JP5482553B2 - 感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子 - Google Patents
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Description
本発明の感光性組成物は、シロキサン構造を含む重合体(A)と、1,2−キノンジアジド化合物(B)とを含有する。シロキサン構造を含む重合体(A)は一種でも二種以上でもよく、また1,2−キノンジアジド化合物(B)も一種でも二種以上でもよい。感光性組成物は、シロキサン構造を含む重合体(A)と1,2−キノンジアジド化合物(B)を混合して得られる。
シロキサン構造を含む重合体(A)は、ケイ素数2以上の直鎖のシロキサン構造と二つのラジカル重合性官能基とを有する式(1)で表されるシロキサン化合物(以下、「ラジカル重合性モノマー(a−1)」とも言う)と、重合体(A)にアルカリ可溶性を付与するアルカリ溶解性とラジカル重合性とを有するアルカリ溶解性ラジカル重合性モノマー(以下、「ラジカル重合性モノマー(a−2)」とも言う)とを含むモノマーのラジカル重合体である。
ラジカル重合性モノマー(a−1)は、ケイ素数2以上の直鎖のシロキサン構造と二つのラジカル重合性官能基とを有する化合物であり、式(1)で表される。
ラジカル重合性モノマー(a−2)は重合体(A)にアルカリ可溶性を付与するアルカリ溶解性とラジカル重合性とを有する。ラジカル重合性モノマー(a−2)が有するアルカリ溶解性とは、ラジカル重合性モノマー(a−2)のラジカル重合後の形態においてもアルカリによって水溶性の塩を形成することを言う。このようなアルカリ溶解性は、ラジカル重合部位とは独立してアルカリで水溶性の塩を形成する部位、例えばカルボキシル基やフェノール性水酸基、を有する構造によって付与される。またラジカル重合性モノマー(a−2)が有するラジカル重合性とは、ラジカル重合性モノマー(a−1)を含む他のモノマーとラジカル重合する性質を言う。このようなラジカル重合性は、前述したラジカル重合性官能基によって付与される。よってラジカル重合性モノマー(a−2)は、前記のアルカリに溶解する部位とラジカル重合性官能基とから構成される。
シロキサン構造を含む重合体(A)は、ラジカル重合性モノマー(a−1)及び(a−2)以外の他のラジカル重合性モノマー(以下「ラジカル重合性モノマー(a−3)」とも言う)をさらに含むモノマーのラジカル重合体であることが、シロキサン構造を含む重合体(A)が有する特性を向上させ、又は増やす観点から好ましい。ラジカル重合性モノマー(a−3)は一種でも二種以上でもよい。シロキサン構造を含む重合体(A)を構成する全モノマーにおけるラジカル重合性モノマー(a−3)の含有量は、シロキサン構造を含む重合体(A)が有する特性の向上や、シロキサン構造を含む重合体(A)へのさらなる特性の付与の観点から、50.0〜99.9重量%であることが好ましく、70.0〜99.5重量%であることがより好ましく、80.0〜99.0重量%であることがさらに好ましい。
1,2−キノンジアジド化合物(B)には、例えばレジスト分野において感光剤として使用される化合物を用いることができる。1,2−キノンジアジド化合物(B)としては、例えば、ヒドロキシベンゾフェノン化合物と1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル、ヒドロキシベンゾフェノン化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル、フェノール化合物と1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル、フェノール化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル、フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸とのスルホンアミド、フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とのスルホンアミドが挙げられる。
感光性組成物は、前述したシロキサン構造を含む重合体(A)及び1,2−キノンジアジド化合物(B)以外の他の成分を、本発明の効果が十分に得られる範囲でさらに含有することができる。このような他の成分としては、例えば、アルカリ可溶性重合体(C)、溶剤、添加物、及び多価カルボン酸無水物が挙げられる。
感光性組成物は、アルカリ可溶性重合体(C)をさらに含有することが、感光性組成物のアルカリ可溶性をさらに高めてパターン状透明膜を容易に得る観点、及び、耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、及び高耐熱性等の、得られる硬化膜の特性を高める観点から好ましい。アルカリ可溶性重合体(C)は一種でも二種以上でもよい。またアルカリ可溶性重合体(C)における「アルカリ可溶性」とは、アルカリ可溶性重合体(C)の溶液のスピンコート及び100℃2分間の加熱で形成される厚さ0.01〜100μmの膜を、例えば25℃程度の2.38重量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で5分間浸した後に純水ですすいだときに、膜が残らないことを言う。
感光性組成物は、溶剤をさらに含有することが好ましい。溶剤は、感光性組成物に配合されるシロキサン構造を含む重合体(A)、1,2−キノンジアジド化合物(B)、及びアルカリ可溶性重合体(C)を溶解する溶剤が好ましい。また、溶剤は、沸点が100〜300℃である溶剤が好ましい。溶剤は、一種でも二種以上でもよい。
感光性組成物は、添加剤をさらに含有することが、解像度、塗布均一性、現像性、及び接着性等の感光性組成物及び形成される硬化膜の特性をさらに向上させる観点から好ましい。添加剤には、フォトレジストの分野において、感光性組成物や硬化膜の特性の向上に利用される各種添加剤を用いることができる。添加剤は一種でも二種以上でもよい。このような添加剤としては、例えば、アクリル系、スチレン系、ポリエチレンイミン系又はウレタン系の高分子分散剤、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又はフッ素系の界面活性剤、シリコン樹脂系塗布性向上剤、シランカップリング剤等の密着性向上剤、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤、ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤、エポキシ化合物、メラミン化合物又はビスアジド化合物等の熱架橋剤、及び、有機カルボン酸等のアルカリ溶解性促進剤が挙げられる。
感光性組成物は、多価カルボン酸無水物をさらに含有することが、エポキシを有する感光性組成物から形成される硬化膜の耐熱性及び耐薬品性を高める観点、及び保存時における1,2−キノンジアジド化合物(B)の分解による感光性組成物の着色を防止する観点から好ましい。多価カルボン酸無水物は、加熱により、エポキシを有する感光性組成物中のエポキシと反応する。多価カルボン酸無水物は一種でも二種以上でもよい。多価カルボン酸無水物としては、例えば、無水トリメリット酸、無水フタル酸、及び4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物が挙げられる。多価カルボン酸無水物の中でも無水トリメリット酸が好ましい。
感光性組成物におけるシロキサン構造を含む重合体(A)の含有量は、硬化膜における撥液性を発現する観点から、20〜80重量%であることが好ましく、30〜70重量%であることがより好ましく、40〜60重量%であることがさらに好ましい。
感光性組成物は、−30〜25℃で遮光して保存することが、感光性組成物を安定して保存する観点から好ましく、保存温度が−20〜10℃であることが、析出物の発生を防止する観点からより好ましい。
本発明の硬化膜は、前述した本発明の感光性組成物の膜を焼成して得られる。感光性組成物は、透明の硬化膜を形成するのに適しており、パターニングの際の解像度が比較的高いことから10μm以下の小さな穴の開いた絶縁膜を形成するのに適している。ここで、絶縁膜とは、例えば、層状に配置される配線間を絶縁するために設ける膜(層間絶縁膜)等をいう。
本発明の表示素子は、前述した本発明の硬化膜を有する。表示素子における硬化膜の用途としては、例えば透明膜、絶縁膜、及び、パターンの周囲への液の付着を防止するためのバンク膜が挙げられる。
攪拌機付き4つ口フラスコに、溶剤として16gのジエチレングリコールメチルエチルエーテルを仕込み、一方で11gのジエチレングリコールメチルエチルエーテルに、ラジカル重合性モノマー(a−1)として、式(1−1)で表されるα、ω−ビス(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン(チッソ株式会社製FM7711、数平均分子量:1,000)、ラジカル重合性モノマー(a−2)として4−ヒドロキシフェニルビニルケトン、ラジカル重合性モノマー(a−3)として、グリシジルメタクリレート、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、重合開始剤として、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチルを下記重量で混合し、得られた混合溶液を110℃に維持された4つ口フラスコ中の溶剤に1時間で滴下し、滴下後、110℃で2時間さらに加熱した。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
式(1−1)のα,ω−ビス(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン
0.675g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 6.075g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 2.025g
グリシジルメタクリレート 4.725g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
下記の成分を下記の重量で用いて前記混合溶液を調製し、合成例1と同様にして重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
式(1−1)のα,ω−ビス(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン
0.675g
N−シクロヘキシルマレイミド 4.725g
ジシクロペンタニルメタクリレート 4.725g
メタクリル酸 3.375g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
α、ω−ビス(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサンに代えて、式(3−1)で表されるα−ブチル−ω−(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン(チッソ株式会社製FM0711、数平均分子量:1,000)を用い、下記の成分を下記の重量で用いて前記混合溶液を調製し、合成例1と同様にして重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
式(3−1)のα−ブチル−ω−(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン 0.27g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 6.48g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 1.35g
グリシジルメタクリレート 5.40g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
下記の成分を下記の重量で用いて前記混合溶液を調製し、合成例1と同様にして重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
式(3−1)のα−ブチル−ω−(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン 0.675g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 6.075g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 2.025g
グリシジルメタクリレート 4.725g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
下記の成分を下記の重量で用いて前記混合溶液を調製し、合成例1と同様にして重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
式(3−1)のα−ブチル−ω−(3−メタクリロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン 0.675g
N−シクロヘキシルマレイミド 4.725g
ジシクロペンタニルメタクリレート 4.725g
メタクリル酸 3.375g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
下記の成分を下記の重量で用いて前記混合溶液を調製し、合成例1と同様にして重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
N−シクロヘキシルマレイミド 4.725g
ジシクロペンタニルメタクリレート 5.400g
メタクリル酸 3.375g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
下記の成分を下記の重量で用いて前記混合溶液を調製し、混合溶液の滴下時及びその後の反応における4つ口フラスコ中の溶剤の温度を90℃としたこと以外は、合成例1と同様にして重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 11.0g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 6.75g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 1.35g
グリシジルメタクリレート 5.40g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)ジメチル 2.025g
[ポジ型感光性組成物の製造]
合成例1で得られた共重合体(A1)、合成例6で得られた共重合体(C4)、1,2−キノンジアジド化合物である4,4’―[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノールと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロライドとの縮合物(平均エステル化率58%、以下「PAD」という)、添加剤としてシリコン系界面活性剤であるBYK344(商品名:ビックケミー・ジャパン株式会社、以下「BYK344」と略す)、溶剤としてジエチレングリコールメチルエチルエーテルを下記の重量で混合溶解し、固形分の濃度が35重量%であるポジ型感光性組成物1を得た。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 0.451g
シロキサン構造を含む重合体(A1)の33.3重量%溶液 3.00g
アルカリ可溶性重合体(C4)の33.3重量%溶液 3.00g
PAD 0.400g
BYK344 0.007g
1)パターン状透明膜の形成方法
ガラス基板上に感光性組成物1を600rpmで10秒間スピンコートし、100℃のホットプレートで2分間乾燥した。この基板を空気中、ホールパターン形成用のフォトマスクを介して株式会社トプコン製のプロキシミティー露光機TME−150PRCを使用し、波長カットフィルターを通して350nm以下の光をカットしてg,h,i線を取り出し、露光ギャップ100μmで露光した。露光量は150mJ/cm2とした。露光量はウシオ電機株式会社製の積算光量計UIT−102及び受光器UVD−365PDで測定した。露光後のガラス基板を、0.4重量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間ディップ現像し、露光部の樹脂組成物を除去した。現像後の基板を純水で60秒間洗ってから100℃のホットプレートで2分間乾燥した。この基板を露光機にて、フォトマスクを介さずに300mJ/cm2で全面露光した後、オーブン中230℃で30分間ポストベイクし、膜厚3μmのパターン状透明膜を形成した。
現像の前後で膜厚を測定し、次式から計算した。
(現像後の膜厚/現像前の膜厚)×100(%)
膜厚は、KLA−Tencor Japan株式会社製の触針式膜厚計P−15を使用し、3箇所測定し、その平均値とした。
上記1)で得られたパターン状透明膜の基板を光学顕微鏡で400倍にて観察し、ホールパターンの底にガラスが露出しているマスクサイズを確認した。ホールパターンができていない場合は不良(NG)とした。
上記1)で得られたパターン状透明膜の基板を碁盤目剥離試験(クロスカット試験)により評価した。評価は、切り込みによって1mm角の碁盤目を100個形成したパターン状透明膜に、粘着テープ(住友スリーエム(株)製「ポリエステルテープNo.56:粘着力;5.5N/cm」)を貼り付け、テープ剥離後の残存碁盤目数で表した。
パターンを形成しない以外、すなわちフォトマスクを介しての露光を行わない以外は上記1)と同様に透明膜を形成し、得られた透明膜に、以下の装置で以下の条件下、処理を行った。
装置:PL2003N−12(セン特殊光源株式会社製PHOTO SURFACE PROCESSOR)
諸設定値:紫外線波長(254nm)、露光量(525mJ/cm2)
なお、株式会社カスタム製UVC−254を使用して254nmの露光量を測定した。
上記5)のUV/O3アッシング処理前後における前記透明膜における純水の接触角を、協和界面化学株式会社製のDrop Master500にて25℃環境下で測定した。純水着滴1秒後の値を接触角値とした。
表1に示す組み合わせ及び量で重合体の溶液である感光性組成物2〜5及び比較用可溶性組成物1〜4を実施例1と同様に調製し、評価した。これらの感光性組成物の組成及び評価結果を表1に示す。
Claims (13)
- シロキサン構造を含む重合体(A)及び1,2−キノンジアジド化合物(B)を含有する感光性組成物において、シロキサン構造を含む重合体(A)が、式(1)で表されるシロキサン化合物と重合体(A)にアルカリ可溶性を付与するアルカリ溶解性とラジカル重合性とを有するアルカリ溶解性ラジカル重合性モノマーとを含むモノマーのラジカル重合体である、感光性組成物。
- アルカリ溶解性ラジカル重合性モノマーが不飽和カルボン酸を有するラジカル重合性モノマー、不飽和カルボン酸無水物を有するラジカル重合性モノマー、及びフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノマーからなる群から選ばれる一以上を含む、請求項1に記載の感光性組成物。
- アルカリ溶解性ラジカル重合性モノマーが式(2)で表されるラジカル重合体モノマーを含む、請求項1又は2に記載の感光性組成物。
- シロキサン構造を含む重合体(A)が、式(1)で表されるシロキサン化合物及びアルカリ溶解性ラジカル重合性モノマー以外の他のラジカル重合性モノマーをさらに含むモノマーのラジカル重合体である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の感光性組成物。
- 他のラジカル重合性モノマーが、nが0である式(3)で表されるシロキサン化合物である、請求項5に記載の感光性組成物。
- 他のラジカル重合性モノマーが(メタ)アクリル酸誘導体を含む、請求項4〜7のいずれか一項に記載の感光性組成物。
- 式(1)で表されるシロキサン化合物以外のモノマーのラジカル重合体であり、アルカリ可溶性を有するアルカリ可溶性重合体(C)をさらに含有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の感光性組成物。
- アルカリ可溶性重合体(C)が、不飽和カルボン酸を有するラジカル重合性モノマー、不飽和カルボン酸無水物を有するラジカル重合性モノマー、及びフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノマーからなる群から選ばれる一以上を含むモノマーのラジカル重合体である、請求項9に記載の感光性組成物。
- 溶剤をさらに含有する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の感光性組成物。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の感光性組成物の膜を焼成して得られる硬化膜。
- 請求項12に記載の硬化膜を有する表示素子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010175135A JP5482553B2 (ja) | 2010-08-04 | 2010-08-04 | 感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子 |
TW100126616A TWI470349B (zh) | 2010-08-04 | 2011-07-27 | 感光性組成物、由此組成物所獲得的硬化膜以及具有此硬化膜的顯示元件 |
KR1020110075721A KR101814587B1 (ko) | 2010-08-04 | 2011-07-29 | 감광성 조성물, 이 조성물로부터 얻어지는 경화막, 및 이 경화막을 가지는 표시 소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010175135A JP5482553B2 (ja) | 2010-08-04 | 2010-08-04 | 感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012037595A JP2012037595A (ja) | 2012-02-23 |
JP5482553B2 true JP5482553B2 (ja) | 2014-05-07 |
Family
ID=45849679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010175135A Expired - Fee Related JP5482553B2 (ja) | 2010-08-04 | 2010-08-04 | 感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5482553B2 (ja) |
KR (1) | KR101814587B1 (ja) |
TW (1) | TWI470349B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6048106B2 (ja) * | 2012-12-13 | 2016-12-21 | Jnc株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
WO2016056635A1 (ja) * | 2014-10-08 | 2016-04-14 | 古河電気工業株式会社 | 架橋樹脂成形体及び架橋性樹脂組成物とそれらの製造方法、シランマスターバッチ、並びに、成形品 |
JP6883946B2 (ja) * | 2016-02-01 | 2021-06-09 | 株式会社カネカ | 積層体及びその製造方法並びに基板の接着方法 |
JP6798513B2 (ja) * | 2017-02-03 | 2020-12-09 | 信越化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性樹脂皮膜、及びパターン形成方法 |
JP6782222B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2020-11-11 | 古河電気工業株式会社 | シラン架橋アクリルゴム成形体及びその製造方法、シラン架橋性アクリルゴム組成物、並びに耐油性製品 |
JP2020084105A (ja) | 2018-11-29 | 2020-06-04 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | アクリル重合化ポリシロキサン、これを含んでなる組成物、およびこれを用いた硬化膜 |
JP7335217B2 (ja) | 2020-09-24 | 2023-08-29 | 信越化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010101985A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Chisso Corp | ポジ型感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子 |
-
2010
- 2010-08-04 JP JP2010175135A patent/JP5482553B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-07-27 TW TW100126616A patent/TWI470349B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-07-29 KR KR1020110075721A patent/KR101814587B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201207561A (en) | 2012-02-16 |
KR101814587B1 (ko) | 2018-01-04 |
KR20120023540A (ko) | 2012-03-13 |
JP2012037595A (ja) | 2012-02-23 |
TWI470349B (zh) | 2015-01-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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