KR20080070533A - 광-산란 조성물 - Google Patents

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KR20080070533A
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Abstract

본 발명은 산광(diffuser) 중합체 입자를 포함하는 광-산란 조성물, 그의 제조방법 및 사용방법에 관한 것이다.

Description

광-산란 조성물{LIGHT-SCATTERING COMPOSITION}
본 발명은 광-산란 조성물과 그의 제조 및 사용방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 산광 중합체 입자를 포함하는 광-산란 조성물에 관한 것이다.
산광(light-diffusing) 중합체는 간혹 가시광선에 대해 "반투명(semi-transparent)" 또는 반투광(translucent)으로서, 즉, 투과된 빛을 산란시키며, 바람직하게는 빛의 세기를 현저히 감소시키지 않는다. 이것들은 투명하거나 착색되어 있을 수 있고, 투명하거나 착색된 열가소성 또는 열경화성 중합체 매트릭스에 도입되어 다양한 두께의 시트나 필름 또는 보다 복잡한 형태로 성형될 수 있는 광-산란 열가소성 또는 열경화성 중합체 조성물을 형성한다. 이러한 조성물은 예를 들어, 조명기구(luminaire), 텔레비젼 또는 영화 감상용 후면 투사(rear projection) 스크린, 장식물, 조명 간판(특히 후면-광원 반투광 간판), 채광창(skylight), 조명 시설(특히 형광등 또는 백열등 용), 온실 유리(greenhouse glazing), 라이트 박스(light box), 드래프팅 테이블(drafting table), 자동차 선루프, 예술 응용분야(예컨대, 영상 디스플레이 케이스 성분으로), CRT 유닛 용 안티글로 스크린(antiglow screen for CRT units), 이중벽(twin-wall) 유리 및 자동차 라이트용 커버에서 산광기(light diffuser)로 사용된다.
일본 특허 공보 제 64-10515 호는 기초 물질의 투명 수지 중에 브릿징 중합체(bridging polymer)의 미세 입자를 혼합하는 것을 포함하는 반투명 수지의 생산 방법을 개시하고 있고, 상기 브릿징 중합체 입자는 0.5 내지 5μm의 평균 직경을 갖으며, 메트릭스와 굴절률이 0.05 내지 0.3 유닛 차이가 난다. 그러나, 상기 공보에 입자를 제조하기 위해 제시된 그로-아웃 방법(grow-out process)은 상당한 양의 작은 입자가 산출됨을 암시한다. 상기 참고문헌에서는 가교 단량체인 브릿징 단량체를 필요로 한다.
미국 특허 제 5,237,004 호 (Wu et al.)에는 개선된 광학 특성을 지닌 열가소성 조성물이 개시되어 있다. 상기 특허에서는 열가소성 매트릭스 중합체 및 이 매트릭스 중합체 전반에 걸쳐 분포된 코어/쉘의 구형 중합체 입자를 포함하는 광학 특성이 개선된 열가소성 조성물이 개시되어 있으며, 여기에서, 코어/쉘의 구형 중합체 입자는 평균 직경이 약 2 내지 15㎛ 이고, 총 조성물 중량의 약 0.1 내지 약 40%로 존재하며, 크기 분포는 중합체 입자의 적어도 90중량%가 평균 입자 직경의 ±20% 내에 속하도록 하는 범위이고, 탄성 알킬 아크릴레이트 중합체 코어 및 하나 이상의 쉘을 가지며, 외부 쉘은 매트릭스 중합체와 양립성이다.
그럼에도 불구하고, 디스플레이 스크린 및 산광기를 포함하는 보다 많은 것이 요구되는 응용분야에서의 사용을 위해 개선된 광학 특성을 지닌 새로운 중합체 조성물을 필요로 한다.
본 발명의 일면에 있어서, 산광 중합체 입자를 포함하는 광-산란 조성물이 제공되며, 여기에서 산광 중합체 입자의 평균 입자 크기는 0.3 내지 1.9μm이고, >4 wt%의 가교 밀도(crosslinking density)를 갖으며, 입자의 중앙에서의 굴절률(RIcenter)과 표면에서의 굴절률(RIsurface)이 서로 다르게 나타나고(RIcenter<RIsurface), 단상(single phase)의 입자이다.
본 발명의 다른 면에 있어서, 매트릭스 중합체 및 산광 중합체 입자를 포함하는 광-산란 조성물이 제공되며, 여기에서 산광 중합체 입자의 평균 입자 크기는 0.3 내지 1.9μm이고, >4 wt%의 가교 밀도를 갖으며, 입자의 중앙에서의 굴절률(RIcenter)과 표면에서의 굴절률(RIsurface)이 서로 다르게 나타나고(RIcenter<RIsurface), 단상(single phase)의 입자이며, 산광 중합체 입자가 매트릭스 중합체 전반에 분산되어 있고, 산광 중합체 입자는 0.1 내지 10 wt%의 광-산란 조성물을 포함한다.
본 발명의 다른 면에 있어서, 본 발명의 광-산란 조성물을 포함하는 산광층(diffusion layer)을 지닌 평판 디스플레이(flat panel display)가 제공되며, 여기에서 확산층의 두께는 0.45mm 내지 4mm 이다.
본 발명의 다른 면에 있어서, 본 발명의 광-산란 조성물을 포함하는 산광기(lighting diffuser)가 제공된다.
본원에서 사용되는 용어 "공중합체"는 적어도 두 개의 서로 다른 단량체가 중합된 중합체를 말한다.
본원에서 사용되는 용어 "평균 입자 크기"는 Malvern Instruments 입자 크기 분석기 Mastersizer 2000에서 측정된 d50 값이다.
본원에서 사용되는 용어 "RIcenter"는 Zeiss Jenaval Interphako Interference Microscope를 사용하여 글리세롤 내 산광 중합체 입자의 중앙에서 측정한 굴절률을 말한다.
본원에서 사용되는 용어 "RIsurface"는 Zeiss Jenaval Interphako Interference Microscope를 사용하여 글리세롤 내 산광 중합체 입자의 표면에서 측정한 굴절률을 말한다.
본원에서 사용되는 용어 "단상(single phase)"은 산광 중합체 입자와 관련하여 대상 입자가 중심에서 표면으로 RI가 점차 증가하는 것을 나타냄을 의미한다. 용어 단상은 "제조된" 산광 중합체 입자를 말한다. 업계에서 통상의 기술을 가진 자는 산광 중합체 입자가 특정 위치에서 매트릭스 중합체와 결합시에 변형될 수 있음을 알 수 있다. 예를 들어, 산광 중합체 입자 및 매트릭스 중합체는 특정 위치에서 상호작용하여 산광 중합체 입자와 매트릭스 중합체 사이의 경계면에서 껍질 같은(shell like) 구조를 형성할 수 있다.
본원에서 사용되는 용어 "모노비닐 아렌"은 모노에틸렌 불포화 방향족 단량체를 의미하고, 스티렌, 알킬스티렌(예를 들면, 메틸스티렌 및 에틸스티렌), 중합반응을 방해하지 않는 치환기를 가진 다른 치환된 비닐 벤젠 및 비닐 다환식 방향족 단량체가 포함된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 열가소성 중합체, 열경화성 중합체 및 이들의 조합으로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 반투광 중합체 및 투명 중합체로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 유리-전이 온도가 50℃ 이상인 투명 중합체로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 본 발명의 산광 중합체 입자의 도입 후, 무정형(amorphous)으로 되고, 본 발명의 광-산란 조성물을 형성하는 처리 수행 후, 무정형을 유지하는 중합체로부터 선택된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 1,400 내지 3,500 메가파스칼(MPa)의 탄성률을 나타낸다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 성형(molding), 주물(casting), 압출(extrusion) 또는 당업자에게 명백한 다른 방법에 의해 형상(shaped) 물품으로 형성될 수 있다.
본 발명의 일부 구체예에서, 광 산란 조성물은 필름이나 시트로 형성된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 필름의 평균 두께는 21 내지 250μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 필름의 평균 두께는 70 내지 125μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 필름의 평균 두께는 0.45 내지 4mm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 필름의 평균 두께는 0.5 내지 3mm 이다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 연쇄 성장 중합반응(chain growth polymerization) 또는 단계 성장 중합반응(step growth polymerization)으로부터 제조된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리카보네이트-폴리에스테르 블렌드, 폴리아미드, 폴리(알킬렌 테레프탈레이트), 폴리스티렌, 시클로-올레핀, 폴리스티렌/메타크릴레이트 블렌드, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조되거나 이들을 포함한다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리카보네이트-폴리에스테르 혼합물, 폴리아미드, 폴리(알킬렌 테레프탈레이트), 폴리스티렌, 시클로-올레핀 및 폴리스티렌/메타크릴레이트 혼합물로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조되거나 이들을 포함한다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리스티렌, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리스티렌 메타크릴레이트 공중합체, 스티렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체, 올레핀-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리메틸펜텐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌의 공중합체, 폴리글루타르이미드, 스티렌-말레산 무수물 공중합체, 사이클릭 올레핀 공중합체 및 이들의 조합으로부터 선택된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 알킬(알킬)아크릴레이트, 비닐 방향족들, 비닐 클로라이드, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트, 폴리(에틸렌 테레프탈레이트), 폴리(시클로헥산디메탄올 테레프탈레이트), 이들의 유도체, 이들의 공중합체 및 굴절률이 매치되는 이들의 블렌드로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 메틸 메타크릴레이트와 알 킬 아크릴레이트, 스티렌과 40wt% 이하의 아크릴로니트릴, 스티렌과 메틸 메타크릴레이트, 알파-메틸스티렌과 메틸 메타크릴레이트 및 알킬 아크릴레이트, 비닐 클로라이드와 비닐 아세테이트, 비닐 클로라이드와 프로필렌의 공중합체로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 알킬 아크릴레이트는 C1 - 8알킬 아크릴레이트 및 이들의 유도체로부터 선택된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 메틸 메타크릴레이트와 1 내지 15wt% 의 C1 - 8알킬 아크릴레이트의 공중합체로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 폴리(비닐 아세테이트), 가소된 비닐 클로라이드 단일중합체(homopolymer), 가소된 비닐 클로라이드 공중합체 및 가소된 셀룰로오스 에스테르로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 열경화성 중합체로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 제조된(예를 들면, 생성되는 시트를 고정하고 불용성으로 하기에 충분한 다가(polyfunctional) 단량체를 함유하는 폴리(메틸 메타크릴레이트) 시트의 주물에서와 같은) 열경화성 수지이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 후속 과정(예를 들면, 초기 중합 시트를 가열하여 경화 반응을 활성화 시키는 것과 같은 초기 중합반응이 완료된 후) 동안 정제된(rendered) 열경화성 수지이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 메틸 메타크릴레이트, 스티렌, 비닐 클로라이 드, 메틸 메타크릴레이트의 이미드화된 중합체(폴리글루타르이미드로 알려짐), 메틸 메타크릴레이트와 알킬 아크릴레이트의 공중합체, 스티렌과 40% 이하의 아크릴로니트릴의 공중합체, 스티렌과 메틸 메타크릴레이트의 공중합체, 알파-메틸스티렌과 메틸 메타크릴레이트 및 알킬 아크릴레이트의 공중합체, 비닐 클로라이드와 비닐 아세테이트의 공중합체 및 비닐 클로라이드와 프로필렌의 공중합체로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 양립성이거나 굴절률이 매치되는 중합체 블렌드를 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 메틸 메타크릴레이트와 1 내지 15wt% 의 알킬 아크릴레이트의 공중합체로부터 선택되는 물질을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 알킬 아크릴레이트는 C1 -8알킬 아크릴레이트로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 다가 디메타크릴레이트를 사용하여 더 유도되거나 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 0.05 내지 2wt% 의 다가 디메타크릴레이트를 사용하여 더 유도되거나 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 아크릴아미드 및 N-메틸올아크릴아미드를 사용하여 더 유도되거나 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 0.05 내지 5wt% 의 아크릴아미드 및 N-메틸올아크릴아미드를 사용하여 더 유도되거나 제조된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 축합반응 및/또는 고리-열림 반응을 통해 형성된 중합체로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 매트릭스 중합체는 다작용성(multifunctional) 글리콜의 존재하에 폴리에스테르화를 통하거나 3작용(trifunctional) 에폭사이드의 존재하에 에폭사이드 중합반응에 의해 제조된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 광학 그레이드(optical grade) 물질이다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 1.49 내지 1.59의 굴절률을 갖는다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 1 이하의 황변율(yellowness index)을 갖는다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 1% 이하의 흐림도(haze)를 갖는다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체는 1 이하의 황변율 및 1% 이하의 흐림도를 갖는다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 단계 반응 또는 연쇄 성장 중합반응을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 하나 이상의 비닐 단량체를 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 탄성 중합체를 포함한다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 유리질(glassy) 중합체를 포함한다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 자유-라디칼 개시 중합반응을 통해 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 디올레핀(예를 들어, 부타디엔, 이소프렌), 비닐 방향족 단량체(예를 들 어, 스티렌, 클로로스티렌), 비닐 에스테르(예를 들어, 비닐 아세테이트, 비닐 벤조에이트), 아크릴로니트릴, 메틸아크릴로니트릴, (메트)아크릴레이트 에스테르(예를 들어, 메틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 페닐 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트) 및 비닐 클로라이드로부터 선택되는 단량체의 중합반응 또는 공중합반응을 통해 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 알킬 아크릴레이트 유도체는 할로겐화 종(halogenated species), 예를 들면, 염소화 종, 불소화 종을 포함한다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 탄성 알킬 아크릴레이트 중합체로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 4wt% 초과 내지 99wt% 의 가교 단량체(들)와 공중합된 C2 - 8알킬 아크릴레이트 단량체를 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 4wt% 초과 내지 50wt% 의 가교 단량체(들)와 공중합된 C2 - 8알킬 아크릴레이트 단량체를 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 5wt% 내지 10wt% 의 가교 단량체(들)와 공중합된 C2 - 8알킬 아크릴레이트 단량체를 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 0 내지 50wt% 의 다른 공중합 가능한 비닐 단량체를 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서 산광 중합체 입자는 C2-8알킬 아크릴레이트 단량체는 부틸 아크릴레이트이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 다른 공중합 가능한 비닐 단량체(들)은 알킬 메타크릴레이트 및 모노비닐 아렌으로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 다른 공중합 가능한 비닐 단량체(들)은 스티렌이 다.
본 발명의 산광 중합체 입자를 제조하는데 사용하기 적합한 가교 단량체는 가교 산광 중합체 입자를 제조하는 다른 물질들과 양립성인 당업자들에게 주지된 가교 단량체들을 포함한다.
본 발명의 일부 구체예에서, 가교 단량체는 에틸렌 불포화 그룹들이 대략 동일한 반응성을 갖는 다중-에틸렌계계(multi-ethylenically) 불포화 단량체; 반응성이 서로 다른 둘 이상의 짝짓지 않은(non-conjugated) 이중 결합을 가진 다중-에틸렌계계 불포화 단량체; 및 이들의 조합으로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 에틸렌 불포화 그룹들이 대략 동일한 반응성을 갖는 다중-에틸렌계계 불포화 단량체는 디비닐벤젠; 글리콜 디- 및 트리메타크릴레이트 및 아크릴레이트; 트리올 트리아크릴레이트 및 메타크릴레이트로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 가교 단량체는 부틸렌 글리콜 디아크릴레이트로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 반응성이 서로 다른 둘 이상의 짝짓지 않은 이중 결합을 가진 다중-에틸렌계계 불포화 단량체는 알릴 메타크릴레이트; 디알릴 말레에이트 및 알릴 아크릴옥시프로피오네이트로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 가교 단량체는 알릴 메타크릴레이트이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 가교 단량체는 에틸렌 불포화 그룹들이 대략 동일한 반응성을 갖는 다중-에틸렌계 불포화 단량체와 반응성이 서로 다른 둘 이상의 짝짓지 않은 이중 결합을 가진 다중-에틸렌계 불포화 단량체의 조합을 포함한다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 경화-후 반응(post-cure reaction)을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 경화-후 반응은 공중합체가 팬던트(pendant) 과산화물 그룹을 가진 단량체로부터 형성되는 경우에 일어난다. 그리고 나서, 이들은 중합반응에서 사용된 온도보다 더 높은 온도로 가열되어 활성화된다. 활성화된 과산화물 그룹은 산광 중합체 입자의 가교로 촉진될 것이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 제 2 자유-라디칼 개시제가 중합반응에 첨가될 수 있고, 이러한 제 2 개시제는 개시 중합반응 조건에서는 안정하나, 예를 들어 개시 중합반응에 이은 빛에 대한 노출 또는 온도의 증가에 의해서 활성화되는 것이 선택된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 선택된 출발 물질과 함께 사용하기에 적합한 임의의 공지된 중합반응 기술을 사용하여 제조된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 입자 크기, 크기 분포 및 구형 구조를 가진 입자를 제조하는 다른 기술이 사용될 수 있더라도, 산광 중합체 입자의 제조는 산광 중합체 입자의 적어도 하나의 단량체 성분을 에멀젼 중합하여 균일한 크기의 시드(seed) 입자를 제조하는 단계, 산광 중합체 입자의 하나 이상의 단량체 성분으로 시드 입자를 팽창시키는 단계 및 팽창된 시드 입자내에 단량체를 중합하는 단계를 포함한다. 팽창 및 중합 단계는 원하는 크기의 산광 중합체 입자를 제공하기 위해 필요에 따라 반복될 수 있다. 본 제조 방법의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 제조 방법은 중합반응 혼합물에 머캅탄과 같은 연쇄-이동 조절자(chain-transfer moderator)를 포함하는 것, 생성되는 시드 입자가 쉽게 팽창할 수 있는 올리고머를 포함하는 것과 같은 형성되는 중합체의 분자량을 제한하는 조건을 사용하여 시드 입자를 에멀젼 중합하는 것을 포함한다. 이러한 방법은 중합체 분자량의 제한 없이 초기 에멀젼 중합체 입 자를 제조하나, 후속하는 중합체 분자량을 제한하는 조건을 사용하여 하나 이상의 팽창 및 중합 단계를 수행하는 것으로 변할 수 있다. 이러한 변화에 있어서, 초기 에멀젼 중합체 입자는 후속하는 총 분자량이 더 적은 더 큰 입자만큼 쉽게 팽창하지 않는다.
본 발명의 일부 구체예에서, 광-산란 조성물은 안에 산광 중합체 입자가 분산된 매트릭스 중합체를 포함하고, 여기에서 산광 중합체 입자는 0.1 내지 40wt% 의 광-산란 조성물을 포함한다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 0.1 내지 10wt% 의 광-산란 조성물을 포함한다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 0.3 내지 5wt% 의 광-산란 조성물을 포함한다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.3 내지 1.9μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.4 내지 1.5μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.5 내지 1.3μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.5 내지 1.2μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.5 내지 1.0μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.6 내지 0.9μm 이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 평균 입자 크기가 0.8 내지 0.9μm 이다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자의 크기는 산광 중합체 입자의 적어도 90wt% 가 평균 입자 크기의 ±40% 범위 안에 분포되도록 나타난다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 크기는 산광 중합체 입자의 적어도 90wt% 가 평균 입자 크기의 ±35% 범위 안에 분포되도록 나타난다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 크기는 산광 중합체 입자의 적어도 90wt% 가 평균 입자 크기의 ±32% 범위 안에 분포되도록 나타난다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 4wt% 초과 내지 99wt% 의 가교 밀도를 갖는다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 5 내지 50wt% 의 가교 밀도를 갖는다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 5 내지 10wt% 의 가교 밀도를 갖는다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 중심에서의 굴절률(RIcenter)이 표면에서의 굴절률(RIsurface)보다 작다. 본 구체예의 어떤 면에서, RIcenter가 RIsurface보다 0.003 내지 0.4 유닛이 작다. 본 구체예의 어떤 면에서, RIcenter가 RIsurface보다 0.008 내지 0.1 유닛이 작다. 본 구체예의 어떤 면에서, RIcenter가 RIsurface보다 0.01 내지 0.05 유닛이 작다. 본 구체예의 어떤 면에서, RIcenter가 RIsurface보다 0.01 내지 0.03 유닛이 작다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자의 RIcenter는 1.2 내지 1.6이다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 RIcenter는 1.4 내지 1.5이다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자의 RIcenter는 매트릭스 중합체의 굴절률의 ±0.003 내지 ±0.6 유닛 범위 내에 있다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 RIcenter는 매트릭스 중합체의 굴절률의 ±0.003 내지 ±0.05 유닛 범위 내에 있다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 RIcenter는 매트릭스 중합체의 굴절률의 ±0.003 내지 ±0.04 유닛 범위 내에 있다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자의 RIcenter는 매트릭스 중합체의 굴절률의 ±0.02 내지 ±0.04 유닛 범위 내에 있다. 본 발명의 업계에서 통상의 지식을 가진자는 특정 매트릭스 중합체와 결합하여 사용하기 위해서 원하는 굴절률을 갖는 산광 중합체 입자를 제공하기 위해 산광 중합체 입자의 제조 물질을 선택할 수 있다.
본 발명의 일부 구체예에서, 산광 중합체 입자는 임의의 적절하고 통상적인 기술로 매트릭스 중합체와 결합된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 산광 중합체 입자는 용융 블렌딩(melt blending)으로 매트릭스 중합체와 결합된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 광-산란 조성물은 임의의 첨가제를 더 포함한다. 본 구체예의 어떤 면에서, 임의의 첨가제는 예를 들어, 자외선 안정제, 자외선 흡수제, 가용성 내연제(soluble flame retardant), 염료, 열 안정제, 충격 보강제(impact modifier), 가공 보조제(processing aid), 유량 보조제(flow aid), 안료 및 형광 증백제를 포함하는 통상적인 첨가제로부터 선택된다. 본 구체예의 어떤 면에서, 충격 보강제는 매트릭스 중합체와 선명한 비-광-산란(non-light-scattering) 혼합물을 형성하기 위해 선택된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체, 산광 중합체 입자 및 임의의 첨가제가 혼합되고, 펠렛으로 압출된 후, 성형되거나 압출된다.
본 발명의 일부 구체예에서, 매트릭스 중합체, 산광 중합체 입자 및 임의의 첨가제가 시트나 필름으로 가공된다.
본 발명의 광-산란 조성물은 조명기구 내 산광기(light diffuser), 텔레비젼 또는 영화 감상용 후면 투사 스크린, 장식물, 조명 간판(특히 후면-광원 반투광 간판), 채광창, 조명 시설(특히 형광등 또는 백열등 용), 온실 유리, 라이트 박스, 드래프팅 테이블, 자동차 선루프, 예술 응용분야(예컨대, 영상 디스플레이 케이스 성분으로), CRT 유닛 용 안티글로 스크린, 트윈-월 유리, 리퀴드 크리스탈 디스플레이(liquid crystal display), 플라스마 디스플레이, 개인 창문(privacy window), 자동차 라이트용 커버 및 코팅을 포함하는 다양한 응용분야에서 산광기로 사용된다.
다음의 실시예에서 본 발명의 구체예에 대해 상세히 설명할 것이다. 아래의 실시예에서 나타낸 모든 분율 및 퍼센트는 달리 언급하지 않는 한 중량 단위이다. 표에서 사용되는 용어 "산광율(diffusivity)"은 고니오포토미터(Goniophotometer)로 측정하여 출력 세기 대 확산 각의 적분값을 역수로 얻어 퍼센트로 기록하였다. 본 비율에 있어서, 완벽한 산광는 100 퍼센트의 확산율 값을 얻을 것이다.
실시예 1
본 실시예에서는 수성 분산액에서 큰 시드 입자를 만들기 위해서 직경 0.25μm인 가교된 중합체 입자의 제조에 대해 설명한다. 표 1에 적힌 혼합물들을 탈이 온수로 제조하였다:
표 1
혼 합 물 성 분 중 량 부
A 물 180
탄산 나트륨 0.40
B n-부틸 아크릴레이트 98.0
알릴 메타크릴레이트 1.75
1,4-부탄디올 디아크릴레이트 0.25
22.5% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 2.22
물 40.8
C 소듐 퍼설페이트 0.06
물 11.9
교반기 및 콘덴서가 장착되고 질소로 블랭킷 된 반응기에 혼합물 A를 채우고, 83℃로 가열하였다. 반응기 내용물에 10%의 유화된 혼합물 B 및 25%의 혼합물 C를 첨가하였다. 온도를 83℃로 유지하고, 혼합물을 60분 동안 교반시킨 후, 남은 혼합물 B 및 혼합물 C를 120분에 걸쳐 교반하면서 반응기에 첨가하였다. 83℃에서 90분 동안 계속 교반시킨 후, 반응기 내용물을 실온으로 냉각시켰다. 생성된 입자의 입자 크기를 Brookhaven Instruments 입자 크기 분석기 BI-90으로 측정한 결과 0.25μm 이었다.
실시예 2
본 실시예에서는 n-부틸 아크릴레이트, 스티렌, 및 1-헥산티올을 사용하여 실시예 1의 에멀젼 내 입자의 직경을 0.56μm 로 성장시켰다. 표 2에 적힌 혼합물들을 탈이온수로 제조하였다:
표 2
혼 합 물 성 분 중 량 부
A 탄산 나트륨 0.08
9.76% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 0.01
물 156.00
B 실시예 1의 30.10% 수성 에멀젼 29.80
C n-부틸 아크릴레이트 81.80
스티렌 18.20
9.76% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 4.53
물 57.50
D 1-헥산티올 18.80
9.76% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 0.58
물 15.00
E 소듐 퍼설페이트 0.11
물 47.40
F t-부틸 하이드로퍼옥사이드 70% 0.30
물 15.00
G 소듐 포름알데히드 설폭실레이트 0.20
물 6.67
혼합물 A를 실시예 1의 반응기에 첨가하고, 교반하면서 88℃로 가열하였다. 반응기 내의 공기를 질소로 교체하였다. 반응기의 온도가 88℃로 안정화되었을 때, 혼합물 B를 반응기에 채웠다. 그 후, 유화된 혼합물 C 및 D, 혼합물 E를 반응기에 300분에 걸쳐 교반하면서 첨가하였다. 88℃에서 90분 동안 교반을 계속하였다. 반응기 내용물을 65℃로 냉각시켰다. 혼합물 F 및 G를 첨가하고, 반응기 내용물을 1시간 동안 교반하면서 65℃로 유지시킨 후, 반응기 내용물을 실온으로 냉각시켰다. 생성된 에멀젼 입자의 직경을 Brookhaven Instruments 입자 크기 분석기 BI-90으로 측정한 결과 0.56μm 이었다.
실시예 3
본 실시예에서는 실시예 1과 유사한 방법을 사용하여 99.30부의 n-부틸 아크릴레이트 및 0.70부의 알릴 메타크릴레이트를 함유하는 수성 에멀젼 내 가교 중합체 입자를 제조하였다. 생성된 에멀젼의 고체 함량은 32.52% 이었고, 입자 크기는 0.054μm 이었다.
실시예 4
본 실시예에서는 입자 크기가 0.24μm 인 실시예 3과 유사한 에멀젼의 적당한 양을 사용하여 실시예 2의 과정을 반복하였다. 생성된 에멀젼의 입자 크기는 0.45μm 이었다.
실시예 5
본 실시예에서는 입자 크기가 0.054μm 인 실시예 3과 유사한 에멀젼의 적당한 양을 사용하여 실시예 2의 과정을 반복하였다. 생성된 에멀젼의 입자 크기는 0.21μm 이었다. 상기 합성 방법으로 유도된 중합체는 다음과 같다:
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.2 미크론 (5A);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.3 미크론 (5B);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.1 미크론 (5C);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.2 미크론 (5D);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(스티렌)), 입자 크기 1.2 미크론 (5E);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 0.84 미크론 (5F).
실시예 6
본 실시예에서는 입자 크기가 0.054μm 인 실시예 3과 유사한 에멀젼의 적당한 양을 사용하고, 스티렌 대신 메틸 메타크릴레이트, 1-헥산티올 대신 20중량부의 부틸 3-머캅토프로피오네이트를 사용하여 실시예 2의 과정을 반복하였다. 생성된 에멀젼의 입자크기는 0.21μm 이었다. 상기 합성 방법으로 유도된 중합체는 다음과 같다: (80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.2 미크론.
실시예 7
본 실시예에서는 입자 크기가 0.054μm 인 실시예 3과 유사한 에멀젼의 적당한 양을 사용하고, 혼합물 A 내 1.0중량부의 메틸 β-시클로덱스트란을 첨가하였으며, 스티렌 대신 메틸 메타크릴레이트, 1-헥산티올 대신 1-도데칸티올을 사용하여 실시예 2의 과정을 반복하였다. 생성된 에멀젼의 입자크기는 0.23μm 이었다. 생성된 에멀젼의 입자크기는 0.21μm 이었다. 상기 합성 방법으로 유도된 중합체는 다음과 같다:
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.2 미크론 (7A);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 0.86 미크론 (7B);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 0.83 미크론 (7C);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.1 미크론 (7D);
(80%(BA/ALMA=92/8)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.1 미크론 (7E);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/BA=98/2)), 입자 크기 1.1 미크론 (7F);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(스티렌)), 입자 크기 1.1 미크론 (7G);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA)//10%(MMA/스티렌=75/25)), 입자 크기 1.1 미크론 (7H);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA)//10%(MMA/스티렌=50/50)), 입자 크기 1.1 미크론 (7I);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA)//10%(MMA/스티렌=25/75)), 입자 크기 1.1 미 크론 (7J);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/ALMA=98/2)//10%(MMA/스티렌=25/75)), 입자 크기 1.1 미크론 (7K);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/스티렌=50/50)//10%(스티렌)), 입자 크기 1.1 미크론 (7L);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/스티렌=75/25)//10%(스티렌)), 입자 크기 0.85 미크론 (7M);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/스티렌=50/50)//10%(스티렌)), 입자 크기 0.85 미크론 (7N);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/스티렌=25/75)//10%(스티렌)), 입자 크기 0.85 미크론 (7O);
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/ALMA/스티렌=48/2/50)//10%(스티렌)), 입자 크기 0.85 미크론 (7P);
(80%(BA/ALMA=94/6)//20%(MMA/EA=98/02)), 입자 크기 0.85 미크론 (7Q);
(80%(BA/ALMA=92/8)//20%(MMA/EA=98/02)), 입자 크기 0.85 미크론 (7R); 및
(80%(BA/ALMA=94/6)//10%(MMA/스티렌=25/75)//10%(스티렌)), 입자 크기 0.85 미크론 (7S).
비교 실시예 8
본 실시예에서는 단계 I 에서 n-부틸 아크릴레이트 및 알릴 메타크릴레이트를 사용하고, 이어지는 단계 II 에서 메틸 메타크릴레이트 및 에틸 아크릴레이트의 공중합반응을 사용하여 실시예 2의 에멀젼 내 입자의 직경을 5μm 로 확장시켰다.
표 3에 적힌 혼합물을 탈이온수로 제조하였다:
표 3
혼 합 물 성 분 중 량 부
단 계 I
A 물 138.50
B 실시예 2의 수성 에멀젼 (29.88% 고체) 0.105
C n-부틸 아크릴레이트 76.80
알릴 메타크릴레이트 3.20
10% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 0.28
물 33.12
D t-부틸 퍼옥테이트 0.427
10% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 0.003
물 2.96
단 계 II
E 메틸 메타크릴레이트 19.20
에틸 아크릴레이트 0.80
F 소듐 포름알데히드 설폭실레이트 0.062
물 6.67
10% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 0.017
G t-부틸 하이드로퍼옥사이드 70% 0.089
물 10.05
10% 수성 소듐 도데실벤젠설포네이트 0.037
실시예 1의 반응기에 A를 첨가하고, 교반하면서 90℃로 가열하였다. 반응기 내 공기를 질소로 교체하였다. 반응기 온도를 90℃로 안정화시키고, 혼합물 B를 반응기에 채웠다. 혼합물 C를 호모지나이저(homogenizer)로 유화시키고, 반응기에 채웠다. 반응기를 60℃에서 1시간 동안 교반하였다. 혼합물 D를 호모지나이저로 유화시키고, 반응기에 채웠다. 60℃에서 1시간 동안 교반시킨 후, 발열 중합반응이 일어나는 동안 반응기를 65-70℃로 점진적으로 가열하였다. 최대 온도에 도달한 후, 반응기를 30분 동안 73℃로 냉각시키면서 계속하여 교반하였다. 혼합물 F의 절반을 채웠다. 그 후, 혼합물 E, F의 잔여물, 및 G를 2시간에 걸쳐 반응기에 분리하여 첨 가하였다. 온도를 73-75℃로 유지시키고, 반응기가 실온으로 냉각될 때가지 1시간 동안 교반을 계속하였다. 생성된 에멀젼 입자의 직경은 Coulter Corporation Multisizer IIE 입자 크기 분석기로 측정한 결과 5μm 이었다.
비교 실시예 9
본 실시예에서는 비교 실시예 8의 에멀젼 내 입자를 메틸 메타크릴레이트/에틸 아크릴레이트 공중합체를 함유하는 중합체 에멀젼과 혼합하였다. 표 4에 적힌 혼합물을 제조하였다.
표 4
혼 합 물 성 분 중 량 부
A 실시예 8의 수성 에멀젼 (35.95% 고체) 250.35
B 메틸 메타크릴레이트/에틸 아크릴레이트 공중합체1의 수성 에멀젼 (45.00% 고체) 22.22
196wt% 메틸 메타크릴레이트/ 4wt% 에틸 아크릴레이트
실시예 1의 반응기에 A를 첨가하였다. 실온에서 교반하면서, B를 반응기에 첨가하였다. 혼합물을 반응기에서 꺼낼 때까지 15분 동안 교반을 계속하였다. 그 후, 혼합물로부터 물을 증발시켜 건조 분말을 얻었다.
실시예 10-13
표 5에 주어진 조성물의 산광기 비드(bead)를 폴리카보네이트 수지(Lexan 141, RI=1.59)에 건조 혼합시키고, 190 내지 288℃의 배럴(barrel) 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩(melt compounding)하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정(pelletization)을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형(injection molding)하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 5
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
10 비교 8 1.00 59.98 7.62 86.38 10.01
11 비교 9 1.00 64.23 10.09 86.20 7.39
12 비교 8 4.00 48.60 3.58 86.31 37.38
13 비교 9 4.00 48.71 6.69 86.29 30.38
실시예 14-17
표 5에 주어진 조성물의 산광기 비드를 PMMA 수지(V-826-100; RI=1.49)에 건조 혼합시키고, 200 내지 234℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 6
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
14 비교 8 1.00 102.55 1.12 72.34 0.93
15 비교 9 1.00 101.45 1.10 66.81 0.97
16 비교 8 4.00 101.89 1.97 83.29 1.70
17 비교 9 4.00 102.98 1.74 82.41 1.40
실시예 18-26
표 7에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(Lexan 141, RI=1.59)에 건조 혼합시키고, 190 내지 288℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 7
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
18 5A 0.50 51.92 8.72 86.01 15.87
19 5A 1.00 47.18 6.64 85.92 26.21
20 5A 1.50 45.17 7.65 85.83 34.37
21 5B 0.50 54.90 7.70 86.07 13.40
22 5B 1.00 49.63 4.25 85.91 23.41
23 5B 1.50 46.28 5.43 85.81 31.30
24 비교 8 0.50 65.65 7.75 85.61 6.02
25 비교 8 1.00 55.79 5.43 85.93 12.02
26 비교 8 1.50 51.14 3.99 86.00 18.23
실시예 27-41
표 8에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(Lexan 141, RI=1.59)에 건조 혼합시키고, 190 내지 288℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 8
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
27 5C 0.50 56.00 9.52 86.02 11.47
28 5C 1.00 47.86 6.28 85.94 24.59
29 5C + 1%UVITEX-OB 0.50 56.92 4.89 86.02 12.48
30 5D 0.50 58.57 10.07 85.95 10.37
31 5D 1.00 49.44 5.71 85.98 22.73
32 5D + 1%UVITEX-OB 0.05 59.82 7.24 85.99 10.23
33 5E 0.50 60.07 10.70 85.94 9.26
34 5E 1.00 51.09 6.73 85.70 19.01
35 5E + 1%UVITEX-OB 0.50 62.17 8.10 85.91 8.73
36 6A 0.50 57.78 9.20 85.97 10.26
37 6A 1.00 50.42 4.56 86.00 21.50
38 6A + 1%UVITEX-OB 0.50 59.11 6.29 86.01 10.53
39 5F 0.50 53.56 6.61 86.04 16.07
40 5F 1.00 48.50 5.55 85.94 26.86
41 5F + 1%UVITEX-OB 0.50 56.71 4.75 86.01 12.88
실시예 42-53
표 9에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(Lexan 141, RI=1.59)에 건조 혼합시키고, 190 내지 288℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 9
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
42 7A 0.50 59.61 9.65 85.91 10.34
43 7A 1.00 50.93 4.96 85.95 22.26
44 7A + 1%UVITEX-OB 0.50 63.10 7.97 85.89 8.41
45 7B 0.50 55.96 6.94 85.98 13.75
46 7B 1.00 50.39 4.90 85.93 26.93
47 7B + 1%UVITEX-OB 0.05 57.68 5.64 85.98 11.73
48 0.9(7A)+ 0.1(EXL-2330) 0.50 58.76 8.34 85.97 11.01
49 0.9(7A)+ 0.1(EXL-2330) 1.00 51.36 4.00 85.96 24.57
50 0.9(7A)+ 0.1(EXL-2330) +1%UVITEX-OB 0.50 58.22 5.86 85.97 12.28
51 0.9(7B)+ 0.1(EXL-2330) 0.50 55.89 6.29 85.97 14.07
52 0.9(7B)+ 0.1(EXL-2330) 1.00 49.41 6.03 85.88 27.30
53 0.9(7B)+ 0.1(EXL-2330) +1%UVITEX-OB 0.50 55.04 3.39 85.99 15.08
실시예 54-56
표 10에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(NAS-21; RI=1.57)에 건조 혼합시키고, 200 내지 224℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 200 내지 234℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 10
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
54 5F 1.00 59.23 4.46 85.76 18.79
55 5F 2.00 53.53 9.14 85.48 32.10
56 5F+ 1%UVITEX-OB 1.00 56.97 -1.44 85.82 21.87
실시예 57-68
표 11에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(Lexan 141, RI=1.59)에 건조 혼합시키고, 190 내지 288℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 11
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
57 7C 0.50 52.39 6.26 85.95 18.40
58 7C 1.00 48.24 5.47 85.83 34.89
59 7C+ 0.5% 실리카 0.50 53.26 4.5 85.99 17.86
60 7C+ 1.0% 실리카 0.50 53.95 4.5 85.96 17.46
61 7D 0.50 54.75 4.73 85.96 16.60
62 7D 1.00 50.50 2.30 85.89 29.58
63 7E 0.50 55.27 4.63 85.95 15.42
64 7E 1.00 51.06 1.82 85.88 29.47
65 7F 0.50 68.65 15.75 84.22 3.82
66 7F 1.00 57.49 11.90 85.77 10.81
67 7G 0.50 70.34 14.52 84.53 4.17
68 7G 1.00 59.45 11.49 85.78 10.24
실시예 69-78
표 12에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(NAS-21; RI=1.57)에 건조 혼합시키고, 200 내지 224℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 200 내지 234℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관 례)으로 평가하였다.
표 12
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
69 7H 0.50 86.64 12.99 87.22 15.24
70 7H 1.00 85.61 11.82 87.20 28.72
71 7I 0.50 89.15 12.52 87.23 13.47
72 7I 0.50 85.64 11.08 87.22 27.23
73 7J 0.50 87.84 11.57 87.20 16.12
74 7J 1.00 85.53 10.59 87.20 29.01
75 7K 0.50 86.64 11.22 87.22 16.07
76 7K 1.00 85.21 10.46 87.20 27.76
77 7L 0.50 89.60 11.00 87.21 14.65
78 7L 1.00 87.39 9.14 87.21 25.78
실시예 79-90
표 13에 주어진 조성물의 산광기 비드를 폴리카보네이트 수지(Lexan 141, RI=1.59)에 건조 혼합시키고, 190 내지 288℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 250 내지 270℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 13
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
79 7M 0.50 52.80 8.87 84.03 15.14
80 7M 1.00 48.98 6.27 83.93 38.53
81 7N 0.50 56.58 10.20 84.00 13.47
82 7N 1.00 50.27 5.13 83.96 34.70
83 7O 0.50 54.95 6.32 84.00 15.83
84 7O 1.00 49.82 4.88 83.92 31.96
85 7P 0.50 55.12 7.10 84.00 13.61
86 7P 1.00 49.47 5.21 83.92 30.04
87 7Q 0.50 53.23 5.67 84.01 18.84
88 7Q 1.00 49.66 4.43 83.91 30.56
89 7R 0.50 54.29 5.25 84.01 16.92
90 7R 1.00 49.69 4.76 83.91 29.04
실시예 91
표 14에 주어진 조성물의 산광기 비드를 PMS 수지(Aldrich Chemical Co., RI=1.53)에 건조 혼합시키고, 200 내지 224℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 200 내지 234℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 14
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
91 7R 1.00 76.01 9.69 83.06 4.19
실시예 92-95
표 15에 주어진 조성물의 산광기 비드를 PS 수지(PSJ-폴리스티렌 G9305; RI=1.5842)에 건조 혼합시키고, 200 내지 224℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 200 내지 234℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003-00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 15
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
92 7R 1.00 58.15 8.33 83.91 26.99
93 7R 2.00 54.37 12.56 83.71 35.39
94 7O 1.00 58.01 8.49 83.95 22.39
95 7O 2.00 54.94 11.62 83.78 37.77
실시예 96-103
표 16에 주어진 조성물의 산광기 비드를 PMS 수지(Aldrich Chemical Co., RI=1.53)에 건조 혼합시키고, 200 내지 224℃의 배럴 온도에서 Leistritz 압출기로 용융 컴파운딩 하였다. 용융 컴파운딩 후, 펠렛공정을 하고, 진공 오븐에서 60℃로 건조한 후, 200 내지 234℃의 온도에서 사출 성형 하였다. 사출 성형으로 얻어진 테스트 플레이트의 치수는 다음과 같다: 77mm X 56mm X 3mm. 상기 플레이트를 ASTM E 167-96(물체 및 물질의 고니오포토미터 측정을 위한 표준 관례), ASTM D 10003- 00(투명 플라스틱의 흐림도 및 광선 투과율 측정을 위한 표준 테스트법) 및 ASTM E 313-00(기계적으로 측정된 색 좌표계로부터 황변율 및 백도율 계산을 위한 표준 관례)으로 평가하였다.
표 16
실시예 산광기 로딩(wt%) 총투과율(%) 황변율 흐림도(%) 산광율(%)
96 7R 1.00 59.41 7.00 85.75 16.06
97 7R 2.00 57.17 9.19 85.59 26.93
98 7R 1.00 60.30 6.87 85.75 14.84
99 7R 2.00 57.59 8.36 85.72 24.20
100 7R 1.00 59.62 6.15 85.72 17.28
101 7R 2.00 56.41 9.92 85.53 26.21
102 7R 1.00 59.74 5.90 85.74 15.86
103 7R 2.00 56.26 9.83 85.52 26.85

Claims (10)

  1. 평균 입자 크기가 0.3 내지 1.9μm 이고;
    4wt% 초과의 가교 밀도를 포함하며;
    중심에서의 굴절률(RIcenter)과 표면에서의 굴절률(RIsurface)이 서로 다르고(여기에서, RIcenter<RIsurface이다.);
    단상의 입자인 산광 중합체 입자를 포함하는 광-산란 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 산광 중합체 입자가 산광 중합체 입자의 적어도 90wt%가 평균 입자 크기의 ±40% 범위 내에 드는 크기 분포를 나타내는 광-산란 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 0.1 내지 10wt% 의 광-산란 조성물을 포함하는 산광 중합체 입자가 매트릭스 중합체 전반에 걸쳐 분산되어 있는 매트릭스 중합체를 더 포함하는 광-산란 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서, 충격 보강제(impact modifier)를 더 포함하는 광-산란 조성물.
  5. 제 3 항에 있어서, 산광 중합체의 RIcenter가 매트릭스 중합체의 굴절률과 ± 0.05 미만 내지 ±0.003 유닛이 다른 광-산란 조성물.
  6. 제 3 항에 있어서, 산광 중합체의 RIcenter가 매트릭스 중합체의 굴절률과 ±0.04 내지 ±0.003 유닛이 다른 광-산란 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 산광 중합체 입자의 평균 입자 크기가 0.8 내지 0.9μm 인 광-산란 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서, 매트릭스 중합체가 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리스티렌, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리스티렌 메타크릴레이트 공중합체, 스티렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체, 올레핀-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리메틸펜텐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌과 폴리프로필렌의 공중합체, 폴리글루타르이미드, 스티렌-말레산 무수물 공중합체, 사이클릭 올레핀 공중합체 및 이들의 조합으로부터 선택되는 광-산란 조성물.
  9. 제 3 항의 광-산란 조성물을 포함하고, 두께가 0.45mm 내지 4mm 인 확산층을 갖는 평판 디스플레이.
  10. 제 3 항의 광-산란 조성물을 포함하는 산광기(lighting diffuser).
KR1020080006335A 2007-01-26 2008-01-21 광-산란 조성물 KR100957040B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150042197A (ko) * 2012-08-10 2015-04-20 롬 앤드 하스 캄파니 광 확산 중합체 조성물, 그의 제조 방법 및 그로부터 제조된 물품

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI369379B (en) * 2007-01-26 2012-08-01 Rohm & Haas Light-scattering compositions
JP2010211171A (ja) * 2008-07-08 2010-09-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 光拡散板及び面光源装置並びに液晶表示装置
US8119328B2 (en) * 2008-08-11 2012-02-21 Eastman Kodak Company Imaging element and method using differential light scattering
DE102009005273A1 (de) * 2009-01-20 2010-07-22 Mitja Jelusic Rückprojektionssystem, Verfahren zur Herstellung und Anwendung
KR20100120930A (ko) * 2009-05-07 2010-11-17 금호석유화학 주식회사 반사방지막 매립제용 공중합체, 그 제조방법 및 이를 포함하는 매립제 조성물
JP5386417B2 (ja) * 2010-01-08 2014-01-15 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物及びそれからなる成形品
EP2431424A3 (en) * 2010-09-21 2014-03-05 Rohm and Haas Company UV - reflecting compositions
EP2431422A3 (en) 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company IR - reflecting compositions
EP2431423A3 (en) * 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company Anti-reflective coatings
JP5576756B2 (ja) * 2010-09-30 2014-08-20 積水化成品工業株式会社 光拡散性樹脂組成物および光拡散性部材
US8995059B2 (en) 2011-03-30 2015-03-31 3M Innovative Properties Company Hybrid light redirecting and light diffusing constructions
JP2012255135A (ja) 2011-05-17 2012-12-27 Rohm & Haas Co 熱可塑性ポリマーを吸収したラテックス粒子
CN102702711A (zh) * 2012-03-20 2012-10-03 李澄 以聚碳酸酯为基材的边缘融合用背投硬幕
TWI588199B (zh) * 2012-05-25 2017-06-21 羅門哈斯公司 光擴散聚合物組成物、製造該光擴散聚合物組成物的方法以及由之製得的物品
TWI513996B (zh) 2012-09-18 2015-12-21 Rohm & Haas 水性塗層組成物及由其製造之抗眩光塗層
TWI487754B (zh) 2012-09-18 2015-06-11 Rohm & Haas 水性塗層組成物及由其製造之具特殊光澤槪況之塗層
CN103012966B (zh) * 2012-12-06 2016-06-01 上海日之升新技术发展有限公司 一种光扩散改性聚丙烯材料及其制备方法
US10053597B2 (en) 2013-01-18 2018-08-21 Basf Se Acrylic dispersion-based coating compositions
US20140268658A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Orafol Americas Inc. Photometrically adjustable diffuser using a variable combination of bulk and surface relief diffuser technologies, methods of making, and use thereof
TWI522412B (zh) * 2013-03-25 2016-02-21 羅門哈斯公司 包裝用途之半透明聚烯烴膜
AR095055A1 (es) * 2013-03-25 2015-09-16 Rohm & Haas Película anti-reflejo para matrices fotovoltaicas
CN104369564B (zh) 2013-08-13 2019-06-11 罗门哈斯公司 具有改善的初始对比度的热记录材料
EP3079773B1 (en) * 2013-12-09 2019-04-03 Rohm and Haas Company Skin care compositions containing light diffuser polymeric beads
TWI668112B (zh) * 2014-02-11 2019-08-11 美商陶氏全球科技有限責任公司 用於增強聚烯烴薄膜之無光澤外觀的丙烯酸系珠粒
TWI713446B (zh) * 2014-04-15 2020-12-21 美商陶氏全球科技有限責任公司 經增強的觸覺反應性及光學半透明性包裝用膜
US20170298212A1 (en) * 2014-06-19 2017-10-19 Dow Global Technologies Llc Acrylic beads for enhancing thermicity of greenhouse films
CN104650566A (zh) * 2015-01-13 2015-05-27 安徽泰诺塑胶有限公司 一种用于生产汽车灯罩的聚碳酸酯的聚碳酸酯复合材料的制备方法
WO2017030851A2 (en) 2015-08-20 2017-02-23 Oletquin Management Llc Fabric with embedded electrical components
CN105754039B (zh) * 2016-02-26 2018-07-10 王金明 一种聚4-甲基-1-戊烯光扩散剂及其制备方法
WO2020081780A1 (en) * 2018-10-18 2020-04-23 Arkema France Light diffuser for horticultural lighting
KR102426179B1 (ko) * 2019-05-02 2022-07-28 기후변화대응 에너지전환 협동조합 태양광 모듈이 광산란부를 포함하는 투명지붕부에 배열된 채광 온실

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7904249A (nl) 1978-06-20 1979-12-27 Cancer Res Nat Found Nieuwe cyclische acetalen met cytostatische, bloed- drukverlagende en pijnstillende werking, werkwijze ter bereiding van deze verbindingen alsmede farmaceu- tische preparaten die een dergelijke verbinding bevat- ten.
US5237004A (en) * 1986-11-18 1993-08-17 Rohm And Haas Company Thermoplastic and thermoset polymer compositions
FR2639266A1 (en) * 1988-11-22 1990-05-25 Commissariat Energie Atomique Process for the manufacture of a suspension of gold microparticles which have a mean diameter in the range from 0.1 to 0.5 mu m and monodisperse suspension obtained by this process
JPH04342750A (ja) * 1991-05-17 1992-11-30 Asahi Chem Ind Co Ltd 着色性の優れた耐候性、耐衝撃性重合体組成物
US5237007A (en) 1992-03-09 1993-08-17 Novacor Chemicals (International) S.A. Clear tough alloys
DE4229642A1 (de) * 1992-09-04 1994-03-10 Bayer Ag Pulvermischungen für matte Polycarbonat-Formmassen
GB9314604D0 (en) * 1993-07-14 1993-08-25 Dow Deutschland Inc Light diffuser composition
DE4443966A1 (de) * 1994-12-09 1996-06-13 Basf Ag Thermoplastische Formmassen
DE19503545A1 (de) * 1995-02-03 1996-08-08 Basf Ag Teilchenförmige Pfropfcopolymerisate und diese enthaltende thermoplastische Formmassen mit verbesserter Einfärbbarkeit
JPH10237261A (ja) * 1997-02-27 1998-09-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd 艶消しアクリルフィルムおよびアクリルフィルムを積層した艶消し成形品
JP3358520B2 (ja) * 1997-12-09 2002-12-24 住友化学工業株式会社 ポリオレフィン改質用微粒子
WO2002062890A1 (en) 2001-02-06 2002-08-15 Cyro Industries Polymethylmethacrylate compositions of enhanced optics and low temperature impact strength
JP2003347997A (ja) 2002-05-27 2003-12-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> アンテナ装置および無線通信システム
JP2004023218A (ja) 2002-06-13 2004-01-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電話装置
JP4518733B2 (ja) 2002-06-17 2010-08-04 ソニー株式会社 窒化ガリウム系半導体レーザ素子の製造方法
JP2004026612A (ja) 2002-06-28 2004-01-29 Koa Corp セラミック用表示材料
DE10229732A1 (de) 2002-07-02 2004-01-22 Basf Ag Optische Anzeigeelemente auf Basis wässriger Polymerdispersionen
DE10320318A1 (de) 2003-05-06 2004-12-02 Röhm GmbH & Co. KG Verfahren zur Herstellung von lichtstreuenden Formteilen mit hervorragenden optischen Eigenschaften
CN1591058A (zh) 2003-09-02 2005-03-09 三菱工程塑料株式会社 芳香族聚碳酸酯树脂粒料、导光板及其制造方法、面光源体
JP2005112971A (ja) 2003-10-07 2005-04-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 樹脂組成物および積層樹脂板
JP2005140863A (ja) 2003-11-04 2005-06-02 Nitto Denko Corp 粒子分散系樹脂シート、画像表示装置用基板および画像表示装置
JP2005213410A (ja) 2004-01-30 2005-08-11 Nippon Zeon Co Ltd 高屈折率樹脂組成物
JP4263113B2 (ja) 2004-01-30 2009-05-13 積水化成品工業株式会社 複合樹脂粒子とその製造方法、光拡散性樹脂組成物、光拡散性材料、および液晶ディスプレイ用バックライトユニット
JP2005220157A (ja) 2004-02-03 2005-08-18 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化膜及び硬化膜からなる機能性媒体
US7440045B2 (en) * 2004-06-11 2008-10-21 Hannstar Display Corporation Flat panel display having a brightness enhancement diffuser plate with two diffusing layers
US20060003239A1 (en) 2004-06-30 2006-01-05 Cooper Terence A Multilayer optical display device
JP2006023350A (ja) 2004-07-06 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP2006030839A (ja) * 2004-07-21 2006-02-02 Sumitomo Dow Ltd ポリカーボネート樹脂製光拡散板
JP2006084927A (ja) 2004-09-17 2006-03-30 Gantsu Kasei Kk 光拡散剤およびその製造法
US7541401B2 (en) 2004-12-31 2009-06-02 Cheil Industries Inc. Impact modifier for a polymer composition and method for preparing the same
TWI369379B (en) * 2007-01-26 2012-08-01 Rohm & Haas Light-scattering compositions

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150042197A (ko) * 2012-08-10 2015-04-20 롬 앤드 하스 캄파니 광 확산 중합체 조성물, 그의 제조 방법 및 그로부터 제조된 물품

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