ）の分子量
共重合体（Ａ）の重量平均分子量は、特に制限はないが、好ましくは４，０００以上、より好ましくは５，０００〜１００，０００、さらに好ましくは７，０００〜７０，０００である。なお、本明細書において重量平均分子量とは、ＧＰＣにより測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。より詳細には、ＧＰＣ装置として（株）島津製作所製ＬＣ−１０ＡＴシステム、ＲＩＤ−６Ａ（ＲＩ検出器）、ＣＴＯ−６Ａ（カラムオーブン）を使用し、カラムとしてＰＯＬＹＭＥＲ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製ＴＨＦ系カラム（ＰＬｇｅｌ ５μｍ ＭＩＸＥＤ−Ｄカラム）を使用してＧＰＣ法（カラム温度：３５℃、流速：１ｍｌ/ｍｉｎ）により求めたポリスチレン換算での値である。

２．成分（Ｂ）
本発明の樹脂組成物は、特定の成分（Ｂ）として、後述する特定の化合物（ｂ−１）〜（ｂ−３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有することが好ましい。

成分（Ｂ）を含有することにより、膜表面の撥インク性に優れるとともに、紫外線等の放射線照射による親インク化が効果的になされる。特に、従来の組成物では実現が難しかった比較的長波長、例えば３６５ｎｍの紫外線（ｉ線）の照射による親インク化が可能となる。

（2-1）アジド基を含む特定の構造を有する化合物（ｂ−１）
化合物（ｂ−１）は、下記式（４）で表される構造を有する化合物である。

式（４）中、Ｒ¹³は、水素、スルホン酸基またはスルホン酸塩基であり、＊は結合手を表す。

上記化合物（ｂ−１）としては、例えば、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸エトキシエチルアミン、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリウム、４、４’−ジアジドスチルベン−２、２’−ジスルホンアミド、１−（４−アジドベンジリデン）−３−（４−アジド−α−ヒドロキシベンジル）インデン、２，６−ビス−（４−アジドベンジリデン）−４−ターシャリアミルシクロヘキサノン、２，６−ビス−（４−アジドベンジリデン）−４−エチルシクロヘキサノンなどが挙げられる。

上記化合物（ｂ−１）の市販品としては、例えば、ＢＡＣ−ＴＡ、ＢＡＣ−Ｅ（以上いずれも商品名、東洋合成工業（株）製）などが挙げられる。
（2-2）ビスアルケニル置換ナジイミド（ｂ−２）
化合物（ｂ−２）は、下記式（５）で表される化合物である。

式（５）中、Ｒ¹⁵は独立に水素またはメチルであり、Ｒ¹⁶はメチルであり、
Ｒ¹⁷は、炭素数２〜２０のアルキレン；炭素数５〜８のシクロアルキレン；−［（Ｃ_qＨ_2qＯ）_t（Ｃ_rＨ_2rＯ）_uＣ_sＨ_2s］−（ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に２〜６の整数であり、ｔは０または１であり、ｕは１〜３０の整数である。）で表されるポリオキシアルキレン；炭素数６〜１２の二価の芳香族基；−（Ｒ）_a−Ｃ₆Ｈ₄−Ｒ’−（ａは０または１であり、ＲおよびＲ’は、それぞれ炭素数１〜４のアルキレンまたは炭素数５〜８のシクロアルキレンである。）で表されるアルキレン・フェニレン；−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−（Ｔは、−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｃ₆Ｈ₄−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ₂−である。）で表される基；またはこれらの基の１〜３個の水素を水酸基で置換した基であり、
ｍは独立に０または１である。

Ｒ¹⁷としては、以下の構造が好ましい。

上記化合物（ｂ−２）としては、例えば、下記構造の化合物などが挙げられる。

上記化合物（ｂ−２）は、対応する無水アルケニル置換ナジック酸とジアミンの反応によって合成することができる。

また、上記化合物（ｂ−２）の市販品としては、例えば、ＢＡＮＩ−Ｘ、ＢＡＮＩ−Ｍ（以上いずれも商品名、丸善石油化学（株）製）などが挙げられる。
（2-3）１，２−キノンジアジド化合物（ｂ−３）
化合物（ｂ−３）は１，２−キノンジアジド化合物（ｂ−３）である。化合物（ｂ−３）としては、例えば、レジスト分野において感光剤として使用される化合物を用いることができ、より具体的には、
ヒドロキシベンゾフェノン化合物と１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ベンゾキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、
ヒドロキシベンゾフェノン化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、
フェノール化合物と１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ベンゾキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、
フェノール化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、
フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ベンゾキノンジアジド−５−スルホン酸とのスルホンアミド、
フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのスルホンアミドなどが挙げられる。

上記化合物（ｂ−３）の市販品としては、例えば、ＡＴ−６７（商品名、（株）三宝化学研究所製）、Ｐ−２００、ＮＴ−２００、４ＮＴ−３００（以上いずれも商品名、東洋合成工業（株）製）、ＰＡ−６（商品名、ダイトーケミックス（株）製）などが挙げられる。

（2-4）成分（Ｂ）の配合割合
上記成分（Ｂ）は、親インク化を容易に行なうため、上記共重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは５〜７０重量部、より好ましくは７〜６０重量部、特に好ましくは１０〜５０重量部の量で用いられる。

３．溶媒（Ｃ）
本発明の樹脂組成物は溶媒（Ｃ）をさらに含有することが好ましい。溶媒（Ｃ）としては、上記共重合体（Ａ）を溶解する溶媒が好ましく、沸点が１００〜３００℃である溶媒が、塗布後の良好な乾燥性の点で、より好ましい。なお、溶媒（Ｃ）は、単一の溶媒であっても、二種以上の混合溶媒であってもよい。

沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ジオキサン、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシイソ酪酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシイソ酪酸ｎ−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。

これらの中では、樹脂膜を形成する際の塗布均一性を高める観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、乳酸エチルおよび酢酸ブチルが好ましく、人体への安全性の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、乳酸エチルおよび酢酸ブチルがより好ましい。

混合溶媒を用いる場合、沸点が１００〜３００℃である溶媒を２０重量％以上含有する混合溶媒が好ましい。混合溶媒における、沸点が１００〜３００℃である溶媒以外の溶媒には、公知の溶媒の一種または二種以上を用いることができる。

本発明の樹脂組成物において、樹脂組成物から溶媒を除いた成分の濃度（以下「固形分濃度」ともいう。）は、樹脂組成物の塗布方法によっても異なるが、樹脂組成物全体を１００重量％とした場合、通常、０．０１〜５０重量％である。このような固形分濃度となるように、溶媒（Ｃ）を配合することが好ましい。

好ましい固形分濃度は、樹脂組成物の塗布方法によって異なる。例えば、浸漬法の場合、固形分濃度は、好ましくは０．０１〜３０重量％、より好ましくは０．０５〜２０重量％であり、布等による塗り込み法の場合、固形分濃度は、好ましくは０．０１〜２０重量％、より好ましくは０．５〜１５重量％であり、スピンコート法の場合、固形分濃度は、好ましくは０．０１〜５０重量％、より好ましくは０．０５〜４０重量％であり、インクジェット法の場合、好ましくは０．１〜５０重量％、より好ましくは０．３〜３０重量％である。

４．添加剤（Ｄ）
本発明の樹脂組成物は、樹脂組成物および樹脂膜の特性をさらに向上させるために、本発明の効果を損なわない範囲で、各種添加剤（Ｄ）を含有してもよい。添加剤（Ｄ）としては、例えば、アクリル系、スチレン系、ポリエチレンイミン系またはウレタン系の高分子分散剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系、フッ素系またはシリコン系の界面活性剤；シランカップリング剤等の密着性向上剤；アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；エポキシ化合物、メラミン化合物またはビスアジド化合物等の熱架橋剤；および有機カルボン酸等のアルカリ溶解性促進剤などが挙げられる。なお、添加剤（Ｄ）は一種でも二種以上でもよい。

界面活性剤の具体例としては、ポリフローＮｏ．４５、ポリフローＫＬ−２４５、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５（以上いずれも商品名、共栄社化学株式会社製）、ディスパーベイク（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ）１６１、ディスパーベイク１６２、ディスパーベイク１６３、ディスパーベイク１６４、ディスパーベイク１６６、ディスパーベイク１７０、ディスパーベイク１８０、ディスパーベイク１８１、ディスパーベイク１８２、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４４、ＢＹＫ３４６（以上いずれも商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ＫＰ−３４１、ＫＰ−３５８、ＫＰ−３６８、ＫＦ−９６−５０ＣＳ、ＫＦ−５０−１００ＣＳ（以上いずれも商品名、信越化学工業株式会社製）、サーフロンＳＣ−１０１、サーフロンＫＨ−４０（以上いずれも商品名、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２５１、ＦＴＸ−２１８（以上いずれも商品名、株式会社ネオス製）、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−３５１、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−３５２、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−６０１、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−８０１、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−８０２（以上いずれも商品名、三菱マテリアル株式会社製）、メガファックＦ−１７１、メガファックＦ−１７７、メガファックＦ−４７５、メガファックＲ−０８、メガファックＲ−３０（以上いずれも商品名、ＤＩＣ株式会社製）、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレエート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩およびアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩などが挙げられる。

添加剤としては、樹脂組成物の塗布均一性を高める観点から、フッ素系およびシリコン系の界面活性剤の一方または両方であることがより好ましく、具体的には、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３４４、ＢＹＫ３４６、ＫＰ−３４１、ＫＰ−３５８およびＫＰ−３６８などが挙げられる。

上記添加剤は、本発明の効果を損なわない範囲の量で用いることができる。なお、添加剤は一種でも二種以上でもよい。
５．樹脂組成物の調製および保存方法
本発明の樹脂組成物は、上述した成分（Ａ）、ならびに必要に応じて成分（Ｂ）〜（Ｄ）を公知の方法により混合することにより、調製することができる。また、本発明の樹脂組成物は、樹脂組成物を安定して保存する観点から、０〜３５℃で遮光して保存することが好ましく、析出物の発生を防止する観点から、保存温度が１０〜３０℃であることが好ましい。

６．樹脂組成物の用途
本発明の樹脂組成物は、インクジェット法などによる印刷手法を用いて、基板上に所定のベタ膜やパターン膜を形成する際に、基板への塗布性を向上させるための基板の表面処理剤として好適に用いられる。

本発明の樹脂組成物は、例えば透明膜に対して一般的に求められている高耐溶媒性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等の各種特性を有すると共に、撥インク性に優れる樹脂膜を形成することができる。

［樹脂膜］
本発明の樹脂膜は、本発明の樹脂組成物（表面処理剤）を基板に塗布した後、ホットプレート等で乾燥させることにより得られる。

塗布方法は、特に限定されず、公知の方法で行うことができる。例えば、スピンコート、ロールコート、スリットコートなどの方法が挙げられる。また、ウェスや布等に本発明の樹脂組成物を含浸させて基板表面を拭くことにより、樹脂組成物を塗布する方法も挙げられる。

基板としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス基板；ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミド等の合成樹脂製シート、フィルム又は基板；アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属基板；その他のセラミック板；光電変換素子を有する半導体基板などが挙げられる。これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の前処理を行ってもよい。

塗布した樹脂組成物の膜を有する基板を、ホットプレートまたはオーブン等を用いて、通常、６０〜１２０℃で１〜１０分間乾燥することにより、所望の樹脂膜が得られる。得られた樹脂膜は、その表面にシロキサン成分が集積することにより、優れた撥インク性を示す。

得られた樹脂膜に、紫外線、可視光線等の放射線を照射することにより、樹脂膜表面を親インク化することができる。樹脂膜への放射線の照射は、予め設計したパターンに従って膜上を走査しながら行う。この操作によって、樹脂膜表面に放射線照射領域と未照射領域が形成される。放射線照射領域は、表面が撥インク性から親インク性に変化し、インクの濡れ性が格段に向上する。

樹脂膜表面に照射する放射線の波長は、樹脂組成物の種類にもよるが、好ましくは１５０〜５００ｎｍ、より好ましくは１５０〜４００ｎｍである。照射する放射線の波長がこの範囲であると、効果的に親インク化を実現できる。前記波長の放射線を用いた場合、露光量は、ウシオ電機（株）製の受光器「ＵＶＤ−３６５ＰＤ」を取り付けた積算光量計「ＵＩＴ−２０１」で測定して、好ましくは１００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ²、より好ましくは１５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ²である。

このようにして膜表面に形成された放射線照射領域は、表面自由エネルギーが増加し、例えば市販のインクジェットインク等を塗布した場合には、よく濡れ広がるが、放射線非照射領域は、表面自由エネルギーが低いままであり、インクが濡れ広がることがない。このような塗り分けの結果、インクが親インク領域に選択的に集積するため、樹脂膜の表面上にインクの精細なパターン配線描画が可能となる。

ここで、放射線照射前の樹脂膜表面の２３℃における純水の接触角は、好ましくは８０度以上、より好ましくは８５〜１１０度、特に好ましくは９０〜１１０度である。なお、本明細書における接触角とは、共和界面化学（株）製接触角計「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００」（商品名）を用いて、２３℃における水滴（純水）着滴１秒後の値を計測したものである。また、放射線照射前の樹脂膜表面（撥インク領域）の接触角と、放射線照射後の樹脂膜表面（親インク領域）の接触角との差は、好ましくは１５度以上、より好ましくは２０〜６０度、特に好ましくは２３〜５０度である。

樹脂膜の膜厚は、樹脂組成物の種類や固形分濃度にもよるが、撥インク性と良好な親インク化性能とを併せ持つ観点から、好ましくは０．０１μｍ〜１μｍ、より好ましくは０．０２〜０．７μｍである。膜厚は、固形分濃度を調整することにより、制御することができる。

［パターン膜の形成方法］
本発明のパターン膜の形成方法は、上述したように、本発明の樹脂膜に、波長１５０ｎｍ〜５００ｎｍの放射線を照射して樹脂膜表面に親インク領域を形成する工程（１）と、前記工程（１）で形成された樹脂膜の親インク領域上に、インクを塗布してパターン膜を形成する工程（２）とを含む。インクの塗布方法としては、特に限定されないが、インクジェット法が好ましい。

［電子部品］
本発明の電子部品は、本発明の樹脂膜を有する。電子部品としては、例えば、電子回路基板、薄膜トランジスタおよび表示素子などが挙げられる。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
［合成例１］共重合体（Ａ１）の合成
攪拌器付き４つ口フラスコに、下記表１に示すように、重合溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下「ＰＧＭＥＡ」という。）およびシクロペンタノンの１：１混合溶媒２６．６ｇ、液晶性を示す重合性化合物（ａ−１）として下記式（１−１）に示す化合物（Macromolecules, 26, 6132-6134 (1993)に記載の方法により合成した。）４．０ｇ、シロキサンモノマー（ａ−２）として３−メタクリロキシプロピル（トリス）トリメチルシロキシシラン（商品名：ＴＭ０７０１、ＪＮＣ（株）製、以下「ＴＭ０７０１」という。）７．３３ｇ、他のラジカル重合性モノマー（ａ−３）としてメタクリル酸（以下「ＭＡＡ」という。）２．０ｇ、重合開始剤として２，２’‐アゾビス（イソ酪酸）ジメチル（商品名：Ｖ−６０１、和光純薬工業（株）製、以下「Ｖ−６０１」という。）１．３３ｇを仕込み、８０℃の重合温度で２時間加熱して重合を行なった。

得られた反応液を室温まで冷却することにより共重合体（Ａ１）を得た。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ分析（ポリスチレン標準）により重量平均分子量を測定した。その結果、共重合体（Ａ１）の重量平均分子量は５４，０００であった。

［合成例２］共重合体（Ａ２）の合成
下記表１に示す成分および使用量としたこと以外は合成例１と同様の方法で、共重合体（Ａ２）を得た。得られた共重合体（Ａ２）の重量平均分子量は４０，０００であった。

［合成例３］共重合体（Ａ３）の合成
下記表１に示す成分および使用量としたこと以外は合成例１と同様の方法で、共重合体（Ａ３）を得た。得られた共重合体（Ａ３）の重量平均分子量は４１，０００であった。

［合成例４］共重合体（Ａ４）の合成
下記表１に示す成分および使用量としたこと以外は合成例１と同様の方法で、共重合体（Ａ４）を得た。得られた共重合体（Ａ４）の重量平均分子量は４０，０００であった。なお、シロキサンモノマー（ａ−２）として用いたＦＭ０７１１は、α−ブチル−ω−（３−メタクリロキシプロピル）ポリジメチルシロキサン（商品名：ＦＭ０７１１、ＪＮＣ（株）製）のことである。

［比較合成例１］比較重合体（ＣＡ１）の合成
下記表１に示す成分および使用量としたこと以外は合成例１と同様の方法で、比較重合体（ＣＡ１）を得た。得られた比較重合体（ＣＡ１）の重量平均分子量は２０，０００であった。なお、他の重合性モノマー（ａ−３）の一つとして用いたｎ−ＢＭＡは、ｎ−ブチルメタクリレートのことであり、重合溶媒として用いたＥＤＭは、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルのことである。

［比較合成例２］比較重合体（ＣＡ２）の合成
下記表１に示す成分および使用量としたこと以外は合成例１と同様の方法で、比較重合体（ＣＡ２）を得た。得られた比較重合体（ＣＡ２）の重量平均分子量は１２，０００であった。なお、他の重合性モノマー（ａ−３）として用いたＣＨＭＡはシクロへキシルメタクリレートのことであり、ｔ−ＢＭＡはｔ−ブチルメタクリレートのことである。

［実施例１〜５、比較例１および２］
１）樹脂組成物の調製
下記表２に示す組成（重量部）で樹脂組成物を調製した。なお、表２に示す固形分濃度となるように、溶媒（Ｃ）としてＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）とシクロペンタノンの１：１（重量比）混合溶媒を用いた。また、成分（Ｂ）のｂ−１として、下記式（ｂ−１）で表される化合物（商品名：ＢＡＣ−ＴＡ、東洋合成工業（株）製）を用い、ｂ−２として、下記式（ｂ−２）で表される構造を有する化合物（商品名：ＢＡＮＩ−Ｘ、丸善石油化学（株）製）を用い、ｂ−３として、下記式（ｂ−３）で表される化合物（商品名：ＡＴ−６７、（株）三宝化学研究所製）を用いた。

ｂ−２として用いた商品「ＢＡＮＩ−Ｘ」には、ノルボルネン環に結合する−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂の結合位置が異なる化合物が混在する。

ｂ−３として用いた商品「ＡＴ−６７」には、３つのＲのうち、１箇所がナフトキノン部位であり２箇所が水素である構造を有する化合物、２箇所がナフトキノン部位であり１箇所が水素である構造を有する化合物、および３箇所全てがナフトキノン部位である構造を有する化合物が混在する。

２）硬化膜の形成
ガラス基板上に各実施例で調製された樹脂組成物を３，０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートし、１００℃のホットプレートで３分間乾燥して、樹脂膜を形成した。

３）紫外線照射
上記２）で得られた樹脂膜に、（株）トプコン製ＴＭＥ−１５０ＰＲＣを用いて、波長３６５ｎｍの紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で照射した。なお、露光は、波長カットフィルターを通して３５０ｎｍ以下の光をカットしてｇ、ｈ、ｉ線を取り出し、露光ギャップ１０μｍで行った。

４）接触角
上記２）で得られた樹脂膜上における純水の接触角を、協和界面化学（株）製ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００を用いて、２３℃環境下で測定した。純水着滴１秒後の値を接触角値とした。また、波長３６５ｎｍの紫外線照射後の樹脂膜上における純水の接触角を、同様にして測定し、紫外線照射による親インク化を評価した。結果を表２に示す。

５）親インク性評価
紫外線照射による親インク領域と撥インク領域の塗り分け性能は、ラインアンドスペース５０μｍのフォトマスクを介して、上記３）に記載の方法で露光し、該基板上に２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）をインクジェット法によって印刷し、得られたラインアンドスペースの幅を測定することで評価した。結果を表２に示す。なお、インクジェット印刷は、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製ＤＭＰ−２８３１を用いて、ヘッド温度（３０℃）、ピエゾ電圧（２０Ｖ）、駆動周波数（５ｋＨｚ）の条件で行った。

表２中、＊１は判別不可、すなわち紫外線照射による、親インク領域と撥インク領域の形成が良好に出来ていないことを意味する。

以上のとおり、本発明の樹脂組成物を用いれば、表面が高度に撥インク化した樹脂膜を形成することができ、さらに該樹脂膜を直描装置にて走査しながら所望のパターンにしたがって露光することにより、親インク領域と撥インク領域とからなる微細なパターンを形成できるため、インクジェット等の印刷によってインクを塗布することで、親インク領域と撥インク領域の塗り分けが容易にでき、高精細パターン膜の形成が可能となる。

Claims (10)

1. 下記式（１）で表される液晶性を示す重合性化合物（ａ−１）およびシロキサンモノマー（ａ−２）を含むラジカル重合性モノマーの混合物から得られる共重合体を含有する樹脂組成物。
   

   

   ［式中、Ｘ¹は、水素、メチルまたはトリフルオロメチルであり；
   Ｒ¹は、シアノ、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシであり、該アルキルおよび該アルコキシにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   Ｗ¹およびＷ²は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、シアノ、炭素数１〜７のアルキルまたは炭素数１〜７のアルコキシであり、該アルキルおよび該アルコキシにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   Ｚ¹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−であり；
   Ｚ²は、独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
   ｎ¹は２〜１０の整数であり；ｎ²は１〜２の整数である。］
2. 前記シロキサンモノマー（ａ−２）が、下記式（２）で表される化合物である請求項１に記載の樹脂組成物。
   

   

   ［式中、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁸は、それぞれ、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル：任意の水素が炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；または前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキルであり、
   Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル；任意の水素が炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキル；または下記式（３）で表される基であり、
   Ａ¹はラジカル重合性官能基を含む基であり、
   ｎ³は０〜１０００の整数であり、ｎ³が１の場合、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ下記式（３）で表される基である。］
   

   

   ［式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、それぞれ独立して、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜３０のアルキル；炭素数１〜２０のアルキルもしくは炭素数１〜２０のアルコキシで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール；または前記アリールと任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数７〜４０のアリールアルキルであり、
   Ｒ¹¹は、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル；炭素数６〜２０のアリール；またはアリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数７〜２０のアリールアルキルであり、
   ｌは１〜５００の整数である。］
3. 前記ラジカル重合性モノマーの混合物が、前記重合性化合物（ａ−１）および前記シロキサンモノマー（ａ−２）以外のラジカル重合性モノマー（ａ−３）をさらに含む請求項１または２に記載の樹脂組成物。
4. 前記式（１）中、Ｘ¹が水素またはメチルであり、Ｒ¹がシアノ、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のアルコキシであり、Ｗ¹およびＷ²がすべて水素であり、Ｚ¹が−Ｏ−であり、Ｚ²が単結合であり、ｎ²が１である請求項１〜３のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
5. 下記式（４）で表される構造を有する化合物（ｂ−１）、下記式（５）で表される化合物（ｂ−２）および１，２−キノンジアジド化合物（ｂ−３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
   

   

   ［式中、Ｒ¹³は、水素、スルホン酸基またはスルホン酸塩基であり、＊は結合手を表す。］
   

   

   ［式中、Ｒ¹⁵は独立に水素またはメチルであり、Ｒ¹⁶はメチルであり、
   Ｒ¹⁷は、炭素数２〜２０のアルキレン；炭素数５〜８のシクロアルキレン；−［（Ｃ_qＨ_2qＯ）_t（Ｃ_rＨ_2rＯ）_uＣ_sＨ_2s］−（ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に２〜６の整数であり、ｔは０または１であり、ｕは１〜３０の整数である。）で表されるポリオキシアルキレン；炭素数６〜１２の二価の芳香族基；−（Ｒ）_a−Ｃ₆Ｈ₄−Ｒ’−（ａは０または１であり、ＲおよびＲ’は、それぞれ炭素数１〜４のアルキレンまたは炭素数５〜８のシクロアルキレンである。）で表されるアルキレン・フェニレン；−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−（Ｔは、−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｃ₆Ｈ₄−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ₂−である。）で表される基；またはこれらの基の１〜３個の水素を水酸基で置換した基であり、
   ｍは独立に０または１である。］
6. 前記ラジカル重合性モノマー（ａ−３）がカルボキシルまたはヒドロキシを有する請求項３に記載の樹脂組成物。
7. さらに溶媒を含有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の樹脂組成物から形成される樹脂膜。
9. 請求項８に記載の樹脂膜に波長１５０ｎｍ〜５００ｎｍの放射線を照射することにより、樹脂膜表面に親インク領域を形成する工程（１）と、
   前記工程（１）で形成された樹脂膜の親インク領域上にインクを塗布することにより、樹脂膜上にパターン膜を形成する工程（２）と
   を含むパターン膜の形成方法。
10. 請求項８に記載の樹脂膜を有する電子部品。