KR20080070054A - 항종양제로서의 디아릴에테르 유도체 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 목적은 항종양 활성이 훨씬 개선되고 안전성이 우수한 의약을 제공하는 것이다. 본 발명에 따르면, 활성 구성성분으로서 하기 화학식 (1) 로 나타내는 화합물 또는 이의 염을 함유하는 의약이 제공된다:
[화학식 1]
(식에서, X1 은 질소 원자 또는 -CH= 기를 나타내고, R1 은 -Z-R6 기를 나타내고, 여기서, Z 는 -CO- 기, -CH(OH)- 기 등을 나타내고, R6 은 질소 원자가 1 내지 4 개인 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고, R2 는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, Y 는 -O- 기, -CO- 기, -CH(OH)- 기 또는 저급 알킬렌기를 나타내고, A 는 하기:
[화학식 2]
를 나타내고, 여기서, R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기 등을 나타내고, P 는 1 또는 2 를 나타내고, R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기 등을 나타냄).
Description
본 발명은 의약에 관한 것이다.
항암제로서 질소 머스타드의 임상적 사용이 세계에서 1940 년대에 처음으로 시작된 이래로, 수많은 항암 약물이 개발되어 왔다. 실제로, 예를 들어, 항대사물질, 예컨대 5-플루오로우라실, 항종양 항생제, 예컨대 아드리아마이신, 백금 착물, 예컨대 시스플라틴, 및 식물-유래 제암제, 예컨대 빈데신이 임상적 사용에 적용되어 왔다.
그러나, 대부분의 이러한 제암제는, 정상 세포에도 또한 세포독성이 있으므로, 소화 장애, 골수억제 및 탈모와 같은 두드러진 부작용이 있다. 부작용으로 인해, 이들의 적용 범위가 제한된다. 또한, 치료 효과 그 자체가 대부분의 경우 부분적이고 짧다.
이를 대신할 새로운 제암제의 개발이 이뤄졌지만, 만족스러운 결과는 아직 수득되지 않았다. 특허 문헌 1 및 2 에는 특정 종류의 화합물이 섬유화 억제 작용을 갖는다는 것이 기재되어 있다. 그러나, 상기 화합물이 항종양 작용을 갖는지는 알려지지 않았다.
[특허 문헌 1] WO/2006/014012
[특허 문헌 2] JP-A-2004-35475
발명의 요약
그러므로 본 발명의 목적은 종양에 대한 치료 약물, 특히, 악성 종양에 대한 치료 약물과 같은 뛰어난 의약을 제공하는 것이다.
본 출원인은 상기 언급된 목적을 달성하기 위한 목적으로 집중적으로 연구를 수행하였다. 그 결과, 하기 화학식 (1) 로 표시되는 화합물 및 그의 염이 뛰어난 항종양 효과를 갖는다는 것을 발견하였다. 본 발명은 상기 발견에 기초하여 달성된다.
더욱 구체적으로는, 본 발명은 제 1 항 내지 제 58 항에서 제시되는 의약을 제공한다.
제 1 항: 하기 화학식 (1) 로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 1]
{식 중 X1 은 질소 원자 또는 기 -CH= 를 나타내고,
R1 은 기 -Z-R6 을 나타내고,
Z 는 기 -N(R8)-B-, 기 -B-N(R8)-, 기 -B0-O-, 기
[화학식 2]
기 -CO-, 기-CH(OH)-, 기 -N(R9a)-CO-N-(R9b)-, 기 -N=CH-, 기 -N(R10a)-SO2-(B22a)e-, 저급 알케닐렌기, 기 -NHCO-B1-, 기 -NHCO-B2-(W)u-, 기 -B0-O-B19a-, 기
[화학식 3]
, 기
[화학식 4]
, 기 -SO2-N(R10b)-, 기 -S-, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기, 기 -N(R8d)- 또는 기 -CO-NH-B18a- 를 나타내고,
R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,
B 는 기 -CO- 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
e 는 0 또는 1 을 나타내고,
B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
k 는 2 또는 3 을 나타내고,
c 는 0 또는 1 을 나타내고,
d' 는 0 또는 1 을 나타내고,
R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
W 는 산소 원자, 기 -NH-, 또는 황 원자를 나타내고,
u 는 0 또는 1 을 나타내고,
R6 은 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 가질 수 있는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (이것은 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있으며, 이는 옥소기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬술포닐기; 페닐 고리 상에 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기, 피롤릴기, 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택됨), 아다만틸기, 나프틸기 (이것은 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 나프탈렌 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 벤조일기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기로서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 할로겐 원자 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기 또는 기
[화학식 5]
를 나타내고,
R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기, 아미노술포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고 (이것은 헤테로시클릭 고리 상에 옥소기를 가질 수 있음),
m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고 (m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있음),
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
Y 는 기 -O-, 기 -N(R5)-, 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,
n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,
A 는 기
[화학식 6]
또는 기
[화학식 7]
를 나타내고,
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 기 -CONR11R12, 또는 시아노기를 나타내고,
여기서 R11 및 R12 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, R11 및 R12 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,
R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 기
[화학식 8]
, 기
[화학식 9]
또는 기 -(T)1-N(R14)R15 를 나타내고,
R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,
T 는 저급 알킬렌기, 기 -N(R17)-B3-CO-, 기 -B19-N(R18)-CO-, 기 -B4-CO-, 기 -Q-B5-CO-, 기 -B6-N(R19)-B7-CO-, 기 -CO-B8-, 기 -CH(OH)-B9-, 기 -CO-B10-CO-, 기 -CH(OH)-B11-CO-, 기 -CO-, 기 -SO2-, 또는 기 -B23a-CO-CO- 를 나타내고,
여기서 R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬술포닐기를 나타내고,
B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B4 는 저급 알케닐렌기 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
Q 는 산소 원자 또는 기 -S(O)n- (여기서 n 은 상기 기재된 바와 동일함) 을 나타내고,
B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,
B7 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B8 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B10 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B11 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타내고,
R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,
R15 는 (2) 히드록실기 치환 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알킬기, (11) 카르복시 치환 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들) 로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기
[화학식 10]
, (26) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기
[화학식 11]
(27) 기 -CO-B20-N(R36)R37, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에 치환기(들) 로서 페닐 저급 알킬기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,
R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,
d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R36 및 R37 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가 치환기(들) 로서 존재할 수 있고,
R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는 기
[화학식 12]
를 형성할 수 있고,
여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 (28) 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는, 페닐 치환 저급 알킬기, (29) 카르바모일기, (30) 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 피리딘 고리 상에 치환기(들) 로서 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤족사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에, 옥소기 및 하기 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기
[화학식 13]
(식 중 Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄),
(41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) 기 -(B12CO)t-N(R20)R21, (50) 기 -(CO)o-B13-N(R22)R23, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐술포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) 기 -(O-B15)s-CO-N(R26)R27, (85) 기 -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30, (86) 기 -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33, (87) 벤족사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
R20 및 R21 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고; R20 및 R21 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),
o 는 0 또는 1 을 나타내고,
B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R22 및 R23 은 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, R22 및 R23 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),
B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
R26 및 R27 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 존재할 수 있음),
R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R29 및 R30 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R32 및 R33 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨)},
단, 상기 언급한 화합물 또는 그의 염은 하기 필요조건 (i) 내지 (v) 를 만족시킨다:
(i) X1 이 기 -CH= 를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타내고;
(ii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 기 (24) 를 나타내고;
(iii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 (28) 의 기가 치환기(들) 로서 존재하고;
(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내는 경우, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 기 (5), (7), (19), 또는 (20) 이 아니며;
(v) R6 이 시클로알킬 고리 상에, 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R4 는 기 -(T)l-N(R14)R15 (여기서 T 및 l 은 상기 기재된 바와 동일하고, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; R14 및 R15 는 하기 기를 형성함
[화학식 14]
제 2 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-1) 내지 (1-7) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 15]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 3 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-8) 내지 (1-14) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 16]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 4 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-15) 내지 (1-21) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 17]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 5 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-22) 내지 (1-28) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 18]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 6 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-29) 내지 (1-35) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 19]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 7 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-36) 내지 (1-42) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 20]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 8 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-43) 내지 (1-49) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 21]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 9 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-50) 내지 (1-56) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 22]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 10 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-57) 내지 (1-63) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 23]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 11 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-64) 내지 (1-70) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 24]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타내고, Z1 은 저급 알케닐렌기를 나타냄).
제 12 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-71) 내지 (1-77) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 25]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 13 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-78) 내지 (1-84) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 26]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 14 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-85) 내지 (1-91) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 27]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 15 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-92) 내지 (1-98) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 28]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 16 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-99) 내지 (1-105) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 29]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 17 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-106) 내지 (1-112) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 30]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 18 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-113) 내지 (1-119) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 31]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 19 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-120) 내지 (1-126) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 32]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타내고, Z2 는 저급 알키닐렌기를 나타냄).
제 20 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-127) 내지 (1-133) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 33]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄).
제 21 항: 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-134) 내지 (1-140) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:
[화학식 34]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
Z3 은 저급 알킬렌기 또는 기 -N(R8d)- 를 나타냄).
제 22 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 기 -O- 인 항종양제.
제 23 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 기 -N(R5)- 인 항종양제.
제 24 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 인 항종양제.
제 25 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, A 가 하기 기인 항종양제:
[화학식 35]
제 26 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, A 가 하기 기인 항종양제:
[화학식 36]
제 27 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 하기 기
[화학식 37]
또는 하기 기
[화학식 38]
를 나타내는 항종양제.
제 28 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 0 인 항종양제.
제 29 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 인 항종양제.
제 30 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -N(R17)-B3-CO- 인 항종양제.
제 31 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B19-N(R18)-CO- 인 항종양제.
제 32 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B4-CO- 인 항종양제.
제 33 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -Q-B5-CO- 인 항종양제.
제 34 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B6-N(R19)-B7- 인 항종양제.
제 35 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CO-B8- 인 항종양제.
제 36 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CH(OH)-B9- 인 항종양제.
제 37 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CO-B10-CO- 인 항종양제.
제 38 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CH(OH)-B11-CO- 인 항종양제.
제 39 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CO- 인 항종양제.
제 40 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -SO2- 인 항종양제.
제 41 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B23a-CO-CO- 인 항종양제.
제 42 항: 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 저급 알킬렌기인 항종양제.
제 43 항: 제 1 항에 있어서, 화학식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하며, Y 가 기 -O- 또는 기 -N(R5)- 이고, A 가 기
[화학식 39-1]
이고,
R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 인 항종양제.
제 44 항: 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 기 -N(R17)-B3-CO- 인 항종양제.
제 45 항: 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 기 -B4-CO- 인 항종양제.
제 46 항: 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 기 -CO- 인 항종양제.
제 47 항: 제 43 항에 있어서, l 이 0 인 항종양제.
제 48 항: 제 1 항에 있어서, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠술폰아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페라진-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-({4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페닐}메틸아미노)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, 1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)-1-에틸우레아, N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸로벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질루피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-{6-[(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-(6-{4-[(2-{4-[4-(4-플루오로벤조일)페닐]피페라진-1-일}-2-옥소에틸)메틸아미노]-2-메톡시페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, 2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-N-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소아세타미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-2-플루오로-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 및 4-(3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소헥사히드로피리미딘-1-일)벤조산 에틸 에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제.
제 49 항: 제 1 항 내지 제 48 항 중 어느 한 항에 있어서, 항종양제의 표적이 악성 종양인 항종양제.
제 50 항: 제 49 항에 있어서, 악성 종양이 고형 종양인 항종양제.
제 51 항: 제 49 항에 있어서, 악성 종양이 혈액암인 항종양제.
제 52 항: 제 49 항에 있어서, 악성 종양이 림프종, 백혈병, 또는 골수종인 항종양제.
제 53 항: 하기 화학식 (1) 로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 투여하는 것을 포함하는 종양의 치료 또는 예방 방법:
[화학식 39-2]
{식 중 X1 은 질소 원자 또는 기 -CH= 를 나타내고,
R1 은 기 -Z-R6 을 나타내고,
Z 는 기 -N(R8)-B-, 기 -B-N(R8)-, 기 -B0-O-, 기
[화학식 39-3]
기 -CO-, 기-CH(OH)-, 기 -N(R9a)-CO-N-(R9b)-, 기 -N=CH-, 기 -N(R10a)-SO2-(B22a)e-, 저급 알케닐렌기, 기 -NHCO-B1-, 기 -NHCO-B2-(W)u-, 기 -BO-O-B19a-, 기
[화학식 39-4]
, 기
[화학식 39-5]
, 기 -SO2-N(R10b)-, 기 -S-, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기, 기 -N(R8d)- 또는 기 -CO-NH-B18a-를 나타내고,
R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,
B 는 기 -CO- 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
e 는 0 또는 1 을 나타내고,
B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
k 는 2 또는 3 을 나타내고,
c 는 0 또는 1 을 나타내고,
d' 는 0 또는 1 을 나타내고,
R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
W 는 산소 원자, 기 -NH-, 또는 황 원자를 나타내고,
u 는 0 또는 1 을 나타내고,
R6 은 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 갖는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (이것은 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있으며, 이는 옥소기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬술포닐기; 페닐 고리 상에 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기, 피롤릴기, 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택됨), 아다만틸기, 나프틸기 (이것은 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 나프탈렌 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 벤조일기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기로서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 할로겐 원자 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기 또는 기
[화학식 39-6]
를 나타내고,
R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기, 아미노술포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고 (이것은 헤테로시클릭 고리 상에 옥소기를 가질 수 있음),
m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고 (m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있음),
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
Y 는 기 -O-, 기 -N(R5)-, 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,
n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,
A 는 기
[화학식 39-7]
또는 기
[화학식 39-8]
를 나타내고,
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 기 -CONR11R12, 또는 시아노기를 나타내고,
여기서 R11 및 R12 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, R11 및 R12 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,
R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 기
[화학식 39-9]
, 기
[화학식 39-10]
또는 기 -(T)1-N(R14)R15 를 나타내고,
R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,
T 는 저급 알킬렌기, 기 -N(R17)-B3-CO-, 기 -B19-N(R18)-CO-, 기 -B4-CO-, 기 -Q-B5-CO-, 기 -B6-N(R19)-B7-CO-, 기 -CO-B8-, 기 -CH(OH)-B9-, 기 -CO-B10-CO-, 기 -CH(OH)-B11-CO-, 기 -CO-, 기 -SO2-, 또는 기 -B23a-CO-CO- 를 나타내고,
여기서 R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬술포닐기를 나타내고,
B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B4 는 저급 알케닐렌기 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
Q 는 산소 원자 또는 기 -S(O)n- (여기서 n 은 상기 기재된 바와 동일함) 을 나타내고,
B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,
B7 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B8 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B10 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B11 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타내고,
R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,
R15 는 (2) 히드록실기 치환 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알킬기, (11) 카르복시 치환 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들) 로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기
[화학식 39-11]
, (26) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기
[화학식 39-12]
(27) 기 -CO-B20-N(R36)R37, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에 치환기(들) 로서 페닐 저급 알킬기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,
R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,
d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R36 및 R37 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가 치환기(들) 로서 존재할 수 있고,
R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는 기
[화학식 39-13]
를 형성할 수 있고,
여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 (28) 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는, 페닐 치환 저급 알킬기, (29) 카르바모일기, (30) 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 피리딘 고리 상에 치환기(들) 로서 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤족사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에, 옥소기 및 하기 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기
[화학식 39-14]
(식 중 Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄),
(41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) 기 -(B12CO)t-N(R20)R21, (50) 기 -(CO)o-B13-N(R22)R23, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐술포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) 기 -(O-B15)s-CO-N(R26)R27, (85) 기 -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30, (86) 기 -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33, (87) 벤족사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
R20 및 R21 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고; R20 및 R21 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),
o 는 0 또는 1 을 나타내고,
B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R22 및 R23 은 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, R22 및 R23 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),
B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
R26 및 R27 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 존재할 수 있음),
R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R29 및 R30 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R32 및 R33 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨)},
단, 상기 언급한 화합물 또는 그의 염은 하기 필요조건 (i) 내지 (v) 를 만족시킨다:
(i) X1 이 기 -CH= 를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타내고;
(ii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 기 (24) 를 나타내고;
(iii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 (28) 의 기가 치환기(들) 로서 존재하고;
(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내는 경우, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 기 (5), (7), (19), 또는 (20) 이 아니며;
(v) R6 이 시클로알킬 고리 상에, 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R4 는 기 -(T)l-N(R14)R15 (여기서 T 및 l 은 상기 기재된 바와 동일하고, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; R14 및 R15 는 하기 기를 형성함
[화학식 39-15]
제 54 항: 하기 화학식 (1) 로 나타내는 화합물 또는 그의 염의 항종양제의 제조를 위한 용도:
[화학식 39-16]
{식 중 X1 은 질소 원자 또는 기 -CH= 를 나타내고,
R1 은 기 -Z-R6 을 나타내고,
Z 는 기 -N(R8)-B-, 기 -B-N(R8)-, 기 -B0-O-, 기
[화학식 39-17]
기 -CO-, 기-CH(OH)-, 기 -N(R9a)-CO-N-(R9b)-, 기 -N=CH-, 기 -N(R10a)-SO2-(B22a)e-, 저급 알케닐렌기, 기 -NHCO-B1-, 기 -NHCO-B2-(W)u-, 기 -B0-O-B19a-, 기
[화학식 39-18]
, 기
[화학식 39-19]
, 기 -SO2-N(R10b)-, 기 -S-, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기, 기 -N(R8d)- 또는 기 -CO-NH-B18a- 를 나타내고,
R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,
B 는 기 -CO- 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
e 는 0 또는 1 을 나타내고,
B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
k 는 2 또는 3 을 나타내고,
c 는 0 또는 1 을 나타내고,
d' 는 0 또는 1 을 나타내고,
R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
W 는 산소 원자, 기 -NH-, 또는 황 원자를 나타내고,
u 는 0 또는 1 을 나타내고,
R6 은 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 가질 수 있는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (이것은 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있으며, 이는 옥소기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬술포닐기; 페닐 고리 상에 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기, 피롤릴기, 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택됨), 아다만틸기, 나프틸기 (이것은 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 나프탈렌 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 벤조일기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기로서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 할로겐 원자 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기 또는 기
[화학식 39-20]
를 나타내고,
R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기, 아미노술포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고 (이것은 헤테로시클릭 고리 상에 옥소기를 가질 수 있음),
m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고 (m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있음),
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
Y 는 기 -O-, 기 -N(R5)-, 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,
n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,
A 는 기
[화학식 39-21]
또는 기
[화학식 39-22]
를 나타내고,
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 기 -CONR11R12, 또는 시아노기를 나타내고,
여기서 R11 및 R12 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, R11 및 R12 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,
R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 기
[화학식 39-23]
, 기
[화학식 39-24]
또는 기 -(T)1-N(R14)R15 를 나타내고,
R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,
T 는 저급 알킬렌기, 기 -N(R17)-B3-CO-, 기 -B19-N(R18)-CO-, 기 -B4-CO-, 기 -Q-B5-CO-, 기 -B6-N(R19)-B7-CO-, 기 -CO-B8-, 기 -CH(OH)-B9-, 기 -CO-B10-CO-, 기 -CH(OH)-B11-CO-, 기 -CO-, 기 -SO2-, 또는 기 -B23a-CO-CO- 를 나타내고,
여기서 R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬술포닐기를 나타내고,
B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B4 는 저급 알케닐렌기 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
Q 는 산소 원자 또는 기 -S(O)n- (여기서 n 은 상기 기재된 바와 동일함) 을 나타내고,
B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,
B7 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B8 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B10 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B11 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타내고,
R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,
R15 는 (2) 히드록실기 치환 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알킬기, (11) 카르복시 치환 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들) 로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기
[화학식 39-25]
, (26) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기
[화학식 39-26]
(27) 기 -CO-B20-N(R36)R37, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에 치환기(들) 로서 페닐 저급 알킬기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,
R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,
d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R36 및 R37 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가 치환기(들) 로서 존재할 수 있고,
R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는 기
[화학식 39-27]
를 형성할 수 있고,
여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 (28) 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는, 페닐 치환 저급 알킬기, (29) 카르바모일기, (30) 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 피리딘 고리 상에 치환기(들) 로서 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤족사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에, 옥소기 및 하기 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기
[화학식 39-28]
(식 중 Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄),
(41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) 기 -(B12CO)t-N(R20)R21, (50) 기 -(CO)o-B13-N(R22)R23, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐술포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) 기 -(O-B15)s-CO-N(R26)R27, (85) 기 -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30, (86) 기 -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33, (87) 벤족사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
R20 및 R21 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고; R20 및 R21 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),
o 는 0 또는 1 을 나타내고,
B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R22 및 R23 은 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, R22 및 R23 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),
B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
R26 및 R27 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 존재할 수 있음),
R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R29 및 R30 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R32 및 R33 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨)},
단, 상기 언급한 화합물 또는 그의 염은 하기 필요조건 (i) 내지 (v) 를 만족시킨다:
(i) X1 이 기 -CH= 를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타내고;
(ii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 기 (24) 를 나타내고;
(iii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 (28) 의 기가 치환기(들) 로서 존재하고;
(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내는 경우, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 기 (5), (7), (19), 또는 (20) 이 아니며;
(v) R6 이 시클로알킬 고리 상에, 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R4 는 기 -(T)l-N(R14)R15 (여기서 T 및 l 은 상기 기재된 바와 동일하고, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; R14 및 R15 는 하기 기를 형성함
[화학식 39-29]
제 55 항: 제 54 항에 있어서, 항종양제의 표적이 악성 종양인 용도.
제 56 항: 제 55 항에 있어서, 악성 종양이 고형 종양인 용도.
제 57 항: 제 55 항에 있어서, 악성 종양이 혈액암인 용도.
제 58 항: 제 55 항에 있어서, 악성 종양이 림프종, 백혈병 또는 골수종인 용도.
제 59 항: 제 44 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자를 통해 결합하여, 페닐 고리 상에, 치환기(들)로서, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 기(들)로 치환될 수 있는 페닐 치환 저급 알킬기로 헤테로시클릭 고리 상에 치환된 6-원 포화 헤테로시클릭 기를 형성하는 항종양제.
제 60 항: 제 59 항에 있어서, 포화 헤테로시클릭기가 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기로 치환된 페닐 치환 저급 알킬기로 치환된 피페라지닐기인 항종양제.
제 61 항: 제 59 항 또는 제 60 항에 있어서, X1 이 질소 원자이고, Y 가 산소 원자인 항종양제.
화학식 (1) 에서 나타내는 개별적인 기의 구체적인 예는 하기와 같다.
저급 알케닐렌기의 예는 2 내지 6 의 탄소 원자 및 1 내지 3 의 이중 결합을 같은 선형 또는 분지형 알케닐렌기, 예컨대, 비닐렌, 1-프로페닐렌, 1-메틸-1-프로페닐렌, 2-메틸-1-프로페닐렌, 2-프로페닐렌, 2-부테닐렌, 1-부테닐렌, 3-부테닐렌, 2-펜테닐렌, 1-펜테닐렌, 3-펜테닐렌, 4-펜테닐렌, 1,3-부타디에닐렌, 1,3-펜타디에닐렌, 2-펜텐-4-이닐렌, 2-헥세닐렌, 1-헥세닐렌, 5-헥세닐렌, 3-헥세닐렌, 4-헥세닐렌, 3,3-디메틸-1-프로페닐렌, 2-에틸-1-프로페닐렌, 1,3,5-헥사트리에닐렌, 1,3-헥사디에닐렌 및 1,4-헥사디에닐렌기를 포함한다.
저급 알키닐렌기의 예는 2 내지 6 의 탄소 원자 및 1 내지 3 의 삼중 결합을 갖는 선형 또는 분지형 알키닐렌기, 예컨대, 에티닐렌, 1-프로피닐렌, 1-메틸-1-프로피닐렌, 2-메틸-1-프로피닐렌, 2-프로피닐렌, 2-부티닐렌, 1-부티닐렌, 3-부티닐렌, 2-펜티닐렌, 1-펜티닐렌, 3-펜티닐렌, 4-펜티닐렌, 2-펜틴-4-이닐렌, 2-헥시닐렌, 1-헥시닐렌, 5-헥시닐렌, 3-헥시닐렌, 4-헥시닐렌, 3,3-디에틸-1-프로피닐렌 및 2-에틸-1-프로피닐렌기를 포함한다.
저급 알콕시기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기, 예컨대, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, tert-부톡시, 펜틸옥시 및 헥실옥시기를 포함한다.
저급 알킬기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 이소펜틸, 펜틸 및 헥실기를 포함한다.
치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기의 예는 상기 기재된 저급 알킬기 외에, 치환기로서 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대, 메톡시메틸, 1-에톡시에틸, 2-메톡시에틸, 2-프로폭시에틸, 3-이소프로폭시프로필, 4-부톡시부틸, 5-펜틸옥시펜틸, 6-헥실옥시헥실, 1,1-디메틸-2-메톡시에틸, 2-메틸-3-에톡시프로필 및 3-메톡시프로필기를 포함한다.
저급 알카노일기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기, 예컨대, 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 이소부티릴, 펜타노일, tert-부틸카르보닐 및 헥사노일기를 포함한다.
페닐 저급 알킬기의 예는 그 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 예컨대, 벤질, 2-페닐에틸, 1-페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, 5-페닐펜틸, 6-페닐헥실, 1,1-디메틸-2-페닐에틸 및 2-메틸-3-페닐프로필기를 포함한다.
저급 알킬렌기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌기, 예컨대, 메틸렌, 에틸렌, 트리메틸렌, 2-메틸트리메틸렌, 2,2-디메틸에틸렌, 2,2-디메틸트리메틸렌, 1-메틸트리메틸렌, 메틸메틸렌, 에틸메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌 및 헥사메틸렌기를 포함한다.
치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기의 예는 2 내지 6 의 탄소 원자 및 1 내지 3 의 이중 결합을 갖고, 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는, 선형 또는 분지형 알케닐렌기, 예컨대, 비닐렌, 1-프로페닐렌, 1-메틸-1-프로페닐렌, 2-메틸-1-프로페닐렌, 2-프로페닐렌, 2-부테닐렌, 1-부테닐렌, 3-부테닐렌, 2-펜테닐렌, 1-펜테닐렌, 3-펜테닐렌, 4-펜테닐렌, 1,3-부타디에닐렌, 1,3-펜타디에닐렌, 2-펜텐-4-이닐렌, 2-헥세닐렌, 1-헥세닐렌, 5-헥세닐렌, 3-헥세닐렌, 4-헥세닐렌, 3,3-디메틸-1-프로페닐렌, 2-에틸-1-프로페닐렌, 1,3,5-헥사트리에닐렌, 1,3-헥사디에닐렌, 1,4-헥사디에닐렌, 1-페닐비닐렌, 3-페닐-1-프로페닐렌, 3-페닐-1-메틸-1-프로페닐렌, 3-페닐-2-메틸-1-프로페닐렌, 1-페닐-2-프로페닐렌, 1-페닐-2-부테닐렌, 3-페닐-1-부테닐렌, 1-페닐-3-부테닐렌, 5-페닐-2-펜테닐렌, 4-페닐-1-펜테닐렌, 2-페닐-3-펜테닐렌, 1-페닐-4-펜테닐렌, 1-페닐-1,3-부타디에닐렌, 1-페닐-1,3-펜타디에닐렌, 1-페닐-2-펜텐-4-이닐렌, 1-페닐-2-헥세닐렌, 3-페닐-1-헥세닐렌, 4-페닐-5-헥세닐렌, 6-페닐-3-헥세닐렌, 5-페닐-4-헥세닐렌, 1-페닐-3,3-디메틸-1-프로페닐렌, 1-페닐-2-에틸-1-프로페닐렌, 6-페닐-1,3,5-헥사트리에닐렌, 1-페닐-1,3-헥사디에닐렌 및 2-페닐-1,4-헥사디에닐렌기를 포함한다.
저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기의 예는, 상기 기재된 저급 알킬렌기 외에, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 의 기로 치환될 수 있는, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌기, 예컨대, 메톡시메틸렌, 2-페닐에틸렌, 3-에톡시트리메틸렌, 1-프로폭시-2-메틸트리메틸렌, 1-페닐-2,2-디메틸에틸렌, 3-페닐-2,2-디메틸트리메틸렌, 2-부톡시-1-메틸트리메틸렌, 페닐메틸메틸렌, 2-펜틸옥시에틸메틸렌, 4-페닐-2-헥실옥시테트라메틸렌, 3-페닐펜타메틸렌, 5-페닐헥사메틸렌, 에톡시메틸렌, 1-페닐에틸렌, 3-페닐트리메틸렌 및 2-페닐-1-메톡시에틸렌기를 포함한다.
1 내지 4 의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 갖는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기의 예는 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 피리딜, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,5-트리아졸릴, 티아졸리디닐, 1,2,3,4-테트라졸릴, 티에닐, 퀴놀릴, 1,4-디히드로퀴놀릴, 벤조티아졸릴, 피라질, 피리미딜, 피리다질, 2H-피롤릴, 피롤릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라히드로피라닐, 테트라히드로푸릴, 푸라자닐, 카르보스티릴, 3,4-디히드로카르보스티릴, 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴, 인돌릴, 이소인돌릴, 인돌리닐, 벤조이미다졸릴, 벤조옥사졸릴, 이미다졸리디닐, 이소퀴놀릴, 퀴나졸리디닐, 퀴녹살리닐, 신놀리닐, 프탈라지닐, 카르바조일, 아크리디닐, 크로마닐, 이소인돌리닐, 이소크로마닐, 피라졸릴, 이미다졸릴, 피라졸리디닐, 페노티아지닐, 벤조푸릴, 2,3-디히드로벤조[b]푸릴, 벤조티에닐, 페녹사티이닐, 페녹사지닐, 4H-크로메닐, 1H-인다졸릴, 페나지닐, 칸테닐, 티안트레닐, 2-이미다졸리닐, 2-피롤리닐, 푸릴, 옥사졸릴, 이소옥사졸릴, 이소옥사졸리디닐, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라닐, 2-티아졸리닐, 2-피라졸리닐, 퀴누클리디닐, 1,4-벤조옥사디닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤조옥사디닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤조티아지닐, 1,4-벤조티아지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴녹살리닐, 1,3-디티아-2,4-디히드로나프탈레닐, 페날트리디닐, 1,4-디티아나프탈레닐, 디벤즈[b,e]아제핀 및 6,11-디히드로-5H-디벤즈[b,e]아제핀기를 포함한다.
할로겐 원자의 예는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 포함한다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기의 예는 치환기로서 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기, 예컨대, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, tert-부톡시, 펜틸옥시, 헥실옥시, 트리플루오로메톡시, 트리클로로메톡시, 클로로메톡시, 브로모메톡시, 플루오로메톡시, 요오도메톡시, 디플루오로메톡시, 디브로모메톡시, 2-클로로에톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, 3-클로로프로폭시, 2,3-디클로로프로폭시, 4,4,4-트리클로로부톡시, 4-플루오로부톡시, 5-클로로펜틸옥시, 3-클로로-2-메틸프로폭시, 6-브로모헥실옥시 및 5,6-디클로로헥실옥시기를 포함한다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기의 예는 상기 기재된 저급 알킬기 외에, 치환기로서 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대, 트리플루오로메틸, 트리클로로메틸, 클로로메틸, 브로모메틸, 플루오로메틸, 요오도메틸, 디플루오로메틸, 디브로모메틸, 디클로로메틸, 2-클로로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 4,4,4-트리클로로부틸, 4-플루오로부틸, 5-클로로펜틸, 3-클로로-2-메틸프로필, 5-브로모헥실 및 5,6-디브로모헥실기를 포함한다.
저급 알킬술포닐기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬술포닐기, 예컨대, 메틸술포닐, 에틸술포닐, 프로필술포닐, 이소프로필술포닐, 부틸술포닐, tert-부틸술포닐, 펜틸술포닐 및 헥실술포닐기를 포함한다.
페닐 고리 상에, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기의 예는 페닐 고리 상에, 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는, 1 내지 3 의 선형 또는 분지형 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기, 예컨대, 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모메틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐 및 3-에틸-4-트리클로로메틸기를 포함한다.
저급 알킬티오기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬티오기, 예컨대, 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 이소프로필티오, 부틸티오, tert-부틸티오, 펜틸티오 및 헥실티오기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 가질 수 있는 아미노기의 예는 치환기로서, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 의 기를 가질 수 있는 아미노기, 예컨대, 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, tert-부틸아미노, 펜틸아미노, 헥실아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 디펜틸아미노, 디헥실아미노, N-메틸-N-에틸아미노, N-에틸-N-프로필아미노, N-메틸-N-부틸아미노, N-메틸-N-헥실아미노, N-아세틸아미노, N-포르밀아미노, N-프로피오닐아미노, N-부티릴아미노, N-이소부티릴아미노, N-펜타노일아미노, N-tert-부틸카르보닐아미노, N-헥사노일아미노, 디아세틸아미노, N-아세틸-N-메틸아미노 및 N-아세틸-N-에틸아미노기를 포함한다.
저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 의 치환기로 나프탈렌 고리 상에 치환될 수 있는 나프틸기의 예는, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 의 치환기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자 및 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 의 치환기를 나프탈렌 고리 상에 가질 수 있는 나프틸기, 예컨대, (1- 또는 2-)나프틸, 1-메틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 2-에틸-(1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 3-n-프로필-(1-, 2-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 4-n-부틸-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 4-메틸-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 5-n-펜틸-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 6-n-헥실-(1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 7- 또는 8-)나프틸, 1,7-디메틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 8-)나프틸, 1,2,8-트리메틸-(3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-)나프틸, 1-디메틸아미노-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 2-디메틸아미노-(1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 3-메틸아미노-(1-, 2-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 5-아미노-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 5-디메틸아미노-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 4-(N-메틸-N-에틸아미노)-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 1-메틸-2-디메틸아미노-(3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸, 1-클로로-(2-, 3-, 4-,
5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸 및 1-아세틸아미노-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-)나프틸기를 포함한다.
치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기의 예는, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 상기 기재된 저급 알킬기 외에, 치환기로서 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는, 1 내지 8 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대, 헵틸, 1-에틸펜틸, 옥틸, 7-메톡시헵틸, 1-에톡시헥틸, 2-프로폭실-1-에틸펜틸, 3-이소프로폭시옥틸, 7-부톡시헵틸, 8-펜틸옥시옥틸 및 5-헥실옥시-1-에틸펜틸기를 포함한다.
저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기의 예는, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 1 또는 2 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는 아미노기로 치환된, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대, 아미노메틸, 2-아미노에틸, 1-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 1-에틸아미노에틸, 2-프로필아미노에틸, 3-이소프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 5-펜틸아미노펜틸, 6-헥실아미노헥실, 디메틸아미노메틸, 2-디에틸아미노에틸, 2-디이소프로필아미노에틸, (N-에틸-N-프로필아미노)메틸 및 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸기를 포함한다.
시클로알킬기의 예는 3 내지 16 의 탄소 원자를 갖는 시클로알킬기, 예컨대, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로노닐, 시클로데실, 시클로운데실, 시클로도데실, 시클로트리데실, 시클로테트라데실, 시클로펜타데실 및 시클로헥사데실기를 포함한다.
치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 시클로알킬 고리 상에 치환될 수 있는 시클로알킬기의 예는, 상기 기재된 시클로알킬기 외에, 치환기로서, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 1 또는 2 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는 아미노기로 치환된, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 의 기로 시클로알킬 고리 상에 치환될 수 있는, 3 내지 16 의 탄소 원자를 갖는 시클로알킬기, 예컨대, 4-디메틸아미노메틸시클로헥실, 2-(아미노메틸)시클로프로필, 3-(2-아미노메틸)시클로부틸, 2-(1-아미노에틸)시클로펜틸, 3-(3-아미노프로필)시클로헥실, 3-(4-아미노부틸)시클로헵틸, 4-(5-아미노펜틸)시클로옥틸, 4-(6-아미노헥실)시클로헥실, 2-(1,1-디메틸-2-아미노에틸)시클로헵틸, 3-(2-메틸-3-아미노프로필)시클로펜틸, 3-(메틸아미노메틸)시클로헥실, 2-(1-에틸아미노에틸)시클로옥틸, 2-(2-프로필아미노에틸)시클로헥실, 3-(3-이소프로필아미노프로필)시클로펜틸, 4-(4-부틸아미노부틸)시클로헵틸, 2-(5-펜틸아미노펜틸)시클로헥실, 2-(6-헥실아미노헥실)시클로펜틸, 3-(디메틸아미노메틸)시클로헥실, 3-[(N-에틸-N-프로필아미노)메틸]시클로헵틸, 4-[2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸]시클로옥틸, 4-디메틸아미노메틸시클로노닐, 2-(아미노메틸)시클로데실, 3-(2-아미노메틸)시클로운데실, 2-(1-아미노에틸)시클로도데실, 3-(3-아미노프로필)시클로트리데실, 3-(4-아미노부틸)시클로테트라데실, 4-(5-아미노펜틸)시클로펜타데실, 4-(6-아미노헥실)시클로헥사데실, 2-(1,1-디메틸-2-아미노에틸)시클로노닐, 3-(2-메틸-3-아미노프로필)시클로데실, 3-(메틸아미노메틸)시클로운데실, 2-(1-에틸아미노에틸)시클로도데실, 2-(2-프로필아미노에틸)시클로트리데실, 3-(3-이소프로필아미노프로필)시클로테트라데실, 4-(4-부틸아미노부틸)시클로펜타데실, 2-(5-펜틸아미노펜틸)시클로헥사데실, 2-(6-헥실아미노헥실)시클로노닐, 3-(디메틸아미노메틸)시클로도데실, 3-[(N-에틸-N-프로필아미노)메틸]시클로데실, 4-[2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸]시클로헥사데실, 2,2-디메틸시클로프로필 및 2-트리플루오로메틸시클로프로필기를 포함한다.
저급 알케닐기의 예는 2 내지 6 의 탄소 원자를 갖고 1 내지 3 의 이중 결합을 갖는 선형 또는 분지형 알케닐기, 예컨대, 비닐, 1-프로페닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 2-프로페닐, 2-부테닐, 1-부테닐, 3-부테닐, 2-펜테닐, 1-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 1,3-부타디에닐, 1,3-펜타디에닐, 2-펜텐-4-이닐, 2-헥세닐, 1-헥세닐, 5-헥세닐, 3-헥세닐, 4-헥세닐, 3,3-디메틸-1-프로페닐, 2-에틸-1-프로페닐, 1,3,5-헥사트리에닐, 1,3-헥사디에닐 및 1,4-헥사디에닐기를 포함한다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기의 예는, 상기 기재된 저급 알케닐기 외에, 치환기로서 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있고 1 내지 3 의 이중 결합을 갖는 2 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알케닐기, 예컨대, 3,3,3-트리플루오로-1-프로페닐, 2-브로모비닐, 3-클로로-1-프로페닐, 3-요오도-1-메틸-1-프로페닐, 3-플루오로-2-메틸-1-프로페닐, 2-부테닐, 4,4,3-트리클로로-1-부테닐, 4,4-디플루오로-3-부테닐, 5-플루오로-2-펜테닐, 5,5,3-트리브로모-1-펜테닐, 5-클로로-3-펜테닐, 5,5,5-트리플루오로-4-펜테닐, 4-클로로-1,3-부타디에닐, 5-플루오로-1,3-펜타디에닐, 5-브로모-2-펜텐-4-이닐, 6-플루오로-2-헥세닐, 6,6,5-트리플루오로-1-헥세닐, 6-클로로-5-헥세닐, 5-브로모-3-헥세닐, 6-클로로-4-헥세닐, 3,3-디메틸-2-클로로-1-프로페닐, 3-플루오로-2-에틸-1-프로페닐, 6-클로로-1,3,5-헥사트리에닐, 6-브로모-1,3-헥사디에닐 및 6-플루오로-1,4-헥사디에닐기를 포함한다.
벤조일기 (이는 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있음) 의 예는 벤조일기 (이는 치환기로서 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있고 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있음), 예컨대, 벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 2-플루오로벤조일, 3-브로모벤조일, 4-요오도벤조일, 4-메틸벤조일, 2-메틸벤조일, 3-메틸벤조일, 2-에틸벤조일, 3-에틸벤조일, 4-에틸벤조일, 4-이소프로필벤조일, 3-부틸벤조일, 4-펜틸벤조일, 4-헥실벤조일, 3,4-디메틸벤조일, 3,4-디에틸벤조일, 2,4-디메틸벤조일, 2,5-디메틸벤조일, 2,6-디메틸벤조일, 3,4,5-트리메틸벤조일, 2-트리플루오로메틸벤조일, 3-트리플루오로메틸벤조일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 2-(브로모메틸)벤조일, 3-(2-클로로에틸)벤조일, 4-(2,3-디클로로프로필)벤조일, 4-(4-플루오로부틸)벤조일, 3-(5-클로로펜틸)벤조일, 4-(5-브로모헥실)벤조일, 4-(5,6-디브로모헥실)벤조일, 3,4-디(트리플루오로메틸)벤조일, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)벤조일, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)벤조일, 2,5-디(3-클로로프로필)벤조일, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)벤조일, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)벤조일, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)벤조일, 2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-트리클로로메틸벤조일, 2-클로로-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-플루오로벤조일, 3-플루오로-4-트리클로로메틸벤조일, 2-메틸-3-트리플루오로메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-플루오로벤조일, 4-플루오로벤조일, 2-브로모벤조일, 4-브로모벤조일, 2-요오도벤조일, 3-요오도벤조일, 2,3-디브로모벤조일, 2,4-디요오도벤조일, 2,5-디플루오로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 2,4,6-트리클로로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일, 3,5-디플루오로벤조일, 2,6-디플루오로벤조일, 2-클로로벤조일, 3-클로로벤조일, 4-클로로벤조일, 2,3-디클로로벤조일, 2,4-디클로로벤조일, 2,5-디클로로벤조일, 3,4-디클로로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 3,5-디클로로벤조일, 2,4,6-트리플루오로벤조일 및 2,4-디플루오로벤조일기를 포함한다.
할로겐 치환 저급 알킬기의 예는 치환기로서 1 내지 3 의 할로겐 원자를 갖는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대, 트리플루오로메틸, 트리클로로메틸, 클로로메틸, 브로모메틸, 플루오로메틸, 요오도메틸, 디플루오로메틸, 디브로모메틸, 2-클로로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 4,4,4-트리클로로부틸, 4-플루오로부틸, 5-클로로펜틸, 3-클로로-2-메틸프로필, 5-브로모헥실 및 5,6-디브로모헥실기를 포함한다.
저급 알킬렌디옥시기의 예는 1 내지 4 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌기, 예컨대, 메틸렌디옥시, 에틸렌디옥시, 트리메틸렌디옥시 및 테트라메틸렌디옥시기를 포함한다.
저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기, 벤조일기 및 3 내지 16 의 탄소 원자를 갖는 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 의 치환기를 가질 수 있는 아미노기, 예컨대, 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, tert-부틸아미노, 펜틸아미노, 헥실아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 디펜틸아미노, 디헥실아미노, N-메틸-N-에틸아미노, N-에틸-N-프로필아미노, N-메틸-N-부틸아미노, N-메틸-N-헥실아미노, N-메틸-N-아세틸아미노, N-아세틸아미노, N-포르밀아미노, N-프로피오닐아미노, N-부티릴아미노, N-이소부티릴아미노, N-펜타노일아미노, N-tert-부틸카르보닐아미노, N-헥사노일아미노, N-에틸-N-아세틸아미노, N-벤조일아미노, N-에틸-N-벤조일아미노, N-메틸-N-벤조일아미노, N-아세틸-N-벤조일아미노, 시클로프로필아미노, 시클로부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 시클로헥실아미노, 시클로헵틸아미노, 시클로옥틸아미노, N-메틸-N-시클로헥실아미노, N-메틸-N-시클로펜틸아미노, N-메틸-N-시클로헵틸아미노, N-시클로헥실-N-아세틸아미노, N-시클로펜틸-N-벤조일아미노, 시클로노닐아미노, 시클로데실아미노, 시클로도데실아미노, 시클로트리데실아미노, 시클로테트라데실아미노, 시클로펜타데실아미노, N-메틸-N-시클로헥사데실아미노, N-메틸-N-시클로노닐아미노, N-메틸-N-시클로데실아미노, N-시클로운데실-N-아세틸아미노 및 N-시클로헥사데실-N-벤조일기를 포함한다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기의 예는, 상기 기재된 저급 알카노일기 외에, 치환기로서 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있는 2 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기, 예컨대, 2,2,2-트리플루오로아세틸, 2,2,2-트리클로로아세틸, 2-클로로아세틸, 2-브로모아세틸, 2-플루오로아세틸, 2-요오도아세틸, 2,2-디플루오로아세틸, 2,2-디브로모아세틸, 3,3,3-트리플루오로프로피오닐, 3,3,3-트리클로로프로피오닐, 3-클로로프로피오닐, 2,3-디클로로프로피오닐, 4,4,4-트리클로로부티릴, 4-플루오로부티릴, 5-클로로펜타노일, 3-클로로-2-메틸프로피오닐, 6-브로모헥사노일 및 5,6-디브로모헥사노일기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐기의 예는 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 예컨대, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 프로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, 부톡시카르보닐, tert-부톡시카르보닐, 펜틸옥시카르보닐 및 헥실옥시카르보닐기를 포함한다.
저급 알카노일옥시기의 예는 2 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일옥시기, 예컨대, 아세틸옥시, 프로피오닐옥시, 부티릴옥시, 이소부티릴옥시, 펜타노일옥시, tert-부틸카르보닐옥시 및 헥사노일옥시기를 포함한다.
1 내지 4 의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기의 예는 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노, 피리딜, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 티에닐, 피라질, 피리미딜, 피리다질, 피롤릴, 2H-피롤릴, 이미다졸리디닐, 피라졸릴, 이미다졸릴, 피라졸리디닐, 푸라자닐, 2-이미다졸리닐, 이미다졸리디닐, 2-피롤리닐, 푸릴, 옥사졸릴, 이소옥사졸리디닐, 이소옥사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라닐, 2-피라졸리디닐, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,5-트리아졸릴, 티아졸리디닐, 2-티아졸리닐, 1,2,3,4-테트라졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라히드로피라닐 및 테트라히드로푸릴기를 포함한다.
R11 및 R12 가 질소 원자, 황 원자 또는 산소 원자를 통해 또는 통하지 않고,그들이 결합되는 질소 원자와 함께, 서로 결합하여 형성된 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리의 예는 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노 및 호모피페라지닐기를 포함한다.
이미다졸릴 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 이미다졸릴알킬기, 예컨대, (1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴메틸, 2-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]에틸, 1-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]에틸, 3-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]프로필, 4-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]부틸, 5-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]펜틸, 6-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]프로필기를 포함한다.
1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,4-트리아졸릴알킬기, 예컨대, (1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴메틸, 2-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]에틸, 1-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]에틸, 3-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]프로필, 4-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]부틸, 5-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]펜틸, 6-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(1, 3 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]프로필기를 포함한다.
1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3-트리아졸릴알킬기, 예컨대, (1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴메틸, 2-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]에틸, 1-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]에틸, 3-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]프로필, 4-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]부틸, 5-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]펜틸, 6-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(1, 4 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]프로필기를 포함한다.
1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,5-트리아졸릴알킬기, 예컨대, (1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴메틸, 2-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]에틸, 1-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]에틸, 3-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]프로필, 4-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]부틸, 5-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]펜틸, 6-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(1, 3 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]프로필기를 포함한다.
피라졸릴 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피라졸릴알킬기, 예컨대, (1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴메틸, 2-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]에틸, 1-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]에틸, 3-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]프로필, 4-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]부틸, 5-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]펜틸, 6-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(1, 3, 4 또는 5-)피라졸릴]프로필기를 포함한다.
치환기로서 옥소기를 피리미딘 고리 상에 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기의 예는 치환기로서 1 내지 3 의 옥소기를 피리미딘 고리 상에 가질 수 있고, 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피리미디닐알킬기, 예컨대, (2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐메틸, 2-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]에틸, 1-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]에틸, 3-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]프로필, 4-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]부틸, 5-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]펜틸, 6-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]에틸, 2-메틸-3-[(2, 4, 5 또는 6-)피리미디닐]프로필, [(1, 3, 4 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]메틸, [(1, 3, 4, 5 또는 6-)2-옥소피리미디닐]메틸, [(1, 2, 4 또는 5-)6-옥소피리미디닐]메틸, [(1, 2, 5 또는 6-)4-옥소피리미디닐]메틸, [(1, 3, 5 또는 6-)2,4-디옥소피리미디닐]메틸, 2-[(4 또는 6-)2,5-디옥소피리미디닐]에틸, 1-[(1, 3, 4 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]에틸, 3-[(1, 3 또는 5-)2,4,6-트리옥소피리미디닐]프로필, 4-[(1, 3, 4 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]부틸, 5-[(4 또는 6-)2,5-디옥소피리미디닐]펜틸, 6-[(1, 3, 5 또는 6-)2,4-디옥소피리미디닐]헥실, 1,1-디메틸-[(1, 3, 4 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]에틸 및 2-메틸-3-[(1, 3, 4 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]프로필기를 포함한다.
3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴알킬기, 예컨대, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴메틸, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴에틸, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴프로필, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴이소프로필, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴부틸, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴펜틸 및 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴헥실기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬기를 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기의 예는 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있고, 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,4-옥사디아졸릴알킬기, 예컨대, (3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴메틸, 2-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]에틸, 1-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]에틸, 3-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]프로필, 4-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]부틸, 5-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]펜틸, 6-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]프로필, 5-메틸-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)메틸, 3-에틸-2-[5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]에틸, 1-[3-프로필-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]에틸, 3-[5-부틸-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)]프로필, 4-[3-펜틸-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]부틸, 5-[5-헥실-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)]펜틸, 6-[3-메틸-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]헥실, 1,1-디메틸-2-[5-이소프로필-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)]에틸 및 2-메틸-3-[3-이소부틸-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]프로필기를 포함한다.
치환기로서 옥소기를 티아졸릴딘 고리 상에 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기의 예는 치환기로서 1 내지 3 의 옥소기를 티아졸리딘 고리 상에 가질 수 있고, 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐알킬기는, 예컨대, (2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐메틸, 2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 4-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]부틸, 5-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]펜틸, 6-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 2,4-디옥소-5-티아졸리디닐메틸, 2-[2-옥소-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[4-옥소-(2, 3 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[5-옥소-(2, 3 또는 4-)티아졸리디닐]프로필, 4-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]부틸, 5-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]펜틸, 6-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로필 및 3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로필기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 페닐 저급 알킬기 외에, 치환기로서 1 내지 4 의 탄소 원자를 페닐 고리 상에 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가질 수 있고, 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 예컨대, 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(2,3-에틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,3-메틸렌디옥시페닐)에틸 및 2-메틸-3-(3,4-에틸렌디옥시페닐)프로필기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기의 예는 그의 알콕시 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기이고, 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 알콕시카르보닐알킬기, 예컨대, 메톡시카르보닐메틸, 에톡시카르보닐메틸, 2-메톡시카르보닐에틸, 2-에톡시카르보닐에틸, 1-에톡시카르보닐에틸, 3-메톡시카르보닐프로필, 3-에톡시카르보닐프로필, 4-에톡시카르보닐부틸, 5-이소프로폭시카르보닐펜틸, 6-프로폭시카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐에틸, 2-메틸-3-tert-부톡시카르보닐프로필, 2-펜틸옥시카르보닐에틸 및 헥실옥시카르보닐메틸기를 포함한다.
카르복시 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 카르복시알킬기, 예컨대, 카르복시메틸, 2-카르복시에틸, 1-카르복시에틸, 3-카르복시프로필, 4-카르복시부틸, 5-카르복시펜틸, 6-카르복시헥실, 1,1-디메틸-2-카르복시에틸 및 2-메틸-3-카르복시프로필기를 포함한다.
모르폴리노 치환 저급 알카노일기의 예는 그의 알카노일 부분이 2 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기인 모르폴리노 치환 알카노일기, 예컨대, 2-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]아세틸기, 3-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐, 2-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐, 4-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]부티릴, 5-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]펜타노일, 6-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]헥사노일, 2,2-디메틸-2-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐 및 2-메틸-3-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기의 예는 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기이고, 치환기로서 1 내지 4 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 페닐기 상에 가질 수 있고 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인, 1 내지 3 의 페닐알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐알킬기, 예컨대, [(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐메틸, 2-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐에틸, 1-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐에틸, 3-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐프로필, 4-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐부틸, 5-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐펜틸, 6-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐에틸, 2-메틸-3-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]카르보닐프로필, (4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)메틸, 2-[4-(2-페닐에틸)-1-피페라지닐카르보닐]에틸, 1-[4-(3-페닐프로필)-1-피페라지닐카르보닐]에틸, 3-[4-(4-페닐부틸)-1-피페라지닐카르보닐]프로필, 4-[4-(5-페닐펜틸)-1-피페라지닐카르보닐]부틸, 5-[4-(6-페닐프로필)-1-피페라지닐카르보닐]펜틸, 6-(4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)에틸, 2-메틸-3-(4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)프로필, [4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸, 2-{4-[2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸]-1-피페라지닐카르보닐}에틸, 1-{4-[3-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐카르보닐}에틸, 3-{4-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)부틸]-1-피페라지닐카르보닐}프로필, 4-{4-[5-(3,4-메틸렌디옥시페닐)펜틸]-1-피페라지닐카르보닐}부틸, 5-{4-[3-(2,3-에틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐카르보닐}펜틸, 6-[4-(3,4-트리메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]에틸, 2-메틸-3-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]프로필, (3,4-디벤질-1-피페라지닐카르보닐)메틸, (3,4,5-트리벤질-1-피페라지닐카르보닐)메틸, [2,4-디(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸, [2,4,6-트리(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸 및 [3-벤질-4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기의 예는 그의 알카노일 부분이 2 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기이고, 치환기로서 1 내지 4 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 페닐기 상에 가질 수 있고 그의 알킬 부분이 1 내지 6 의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인, 1 내지 3 의 페닐알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐알카노일기, 예컨대, 2-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]아세틸, 3-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 2-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 4-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]부티릴, 5-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]펜타노일, 6-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[(1, 2 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 2-(4-벤질-1-피페라지닐)아세틸, 3-[4-(2-페닐에틸)-1-피페라지닐]프로피오닐, 2-[4-(3-페닐프로필)-1-피페라지닐]프로피오닐, 4-[4-(4-페닐부틸)-1-피페라지닐]부티릴, 5-[4-(5-페닐펜틸)-1-피페라지닐]펜타노일, 6-[4-(6-페닐프로필)-1-피페라지닐]헥사노일, 6-(4-벤질-1-피페라지닐)헥사노일, 2,2-디메틸-3-(4-벤질-1-피페라지닐)프로피오닐, 2-메틸-3-(4-벤질-1-피페라지닐)프로피오닐, 2-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]아세틸, 3-{4-[2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸]-1-피페라지닐}프로피오닐, 2-{4-[3-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐}프로피오닐, 4-{4-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)부틸]-1-피페라지닐}부티릴, 5-{4-[5-(3,4-메틸렌디옥시페닐)펜틸]-1-피페라지닐}펜타노일, 5-{4-[3-(2,3-에틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐}펜타노일, 6-[4-(3,4-트리메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]프로피오닐, 2-(3,4-디벤질-1-피페라지닐)아세틸, 2-(3,4,5-트리벤질-1-피페라지닐)아세틸, 2-[2,4-디(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]아세틸, 2-[2,4,6-트리(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]아세틸 및 2-[3-벤질-4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]아세틸기를 포함한다.
모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 모르폴리노카르보닐알킬기, 예컨대 [(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐메틸, 2-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐에틸, 1-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐에틸, 3-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐프로필, 4-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐부틸, 5-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐펜틸, 6-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐에틸 및 2-메틸-3-[(2, 3 또는 4-)모르폴리노]카르보닐프로필기를 포함한다.
이미다졸릴 저급 알카노일기의 예는, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기인 이미다졸릴알카노일기, 예컨대 2-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]아세틸, 3-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐, 2-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐, 4-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]부티릴, 5-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]펜타노일, 6-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐 및 2-메틸-3-[(1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐기를 포함한다.
시클로알킬카르보닐기의 예는, 시클로알킬 부분이 탄소수 3 내지 16의 시클로알킬기인 시클로알킬카르보닐기, 예컨대 시클로프로필카르보닐, 시클로부틸카르보닐, 시클로펜틸카르보닐, 시클로헥실카르보닐, 시클로헵틸카르보닐, 시클로옥틸카르보닐, 시클로노닐카르보닐, 시클로데실카르보닐, 시클로운데실카르보닐, 시클로도데실카르보닐, 시클로트리데실카르보닐, 시클로테트라데실카르보닐, 시클로펜타데실카르보닐 및 시클로헥사데실카르보닐기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기의 예는, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기로 치환된 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기, 예컨대 아미노아세틸, 2-아미노프로피오닐, 3-아미노프로피오닐, 4-아미노부티릴, 5-아미노펜타노일, 6-아미노헥사노일, 2,2-디메틸-3-아미노프로피오닐, 2-메틸-3-아미노프로피오닐, 메틸아미노아세틸, 2-에틸아미노프로피오닐, 3-프로필아미노프로피오닐, 3-이소프로필아미노프로피오닐, 4-부틸아미노부티릴, 5-펜틸아미노펜타노일, 6-헥실아미노헥사노일, 디메틸아미노아세틸, 3-디이소프로필아미노프로피오닐, (N-에틸-N-프로필아미노)아세틸 및 2-(N-메틸-N-헥실아미노)아세틸기를 포함한다.
치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기의 예는, 상기 기재된 저급 알킬렌기 외에, 치환기로서 히드록실기 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬렌기, 예컨대 1-히드록시메틸렌, 2-히드록시에틸렌, 1-히드록시에틸렌, 2-히드록시트리메틸렌, 3-히드록시트리메틸렌, 1-히드록시트리메틸렌, 3-히드록시-2-메틸트리메틸렌, 1-히드록시-2-메틸트리메틸렌, 3-히드록시-2,2-디메틸트리메틸렌, 1-히드록시-2,2-디메틸트리메틸렌, 3-히드록시-1-메틸트리메틸렌, 2-히드록시-1-메틸트리메틸렌, 1-히드록시메틸메틸렌, 히드록시메틸메틸렌, 2-히드록시메틸트리메틸렌, 2-히드록시메틸-2-메틸트리메틸렌, (2-히드록시에틸)메틸렌, (1-히드록시에틸)메틸렌, 4-히드록시테트라메틸렌, 2-히드록시테트라메틸렌, 3-히드록시테트라메틸렌, 1-히드록시테트라메틸렌, 5-히드록시펜타메틸렌, 4-히드록시펜타메틸렌, 3-히드록시펜타메틸렌, 2-히드록시펜타메틸렌, 1-히드록시펜타메틸렌, 6-히드록시헥사메틸렌, 5-히드록시헥사메틸렌, 4-히드록시헥사메틸렌, 3-히드록시헥사메틸렌, 2-히드록시헥사메틸렌, 1-히드록시헥사메틸렌, 1,2-디히드록시트리메틸렌, 2,2,4-트리히드록시테트라메틸렌, 1,2,6-트리히드록시헥사메틸렌 및 3,4,5-트리히드록시펜타메틸렌기를 포함한다.
치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기의 예는, 상기 기재된 저급 알킬기 외에, 치환기로서 히드록실기 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 16의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 1-메틸헥실, 헥사데실, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 2,3-디히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5,5,4-트리히드록시펜틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 1-히드록시이소프로필 및 2-메틸-3-히드록시프로필기를 포함한다.
히드록실기 치환 알킬기의 예는, 치환기로서 탄소수 1 내지 16 및 히드록실기 1 내지 3개를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 2,3-디히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5,5,4-트리히드록시펜틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 1-히드록시이소프로필 및 2-메틸-3-히드록시프로필기를 포함한다.
히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기의 예는, 상기 기재된 시클로알킬기 외에, 히드록실기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 3 내지 16의 시클로알킬기, 예컨대 2-히드록시시클로프로필, 3-히드록시시클로부틸, 3-히드록시시클로펜틸, 2-히드록시시클로헥실, 4-히드록시시클로헥실, 3-히드록시시클로헵틸, 4-히드록시시클로옥틸, 5-히드록시시클로노닐, 3-히드록시시클로데실, 4-히드록시시클로운데실, 5-히드록시시클로도데실, 6-히드록시시클로트리데실, 7-히드록시시클로테트라데실, 6-히드록시시클로펜타데실, 8-히드록시시클로헥사데실, 2,4-디히드록시시클로헥실, 2,4,6-트리히드록시시클로헥실, 1-메틸시클로펜틸, 2-에틸시클로프로필, 3-n-프로필시클로부틸, 2-n-부틸시클로헥실, 4-n-펜틸시클로헵틸, 4-n-헥실시클로옥틸, 2,3-디메틸시클로헥실, 2,3,4-트리메틸시클로헥실 및 2-메틸-4-히드록시시클로헥실기를 포함한다.
페녹시 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페녹시알킬기, 예컨대 페녹시메틸, 2-페녹시에틸, 1-페녹시에틸, 3-페녹시프로필, 4-페녹시부틸, 1,1-디메틸-2-페녹시에틸, 5-페녹시펜틸, 6-페녹시헥실, 1-페녹시이소프로필 및 2-메틸-3-페녹시프로필기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기로 치환된 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기, 예컨대 아미노메톡시, 2-아미노에톡시, 1-아미노에톡시, 3-아미노프로폭시, 4-아미노부톡시, 5-아미노펜틸옥시, 6-아미노헥실옥시, 1,1-디메틸-2-아미노에톡시, 2-메틸-3-아미노프로폭시, 메틸아미노메톡시, 1-에틸아미노에톡시, 2-프로필아미노에톡시, 3-이소프로필아미노프로폭시, 4-부틸아미노부톡시, 5-펜틸아미노펜틸옥시, 6-헥실아미노헥실옥시, 디메틸아미노메톡시, 2-디에틸아미노에톡시, 2-디이소프로필아미노에톡시, (N-에틸-N-프로필아미노)메톡시 및 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에톡시기를 포함한다.
히드록실기 치환 저급 알킬기의 예는, 치환기로서 히드록실기 1 내지 3개를 갖는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 히드록시메틸, 1-히드록시에틸, 2-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 2,3-디히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5,5,4-트리히드록시펜틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 1-히드록시이소프로필 및 2-메틸-3-히드록시프로필기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬술포닐을 가질 수 있는 아미노기의 예는, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬술포닐기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기, 예컨대 아미노, 메틸술포닐아미노, 에틸술포닐아미노, 프로필술포닐아미노, 이소프로필술포닐아미노, 부틸술포닐아미노, tert-부틸술포닐아미노, 펜틸술포닐아미노, 헥실술포닐아미노, 디메틸술포닐아미노, 디에틸술포닐아미노, 디프로필술포닐아미노, 디부틸술포닐아미노, 디펜틸술포닐아미노, 디헥실술포닐아미노, N-메틸술포닐-N-에틸술포닐아미노, N-에틸술포닐-N-프로필술포닐아미노, N-메틸술포닐-N-부틸술포닐아미노 및 N-메틸술포닐-N-헥실술포닐아미노기를 포함한다.
저급 알키닐기의 예는, 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알키닐기, 예컨대 에티닐, 2-프로피닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐, 2-펜티닐 및 2-헥시닐기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기의 예는, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 아닐리노기, 예컨대 아닐리노, 2-플루오로아닐리노, 3-플루오로아닐리노, 4-플루오로아닐리노, 2-브로모아닐리노, 3-브로모아닐리노, 4-브로모아닐리노, 2-요오도아닐리노, 3-요오도아닐리노, 4-요오도아닐리노, 2,3-디브로모아닐리노, 2,4-디요오도아닐리노, 2,5-디플루오로아닐리노, 2,6-디클로로아닐리노, 2,4,6-트리클로로아닐리노, 2,6-디플루오로아닐리노, 3,5-디플루오로아닐리노, 2,6-디플루오로아닐리노, 2-클로로아닐리노, 3-클로로아닐리노, 4-클로로아닐리노, 2,3-디클로로아닐리노, 2,4-디클로로아닐리노, 2,5-디클로로아닐리노, 3,4-디클로로아닐리노, 2,6-디클로로아닐리노, 3,5-디클로로아닐리노, 2,4,6-트리플루오로아닐리노, 2,4-디플루오로아닐리노 및 3,4-디플루오로아닐리노기를 포함한다.
피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기의 예는, 피페라진 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 피페라지닐기, 예컨대 (1-, 2- 또는 3-)피페라지닐, 4-메틸-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐, 2,3-디메틸-(1- 또는 5-)피페라지닐 및 2,3,4-트리메틸-(1-, 5- 또는 6-)피페라지닐기를 포함한다.
피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기의 예는, 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 또는 2개를 가질 수 있는 피롤리디닐기, 예컨대 (1-, 2- 또는 3-)피롤리디닐, 2-옥소-(1-, 3-, 4- 또는 5-)피롤리디닐, 3-옥소-(1-, 2-, 4- 또는 5-)피롤리디닐, 2,3-디옥소-(1-, 4- 또는 5-)피롤리디닐 및 2,5-디옥소-(1-, 3- 또는 4-)피롤리디닐기를 포함한다.
저급 알카노일 아미노기의 예는, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 갖는 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일 아미노기, 예컨대 아세틸 아미노, 프로피오닐 아미노, 부티릴 아미노, 펜타노일 아미노, 2-메틸프로피오닐 아미노 및 헥사노일 아미노기를 포함한다.
저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기; 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기; 할로겐 원자; 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기이고, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노알콕시기; 치환기로서 탄소수 1 내지 6 및 히드록실기 1 내지 3개를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기; 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기; 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알키닐기; 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬술포닐기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기; 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬티오기; 탄소수 3 내지 16의 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 아닐리노기; 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기; 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기; 시아노기; 피페라진 환에서 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 또는 2개를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기, 예컨대 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 2-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-메톡시페닐, 2-에톡시페닐, 3-에톡시페닐, 4-에톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 3-부톡시페닐, 4-펜틸옥시페닐, 4-헥실옥시페닐, 3,4-디메톡시페닐, 3,4-디에톡시페닐, 2,4-디메톡시페닐, 2,5-디메톡시페닐, 2,6-디메톡시페닐, 3,4,5-트리메톡시페닐, 2-트리플루오로메톡시페닐, 3-트리플루오로메톡시페닐, 4-트리플루오로메톡시페닐, 2-(브로모메톡시)페닐, 3-(2-클로로에톡시)페닐, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐, 4-(4-플루오로부톡시)페닐, 3-(5-클로로펜틸옥시)페닐, 4-(5-브로모헥실옥시)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메틸-3-트리플루오로메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 2-페녹시페닐, 3-페녹시페닐, 4-페녹시페닐, 2,3-디페녹시페닐, 3,4-디페녹시페닐, 2,6-디페녹시페닐, 3,4,5-트리페녹시페닐, 2-메틸-4-페녹시페닐, 3-에틸-4-페녹시페닐, 2-메톡시-4-페녹시페닐, 3-에톡시-4-페녹시페닐, 2-메틸-3-페녹시-4-트리플루오로메톡시페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 3,4-디클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 2-플루오로페닐, 3-플루오로페닐, 4-플루오로페닐, 2,5-디플루오로페닐, 2,4-디플루오로페닐, 3,4-디플루오로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 2,4,6-트리플루오로페닐, 2-브로모페닐, 3-브로모페닐, 4-브로모페닐, 2-요오도페닐, 3-요오도페닐, 4-요오도페닐, 2,3-디브로모페닐, 2,4-디요오도페닐, 4-메틸티오페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-클로로-2-아닐리노페닐, 2-(4-클로로 아닐리노)-5-에톡시 카르보닐페닐, 4-[2-(N,N-디에틸아미노)에톡시]페닐, 4-(4-메틸-1-피페라지닐)페닐, 4-(2-옥소-1-피롤리디닐)페닐, 4-메틸술포닐아미노페닐, 4-(2-히드록시에틸)페닐, 4-벤질페닐, 4-에티닐페닐, 4-페닐티오페닐, 4-(1-아다만틸)페닐, 5-아세틸아미노-2-클로로페닐, 2-프로파노일아미노페닐, 3-시아노페닐, 2-시아노페닐, 4-시아노페닐, 3,4-디시아노페닐 및 3,4,5-트리시아노페닐기를 포함한다.
할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 페닐 저급 알킬기 외에, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기이고, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐알킬기, 예컨대 4-플루오로벤질, 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2-(2-플루오로페닐)에틸, 2-(4-플루오로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 3,4-디브로모벤질, 3,4-디요오도벤질, 2,4-디플루오로벤질, 2,5-디클로로벤질, 2,6-디클로로벤질, 3,4,5-트리플루오로벤질, 3-(4-클로로페닐)프로필, 1-(2-브로모페닐)에틸, 4-(3-플루오로페닐)부틸, 5-(4-요오도페닐)펜틸, 6-(4-클로로페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-플루오로페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-클로로페닐)프로필, 2-메틸벤질, 2-(3-메틸페닐)에틸, 3-(4-메틸페닐)프로필, 1-(2-에틸페닐)에틸, 4-(3-에틸페닐)부틸, 5-(4-에틸페닐)펜틸, 6-(4-이소프로필페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-부틸페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-펜틸페닐)프로필, 4-헥실벤질, 3,4-디메틸벤질, 3,4-디에틸벤질, 2,4-디메틸벤질, 2,5-디메틸벤질, 2,6-디메틸벤질, 3,4,5-트리메틸벤질, 2-메톡시벤질, 2-(2-메톡시페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 4-메톡시벤질, 1-(2-에톡시페닐)에틸, 3-(3-에톡시페닐)프로필, 4-(4-에톡시페닐)부틸, 5-(4-이소프로폭시페닐)펜틸, 6-(3-부톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-펜틸옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-헥실옥시페닐)프로필, 3,4-디메톡시벤질, 3,4-디에톡시벤질, 2,4-디메톡시벤질, 2,5-디메톡시벤질, 2,6-디메톡시벤질, 3,4,5-트리메톡시벤질, 2-트리플루오로메톡시벤질, 3-트리플루오로메톡시벤질, 4-트리플루오로메톡시벤질, 2-[2-(브로모메톡시)페닐]에틸, 1-[3-(2-클로로에톡시)페닐]에틸, 3-[4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐]프로필, 4-[4-(4-플루오로부톡시)페닐]부틸, 5-[3-(5-클로로펜틸옥시)페닐]펜틸, 6-[4-(5-브로모헥실옥시)페닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐]에틸, 3,4-디(트리플루오로메톡시)벤질, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)벤질, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)벤질, 2,5-디(3-클로로프로폭시)벤질, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤질, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)벤질, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)벤질, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시벤질, 3-에틸-4-트리클로로메톡시벤질, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤질, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시벤질, 2-메틸-3-트리플루오로메톡시-4-트리플루오로메톡시벤질, 2-클로로-3-메틸벤질, 4-플루오로-2-트리플루오로메톡시벤질 및 3-클로로-2-메틸-4-메톡시벤질기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기의 예는, 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 갖고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 예컨대 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(2,3-에틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,3-메틸렌디옥시페닐)에틸 및 2-메틸-3-(3,4-에틸렌디옥시페닐)프로필기를 포함한다.
치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 예컨대 아미노, N-아세틸아미노, N-포르밀아미노, N-프로피오닐아미노, N-부티릴아미노, N-이소부티릴아미노, N-펜타노일아미노, N-tert-부틸카르보닐아미노 및 N-헥사노일아미노기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 옥소기, 저급 알콕시기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기의 예는, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 옥소기, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 예컨대 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2-옥소-6,7-메틸렌디옥시-(1, 3, 4, 5 또는8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2,4-디옥소-6,7-메틸렌디옥시-(1, 3, 5 또는8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 5,6-에틸렌디옥시-(1, 2, 3, 4, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 7,8-트리메틸렌디옥시-(1, 2, 3, 4, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 6,7-테트라메틸렌디옥시-(1, 2, 3, 4, 5 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 5-메톡시-2-옥소-(1, 3, 4, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 및 2-옥소-6,7-에틸렌디옥시-(1, 3, 4, 5 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기를 포함한다.
시클로알킬 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 탄소수 3 내지 16의 시클로알킬알킬기, 예컨대 시클로프로필메틸, 시클로헥실메틸, 2-시클로프로필에틸, 1-시클로부틸에틸, 3-시클로펜틸프로필, 4-시클로헥실부틸, 5-시클로헵틸펜틸, 6-시클로옥틸헥실, 1,1-디메틸-2-시클로노닐에틸, 2-메틸-3-시클로데실프로필, 시클로운데실메틸, 2-시클로도데실에틸, 1-시클로트리데실에틸, 3-시클로테트라데실프로필, 4-시클로펜타데실부틸 및 5-시클로헥사데실펜틸기를 포함한다.
피리딜 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알킬기, 예컨대 (2, 3 또는 4-)피리딜메틸, 2-[(2, 3 또는 4-)피리딜]에틸, 1-[(2, 3 또는 4-)피리딜]에틸, 3-[(2, 3 또는 4-)피리딜]프로필, 4-[(2, 3 또는 4-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[(2, 3 또는 4-)피리딜]에틸, 5-[(2, 3 또는 4-)피리딜]펜틸, 6-[(2, 3 또는 4-)피리딜]헥실, 1-[(2, 3 또는 4-)피리딜]이소프로필 및 2-메틸-3-[(2, 3 또는 4-)피리딜]프로필기를 포함한다.
저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기를 갖는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 아미노메틸, 2-아미노에틸, 1-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 1-에틸아미노에틸, 2-프로필아미노에틸, 3-이소프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 5-펜틸아미노펜틸, 6-헥실아미노헥실, 디메틸아미노메틸, 2-디이소프로필아미노에틸, (N-에틸-N-프로필아미노)메틸, 2-(N,N-디메틸아미노)에틸, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸, 포르밀아미노메틸, 아세틸아미노메틸, 1-프로피오닐아미노에틸, 2-아세틸아미노에틸, 3-부티릴아미노프로필, 4-펜타노일아미노부틸, 5-헥사노일아미노펜틸, 6-아세틸아미노헥실, N-메틸-N-아세틸아미노메틸, 2-(N-에틸-N-프로파노일아미노)에틸, (N-에틸-N-부티릴아미노)메틸, 2-(N-메틸-N-헥사노일아미노)에틸 및 3-(N,N-디메틸아미노)프로필기를 포함한다.
저급 알콕시 저급 알킬기의 예는, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기를 갖는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 메톡시메틸, 1-에톡시에틸, 2-메톡시에틸, 2-프로폭시에틸, 3-이소프로폭시프로필, 4-부톡시부틸, 5-펜틸옥시펜틸, 6-헥실옥시헥실, 1,1-디메틸-2-메톡시에틸, 2-메틸-3-에톡시프로필 및 3-메톡시프로필기를 포함한다.
1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐알킬기, 예컨대 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐메틸, 2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]에틸, 1-[((1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐)에틸, 3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]프로필, 4-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]부틸, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]에틸, 5-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]펜틸, 6-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]헥실, 1-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]이소프로필 및 2-메틸-3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]프로필기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 피페리딘 고리 상에 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기의 예는, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 알콕시카르보닐기, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기 및 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 푸릴알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 피페리딘 고리 상에 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, 예컨대 (1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-벤질-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(2 또는 3-)푸릴메틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(2-페닐에틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{2-[(1 또는 2-)푸릴]에틸}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(1-페닐에틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{3-[(1 또는 2-)푸릴]프로필]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(3-페닐프로필)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(4-페닐부틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{4-[(1 또는 2-)푸릴]부틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(5-페닐펜틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{5-[(1 또는 2-)푸릴]펜틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(6-페닐헥실)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{6-[(1 또는 2-)푸릴]헥실]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1,2-디벤질-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,3-디(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,3,5-트리벤질-(2, 4 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,2,6-트리(1 또는 2-)푸릴메틸-(3, 4 또는 5-)피페리디닐카르보닐, 1-벤질-3-(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-메톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-에톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-프로폭시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-부톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-tert-부톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-펜틸옥시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-헥실옥시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1,2-디메톡시카르보닐-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,2,6-트리에톡시카르보닐-(3, 4 또는 5-)피페리디닐카르보닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-3-tert-부톡시카르보닐-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1-벤질-2-메톡시카르보닐-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐 및 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-2,4-디메톡시카르보닐-(3, 5 또는 6-)피페리디닐카르보닐기를 포함한다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기의 예는, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기인 티아졸리디닐알카노일기, 예컨대 2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[(2, 3, 4 또는 5-)1,2,4-티아졸리디닐]펜타노일, 6-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐아세틸, 3-[2-옥소-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-옥소-(2, 3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[5-옥소-(2, 3 또는 4-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]헥사노일, 2-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]아세틸, 2,2-디메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐 및 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 피페리딘 고리 상에 치환될 수 있는 피페리디닐기의 예는, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 알콕시카르보닐기, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 벤조일기 및 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 푸릴알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 피페리딘 고리 상에 치환될 수 있는 피페리디닐기, 예컨대 (1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-벤질-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(2 또는 3-)푸릴메틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(2-페닐에틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-{2-[(1 또는 2-)푸릴]에틸}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(1-페닐에틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-{3-[(1 또는 2-)푸릴]프로필]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(3-페닐프로필)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(4-페닐부틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-{4-[(1 또는 2-)푸릴]부틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(5-페닐펜틸)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-{5-[(1 또는 2-)푸릴]펜틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-(6-페닐헥실)-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-{6-[(1 또는 2-)푸릴]헥실]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디벤질-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1,3-디(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1,3,5-트리벤질-(2, 4 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리(1 또는 2-)푸릴메틸-(3, 4 또는 5-)피페리디닐, 1-벤질-3-(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-벤조일-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디벤조일-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1,3,5-트리벤조일-(2, 4 또는 6-)피페리디닐, 1-메틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-에틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-프로필-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-이소프로필-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-이소부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-tert-부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-펜틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-헥실-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디메틸-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리메틸-(3, 4 또는 5-)피페리디닐, 1-메틸-3-벤질-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1-벤조일-2-메틸-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-2,4-디메틸-(3, 5 또는 6-)피페리디닐, 1-메톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-에톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-프로폭시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-부톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-tert-부톡시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-펜틸옥시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-헥실옥시카르보닐-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디메톡시카르보닐-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리에톡시카르보닐-(3, 4 또는 5-)피페리디닐, 1-메틸-3-tert-부톡시카르보닐-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1-벤조일-2-메톡시카르보닐-(2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-2,4-디메톡시카르보닐-(3, 5 또는 6-)피페리디닐 및 1-벤질-2,4-디메톡시카르보닐-(3, 5 또는 6-)피페리디닐기를 포함한다.
하기의 기 (이하, "A 기" 라고 함):
[화학식 40]
로 치환된 카르보닐 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 A 기 치환 카르보닐알킬기, 예컨대 A 기 치환 카르보닐메틸, 2-A 기 치환 카르보닐에틸, 1-A 기 치환 카르보닐에틸, 3-A 기 치환 카르보닐프로필, 4-A 기 치환 카르보닐부틸, 1,1-디메틸-2-A 기 치환 카르보닐에틸, 5-A 기 치환 카르보닐펜틸, 6-A 기 치환 카르보닐헥실, 1-A 기 치환 카르보닐이소프로필 및 2-메틸-3-A 기 치환 카르보닐프로필기를 포함한다.
하기의 기 (식 중, R34 는 옥소기 또는 페닐기이고, d 는 0 내지 3 의 정수임, 이하, "B 기" 라고 함):
[화학식 41]
로 치환된 카르보닐 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 B 기 치환 카르보닐알킬기, 예컨대 B 기 치환 카르보닐메틸, 2-B 기 치환 카르보닐에틸, 1-B 기 치환 카르보닐에틸, 3-B 기 치환 카르보닐프로필, 4-B 기 치환 카르보닐부틸, 1,1-디메틸-2-B 기 치환 카르보닐에틸, 5-B 기 치환 카르보닐펜틸, 6-B 기 치환 카르보닐헥실, 1-B 기 치환 카르보닐이소프로필 및 2-메틸-3-B 기 치환 카르보닐프로필기를 포함한다.
피롤리디닐 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피롤리디닐알킬기, 예컨대 (1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐메틸, 2-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 1-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 3-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]부틸, 5-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]펜틸, 6-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]에틸 및 2-메틸-3-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]프로필기를 포함한다.
모르폴리노 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 모르폴리노알킬기, 예컨대 (2-, 3- 또는 4-)모르폴리노메틸, 2-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]에틸, 1-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]에틸, 3-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]프로필, 4-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]부틸, 5-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]펜틸, 6-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]에틸 및 2-메틸-3-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]프로필기를 포함한다.
페닐 저급 알케닐기의 예는, 알케닐 부분이 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알케닐기이고, 이중 결합 1 내지 3개를 갖는 페닐알케닐기, 예컨대 스티릴, 3-페닐-2-프로페닐기 (속명: 신나밀(cinnamyl)기), 4-페닐-2-부테닐, 4-페닐-3-부테닐, 5-페닐-4-펜테닐, 5-페닐-3-펜테닐, 6-페닐-5-헥세닐, 6-페닐-4-헥세닐, 6-페닐-3-헥세닐, 4-페닐-1,3-부타디에닐 및 6-페닐-1,3,5-헥사트리에닐기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기이고, 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐알킬기, 예컨대 아닐리노카르보닐메틸, 2-아닐리노카르보닐에틸, 1-아닐리노카르보닐에틸, 3-아닐리노카르보닐프로필, 4-아닐리노카르보닐부틸, 5-아닐리노카르보닐펜틸, 6-아닐리노카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-아닐리노카르보닐에틸, 2-메틸-3-아닐리노카르보닐프로필, (4-메틸아닐리노카르보닐)메틸, 2-(3-메틸아닐리노카르보닐)에틸, 3-(4-메틸아닐리노카르보닐)프로필, 1-(2-에틸아닐리노카르보닐)에틸, 4-(3-에틸아닐리노카르보닐)부틸, 5-(4-에틸아닐리노카르보닐)펜틸, 6-(4-이소프로필아닐리노카르보닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-부틸아닐리노카르보닐)에틸, 2-메틸-3-(4-펜틸아닐리노카르보닐)프로필, 4-헥실아닐리노카르보닐메틸, 3,4-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 3,4-디에틸아닐리노카르보닐메틸, 2,4-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 2,5-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 2,6-디메틸아닐리노카르보닐메틸 및 3,4,5-트리메틸아닐리노카르보닐메틸기를 포함한다.
저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 피페라진 고리 상에 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피페라지닐알킬기, 예컨대 [(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]메틸, 2-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]에틸, 1-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]에틸, 3-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]프로필, 4-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]부틸, 5-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]펜틸, 6-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]에틸, 2-메틸-3-[(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]프로필, [1-메틸-(2-, 3- 또는 4-)피페라지닐]메틸, 2-[1-에틸-(2-, 3- 또는 4-)피페라지닐]에틸, 1-[4-프로필-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]에틸, 3-[3-이소프로필-(1-, 2-, 4-, 5- 또는 6-)피페라지닐]프로필, 4-[2-부틸-(1-, 3-, 4-, 5- 또는 6-)피페라지닐]부틸, 5-[1-이소부틸-(2-, 3- 또는 4-)피페라지닐]펜틸, 3-[4-메틸-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]프로필, 6-[1-tert-부틸-(2-, 3- 또는 4-)피페라지닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-펜틸-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]에틸, [1,2-디메틸-(3-, 4-, 5- 또는 6-)피페라지닐]메틸, [1,2,6-트리메틸-(3-, 4- 또는 5-)피페라지닐]메틸 및 2-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐]에틸기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기이고, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미디노알킬기, 예컨대 아미디노메틸, 2-아미디노에틸, 1-아미디노에틸, 3-아미디노프로필, 4-아미디노부틸, 5-아미디노펜틸, 6-아미디노헥실, 1,1-디메틸-2-아미디노에틸, 2-메틸-3-아미디노프로필, N,N-디메틸아미디노메틸, 2-(N,N-디메틸아미디노)에틸, 1-(N-메틸아미디노)에틸, 3-(N-에틸아미디노)프로필, 4-(N-n-프로필아미디노)프로필, 5-(N-n-펜틸아미디노)펜틸, 6-(N-n-헥실아미디노)헥실 및 (N-메틸-N-에틸아미디노)메틸기를 포함한다.
카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기의 예는, 카르바졸 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 카르바졸릴기, 예컨대 (1-, 2-, 3- 또는 4-)카르바졸릴, 9-메틸-(1-, 2-, 3- 또는 4-)카르바졸릴, 9-에틸-(1-, 2-, 3- 또는 4-)카르바졸릴, 1-에틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-)카르바졸릴, 2-n-프로필-(1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 8- 또는 9-)카르바졸릴, 3-n-부틸-(1-, 2-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-)카르바졸릴, 4-n-펜틸-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-)카르바졸릴, 5-n-헥실-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7-, 8- 또는 9-)카르바졸릴, 6,9-디메틸-(1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 7- 또는 8-)카르바졸릴 및 1,7,8-트리틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-)카르바졸릴기를 포함한다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기의 예는, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미디노기, 예컨대 아미디노, N,N-디메틸아미디노, N-메틸아미디노, N-에틸아미디노, N-n-프로필아미디노, N-n-부틸아미디노, N-n-펜틸아미디노, N-n-헥실아미디노, N,N-디에틸아미디노 및 N-메틸-N-에틸아미디노기를 포함한다.
페닐 저급 알킬기 (저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있음) 의 예는, 상기 기재된 페닐 저급 알킬기 외에, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 (그리고 탄소수 1내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는) 페닐알킬기, 예컨대 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(2,3-에틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,3-메틸렌디옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4-에틸렌디옥시페닐)프로필, 2-메톡시벤질, 2-(2-메톡시페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 4-메톡시벤질, 1-(2-에톡시페닐)에틸, 3-(3-에톡시페닐)프로필, 4-(4-에톡시페닐)부틸, 5-(4-이소프로폭시페닐)펜틸, 6-(3-부톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-펜틸옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-헥실옥시페닐)프로필, 3,4-디메톡시벤질, 3,4-디에톡시벤질, 2,4-디메톡시벤질, 2,5-디메톡시벤질, 2,6-디메톡시벤질 및 3,4,5-트리메톡시벤질기를 포함한다.
페닐 저급 알킬기 (저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 (그리고 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는) 페닐알킬기 및 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 예컨대 4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(2-, 3- 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(3,4-디메톡시벤질)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(2,3-메틸렌디옥시벤질)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(3,4-에틸렌디옥시벤질)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-[2-(2-, 3- 또는 4-피리딜)에틸]-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-[3-(2-, 3- 또는 4-피리딜)프로필-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 2,4-비스(2-, 3- 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 2-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-4-(2-, 3- 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴 및 2,3,4-트리(2-, 3- 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐옥살릴기를 포함한다.
시아노 치환 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 시아노알킬기, 예컨대 시아노메틸, 2-시아노에틸, 1-시아노에틸, 3-시아노프로필, 4-시아노부틸, 5-시아노펜틸, 6-시아노헥실, 1,1-디메틸-2-시아노에틸 및 2-메틸-3-시아노프로필기를 포함한다.
R36 및 R37 이, 그에 결합된 질소 원자와 함께, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통하거나 또는 통하지 않고 서로 결합함으로써 형성된 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리의 예는, 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노 및 호모피페라지닐기를 포함한다.
R14 및 R15 가, 그에 결합된 질소 원자와 함께, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통하거나 또는 통하지 않고 서로 결합함으로써 형성된 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리의 예는, 1,2,3,4,5,6-헥사히드로피리미디닐, 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노, 호모피페라지닐, 호모피페리디닐, 티아졸리디닐, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 피롤릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 2-피롤리닐, 2-이미다졸리닐, 이미다졸리디닐, 2-피라졸리닐, 피라졸리디닐, 1,2-디히드로피리딜, 1,2-디히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴, 1,2-디히드로이소퀴놀릴, 인돌릴, 이소인돌릴, 인돌리닐, 이소인돌리닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤조옥사지닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤조티아졸리디닐, 1,4-벤조티아지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴녹살리닐, 1,2,3,4-테트라히드로신놀리닐, 1,2,3,4-테트라히드로프탈라지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴나졸리닐, 1,2-디히드로퀴녹살리닐, 3,4-디히드로퀴녹살리닐, 1,4-디히드로퀴녹살리닐, 1,2-디히드로신놀리닐, 1,2-디히드로프탈라지닐, 3,4-디히드로프탈라지닐, 1,2-디히드로퀴나졸리닐, 3,4-디히드로퀴나졸리닐, 인다졸릴, 인다졸리닐, 6-아자비시클로[3,2,1]옥틸, 3-아자-스피로[5,5]운데실 및 티아졸리디닐기를 포함한다. 바람직하게는, R14 및 R15 는 그들이 결합한 질소 원자와 함께, 직접적으로 또는 질소 원자를 거쳐 서로 결합하여, 6-원 포화 헤테로시클릭기를 형성한다. 가장 바람직하게는, 피페리디닐 및 피페라지닐기를 포함한다.
페닐 저급 알콕시기의 예는, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 페닐알콕시기, 예컨대 벤질옥시, 2-페닐에톡시, 1-페닐에톡시, 3-페닐프로폭시, 4-페닐부톡시, 5-페닐펜틸옥시, 6-페닐헥실옥시, 1,1-디메틸-2-페닐에톡시 및 2-메틸-3-페닐프로폭시기를 포함한다.
저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있고; 저급 알킬기 상에서 피리딜기를 가질 수 있는 페닐기 1 또는 2개를 갖는 페닐 치환 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 페닐 저급 알킬기 외에, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 페닐알콕시기, 히드록시기 및 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 1 또는 2개를 갖고; 알킬기 상에서 피리딜기를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐 치환 알킬기, 예컨대 1-페닐-1-(2, 3 또는 4-)피리딜 메틸, 1,1-디페닐메틸, 1,1-디(4-플루오로페닐)메틸, 1-페닐-1-(4-메톡시페닐)메틸, 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-에틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2,5-디플루오로벤질, 2,4-디플루오로벤질, 3,4-디플루오로벤질, 3,5-디플루오로벤질, 2,6-디플루오로벤질, 3-트리플루오로메틸벤질, 2-트리플루오로메틸벤질, 4-트리플루오로메틸벤질, 3,4-디메톡시벤질, 3,5-디메톡시벤질, 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 4-메틸벤질, 3,4-디메틸벤질, 2,3-디메틸벤질, 2-메톡시벤질, 3-메톡시벤질, 4-시아노벤질, 2-시아노벤질, 3-시아노벤질, 4-메톡시벤질, 2,3-디클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 2,5-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 2,6-디클로로벤질, 4-플루오로벤질, 3-플루오로벤질, 2-플루오로벤질, 4-니트로벤질, 3-니트로벤질, 2-니트로벤질, 3-트리플루오로메톡시벤질, 4-트리플루오로메톡시벤질, 2-트리플루오로메톡시벤질, 4-메톡시카르보닐벤질, 3-메톡시카르보닐벤질, 4-tert-부틸벤질, 4-에틸벤질, 4-이소프로필벤질, 4-메톡시-3-클로로벤질, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 2-(4-플루오로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-페닐벤질, 3,3-디페닐프로필, 3-메틸-4-니트로벤질, 4-(4-메톡시페닐)부틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-tert-부톡시카르보닐벤질, 3-클로로-6-메톡시벤질, 4-아세틸아미노벤질, 4-니트로-3-메틸벤질, 4-히드록시벤질, 3-히드록시벤질, 2-히드록시벤질, 4-tert-부티릴벤질, 4-벤질옥시벤질, 4-피발로일벤질, 2-(4-아세틸페닐)에틸, 1-(3-프로피오닐페닐)에틸, 3-(2-부티릴페닐)프로필, 4-(4-펜타노일페닐)부틸, 5-(3-헥사노일페닐)펜틸, 6-(2,4-디아세틸페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4,6-트리아세틸페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4-디아세틸페닐)프로필, 2-(4-아미노페닐)에틸, 1-(3-프로피오닐아미노페닐)에틸, 3-(2-부티릴아미노페닐)프로필, 4-(4-펜타노일아미노)페닐부틸, 5-(헥사노일아미노페닐)펜틸, 6-(N-아세틸-N-프로피오닐아미노페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3,4-디아미노페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4,5-트리아세틸아미노페닐)프로필, 2-(2-에톡시카르보닐페닐)에틸, 1-(3-프로폭시카르보닐페닐)에틸, 3-(4-펜틸옥시카르보닐페닐)프로필, 4-(3-헥실옥시카르보닐페닐)부틸, 5-(3,4-디메톡시카르보닐페닐)펜틸, 6-(3,4,5-트리에톡시카르보닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-부톡시카르보닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-메톡시카르보닐페닐)프로필, 2-(2-시아노페닐)에틸, 1-(3-시아노페닐)에틸, 3-(4-시아노페닐)프로필, 4-(2-시아노페닐)부틸, 5-(3-시아노페닐)펜틸, 6-(4-시아노페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디시아노페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리시아노페닐)프로필, 2-(2-니트로페닐)에틸, 1-(3-니트로페닐)에틸, 3-(4-니트로페닐)프로필, 4-(2-니트로페닐)부틸, 5-(3-니트로페닐)펜틸, 6-(4-니트로페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디니트로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리니트로페닐)프로필, 2-(2-페닐페닐)에틸, 1-(3-페닐페닐)에틸, 3-(4-페닐페닐)프로필, 4-(2-페닐페닐)부틸, 5-(3-페닐페닐)펜틸, 6-(4-페닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디페닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리페닐페닐)프로필, 2-(2-플루오로페닐)에틸, 1-(3-브로모페닐)에틸, 3-(4-요오도페닐)프로필, 4-(2-브로모페닐)부틸, 5-(3-클로로페닐)펜틸, 6-(4-브로모페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2, 4-디클로로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리플루오로페닐)프로필, 2-(2-에틸페닐)에틸, 1-(3-프로필페닐)에틸, 3-(4-부틸페닐)프로필, 4-(2-펜틸페닐)부틸, 5-(3-헥실페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메틸페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메틸)페닐]프로필, 2-(2-에톡시페닐)에틸, 1-(3-프로폭시페닐)에틸, 3-(4-부톡시페닐)프로필, 4-(2-펜틸옥시페닐)부틸, 5-(3-헥실옥시페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메톡시페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메톡시)페닐]프로필, 2-(2-벤질옥시페닐)에틸, 1-[3-(2-페닐에톡시)페닐]에틸, 3-[4-(3-페닐프로폭시)페닐]프로필, 4-[2-(4-페닐부톡시)페닐]부틸, 5-[3-(5-페닐펜틸옥시)페닐]펜틸, 6-[4-(6-페닐헥실옥시)페닐]헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디벤질옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리벤질옥시페닐)프로필, 2-(2-히드록시페닐)에틸, 1-(3-히드록시페닐)에틸, 3-(4-히드록시페닐)프로필, 4-(2-히드록시페닐)부틸, 5-(3-히드록시페닐)펜틸, 6-(4-히드록시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디히드록시페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리히드록시페닐)프로필, 2-(3,4-메틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-테트라메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(3,4-메틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-에틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3,4-메틸렌디옥시)에틸 및 2-메틸-3-(3,4-메틸렌디옥시페닐)프로필기를 포함한다. 바람직하게는, 치환기(들)로서, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기(들)로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 치환 저급 알킬기가 포함된다.
히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 피리딘 고리 상에 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 피리딜 저급 알킬기 외에, 히드록시기 및 치환기로서 히드록시기 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 피리딘 고리 상에 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알킬기, 예컨대 [2-메틸-(3, 4, 5 또는 6-)피리딜]메틸, [2-메틸-3-히드록시-5-히드록시메틸-(4 또는 6-)피리딜]메틸, 2-[3-에틸-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 1-[4-프로필-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 3-[2-부틸-(3, 4, 5 또는 6-)피리딜]프로필, 4-[3-펜틸-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[4-헥실-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 5-[2,3-디메틸-(4, 5 또는 6-)피리딜]펜틸, 6-[2,4,6-트리메틸-(3 또는 5-)피리딜]헥실, 1-[2-히드록시-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]이소프로필, 2-메틸-3-[3-히드록시-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]프로필, [2-히드록시-(3, 4, 5 또는 6-)피리딜]메틸, 2-[3-히드록시-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 1-[4-히드록시-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 3-[2-히드록시-(3, 4, 5 또는 6-)피리딜]프로필, 4-[3-히드록시-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[4-히드록시-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 5-[2,3-디히드록시-(4, 5 또는 6-)피리딜]펜틸, 6-[2,4,6-트리히드록시-(3 또는 5-)피리딜]헥실, [2-히드록시메틸-(3, 4, 5 또는 6-)피리딜]메틸, 2-[3-(2-히드록시에틸)-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 1-[4-(3-히드록시프로필)-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 3-[2-(4-히드록시부틸)-(3, 4, 5 또는 6-)피리딜]프로필, 4-[3-(5-히드록시펜틸)-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[4-(6-히드록시헥실)-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]에틸, 5-[2,3-디(히드록시메틸)-(4, 5 또는 6-)피리딜]펜틸, 6-[2,4,6-트리(히드록시메틸)-(3 또는 5-)피리딜]헥실, 1-[2-히드록시메틸-(2, 3, 5 또는 6-)피리딜]이소프로필, 2-메틸-3-[3-(2,3-디히드록시프로필)-(2, 4, 5 또는 6-)피리딜]프로필, [2-메틸-3-(2,2,4-트리히드록시부틸)-(4, 5 또는 6-)피리딜]메틸 및 [2-메틸-5-히드록시메틸-(3, 4 또는 6-)피리딜]메틸기를 포함한다.
피롤 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기의 예는, 피롤 고리 상에 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피롤릴알킬기, 예컨대 [(1, 2 또는 3-)피롤릴]메틸, 2-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]에틸, 1-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]에틸, 3-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]프로필, 4-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]부틸, 5-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]펜틸, 6-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2 또는 3-)피롤릴]프로필, [1-메틸-(2 또는 3-)피롤릴]메틸, 2-[2-에틸-(1, 3, 4 또는 5-)피롤릴]에틸, 1-[3-프로필-(1, 2, 4 또는 5-)피롤릴]에틸, 3-[1-부틸-(2, 3 또는 4-)피롤릴]프로필, 4-[2-펜틸-(1, 3, 4 또는 5-)피롤릴]부틸, 5-[3-헥실-(1, 2, 4 또는 5-)피롤릴]펜틸, 6-[1,2-디메틸-(3, 4 또는 5-)피롤릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,2,3-트리메틸-(4 또는 5-)피롤릴]에틸 및 2-메틸-3-[1-에틸-2-메틸-(3, 4 또는 5-)피롤릴]프로필기를 포함한다.
벤족사졸릴 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 벤족사졸릴알킬기, 예컨대 [(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]메틸, 2-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]에틸, 1-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]에틸, 3-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]프로필, 4-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]부틸, 5-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]펜틸, 6-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤족사졸릴]프로필기를 포함한다.
벤조티아졸릴 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 벤조티아졸릴알킬기, 예컨대 [(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]메틸, 2-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]에틸, 1-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]에틸, 3-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]프로필, 4-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]부틸, 5-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]펜틸, 6-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤조티아졸릴]프로필기를 포함한다.
푸릴 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 푸릴알킬기, 예컨대 [(2 또는 3-)푸릴]메틸, 2-[(2 또는 3-)푸릴]에틸, 1-[(2 또는 3-)푸릴]에틸, 3-[(2 또는 3-)푸릴]프로필, 4-[(2 또는 3-)푸릴]부틸, 5-[(2 또는 3-)푸릴]펜틸, 6-[(2 또는 3-)푸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)푸릴]에틸 및 2-메틸-3-[(2 또는 3-)푸릴]프로필기를 포함한다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기의 예는, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐알킬기, 예컨대 (2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐메틸, 2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 4-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]부틸, 5-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]펜틸, 6-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, [2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]메틸, 2-[2-옥소-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[4-옥소-(2, 3 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[2-옥소-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 4-[5-옥소-(2, 3 또는 4-)티아졸리디닐]부틸, 5-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜틸, 6-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]헥실, 1-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]에틸, 2-[4,5-디옥소-(2- 또는 3-)티아졸리디닐]에틸, 1,1-디메틸-2-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]에틸 및 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로필기를 포함한다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기의 예는, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐리덴알킬기, 예컨대 (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴메틸, (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴에틸, (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴프로필, (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴이소프로필, (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴부틸, (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴펜틸, (2, 4 또는 5-)티아졸리디닐리덴헥실, 4,5-디옥소-2-티아졸리디닐리덴메틸, 2,5-디옥소-4-티아졸리디닐리덴메틸, 2,4-디옥소-5-티아졸리디닐리덴메틸, 4-옥소-(2 또는 5-)티아졸리디닐리덴에틸, 5-옥소-(2 또는 4-)티아졸리디닐리덴프로필 및 2-옥소-(4 또는 5-)티아졸리디닐리덴부틸기를 포함한다.
시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 벤조일기의 예는, 시아노기; 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬술포닐기 1 또는 2개를 가질 수 있는 아미노기; 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기; 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐알킬기; 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐리덴알킬기; 및 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 벤조일기, 예컨대 벤조일, 4-시아노벤조일, 3,4-메틸렌디옥시벤조일, 2-아미노벤조일, 3-아미노벤조일, 4-아미노벤조일, 3,4-디아미노벤조일, 2,4,6-트리아미노벤조일, 4-메톡시벤조일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 4-클로로벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 2-플루오로벤조일, 3-브로모벤조일, 4-요오도벤조일, 3,4-디메톡시벤조일, 4-플루오로벤조일, 3-시아노벤조일, 2-시아노벤조일, 2,3-디시아노벤조일, 3,4,5-트리시아노벤조일, 4-메틸벤조일, 4-(2,4-디옥소티아졸리디닐메틸)벤조일, 4-(2,4-디옥소티아졸리디닐리덴메틸)벤조일, 2-메틸벤조일, 3-메틸벤조일, 2-에틸벤조일, 3-에틸벤조일, 4-에틸벤조일, 4-이소프로필벤조일, 3-부틸벤조일, 4-펜틸벤조일, 4-헥실벤조일, 3,4-디메틸벤조일, 3,4-디에틸벤조일, 2,4-디메틸벤조일, 2,5-디메틸벤조일, 2,6-디메틸벤조일, 3,4,5-트리메틸벤조일, 2-메톡시벤조일, 3-메톡시벤조일, 2-에톡시벤조일, 3-에톡시벤조일, 4-에톡시벤조일, 4-이소프로폭시벤조일, 3-부톡시벤조일, 4-펜틸옥시벤조일, 4-헥실옥시벤조일, 3,4-디에톡시벤조일, 2,4-디메톡시벤조일, 2,5-디메톡시벤조일, 2,6-디메톡시벤조일, 3,4,5-트리메톡시벤조일, 2-트리플루오로메틸벤조일, 3-트리플루오로메틸벤조일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 2-(브로모에틸)벤조일, 3-(2-클로로에틸)벤조일, 4-(2,3-디클로로프로필)벤조일, 4-(4-플루오로부틸)벤조일, 3-(5-클로로펜틸)벤조일, 4-(5-브로모헥실)벤조일, 4-(5,6-디브로모헥실)벤조일, 3,4-디(트리플루오로메틸)벤조일, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)벤조일, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)벤조일, 2,5-디(3-클로로프로필)벤조일, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)벤조일, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)벤조일, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)벤조일, 2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-트리클로로메틸벤조일, 2-메톡시-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-플루오로벤조일, 3-에톡시-4-트리클로로메틸벤조일, 2-메틸-3-트리플루오로메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-플루오로벤조일, 4-플루오로벤조일, 2-브로모벤조일, 4-브로모벤조일, 2-요오도벤조일, 3-요오도벤조일, 2,3-디브로모벤조일, 2,4-디요오도벤조일, 2,5-디플루오로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 2,4,6-트리클로로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 3,5-디플루오로벤조일, 2,6-디플루오로벤조일, 2-클로로벤조일, 3-클로로벤조일, 4-클로로벤조일, 2,3-디클로로벤조일, 2,4-디클로로벤조일, 2,5-디클로로벤조일, 3,4-디클로로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 3,5-디클로로벤조일, 2,4,6-트리플루오로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 3,4-메틸렌디옥시벤조일, 3,4-트리메틸렌디옥시벤조일, 2,3-에틸렌디옥시벤조일, 3,4-트리메틸렌디옥시벤조일, 2,3-테트라메틸렌디옥시벤조일, 2,3-메틸렌디옥시벤조일, 3,4-에틸렌디옥시벤조일 및 2-메탄술포닐아미노벤조일기를 포함한다.
하기 화학식 (식 중, Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄):
[화학식 42]
및 옥소기로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 티아졸리딘 고리 상에 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기의 예는, 하기 화학식 (식 중, Ra 및 Rb 는 각각 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기를 나타냄):
[화학식 43-1]
및 옥소기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개로 티아졸리딘 고리 상에 치환될 수 있고, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기인 티아졸리디닐알카노일기, 예컨대 2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[(2, 3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, [2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[2-옥소-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-옥소-(2, 3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[5-옥소-(2, 3 또는 4-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]헥사노일, 2-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]아세틸, 2,2-디메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-옥소-2-이소프로필리덴히드라조노-(3 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 2-[2-옥소-5-이소프로필리덴히드라조노-(3 또는 4-)티아졸리디닐]아세틸, 2-[2,4-디(이소프로필리덴히드라조노)-(3 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[2-메틸리덴히드라조노-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-에틸리덴히드라조노-(2, 3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[5-프로필리덴히드라조노-(2, 3 또는 4-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[2,5-디(이소프로필리덴히드라조노)-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[2,4,5-트리(이소프로필리덴히드라조노)-3-티아졸리디닐]헥사노일, 2-[4,5-디(이소프로필리덴히드라조노)-(2 또는 3-)티아졸리디닐]아세틸, 2,2-디메틸-3-[4-부틸리덴히드라조노(2, 3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[5-펜틸리덴-(2, 3 또는 4-)티아졸리디닐]프로피오닐 및 2-(헥실리덴히드라조노)-(3, 4 또는 5-)티아졸리디닐아세틸기를 포함한다.
히드록시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 저급 알킬기 외에, 히드록시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 2,3-디히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5,5,4-트리히드록시펜틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 1-히드록시이소프로필, 2-메틸-3-히드록시프로필, 트리플루오로메틸, 트리클로로메틸, 클로로메틸, 브로모에틸, 플루오로메틸, 요오도메틸, 디플루오로메틸, 디브로모에틸, 2-클로로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 4,4,4-트리클로로부틸, 4-플루오로부틸, 5-클로로펜틸, 3-클로로-2-메틸프로필, 5-브로모헥실, 5,6-디브로모헥실, 2-히드록시-3-플루오로프로필 및 2,2-디클로로-3-히드록시부틸기를 포함한다.
저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기를 가질 수 있는 카르바모일기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기를 갖는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 또는 2개를 가질 수 있는 카르바모일기, 예컨대 카르바모일, N-(2-메톡시에틸)카르바모일, 메틸카르바모일, 에틸카르바모일, 프로필카르바모일, 이소프로필카르바모일, 부틸카르바모일, tert-부틸카르바모일, 펜틸카르바모일, 헥실카르바모일, 디메틸카르바모일, 디에틸카르바모일, 디프로필카르바모일, 디부틸카르바모일, 디펜틸카르바모일, 디헥실카르바모일, N-메틸-N-에틸카르바모일, N-에틸-N-프로필카르바모일, N-메틸-N-부틸카르바모일, N-메틸-N-헥실카르바모일, N-(메톡시메틸)카르바모일, N-(3-프로폭시프로필)카르바모일, N-(4-부톡시부틸)카르바모일, N-(4-에톡시부틸)카르바모일, N-(5-펜틸옥시펜틸)카르바모일, N-(5-메톡시펜틸)카르바모일, N-(6-헥실옥시헥실)카르바모일, 디(2-메톡시에틸)카르바모일, N-(2-메톡시에틸)-N-메틸카르바모일 및 N-(2-메톡시에틸)-N-에틸카르바모일기를 포함한다.
저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기의 예는, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기이고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 알콕시알킬기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 또는 2개를 가질 수 있는 카르바모일기; 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기; 카르복시기; 시아노기; 페닐기; 할로겐 원자; 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 벤조일기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기, 예컨대 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-메톡시페닐, 2-에톡시페닐, 3-에톡시페닐, 4-에톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 3-부톡시페닐, 4-펜틸옥시페닐, 4-헥실옥시페닐, 3,4-디메톡시페닐, 3,4-디에톡시페닐, 2,4-디메톡시페닐, 2,5-디메톡시페닐, 2,6-디메톡시페닐, 3,4,5-트리메톡시페닐, 2-트리플루오로메톡시페닐, 3-트리플루오로메톡시페닐, 4-트리플루오로메톡시페닐, 2-(브로모메톡시)페닐, 3-(2-클로로에톡시)페닐, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐, 4-(4-플루오로부톡시)페닐, 3-(5-클로로펜틸옥시)페닐, 4-(5-브로모헥실옥시)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모에틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-트리클로로메틸페닐, 2-메톡시카르보닐페닐, 3-메톡시카르보닐페닐, 4-메톡시카르보닐페닐, 2-에톡시카르보닐페닐, 3-에톡시카르보닐페닐, 4-에톡시카르보닐페닐, 4-이소프로폭시카르보닐페닐, 3-부톡시카르보닐페닐, 4-tert-부톡시카르보닐페닐, 4-펜틸옥시카르보닐페닐, 4-헥실옥시카르보닐페닐, 3,4-디메톡시카르보닐페닐, 3,4-디에톡시카르보닐페닐, 2,4-디메톡시카르보닐페닐, 2,5-디에톡시카르보닐페닐, 2,6-디메톡시카르보닐페닐, 3,4,5-트리에톡시카르보닐페닐, 2-시아노페닐, 3-시아노페닐, 4-시아노페닐, 3,4-디시아노페닐, 3,5-디시아노페닐, 2,4-디시아노페닐, 2,5-디시아노페닐, 2,6-디시아노페닐, 3,4,5-트리시아노페닐, 2-페닐페닐, 3-페닐페닐, 4-페닐페닐, 3,4-디페닐페닐, 3,5-디페닐페닐, 2,4-디페닐페닐, 2,5-디페닐페닐, 2,6-디페닐페닐, 3,4,5-트리페닐페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 3,4-디클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 2-플루오로페닐, 3-플루오로페닐, 4-플루오로페닐, 2,5-디플루오로페닐, 2,4-디플루오로페닐, 3,4-디플루오로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 2,4,6-트리플루오로페닐, 2-브로모페닐, 3-브로모페닐, 4-브로모페닐, 2-요오도페닐, 3-요오도페닐, 4-요오도페닐, 2,3-디브로모페닐, 2,4-디요오도페닐, 2-히드록시페닐, 3-히드록시페닐, 4-히드록시페닐, 3,4-디히드록시페닐, 3,5-디히드록시페닐, 2,4-디히드록시페닐, 2,5-디히드록시페닐, 2,6-디히드록시페닐, 3,4,5-트리히드록시페닐, 3-벤질페닐, 2-(2-페닐에틸)페닐, 4-(1-페닐에틸)페닐, 2-(3-페닐프로필)페닐, 3-(4-페닐부틸)페닐, 4-(5-페닐펜틸)페닐, 2-(6-페닐헥실)페닐, 4-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)페닐, 3-(2-메틸-3-페닐프로필)페닐, 2-(4-플루오로벤질)페닐, 2-메틸-5-클로로페닐, 2-메톡시-5-클로로페닐, 4-(4-플루오로벤조일)페닐, 4-(4-플루오로벤질)페닐, 3-(2-클로로벤질)페닐, 4-(3-클로로벤질)페닐, 2-(4-클로로벤질)페닐, 3-[2-(4-플루오로페닐)에틸]페닐, 4-[2-(4-클로로페닐)에틸]페닐, 2-(3,4-디브로모벤질)페닐, 3-(3,4-디요오도벤질)페닐, 4-(2,4-디플루오로벤질)페닐, 2-(2,5-디클로로벤질)페닐, 3-(2,6-디클로로벤질)페닐, 4-(3,4,5-트리플루오로벤질)페닐, 2-[3-(4-클로로페닐)프로필]페닐, 3-[1-(2-브로모페닐)에틸]페닐, 4-[4-(3-플루오로페닐)부틸]페닐, 2-[5-(4-요오도페닐)펜틸]페닐, 3-[6-(4-클로로페닐)헥실]페닐, 2-[1,1-디메틸-2-(3-플루오로페닐)에틸]페닐, 4-[2-메틸-3-(4-클로로페닐)프로필]페닐, 2,4-디벤질페닐, 2,4,6-트리벤질페닐, 2-클로로-4-시아노페닐, 3-히드록시-4-페닐페닐, 3-에톡시카르보닐-2-벤조일페닐, 2-벤질-4-메틸-6-메톡시페닐, 4-[(2-메톡시에틸)카르바모일]페닐, 3-(N-에틸-N-이소프로필카르바모일)페닐, 4-디메틸카르바모일페닐, 2-카르복시페닐, 3-카르복시페닐 및 4-카르복시페닐기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐기의 예는, 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐기, 예컨대 3,4-메틸렌디옥시페닐, 3,4-트리메틸렌디옥시페닐, 2,3-에틸렌디옥시페닐, 2,3-테트라메틸렌디옥시페닐, 2,3-메틸렌디옥시페닐, 3,4-에틸렌디옥시페닐 및 2,3-트리메틸렌디옥시페닐기를 포함한다.
나프틸 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 나프틸알킬기, 예컨대 (1 또는 2-)나프틸메틸, 2-[(1 또는 2-)나프틸]에틸, 1-[(1 또는 2-)나프틸]에틸, 3-[(1 또는 2-)나프틸]프로필, 4-[(1 또는 2-)나프틸]부틸, 5-[(1 또는 2-)나프틸]펜틸, 6-[(1 또는 2-)나프틸]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1 또는 2-)나프틸]에틸 및 2-메틸-3-[(1 또는 2-)나프틸]프로필기를 포함한다.
시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페녹시기의 예는, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐기 상에서 치환될 수 있는 페녹시기, 예컨대 페녹시, 2-메틸페녹시, 3-메틸페닐, 4-메틸페녹시, 2-에틸페녹시, 3-에틸페녹시, 4-에틸페녹시, 4-이소프로필페녹시, 3-부틸페녹시, 4-펜틸페녹시, 4-헥실페녹시, 3,4-디메틸페녹시, 3,4-디에틸페녹시, 2,4-디메틸페녹시, 2,5-디메틸페녹시, 2,6-디메틸페녹시, 3,4,5-트리메틸페녹시, 2-메톡시페녹시, 3-메톡시페녹시, 4-메톡시페녹시, 2-에톡시페녹시, 3-에톡시페녹시, 4-에톡시페녹시, 4-이소프로폭시페녹시, 3-부톡시페녹시, 4-펜틸옥시페녹시, 4-헥실옥시페녹시, 3,4-디메톡시페녹시, 3,4-디에톡시페녹시, 2,4-디메톡시페녹시, 2,5-디메톡시페녹시, 2,6-디메톡시페녹시, 3,4,5-트리메톡시페녹시, 2-트리플루오로메톡시페녹시, 3-트리플루오로메톡시페녹시, 4-트리플루오로메톡시페녹시, 2-(브로모메톡시)페녹시, 3-(2-클로로에톡시)페녹시, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페녹시, 4-(4-플루오로부톡시)페녹시, 3-(5-클로로펜틸옥시)페녹시, 4-(5-브로모헥실옥시)페녹시, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페녹시, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페녹시, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페녹시, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페녹시, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페녹시, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페녹시, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페녹시, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페녹시, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페녹시, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페녹시, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페녹시, 2-트리플루오로메틸페녹시, 3-트리플루오로메틸페녹시, 4-트리플루오로메틸페녹시, 2-(브로모에틸)페녹시, 3-(2-클로로에틸)페녹시, 4-(2,3-디클로로프로필)페녹시, 4-(4-플루오로부틸)페녹시, 3-(5-클로로펜틸)페녹시, 4-(5-브로모헥실)페녹시, 4-(5,6-디브로모헥실)페녹시, 3,4-디(트리플루오로메틸)페녹시, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페녹시, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페녹시, 2,5-디(3-클로로프로필)페녹시, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페녹시, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페녹시, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페녹시, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페녹시, 3-에틸-4-트리클로로메틸페녹시, 2-시아노페녹시, 3-시아노페녹시, 4-시아노페녹시, 3,4-디시아노페녹시, 3,5-디시아노페녹시, 2,3-디시아노페녹시, 2,4-디시아노페녹시, 2,5-디시아노페녹시, 2,6-디시아노페녹시, 3,4,5-트리시아노페녹시, 2-시아노-4-메틸페녹시, 3-시아노-4-메톡시페녹시, 3-시아노-5-트리플루오로메틸페녹시 및 4-시아노-3-트리플루오로메톡시페녹시기를 포함한다.
할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기의 예는, 상기 기재된 페닐 저급 알콕시기 외에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개로 페닐 고리 상에 치환될 수 있고, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 페닐알콕시기, 예컨대 2,5-디플루오로벤질옥시, 2,4-디플루오로벤질옥시, 3,4-디플루오로벤질옥시, 3,5-디플루오로벤질옥시, 2,6-디플루오로벤질옥시, 3-트리플루오로메틸벤질옥시, 2-트리플루오로메틸벤질옥시, 4-트리플루오로메틸벤질옥시, 3,4-디메톡시벤질옥시, 3,5-디메톡시벤질옥시, 2-클로로벤질옥시, 3-클로로벤질옥시, 4-클로로벤질옥시, 2-메틸벤질옥시, 3-메틸벤질옥시, 4-메틸벤질옥시, 3,4-디메틸벤질옥시, 2,3-디메틸벤질옥시, 2-메톡시벤질옥시, 3-메톡시벤질옥시, 4-메톡시벤질옥시, 2,3-디클로로벤질옥시, 2,4-디클로로벤질옥시, 2,5-디클로로벤질옥시, 3,4-디클로로벤질옥시, 2,6-디클로로벤질옥시, 4-플루오로벤질옥시, 3-플루오로벤질옥시, 2-플루오로벤질옥시, 3-트리플루오로메톡시벤질옥시, 4-트리플루오로메톡시벤질옥시, 2-트리플루오로메톡시벤질옥시, 4-tert-부틸벤질옥시, 4-에틸벤질옥시, 4-이소프로필벤질옥시, 4-메톡시-3-클로로벤질옥시, 2-(4-메톡시페닐)에톡시, 2-(4-플루오로페닐)에톡시, 2-(4-클로로페닐)에톡시, 2-(3-메톡시페닐)에톡시, 2-(4-메틸페닐)에톡시, 3-메틸-4-클로로벤질옥시, 4-(4-메톡시페닐)부톡시, 2-(4-메틸페닐)에톡시, 4-tert-부티톡시벤질옥시, 3-클로로-6-메톡시벤질옥시, 4-메톡시-3-메틸벤질옥시, 2-(2-플루오로페닐)에톡시, 1-(3-브로모페닐)에톡시, 3-(4-요오도페닐)프로폭시, 4-(2-브로모페닐)부톡시, 5-(3-클로로페닐)펜틸옥시, 6-(4-브로모페닐)헥실옥시, 1,1-디메틸-2-(2,4-디클로로페닐)에톡시, 2-메틸-3-(2,4,6-트리플루오로페닐)프로폭시, 2-(2-에틸페닐)에톡시, 1-(3-프로필페닐)에톡시, 3-(4-부틸페닐)프로폭시, 4-(2-펜틸페닐)부톡시, 5-(3-헥실페닐)펜틸옥시, 6-(4-트리플루오로메틸페닐)헥실옥시, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페닐)에톡시, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메틸)페닐]프로폭시, 2-(2-에톡시페닐)에톡시, 1-(3-프로폭시페닐)에톡시, 3-(4-부톡시페닐)프로폭시, 4-(2-펜틸옥시페닐)부톡시, 5-(3-헥실옥시페닐)펜틸옥시, 6-(4-트리플루오로메톡시페닐)헥실옥시, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메톡시페닐)에톡시 및 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메톡시)페닐]프로폭시기를 포함한다.
1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 1 내지 5개를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기의 예는, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 5개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 알킬기, 예컨대 (1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 2-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 1-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 3-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필, 4-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]부틸, 5-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]펜틸, 6-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필, 1,1,4,4-테트라메틸(2, 3, 5 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 1,1,4,4,5-펜타메틸(2, 3, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 1,4,4-트리메틸(2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 5,6-디메틸(2, 3, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 2-[1-메틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 1-[2-에틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 3-[3-프로필-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필, 4-[(4-부틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]부틸, 5-[5-펜틸-(1, 2, 3, 4, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]펜틸, 6-[6-헥실-(1, 2, 3, 4, 5, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,7-디메틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸 및 2-메틸-3-[1,1,4-트리메틸-(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필기를 포함한다.
피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 피페리디닐기의 예는, 피페리딘 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 피페리디닐기, 예컨대 (1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-메틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-에틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-프로필-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-이소프로필-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-이소부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-tert-부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-펜틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1-헥실-(2, 3 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디메틸-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐 및 1,2,6-트리메틸-(3, 4 또는 5-)피페리디닐기를 포함한다.
퀴놀릴 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 퀴놀릴알킬기, 예컨대 (2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)퀴놀릴-메틸, 2-[(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)퀴놀릴]에틸, 1-[(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)퀴놀릴]에틸, 3-[(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)퀴놀릴]프로필, 4-[(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)퀴놀릴]부틸, 5-[(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)펜틸 및 6-[(2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)헥실기를 포함한다.
저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 및 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라졸릴알킬기, 예컨대 [(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]메틸, 2-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]에틸, 1-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]에틸, 3-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]프로필, 4-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]부틸, 5-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]펜틸, 6-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]헥실, 5-[1-메틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]펜틸, 6-[1-메틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실, 5-메틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)메틸, 2-[5-에틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 2-메틸-3-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]프로필, [1-메틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, [1-에틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 2-[1-프로필-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 1-[1-부틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 3-[1-펜틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 3-[5-프로필-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 4-[5-부틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]부틸, 5-[5-펜틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]펜틸, 6-[5-헥실-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실, [1-에틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, [1-벤질-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 1-[(2-페닐에틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 2-[1-(3-페닐프로필)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 1-[1-(4-페닐부틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 3-[1-(5-페닐펜틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 4-[1-(6-페닐헥실)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]부틸, 5-[1-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 6-[1-(2-메틸-3-페닐프로필)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실, 5-벤질-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)메틸, 2-[5-(1-페닐에틸)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 3-[5-(3-페닐프로필)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 4-[5-(4-페닐부틸)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]부틸, 5-[5-(5-페닐펜틸)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]펜틸 및 6-[5-(6-페닐헥실)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실기를 포함한다.
티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기의 예는, 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기 1 또는 2개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸릴알킬기, 예컨대 [(2, 4 또는 5-)티아졸릴]메틸, 2-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]에틸, 1-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]에틸, 3-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]프로필, 4-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]부틸, 5-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]펜틸, 6-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2, 4 또는 5-)티아졸릴]프로필, [2-페닐-(4 또는 5-)티아졸릴]메틸, 2-[4-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]에틸, 1-[5-페닐-(2 또는 4-)티아졸릴]에틸, 3-[2-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]프로필, 4-(2,4-디페닐-5-티아졸릴)부틸, 5-(2,5-디페닐-4-티아졸릴)펜틸, 6-(4,5-디페닐-2-티아졸릴)헥실, 1,1-디메틸-2-[2-페닐-(4 또는 5-)티아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[4-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]프로필, [4-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]메틸, [5-페닐-(2 또는 4-)티아졸릴]메틸, (2,4-디페닐-5-티아졸릴)메틸, (2,5-디페닐-4-티아졸릴)메틸 및 (4,5-디페닐-2-티아졸릴)메틸기를 포함한다.
저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 벤조일알킬기, 예컨대 벤조일메틸, 2-벤조일에틸, 1-벤조일에틸, 3-벤조일프로필, 4-벤조일부틸, 5-벤조일펜틸, 6-벤조일헥실, 1,1-디메틸-2-벤조일에틸, 2-메틸-3-벤조일프로필, 4-플루오로벤조일메틸, 2-클로로벤조일메틸, 3-클로로벤조일메틸, 4-클로로벤조일메틸, 2-(4-플루오로벤조일)에틸, 2-(4-클로로벤조일)에틸, 3,4-디브로모벤조일메틸, 3,4-디요오도벤조일메틸, 2,4-디플루오로벤조일메틸, 2,5-디클로로벤조일메틸, 2,6-디클로로벤조일메틸, 3,4,5-트리플루오로벤조일메틸, 3-(4-클로로벤조일)프로필, 1-(2-브로모벤조일)에틸, 4-(3-플루오로벤조일)부틸, 5-(4-요오도벤조일)펜틸, 6-(4-클로로벤조일)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-플루오로벤조일)에틸, 2-메틸-3-(4-클로로벤조일)프로필, 2-메톡시벤조일메틸, 2-(3-메톡시벤조일)에틸, 2-(4-메톡시벤조일)에틸, 4-메톡시벤조일메틸, 1-(2-에톡시벤조일)에틸, 3-(3-에톡시벤조일)프로필, 4-(4-에톡시벤조일)부틸, 5-(4-이소프로폭시벤조일)펜틸, 6-(3-부톡시벤조일)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-펜틸옥시벤조일)에틸, 2-메틸-3-(4-헥실옥시벤조일)프로필, 3,4-디메톡시벤조일메틸, 3,4-디에톡시벤조일메틸, 2,4-디메톡시벤조일메틸, 2,5-디메톡시벤조일메틸, 2,6-디메톡시벤조일메틸, 3,4,5-트리메톡시벤조일메틸, 2-클로로-4-메톡시벤조일메틸 및 3-플루오로-5-에톡시벤조일메틸기를 포함한다.
피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기의 예는, 피페리딘 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피페리디닐알킬기, 예컨대 [(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]메틸, 2-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]에틸, 1-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]에틸, 3-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]프로필, 4-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]부틸, 5-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]펜틸, 6-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 3 또는 4-)피페리디닐]프로필, [1-메틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐]메틸, 2-[1-에틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐]에틸, 1-[4-프로필-(1, 2 또는 3-)피페리디닐]에틸, 3-[3-이소프로필-(1, 2, 4, 5 또는 6-)피페리디닐]프로필, 4-[2-부틸-(1, 3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐]부틸, 5-[1-이소부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐]펜틸, 6-[1-tert-부틸-(2, 3 또는 4-)피페리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-펜틸-(1, 2 또는 3-)피페리디닐]에틸, 2-메틸-3-[1-헥실-(2, 3 또는 4-)피페리디닐]프로필, [1,2-디메틸-(3, 4, 5 또는 6-)피페리디닐]메틸 및 [1,2,6-트리메틸-(3, 4 또는 5-)피페리디닐]메틸기를 포함한다.
이미다졸 고리 상에 치환기로서 페닐기 1 내지 3개를 가질 수 있는 이미다졸릴기의 예는, 이미다졸 고리 상에 치환기로서 페닐기 1 내지 3개를 가질 수 있는 이미다졸릴기, 예컨대 (1, 2, 4 또는 5-)이미다졸릴, 1-페닐-(2, 4 또는 5-)이미다졸릴, 2-페닐-(1, 4 또는 5-)이미다졸릴, 4-페닐-(1, 2 또는 5-)이미다졸릴, 5-페닐-(1, 2 또는 4-)이미다졸릴, 1,2-디페닐-(4 또는 5-)이미다졸릴, 2,4-디페닐-(1 또는 5-)이미다졸릴, 4,5-디페닐-(1 또는 2-)이미다졸릴, 2,5-디페닐-(1 또는 4-)이미다졸릴 및 2,4,5-트리페닐-1-이미다졸릴기를 포함한다.
벤즈이미다졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기의 예는, 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3개를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, 예컨대 (1, 2, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-메틸-(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 2-에틸-(1, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 4-프로필-(1, 2, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 5-부틸-(1, 2, 4, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 6-펜틸-(1, 2, 4, 5 또는7-)벤즈이미다졸릴, 7-헥실-(1, 2, 4, 5 또는 6-)벤즈이미다졸릴, 1-에틸-(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴]헥실, 1-부틸-(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-이소프로필-(1, 2, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1,2-디메틸-(4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-메틸-4-에틸-(2, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-프로필-5-메틸-(2, 4, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴 및 1,2,5-트리메틸-(2, 4, 5, 6 또는 7-)벤즈이미다졸릴기를 포함한다.
피리딜 저급 알콕시기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알콕시기, 예컨대 (2, 3 또는 4-)피리딜메톡시, 2-[(2, 3 또는 4-)피리딜]에톡시, 1-[(2, 3 또는 4-)피리딜]에톡시, 3-[(2, 3 또는 4-)피리딜]프로폭시, 4-[(2, 3 또는 4-)피리딜]부톡시, 1-1-디메틸-2-[(2, 3 또는 4-)피리딜]에톡시, 5-[(2, 3 또는 4-)피리딜]펜틸옥시, 6-[(2, 3 또는 4-)피리딜]헥실옥시, 1-[(2, 3 또는 4-)피리딜]이소프로폭시 및 2-메틸-3-[(2, 3 또는 4-)피리딜]프로폭시기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기의 예는, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 또는 2개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴알킬기, 예컨대 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴메틸, 2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 1-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]프로필, 4-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]부틸, 5-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]펜틸, 6-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]프로필, [2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]메틸, [4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]메틸, [2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]메틸, 2-[2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 3-[4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]프로필, 4-[2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]부틸, 5-[2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]펜틸 및 6-[4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]헥실기를 포함한다.
1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기의 예는, 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,3,4-옥사디아졸릴알킬기, 예컨대 (2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴메틸, 2-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 1-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 3-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필, 4-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]부틸, 5-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]펜틸, 6-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필, 2-옥소-[(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]메틸, 5-옥소-[(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]메틸, 2-[2-옥소-(3 또는 5-)(1,3,4-옥사디아졸릴)]에틸, 1-[5-옥소-(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 3-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필, 4-[2-옥소(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]부틸, 5-[5-옥소(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]펜틸, 6-[2-옥소(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[5-옥소(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸 및 2-메틸-3-[2-옥소(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필기를 포함한다.
티에닐 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기인 티에닐알킬기, 예컨대 (2 또는 3-)티에닐메틸, 2-[(2 또는 3-)티에닐]에틸, 1-[(2 또는 3-)티에닐]에틸, 3-[(2 또는 3-)티에닐]프로필, 4-[(2 또는 3-)티에닐]부틸, 5-[(2 또는 3-)티에닐]펜틸, 6-[(2 또는 3-)티에닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)티에닐]에틸 및 2-메틸-3-[(2 또는 3-)티에닐]프로필기를 포함한다.
피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기의 예는, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 내지 3개를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, 예컨대 (2, 3, 4 또는 6-)피리미디닐카르보닐, 2,6-디옥소-(1, 3, 4 또는 5-)피리미디닐카르보닐, 2-옥소-(1, 3, 4, 5 또는 6-)피리미디닐카르보닐, 6-옥소-(1, 2, 3, 4 또는 5-)피리미디닐카르보닐, 4-옥소-(1, 2, 3, 5 또는 6-)피리미디닐카르보닐, 2,4-디옥소-(1, 3, 4 또는 6-)피리미디닐카르보닐 및 2,4,6-트리옥소-(1, 3 또는 5-)피리미디닐카르보닐기를 포함한다.
저급 알콕시 저급 알콕시기의 예는, 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기, 예컨대 메톡시메톡시, 1-에톡시에톡시, 2-메톡시에톡시, 2-프로폭시에톡시, 3-이소프로폭시프로폭시, 4-부톡시부톡시, 5-펜틸옥시펜틸옥시, 6-헥실옥시헥실옥시, 1,1-디메틸-2-메톡시에톡시, 2-메틸-3-에톡시프로폭시 및 3-메톡시프로폭시기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기의 예는, 2개의 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 알콕시카르보닐알콕시기, 예컨대 메톡시카르보닐메톡시, 에톡시카르보닐메톡시, 2-메톡시카르보닐에톡시, 2-에톡시카르보닐에톡시, 1-에톡시카르보닐에톡시, 3-메톡시카르보닐프로폭시, 3-에톡시카르보닐프로폭시, 4-에톡시카르보닐부톡시, 5-이소프로폭시카르보닐펜틸옥시, 6-프로폭시카르보닐헥실옥시, 1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐에톡시, 2-메틸-3-tert-부톡시카르보닐프로폭시, 2-펜틸옥시카르보닐에톡시 및 헥실옥시카르보닐메톡시기를 포함한다.
카르복시 저급 알콕시기의 예는, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기인 카르복시알콕시기, 예컨대 카르복시메톡시, 2-카르복시에톡시, 1-카르복시에톡시, 3-카르복시프로폭시, 4-카르복시부톡시, 5-카르복시펜틸옥시, 6-카르복시헥실옥시, 1,1-디메틸-2-카르복시에톡시 및 2-메틸-3-카르복시프로폭시기를 포함한다.
페녹시 저급 알카노일기의 예는, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6의 선형 또는 분지형 알카노일기인 페녹시알카노일기, 예컨대 2-페녹시아세틸, 3-페녹시프로피오닐, 2-페녹시프로피오닐, 4-페녹시부티릴, 5-페녹시펜타노일, 6-페녹시헥사노일, 2,2-디메틸-2-페녹시프로피오닐 및 2-메틸-3-페녹시프로피오닐기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기의 예는, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 또는 2개를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, 예컨대 [(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐, [2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐, [4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐 및 [2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기의 예는, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기 1 또는 2개를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 예컨대 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 및 2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기를 포함한다.
치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기의 예는, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기, 예컨대 아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, 프로폭시카르보닐아미노, 이소프로폭시카르보닐아미노, 부톡시카르보닐아미노, tert-부톡시카르보닐아미노, 펜틸옥시카르보닐아미노 및 헥실옥시카르보닐아미노기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시기 1 내지 3개를 가질 수 있는 벤조일기의 예는, 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기 1 내지 3개를 가질 수 있는 벤조일기, 예컨대 벤조일, 2-메톡시벤조일, 3-메톡시벤조일, 4-메톡시벤조일, 2-에톡시벤조일, 3-에톡시벤조일, 4-에톡시벤조일, 4-이소프로폭시벤조일, 3-부톡시벤조일, 4-펜틸옥시벤조일, 4-헥실옥시벤조일, 3,4-디메톡시벤조일, 3,4-디에톡시벤조일, 2,4-디메톡시벤조일, 2,5-디메톡시벤조일, 2,6-디메톡시벤조일 및 3,4,5-트리메톡시벤조일기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 1 또는 2개를 갖는 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 페닐 저급 알킬기 외에, 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 1 또는 2개를 갖는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 1,1-디페닐메틸, 1,1-디(4-플루오로페닐)메틸, 1-페닐-1-(4-메톡시페닐)메틸, 3,3-디페닐프로필, 2,5-디플루오로벤질, 2,4-디플루오로벤질, 3,4-디플루오로벤질, 3,5-디플루오로벤질, 2,6-디플루오로벤질, 3-트리플루오로메틸벤질, 2-트리플루오로메틸벤질, 4-트리플루오로메틸벤질, 3,4-디메톡시벤질, 3,5-디메톡시벤질, 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 4-메틸벤질, 3,4-디메틸벤질, 2,3-디메틸벤질, 2-메톡시벤질, 3-메톡시벤질, 4-시아노벤질, 2-시아노벤질, 3-시아노벤질, 4-메톡시벤질, 2,3-디클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 2,5-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 2,6-디클로로벤질, 4-플루오로벤질, 3-플루오로벤질, 2-플루오로벤질, 4-니트로벤질, 3-니트로벤질, 2-니트로벤질, 3-트리플루오로메톡시벤질, 4-트리플루오로메톡시벤질, 2-트리플루오로메톡시벤질, 4-메톡시카르보닐벤질, 3-메톡시카르보닐벤질, 4-tert-부틸벤질, 4-에틸벤질, 4-이소프로필벤질, 4-메톡시-3-클로로벤질, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 2-(4-플루오로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-페닐벤질, 3,3-디페닐프로필, 3-메틸-4-니트로벤질, 4-(4-메톡시페닐)부틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-tert-부티톡시카르보닐벤질, 3-클로로-6-메톡시벤질, 4-니트로-3-메틸벤질, 4-tert-부티릴벤질, 2-(2-에톡시카르보닐페닐)에틸, 1-(3-프로폭시카르보닐페닐)에틸, 3-(4-펜틸옥시카르보닐페닐)프로필, 4-(3-헥실옥시카르보닐페닐)부틸, 5-(3,4-디메톡시카르보닐페닐)펜틸, 6-(3,4,5-디에톡시카르보닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-부톡시카르보닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-메톡시카르보닐페닐)프로필, 2-(2-시아노페닐)에틸, 1-(3-시아노페닐)에틸, 3-(4-시아노페닐)프로필, 4-(2-시아노페닐)부틸, 5-(3-시아노페닐)펜틸, 6-(4-시아노페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디시아노페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리시아노페닐)프로필, 2-(2-니트로페닐)에틸, 1-(3-니트로페닐)에틸, 3-(4-니트로페닐)프로필, 4-(2-니트로페닐)부틸, 5-(3-니트로페닐)펜틸, 6-(4-니트로페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디니트로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리니트로페닐)프로필, 2-(2-페닐페닐)에틸, 1-(3-페닐페닐)에틸, 3-(4-페닐페닐)프로필, 4-(2-페닐페닐)부틸, 5-(3-페닐페닐)펜틸, 6-(4-페닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디페닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리페닐페닐)프로필, 2-(2-플루오로페닐)에틸, 1-(3-브로모페닐)에틸, 3-(4-요오도루페닐)프로필, 4-(2-브로모페닐)부틸, 5-(3-클로로페닐)펜틸, 6-(4-브로모루페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디클로로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리플루오로페닐)프로필, 2-(2-에틸페닐)에틸, 1-(3-프로필페닐)에틸, 3-(4-부틸페닐)프로필, 4-(2-펜틸페닐)부틸, 5-(3-헥실페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메틸페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메틸)페닐]프로필, 2-(2-에톡시페닐)에틸, 1-(3-프로폭시페닐)에틸, 3-(4-부톡시페닐)프로필, 4-(2-펜틸옥시페닐)부틸, 5-(3-헥실옥시페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메톡시페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메톡시)페닐]프로필, 2-메틸티오벤질, 3-메틸티오벤질, 4-메틸티오벤질, 3,4-디메틸티오벤질, 2,3-디메틸티오벤질, 2-(2-에틸티오페닐)에틸, 2-(4-메틸티오페닐)에틸, 1-(3-프로필티오페닐)에틸, 3-(4-부틸티오페닐)프로필, 4-(2-펜틸티오페닐)부틸, 5-(3-헥실티오페닐)펜틸, 6-(4-메틸티오페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸티오페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리메틸티오페닐]프로필, 2-메틸-4-시아노벤질, 3-에톡시-4-에톡시카르보닐벤질, 4-페닐-3-니트로벤질, 3-플루오로-4-메톡시벤질, 4-트리플루오로메틸-3-시아노벤질 및 3-트리플루오로메톡시-3-플루오로벤질기를 포함한다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기의 예는, 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자 1 내지 3개를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 기 1 내지 3개를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기, 예컨대 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-메톡시페닐, 2-에톡시페닐, 3-에톡시페닐, 4-에톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 3-부톡시페닐, 4-펜틸옥시페닐, 4-헥실옥시페닐, 3,4-디메톡시페닐, 3,4-디에톡시페닐, 2,4-디메톡시페닐, 2,5-디메톡시페닐, 2,6-디메톡시페닐, 3,4,5-트리메톡시페닐, 2-트리플루오로메톡시페닐, 3-트리플루오로메톡시페닐, 4-트리플루오로메톡시페닐, 2-(브로모메톡시)페닐, 3-(2-클로로에톡시)페닐, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐, 4-(4-플루오로부톡시)페닐, 3-(5-클로로펜틸옥시)페닐, 4-(5-브로모헥실옥시)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모에틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐 및 3-에틸-4-트리클로로메틸페닐기를 포함한다.
히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 1 내지 3 의 저급 알킬기를 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기의 예는, 1 내지 3 의 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있고, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 피롤리디닐알킬기 예컨대 [(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]메틸, 2-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 1-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 3-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]부틸, 5-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]펜틸, 6-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2 또는 3-)피롤리디닐]프로필, [1-메틸-(2 또는 3-)피롤리디닐]메틸, 2-[2-에틸-(1, 3, 4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 1-[3-프로필-(1, 2, 4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 3-[1-부틸-(2 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[2-펜틸-(1, 3, 4 또는 5-)피롤리디닐]부틸, 5-[3-헥실-(1, 2, 4 또는 5-)피롤리디닐]펜틸, 6-[1,2-디메틸-(3, 4 또는 5-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,2,3-트리메틸-(4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 2-메틸-3-[1-에틸-2-메틸-(3, 4 또는 5-)피롤리디닐]프로필, [1-(2-히드록시에틸)-(2 또는 3-)피롤리디닐]메틸, [2-히드록시메틸-(1, 3, 4 또는 5-)피롤리디닐]메틸, 2-[2-히드록시메틸-(1, 3, 4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 1-[3-(3-히드록시프로필)-(1, 2, 4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 3-[1-(4-히드록시부틸)-(2 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[2-(5-히드록시펜틸)-(1, 3, 4 또는 5-)피롤리디닐]부틸, 5-[3-(6-히드록시헥실)-(1, 2, 4 또는 5-)피롤리디닐]펜틸, 6-[1,2-디히드록시메틸-(3, 4 또는 5-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,2,3-트리히드록시메틸-(4 또는
5-)피롤리디닐]에틸, 2-메틸-3-[2-(1,2-히드록시에틸)-(1, 3, 4 또는 5-)피롤리디닐]프로필, 및 [2-(2,3,4-트리히드록시부틸)-(1, 3, 4 또는
5-)피롤리디닐]메틸기를 포함한다.
페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기의 예는, 페닐기 및 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 또는 2 의 치환기를 가질 수 있는 아미노기로 치환된, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기 예건대 아미노메틸, 2-아미노메틸, 1-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, N,N-디에틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 1-에틸아미노에틸, 2-프로필아미노에틸, 3-이소프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 5-펜틸아미노펜틸, 6-헥실아미노헥실, 디메틸아미노메틸, 2-디이소프로필아미노에틸, (N-에틸-N-프로필아미노)메틸, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸, 페닐아미노메틸, 1-페닐아미노에틸, 2-페닐아미노에틸, 3-페닐아미노프로필, 4-페닐아미노부틸, 5-페닐아미노펜틸, 6-페닐아미노헥실, N-메틸-N-페닐아미노메틸, 2-(N-에틸-N-페닐아미노)에틸, (N-에틸-N-페닐아미노)메틸, 및 2-(N-메틸-N-페닐아미노)에틸기를 포함한다.
히드록실기를 치환기로서 저급 알킬기 상에 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기의 예는, 히드록실기를 치환기로서 저급 알킬기 상에 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 테트라히드로푸릴알킬기 예컨대 [(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]메틸, 2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 1-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 3-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]프로필, 4-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]부틸, 5-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]펜틸, 6-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]프로필, 1-히드록시-1-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]메틸, 2-히드록시-2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 2-히드록시-1-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 3-히드록시-3-[(2 또는 3-)테트라히드로테트라히드로푸릴]프로필, 4-히드록시-4-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]부틸, 5-히드록시-5-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]펜틸, 6-히드록시-6-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]헥실, 2-히드록시-1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 및 3-히드록시-2-메틸-3-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]프로필기를 포함한다.
저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 페녹시 저급 알킬기 외에, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페녹시알킬기 예컨대 2-메틸페녹시메틸, 3-메틸페녹시메틸, 4-메틸페녹시메틸, 3,4-디메틸페녹시메틸, 2,3-디메틸페녹시메틸, 3,4,5-트리메틸페녹시메틸, 2-(2-에틸페녹시)에틸, 2-(3-메틸페녹시)에틸, 2-(4-메틸페녹시)에틸, 1-(3-프로필페녹시)에틸, 3-(4-부틸페녹시)프로필, 4-(2-펜틸페녹시)부틸, 5-(3-헥실페녹시)펜틸, 6-(4-메틸페녹시)헥실, 1,1-디메틸-2-(2, 4-디메틸페녹시)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리메틸페녹시)프로필, 2-(4-니트로-3-메틸페녹시)에틸, 4-니트로페녹시메틸, 3-니트로페녹시메틸, 2-니트로페녹시메틸, 2-(2-니트로페녹시)에틸, 2-(4-니트로페녹시)에틸, 1-(3-니트로페녹시)에틸, 3-(4-니트로페녹시)프로필, 4-(2-니트로페녹시)부틸, 5-(3-니트로페녹시)펜틸, 6-(4-니트로페녹시)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디니트로페녹시)에틸, 및 2-메틸-3-(2,4,6-트리니트로페녹시)프로필기를 포함한다.
페닐 저급 알카노일기의 예는 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기인 페닐알카노일기 예컨대 2-페닐아세틸, 3-페닐프로피오닐, 2-페닐프로피오닐, 4-페닐부티릴, 5-페닐펜타노일, 6-페닐헥사노일, 2,2-디메틸-3-페닐프로피오닐, 및 2-메틸-3-페닐프로피오닐기를 포함한다.
할로겐 원자 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기의 예는, 할로겐 원자 및 1 내지 3 의 할로겐 원자를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기 예컨대 페닐, 3,4-디플루오로페닐, 2-플루오로페닐, 3-브로모페닐, 4-요오도페닐, 4-메틸페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모메틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-트리클로로메틸페닐, 2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-플루오로페닐, 3-플루오로-4-트리클로로메틸페닐, 2-메틸-3-트리플루오로메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-플루오로페닐, 4-플루오로페닐, 2-브로모페닐, 4-브로모페닐, 2-요오도페닐, 3-요오도페닐, 2,3-디브로모페닐, 2,4-디요오도페닐, 2,5-디플루오로페닐, 2,6-디클로로페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 2,4-디플루오로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 3,4-디클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,4,6-트리플루오로페닐, 및 2,4-디플루오로페닐기를 포함한다.
R20 및 R21, R22 및 R23, R26 및 R27, R29 및 R30 또는 R32 및 R33 을 그들에 결합되어 있는 질소 원자와 함께, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 통하거나 통하지 않고, 상호 결합시켜 형성되는 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 기의 예는, 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노, 및 호모피페라지닐기를 포함한다.
저급 알킬기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기의 예는, 상기 기재된 페녹시 저급 알킬기 외에, 탄소수 1 내지 6 인 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페녹시알킬기 예컨대 2-메틸페녹시메틸, 3-메틸페녹시메틸, 4-메틸페녹시메틸, 3,4-디메틸페녹시메틸, 2,3-디메틸페녹시메틸, 3,4,5-트리메틸페녹시메틸, 2-(2-에틸페녹시)에틸, 2-(4-메틸페녹시)에틸, 1-(3-프로필페녹시)에틸, 3-(4-부틸페녹시)프로필, 4-(2-펜틸페녹시)부틸, 5-(3-헥실페녹시)펜틸, 6-(4-메틸페녹시)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페녹시)에틸, 및 2-메틸-3-(2,4,6-트리메틸페녹시)프로필기를 포함한다.
화학식 (1) 로 나타내는 화합물 또는 그의 염이 더욱 바람직하며, 여기서
X1 는 질소 원자 또는 -CH= 기를 나타내고,
R1 은 -Z-R6 기를 나타내고,
Z 는 -N(R8)-B- 기, -B-N(R8)- 기, -B0-O- 기 또는 -N(R9a)-CO-N-(R9b)- 기를 나타내고,
R8 은 수소 원자, 저급 알콕시기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,
B 는 기 -CO- 기 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R6 은 하기를 나타내고:
[화학식 43-2]
R7 은 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
m 은 정수 1 또는 2 (여기서 m 은 2 를 나타내고, 2 개의 R7 은 동일하거나 상이할 수 있음)를 나타내고,
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
Y 는 -O- 기, 또는 -N(R5)- 기를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
A 는 하기를 나타내고:
[화학식 43-3]
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 또는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
R4 는 -(T)1-N(R14)R15 기를 나타내고,
T 는 -N(R17)-B3-CO- 기, -B4-CO- 기, 또는 -CO- 기를 나타내고,
R17 은 수소 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B3 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B4 는 저급 알케닐렌기 또는 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타내고,
R14 는 수소 원자 또는 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,
R15 는 페닐 저급 알킬기(저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 기를 치환기(들) 로서 페닐 고리 상에 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 기를 치환기(들) 로서 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 (36a) 피페라지닐 치환 옥살릴기를 나타내고,
R14 및 R15 는, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께, 피페리디닐 또는 피페라지닐기인 헤테로시클릭 기를 형성하고, 여기서 헤테로시클릭 고리는 (28) 페닐 치환 저급 알킬기(저급 알카노일기, 저급 알카노일기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 페닐 고리 상에서 치환될 수 있음), (49) -(B12CO)t-N(R20)R21 기, 또는 (84) -(O-B15)s-CO-N(R26)R27 기로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 치환될 수 있고,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
R20 및 R21 은, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 헤테로시클릭 고리 상에서 치환될 수 있는, 피페리디닐 또는 피페라지닐기인 포화 헤테로시클릭 기를 형성하고,
B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
R26 및 R27 은 동일하거나 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리(여기서 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬렌디옥시기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 1 내지 3 의 페닐 저급 알킬기로 치환될 수 있음)를 형성할 수 있다.
예를 들면, 화학식 (1) 로 나타내는 화합물 또는 그의 염이 더욱더 바람직하며, 여기서
X1 는 질소 원자를 나타내고,
R1 은 -Z-R6 기를 나타내고,
Z 는 -N(R8)-B- 기를 나타내고,
R8 은 수소 원자, 또는 저급 알콕시기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
B 는 -CO- 기를 나타내고,
R6 은 하기를 나타내고:
[화학식 43-4]
R7 은 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
m 은 정수 1 또는 2(m 이 2 를 나타내는 경우, 2 개의 R7 은 동일하거나 상이할 수 있음)를 나타내고,
R2 는 수소 원자를 나타내고,
Y 는 -O- 기, 또는 -N(R5)- 기를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
A 는 하기를 나타내고:
[화학식 43-5]
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 또는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
R4 는 -(T)1-N(R14)R15 기를 나타내고,
T 는 -N(R17)-B3-CO- 기, -B4-CO- 기, 또는 -CO- 기를 나타내고,
R17 은 수소 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B4 는 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타내고,
R14 및 R15 는, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께, 저급 알킬렌디옥시기로 페닐 고리 상에서 치환될 수 있는 (28) 페닐 치환 저급 알킬기로 헤테로시클릭 고리 상에서 치환될 수 있는, 피페리디닐 또는 피페라지닐기인 헤테로시클릭 기를 형성한다.
또다른 더욱 바람직한 예는 화학식 (1) 로 나타내는 화합물 또는 그의 염이며, 여기서
X1 은 질소 원자를 나타내고,
R1 은 -Z-R6 기를 나타내고
Z 는 -N(R8)-B- 기를 나타내고
R8 은 수소 원자, 또는 알콕시기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
B 는 -C0- 기를 나타내고,
R6 은 하기를 나타내고:
[화학식 43-6]
R7 은 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
m 은 정수 1 또는 2(여기서 m 은 2 를 나타내고, 2 개의 R7 은 동일하거나 상이할 수 있음)를 나타내고,
R2 는 수소 원자를 나타내고,
Y 는 -0- 기, 또는 -N(R5)- 기를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
A 는 하기를 나타내고:
[화학식 43-7]
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 또는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
R4 는 -(T)1-N(R14)R15 기를 나타내고,
R17 은 수소 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B4 는 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 을 나타내고,
R14 및 R15 는, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께, (49) -(B12CO)t-N(R20)R21 기, 및 (84) -(O-B15)s-CO-N(R26)R27 기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기가 헤테로시클릭 고리 상에 존재할 수 있는, 피페리디닐 또는 피페라지닐기인 헤테로시클릭 기를 형성하고,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
R20 및 R21 은, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기인 하나의 치환기가 헤테로시클릭 고리 상에 존재할 수 있는, 피페라진 또는 피페리딘인 포화 헤테로시클릭 기를 형성하고,
B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
R26 및 R27 은, 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께, 직접 또는 산소 원자 또는 질소 원자를 통해, 서로 결합하여 6-원 포화 헤테로시클릭 고리,(여기서 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 1 내지 3 의 페닐 저급 알킬기로 치환될 수 있음)를 형성한다.
본 발명에 따른 화합물의 제조방법을 이하 기술한다.
다양한 기가 Y 로서 이용될 수 있는 화학식 (1) 로 나타내는 본 발명에 따른 화합물은, 예를 들면 하기 반응식 1 내지 4 에 따라서 제조된다.
[반응식 1]
[화학식 44]
식중, R1, R2, X1 및 A 는 상기와 동일하고, Y1 은 -O- 기, -S- 기 또는 -NH- 기를 나타내고, X2 는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (2) 와 화합물 (3) 사이의 반응은 일반적으로 적절한 용매의 존재 또는 부재 하에 및 염기성 화합물의 존재 또는 부재 하에 수행된다.
사용되는 비활성 용매의 예는 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 크실렌, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림, 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 카본 테트라클로리드, 저급 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올, 및 에틸렌 글리콜, 지방산 예컨대 아세트산, 에스테르 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
염기성 화합물의 예는 카르보네이트 예컨대 나트륨 카르보네이트, 칼륨 카르보네이트, 나트륨 비카르보네이트, 칼륨 비카르보네이트, 및 세슘 카르보네이트, 금속 히드록시드 예컨대 나트륨 히드록시드, 칼륨 히드록시드, 및 칼슘 히드록시드, 나트륨 히드리드, 칼륨 히드리드, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 금속 알콜레이트 예컨대 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 및 나트륨 n-부톡시드, 및 유기 염기 예컨대 피리딘, 이미다졸, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU), 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO), 및 이들의 혼합물을 포함한다.
반응이 염기성 화합물의 존재 하에 수행되는 경우, 염기성 화합물은 전형적으로 몰기준으로 화합물 (2) 에 대해 등몰량으로, 바람직하게는 화합물 (2)의 1 내지 10 배로 사용된다.
화합물 (3)은 전형적으로 몰기준으로 화합물 (2) 에 대해 등몰량으로 및 바람직하게는 화합물 (2) 의 1 내지 10 배로 사용된다.
반응은 전형적으로 -30 내지 200℃ 에서, 및 바람직하게는 약 -30 내지 150℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 5 분 내지 80 시간 내에 완료된다.
상기 반응계에, 알칼리 금속 할라이드 예컨대 나트륨 요오디드 또는 칼륨 요오디드가 첨가될 수 있고, 상-전이 촉매가 첨가될 수 있다.
상-전이 촉매의 예는 탄소수 1 내지 18 의 선형 또는 분지형 알킬기, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐 알킬기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 치환된 4차 암모늄 염, 예컨대 테트라부틸암모늄 클로리드, 테트라부틸암모늄 브로미드, 테트라부틸암모늄 플루오리드, 테트라부틸암모늄 요오디드, 테트라부틸암모늄 히드록시드, 테트라부틸암모늄 히드로젠술파이트, 트리부틸메틸암모늄 클로리드, 트리부틸벤질암모늄 클로리드, 테트라펜틸암모늄 클로리드, 테트라펜틸암모늄 브로미드, 테트라헥실암모늄 클로리드, 벤질디메틸옥틸암모늄 클로리드, 메틸트리헥실암모늄 클로리드, 벤질디메틸옥타데카닐암모늄 클로리드, 메틸트리데카닐암모늄 클로리드, 벤질트리프로필암모늄 클로리드, 벤질트리에틸암모늄 클로리드, 페닐트리에틸암모늄 클로리드, 테트라에틸암모늄 클로리드, 테트라메틸암모늄 클로리드; 탄소수 1 내지 18 의 선형 또는 분지형 알킬기로 치환된 포스포늄 염 예컨대 테트라부틸포스포늄 클로리드; 및 탄소수 1 내지 18 의 선형 또는 분지형 알킬기로 치환된 피리디늄 염 예컨대 1-도데카닐피리디늄 클로리드를 포함한다. 상기 상-전이 촉매는 단독으로 또는 2종 이상을 병용하여 사용된다.
전형적으로 상-전이 촉매는 몰기준으로 화합물 (2) 의 0.1 내지 1 배 및 바람직하게는 화합물 (2) 의 0.1 내지 0.5 배의 등몰량으로 사용된다.
Y1 이 -NH- 기를 나타내는 화합물 (1a)는 또한, 염기성 화합물 대신 산의 존재 하에 화합물 (2)를 화합물 (3)과 반응시켜 제조될 수 있다. 본원에서 사용된 산의 예는 무기산 예컨대 염산, 황산, 및 브롬화수소산, 및 유기산 예컨대 아세트산, 트리플루오로아세트산, 및 p-톨루엔술폰산을 포함한다. 상기 산은 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다.
Y 가 -N(R5)- 기를 나타내고, R5 가 수소 원자를 제외한 기를 나타내는 화합물 (1)은, Y 가 -NH- 기를 나타내는 화합물 (1) 로부터 반응식 2에 따라 제조될 수 있다.
[반응식 2]
[화학식 45]
식중, R1, R2, X1, A 및 X2 는 상기와 동일하고, R5a 는 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R5b 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고, R5c 는 저급 알카노일기 또는 벤조일기를 나타내고, RB 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, R5b 및 RB 는 화합물 (1d)의 -CHRBR5b 기 내의 알킬 부분의 탄소수가 1 내지 6이라고 가정할 때 이들 기에 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 서로 결합하여 시클로알킬 고리를 형성할 수 있다.
화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응은, 예를 들면, 환원제의 존재 하에 및 적절한 용매의 존재 또는 부재 하에 수행된다. 이하, 이 방법을 "방법 A" 로 언급한다.
본원에서 사용되는 용매의 예는 물, 저급 알콜 예컨대, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올, 및 에틸렌 글리콜, 아세토니트릴, 지방산 예컨대 포름산, 및 아세트산, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림, 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 크실렌, 및 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 카본 테트라클로리드, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
환원제의 예는 지방산 및 그의 알칼리 금속 염 예컨대 포름산, 나트륨 포르메이트, 및 나트륨 아세테이트, 히드리드 환원제 예컨대 나트륨 보로히드리드, 나트륨 시아노보로히드리드, 나트륨 트리아세틸옥시보로히드리드, 및 알루미늄 리튬 히드리드, 또는 상기 히드리드 환원제의 혼합물, 및 촉매 수소 환원제 예컨대 팔라듐 블랙, 팔라듐-탄소, 산화백금, 플라티늄 블랙, 및 라니 니켈을 포함한다.
지방산 또는 그의 알칼리 금속 염 예컨대 포름산, 나트륨 포르메이트, 또는 나트륨 아세테이트를 환원제로서 사용하는 경우, 적절한 반응온도는 전형적으로 실온 내지 약 200℃, 및 바람직하게는 약 50 내지 약 150℃ 이다. 반응은 일반적으로 약 10 분 내지 10 시간 내에 완료된다. 지방산 또는 그의 알칼리 금속 염을 화합물 (1b)에 대해 과량으로 사용하는 것이 바람직하다.
히드리드 환원제를 사용하는 경우, 적절한 반응온도는 전형적으로 -80 내지 100℃, 및 바람직하게는 -80 내지 70℃ 이다. 반응은 일반적으로 약 30 분 내지 60 시간 내에 완료된다. 히드리드 환원제는 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (1b) 의 1 내지 20 배, 및 바람직하게는 화합물 (1b) 의 1 내지 6 배의 등몰량으로 사용된다. 특히 알루미늄 리튬 히드리드를 히드리드 환원제로서 사용하는 경우, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 또는 디글림, 또는 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 또는 크실렌을 용매로서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 반응계에, 아민 예컨대 트리메틸아민, 트리에틸아민, 및 N-에틸디이소프로필아민, 또는 분자체 예컨대 Molecular Sieves 3A (MS-3A) 또는 Molecular Sieves 4A (MS-4A) 가 첨가될 수 있다.
촉매 수소 환원제를 사용하는 경우, 반응은 바람직하게는 수소 대기 내에 전형적으로 정상압 내지 약 20 atm 에서, 및 바람직하게는 정상압 내지 약 10 atm 에서, 또는 수소 공여체 예컨대 포름산, 암모늄 포르메이트, 시클로헥센, 또는 히드라진 히드레이트의 존재 하에, 전형적으로 -30 내지 100℃, 및 바람직하게는 0 내지 60℃ 의 온도에서 수행된다. 반응은 일반적으로 약 1 내지 12 시간 내에 완료된다. 촉매 수소 환원제는 전형적으로 화합물 (1b)을 기준으로 약 0.1중량% 내지 40중량%, 및 바람직하게는 약 1 내지 20중량%의 양으로 사용된다.
화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서, 화합물 (5)는 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (1b) 에 대해 적어도 등몰량으로, 및 바람직하게는 등량 내지 과량으로 사용된다.
반응은 화합물 (5)를 사용하여 수행되며, 여기서 RB 및 R5b(탄소원자에 결합됨)는 개시물질로서 히드리드 환원제의 존재 하에 탄소 원자와 함께 상호 결합되어 시클로알킬 고리를 형성한다. 상기의 경우, 화합물 (5) 대신, 시클로알킬옥시트리알킬실란 예컨대 [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란이 개시물질로서 사용되어 반응계 내에서 상기 화합물 (5)를 제조할 수 있다.
화합물 (1d)는 또한 화합물 (1f)와 하기 반응식 3의 히드록실아민 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 화합물 (1b)를 화합물 (5)와 반응시킨 후, 하기 화학식으로 나타내는 생성 화합물을 환원시킴으로써 제조될 수 있다:
[화학식 46]
식중, R1, R2, X1, RB 및 R5b 는 상기와 동일하다.
방법 A 에서와 동일한 반응조건이 상기 환원반응에 적용될 수 있다.
화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응은 아미드 결합 생성을 위한 일반적 반응에 따라 화합물 (1b)를 화합물 (6)의 카르복실산과 반응시키기 위한 방법에 의해 수행된다. 상기 반응은 아미드 결합 생성을 위한 임의의 공지 반응에 의해 수행될 수 있다. 방법의 구체적 예는 하기를 포함한다: (a) 혼합산 무수물 방법, 구체적으로, 알킬할로카르복실산을 카르복실산 (6) 과 반응시켜 혼합산 무수물을 제조한 후, 아민 (1b)을 혼합산 무수물과 반응시키는 방법; (b) 활성 에스테르 방법, 구체적으로, 카르복실산 (6)으로부터, 활성 에스테르 예컨대 페닐 에스테르, p-니트로페닐 에스테르, N-히드록시숙신이미드 에스테르, 또는 1-히드록시벤조트리아졸 에스테르를, 또는 벤즈옥사졸린-2-티온으로 활성 아미드를 제조한 후, 그 활성 에스테르 또는 아미드를 아민 (1b)와 반응시키는 방법; (c) 카르보디이미드 방법, 구체적으로, 활성제 예컨대 디시클로헥실카르보디이미드, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카르보디이미드 (WSC), 또는 카르보닐디이미다졸의 존재 하에 카르복실산 (6)을 아민 (1b) 로 농축하는 방법; (d) 기타 방법, 예를 들면, 탈수제 예컨대 아세트산 무수물의 작용에 의해 카르복실산 (6)으로부터 카르복실산 무수물을 제조한 후 카르복실산 무수물을 아민 (1b)와 반응시키는 방법, 카르복실산 (6)의 에스테르를 아민 (1b) 로 고압 및 고온에서 저급 알콜과 반응시키는 방법, 카르복실산 (6)의 산 할라이드, 즉 카르복실산 할라이드를 아민 (1b)와 반응시키는 방법.
상기 혼합산 무수물 방법 (a)에서 사용된 혼합산 무수물은, 일반적인 Schotten-Baumann 반응에 의해 수득되며, 아민 (2)와의 반응에서 단리하지 않은 채로 사용되어 화학식 (1e) 로 나타내는 본 발명의 화합물을 제조한다.
상기 Schotten-Baumann 반응은 염기성 화합물의 존재 하에 수행된다.
사용되는 염기성 화합물의 예는 Schotten-Baumann 반응에서 일반적으로 사용되는 화합물, 예를 들면, 유기 염기 예컨대 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디메틸아닐린, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU), 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO), 및 하기를 포함하는 무기 염기: 카르보네이트 예컨대 나트륨 카르보네이트, 칼륨 카르보네이트, 나트륨 비카르보네이트, 및 칼륨 비카르보네이트, 금속 히드록시드 예컨대 나트륨 히드록시드, 칼륨 히드록시드, 및 칼슘 히드록시드, 칼륨 히드리드, 나트륨 히드리드, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 및 금속 알콜레이트 예컨대 나트륨 메틸레이트 및 나트륨 에틸레이트를 포함한다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 병용하여 사용한다. 반응은 전형적으로 약 -20 내지 100℃, 및 바람직하게는 약 0 내지 50℃ 에서 수행된다. 반응 시간은 약 5 분 내지 10 시간, 및 바람직하게는 약 5 분 내지 2 시간이다.
생성된 혼합산 무수물은 아민 (1b)와 전형적으로 약 -20 내지 150℃ 및 바람직하게는 약 10 내지 50℃ 에서 반응된다. 반응 시간은 약 5 분 내지 10 시간 및 바람직하게는 약 5 분 내지 5 시간이다.
혼합산 무수물 방법은 일반적으로 용매 내에서 수행된다. 임의의 용매가 그것이 혼합산 무수물 방법에서 관습적으로 사용되는 것인 한 사용될 수 있다. 용매의 구체적인 예는 할로겐화 탄화수소 예컨대 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 및 카본 테트라클로리드, 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔 및 크실렌, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 테트라히드로푸란, 및 디메톡시에탄, 에스테르 예컨대 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 및 이소프로필 아세테이트, 및 비양자성 극성 용매 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
혼합산 무수물 방법에서 사용되는 알킬할로카르복실산의 예는 메틸 클로로포르메이트, 메틸 브로모포르메이트, 에틸 클로로포르메이트, 에틸 브로모포르메이트, 및 이소부틸 클로로포르메이트를 포함한다.
혼합산 무수물 방법에서, 카르복실산 (6), 알킬할로카르복실산, 및 아민 (1b)가 바람직하게는 서로에 대해 등몰량으로 사용될 수 있다. 그러나, 알킬 할로카르복실산 및 카르복실산 (6) 각각은 몰 기준으로 아민 (1b) 의 1 내지 1.5 배로 각각 사용될 수 있다.
활성제의 존재 하에 축합 반응을 수행하는 방법 (c)에서, 반응은 적절한 용매 내에서 염기성 화합물의 존재 또는 부재 하에 수행된다. 상기 아민 (1b)를 하기 카르복실산 할라이드와 반응시키는 방법 (d)에서의 반응에서 사용되는 임의의 용매 및 염기성 화합물이 이 반응을 위해 사용될 수 있다. 활성제를 전형적으로 몰기준으로 화합물 (1b) 에 대해 적어도 등몰량으로, 및 바람직하게는 화합물 (1b) 의 1 내지 5 배로 사용하는 것이 적절하다. WSC 가 활성제로서 사용될 때, 1-히드록시벤조트리아졸 및/또는 산 예컨대 염산이 반응계에 첨가되는 경우 반응이 유리하게 수행될 수 있다. 상기 반응은 전형적으로 약 -20 내지 180℃ 에서 및 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 수행되고, 전형적으로 약 5 분 내지 90 시간 내에 완료된다.
아민 (1b)를 카르복실산 할라이드와 반응시키는 방법 (d)가 사용되는 경우, 반응은 적절한 용매 내에서 염기성 화합물의 존재 하에 수행된다. 임의의 염기성 화합물이 그것이 당 기술분야에서 공지된 것인 한 사용될 수 있다. 임의의 염기성 화합물이 그것이 예를 들면 Shotten-Baumann 반응에서 사용된 것인 한 사용될 수 있다. 용매의 예는, 혼합산 무수물 방법에서 사용된 용매 외에, 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 에틸 셀로솔브, 및 메틸 셀로솔브, 아세토니트릴, 피리딘, 아세톤, 및 물을 포함한다. 아민 (1b) 대 카르복실산 할라이드의 비율은 특별히 한정되지 않고 넓은 범위에서 적절히 선택될 수 있다. 전형적으로, 몰기준으로 후자가 전자에 대해 적어도 약 등몰량, 및 바람직하게는 전자 의 약 1 내지 5 배의 양으로 사용될 수 있다. 상기 반응은 전형적으로 약 -20 내지 180℃ 에서 및 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 수행되고, 전형적으로 5 분 내지 50 시간 내에 완료된다.
추가로, 반응 반응식 2 에 제시된 아미드 결합 생성을 위한 반응은 또한, 축합제인 포스포러스 화합물 예컨대 트리페닐포스핀, 디페닐포스피닐 클로리드, 페닐-N-페닐포스포라미드 클로리데이트, 디에틸 클로로포스페이트, 디에틸 시아노포스페이트, 디페닐인산 아지드, 또는 비스(2-옥소-3-옥사졸릴디닐)포스피닉 클로리드의 존재 하에, 카르복실산 (6) 과 아민 (1b)를 반응시킴으로써 수행될 수 있다. 축합제는 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용된다.
반응은 아민 (1b)를 상기 카르복실산 할라이드와 반응시키기 위한 상기 방법에서 사용되는 용매 및 염기성 화합물의 존재 하에, 전형적으로 약 -20 내지 150℃ 에서, 및 바람직하게는 약 0 내지 100℃ 에서 수행되고, 전형적으로 5 분 내지 약 30 시간 내에 완료된다. 축합제 및 카르복실산 (6) 각각은 대략 몰 기준으로 아민 (1b) 에 대해 적어도 등몰량으로, 및 바람직하게는 아민 (1b) 의 약 1 내지 2 배로 사용될 수 있다.
Y 가 -CH(OH)- 기 또는 -C(=N-OH) 기를 나타내는 화합물 (1)은, Y 가 -CO- 기를 나타내는 화합물로부터, 반응식 3에 따라 제조된다.
[반응식 3]
[화학식 47]
식중, R1, R2, X1 및 A 는 상기와 동일하다.
화합물 (1g)는 화합물 (1f)를 환원시킴으로써 제조된다.
상기 환원반응에서, 히드리드 환원제를 사용하는 환원 방법이 유리하게 사용된다. 사용되는 환원제의 예는 알루미늄 리튬 히드리드, 나트륨 보로히드리드, 보란, 디보란, 및 리튬 보로히드리드-트리메톡시보란을 포함한다. 상기 환원제 는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다. 환원제는 전형적으로 몰기준으로 화합물 (1f) 에 대해 적어도 등몰량, 및 바람직하게는 화합물 (1f) 의 1 내지 15 배로 사용된다. 상기 환원반응은 전형적으로 적절한 용매, 예를 들면, 물, 저급 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 또는 이소프로판올, 에테르 예컨대 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 또는 디글림, 또는 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 클로로포름, 또는 카본 테트라클로리드, 또는 그의 혼합물 내에서, 약 -60 내지 150℃ 바람직하게는 약 -30 내지 100℃ 에서 일반적으로 약 10 분 내지 40 시간 동안 수행된다. 알루미늄 리튬 히드리드 또는 보란이 환원제로서 사용되는 경우, 무수 용매 예컨대 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 또는 디글림을 사용하는 것이 바람직하다.
화합물 (1h)는 화합물 (1f) 및 히드록실아민을 적절한 비활성 용매 내에서 염기성 화합물의 존재 또는 부재 하에 반응시킴으로써 제조된다.
본원에서 사용되는 염기성 화합물의 예는 무기 염기성 화합물 예컨대 나트륨 히드록시드, 칼륨 히드록시드, 칼슘 히드록시드, 나트륨 카르보네이트, 및 칼륨 카르보네이트, 지방산 알칼리 금속 염 예컨대 나트륨 아세테이트, 유기 염기 예컨대 피페리딘, 피페리디늄 아세테이트, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디메틸아닐린, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU), 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO)을 포함한다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
임의의 비활성 용매가 그것이 반응에 부정적으로 영향을 주지 않는 한 사용될 수 있다. 비활성 용매의 예는 물, 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 크실렌, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림, 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 카본 테트라클로리드, 저급 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올, 및 에틸렌 글리콜, 지방산 예컨대 아세트산, 에스테르 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸 술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸 포스페이트 트리아미드, 및 그의 혼합물을 포함한다.
히드록실아민은 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (1f) 에 대해 적어도 등몰량, 및 바람직하게는 화합물 (1f) 의 1 내지 5 배로 사용된다. 반응 온도는 전형적으로 실온 내지 200℃ 및 바람직하게는 약 50 내지 150℃ 이다. 반응은 일반적으로 약 5 분 내지 30 시간 내에 완료된다.
Y 가 -S(O)n- (n = 1 또는 2)을 나타내는 화합물 (1)은, Y 가 -S- 를 나타내는 화합물로부터 반응식 4에 따라서 제조된다.
[반응식 4]
[화학식 48]
식중, R1, R2, X1 및 A 는 상기와 동일하고, A16 은 -A 기 또는 -A10-T2-COOR59a 기를 나타내고, T2 는 -N(R17)-B3- 기, -B19-N(R18)- 기, -B4- 기, -Q-B5- 기, -B6-N-(R19)-B7- 기, -CO-B10- 기, -CH (OH)-B11- 기, -B23a-CO- 기, 또는 직접적 결합을 나타내고, 여기서 R17, B3, B19, R18, B4, B5, B6, R19, B7, B10 및 B11 은 상기와 동일하고, A10 은 하기를 나타낸다:
[화학식 49]
식중, a 가 -S 기 또는 -S(O)j 기에 결합되고, b 가 -T2 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R59a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기이고, j 는 1 또는 2 이다.
화합물 (1zzzz) 를 화합물 (1aaaaa) 로 전환시키는 반응은 적절한 용매 내에서 산화제의 존재 하에 수행된다.
용매의 예는 물, 지방산 예컨대 포름산, 아세트산, 및 트리플루오로아세트산, 알콜 예컨대 메탄올 및 에탄올, 및 할로겐화 탄화수소 예컨대 클로로포름 및 디클로로메탄, 및 그의 혼합물을 포함한다.
산화제의 예는 과산(peracid) 예컨대 퍼포름산, 퍼아세트산, 퍼트리플루오로아세트산, 퍼벤조산, m-클로로퍼벤조산, 및 o-카르복시퍼벤조산, 과산화수소, 나트륨 메타페리도데이트, 디크롬산, 디크로메이트 예컨대 나트륨 디크로메이트 및 칼륨 디크로메이트, 과망간산, 퍼망가네이트 예컨대 나트륨 퍼망가네이트 및 칼륨 퍼망가네이트, 및 납 염 예컨대 납 테트라아세테이트를 포함한다. 상기 산화제는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다.
산화제는 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (1zzzz) 에 대해 적어도 등몰량, 및 바람직하게는 화합물 (1zzzz) 의 1 내지 2 배로 적절히 사용된다. 황 원자를 술포닐기 (j=2) 로 전환시키는 산화 반응에서, 산화제는 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (1zzzz) 에 대해 적어도 2 배, 및 바람직하게는 화합물 (1zzzz) 의 2 내지 4 배의 양으로 사용된다.
반응은 전형적으로 -10 내지 150℃, 및 바람직하게는 약 -10 내지 100℃ 에서 수행되고 일반적으로 약 1 내지 100 시간 내에 완료된다.
다양한 기가 A 로서 사용될 수 있는 화학식 (1) 로 나타내는 본 발명의 화합물은, 예를 들면 하기 반응식 5 내지 36에 따라 제조된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은, 반응식 5에 제시된 바와 같이 화합물 (7)을 화합물 (8)과 반응시킴으로써 제조된다:
[화학식 50]
식중, R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 옥소기를 치환기로서 피리미딘 고리 상에 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 저급 알킬기를 치환기로서 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 옥소기를 치환기로서 티아졸리딘 고리 상에 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기 또는 -(T)l-NR14R15 기 (T 는 저급 알킬렌기이고 l 은 1 임)를 나타낸다;
[반응식 5]
[화학식 51]
식중, R1, R2 Y1 및 X1 은 상기와 동일하고, A1 은 하기를 나타내고:
[화학식 52]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R37a 는 -B21-X2 기를 나타내고, B21 은 저급 알킬렌기를 나타내고, X2 는 상기와 동일하고, A2 는 하기를 나타낸다:
[화학식 53]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R38 은 -B21-R4a 기를 나타내고, B21 은 상기와 동일하고, R4a 는 이미다졸릴기, 1,2,4-트리아졸릴기, 1,2,3-트리아졸릴기, 1,2,5-트리아졸릴기, 피라졸릴기, 옥소기를 치환기로서 피리미딘 고리 상에 가질 수 있는 피리미디닐기, 저급 알킬기를 치환기로서 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴기, 옥소기를 치환기로서 티아졸리딘 고리 상에 가질 수 있는 티아졸리디닐기, 또는 -NR14R15 기를 나타내고, R14 및 R15 는 상기와 동일하다.
화합물 (7) 과 화합물 (8)의 반응은 화합물 (2) 와 화합물 (3) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 1에 따라 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 또한 반응식 6에 따라 화합물 (8)을 화합물 (9)와 반응시킴으로써 제조된다:
[화학식 54]
식중, R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 옥소기를 치환기로서 피리미딘 고리 상에 가지는 피리미디닐 저급 알킬기, 저급 알킬기를 치환기로서 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 옥소기를 치환기로서 티아졸리딘 고리 상에 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 또는 -(T)l-NR14R15(T 는 저급 알킬렌기이고 l 은 1 임)이다.
[반응식 6]
[화학식 55]
식중, R1, R2, X1 및 Y1 및 R4a 는 상기와 동일하고, A3 는 하기를 나타내고:
[화학식 56]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R39 는 -(B21)fCORA 기를 나타내고, B21 은 상기와 동일하고, RA 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, f 는 0 또는 1을 나타내고, A4 는 하기를 나타낸다:
[화학식 57]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R40 은 -(B21)fCHRAR4a 기를 나타내고, -(B21)fCHRAR4a 기의 알킬 부분이 탄소수 6 이하라고 가정할 때 B21, RA, f 및 R4a 는 상기와 동일하다.
화합물 (9) 와 화합물 (8) 의 반응은 반응식 2의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은, 반응식 7에 따라 화합물 (11) 을 화합물(10)과 반응시킴으로써 제조된다:
[화학식 58]
식중, R4 는 옥소기를 치환기로서 3,5-디옥소이소옥사졸리딘 고리 상에 가질 수 있는 3,5-디옥소이소옥사졸릴디닐 저급 알킬리덴기를 나타낸다.
[반응식 7]
[화학식 59]
식중, R1, R2, X1 및 Y 는 상기와 동일하고,
A5 는 하기를 나타내고:
[화학식 60]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R41 은 -B22(CO2R43)(CO2R44) 기를 나타내고, B22 는 저급 알킬리덴기를 나타내고, R43 및 R44 는 각각 저급 알킬기를 나타내고,
A6 는 하기를 나타낸다:
[화학식 61]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R42 는 하기 화학식으로 나타내는 기이다:
[화학식 62]
식중, B22 는 상기와 동일하다.
화합물 (10)의 화합물 (11)과의 반응은 화합물 (1f)를 화합물 (1h) 로 전환시키기 위한 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 3에 따라 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 반응식 8 에서 제시되는 바와 같이 화합물 (13)으로부터 제조된다:
[화학식 63]
식중, R4 는 하기를 나타낸다:
[화학식 64]
[반응식 8]
[화학식 65]
식중, R1, R2, X1, Y 및 R13 은 상기와 동일하고,
A7 은 하기를 나타내고:
[화학식 66]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R45 는 할로겐 원자를 나타내고,
A8 은 하기를 나타내고:
[화학식 67]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R46 은 하기를 나타내고:
[화학식 68]
식중, R13 은 상기와 동일하고,
A9 는 하기를 나타내고:
[화학식 69]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R47 은 하기를 나타내고:
[화학식 70]
식중, R13 은 상기와 동일하고,
A8a 는 하기를 나타내고:
[화학식 71]
식중, R3 및 p 는 상기와 동일하고, R46' 는 하기를 나타내고:
[화학식 72]
식중, R13 은 상기와 동일하다.
화합물 (13)과 화합물 (12)의 반응은 적절한 비활성 용매 내에서 염기성 화합물의 존재 하에 수행된다.
본원에서 사용되는 염기성 화합물의 예는 예컨대 금속 나트륨, 금속 칼륨, 금속 마그네슘, 나트륨 히드리드, 나트륨 아미드, 금속 알콜레이트 예컨대 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 및 칼륨 tert-부톡시드, 및 알킬 및 아릴 리튬 또는 리튬 아미드 예컨대 메틸 리튬, n-부틸 리튬, 페닐 리튬, 및 리튬 디이소프로필아미드를 포함한다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다.
염기성 화합물은 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (13) 에 대해 적어도 등몰량, 및 바람직하게는 화합물 (13) 의 1 내지 5 배로 적절히 사용된다.
사용되는 비활성 용매의 예는 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 크실렌, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림, 지방족 탄화수소 예컨대 n-헥산, 헵탄, 및 시클로헥산, 할로겐화 탄화수소 예컨대 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 및 카본 테트라클로리드, 디메틸술폭시드, 및 N,N-디메틸포름아미드, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
반응은 전형적으로 약 -90 내지 150℃ 및 바람직하게는 약 -90 내지 120℃에서 수행되고, 일반적으로 약 10 분 내지 10 시간 내에 완료된다.
화합물 (12)는 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (13) 에 대해 적어도 등몰량 및 바람직하게는 화합물 (13) 의 1 내지 5 배로 적절히 사용된다.
화합물 (1l)을 화합물 (1m)으로 전환시키는 반응은 적절한 비활성 용매 내에서 산의 존재 하에 수행된다.
본원에서 사용되는 산의 예는 무기산 예컨대 염산, 황산, 및 히드로브롬산, 및 유기산 예컨대 p-톨루엔술폰산과 같은 술폰산을 포함한다. 상기 산은 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다.
산은 바람직하게는 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (11) 에 대해 적어도 등몰량으로 및 바람직하게는 화합물 (11)에 대해 등량 내지 초과량으로 사용된다.
임의의 용매가 그것이 화합물 (13) 과 화합물 (12) 사이의 반응에서 사용되는 것인 한 사용될 수 있다.
상기 반응은 전형적으로 실온 내지 200℃에서, 바람직하게는 실온 내지 약 150℃에서 수행되고, 일반적으로 약 1 내지 20 시간 내에 완료된다.
화합물 (1l)을 화합물 (1l') 로 전환시키는 반응은 적절한 용매 내에서 및 산 및 촉매의 존재 하에 수행된다.
본원에서 사용되는 용매의 예는 물, 저급 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 및 이소프로판올, 케톤 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 카본 테트라클로리드, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 디이소프로필 에테르, 디글림, 및 1,4-디옥산, 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 크실렌, 아세토니트릴, 디메틸 술폭시드, N,N-디메틸아세타미드, N,N-디메틸포름아미드, 및 N-메틸피롤리돈, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
본원에서 사용되는 산의 예는 무기산 예컨대 염산, 황산, 및 히드로브롬산, 및 유기산 예컨대 보론 트리플루오리드 디에틸 에테레이트, 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 및 p-톨루엔술폰산을 포함한다.
촉매의 예는 알킬실란 화합물 예컨대 트리에틸실란을 포함한다.
상기 산 및 촉매는 각각 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (1l) 의 약 0.01 내지 5 배, 및 바람직하게는 화합물 (1l) 에 대해 약 0.01 내지 1 배의 양으로 사용된다.
반응은 약 실온 내지 200℃, 및 바람직하게는 약 실온 내지 150℃에서 수행되고, 일반적으로 약 1 내지 10 시간 내에 완료된다.
화합물 (1l)을 화합물 (1l') 로 전환시키는 반응은 적절한 용매 내에서 및 촉매 수소 환원제의 존재 하에 수행될 수 있다.
사용되는 용매의 예는 물, 지방산 예컨대 아세트산, 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 및 이소프로판올, 지방족 탄화수소 예컨대 n-헥산, 지환식 탄화수소 예컨대 시클로헥산, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 모노글림, 디글림, 및 1,4-디옥산, 에스테르 예컨대 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 및 부틸 아세테이트, 및 비양자성 극성 용매 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
촉매 수소 환원제의 예는 팔라듐, 팔라듐-블랙, 팔라듐-탄소, 팔라듐 히드록시드-카본, 로듐-알루미나, 플라티늄, 산화백금, 코퍼 크로미트, 라니 니켈, 및 팔라듐 아세테이트를 포함한다.
촉매 수소 환원제는 전형적으로 중량 기준으로 화합물 (1l) 의 0.01 내지 1 배의 양으로 사용된다.
반응은 전형적으로 약 -20 내지 100℃에서 및 바람직하게는 약 0 내지 80℃에서 유리하게 진행하고, 일반적으로 약 0.5 내지 20 시간 내에 완료된다. 수소 압력은 전형적으로 1 내지 10 atm 이다.
무기산 예컨대 염산을 상기 반응계에 첨가하는 것이 바람직하다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 R13 이 수소 원자인 화합물로부터 하기 반응식 9에 따라 제조된다:
[화학식 73]
식 중, R4 는 하기를 나타내고:
[화학식 74]
식 중, R13 은 수소 원자 이외의 기를 나타낸다.
[반응식 9]
[화학식 75]
식중, A10 의 a 및 b 가 Y 및 피페리디닐기에 각각 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, A10, RA, R13a 및 X2 는 상기와 동일하고,
R13b 는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기, 또는 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기를 나타내고,
R13c 는 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시 카르보닐기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기; 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13d 는 화합물 (1q)의 측쇄 (-CHRAR13d 기)의 알킬 부분이 탄소수 6 이하라고 가정할 때, 수소 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기, 이미다졸릴기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기, 또는 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (1n-1)의 화합물 (13')와의 반응은 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 2에 따라 수행된다.
화합물 (1n-1) 과 화합물 (14) 사이의 반응은 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 2에 따라 수행된다.
화합물 (1n-1) 과 화합물 (15) 사이의 반응은 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
또한, 화합물 (1n-2) 와 화합물 (13') 사이의 반응은 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 2 에 따라 수행되고, 화합물 (1n-2) 와 화합물 (14) 사이의 반응은 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 2 에 따라 수행되고, 화합물 (1n-2) 와 화합물 (15) 사이의 반응은 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 사이의 반응에서와 동일한 조건 하에 반응식 2 에 따라 수행된다.
반응식 9 에서, R13b 가 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기를 나타내는 화합물 (1o-1) 및 (1o-2) 의 가수분해는 R13b 가 카르복시 저급 알킬기를 나타내는 상응하는 화합물 (1o-1) 및 (1o-2)를 제조할 수 있다.
반응식 9 에서, R13c 가 저급 알콕시카르보닐기를 나타내는 화합물 (1p-1) 및 (1p-2)의 가수분해는, R13c 가 수소 원자인 상응하는 화합물 (1p-1) 및 (1p-2)를 제조할 수 있다.
가수분해 반응(이하, 이 가수분해 반응은 "가수분해 B"로 언급됨)은 적절한 용매의 존재 또는 부재 하에 및 산성 또는 염기성 화합물의 존재 하에 수행될 수 있다.
본원에서 사용되는 용매의 예는 물, 저급 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 tert-부탄올, 케톤 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 모노글림, 및 디글림, 지방산 예컨대 아세트산 및 포름산, 에스테르 예컨대 메틸 아세테이트 및 에틸 아세테이트, 할로겐화 탄화수소 예컨대 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 및 카본 테트라클로리드, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
산의 예는 무기산 예컨대 염산, 황산, 및 히드로브롬산, 유기산 예컨대 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, p-톨루엔술폰산을 포함하는 술폰산, 및 루이스산 예컨대 보론 트리브로미드 및 보론 트리클로리드를 포함한다. 상기 산은 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다.
염기성 화합물의 예는 카르보네이트 예컨대 나트륨 카르보네이트, 칼륨 카르보네이트, 나트륨 비카르보네이트, 및 칼륨 비카르보네이트, 및 금속 히드록시드 예컨대 나트륨 히드록시드, 칼륨 히드록시드, 칼슘 히드록시드, 및 리튬 히드록시드를 포함한다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용된다.
가수분해 반응 전형적으로 약 0 내지 약 200℃에서 및 바람직하게는 약 0 내지 150℃에서 유리하게 진행하고, 일반적으로 약 10 분 내지 50 시간 내에 완료된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 하기 반응식 10 에 제시된 바와 같이 제조된다:
[화학식 76]
식중, R4 는 하기를 나타내고:
[화학식 77]
식중, R13 는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타낸다.
[반응식 10]
[화학식 78]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 피페리디닐기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, A10, R13a, B21 및 X2 는 상기와 동일하다.
화합물 (1r-1) 과 화합물 (16)의 반응 및 화합물 (1r-2) 와 화합물 (16)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 하기 반응식 11 에 제시된 바와 같이 R13 이 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알카노일기를 나타내는 상응하는 화합물로부터 제조될 수 있다:
[화학식 79]
식중, R4 는 하기를 나타내고:
[화학식 80]
식중, R13 은 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타낸다.
[반응식 11]
[화학식 81]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 피페리디닐기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, R13a, B21 및 X2 는 상기와 동일하고, R47' 는 모르폴리노 기, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환될 수 있는 피페라지닐기, 또는 이미다졸릴기이다.
화합물 (1t-1) 과 화합물 (17)의 반응 및 화합물 (1t-2) 와 화합물 (17)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 하기 반응식 12 에 제시된 바와 같이 R13 이 카르복시기인 상응하는 화합물로부터 제조된다:
[화학식 82]
식중, R4 는 하기를 나타내고:
[화학식 83]
식중, R13 은 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환된 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기 또는 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기를 나타낸다.
[반응식 12]
[화학식 84]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 피페리디닐 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, A10, R13a 및 B21 는 상기와 동일하고, R48 은 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에서 치환될 수 있는 피페라지닐기, 또는 모르폴리노기이다.
화합물 (1v-1) 과 화합물 (18)의 반응 및 화합물 (1v-2) 와 화합물 (18)의 반응은 상기 반응식에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 하기 반응식 13 및 14 에 제시된 바와 같이 제조된다:
[화학식 85]
식중, R4 는 -(T)l-NR14R15 기를 나타낸다.
[반응식 13]
[화학식 86]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 -(T1)l 에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, A10, X2, l, R14 및 R15 는 상기와 동일하고, T1 은 저급 알킬렌기, -COB8- 기, -SO2- 기 또는 -CH(OH)-B9- 기를 나타내고, B8 및 B9 는 상기와 동일하다.
화합물 (35) 와 화합물 (36)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응조건 하에 수행된다.
l 이 0 인 화합물 (35)는 또한 적절한 용매 내에서 염기성 화합물 및 촉매의 존재 하에 상응하는 화합물 (35)를 화합물 (36)과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.
임의의 용매 및 염기성 화합물이 그들이 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에서 사용되는 것인 한 사용될 수 있다.
촉매의 예는 다양한 금속 착물 뿐만 아니라 금속 착물과 리간드의 다양한 조합을 포함한다. 금속 착물의 예는 팔라듐 아세테이트 (II), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (0), 및 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 (0)을 포함한다. 리간드의 예는 R-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (R-BINAP), S-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (S-BINAP), RAC-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (RAC-BINAP), t-부틸포스핀, 및 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸크산텐을 포함한다.
촉매는 전형적으로 몰 기준으로 화합물 (35)에 대해 적어도 등몰량 및 바람직하게는 화합물 (35) 의 1 내지 5 배로 적절히 사용된다.
상기 반응은 전형적으로 약 0 내지 200℃에서 및 바람직하게는 약 0 내지 150℃에서 수행되고, 일반적으로 약 1 내지 60 시간 내에 완료된다. 상기 반응은 이하 "반응 C"로 언급된다.
[반응식 14]
[화학식 87]
식중, 화합물 (37) 및 (1qq) 에서, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 T2 에 결합되어 있다고 가정할 때, R2, X1, Y, A10, T2, R14 및 R15 는 상기와 동일하고, R95 는 R1 기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. 여기에 사용된 R1 은 상기와 동일하다.
화합물 (37) 과 화합물 (36)의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응조건에서 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 또한 반응식 15에 제시된 방법에 의해 제조될 수 있다:
[화학식 88]
식중, R4 는 -(T)l-NR14R15 기를 나타내고, l 은 0 을 나타낸다.
[반응식 15]
[화학식 89]
식중, R1, R2, X1, Y, RA, X2, T, l 및 A10 은 상기와 동일하고,
R49 는 (15), (22), (23), (27) 및 (36a)에서 정의된 R15 와 동일한 기이고,
R49a 는 (2) 내지 (5), (7), (8), (10), (11), (13), (14), (16) 내지 (21), (24), (25), (26), (26a), (27a), (28a), (29a), (30a), (31a), (32a), (33a), (34a), (35a), 또는 (37a)에서 정의된 R15, 페녹시카르보닐기 및 저급 알킬술포닐기이고,
R49b 는 수소 원자, 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 알킬기, 페녹시 저급 알킬기; 할로겐 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기; 할로겐 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기; 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬렌디옥시기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기, 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알킬기, 카르복시 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기, 시클로알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 피리딜기; 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기; 저급 알콕시 저급 알킬기, 이미다졸릴기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, A기 치환 카르보닐 저급 알킬기, 피롤리디닐기, 피롤리디닐 저급 알킬기, 모르폴리노기, 모르폴리노 저급 알킬기, 저급 알킬기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기; 저급 알킬기 및, 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐기; 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기; 저급 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 아미디노기, 저급 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, B 기 치환 카르보닐 저급 알킬기, 또는 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,
R14a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
R34, d, R36, R37 및 B20 은 화합물 (1rr), (1ss), (1ss') 및 (1ss")에서, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 N 에 결합되어 있고, 화합물 (1ss")에서, 측쇄 (-Y-A10N(R14a)(CHRAR49b)의 CHRAR49b 부분이 탄소수 6 이하라고 가정할 때 상기와 동일하다.
화합물 (1rr) 과 화합물 (38a)의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1rr)의 화합물 (38)과의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1rr)의 화합물 (38b)와의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응과 유사한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 또한 하기 반응식 16에 제시된 방법에 의해 제조될 수 있다:
[화학식 90]
식중, R4 는 -(T)l-NR14R15 기를 나타내고, l 은 1 을 나타내고, T 는 -CH(OH)-B9- 기를 나타낸다.
[반응식 16]
[화학식 91]
식중, 화합물 (1tt) 및 (1uu)에서 A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 B8 또는 B9 에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, A10, Y, B8, B9, R14 및 R15 는 상기와 동일하다.
화합물 (1tt)를 화합물 (1uu) 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 3에 제시된 화합물 (1f)를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 또한 하기 반응식 17에 제시된 방법에 의해 제조될 수 있다:
[화학식 92]
식중, R4 는 -(T)l-NR14R15 기를 나타내고, l 은 1 을 나타내고, T 는 -CH(OH)-B11-CO- 기를 나타낸다.
[반응식 17]
[화학식 93]
식중, 화합물 (1vv) 및 (1ww)에서 A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 -COB10 기 또는 -CH(OH)B11- 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, A10, Y, B10, B11, R14 및 R15 는 상기와 동일하다.
화합물 (1vv)를 화합물 (1ww) 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 3 에 제시된 화합물 (1f)를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
A 가 하기를 나타내는 화합물 (1)은 하기 반응식 18 내지 20, 22, 24 내지 31, 및 34 내지 36에 제시된 바와 같이 제조된다:
[화학식 94]
식중, R4 는 -(T)lNR14R15 기이고, R14 및 R15 는 서로 결합되어 그 위에 다양한 치환기를 갖는 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기를 형성한다.
[반응식 18]
[화학식 95]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 기 및 (T)l 기에 결합되어 있다고 가정할 때 R1, R2, RB, X1, Y, T, l, A10 및 X2 는 상기와 동일하고;
R14b 및 R15a 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 2차 아민을 가진다는 점을 제외하고는, 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기를 나타내고;
R14c 및 R15b 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 R50 으로 치환된 3차 아민을 적어도 하나를 가진다는 점을 제외하고는, 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기를 나타내고;
R14d 및 R15c 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 R51 로 치환된 3차 아민을 적어도 하나를 가진다는 점을 제외하고는, 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기를 나타내고;
R14e 및 R15d 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 R52(RB)CH- 기로 치환된 3차 아민을 적어도 하나를 가진다는 점을 제외하고는, 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기를 나타내고;
R14f 및 R15e 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 하기 화학식의 기로 치환된 3차 아민을 적어도 하나를 가진다는 점을 제외하고는, 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기를 나타내고:
[화학식 96]
여기에서, R50 은, R14 및 R15 를 서로 결합시킴으로써 형성되고, 상기 (28), (30), (31), (32), (33), (34), (36), (37), (38), (41), (43), (44), (45), (47), (49) (t 가 1 이라고 가정할 때), (50) (o 가 0 이라고 가정할 때), (51), (52), (53), (54), (55), (56), (57), (58), (59), (60), (62), (63), (64), (65), (66), (70), (77), (79), (82), (83), (87), (88a), 또는 (90a)와 동일한 헤테로시클릭 고리에 대한 치환기이고;
R51 은 R14 및 R15 를 서로 결합시킴으로써 형성되는, 상기 (35), (39), (40), (42), (50) (o 가 1 이라고 가정할 때), (67), (75), (76), (77), (78), (80), (81) 또는 (84) (s 가 0 이라고 가정할 때)와 동일한 헤테로시클릭 기에 대한 치환기이고;
R52 는 수소 원자; 저급 알카노일기, 저급 알카노일기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 1 또는 2 페닐을 가지는 저급 알킬기(저급 알킬기는 임의로 피리딜기를 저급 알킬기 상에 가질 수 있다); 저급 알카노일기, 저급 알카노일기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록시 기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기; 히드록실기 및 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 피리딘 고리 상에 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기; 히드록실기 및 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 피리딘 고리 상에 가질 수 있는 피리딜기; 1 내지 3의 저급 알킬기를 치환기로서 피롤 고리 상에 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, 1 내지 3의 저급 알킬기를 치환기로서 피롤 고리 상에 가질 수 있는 피롤릴기, 벤즈옥사졸릴 저급 알킬기, 벤즈옥사졸릴기, 벤조티아졸릴 저급 알킬기, 벤조티아졸릴기, 푸릴 저급 알킬기, 푸릴기; 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 나프틸기, 페녹시 저급 알킬기, -B12CO-NR20R21 기; -B13NR22R23 기, 1 내지 5의 저급 알킬기를 치환기로서 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기 치환 저급 알킬기, 1 내지 5의 저급 알킬기를 치환기로서 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 퀴놀릴기; 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴기, 페닐기를 치환기로서 티아졸 고리 상에 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, 페닐기를 치환기로서 티아졸 고리 상에 가질 수 있는 티아졸릴기; 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, 저급 알킬기를 치환기로서 피페리딘 고리 상에 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기; 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, 저급 알킬기를 피페리딘 고리 상에 가질 수 있는 피페리디닐기, 옥소기를 치환기로서 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, 옥소기를 치환기로서 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 기, 옥소기를 치환기로서 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 옥소기를 치환기로서 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴기, 시클로알킬 저급 알킬기, 시클로알킬기, 티에닐 저급 알킬기, 티에닐기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴기이고; 및
RB 및 R52 는, 화합물 (1aaa)에서 R52(RB)CH- 기의 알킬 부분이 탄소수 6 이하라고 가정할 때, 그들이 결합하고 있는 탄소원자와 함께 시클로알킬기 또는 테트라히드로-4H-피라닐기를 형성할 수 있다.
화합물 (35') 와 화합물 (39)의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b)의 화합물 (4)와의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (35') 와 화합물 (40)의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b)와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (35') 와 화합물 (41)의 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
반응은 화합물 (41)을 이용하여 수행되고, RB 및 R52 (탄소원자에 결합됨)는 개시물질로서 히드리드 환원제의 존재 하에 상호결합되어 탄소 원자와 함께 시클로알킬 고리 또는 테트라히드로-4H-피란 고리를 형성한다. 상기의 경우, 화합물 (41) 대신, 시클로알킬옥시트리알킬실란 예컨대 [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란이 개시물질로서 사용될 수 있다(반응계 내에서 상기 화합물 (41)을 제조하기 위해).
화합물 (35') 와 화합물 (42)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (35')는 또한 하기 반응식 24에 제시된 화합물 (1iii')를 화합물 (1hhh') 로 전환시키는 반응에서와 동일한 반응조건 하에 화합물 (1yy), (1zz) 또는 (1aaa) 로부터 제조될 수 있다.
[반응식 19]
[화학식 97]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 는 상기와 동일하고;
R14g 및 R15f 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 저급 알콕시카르보닐기로 치환된 3차 아민을 적어도 하나 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이고;
R14h 및 R15g 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 2차 아민을 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이다.
화합물 (1ccc)를 화합물 (1ddd) 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B 에서와 동일한 반응조건 하에 수행될 수 있다.
[반응식 20]
[화학식 98]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 기 및 (T)l 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기와 동일하고, R74a 는 니트로기 또는 -R1 기를 나타내고;
R14i 및 R15h 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 또는 -(B12CO)t-N(R20a)R51' 기를 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이고;
R14j 및 R15i 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 카르복시 저급 알콕시기, 카르복시기, 카르복시 저급 알킬기, 또는 -(B12CO)t-N(R20a)R52' 기를 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이고;
B12 및 t 는 상기와 동일하고;
R20a 는 수소 원자, 시클로알킬기,저급 알콕시카르보닐기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기, 1 내지 3의 알콕시기를 치환기로서 페닐 고리 상에 가질 수 있는 벤조일기, 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기; 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기, 시클로알킬 저급 알킬기, 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 1 내지 3의 저급 알킬기를 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기, 1 내지 5의 저급 알킬기를 치환기로서 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 히드록실기를 치환기로서 저급 알킬기 상에 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기 , 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알카노일기, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알카노일기, 이미다졸릴 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 피리딜기, 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내고;
R51' 는 저급 알콕시카르보닐기 또는 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기이고;
R52' 는 수소 원자 또는 카르복시 저급 알킬기이고;
R53 은 저급 알킬기이다.
화합물 (1eee)를 화합물 (1fff) 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B 에서와 동일한 반응조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (1fff) 와 화합물 (43)의 반응은 전형적인 에스테르화 반응의 임의의 조건 하에 수행될 수 있다. 예를 들면, 무기산 예컨대 염산 또는 황산, 및 할로겐화제 예컨대 티오닐클로리드, 포스포러스 옥시클로리드, 포스포러스 펜타클로리드, 또는 포스포러스 트리클로리드의 존재 하에 반응이 수행된다. 화합물 (43)은 화합물 (1fff) 의 초과량으로 사용된다. 반응은 전형적으로 약 0 내지 150℃에서 및 바람직하게는 약 50 내지 100℃에서 유리하게 진행하고, 일반적으로 약 1 내지 10 시간 내에 완료된다.
에스테르화 반응은 축합제 예컨대 카르보디이미드를 이용하여 염기성 화합물 예컨대 디메틸아미노피리딘의 존재 하에 수행될 수 있다. 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서 사용되는 아미드 결합 생성을 위한 전형적 반응 조건이 또한 사용될 수 있다.
화합물 (1fff) 와 화합물 (43)의 반응은 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서 사용된 것과 동일한 염기성 화합물 및 용매의 존재 하에 수행된다. 반응은 전형적으로 약 0 내지 100℃에서 및 바람직하게는 약 0 내지 70℃에서 수행되고, 일반적으로 약 1 내지 30 시간 내에 완료된다.
화합물 (1eee)는 또한 할로겐화 저급 알킬 예컨대 메틸 요오디드를 화합물 (43) 대신 사용하여 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행될 수 있다.
[반응식 21]
[화학식 99]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 기 및 피페리디닐기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, A10, R13a, B21 및 R53 은 상기와 동일하고, R54 는 저급 알킬기이다.
화합물 (1ggg-1)을 화합물 (1v-1) 로 전환시키는 반응 및 화합물 (1ggg-2)를 화합물 (1v-2) 로 전환시키는 반응은 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 에서와 동일한 반응조건 하에 수행된다.
화합물 (1v-1) 과 화합물 (43)의 반응 및 화합물 (1v-2) 와 화합물 (43)의 반응은 상기 반응식 20 에 제시된 화합물 (1fff) 와 화합물 (43)의 반응에서와 동일한 반응조건 하에 수행된다.
화합물 (1ggg-1)은 또한 할로겐화 저급 알킬 예컨대 메틸 요오디드를 화합물 (43) 대신 사용하여 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
유사하게, 화합물 (1ggg-2)는 또한 할로겐화 저급 알킬 예컨대 메틸 요오디드를 화합물 (43) 대신 사용하여 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
[반응식 22]
[화학식 100]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 기 및 (T)l 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기와 동일하고;
R14k 및 R15j 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 -B21CONHNH2 기(식중, B21 은 상기와 동일함)를 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이고; 및
R14l 및 R15k 는 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 하기 화학식을 갖는 기를 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이다:
[화학식 101]
화합물 (1hhh)를 화합물 (1iii) 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 2 에 제시된 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
[반응식 23]
[화학식 102]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 기 및 (T)l 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, A10, B21 및 X2 는 상기와 동일하고, R55 는 저급 알카노일기이고, 및 R55a 는 저급 알킬기이다.
화합물 (44) 와 화합물 (45)의 반응은 상기 반응식 3 에 제시된 화합물 (1f)를 화합물 (1h) 로 전환시키는 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (44a) 와 화합물 (46)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (47)을 화합물 (1rrr) 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 3 에 제시된 화합물 (1f)를 화합물 (1h) 로 전환시키는 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
[반응식 24]
[화학식 103]
식중, A10 의 a 및 b 가 각각 Y 기 및 (T)l 기에 결합되어 있다고 가정할 때, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 는 상기와 동일하고;
R14m 및 R15l 은 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 히드록실기 또는 히드록실기 치환 저급 알킬기를 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이고;
R14n 및 R15m 은 각각의 헤테로시클릭 기가 그 위에 적어도 하나의 -OR56 기를 가진다는 점을 제외하고는 상기 R14 및 R15 에서 각각 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 기이고;
화합물 (48)의 R56 이 화합물 (1hhh')의 히드록실기 치환 저급 알킬기의 적어도 하나로 치환된 헤테로시클릭 기와 반응하고 비치환 페닐기 또는 저급 알킬기라고 가정할 때, R56 은 시아노기, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 갖는 페닐기; 할로겐 원자, 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 할로겐 원자를 치환기로서 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 벤조일기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬, 카르복시 저급 알킬기; 또는 -B15-CO-NR26R27 기(식중, B15, R26 및 R27 은 상기와 동일함)를 나타낸다.
화합물 (1hhh') 와 화합물 (48)의 반응은 상기 반응식 1 에 제시된 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1iii')를 화합물 (1hhh') 로 전환시키는 반응은 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 에서와 동일한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1iii')는 환원 반응에 의해 화합물 (1hhh') 로 전환될 수 있다. 상기 환원 반응은, 예를 들면, 적절한 용매 내에서 촉매 수소 환원제의 존재 하에 수행된다.
용매의 예는 물, 지방산 예컨대 아세트산, 알콜 예컨대 메탄올, 에탄올, 및 이소프로판올, 지방족 탄화수소 예컨대 헥산 및 시클로헥산, 에테르 예컨대 디옥산, 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 모노글림, 및 디글림, 에스테르 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 비양자성 극성 용매 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, 및 그의 혼합물을 포함한다.
촉매 수소 환원제의 예는 팔라듐, 팔라듐 블랙, 팔라듐-탄소, 플라티늄, 산화백금, 코퍼 크로미트, 및 라니 니켈을 포함한다. 상기 환원제는 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다.
촉매 수소 환원제는 바람직하게는 일반적으로 중량 기준으로 화합물 (1iii') 의 0.02 내지 1 배의 양으로 사용된다.
반응 온도는 전형적으로 약 -20 내지 100℃에서 및 바람직하게는 약 0 내지 약 80℃에서 설정된다. 반응은 바람직하게는 전형적으로 1-10 atm 의 수소 압력에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 20 시간 내에 완료된다.
[반응식 25]
[화학식 104]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10, RA 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14o 및 R15n은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(B12CO)tNHR20a기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14p 및 R15o은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(B12CO)tN(R20a)R21b기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14q 및 R15p은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(B12CO)tN(R20a)R21c기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14r 및 R15q은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(B12CO)tN(R20a)(CHRAR21d)기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고, 여기서 B12, t 및 R20a 은 상기 기재된 것과 동일하고;
R21b는 저급 알킬기, 시클로알킬기, 치환기가 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 1 또는 2의 페닐을 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3의 기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3의 저급 알킬기를 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5의 저급 알킬기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환된 1,2,3,4-테트라히드로나프틸, 나프틸 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 치환기가 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는, 1 내지 3의 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 저급 알킬기에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 치환기가 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는, 1 내지 3의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 피리딜기 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내고;
R21c는 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알카노일기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고;
R21d는 수소 원자, 저급 알킬기, 치환기가 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는, 1 내지 3의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 1 또는 2의 페닐기를 가지는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기, 치환기가 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는, 1 내지 3의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기, 할로겐 원자로 치환될 수 있는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 저급 알킬티오기로 치환될 수 있는 저급 알콕시기, 시클로알킬 저급 알킬기, 시클로알킬기, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3의 저급 알킬기를 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3의 저급 알킬기를 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있는 피롤리디닐기, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3의 저급 알킬기, 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5의 저급 알킬기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환된 1,2,3,4-테트라히드로나프틸, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기, 나프틸 저급 알킬기, 나프틸기, 피리딜 저급 알킬기, 피리딜기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 퀴놀릴기, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3의 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3의 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴기, 저급 알킬기에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 저급 알킬기에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴기, 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내기 3의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내고;
단, 측쇄 (-(B21CO)tN(R20a)(CHRAR21d))에서 CHRAR21d의 알킬 부분이 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (1uuu)와 화합물 (49)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1uuu)과 화합물 (51)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1uuu)과 화합물 (50)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 26]
[화학식 105]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14s 및 R15r은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(CO)oB13X2기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14t 및 R15s는 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(CO)oB13R84기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R84는 -NR22R23 또는 이미다졸릴기이고;
여기서 B13, o, X2, R22 및 R23는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1yyy)와 화합물 (52)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 27]
[화학식 106]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14s' 및 R15r'은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -N(R28)-CO-B16X2기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14u 및 R15t는 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -N(R28)-CO-B16NR29R30기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 R28, B16, X2, R29 및 R30는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1aaaa) 와 화합물 (53)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 28]
[화학식 107]
식 중, R74a, R2, X1, Y, T, l 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14v 및 R15u은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -B12COOH기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14w 및 R15v는 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -B12CONR20R21기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 B12, R20 및 R21는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1cccc)와 화합물 (54)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 29]
[화학식 108]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14x 및 R15w은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -O-B15COOH기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14y 및 R15x는 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -O-B15CONR26R27기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 B15, R26 및 R27는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1eeee)와 화합물 (55)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 30]
[화학식 109]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14z 및 R15y은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -N(R31)-B17-COOH기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14aa 및 R15z는 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -N(R31)-B17CONR32R33기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 R31, B17 및 R32, R33는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1gggg) 와 화합물 (56)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 31]
[화학식 110]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14bb 및 R15aa은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -COOH기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14cc 및 R15bb는 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -CONR26R27기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 R26 및 R27는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1iiii)와 화합물 (57)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 32]
[화학식 111]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, R14a 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
h는 0 또는 1을 나타내고; R57는 저급 알콕시카르보닐기를 나타낸다.
화합물 (1kkkk) 가 화합물 (1llll)로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행될 수 있다.
[반응식 33]
[화학식 112]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, R14a 및 A10은 상기 기재된 것과 동일하고, R58는 저급 알킬기를 나타내고, g는 0 또는 1을 나타낸다.
화합물 (1mmmm)이 화합물 (1nnnn)로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에서 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행될 것이다.
화합물 (1nnnn)과 화합물 (58)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 34]
[화학식 113]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14hh 및 R15gg은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(CO)o-B13NH(R22a)기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14ii 및 R15hh은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(CO)o-B13N(R22a)R23a기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14jj 및 R15ii은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(CO)o-B13N(R22a)R23b기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14kk 및 R15jj은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(CO)o-B13N(R22a)(CHRAR23c)기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며,
여기서 RA, B13 및 o는 상기 기재된 것과 동일하고;
R22a는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 페닐기이고;
R23a는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 페닐기를 나타내고;
R23b는 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 나타내고;
R23c는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 페닐기를 나타내고;
단, 화합물 (1ssss)의 측쇄 (-(CO)o-B13-N(R22a)(CHRAR23c))에서 -CHRAR23c기의 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (1pppp)와 화합물 (59)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1pppp)와 화합물 (61)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1pppp)와 화합물 (60)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 35]
[화학식 114]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R14ll 및 R15kk은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(O-B15)s-CONH(R26a)기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14mm 및 R15ll은 헤테로시클릭기의 각각이 그 위에 하나 이상의 -(O-B15)s-CON(R26a)(R27a)기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14nn 및 R15mm은 헤테로시클릭기의 각각이 하나 이상의 -(O-B15)s-CON(R26a)(CHRAR27b)기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 B15, s 및 RA는 상기 기재된 것과 동일하고;
R26a는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고;
R27a는 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고;
R27b는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 페닐기, 이미다졸릴기 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고;
단, 화합물 (1vvvv)의 측쇄 (-(O-B15)s-CO(R26a)(CHRAR27b))에서 -CHRAR27b기의 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (1tttt)와 화합물 (62)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1tttt)와 화합물 (63)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 36]
[화학식 115]
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 R14v, R15u, R14k 및 R14j는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (T)l기에 결합되고;
R59는 저급 알킬기를 나타내고;
R14oo 및 R15nn은 헤테로시클릭기의 각각이 하나 이상의 -B21CONHNHCOOR59기를 갖는 것을 제외하고는, 각각 상기에서 R14 및 R15으로 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
여기서 B21은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1cccc')와 화합물 (102)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1yyyy)이 화합물 (1hhh)로 전환되는 반응은 상기 반응식 9에서 나타난 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
다양한 기가 R1으로 선택되는 화학식 (1)의 본 발명의 화합물은 예를 들어, 하기의 반응식 37 내지 46 으로 나타낸 것과 같이 제조된다.
[반응식 37]
[화학식 116]
식 중, R2, X1, Y, A16, R6, R8, B21, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (1y)의 (R6-B21CHRA-)기의 B21CHRA 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (19)와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (19)와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (19)와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 38]
[화학식 117]
식 중, R2, X1, Y, A, R6, B, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, R8a는 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고, R8b는 수소 원자, 페닐기, 페닐 저급 알킬기 또는 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고, R8c는 저급 알카노일기를 나타내고, 단, 화합물 (1cc)의 -CHRAR8b기의 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (1aa)와 화합물 (23)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1aa)와 화합물 (24)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1aa)와 화합물 (25)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 39]
[화학식 118]
식 중, R2, X1, Y, A, B21, f, RA 및 R6은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (1ee)의 측쇄 (-(B21)fCHRANH R6)의 (B21)fCHRA 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (26) 과 화합물 (27)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 40]
[화학식 119]
식 중, R88은 -Y-A기 또는 할로겐 원자를 나타내고, R2, X1, Y, A, 및 R6은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (28)과 화합물 (27)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 41]
[화학식 120]
식 중, R2, X1, Y, A, R6, R8a, R8b, R8c, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (1hh)의 -CHRAR8b기의 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (1ff')와 화합물 (23)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1ff')와 화합물 (24)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1ff')와 화합물 (25)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 42]
[화학식 121]
식 중, R2, X1, Y, A, R6 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (30)이 화합물 (1jj)로 전환하는 반응은 상기 반응식 3에서 나타난 화합물 (1f)이 화합물 (1h)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (1jj)이 화합물 (1kk)로 전환하는 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (30)과 화합물 (32)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 43]
[화학식 122]
식 중, R2, X1, Y, A, X2 및 R6은 상기 기재된 것과 동일하고, B23는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고, 화합물 (1mm)의 측쇄 (R6B23-HC=CH-)의 B23-HC=CH- 부분은 1 내지 3의 이중 결합 및 6 이하의 탄소 원자를 가진다.
화합물 (33)과 화합물 (34)의 반응은 적절한 불활성 용매에서 축합제의 존재하에 수행된다.
상기 기재된 반응에서 사용될 수 있는 불활성 용매의 예는 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌과 같은 방향족 히드로카본, 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림과 같은 에테르, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 카본 테트라클로라이드와 같은 할로겐화 히드로카본, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올 및 에틸렌 글리콜과 같은 저급 알콜, α-디메틸아미노아세트산 및 아세트산과 같은 지방산, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤, 아세토니트릴, 1-메틸-2-피롤리돈, 피리딘, 디메틸 술폭시드, 디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
축합제의 예는 비스(벤조니트릴)디클로로팔라듐 (II)과 같은 팔라듐 착물을 포함한다.
축합제는 통상적으로 화합물 (33)의 몰 기준으로 0.01 내지 1배이고, 바람직하게는 0.01 내지 0.5배의 양으로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 약 150℃에서 바람직하게 진행되고, 일반적으로 약 10분 내지 20시간 내에 완료된다.
상기 기재된 반응은 반응계에 나트륨 아세테이트와 같은 지방산의 알칼리 금속염을 첨가하여 유리하게 진행된다.
[반응식 44]
[화학식 123]
식 중, R2, X1, Y, A 및 R6는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1nn)이 화합물 (1oo)으로 전환하는 반응은 상기 반응식 3에서 나타난 화합물 (1f)가 화합물 (1g)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 45]
[화학식 124]
식 중, A17는 하기를 나타낸다:
[화학식 125]
식 중, R2, R3, p, X1, Y, A, Bo 및 R6 는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (64)와 화합물 (65)의 반응은 축합제의 존재 하에 적절한 용매에서 수행된다.
임의의 용매는 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응 (아미드 결합 생성 반응)의 아민(1b) 와 카르복실산의 반응에서 사용되는 한, 사용될 수 있다.
축합제의 예는 아조카르복실레이트 (예컨대, 디에틸 아조디카르복실레이트) 와 인 화합물 (예컨대, 트리페닐포스핀)의 혼합물을 포함한다.
축합제는 통상적으로 화합물 (64)에 대해 등몰량 이상, 바람직하게는 화합물 (64)의 몰 기준으로 1 내지 2배의 양으로 바람직하게 사용된다.
화합물 (65)는 통상적으로 화합물 (64)에 대해 등몰량 이상, 바람직하게는 화합물 (64)의 몰 기준으로 1 내지 2배의 양으로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃에서 바람직하게 진행되고, 일반적으로 약 1 내지 10시간 내에 완료된다.
[반응식 46]
[화학식 126]
식 중, R2, X1, Y, A, 및 R6는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (30)과 화합물 (66)의 반응은 염기성 화합물의 존재 또는 부재, 바람직하게는 염기성 화합물의 부재 하에 그리고 적절한 용매의 존재 또는 부재 하에 수행된다.
임의의 불활성 용매 및 염기성 화합물은 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응 (아미드 결합 생성 반응)의 아민 (1b) 와 카르복실산 할라이드의 반응에서 사용되지 한, 사용될 수 있다.
화합물 (66)은 통상적으로 화합물 (30)의 몰 기준으로 1 내지 5배이고, 바람직하게는 1 내지 3배의 양으로 사용될 수 있다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150℃에서 바람직하게 진행되고, 일반적으로 약 5분 내지 50시간 내에 완료된다.
보론 트리플루오리드-디에틸 에테르 착물과 같은 보론 화합물은 상기 기재된 반응의 반응계에 첨가될 수 있다.
[반응식 47]
[화학식 127]
식 중, R2, X1, Y, T2, A10, R14, R15, B21, RA, X2, R6 및 R59은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 T2기에 결합된다.
화합물 (68)이 화합물 (71)로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에서 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (71)과 화합물 (100)의 반응은 상기 반응식 20에서 나타난 화합물 (1fff)와 화합물 (43)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
또한 화합물 (68)은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 화합물 (100) 대신 메틸 요오디드와 같은 할로겐화 저급 알킬을 사용하여 제조될 수 있다.
화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응은 예를 들어, 적절한 용매에서 화합물 (68)이 촉매성 히드리드 환원제로 환원되는 (1) 또는 적절한 불활성 용매에서 화합물 (68)이 산과 금속염 또는 금속의 혼합물, 또는 알칼리 금속 히드록시드와 금속염 또는 금속의 혼합물, 술피드, 암모늄염 등과 같은 환원제로 환원되는 (2)로 수행될 수 있다.
방법 (1)에서 사용하기 위한 용매의 예는 물, 아세트산, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 알콜, n-헥산 및 시클로헥산과 같은 히드로카본, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르와 같은 에테르, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트와 같은 에스테르, N,N-디메틸포름아미드와 같은 비양자성 극성 용매 및 그의 혼합물을 포함한다. 촉매성 히드리드 환원제의 예는 팔라듐, 팔라듐 블랙, 팔라듐-탄소, 백금-탄소, 백금, 산화 백금, 카파 크로마이트, 및 라니 니켈을 포함한다. 이러한 환원제는 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 일반적으로 환원제는 혼합물 (68)의 중량 기준으로 0.02 내지 1배의 양으로 사용될 수 있다. 반응 온도는 통상적으로 약 -20 내지 150℃, 바람직하게는 약 0 내지 100℃로 설정되고, 수소 압력은 통상적으로 1 내지 10 atm로 설정된다. 일반적으로, 상기 기재된 반응은 약 0.5 내지 100시간 내에 완료된다. 염산과 같은 산이 반응계에 첨가될 수 있다.
방법 (2)에서 사용하기 위한 환원제는 염산 또는 황산과 같은 미네랄산과 철, 아연, 주석 또는 염화제1주석의 혼합물; 또는 나트륨 히드록시드와 같은 알칼리 금속 히드록시드, 암모늄 술페이트와 같은 술페이트 또는 암모늄 히드록시드 또는 암모늄 클로라이드와 같은 암모늄 염과 철, 황산철, 아연 또는 주석의 혼합물이다. 불활성 용매의 예는 물, 아세트산, 메탄올 및 에탄올과 같은 알콜, 디옥산과 같은 에테르 및 그의 혼합물을 포함한다. 환원 반응 조건은 사용되는 환원제에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 예를 들어, 염화제1주석 또는 염산이 환원제로 사용될 때, 반응은 유리하게는 약 0 내지 150℃에서, 약 0.5 내지 10시간 동안 수행된다. 환원제는 화합물 (68)에 대해 등몰량 이상의 양으로, 통상적으로는 화합물 (68)의 몰 기준으로 1 내지 5배로 사용된다.
화합물 (69)와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (69)와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (69)와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (69)가 화합물 (37a)로 전환하는 반응, 화합물 (70a)가 화합물 (37d)로 전환하는 반응, 화합물 (70b)가 화합물 (37c)로 전환하는 반응, 화합물 (70c)가 화합물 (37b)로 전환하는 반응은 반응식 9에서 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (71)과 화합물 (36)의 반응은 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (69)와 화합물 (32)의 반응은 상기 반응식 42에서 나타난 화합물 (30)과 화합물 (32)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 48]
[화학식 128]
식 중, R2, X1, Y, A10, B3, R14, R15, RA, R74a 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고;
Rc는 -CONR14R15기 또는 -COOR59b기를 나타내고, R59b는 저급 알킬기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고;
R17a는 저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알킬 술포닐기 또는 저급 알케닐기를 나타내고;
R17b는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고;
R17c는 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기 또는 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알카노일기를 나타내고, 여기서 A10의 a는 Y기에 결합되고, b는 -NHB3-Rc기, -N(R17a)B3-Rc기, -N(CH(RA)(R17b))B3-Rc기 또는 -N(R17c)B3-Rc기에 결합된다.
화합물 (72a)와 화합물 (73)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (72a)와 화합물 (75)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (72a)와 화합물 (74)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 49]
[화학식 129]
식 중, R2, X1, Y, A10, B3, R14 및 R15은 상기 기재된 것과 동일하고, R17d 는 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 저급 알카노일기를 나타내고, R60은 저급 알킬기로 치환될 수 있는 아미노기를 나타내고, R61는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 아미노 치환된 저급 알카노일기를 나타내고, 여기서 A10의 a는 Y기에 결합되고, b는 -N(R17d)B3-CONR14R15 기 또는 -NR61B3-CONR14R15기에 결합된다.
화합물 (72e)와 화합물 (76)의 반응은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 50]
[화학식 130]
식 중, R2, X1, Y, R6, B21, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, A11은 하기를 나타낸다:
[화학식 131]
식 중, R3 및 p은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (78b)의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6)기에서 알킬 부분은 6개 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (77a)가 화합물 (77b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (77b) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (77b) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (77b) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 51]
[화학식 132]
식 중, R1, R2, X1, Y 및 A11 는 상기 기재된 것과 동일하고, i는 2 내지 4의 정수를 나타낸다.
화합물 (77c)와 화합물 (79)의 반응은 일반적으로 프리델 크래프트 (Friedel-Crafts) 반응이라 불리고, 루이스 산의 존재 하에 적절한 용매에서 수행된다.
임의의 루이스 산은 통상적으로 프리델 크래프트 반응에서 사용하는 한, 사용될 수 있다. 루이스 산의 예는 암모늄 클로라이드, 아연 클로라이드, 철 클로라이드, 주석 클로라이드, 보론 트리브로마이드, 및 진한 황산을 포함한다. 이러한 루이스 산은 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용된다. 루이스 산은 통상적으로 화합물 (77c)의 몰 기준으로 2 내지 6배의 양으로 사용된다.
여기서 사용되는 용매의 예는 카본 디술피드, 니트로벤젠, 및 클로로벤젠과 같은 방향족 히드로카본, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 카본 테트라클로라이드 및 테트라클로로에탄과 같은 할로겐화 히드로카본, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
화합물 (79)는 통상적으로 화합물 (77c)에 대해 등몰량 이상이고, 바람직하게는 화합물 (77c) 몰 기준으로 1 내지 5배로 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로는 0 내지 120℃, 바람직하게는 약 0 내지 70℃에서 바람직하게 진행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 24시간 내에 완료된다.
[반응식 52]
[화학식 133]
식 중, R2, X1, Y, R6, X2, B21 및 RA 는 상기 기재된 것과 동일하고, A12는 하기를 나타낸다:
[화학식 134]
식 중, R3 및 p는 상기 기재된 것과 동일하고, R62는 저급 알카노일기 또는 히드록실 치환 저급 알킬기를 나타내고, 단, 화합물 (81b)의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6)기에서 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (80a)가 화합물 (80b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (80b) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (80b) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (80b) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 53]
[화학식 135]
식 중, R1, R2, X1 및 Y는 상기와 동일하고, A13 은 하기를 나타낸다:
[화학식 136]
식 중, R3 및 p는 상기 기재된 것과 동일하고, R63a는 저급 알카노일기 또는 저급 알킬기를 나타내고, A14는 하기를 나타낸다:
[화학식 137]
식 중, R63b는 α-위치에서 할로겐 원자로 치환된 저급 알카노일기 또는 2 위치에서 할로겐 원자로 치환되는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (80b')가 화합물 (35a)로 전환하는 반응은 적절한 용매에서 할로겐화제의 존재하에 수행된다.
할로겐화제의 예는 브롬 및 염소, 요오드 클로라이드, 술푸릴 클로라이드, 큐프릭 브로마이드와 같은 구리 화합물, N-브로모숙신산 이미드 및 N-클로로숙신산 이미드와 같은 N-할로겐화 숙신산 이미드를 포함한다.
여기서 사용되는 용매의 예는 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 카본 테트라클로라이드와 같은 할로겐화 히드로카본, 아세트산 및 프로피온산과 같은 지방산, 및 카본 디술피드를 포함한다.
할로겐화제는 통상적으로 화합물 (80b')의 몰 기준으로 1 내지 10배, 바람직하게는 1 내지 5배의 양으로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 0 내지 용매의 끓는점, 바람직하게는 약 0 내지 100℃에서 수행되고, 통상적으로 약 5분 내지 30시간에 완료된다.
N-할로겐화 숙신산 이미드가 할로겐화제로 사용될 때, 벤조일 퍼옥사이드와 같은 퍼옥사이드는 라디칼 반응 개시제로 반응계에 첨가될 수 있다.
[반응식 54]
[화학식 138]
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, R59, R8a, R8b, R8c, X2 및 RA는 상기 기재된 것과 동일하고,
R64는 페닐 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고,
단, 화합물 (84b)의 측쇄 (-NH(CHRAR8b)(R64)기) 및 화합물 (84e)의 측쇄 (-NH(CHRAR8b)기)의 알킬 부분의 각각은 6 이하의 탄소 원자를 갖고, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 T2에 결합된다.
화합물 (83)과 화합물 (23)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (69)와 화합물 (82)의 반응, 화합물 (83)과 화합물 (25)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (83)과 화합물 (24)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (84a)가 화합물 (84d)로 전환하는 반응, 화합물 (84b)가 화합물 (84e)로 전환하는 반응, 화합물 (84c)가 화합물 (84f)로 전환하는 반응은 상기 반응식 24에 기재된 화합물 (1hhh')로 전환하기 위해 화합물 (1iii')가 환원되는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 55]
[화학식 139]
식 중, R2, X1, Y, A10, B21, R74a및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 B21기에 결합된다.
화합물 (85)가 화합물 (7')로 전환하는 화합물은 적절한 용매의 존재 또는 부재 하에 할로겐화제와 화합물 (85)의 반응으로 수행된다.
할로겐화제의 예는 염산 및 브롬산과 같은 미네랄산, N,N-디에틸-1,2,2-트리클로로비닐 아지드, 펜타클로라이드인, 펜타브로마이드인, 옥시클로라이드인, 티오닐 클로라이드, 메실 클로라이드 및 토실 클로라이드와 같은 술포닐 할라이드 화합물, 및 트리페닐포스핀을 갖는 카본 테트라 브로마이드의 혼합물을 포함한다. 술포닐 할라이드 화합물은 염기성 화합물과 함께 사용될 수 있다.
임의의 염기성 화합물은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서 사용되는 한, 사용될 수 있다.
사용되는 용매의 예는 디옥산, 테트라히드로푸란, 및 디에틸 에테르와 같은 에테르, 클로로포름, 메틸렌 클로라이드 및 카본 테트라클로라이드와 같은 할로겐화 히드로카본, 디메틸포름아미드, 및 그의 혼합물을 포함한다.
할로겐화제로 제공되는 술포닐 할라이드 화합물이 염기성 화합물과 함께 사용될 때, 술포닐 할라이드 화합물은 통상적으로 화합물 (85)에 대해 등몰량 이상이고, 바람직하게는 화합물 (85)의 몰 기준으로 1 내지 2배로 바람직하게 사용된다. 염기성 화합물은 통상적으로 화합물 (85)의 촉매량, 바람직하게는 화합물 (85)의 등몰량에 대해 촉매량으로 사용된다. 술포닐 할라이드 화합물과 다른 할로겐화제가 사용될 때, 할로겐화제는 화합물 (85)에 대해 등몰량 이상으로 사용되고, 통상적으로는 매우 과량으로 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 실온 내지 200℃, 바람직하게는 실온 내지 150℃에서 바람직하게 진행되고, 일반적으로는 약 1 내지 80시간 내에 완료된다.
[반응식 56]
[화학식 140]
식 중, R74a, R2, X1, Y, A10 및 B21는 상기 기재된 것과 동일하고, R65는 트리-저급 알킬 실릴기를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 B21 기에 결합된다.
여기서 사용되는 트리-저급 알킬 실릴기의 예는 알킬 부분이 t-부틸디메틸실릴, 트리메틸실릴 및 디에틸메틸실릴기와 같이 1 내지 6의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 트리알킬실릴기를 포함한다.
화합물 (86)이 화합물 (85)로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에서 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 57]
[화학식 141]
식 중, R74a, R2, X1, Y, A10, B21, R65 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, R66는 수소 원자, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 B21 기에 결합되고, 화합물 (85a)의 측쇄 (-Y-A10-B21CH2OH)및 화합물 (86a)의 측쇄 (-Y-A10-B21CH2OR65)에서 알킬 부분의 각각은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (69a)가 화합물 (85a)로 전환하는 반응은 상기 반응식 3에서 나타난 화합물 (1f)가 화합물 (1g)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (85a)와 화합물 (101)의 반응은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)를 화합물 (3)으로 전환시키는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 58]
[화학식 142]
식 중, R2, X1, Y, A10, B21, R6, RA, f, R43, R44 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, B21'은 저급 알킬렌기를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 B21'기에 결합되고, 화합물 (90c)의 측쇄 (-Y-A10-(B21')f-CH=C(COOR43)(COOR44))에서 (B21')f-CH=C 부분 및 화합물 (90b)의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6))에서 알킬 부분의 각각은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (87)과 화합물 (88)의 반응은 상기 반응식 3에서 나타난 화합물 (1f)과 히드록실아민의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (89a)가 화합물 (89b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (89b) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (89b) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (89b) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 59]
[화학식 143]
식 중, R2, X1, Y, A10, B21', R65, R6, B21, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 B21'기에 결합되고, 화합물 (91b)의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6))에서 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (86a') 가 화합물 (86b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68) 이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (86b) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (86b) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (86b) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 60]
[화학식 144]
식 중, R2, X1, Y, A10, B21, B21', R6, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 B21'기에 결합되고, 화합물 (44c)의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6))에서 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (92a) 가 화합물 (92b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68) 이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (92b) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (92b) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (92b) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 61]
[화학식 145]
식 중, R2, X1, 및 X2 는 상기 기재된 것과 동일하고, R67은 -A10B21CN기, -A10-R59d기, -A10-T2-COOR59a기 또는 -A기를 나타내고, R59d는 저급 알킬기를 나타내고, A10, B21, T2 및 R59a 는 상기 기재된 것과 동일하고, R68은 니트로기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (93) 과 화합물 (94)의 반응은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 62]
[화학식 146]
식 중, R2, R67 및 X1는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (95a) 가 화합물 (95b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 63]
[화학식 147]
식 중, R2, X1, Y, A7, R6, B21, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (13b)의 측쇄(-NHCH(RA)(B21R6))에서 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (96)과 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (96)과 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (96)과 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 64]
[화학식 148]
식 중, R2, X1, Y, B21, f, i, R6, B21, A10, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, RA'는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, 단, 화합물 (98b)의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6))에서 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖고, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (B21)f기에 결합된다.
화합물 (97a) 가 화합물 (97b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68) 이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (97b) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (97b) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (97b) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 65]
[화학식 149]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B21, f, RA' 및 A3는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (B21)f기에 결합된다.
화합물 (98d) 가 화합물 (9')로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 66]
[화학식 150]
식 중, R1, R2, X1, Y, A3, R59, A10, B21 및 f는 상기 기재된 것과 동일하고, T3는 직접 결합 또는 B7기를 나타내고, B7은 상기 기재된 것과 동일한 것을 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y기 및 (B21)f기에 결합된다.
화합물 (9') 와 화합물 (99)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 67]
[화학식 151]
식 중, R2, X1, Y, A10, R14a, R49a, R49, R49b, T, l, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (104c)의 측쇄 (-N(R14a)(CHRAR49b))에서 CHRA 부분이 6 이하로 갖고, A10의 a는 Y기에 결합되고, A10의 b는 -NR14aH기, -NR14aR49a기, -NR14aR49기 또는 -NR14a(CHRAR49b)기에 결합된다.
화합물 (103)과 화합물 (38a)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (103)과 화합물 (38)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (103)과 화합물 (38b)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 68]
[화학식 152]
식 중, R2, X1, Y 및 A는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (105)가 화합물 (19a)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다. 화합물 (19a)는 분리없이 하기의 반응에 적용될 수 있다.
[반응식 69]
[화학식 153]
식 중, R2, X1, Y 및 A10는 상기 기재된 것과 동일하고, R69a는 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐기를 나타내고, R69는 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기를 나타내고, R70는 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기를 나타내고, 단, A10의 a는 Y기에 결합되고, A10의 b는 -R69기 또는 -R70기에 결합된다.
화합물 (106a)와 화합물 (160)의 반응은 상기 반응식 58에서 나타난 화합물 (87)과 화합물 (88)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (106)이 화합물 (19b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 70]
[화학식 154]
식 중, R2, X1, X2, A, Y1, A10, T2, R59 및 R59a는 상기 기재된 것과 동일하고, R71은 -R1기 (여기서, R1은 상기 기재된 것과 동일하다), 니트로기 또는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, X3는 할로겐 원자를 나타내고, R72는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 카르복시 저급 알킬기, -(B21)fC(=O)RA기 (여기서, B21, f 및 RA 은 상기 기재된 것과 동일하다), 저급 알카노일기, 저급 알콕시기 또는 수소 원자를 나타내고; 단, A10의 a는 Y1기에 결합되고, A10의 b는 -T2기 또는 -R72기에 결합된다.
화합물 (94a)와 화합물 (107)의 반응, 및 화합물 (94a)와 화합물 (107a)의 반응은 각각 촉매의 존재 하에 적절한 용매에서 수행된다.
임의의 용매는 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서 사용되는 한, 여기에 사용될 수 있다.
여기에 사용되는 촉매로 금속 착물 및 리간드의 다양한 조합과 같은 다양한 금속 착물이 사용될 수 있다. 금속 착물의 예는 팔라듐 아세테이트 (II), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (0), 및 트리(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 (0)을 포함한다. 리간드의 예는 R-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (R-BINAP), S-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (S-BINAP), RAC-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (RAC-BINAP), t-부틸포스핀, 및 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸크산텐을 포함한다.
이와 같은 촉매는 통상적으로 화합물 (94a)에 대해 등몰량 이상이고, 바람직하게는 화합물 (94a)의 몰 기준으로 1 내지 5배로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 약 0 내지 200℃이고, 바람직하게는 약 0 내지 150℃에서 수행되고, 일반적으로는 약 30분 내지 10시간 내에 완료된다.
Molecular Sieves 3A (MS3A) 또는 Molecular Sieves 4A (MS4A) 와 같은 분자체, 또는 트리페닐포스핀 또는 트리(2-푸릴)포스핀과 같은 인 화합물이 반응계에 첨가될 때, 반응은 유리하게 진행된다.
화합물 (94a)와 화합물 (108), 화합물 (3) 또는 화합물 (110)의 반응은 상기 반응식 1에 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
R71이 저급 알콕시카르보닐기를 나타내는 화합물 (109c)은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에서 가수분해에 의해, R71이 카르복시기를 나타내는 상응하는 화합물 (109c)로 전환될 수 있다.
[반응식 71]
[화학식 155]
식 중, R1, R2, X1, X2, Y1, A10 및 T2는 상기 기재된 것과 동일하고, R59c는 수소 원자, 저급 알킬 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 Y1기 및 -T2기에 결합된다.
화합물 (2)와 화합물 (108')의 반응은 상기 반응식 1에 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 72]
[화학식 156]
식 중, R2, X1, R5a, R5b, RA, R5c 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, R73a는 -A10-T2-COOR59 기 (여기서 A10, T2 및 R59는 상기 기재된 것과 동일하다) 또는 -A기 (여기서 A는 상기 기재된 것과 동일하다)를 나타내고, A10의 a는 -NH-기, -NR5a-기, -N(CHRAR5b)-기 또는 -NR5c-기에 결합되고, 단, A10의 b는 -T2기에 결합되고, 화합물 (68d)의 측쇄 (-N(R73a)(CHRAR5b))에서 알킬 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (111)과 화합물 (4)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (111)과 화합물 (6)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (111)과 화합물 (5)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 73]
[화학식 157]
식 중, R2, X1, Y, A10, X2, R17, B3, R74a 및 Rc는 상기 기재된 것과 동일하고, A10의 a는 -Y기에 결합되고, 단, A10의 b는 -NHR17기 또는 -NR17B3Rc기에 결합된다.
화합물 (112) 와 화합물 (113)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 74]
[화학식 158]
식 중, R2, X1, Y, A10, T1, l, R14 및 R15는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 (-T1)1과 결합된다.
화합물 (114)와 화합물 (36)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
또한 1이 0인 화합물 (109e)는 염기성 화합물 및 촉매의 존재 하에 적절한 용매에서 상응하는 화합물 (114)와 화합물 (36)의 반응에 의해 제조될 수 있다.
상기 기재된 반응은 상기 반응식 13에 기재된 반응 C에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 75]
[화학식 159]
식 중, R2, X1, Y, R8, B21, R6, A10, T2, R59, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (84i)의 측쇄 (-N(R8)(CH(RA) B21R6))에서 CHRAB21 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖고, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -T2기에 결합된다.
화합물 (84g)와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (84g)와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (84g)와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 76]
[화학식 160]
식 중, R2, X1, Y, R8a, R8b, R8c, B, R6, A10, T2, R59, RA 및 X2는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, 화합물 (116b)의 측쇄 (-NB(R6)(CH(RA )R8b))에서 CHRA 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖고, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -T2기에 결합된다.
화합물 (115)와 화합물 (23)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (115)와 화합물 (25)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (115)와 화합물 (24)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 77]
[화학식 161]
식 중, R2, X1, Y, A3, R14 및 R15는 상기 기재된 것과 동일하고, A15는 하기를 나타낸다:
[화학식 162]
식 중, R73은 -(B21)fCH(RA)(NR14R15)기를 나타내고, B21, f 및 RA는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, (B21)fCH(RA) 부분은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (117)과 화합물 (36)의 반응은 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 78]
[화학식 163]
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, R6, R9a 및 R59는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -T2기에 결합된다.
화합물 (69') 와 화합물 (66)의 반응은 반응식 46에서 나타난 화합물 (30)과 화합물 (66)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 79]
[화학식 164]
식 중, R95, R2, X1, Y, A10, T2, 및 R59b는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -T2기에 결합된다.
화합물 (120a) 가 화합물 (120b)로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행될 수 있다.
화합물 (120b) 와 화합물 (100')의 반응은 반응식 20에서 나타난 화합물 (1fff)과 화합물 (43)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
또한 화합물 (120a)은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응에서 화합물 (100') 대신 메틸 요오디드와 같은 저급 알킬 할라이드를 사용하여 제조될 수 있다.
[반응식 80]
[화학식 165]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B5, R59a 및 j는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -S기에 결합된다.
화합물 (120c) 가 화합물 (120d)로 전환하는 반응은 상기 반응식 4에서 화합물 (1zzzz) 가 화합물 (1aaaaa)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 81]
[화학식 166]
식 중, R2, X1, Y, A10, T, l, R6, X2, RA, B21 및 R14a는 상기 기재된 것과 동일하고, R49c는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -(T)1기에 결합된다.
화합물 (103)과 화합물 (38c)의 반응은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (104d) 가 화합물 (104e)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (104e) 와 화합물 (20)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (4)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (104e) 와 화합물 (22)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (6)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
화합물 (104e) 와 화합물 (21)의 반응은 상기 반응식 2에서 나타난 화합물 (1b) 와 화합물 (5)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 82]
[화학식 167]
식 중, R2, X1, Y, A3, A10, B21, f, RA 및 i는 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -(B21)f기와 결합하고, 화합물 (123a)의 측쇄에서 (B21)fC(RA) 부분은 전체가 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (121)과 화합물 (122)의 반응은 산의 존재 하에 적적한 용매에서 수행된다.
임의의 용매는 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서 사용되는 한, 여기에 사용될 수 있다.
산의 예는 염산, 황산, 및 브롬산과 같은 미네랄산, 아세트산, 트리플루오로 아세트산 및 p-톨루엔 술폰산을 포함하는 술폰산과 같은 유기산을 포함한다. 이러한 산은 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 산은 통상적으로 화합물 (121)의 몰 기준으로 0.01 내지 5배 이상이고, 바람직하게는 0.01 내지 2배의 양으로 바람직하게 사용된다. 화합물 (122)는 통상적으로 화합물 (121)에 대해 등몰량 이상이고, 바람직하게는 화합물 (121)의 몰 기준으로 1 내지 10배로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃에서 수행되고, 일반적으로 30분 내지 10시간 내에 완료된다.
[반응식 83]
[화학식 168]
식 중, R2, X1, Y 및 A10는 상기 기재된 것과 동일하고, R72a는 저급 알콕시기를 나타내고, 단, A10의 a는 -Y기에 결합되고, A10 의 b는 -R72a기 또는 히드록실기에 결합된다.
화합물 (109f) 가 화합물 (124)로 전환하는 반응은 산의 존재 하에 적적한 용매에서 수행될 수 있다.
용매로 물 이외에 임의의 용매는 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2)와 화합물 (3)의 반응에서 사용되는 한, 여기에 사용될 수 있다.
산의 예는 브롬산, 염산, 및 진한 황산과 같은 미네랄산, 포름산 및 아세트산과 같은 지방산, p-톨루엔술폰산과 같은 유기산, 알루미늄 클로라이드, 아연 클로라이드, 철 클로라이드, 주석 클로라이드, 보론 트리플루오리드, 및 보론 트리브로마이드와 같은 루이스 산, 나트륨 요오디드 및 칼륨 요오디드와 같은 요오디드, 상기 기재된 것과 같은 루이스 산 및 요오디드의 혼합물을 포함한다. 산은 통상적으로 화합물 (109f)의 몰 기준으로 0.1 내지 5배이고, 바람직하게는 0.5 내지 3배의 양으로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 통상적으로 0 내지 150℃이고, 바람직하게는 약 0 내지 100℃에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 15시간 내에 완료된다.
[반응식 84]
[화학식 169]
식 중, R2, X1, Y, A10, B5, X2, R14 및 R15는 상기 기재된 것과 동일하고, Q1은 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -Q1기에 결합된다.
화합물 (124a)와 화합물 (125)의 반응은 상기 반응식 1에서 나타난 화합물 (2) 와 화합물 (3)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 85]
[화학식 170]
식 중, R2, X1, Y, A10, R14a, R74a, T 및 l은 상기 기재된 것과 동일하고, R74b은 저급 알카노일기 또는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -(T)1기에 결합된다.
화합물 (109g) 가 화합물 (109h)로 전환하는 반응은 상기 반응식 9에 기재된 가수분해 B에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 86]
[화학식 171]
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, X2, R59a, B23 및 R6은 상기 기재된 것과 동일하고, 단, A10의 a 및 b는 각각 -Y기 및 -T2기에 결합된다.
화합물 (126)과 화합물 (34)의 반응은 상기 반응식 43에서 나타난 화합물 (33)과 화합물 (34)의 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 87]
[화학식 172]
식 중, R2, X1, Y, R74a 및 A10는 상기 기재된 것과 동일하고, R74c는 아미노기 또는 -R1기 (여기서 R1 은 상기 기재된 것과 동일하다)를 나타내고, R75는 저급 알카노일기를 나타내고, R76은 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, R77 및 R78 모두는 저급 알콕시기이고, R79는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, A10의 a는 -Y기에 결합되고, 단, A10의 b는 -R75기, -C(R79)=CHR76기 또는 -CH(R79)CH2R76기에 결합되고, C(R79)=CH 부분 및 CH(R79)CH2 부분의 각각은 6 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (128)과 화합물 (129)의 반응은 염기성 화합물의 존재 하에 적절한 용매에서 수행된다.
임의의 통상적인 용매는 반응에 영향을 미치지 않는 한 사용될 수 있다. 상기 용매의 예는 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 모노글림, 및 디글림과 같은 에테르, 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌과 같은 방향족 히드로카본, n-헥산, 헵탄, 및 시클로헥산과 같은 지방족 히드로카본, 피리딘 및 N,N-디메틸아닐린과 같은 아민, 아세토니트릴과 같은 양성자성 극성 용매, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 술폭시드, 헥사메틸인산, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 알콜, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
염기성 화합물의 예는 금속 나트륨, 금속 칼륨, 나트륨 히드리드, 나트륨 아미드, 나트륨 히드록시드, 칼륨 히드록시드, 및 칼슘 히드록시드와 같은 금속 히드록시드, 나트륨 카르보네이트, 칼륨 카르보네이트, 및 나트륨 비카르보네이트와 같은 카르보네이트, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 및 칼륨 t-부톡시드와 같은 금속 알콜레이트, 알킬 및 아릴 리튬 또는 메틸 리튬, n-부티릴 리튬, 페닐 리튬, 및 리튬 디이소프로필아미드와 같은 리튬 아미드, 피리딘과 같은 유기 염기, 피페리딘, 퀴놀린, 트리메틸아민, 디이소프로필에틸아민, 및 N,N-디메틸아닐린을 포함한다. 이러한 염기성 화합물은 단독으로 혹은 2 종 이상의 혼합물로 사용된다.
염기성 화합물은 화합물 (128)의 몰 기준으로 0.1 내지 10배이고, 바람직하게는 0.5 내지 5배의 양으로 바람직하게 사용된다.
화합물 (129)는 통상적으로 화합물 (128)에 대해 등몰량 이상이고, 바람직하게는 화합물 (128)의 몰 기준으로 1 내지 5배로 바람직하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 -80 내지 150℃, 바람직하게는 약 -80 내지 120℃에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 40시간 내에 완료된다.
유기 염기가 염기성 화합물로 사용될 때, 반응은 반응계에 리튬 클로라이드와 같은 리튬염을 첨가하여 유리하게 진행된다.
화합물 (130)이 화합물 (131)로 전환하는 반응은 상기 반응식 47에서 나타난 화합물 (68)이 화합물 (69)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 88]
[화학식 173]
식 중, R2, X1, Y, R66 및 A17 는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (28') 가 화합물 (64a)로 전환하는 반응은 상기 반응식 3에서 나타난 화합물 (1f) 가 화합물 (1g)로 전환하는 반응에서와 동일한 반응 조건하에 수행된다.
[반응식 89]
[화학식 174]
식 중, R2, X1, Y 및 A 는 상기와 동일하다.
화합물 (64b) 를 화합물 (26a) 으로 전환하는 반응은 산화제의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다.
용매의 예는 물, 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산 및 프로피온산과 같은 지방산, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트과 같은 에스테르, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 알콜, 디옥산, 테트라히드로푸란 및 디에틸 에테르와 같은 에테르, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤, 벤젠, 톨루엔, 클로로벤젠 및 자일렌과 같은 방향족 탄화수소, 및 클로로포름 및 디클로로메탄과 같은 할로겐화 탄화수소, 헥사메틸인산 트리아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 술폭시드, 및 피리딘, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
산화제의 예는 퍼포름산, 퍼아세트산, 퍼트리플루오로아세트산, 퍼벤조산, m-클로로퍼벤조산 및 o-카르복시퍼벤조산과 같은 과산, 과산화수소, 나트륨 메타페리도데이트, 디크롬산, 나트륨 디크로메이트 및 칼륨 디크로메이트와 같은 디크로메이트, 이산화망간, 과망간산, 과망간산나트륨 및 과망간산칼륨과 같은 과망간산염, 납 테트라아세테이트와 같은 납 염, 산화은, 및 Dess-Martin 시약 (Dess-Martin 퍼요오디난) 을 포함한다. 이러한 산화제는 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용된다. 산화제는 통상적으로 화합물 (64b) 에 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (64b) 의 1 내지 3 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 -10 내지 100 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 50 ℃에서 수행되고, 약 30 분 내지 24 시간 내에 완료된다.
[반응식 90]
[화학식 175]
식 중, R2, X1, Y, A10, B19, R18, X2, R14, R74a 및 R15 는 상기와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y 기 및 -B19 기에 각각 결합된다.
화합물 (133) 과 화합물 (134), 및 화합물 (135) 와 화합물 (36) 간의 반응은 각각 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 91]
[화학식 176]
식 중, A10, B3, R17a, R17b, RA, R17, Y1, Rc 및 X2 는 상기와 동일하고, R80 는 -Y1H 기 또는 -OR81 기를 나타내고, R81 는 히드록실기의 보호기이고, 단, 화합물 (108c) 의 측쇄 (-N(B3Rc)(CHRAR17b)) 중 CHRA 부분은 탄소수가 6 이하이고, A10 의 a 는 -R80 기에 결합되고, b 는 -NHB3Rc 기, -N(R17a)B3Rc 기, -N(CHRAR17b)B3Rc 기 또는 -N(R17)B3Rc 기에 결합된다.
히드록실기의 보호기의 예는 상기 페닐 저급 알킬기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 테트라히드로피라닐기, 트리 저급 알킬실릴기, 저급 알카노일기, 및 저급 알킬기를 포함한다.
화합물 (108a) 와 화합물 (73) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (108a) 와 화합물 (75') 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (108a) 와 화합물 (74) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
반응은 (탄소 원자에 결합된) RA 및 R17b 가 서로 결합되어 수소화물 환원제의 존재 하에 탄소 원자와 함께 시클로알킬 고리를 형성하는 화합물 (74) 를 개시 물질로서 사용하여 수행된다. 이러한 경우에, 화합물 (74) 대신에, (반응계에서 상기 화합물 (74) 를 제조하기 위해) 시클로알킬옥시트리알킬실란, 예컨대 [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란은 개시 물질로서 사용될 수 있다.
[반응식 92]
[화학식 177]
식 중, R80, A10, R17, B3, Rc, X2 및 R59b 가 상기와 동일하고, 단, A10 의 a 는 -R80 기와 결합되고, b 는 -NHR17 기, -N(R17)B3Rc 기 또는 -N(R17)CH2CH2COOR59 기에 결합된다.
화합물 (108e) 와 화합물 (113) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (108e) 와 화합물 (137) 의 반응은 산의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다.
임의의 용매는 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에서 사용되는 한 사용될 수 있다.
산의 예는 염산, 황산 및 브롬화수소산과 같은 광산, 아세트산, 트리플루오로아세트산 및 p-톨루엔술폰산을 포함한 술폰산과 같은 유기산, 염화알루미늄, 염화아연, 염화철, 염화주석, 3브롬화붕소 및 붕소 트리플루오라이드/디에틸 에테르 착물과 같은 루이스산을 포함한다. 이러한 산은 단독으로 또는 2 종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 산은 유리하게는 통상적으로 몰에 기초하여 화합물 (108e) 의 적어도 0.01 내지 5 배, 바람직하게는 0.1 내지 2 배로 사용된다. 화합물 (137) 은 유리하게는 통상적으로 화합물 (108e) 와 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (108e) 의 1 내지 10 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 0 내지 200 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 150 ℃에서 수행되고, 일반적으로 약 30 분 내지 80 시간 내에 완료된다.
[반응식 93]
[화학식 178]
식 중, R81 은 상기와 동일하고, R73b 는 -A10-T2-COOR59a 기 또는 -A 기를 나타내고, A10, T2, R59a 및 A 는 상기와 동일하고, 단, A10 의 a 는 -OR81 기 또는 히드록실기에 결합되고, A10 의 b 는 -T2 기에 결합된다.
개시 화합물 (138) 중 R81 이 페닐 저급 알킬기를 나타내는 경우, 화합물 (138) 을 화합물 (139) 로 전환하는 반응은 환원 반응 (1) (촉매성 수소 환원제를 사용하는 방법) 에서와 동일한 반응 조건 하에서 수행될 수 있고, 이는 상기 반응식 47 에 나타낸, 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환하는 반응 중 하나이다.
R81 이 테트라히드로피라닐기를 나타내거나 트리-저급 알킬실릴기가 화합물 (139) 로 전환되는 개시 화합물 (138) 는 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 반응 B 와 동일한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다. 화합물 (138) 을 화합물 (139) 로 전환하는 반응에서, 가수분해는 유리하게는 산의 사용으로 수행된다. 산은 유리하게는 몰에 기초하여 통상적으로 화합물 (138) 의 1 내지 10 배, 바람직하게는 1 내지 2 배의 양으로 사용된다.
R81 이 트리-저급 알킬실릴기를 나타내는 화합물 (138) 은 테트라-n-부틸 암모늄 플루오라이드, 플루오르화수소 또는 플루오르화 세슘과 같은 플루오르 화합물로 처리될 수 있다.
R81 이 저급 알콕시 저급 알킬기 또는 저급 알킬기를 나타내는 개시 화합물 (138) 은 산의 존재 하에 적합한 용매에서 처리될 수 있다. 용매의 예는 물, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 저급 알콜, 디옥산, 테트라히드로푸란 및 디에틸 에테르와 같은 에테르, 디클로로메탄, 클로로포름 및 사염화탄소와 같은 할로겐화 탄화수소, 및 아세토니트릴과 같은 극성 용매, 및 그의 혼합물을 포함한다. 산의 예는 염산, 황산 및 브롬화수소산과 같은 광산, 포름산 및 아세트산과 같은 지방산, p-톨루엔술폰산과 같은 술폰산, 3플루오르화붕소, 염화알루미늄 및 3브롬화붕소와 같은 루이스산, 요오드화나트륨 및 요오드화칼륨과 같은 요오디드, 및 상기 루이스산과 요오디드의 혼합물을 포함한다. 상기 반응은 통상적으로 0 내지 200 ℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150 ℃에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 25 시간 내에 완료된다.
또한, 가수분해는 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 반응 B 와 동일한 반응 조건 하에서 염기성 화합물을 사용하여 수행될 수 있다. 이러한 경우에는, 트리에틸아민과 같은 아민이 가수분해 반응 B 에 사용된 염기성 화합물 외에 염기성 화합물로서 사용될 수 있다.
R81 이 저급 알카노일기를 나타내는 재료 화합물 (138) 은 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 반응 B 와 동일한 반응 조건 하에서 화합물 (139) 로 전환된다.
R73a 이 하기를 나타내는 화합물 (138) 은,
[화학식 179]
상기 가수분해 조건 하에서 탈수 반응이 일어나고, 그 결과 상응하는 R73a 가 하기를 나타내는 화합물 (138) 이 일부 경우에 수득될 수 있다:
[화학식 180]
[반응식 94]
[화학식 181]
식 중, R80, A10, T2, R14 및 R15 은 상기와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 -R80 기 및 -T2 기에 결합된다.
화합물 (140) 과 화합물 (36) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 95]
[화학식 182]
식 중, Y1, A7, R13 및 A9 는 상기와 동일하다.
화합물 (141) 과 화합물 (12) 의 반응은 상기 반응식 8 에 나타낸 화합물 (13) 과 화합물 (12) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 96]
[화학식 183]
식 중, R80, A10, B21 및 f 는 상기와 동일하고, 단, 화합물 (144) 의 측쇄 (-(B21)f-CH2NH2) 중 알킬 부분은 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (143) 을 화합물 (144) 로 전환하는 반응은 수소화물 환원제를 사용한 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행되고, 이는 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응 중 하나이다.
[반응식 97]
[화학식 184]
식 중, R80, A10, B19, X2, R18, R14 및 R15 는 상기와 동일하고, 단, A10 의 a 는 -R80 기에 결합되고, b 는 -B19 에 결합된다.
화합물 (145) 와 화합물 (134) 의 반응은 상기 반응식 90 에 나타낸 화합물 (133) 과 화합물 (134) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (146) 과 화합물 (36) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 98]
[화학식 185]
식 중, A10, B19, R14, R15, R80 및 X2 는 상기와 동일하고, R18a 는 저급 알킬기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 -R80 기 및 -B19 기에 결합된다.
화합물 (108j) 와 화합물 (147) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 99]
[화학식 186]
식 중, R2, X1, X2, X3 및 R6 는 상기와 동일하고, R82 는 저급 알킬기를 나타내고, R83 는 저급 알콕시기를 나타낸다.
화합물 (148) 과 화합물 (149) 의 반응은 촉매의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다.
임의의 용매는 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 한 여기서 사용될 수 있다.
촉매의 예는 마그네슘을 포함한다. 촉매는 유리하게는 통상적으로 화합물 (148) 의 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (148) 의 1 내지 5 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 0 내지 200 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 150 ℃에서 수행되고, 일반적으로 약 30 분 내지 10 시간 내에 완료된다.
[반응식 100]
[화학식 187]
식 중, A18 은 -A 기 또는 -A10-T2-COOR59b 기를 나타내고, A, A10, T2, R59b 및 X3 는 상기와 동일하다.
화합물 (150) 을 화합물 (107') 로 전환하는 반응은 상기 반응식 55 에 나타낸 화합물 (85) 을 화합물 (7') 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 101]
[화학식 188]
식 중, R2, X1, A10, T2 및 R6 은 상기와 동일하고, 단, A10 의 a 는 -CO 기, -CH(OH) 기 또는 -CH2 기에 결합되고, A10 의 b 는 -T2 기에 결합된다.
화합물 (109a') 을 화합물 (151) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응 중 하나인, 수소화물 환원제를 사용하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (151) 을 화합물 (152) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 47 에 나타낸 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (152) 와 화합물 (22) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (153) 을 화합물 (154) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 102]
[화학식 189]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B6, B7 또는 R59 는 상기와 동일하고, R19a 는 저급 알카노일기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 -Y 기 및 -B6 기에 결합된다.
화합물 (155) 와 화합물 (156) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 103]
[화학식 190]
식 중, R80, A10, X2, R14 및 R15 은 상기와 동일하다.
화합물 (158) 과 화합물 (36) 의 반응은 l 이 0 인 반응식 74 에 나타낸 화합물 (114) 와 화합물 (36) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 104]
[화학식 191]
식 중, R1, R2, Y, A10, R14a, h, T, l, RB, X1 및 X2 는 상기와 동일하고, R85a 는 벤조일기를 나타내고, R85b 는 저급 알콕시 카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기 또는 푸릴 저급 알킬기를 나타내고, R85c 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐기, 페닐 저급 알킬기, 푸릴기 또는 푸릴 저급 알킬기를 나타내고, 단, 화합물 (1bbbbb) 의 -CH(RB)R85c 기는 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (1yyyy') 와 화합물 (160') 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1yyyy') 와 화합물 (161) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1yyyy') 와 화합물 (162) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 105]
[화학식 192]
식 중, R2, B0, Y, X1, A17, R8, X2, X3 및 R6 는 상기와 동일하고, R86 는 저급 알킬술포닐기를 나타내고, R87 는 산소 원자 또는 -N(R8)- 기를 나타낸다.
화합물 (165) 와 화합물 (163) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (165) 를 화합물 (167) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 55 의 화합물 (85) 를 화합물 (7') 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (166) 또는 화합물 (167) 과 화합물 (164) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 106]
[화학식 193]
식 중, R80 및 A10 은 상기와 동일하고, R15' 는 상기 R15 에서 (5) 의 기와 동일한 기를 나타낸다.
화합물 (168) 과 화합물 (170) 의 반응은 상기 반응식 46 에 나타낸 화합물 (30) 과 화합물 (66) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 107]
[화학식 194]
식 중, R80, A10, T, l, R14bb, R15aa, R14cc, R15bb, R26 및 R27 은 상기와 동일하다.
화합물 (171) 과 화합물 (57) 의 반응은 상기 반응식 31 에 나타낸 화합물 (1iiii) 와 화합물 (57) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 108]
[화학식 195]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, R15' 및 X2 는 상기와 동일하고, R89 는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (173) 과 화합물 (170) 의 반응은 상기 반응식 46 에 나타낸 화합물 (30) 과 화합물 (66) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1ddddd) 와 화합물 (173) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 109]
[화학식 196]
식 중, R1, R2, X1, Y, X2, B3, R14 및 R15 는 상기와 동일하고, A19 는 하기를 나타내고:
[화학식 197]
A20 는 하기를 나타낸다:
[화학식 198]
식 중, R3, p, R17, B3, R14 및 R15 는 상기와 동일함.
화합물 (174) 와 화합물 (175) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 110]
[화학식 199]
식 중, R1, R2, X1 및 Y 는 상기와 동일하고, A21 는 하기를 나타내고:
[화학식 200]
A22 는 하기를 나타낸다:
[화학식 201]
식 중, R3, p, R17, B3, R14 및 R15 는 상기와 동일함.
화합물 (1ggggg) 를 화합물 (1hhhhh) 로 전환하는 반응은 수소화물 환원제가 사용되는 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 111]
[화학식 202]
식 중, R1, R2, X1 및 Y 는 상기와 동일하고,
A23 는 하기를 나타내고:
[화학식 203]
A24 는 하기를 나타낸다:
[화학식 204]
식 중, R3 및 p 는 상기와 동일함.
화합물 (1iiiii) 를 화합물 (1jjjjj) 로 전환하는 반응은 반응식 47 에 나타낸, 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 112]
[화학식 205]
식 중, R2, X1 및 Y 는 상기와 동일하고,
A25 는 하기를 나타내고:
[화학식 206]
A26 는 하기를 나타낸다:
[화학식 207]
식 중, B4a 는 저급 알케닐렌기를 나타내고, B4b 는 저급 알킬렌기를 나타내고, R3, p, R14 및 R15 는 상기와 동일함.
화합물 (1kkkkk) 를 화합물 (1lllll) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 47 에 나타낸, 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 113]
[화학식 208]
식 중, R2, X1, Y, 및 R59b 는 상기와 동일하고, A28 는 하기를 나타내고:
[화학식 209]
A27 는 하기를 나타낸다:
[화학식 210]
식 중, R3, p 및 R59b 는 상기와 동일함.
화합물 (1mmmmm) 를 화합물 (1nnnnn) 으로 전환하는 반응은 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 와 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1nnnnn) 및 화합물 (100') 의 반응은 상기 반응식 20 에 나타낸 화합물 (1fff) 및 화합물 (43) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 114]
[화학식 211]
식 중, R2, X1, X2 및 Y 는 상기와 동일하고,
A29 는 하기를 나타내고:
[화학식 212]
A30 는 하기를 나타낸다:
[화학식 213]
식 중, R90 은 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고, R3, p 및 R59b 는 상기와 동일함.
화합물 (1ooooo) 와 화합물 (176) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 115]
[화학식 214]
식 중, R2, X1, X2 및 Y 는 상기와 동일하고,
A31 는 하기를 나타내고:
[화학식 215]
A32 는 하기를 나타낸다:
[화학식 216]
식 중, R3, p, R59b 및 R89 는 상기와 동일함.
화합물 (1qqqqq) 와 화합물 (173) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 116]
[화학식 217]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, T, l, R90 및 X2 는 상기와 동일하다.
R15'' 는 상기 R15 에 정의된 기 (2), (3), (4), (5), (6), (7), (8), (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17), (18), (19), (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (26a), (27a), (28a), (29a), (30a), (31a), (32a), (33a), (34a), (35a), (36a) 또는 (37a) 를 나타낸다.
화합물 (1sssss) 와 화합물 (176) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 117]
[화학식 218]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, T 및 l 은 상기와 동일하고,
R14AA 및 R15BB 각각은 헤테로시클릭 고리가 하나 이상의 -(B12CO)t-N(R20')-CO-B16X2 기를 가지는 것을 제외한, 상기 R14 및 R15 에 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고,
R14CC 및 R15DD 각각은 헤테로시클릭 고리가 하나 이상의 -(B12CO)t-N(R20')-CO-B16R91 기 (식 중, B12, t, B16 및 X2 는 상기와 동일함) 를 가지는 것을 제외한, 상기 R14 및 R15 에 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고,
R91 는 이미다졸릴기를 나타내고,
R20' 는 수소 원자, 시클로알킬기, 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬티오기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1 또는 2 개의 페닐을 가지는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 시클로알킬 저급 알킬기, 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 테트라졸 고리 상에 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알카노일기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 이미다졸릴 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 피리딜기 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (1uuuuu) 와 화합물 (177) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 118]
[화학식 219]
식 중, X1, X2, R2, Y, A 및 R6 는 상기와 동일하고, R91 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (33) 과 화합물 (178) 의 반응은 염기성 화합물 및 촉매의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다.
용매로서, 광범위에서 선택된 불활성 용매가 사용될 수 있다. 불활성 용매의 예는 물, 벤젠, 톨루엔 및 자일렌과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 2-메톡시에탄올, 모노글림 및 디글림과 같은 에테르, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 사염화탄소와 같은 할로겐화 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올 및 에틸렌 글리콜과 같은 저급 알콜, 아세트산과 같은 지방산, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, N-메틸피롤리돈, 디메틸 술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
염기성 화합물의 예는 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨 및 탄산세슘과 같은 탄산염, 수산화나트륨, 수산화 칼륨 및 수산화칼슘과 같은 금속 수산화물, 인산칼륨, 인산나트륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 나트륨 n-부톡시드, 나트륨 tert-부톡시드 및 칼륨 tert-부톡시드와 같은 금속 알콜레이트, 칼륨 비스(트리메틸실릴)아미드와 같은 알킬실릴아미드 알칼리 금속염, 및 피리딘, 이미다졸, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU) 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO) 과 같은 유기 염기, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
촉매의 예는 팔라듐 화합물, 예컨대 팔라듐 아세테이트, 비스(트리부틸주석)/비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐, 구리 요오다이드/2,2'-비피리딜, 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐, 구리 요오다이드/비스(트리페닐-포스핀)팔라듐 디클로라이드, 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐, R-트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐, S-트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐, 팔라듐 (II) 아세테이트, [1,1'-비스(디페닐포스피노)페로센]디클로로팔라듐 (II) 및 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐, 화합물, 예컨대 R-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (R-BINAP), S-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (S-BINAP), RAC-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (RAC-BINAP) 및 2,2-비스(디페닐이미다졸리디닐리덴), 크산텐 화합물, 예컨대 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸크산텐, 및 보레이트, 예컨대 트리-tert-부틸포스핀 테트라플루오로보레이트, 및 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.
염기성 화합물은 유리하게는 몰에 기초하여 화합물 (33) 의 0.5 배 이상, 바람직하게는 0.5 내지 40 배의 양으로 사용된다. 촉매는 유리하게는 화합물 (33) 에 대하여 통상적인 촉매량으로 사용된다.
화합물 (178) 은 유리하게는 몰에 기초하여 화합물 (33) 의 0.5 배 이상, 바람직하게는 0.5 내지 3 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 실온 내지 200 ℃, 바람직하게는 실온 내지 약 150 ℃에서 수행되고, 약 0.5 내지 20 시간 내에 완료된다.
[반응식 119]
[화학식 220]
식 중, Bo, X1, R2, Y, A17, R6 및 X2 는 상기와 동일하고, R92 는 R6-Z4- 기 또는 R6- 기를 나타내고, Z4 는 저급 알킬렌기를 나타낸다.
화합물 (64) 및 화합물 (179) 의 반응은 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 120]
[화학식 221]
식 중, R2, X1, Y, A 및 R6 는 상기와 동일하다.
화합물 (30) 을 화합물 (1bbbbbb) 로 전환하는 방법은 화합물 (30) 을 디아조화하여 디아조늄 염을 수득하고, 상기 디아조늄 염을 화합물 (180) 과 반응시켜 수행된다.
디아조화 반응 1) 은 산 및 디아조화제의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다. 여기서 사용될 용매의 예는 물 및 아세토니트릴을 포함한다. 산의 예는 염산, 브롬화수소산, 황산, 테트라플루오로붕산, 및 헥사플루오로인산을 포함한다. 디아조화제의 예는 나트륨 니트라이트 및 칼륨 니트라이트와 같은 금속 니트라이트, t-부틸 니트라이트 및 이소아밀 니트라이트과 같은 저급 알킬 니트라이트를 포함한다.
산은 유리하게는 통상적으로 몰에 기초하여 화합물 (30) 의 약 1 내지 10 배, 바람직하게는 화합물 (30) 의 약 1 내지 5 배의 양으로 사용된다. 디아조화제는 통상적으로 화합물 (30) 에 대한 약 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (30) 의 1 내지 3 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 약 0 내지 70 ℃, 바람직하게는 약 0 ℃ 내지 실온에서 수행되고, 약 수 분 내지 5 시간 내에 완료된다.
디아조화 반응에서 수득된 디아조늄염 및 화합물 (180) 의 반응은 디아조화 반응 1) 과 동일한 용매에서 그리고 염기성 화합물의 존재 하에 수행된다.
임의의 염기성 화합물은 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에서 사용되는 한 여기서 사용될 수 있다.
염기성 화합물은 유리하게는 화합물 (30) 에 대한 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (30) 의 1 내지 5 배로 사용된다.
화합물 (180) 은 유리하게는 화합물 (30) 에 대한 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (30) 의 1 내지 5 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 약 0 내지 70 ℃, 바람직하게는 약 0 ℃ 내지 실온에서 수행되고, 약 수 분 내지 5 시간 내에 완료된다.
[반응식 121]
[화학식 222]
식 중, X1, R8d, Y, A, R2 및 R6 는 상기와 동일하다.
화합물 (30a) 와 화합물 (181) 의 반응은 염기성 화합물 및 촉매의 존재 하에 적합한 용매에서 수행될 수 있다.
여기서 사용된 용매의 예는 물, 벤젠, 톨루엔 및 자일렌과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 2-메톡시에탄올, 모노글림 및 디글림과 같은 에테르, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 사염화탄소와 같은 할로겐화 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올 및 에틸렌 글리콜과 같은 저급 알콜, 아세트산과 같은 지방산, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세톤 및 메틸에틸 케톤과 같은 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸술폭사이드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 그리고 이들의 혼합물을 포함한다.
염기성 화합물의 예는 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨 및 탄산세슘과 같은 탄산염, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 수산화칼슘과 같은 금속 수산화물, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 나트륨 n-부톡시드, 나트륨 tert-부톡시드 및 칼륨 tert-부톡시드와 같은 금속 알콜레이트, 피리딘, 이미다졸, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데 센-7 (DBU) 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO) 과 같은 유기 염기, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
촉매의 예는 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (0) 및 디클로로비스(트리페닐포스핀)팔라듐 (II) 과 같은 팔라듐 화합물, 및 구리 (II) 아세테이트와 같은 구리 화합물을 포함한다.
염기성 화합물은 유리하게는 화합물 (30a) 의 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (30a) 의 1 내지 5 배로 사용된다.
촉매는 유리하게는 몰에 기초하여 화합물 (30a) 의 0.001 내지 1 배, 바람직하게는 0.01 내지 0.5 배의 양으로 사용된다.
화합물 (181) 은 유리하게는 화합물 (30a) 의 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (30a) 의 1 내지 5 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 -30 내지 200 ℃, 바람직하게는 0 내지 150 ℃에서 수행되고, 일반적으로 0.5 내지 약 30 시간 내에 완료된다. Molecular Sieves 3A (MS-3A), Molecular Sieves 4A (MS-4A) 과 같은 분자체가 상기 반응에 첨가될 수 있다.
[반응식 122]
[화학식 223]
식 중, R6, Z1, X1, R2, Y4 및 A 는 상기와 동일하다.
화합물 (1dddddd) 를 화합물 (1eeeeee) 로 전환하는 반응은 촉매성 수소 환원제의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다.
용매의 예는 물, 아세트산과 같은 지방산, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 알콜, n-헥산과 같은 지방족 탄화수소, 시클로헥산과 같은 지환족 탄화수소, 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 모노글림, 디글림 및 1,4-디옥산과 같은 에테르, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트과 같은 에스테르, 및 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드 및 N-메틸피롤리돈과 같은 양자성 극성 용매, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
촉매성 수소 환원제의 예는 팔라듐, 팔라듐-블랙, 팔라듐-탄소, 수산화팔라듐-탄소, 로듐-알루미나, 플라티늄, 산화플라티늄, 구리 크로마이트, 라니 니켈 및 팔라듐 아세테이트를 포함한다.
상기 촉매성 수소 환원제는 통상적으로 몰에 기초하여 화합물 (1dddddd) 의 0.01 내지 1 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 유리하게는 통상적으로 약 -20 내지 150 ℃, 바람직하게는 0 내지 100 ℃에서 진행되고, 일반적으로 0.5 내지 20 시간 내에 완료된다. 수소 압력은 통상적으로 1 내지 10 atm 에서 적용될 수 있다.
[반응식 123]
[화학식 224]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, T 및 l 은 상기와 동일하고; R14II 및 R15JJ 각각은, 헤테로시클릭 고리 상에 저급 알콕시카르보닐기를 갖는 하나 이상의 페닐기를 가지는 것을 제외한, 상기 R14 및 R15 에 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고; R14EE 및 R15FF 각각은 헤테로시클릭 고리 상에 카르복시기를 갖는 하나 이상의 페닐기를 가지는 것을 제외한, 상기 R14 및 R15 에 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14GG 및 R15HH 각각은 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 카르바모일기를 가질 수 있는 하나 이상의 페닐기를 헤테로시클릭 고리 상에 가지는 것을 제외한, 상기 R14 및 R15 에 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R93 및 R94 각각은 수소 원자, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (1hhhhhh) 을 화합물 (1ffffff) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 와 동일한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
화합물 (1ffffff) 와 화합물 (182) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 124]
[화학식 225]
식 중, X1, R2, Y, A, X2, k, X3, R6, B20a 및 d' 는 상기와 동일하다.
화합물 (30) 과 화합물 (183) 의 반응은 상기 반응식 46 에 나타낸 화합물 (30) 과 화합물 (66) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (184) 를 화합물 (1jjjjjj) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1jjjjjj) 와 화합물 (185) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
d' 가 0 를 나타내는 화합물 (185) 인 경우, 화합물 (1jjjjjj) 을 화합물 (1kkkkkk) 로 전환하는 반응은 요오드화구리와 같은 할로겐화 구리, N,N-디메틸글리신과 같은 알킬글리신 또는 인산칼륨과 같은 알칼리 금속 인산염의 존재 하에 적합한 용매에서 수행될 수 있다.
임의의 용매는 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에서 사용되는 한, 여기서 사용될 수 있다.
할로겐화 구리 또는 알킬글리신은 통상적인 촉매량으로 사용된다. 알칼리 금속 인산염은 유리하게는 통상적으로 화합물 (1jjjjjj) 의 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (1jjjjjj) 의 1 내지 5 배로 사용된다. 화합물 (185) 은 통상적으로 몰에 기초하여 화합물 (1jjjjjj) 의 0.5 내지 5 배, 바람직하게는 0.5 내지 3 배의 양으로 사용된다. 상기 반응은 통상적으로 실온 내지 200 ℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150 ℃에서 수행되고, 일반적으로 약 1 내지 30 시간 내에 완료된다.
[반응식 125]
[화학식 226]
식 중, X2, R2, X1, Y, A 및 R6 는 상기와 동일하다.
화합물 (33) 과 화합물 (186) 의 반응은 상기 반응식 118 에 나타낸 화합물 (33) 과 화합물 (178) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 126]
[화학식 227]
식 중, X1, X2, R2, Y, A, B21a, R6, 및 c 는 상기와 동일하다.
화합물 (33) 과 화합물 (187) 의 반응은 상기 반응식 118 에 나타낸 화합물 (33) 과 화합물 (178) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 127]
[화학식 228]
식 중, R9a, R2, R6, X1, Y, A16, X2 및 R9b 은 상기와 동일하다.
화합물 (188) 과 화합물 (189) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 이 화합물 (6) 과 반응하는 방법 중에서 아민이 카르복실산 할라이드와 반응하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (190) 과 화합물 (191) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 128]
[화학식 229]
식 중, R1, R2, X1, Y 및 A16 은 상기와 동일하다. Xa 는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (1oooooo) 을 화합물 (1pppppp) 로 전환하는 반응은 촉매성 수소 환원제, 및 포름산, 암모늄 포르메이트, 시클로헥센 또는 히드라진 히드레이트와 같은 수소 공여체의 존재 하에 적합한 용매에서 수행된다.
임의의 용매 및 촉매성 수소 환원제는 상기 반응식 122 에 나타낸 화합물 (1dddddd) 을 화합물 (1eeeeee) 로 전환하는 반응에 사용되는 한 사용될 수 있다.
촉매성 수소 환원제는 통상적으로 화합물 (1oooooo) 의 0.01 내지 40 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 20 중량%의 양으로 사용된다.
수소 공여체는 통상적으로 화합물 (1oooooo) 의 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (1oooooo) 의 1 내지 10 배로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 약 상압 내지 20 atm, 바람직하게는 상압 내지 10 atm 의 수소 대기 하에 약 -30 내지 150 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 100 ℃의 온도에서 수행된다. 상기 반응은 일반적으로 약 1 내지 12 시간 내에 완료된다.
[반응식 129]
[화학식 230]
식 중, A10, X2, k, X3, R80 및 RB 는 상기와 동일하고; R94a 는 R14 및 R15 를 서로 결합함으로써 형성된 헤테로시클릭기에 존재하는 치환기로서 정의된 기를 나타내고, o 가 1 인 (35), (40), (42), (67), (75), (76), (78), (80) 또는 (81), 또는 s 가 0 인 (84) 로 나타내는 치환기를 포함한다.
R94b 는 R14 및 R15 를 서로 결합함으로써 형성된 헤테로시클릭 고리 상에 존재하는 치환기로서 정의된 기를 나타내고, (28), (30) 내지 (34), (36) 내지 (39), (41), (43) 내지 (45), (47), (52) 내지 (60), (62) 내지 (66), (70), (77), (79), (82), (83), (87), (88a) 또는 (90a) 로 나타내는 치환기, t 가 1 인 (49) 로 나타내는 치환기, 또는 o 가 0 인 (50) 으로 나타내는 치환기를 포함하고;
R94c 는 R14 및 R15 를 서로 결합함으로써 형성된 헤테로시클릭 고리 상에 존재하는 치환기로서 정의된 기를 나타내고, (28), (30) 내지 (34), (39), (41), (45), (47), (54) 내지 (58), (62) 내지 (64), (66), (70), (79), (82) 또는 (83) 으로 나타내는 치환기, t 가 1 인 (49) 로 나타내는 치환기, 또는 o 가 0 인 (50) 으로 나타내는 치환기; 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록시기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기, 히드록시기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 피리딘 고리 상에 가질 수 있는 피리딜기, 피롤릴기 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴기, 벤족사졸릴기, 벤조티아졸릴기, 푸릴기, 히드록시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택된 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 나프틸기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기, 퀴놀릴기, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 치환기를 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴기; 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴기; 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는 벤조일기, 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴기, 시클로알킬기, 티에닐기, 또는 이미다졸릴기를 포함한다.
화합물 (192) 와 화합물 (183) 의 반응은 상기 반응식 124 에 나타낸 화합물 (30) 과 화합물 (183) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (193) 을 화합물 (1qqqqqq) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 124 에 나타낸 화합물 (184) 을 화합물 (1jjjjjj) 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1qqqqqq) 와 화합물 (195) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
R94b 가 (36) 내지 (38), (43), (44), (53), (59), (60), (87), (88a) 또는 (90a) 로 나타내는 기인 화합물 (195) 는 요오드화구리와 같은 할로겐화 구리, N,N-디메틸글리신과 같은 알킬글리신, 및 인산칼륨과 같은 알킬 금속 인산염의 존재 하에 적합한 용매에서 화합물 (1qqqqqq) 과 반응한다.
임의의 용매는 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에서 사용되는 한 여기서 사용될 수 있다. 할로겐화 구리 및 알킬글리신은 통상적인 촉매량으로 사용된다. 알칼리 금속 인산염은 유리하게는 통상적으로 화합물 (1qqqqqq) 의 등몰량 이상, 바람직하게는 몰에 기초하여 화합물 (1qqqqqq) 의 1 내지 5 배로 사용된다. 화합물 (195) 은 유리하게는 통상적으로 몰에 기초하여 화합물 (1qqqqqq) 의 0.5 내지 5 배, 바람직하게는 0.5 내지 3 배의 양으로 사용된다. 상기 반응은 통상적으로 실온 내지 200 ℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150 ℃에서 수행되고, 약 1 내지 30 시간 내에 완료된다.
화합물 (1qqqqqq) 와 화합물 (194) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1qqqqqq) 와 화합물 (196) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 130]
[화학식 231]
식 중, X1, Y, A, R2, R6, B22a, e 및 X2 는 상기와 동일하고, R10a' 는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (1uuuuuu) 와 화합물 (197) 의 반응은 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 131]
[화학식 232]
식 중, X1, Y, A, R2, R6 및 X2 는 상기와 동일하다. R10b' 는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (1wwwwww) 와 화합물 (197a) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 132]
[화학식 233]
식 중, R1, X1, Y, X2, R2, A10, R14a 및 R59b 는 상기와 동일하고, R96 는 페닐 저급 알킬기 (이는 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 치환기를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐기를 나타낸다.
화합물 (198) 와 화합물 (199) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (200) 을 화합물 (201) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 와 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (201) 과 화합물 (100') 의 반응은 상기 반응식 79 에 나타낸 화합물 (120b) 와 화합물 (100') 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (201) 과 화합물 (202) 의 반응은 상기 반응식 2 에 나타낸 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (200) 은 또한 다음과 같은 반응식 133 에 나타낸 방법으로 제조될 수 있다:
[반응식 133]
[화학식 234]
식 중, R74a, R2, X1, Y, A10, R59b 및 X2 는 상기와 동일하고, R14a' 는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (200a) 와 화합물 (203) 의 반응은 상기 반응식 1 에 나타낸 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (3) 은 또한 다음과 같은 반응식 134 에 나타낸 방법으로 제조될 수 있다:
[반응식 134]
[화학식 235]
식 중, R80, A10, B23a, R14 및 R15 는 상기와 동일하다.
화합물 (108l) 을 화합물 (108m) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 3 에 나타낸 화합물 (1f) 을 화합물 (1g) 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 135]
[화학식 236]
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B23a, R14 및 R15 는 상기와 동일하다.
화합물 (1zzzzzz) 을 화합물 (1AAAAAA) 로 전환하는 반응은 상기 반응식 89 에 나타낸 화합물 (64b) 을 화합물 (26a) 로 전환하는 반응과 동일한 반응 조건 하에서 수행된다.
상기 반응식으로 수득된 각각의 표적 화합물을 함유한 반응 혼합물은 냉각된 후, 미정제 반응 생성물은 냉각된 반응 혼합물로부터 여과, 농축 또는 추출과 같은 분리 수행에 의해 분리될 수 있고, 컬럼 크로마토그래피 또는 재결정화와 같은 종래의 정제 수행에 의해 정제될 수 있다.
화학식 (1) 로 표시되는 본 발명의 화합물은 입체 이성질체, 광학 이성질체, 용매화물 (수화물 및 에탄올레이트 등) 을 포함한다.
본 발명의 화합물 중에서, 염기성 기를 갖는 화합물은 쉽게 종래의 약리학적으로 허용가능한 산과 반응하여 염을 형성할 수 있다. 이러한 산의 예는 광산, 예컨대 염산, 브롬화수소산, 질산, 황산 및 인산, 및 유기산, 예컨대 메탄술폰산, p-톨루엔술폰산, 아세트산, 시트르산, 타르타르산, 말레산, 푸마르산, 말론산 및 락트산을 포함한다.
본 발명의 화합물 중에서, 산성 기를 갖는 화합물은 쉽게 종래의 약리학적으로 허용가능한 염기성 화합물과 반응하여 염을 형성할 수 있다. 이러한 염기성 화합물의 예는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨 및 중탄산칼륨을 포함한다.
다음에, 본 발명에 따른 화합물을 활성 성분으로서 함유한 의학적 제형물이 기재될 것이다.
의학적 제형물은 약학적 제제의 형태로 본 발명에 따른 화합물을 제형하여 수득되고, 더욱 특히 희석제 또는 부형제, 예컨대 충전제, 확장제, 결합제, 보습제, 분해제 (disintegrator), 계면활성제 또는 윤활제를 사용하여 제조된다.
이러한 약용 제형물의 형태는 치료 목적에 따라 다양한 형태에서 선택될 수 있고, 통상적인 형태에는 정제, 환약, 분말, 액체, 현탁액, 에멀젼, 과립, 캡슐, 좌약 및 주사 (액체, 현탁액) 를 포함한다.
정제를 형성하는데 사용되는 담체는 종래의 공지된 것에서 널리 선택될 수 있다. 상기 담체의 예는 부형제, 예컨대 젖당, 사카로오스, 염화나트륨, 글루코오스, 우레아, 전분, 탄산칼슘, 카올린 및 결정질 셀룰로오스, 결합제, 예컨대 물, 에탄올, 프로판올, 단미시럽, 글루코오스 용액, 전분 용액, 젤라틴 용액, 카르복시메틸셀룰로오스, 셀락 (shellac), 메틸셀룰로오스, 인산칼륨 및 폴리비닐피롤리돈, 분해제, 예컨대 건조 전분, 나트륨 아르기네이트, 한천 분말, 라미나란 (laminaran) 분말, 중탄산나트륨, 탄산칼슘, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 나트륨 라우릴 술페이트, 스테아르산 모노글리세리드, 전분 및 락토오스, 항-분해제, 예컨대 사카로오스, 스테아린, 카카오 버터 및 수소화 오일, 흡수촉진제, 예컨대 4차 암모늄 염기 및 나트륨 라우릴 술페이트, 습윤제, 예컨대 글리세롤 및 전분, 흡착제, 예컨대 전분, 락토오스, 카올린, 벤토나이트 및 콜로이드성 실리케이트, 및 윤활제, 예컨대 정제 탈크, 스테아레이트, 붕산 분말 및 폴리에틸렌 글리콜을 포함한다.
또한, 정제는 필요에 따라 종래의 방법으로 코팅될 수 있다. 코팅된 정제의 예는 당-코팅 정제, 젤라틴-코팅 정제, 장용성-코팅 정제, 필름-코팅 정제, 또는 이중- 또는 다중-층 정제를 포함한다.
환약을 형성하는데 사용되는 담체는 종래의 공지된 것으로부터 널리 선택될 수 있다. 상기 담체의 예는 부형제, 예컨대 글루코오스, 젖당, 전분, 카카오 버터, 수소화 식물성 오일, 카올린 및 탈크, 결합제, 예컨대 검 아라비아 분말, 트래거캔스 분말, 젤라틴 및 에탄올, 및 분해제, 예컨대 라미나란 및 한천을 포함한다.
좌약을 형성하는데 사용되는 담체는 종래의 공지된 것으로부터 널리 선택될 수 있다. 상기 담체의 예는 폴리에틸렌 글리콜, 카카오 버터, 고급 알콜, 고급 알콜의 에스테르, 젤라틴 및 반-합성 글리세리드를 포함한다.
액체, 에멀젼 및 현탁액이 주사 제제로서 제조되는 경우, 이는 바람직하게는 멸균되고, 혈액과 등장성이도록 조절된다. 이러한 액체, 에멀젼 밀 현탁액 제제를 형성하는데 사용되는 희석제는 종래의 공지된 것으로부터 널리 선택될 수 있다. 희석제의 예는 물, 에탄올, 프로필렌 글리콜, 에톡실화 이소스테아릴 알콜, 폴리옥실화 이소스테아릴 알콜 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르를 포함한다. 이러한 경우, 의학적 제형물은 충분량의 염화나트륨, 글리코오스 또는 글리세롤을 함유하여, 등장성 용액을 제조할 수 있다. 또한, 종래의 가용화제, 완충제, 진통제 등, 그리고 필요에 따라, 착색제, 방부제, 향신제, 향미제, 감미제 등, 또는 기타 약제가 함유될 수 있다.
의학적 제형물에 함유된 본 발명에 따른 화합물의 양이 특별히 제한되지 않고, 광범위한 화합물로부터 적당히 선택될 수 있다. 본 발명에 따른 화합물이 의학적 제형물 중 1 내지 70 중량%의 양으로 함유되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 의학적 제형물을 투여하는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 의학적 제형물은 의학적 제형물의 형태, 환자 연령, 성별, 질환의 중함 및 기타 상태에 따라 결정된 방법으로 투여될 수 있다. 예를 들어, 정제, 환약, 액체, 현탁액, 에멀젼, 과립 및 캡슐은 경구적으로 투여된다. 주사 제형물은 단독으로, 또는 글루코오스 용액 또는 아미노산 용액과 같은 종래의 체액 보충제와 혼합하여 간헐적으로 투여되거나, 필요에 따라, 근육내, 피내, 피하 또는 복막내로 단독으로 투여된다. 좌약은 직장 내로 투여된다.
상기 의학적 제형물의 투여량은 용도, 환자 연령, 성별 및 질환의 중함 및 기타 상태에 따라 적절히 선택될 수 있다. 통상적으로, 1 일에 1 kg (체중) 당 0.001 내지 100 mg, 바람직하게는 1 일에 1 kg (체중) 당 0.001 내지 50 mg이 하루에 1 회 또는 수 회 투여된다.
상기 투여량이 다양한 상태에 따라 변하기 때문에, 투여량은 상기 범위의 하한보다 적거나, 상기 범위의 상한보다 많을 수 있다.
의약은 항암 효과가 우수하고, 따라서 종양 치료약으로서 유용하다.
항암 효과가 발휘되는 종양으로서, 예를 들어 악성 종양 등이 언급될 수 있다.
이러한 악성 종양으로서, 예를 들어 고형 종양 (암, 육종 등), 혈액암 (임파종, 백혈병, 골수종 등) 이 언급될 수 있다.
악성 종양의 구체적인 예는 유아의 뇌종양, 예컨대 성상교종, 악성 수모세포종, 배아세포종, 두개인두종 및 상의세포종; 성인의 뇌종양, 예컨대 신경아교종, 수막종, 뇌하수체 샘종 및 신경초; 두부 경부 암, 예컨대 상악동암, 인두암 (코인두암종, 중인두암종, 하인두암종), 후두암, 구강암, 구순암, 설암 및 측두암; 흉부암 및 종양, 예컨대 와포 폐암, 비소세포 폐암, 흉부 샘종 및 중피종; 소화기관 암 및 종양, 예컨대 식도암, 간암, 원발성 간암, 담낭암, 담관암, 위암, 대장암 (large bowel cancer), 대장암 (colonic cancer), 직장암, 항문암, 췌장암 및 췌장 내분비 종양; 비뇨기관 암 및 종양, 예컨대 음경암, 신우/요관 암, 신세포암, 고환 종양, 전립샘암, 방광암, 윌름즈 (Wilms) 종양 및 요로상피세포암; 부인과 암 및 종양, 예컨대 외음경암, 자궁목암, 자궁체부암, 자궁내막암, 자궁육종, 융마막종, 질암, 유방암, 난소암, 난소생식세포 종양; 유아 및 성인의 연부 육종; 골 종양, 예컨대 골육종 및 유윙 (Ewing) 종양; 내분비 조직의 암 및 종양, 예컨대 부신피질암, 갑상샘암; 악성 림프종 및 백혈병, 예컨대 악성 림프종, 비호지킨 (non-Hodgkin) 림프종, 호지킨 질환, 다발골수종, 형질세포성 종양, 급성 골수성 백혈병, 급성 림프성 백혈병, 성인 T 세포 백혈병 림프종, 만성 골수성 백혈병 및 만성 림프성 백혈병; 피부암 및 종양, 예컨대 만성 척수 증식성 질환, 악성 흑색종, 극세포암 및 균상식육종; 및 상기 종양 및 암의 전이초점을 포함한다. 이중에서, 본 발명의 의약은 간암, 만성 골수성 백혈병, 급성 골수성 백혈병, 림프종 및 다발성 골수종에 효과가 있다.
본 발명의 의약은 부작용이 적고, 안전성이 우수하여, 더욱 우수한 종양 치료제이다.
하기와 같이 참고예, 실시예, 제형예 및 약리학적 시험을 예시함으로써 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
참고예 1
1-(t-부톡시카르보닐)-4-(4-히드록시페닐)-1,2,5,6-테트라히드로피리딘의 제조
(단계 1)
1-(t-부톡시카르보닐)-4-[(4-메톡시메톡시)페닐]-4-히드록시피페리딘의 제조
테트라히드로푸란 (THF) (100 mL) 중 1-브로모-4-메톡시메톡시벤젠 (5.43 g, 25.0 mmol) 의 용액을 -85 ℃ 에서 교반하고, 교반된 용액에 2.46 M 의 n-부틸리튬 헥산 용액 (10.2 mL, 25.0 mmol) 을 10 분에 걸쳐 적가했다. 생성된 용액을 동일한 온도에서 40 분 동안 교반했다. 반응 용액에 10 분 동안 THF (30 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-피페리돈 (5.20 g, 26.0 mmol) 의 용액을 적가했다. 생성된 용액의 온도를 4 시간에 걸쳐 -25 ℃ 로 승온시킨 후, 용액을 상기 온도에서 2 시간 동안 교반하였다. 이후, 염화암모늄 포화 수용액을 이 용액에 첨가하였다. 반응 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트: n-헥산 = 2 : 3, 부피비; 이하 동일), 7.63 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 오일
(단계 2)
1-(t-부톡시카르보닐)-4-(4-히드록시페닐)-1,2,5,6-테트라히드로피리딘의 제조
톨루엔 (100 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-[(4-메톡시메톡시)페닐]-4-히드록시피페리딘 (5.32 g, 15.8 mmol) 의 용액에 p-톨루엔설폰산 모노히드레이트 (0.56 g, 2.95 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 21 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 실온으로 냉각시키고, 감압 하에 증발시켰다. 상기 조생성물에 에탄올 (60 mL) 및 2 M 염산 (40 mL, 80 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 2 시간 동안 60 ℃ 에서 교반하였다. 반응 용액을 다시 실온으로 냉각시키고, 감압 하에서 증발시켰다. 잔류물에 메탄올 (100 mL), 트리에틸아민 (9.0 mL, 64.6 mmol) 및 디-t-부틸 디카보네이트 (5.20 g, 23.8 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 24 시간 동안 실온에서 교반했다. 용매를 감압 하에 증발시킨 후, 잔류물에 100 mL 의 에틸 아세테이트를 첨가했다. 불용성 물질을 여과에 의해 제거한 후, 여액을 감압 하에 증발시켰다. 잔류물에 1,4-디옥산 (50 mL) 및 수산화나트륨 (50 mL, 50 mmol) 의 1 M 수용액을 14 시간 동안 60 ℃ 에서 교반하였다. 생성된 반응 용액에 2 M 의 염산 (25 mL, 50 mmol) 을 실온에서 첨가하여 중화시킨 후, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 4.10 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 무정형
참고예 2
메틸 5-(4-벤질피페라진-1-일)-2-메톡시메톡시벤조에이트의 제조
톨루엔 (50 mL) 중 메틸 5-클로로-2-메톡시메톡시벤조에이트 (1.45 g, 6.29 mmol) 및 1-벤질피페라진 (1.66 g, 9.43 mmol) 의 용액에 아세트산팔라듐 (28 mg, 0.126 mmol), 2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-바이나프틸 (157 mg, 0.252 mmol) 및 탄산세슘 (3.07 g, 9.43 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 3 시간 동안 환류시 켰다. 생성된 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 2), 400 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
하기 화합물을 참고예 2 에서와 동일한 방법으로 제조하였다.
참고예 14
메틸 5-(4-벤질피페라진-1-일)-2-히드록시벤조에이트의 제조
1,4-디옥산 (20 mL) 중 400 mg 의 메틸 5-(4-벤질피페라진-1-일)-2-메톡시메톡시벤조에이트 (1.1 mmol) 의 용액에 1,4-디옥산 (4 mL, 16 mmol) 중 4 N 염화수소의 용액을 첨가하고, 생성된 용액에 2 시간 동안 100 ℃ 에서 교반하였다. 생성된 반응 용액을 감압 하에 증류시켜, 잔류물을 수득하였다. 이 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1), 353 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
참고예 14 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 20
에틸 N-(4-히드록시페닐)이소니페코테이트의 제조
디클로로메탄 (100 mL) 중 에틸 N-(4-메톡시페닐)이소니페코테이트 (2.63 g, 10 mmol) 의 용액에 디클로로메탄 (20 mL, 40 mmol) 중 2 M 삼브롬화붕소의 용액을 첨가하고, 생성된 용액을 0.5 시간 동안 실온에서 교반하였다. 생성된 반응 용액을 얼음물에 부은 후, 상기 용액에 1 M 수산화나트륨의 수용액 (110 mL) 을 첨가했다. 교반 후, 생성된 용액을 분리하였다. 유기층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압 하에 증발시켜, 2.43 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
참고예 20 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 21
4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페놀
참고예 22
1-벤질-3-(4-히드록시페닐)이미다졸리딘-2-온
참고예 23
2-(4-히드록시페닐아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온의 제조
N,N-디메틸포름아미드 (DMF) (150 mL) 중 N-(4-히드록시페닐)글리신 (11.38 g, 68.1 mmol) 의 용액에 1-피페로닐피페라진 (15.0 g, 68.1 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (10.43 g, 68.1 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (15.66 g, 81.7 mmol) 를 얼음 냉각 하에 첨가하고, 생성된 용액을 30 분 동안 얼음 냉각 하에서 및 4.5 시간 동안 실온에서 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화 용액 (400 mL) 을 첨가하고, 에틸 아세테이트 (400 mL) 로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 분말화된 형태로 고체화된 생성된 생성물을 남겼다. 에틸 아세테이트를 첨가하고, 생성된 생성물을 여과 제거하고, 에틸 아세테이트로 세정하여, 18.58 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 분말
참고예 23 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 24
6-클로로-N-(3,4-디클로로페닐)니코틴아미드
참고예 25
4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)-1-(4-히드록시페닐)피롤리딘-2-온
참고예 35
에틸 (4-히드록시-3-메틸페닐아미노)아세테이트의 제조
탄산칼륨 (5.04 g, 36.5 mmol) 을 실온에서 DMF (30 mL) 중 4-아미노-o-크레솔 (3.00 g, 24.4 mmol) 및 에틸 브로모아세테이트 (2.70 mL, 24.4 mmol) 의 용액에 첨가했다. 생성된 용액을 실온에서 1.5 시간 동안 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 3 : 1), 5.10 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 고체
참고예 35 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 36
에틸 (3-히드록시페닐아미노)아세테이트
참고예 37
벤질 (4-히드록시-3-메톡시페닐아미노)아세테이트
참고예 38
t-부틸 [3-(4-벤질옥시-3-메틸페닐)-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]아세테이트
참고예 58
t-부틸 (3-시아노-4-히드록시페닐아미노)아세테이트
MS 248(M+).
참고예 59
2-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페녹시]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온의 제조
탄산칼륨 (0.350 g, 2.53 mmol) 을 DMF (8 mL) 중 4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페놀 (0.420 g, 1.69 mmol) 및 1-클로로아세틸-4-피페로닐피페라진 (0.500 g, 1.70 mmol) 의 용액에 첨가하였다. 생성된 반응 혼합물을 40 분 동안100 ℃ 에서 교반하였다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켜, 0.860 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 오일
참고예 59 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 60
2-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
참고예 61
메틸 3-(4-벤질옥시페닐아미노)프로피오네이트의 제조
질소 하에서, 4-벤질옥시아닐린 (13.0 g, 65 mmol) 을 70 ℃ 에서 가열에 의해 용해시키고, 상기 용해된 용액에 삼불화붕소-디에틸 에테르 착물 (0.82 mL, 6.5 mmol) 을 동일한 온도에서 적가했다. 이후, 메틸 아크릴레이트 (5.85 mL, 65 mmol) 을 생성된 용액에 서서히 적가했다. 이 용액을 10 시간 동안 70 ℃ 에서 교반하였다. 얼음으로 냉각시킨 후, 에틸 아세테이트를 반응 혼합물에 첨가하고, 수성 1 N 수산화나트륨 및 염수로 세정했다. 유기층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 17.5 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 분말
참고예 62
에틸 3-(4-메톡시페닐아미노)프로피오네이트의 제조
3-(4-히드록시페닐아미노)프로피온산 (4.00 g, 20.5 mmol) 을 48 % 브롬산 (50 mL) 에 첨가하고, 생성된 용액을 2.5 시간 동안 100 ℃ 에서 교반하였다. 감압 하에서 농축 후, 에탄올 (10 mL) 을 잔류물에 첨가하고, 감압 하에서 농축시켰다. 중탄산나트륨 포화 용액을 잔류물에 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1), 1.27 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
참고예 63
에틸 [(3-플루오로-4-히드록시페닐)메틸아미노]아세테이트의 제조
에틸 (3-플루오로-4-히드록시페닐아미노)아세테이트 (1.06 g, 5.1 mmol) 를 메탄올 (150 mL) 중에 용해시키고, 생성된 용액을 얼음으로 냉각시켰다. 생성된 용액에 수성 37 % 포름알데히드 (1.5 mL), 나트륨 트리아세톡시보로히드라이드 (1 g, 16 mmol) 및 아세트산 (0.9 mL, 15 mmol) 을 첨가한 후, 실온에서 질소 대기 하에서 14 시간 동안 교반했다. 용매를 감압 하에 증발시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 생성된 용액을 중탄산나트륨 포화 용액으로 중화시키고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층 염수로 세정한 후, 무수 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용매를 감압 하에서 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 2), 0.93 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 밝은 갈색 오일
참고예 63 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 64
에틸 (메틸{4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)아세테이트
참고예 65
에틸 [(4-히드록시-2-트리플루오로메틸페닐)메틸아미노]- 아세테이트
MS 277(M+).
참고예 77
1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-[시클로프로필(4-히드록시페닐)아미노]에탄온의 제조
메탄올 (10 mL) 중 1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-(4-히드록시페닐아미노)에탄온 (1.00 g, 2.7 mmol) 의 용액에 아세트산 (1.55 mL, 27 mmol), 분자체 3A1/16 (1.00 g), [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란 (0.653 mL, 3.2 mmol) 및 나트륨 시아노보로히드라이드 (770 mg, 12 mmol) 를 첨가했다. 생성된 용액을 16 시간 동안 60 ℃ 에서 교반했다. 이 반응 용액을 여과하고, 농축시키고, 잔류물에 에틸 아세테이트 및 물을 첨가했다. 수성 6 N 수산화나트륨을 이용하여 수성층을 pH 10 으로 조정했다. 이 층을 잠시 교반했고, 불용성 물질이 용해된 후, 에틸 아세테이트층을 제거하고, 수성 2 N 수산화나트륨 및 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정한 후, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시켜, 770 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
참고예 77 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 78
에틸 {시클로프로필[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세테이트
참고예 79
에틸 [(3-히드록시페닐)메틸아미노]-아세테이트의 제조
중탄산칼륨 (1.42 mL, 14.19 mmol) 을 DMF (15 mL) 중 에틸 (3-히드록시페닐아미노)아세테이트 (2.77 g, 14.19 mmol) 의 용액에 첨가했다. 생성된 용액에 요오드화메틸 (1.77 mL, 28.38 mmol) 을 추가로 첨가한 후, 실온에서 18 시간 동안 교반했다. 생성된 반응 용액에 염수 (150 mL) 를 첨가하고, 수득된 혼합물을 에틸 아세테이트 (150 mL) 로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산나트륨 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시켜, 2.48 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 오일
참고예 79 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 100
에틸 [아세틸(3-플루오로-4-히드록시페닐)아미노]아세테이트의 제조
에틸 (3-플루오로-4-히드록시페닐아미노)아세테이트 (0.84 g, 4 mmol) 를N,N-디메틸아세트아미드 (4 mL) 중에 용해시켰다. 생성된 용액에 아세틸 클로라이드 (0.6 mL, 10 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 물 (1 mL), 메탄올 (10 mL) 및 포화 탄산나트륨 (10 mL) 를 첨가하고, 혼합물을 실온에서 1 시간 동안 교반했다. 물을 상기 용액에 첨가했다. 10 % 염산을 적용하여 상기 용액이 산성이 되게 한 후, 용액을 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층을 물 및 염수로 세정한 후, 무수 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용매를 감압 하에서 증발시키고, 수득된 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트: n-헥산 = 2 : 1), 0.84 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 분말
참고예 100 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 110
(6-클로로피리딘-3-일) (4-트리플루오로메틸페닐)메탄온의 제조
아르곤 기체 흐름 하에서, THF (6 mL) 중 4-브로모벤조트리플루오라이드 (1.20 g, 5.33 mmol) 용액의 절반을 마그네슘 (156 mg, 6.41 mmol) 에 첨가했다. 생성된 용액을 교반하고, 추가로 1,2-디브로모에탄 (3 방울) 을 첨가했다. 반응이 시작된 후, 상기 THF 용액 중 4-브로모벤조트리플루오라이드의 남은 부분을 적가했고, 적가가 끝난 후, 생성된 용액을 30 분 동안 60 ℃ 에서 교반했다. THF (3 mL) 중 6-클로로-N-메톡시-N-메틸니코틴아미드 (990 mg, 5.36 mmol) 의 용액을 별도의 반응 용기에 충전하고, 여기로 얼음 냉각 및 아르곤 기체 흐름 하에서 상기 반응 용액을 적가하였다. 적가 완료 후, 생성된 용액을 30 분 동안 실온에서 교반한 후, 1 시간 동안 가열하여 환류시켰다. 반응 용액을 얼음으로 냉각시킨 후, 수성 염화암모늄 및 물을 첨가했다. 생성된 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 :에틸 아세테이트 = 10 : 1), 610 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
참고예 111
에틸 3-[4-(4-니트로페녹시)페닐]프로피오네이트의 제조
DMF (60 mL) 중 에틸 3-(4-히드록시페닐)프로피오네이트 (6.00 g, 30.9 mmol) 의 용액에 4-플루오로니트로벤젠 (6.54 g, 46.3 mmol) 및 탄산칼륨 (5.12 g, 37.1 mmol) 을 첨가했다. 생성된 반응 용액을 1 시간 동안 80 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 생성된 에틸 아세테이트층을 물 및 이후 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 9.64 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 오일
참고예 111 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 247
4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아민의 제조
메탄올 증 수산화나트륨 (730 mg, 18.25 mmol) 의 용액에 4-아미노페놀 (2.00 g, 18.32 mmol) 을 첨가했다. 생성된 혼합물을 용해시키고, 메탄올을 감압 하에서 증발시켰다. 잔류물에 DMF (20 mL), 및 이후 2-클로로-5-니트로피리딘 (2.91 g, 18.35 mmol) 을 첨가했다. 반응 용액을 1.5 시간 동안 70 ℃ 에서 교반한 후, 감압 하에서 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 생성된 용액을 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 1), 3.37 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 흑-적색 분말
참고예 247 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 254
에틸 3-[4-(3-니트로페녹시)페닐]프로피오네이트의 제조
아르곤 하에서, 피리딘 (15 mL) 중 3-요오도니트로벤젠 (3.00 g, 12.0 mmol) 의 용액에 에틸 3-(4-히드록시페닐)프로피오네이트 (2.81 g, 14.5 mmol), 산화 구리 (3.35 g, 42.2 mmol) 및 탄산칼륨 (4.16 g, 30.1 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 40 시간 동안 가열하여 환류시켰다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물 및 에틸 아세테이트를 잔류물에 첨가하고, 불용성 물질을 여과 제거시킨 후, 여액을 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 1 M 염산, 물 및 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정한 후, 염수로 세정하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 9 : 1 → 6 : 1), 1.12 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 오일
참고예 255
1-(t-부톡시카르보닐)-4-[4-(4-니트로페녹시)페닐]피페라진의 제조
탄산칼륨 (15.7 g, 114 mmol) 을 DMF (80 mL) 중 2-클로로-5-니트로피리딘 (4.50 g, 28.4 mmol) 및 1-(4-히드록시페닐)피페라진 디히드로클로라이드 (7.13 g, 28.4 mmol) 의 용액에 첨가했다. 생성된 용액을 실온에서 8 시간 동안 교반했다. 이 반응 용액에 디-t-부틸 디카보네이트 (6.81 g, 31.2 mmol) 를 첨가하고, 실온에서 2.5 일 동안 교반하였다. 반응 용액에 에틸 아세테이트를 공급하고, 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 3), 7.05 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 침정 (needle)
참고예 256
(에틸{3-메톡시-4-[5-(4-트리플루오로메틸페닐카르바모일)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)아세테이트의 제조
벤질 [에틸 (4-히드록시-3-메톡시페닐)아미노]아세테이트 (9.46 g, 30 mmol) 및 6-클로로-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드 (9.02 g, 30 mmol) 를 DMF (100 mL) 에 용해시켰다. 생성된 용액에 탄산칼륨 (6.22 g, 45 mmol) 을 첨가한 후, 12 시간 동안 120 ℃ 에서 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 물로 추출하였다. 1 M 염산을 이용하여 수성층의 pH 를 3 내지 4 로 조정한 후, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 4.2 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 분말
참고예 257
에틸 메틸 [2,5-디플루오로-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노아세테이트의 제조
DMF (25 mL) 중 에틸 (2,5-디플루오로-4-히드록시페닐)아미노아세테이트 (1.1 g, 4.8 mmol) 의 용액에 중탄산나트륨 (0.44 g, 5.2 mmol) 및 요오드화메틸 (1.69 mL, 28.6 mmol) 을 첨가하고, 생성된 반응 용액을 2 일 동안 실온에서 교반하였다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정한 후, 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 DMF (30 mL) 에 용해시키고, 이 생성된 용액에 탄산칼륨 (0.72 g, 5.2 mmol) 및 2-클로로-5-니트로피리딘 (0.79 g, 5.0 mmol) 을 첨가했다. 반응 용액을 2.5 일 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 이후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 8 : 1), 1.41 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
참고예 257 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 260
에틸 4-{3-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일}벤조에이트의 제조
질소 대기 하에서, 에탄올-DMF (70 mL-30 mL) 중 에틸 4-[3-(4-벤질옥시-3-메틸)페닐-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]벤조에이트 (1.82 g, 3.1 mmol) 의 용액에 10 % 팔라듐-탄소 (0.4 g) 를 첨가하고, 생성된 용액을 수소 대기 하에서 4 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성된 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 에탄올을 감압 하에 증발시켜, DMF (30 mL) 용액을 수득하였다. 이 용액에 2-클로로-5-니트로피리딘 (0.52 g, 3.3 mmol) 을 첨가하고, 질소 대기 하에서 14 시간 동안 실온에서, 및 이후 3 시간 동안 40 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 10 : 1), 1.8 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
참고예 261
3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피온산의 제조
DMF (30 mL) 중 2-클로로-5-니트로피리딘 (1.74 g, 11.0 mmol) 및 4-메르캅토히드로신남산 (2.00 g, 11.0 mmol) 의 용액에 탄산칼륨 (4.55 g, 32.9 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 80 ℃ 에서 교반하였다. 반응 용액에 물 및 진한 염산을 첨가한 후, 얼음으로 냉각시켰다. 침전된 고체 물질을 여과에 의해 수거하여, 3.29 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
참고예 262
에틸 3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일아미노)페닐]프로피오네이트의 제조
2-클로로-5-니트로피리딘 (3.11 g, 20 mmol) 에 에틸 3-(4-아미노-3-메톡시페닐)프로피오네이트 (4.38 g, 20 mmol) 및 아세트산 (10 mL) 을 첨가하고, 생성된 용액을 13 시간 동안 100 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 에틸 아세테이트 및 물을 첨가했다. 에틸 아세테이트층을 분리시키고, 염수, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1), 3.78 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
참고예 262 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 267
4-[(5-니트로-2-피리딜)옥시]벤즈알데히드 에틸렌 아세탈의 제조
벤젠 (100 mL) 중 4-[(5-니트로-2-피리딜)옥시]벤즈알데히드 (5.00 g, 20.5 mmol) 의 용액에 에틸렌 글리콜 (2.28 mL, 41.0 mmol) 및 p-톨루엔설폰산 (0.50 g) 을 첨가하고, 생성된 용액을 3 시간 동안 가열 환류시키면서, 딘-스탁 (Dean-Stark) 을 이용해 물을 제거하였다. 반응 용액을 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정하고, 이어서 염수로 세정하였다. 벤젠층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 5.88 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
참고예 267 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 268
4-(2-플루오로-4-니트로페녹시벤즈알데히드 에틸렌 아세탈
참고예 269
t-부틸 [4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]카르바메이트의 제조
THF 중 4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아민 (2.97 g, 12.85 mmol) 의 용액에 디-t-부틸 디카보네이트 (5.60 g, 25.66 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 4 시간 동안 환류 하에 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 생성된 생성물에 디에틸 에테르를 첨가했다. 수득된 백색 분말을 여과하고, 생성된 생성물을 디에틸 에테르로 세정하여, 3.04 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
참고예 270
5-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)벤질리덴]티아졸리딘-2,4-디온의 제조
톨루엔 (35 mL) 중 3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)벤즈알데히드 (600 mg, 2.32 mmol) 의 용액에 2,4-티아졸리딘디온 (270 mg, 2.31 mmol) 및 피페리딘 아세테이트 (135 mg, 0.93 mmol) 를 첨가했다. 생성된 용액을 딘 스탁에 첨부 (attach) 하고, 1.5 시간 동안 환류 하에 교반했다. 17 시간 동안 실온에서 냉각되도록 방치한 후, 침전된 황색 분말을 여과하여, 600 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
참고예 270 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 273
N-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥시에틸]아세트아미드의 제조
DMF (5 mL) 중 N-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]아세트아미드 (0.800 g, 2,76 mmol) 의 용액에 60 % 수소화나트륨 (0.118 g, 2.95 mmol) 을 첨가했다. 생성된 용액을 10 분 동안 실온에서 교반한 후, DMF (4 mL) 중 1-클로로아세틸-4-피페로닐피페라진 (0.870 g, 2.96 mmol) 의 용액을 상기 반응 용액에 첨가했다. 반응 용액을 2 시간 동안 60 ℃ 에서, 이후 1 시간 동안 100 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 5 : 1), 0.730 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
참고예 273 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 274
3-(4-벤질옥시-3-메틸페닐)-1-[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]테트라히드로피리미딘-2-온
참고예 275
2-디메틸아미노-N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]아세트아미드의 제조
아세토니트릴 (3 mL) 중 2-클로로-N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]아세트아미드 (0.300 g, 0.528 mmol) 의 용액에 실온에서 디메틸아민 (0.150 mL, 1.63 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 2 시간 동안 50 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1), 0.270 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
참고예 276
메틸 2-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트의 제조
DMF (10 mL) 중 메틸 2-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아세테이트 (0.50 g, 1.7 mmol) 의 용액에 60 % 수소화나트륨 (0.153 g, 3.8 mmol) 및 요오드화메틸 (0.13 mL, 2.1 mmol) 을 첨가하고, 생성된 반응 용액을 1 시간 동안 0 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 포화 수성 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 물 및 포화 수성 염화나트륨으로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 8 : 1), 0.32 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 오일
참고예 277
에틸 3-{3-메톡시-4-[메틸 (5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}프로피오네이트의 제조
DMF (60 mL) 중 에틸 3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일아미노)페닐]프로피오네이트 (3.70 g, 11 mmol) 의 용액에 얼음-냉각 하에서 수소화나트륨 (60 %, 490 mg, 12 mmol) 및 요오드화메틸 (0.77 mL, 12 mmol) 을 첨가하고, 생성된 반응 용액을 점차 실온으로 가온하면서 2 시간 동안 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 물 및 염수로 세정한 후, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시켜, 4.27 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일 물질
참고예 277 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 291
N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)아세트아미드의 제조
(4-피페로닐피페라진-1-일)아세트산 (13.9 g, 50 mmol) 의 용액을 DMF (400 mL) 에 현탁시키고, 생성된 현탁액에 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (8.42 g, 55 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (10.5 g, 55 mmol) 및 4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아민 (11.6 g, 50 mmol) 을 얼음 냉각 하에서 첨가했다. 생성된 용액을 6 시간 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 유기층을 실온에서 하룻밤동안 방치하여 두고, 생성된 침전 결정을 흡입 여과에 의해 수거하여, 12.8 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
참고예 292
에틸 {메탄설포닐[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세테이트의 제조
에틸 [3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아미노]아세테이트 (2.43 g, 7.00 mmol) 의 용액을 THF (15 mL), 디클로로메탄 (20 mL) 및 DMF (10 mL) 에 용해시키고, 생성된 용액에 트리에틸아민 (1.95 mL, 13.99 mmol), 4-디메틸아미노피리딘 (0.86 g, 7.00 mmol) 및 메탄설포닐 클로라이드 (1.08 mL, 13.99 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가했다. 생성된 용액을 14 시간 동안 30 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 물 및 염수로 세정했다. 디클로로메탄층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 2), 1.10 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
참고예 292 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 296
3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-n-프로판올의 제조
THF (50 mL) 중 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피온산 (2.64 g, 9.2 mmol) 의 용액에 1 M 보란-THF 착물 THF 용액 (38.4 mL, 38.4 mmol) 을 얼음 냉각 하에서 적가했다. 반응 용액을 2 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 물 및 이후 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 1), 1.17 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 녹색 오일
참고예 297
2-{4-[3-(t-부틸디메틸실란일옥시)프로필]페녹시}-5-니트로피리딘의 제조
DMF (10 mL) 중 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-n-프로판올 (1.17 g, 4.3 mmol) 의 용액에 이미다졸 (580 mg, 8.5 mmol) 및 t-부틸클로로디메틸실란 (640 mg, 4.2 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 13 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 디에틸 에테르로 추출하고, 디에틸 에테르층을 물 및 이후 염수로 세정했다. 디에틸 에테르층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 1.14 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
참고예 297 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 298
2-{4-[2-(t-부틸디메틸실란일옥시)에틸]페녹시}-5-니트로피리딘
참고예 299
에틸 4-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]부타노에이트의 제조
디클로로메탄 중 4-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]부탄산 (9.98 g, 33.01 mmol) 의 용액에 에탄올 (5.59 mL, 99.01 mmol), 4-디메틸아미노피리딘 (400 mg, 3.27 mmol), 트리에틸아민 (13.81 mL, 99.08 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (7.6 g, 39.65 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가하고, 생성된 용액을 20 분 동안 얼음 냉각 하에서 및 이후 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 1 N 염산, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 6.77 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 오일
참고예 300
메틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피오네이트의 제조
DMF (1 mL) 중 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피온산 (86.0 g, 0.283 mmol) 의 용액에 탄산칼륨 (59.0 mg, 0.424 mmol) 및 요오드화메틸 (0.0260 mL, 0.424 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가한 후, 얼음으로 냉각시켰다. 침전된 고체 물질을 여과에 의해 수거하여 76.9 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 밝은 갈색 분말
참고예 301
에틸 (Z)-3-[4-(5-니트로-2-피리딜옥시)페닐]-2-부테노에이트의 제조
THF (80 mL) 중 60 % 수소화나트륨 (1.28 g, 32.0 mmol) 의 현탁액에 THF (40 mL) 중 트리에틸 포스포노아세테이트 (8.71 g, 38.8 mmol) 의 용액을 얼음 냉각 하에서 적가하고, 생성된 용액을 10 분 동일한 온도에서 교반했다. 반응 용액에 4-[(5-니트로-2-피리딜)옥시]아세토페논 (5.90 g, 22.8 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 동일한 온도에서 10 분 동안 교반한 후, 실온에서 60 시간 동안 교반했다. 반응 용액에 포화 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정한 후, 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 1.17 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 침정
참고예 301 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 302
에틸 (E)-3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}아크릴레이트
융점: 166-167 ℃
참고예 306
에틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-카르보닐)페닐]프로피오네이트의 제조
톨루엔 (7 mL) 중 비스(트리부틸틴) (1.37 g, 2.36 mmol) 의 용액을 아르곤 대기 하에서 2-클로로-5-니트로피리딘 (0.325 g, 2.05 mmol), 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐 (0) (18.1 mg, 0.0315 mmol), 트리(2-푸릴)포스핀 (29.3 mg, 0.126 mmol) 및 분자체 4A (1.90 g) 에 첨가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 가열하여 환류시켰다. 반응 용액에 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐 (0) (27.2 mg, 0.0472 mmol) 및 트리(2-푸릴)포스핀 (43.9 mg, 0.189 mmol) 을 첨가하고, 이어서 톨루엔 (5 mL) 중 4-[2-에톡시카르보닐]에틸]벤조일 클로라이드 (0.379 g, 1.57 mmol) 의 용액을 첨가했다. 생성된 반응 용액을 4 시간 동안 80 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 포화 수성 칼륨 플루오라이드를 첨가하고, 0.5 시간 동안 실온에서 교반했다. 이후, 불용성 물질을 여과 제거했다. 여액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 → n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 4 : 1), 0.323 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
참고예 307
에틸 3-[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로피오네이트의 제조
에탄올 (50 mL) 중 5 % 팔라듐-탄소 (0.50 g) 의 현탁액에 에틸 3-[4-(4-니트로페녹시)페닐]프로피오네이트 (5.00 g, 15.9 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 대기압 및 실온에서 촉매 환원시켰다. 수소의 흡수가 중단된 후, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여액을 감압 하에 농축시켜 4.52 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 밝은 갈색 오일
참고예 307 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 404
메틸 3-[(4-히드록시페닐)메틸아미노]프로피오네이트의 제조
메틸 3-[(4-벤질옥시페닐)메틸아미노]프로피오네이트 (27.3 g, 91.1 mmol) 를 에탄올 (300 mL) 에 용해시키고, 생성된 용액을 얼음으로 냉각시키고, 10 % 팔라듐-탄소 (3.0 g) 를 첨가했다. 생성된 용액을 4.5 시간 동안 실온에서 수소 대기 하에서 교반했다. 반응 용액을 셀라이트를 통해 여과하여 불용성 물질을 제거하고, 여액을 감압 하에 농축시켜 19.1 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 적색 오일
참고예 404 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 405
에틸 [아세틸(4-히드록시페닐)아미노]아세테이트
참고예 411
[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐](4-피페로닐피페라진-1-일)메탄온의 제조
[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐](4-피페로닐피페라진-1-일)메탄온 (0.36 g, 0.78 mmol) 을 에탄올 (5 mL) 및 THF (5 mL) 로 이루어진 혼합 용매에 용해시켰다. 생성된 용액에 5 % 백금-탄소 (0.06 g) 를 첨가하고, 실온에서 수소 대기 하에서 교반했다. 2 시간 후, 5 % 백금-탄소를 여과에 의해 제거하고, 용매를 감압 하에서 증발시켜, 0.32 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 무정형 분말
참고예 411 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 412
4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐아민
참고예 413
3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐아민
참고예 414
2-{[4-(4-아미노페녹시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
참고예 415
2-{[3-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
하기 화합물을 참고예 415 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 488
에틸 [4-(4-아미노-2-플루오로페녹시)페닐술파닐]아세테이트의 제조
에탄올 (100 mL) 중 에틸 [4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐술파닐]아세테이트 (4.93 g, 14.0 mmol) 의 용액에 틴 클로라이드 디히드레이트 (9.50 g, 42.1 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 8 시간 동안 50 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 1 M 염산, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켜, 3.45 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 오일
참고예 488 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 489
2-{알릴[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-플루오로페닐]아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
참고예 490
(E)-3-[3-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판온
MS 458(M+).
참고예 491
메틸 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피오네이트의 제조
메탄올 (50 mL) 중 메틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피오네이트 (2.97 g, 9.33 mmol) 의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.590 g, 15.6 mmol) 및 10 % 팔라듐-탄소 (1.80 g) 를 첨가하고, 생성된 용액을 24 시간 동안 실온에서 수소 대기 하의 대기압에서 교반하였다. 반응 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 생성된 여액에 진한 염산 (1.5 mL) 을 첨가하고, 감압 하에서 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화 용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 2.49 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
참고예 492
에틸 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]아크릴레이트의 제조
메탄올 (100 mL) 중 에틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아크릴레이트 (2.02 g, 6.43 mmol) 의 용액에 아연 (6.3 g, 96.3 mmol) 및 염화암모늄 (710 mg, 13.27 mmol) 을 첨가했다. 생성된 반응 용액을 2.5 시간 동안 환류 하에 교반시킨 후, 아세트산 (5 mL) 을 첨가하고, 20 분 동안 환류 하에 교반시켰다. 불용성 물질을 셀라이트를 통해 여과 제거한 후, 여액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 5 % 황산수소칼륨 (150 mL) 을 첨가하고, 혼합물을 디클로로메탄으로 추출하고, 디클로로메탄층 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 디클로로메탄층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 1.78 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
참고예 493
3-(4-(5-아미노-4-메틸피리딘-2-일옥시)페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
3-(4-히드록시페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (0.38 g, 1.0 mmol) 을 DMF (6 mL) 에 용해시켰다. 생성된 용액에 60 % 수소화나트륨 (0.05 g, 1.2 mmol) 및 2-클로로-4-메틸-5-니트로피리딘 (0.196 g, 1.1 mmol) 을 첨가하고,생성된 반응 용액을 하룻밤 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액에 포화 수성 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 물 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트), 중간체 생성물 3-(4-(4-메틸-5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온을 수득했다. 3-(4-(4-메틸-5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온을 에탄올 (4 mL) 및 디옥산 (1 mL) 으로 이루어진 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에 10 % 팔라듐-탄소 (0.034 g) 를 첨가하고, 생성된 용액을 실온 및 대기압에서 8 시간 동안 촉매 환원시켰다. 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1), 0.22 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 약간 황색 오일
참고예 494
에틸 3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오네이트의 제조
3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (3.65 g, 17.4 mmol) 의 용액을 THF (80 mL) 중 에틸 3-[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로피오네이트 (4.52 g, 15.9 mmol) 및 트리에틸아민 (2.65 mL, 19.0 mmol) 의 용액에 얼음 냉각 하에서 적가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 동일한 온도에서 교반하였다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 물-함유 에탄올로부터 재결정하여, 6.67 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 침정
융점: 139-141 ℃
참고예 494 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 495
에틸 3-[4-(5-페녹시카르보닐아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트
MS 406(M+).
참고예 580
에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]-3-메톡시페닐}프로피오네이트의 제조
얼음 냉각 하에서, 디클로로메탄 (30 mL) 중 에틸 3-(4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-메톡시페닐)프로피오네이트 (1.43 g, 4.5 mmol) 의 용액에 피리딘 (0.44 mL, 5.4 mmol) 및 이후 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.99 g, 4.7 mmol) 를 첨가했다. 생성된 용액을 1 시간 동안 얼음 냉각 하에서, 이후 10 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성된 반응 용액에 10 % 염산을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출했다. 디클로로메탄층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물에 디에틸 에테르를 첨가하고, 교반했다. 침전물을 여과에 의해 수거했다. 물 및 디에틸 에테르로 세정한 후, 침전물을 60 ℃ 에서 공기 건조시켜, 0.52 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
참고예 580 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 589
에틸 4-[5-(3,4-디메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤조에이트의 제조
DMF (100 mL) 중 에틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤조에이트 (14.15 g, 54.8 mmol) 의 용액에 3,4-디메틸벤조산 (8.23 g, 54.8 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (8.4 g, 54.8 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (12.6 g, 65.7 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가한 후, 30 분 동안 얼음 냉각 하에서 및 17 시간 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 물 (200 mL) 을 첨가하고, 에틸 아세테이트 (250 mL) 로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1), 16.15 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
참고예 589 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 592
에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]-3-에톡시페닐}프로피오네이트의 제조
에탄올 (40 mL) 중 에틸 3-[3-에톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (0.82 g, 2.3 mmol) 의 용액에 10 % 팔라듐-탄소 (0.15 g) 를 질소 대기 하에서 첨가하고, 생성된 용액을 수소 대기 하 대기압에서 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 팔라듐-탄소을 여과에 의해 제거하고, 여액을 농축시켰다. 수득된 여액 (0.58 g) 을 디클로로메탄 (30 mL) 에 용해시키고, 생성된 용액에 피리딘 (0.17 mL, 2.1 mmol) 및 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.39 g, 1.84 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가했다. 생성된 용액을 얼음 냉각 하에서 1 시간 동안 교반 한 후, 12 시간 동안 실온에서 교반했다. 10 % 염산을 첨가하여 반응 용액을 산성으로 만들고, 디클로로메탄으로 추출했다. 디클로로메탄층을 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 0.94 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 무정형 분말
참고예 592 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 593
N-{6-[4-(3-히드록시프로필)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드
참고예 594
메틸 2-(4-{5-[3-(3,4-디클로로페닐)-우레이도]피리딘-2-일옥시}페닐)아세테이트의 제조
디클로로메탄 (7 mL) 중의 메틸 2-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]아세테이트 (0.44 g, 1.7 mmol) 의 용액에 3,4-디클로로페닐이소시아네이트 (0.353 g, 1.9 mmol) 를 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 디이소프로필 에테르를 첨가하였다. 불용성 물질을 여과에 의해 제거하여, 표제 화합물 0.60 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.63(3H, s), 3.69(2H, s), 6.99-7.05(3H, m), 7.26-7.30(2H, m), 7.35(1H, dd, J = 8.8, 2.4 Hz), 7.52(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.86(1H, d, J = 2.4 Hz), 7.98(1H, dd, J = 8.8, 2.8 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.7 Hz), 8.91(1H, s), 9.10(1H, s).
하기 화합물을 참고예 594 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 606
메틸 3-(4-{5-[3-(4-트리플루오로메틸-페닐)우레이도]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트의 제조
메틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (1.00 g, 3.3 mmol) 를 THF (1 mL) 및 에탄올 (120 mL) 로 이루어진 혼합 용매 중에 용해시켰다. 생성 용액에 10% 팔라듐-탄소 (100 mg) 를 첨가하고, 수소 대기 하에 실온에서 23 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 여과하고, 여과액을 농축시켰다. 잔류물에 THF (20 mL), 트리에틸아민 (0.917 mL, 6.6 mmol) 및 페닐 4-트리플루오로메틸이소시아네이트 (0.61 mL, 4.3 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 20 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 850 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.62-2.68(2H, m), 2.83-2.88(2H, m), 3.60(3H, s), 6.97-7.02(3H, m), 7.24(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.65-7.69(4H, m), 7.99(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.19(1H, d, J = 2.8 Hz), 8.88(1H, s), 9.20(1H, s).
참고예 607
메틸 3-플루오로-4-{5-[(4-트리플루오로메틸-벤질리덴)아미노]피리딘-2-일옥시}벤조에이트의 제조
메틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-플루오로벤조에이트 (2.0 g, 7.63 mmol) 를 메탄올 (50 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 4-트리플루오로메틸벤즈알데히드 (1.04 mL, 7.63 mmol) 를 첨가하고, 6 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 실온으로 냉각시키고, 생성 침전 결정을 석션 여과에 의해 수합하였다. 수합된 결정을 메탄올로 세척하여, 표제 화합물 2.81 g 을 수득하였다.
외관 : 담회색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.89(3H, s), 7.32(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.48-7.54(1H, m), 7.85-7.92(4H, m), 8.01(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.6 Hz), 8.13-8.16(3H, m), 8.86(1H, s).
하기 화합물을 참고예 607 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 612
에틸 4-{5-[1-(4-트리플루오로메틸페닐)-에틸리덴아미노]피리딘-2-일옥시}벤조에이트의 제조
에틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤조에이트 (16.0 g, 62 mmol) 를 톨루엔 (300 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 4-트리플루오로메틸아세토페논 (11.7 g, 62 mmol) 및 (±)-캄포-10-설폰산 (1.08 g, 4.65 mmol) 을 첨가하고, 밤새 환류시켰다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켜, 표제 화합물 26.5 g 을 수득하였다.
외관 : 짙은 녹색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.35-1.41(3H, m), 2.34(3H, s), 4.36(2H, d, J = 7.1 Hz), 7.01-7.31(4H, m), 7.70-7.77(3H, m), 8.01-8.11(4H, m).
참고예 613
메틸 4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질-아미노)피리딘-2-일옥시]벤조에이트의 제조
메틸 4-{5-[(4-트리플루오로메틸벤질리덴)-아미노]피리딘-2-일옥시}벤조에이트 (2.64 g, 6.59 mmol) 를 메탄올 (25 mL) 중에 현탁시키고, 생성 현탁액에 나트륨 보로히드라이드 (1.25 g, 33.0 mmol) 를 서서히 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 3 일 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 물 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 디에틸 에테르로 세척하여, 표제 화합물 2.65 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 3.89(3H, s), 4.16(1H, brs), 4.42(2H, s), 6.84(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.01(1H, dd, J = 8.6 Hz, 3.0 Hz), 7.05(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.49(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.62(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.67(1H, d, J = 3.1 Hz), 8.01(2H, d, J = 8.6 Hz).
하기 화합물을 참고예 613 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 618
에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트의 제조
3,4-디클로로벤즈알데히드 (1.28 g, 7.3 mmol) 의 용액을 에탄올 (20 mL) 중의 에틸 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (2.1 g, 7.3 mmol) 의 용액에 첨가하고, 생성 용액을 40℃ 에서 2 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.55 g, 15.7 mmol) 를 빙냉 하에 첨가하고, 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1), 표제 화합물 2.71 g 을 수득하였다.
외관 : 무색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.24(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.50-2.68(2H, m), 2.81-3.01(2H, m), 3.71-4.20(3H, m), 4.28(2H, s), 6.76(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.88-7.02(3H, m), 7.06-7.23(3H, m), 7.41(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.46(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.60(1H, d, J = 3.0 Hz).
하기 화합물을 참고예 618 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 628
에틸 3-(4-{5-[벤질옥시카르보닐(2-메톡시에틸)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트의 제조
질소 대기 하에, DMF (50 mL) 중의 에틸 3-[4-(5-벤질옥시카르보닐아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (1.7 g, 4.0 mmol) 의 용액에 60% 수소화나트륨 (0.19 g, 4.9 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하고, 생성 용액을 동일 온도에서 35 분 동안 교반하였다. 2-브로모에틸메틸 에테르 (0.4 mL, 4.2 mmol) 를 용액에 적가하였다. 반응 용액을 빙냉 하에 2 시간 동안 교반한 다음, 실온에서 2 일 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1), 표제 화합물 1.6 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.57-2.70(2H, m), 2.89-3.02(2H, m), 3.52(2H, t, J = 5.4 Hz), 3.79(2H, t, J = 5.4 Hz), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 5.14(2H, brs), 6.87(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.89-7.10(2H, m), 7.11-7.41(7H, m), 7.47-7.69(1H, m), 8.10(1H, brs).
하기 화합물을 참고예 628 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 629
에틸 [(4-{5-[(3,4-디클로로페닐)메틸아미노]피리딘-2-일옥시}-2-트리플루오로메틸페닐)에틸아미노]아세테이트
MS 541(M+).
참고예 636
에틸 3-{4-[5-(2-메톡시에틸아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트의 제조
에탄올-에틸 아세테이트(10 mL - 10 mL) 중의 에틸 3-(4-{5-[벤질옥시카르보닐(2-메톡시에틸)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐}프로피오네이트 (1.82 g, 3.8 mmol) 의 용액에 질소 대기 하에 10% 팔라듐-탄소 (0.2 g) 를 첨가하고, 생성 용액을 대기압에서 수소 대기 하에 3 시간 동안 교반하였다. 팔라듐-탄소를 셀라이트를 통해 여과제거하고, 여과액을 증발시켜 표제 화합물 1.23 g 을 수득하였다.
외관 : 청색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.24(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.55-2.68(2H, m), 2.87-2.98(2H, m), 3.20-3.31(2H, m), 3.56-3.66(2H, m), 4.13(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.77(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.93-7.01(2H, m), 7.03(1H, dd, J = 8.7 Hz, 3.0 Hz), 7.13-7.22(2H, m), 7.66(1H, d, J = 3.0 Hz).
하기 화합물을 참고예 636 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 637
에틸 3-[4-(5-에틸아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-프로피오네이트
1H NMR (CDCl3) δ 1.29-1.32(6H, m), 2.55-2.67(2H, m), 2.87-2.99(2H, m), 3.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 4.13(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.77(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.89-7.02(3H, m), 7.09-7.25(3H, m), 7.63(1H, d, J = 3.0 Hz).
참고예 638
에틸 3-(3-메톡시-4-{5-[메틸-(4-트리플루오로메틸벤질)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)-프로피오네이트의 제조
메탄올 (15 mL) 중 에틸 3-{3-메톡시-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질아미노]피리딘-2-일옥시}페닐}-프로피오네이트 (0.8 g, 1.7 mmol) 의 용액에 37% 포름알데히드 수용액 (0.38 mL, 5.1 mmol) 및 아세트산 (0.1 mL, 1.7 mmol) 을 첨가하였다. 반응 용액을 실온에서 30 분 동안 교반하였다. 그런 후, 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.24 g, 3.4 mmol) 를 빙냉 하에 반응 용액에 첨가하고, 혼합물을 빙냉 하에 40 분 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1), 표제 화합물 0.62 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.52-2.70(2H, m), 2.87-3.02(5H, m), 3.77(3H, s), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 4.40-4.50(2H, m), 6.74-6.86((3H, m), 6.97(1H, d, J = 8.0 Hz), 7.11(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.2 Hz), 7.34(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.57(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.65(1H, d, J = 3.2 Hz).
하기 화합물을 참고예 638 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 656
에틸 3-(4-(5-(3,4-디클로로페닐아미노)피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트의 제조
트리에틸아민 (1.2 mL, 8.4 mmol) 을 디클로로메탄 (24 mL) 중의 에틸 3-(4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트 (1.2 g, 4.2 mmol), 3,4-디클로로페닐보론산 (1.6 g, 8.4 mmol), 무수 아세트산구리 (0.762 g, 4.2 mmol) 및 분자 망 4A (5 g) 의 현탁액에 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 밤새 교반하였다. 생성 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 여과액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 1.5 g 을 수득하였다.
외관 : 담갈색 고체
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.60-2.66(2H, m), 2.93-2.99(2H, m), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 5.52(1H, brs), 6.71(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.7 Hz), 6.90(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.97(1H, d, J = 2.7 Hz), 7.04-7.08(2H, m), 7.21-7.26(3H, m), 7.49(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.9 Hz), 8.01(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 656 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 657
에틸 ({4-[5-(3,4-디클로로페닐아미노)피리딘-2-일옥시]-2-트리플루오로메틸페닐}에틸아미노)아세테이트
MS 527(M+).
참고예 658
에틸 4-[3-(4-벤질옥시-3-메틸)페닐-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]벤조에이트의 제조
질소 대기 하에, 디옥산 (5 mL) 중의 1-(4-벤질옥시-3-메틸)페닐테트라히드로피리미딘-2-온 (0.5 g, 1.7 mmol) 의 용액에 요오드와구리 (I) (16 mg, 0.08 mmol) 및 N,N-디메틸글리신 히드로클로라이드 (47 mg, 0.34 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 5 분 동안 교반한 다음, 에틸 4-요오도벤조에이트 (0.39 g, 1.4 mmol) 및 칼륨 (III) 포스페이트 (1.04 g, 4.9 mmol) 를 반응 혼합물에 첨가하였다. 생성 용액을 100℃ 에서 20 시간 동안 교반하고, 그런 후에 생성 용액을 실리카 겔로 부었다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 3 : 1 → 디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 0.43 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.30(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.08-2.22(5H, m), 3.66(2H, t, J = 5.9 Hz), 3.81(2H, t, J = 5.9 Hz), 4.28(2H, q, J = 7.1 Hz), 5.10(2H, s), 6.86-7.14(3H, m), 7.26-7.51(7H, m), 7.82-7.92(2H, m).
참고예 659
에틸 (E)-3-(3-메톡시-4-{5-[2-(4-트리플루오로메틸페닐)비닐]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트의 제조
에틸 3-[4-(5-브로모피리딘-2-일옥시)-3-메톡시페닐]프로피오네이트 (610 mg, 1.6 mmol) 에 4-트리플루오로메틸스티렌 (0.332 mL, 2.2 mmol), 디클로로비스(벤조니트릴)-팔라듐 (II) (33 mg, 0.082 mmol), N,N-디메틸글리신 히드로클로라이드 (17 mg, 0.16 mmol), 아세트산 나트륨 (263 mg, 3.2 mmol) 및 N-메틸피롤리돈 (5 mL) 을 아르곤 대기 하에 첨가하였다. 생성 용액을 아르곤 대기 하에 130℃ 에서 17 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 여과하였다. 여과액을 물로 세척한 다음, 무수 나트륨 술페이트로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 3 : 1), 표제 화합물 500 mg 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.27(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.64-2.69(2H, m), 2.95-3.01(2H, m), 3.76(3H, s), 4.05(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.71-6.88(2H, m), 6.95(1H, d, J = 8.6 Hz), 6.98-7.08(2H, m), 7.11(1H, d, J = 16.5 Hz), 7.56-7.63(4H, m), 7.87-7.91(1H, m), 8.23(1H, d, J = 2.3 Hz).
하기 화합물을 참고예 659 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 660
에틸 3-(4-{5-[(E)-2-(3,4-디클로로페닐)비닐]피리딘-2-일옥시}-3-메톡시페닐)프로피오네이트
1H NMR (CDCl3) δ 1.26(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.63-2.69(2H, m), 2.94-3.00(2H, m), 3.76(3H, s), 4.15(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.81-6.90(3H, m), 6.93(1H, d, J = 8.6 Hz), 6.99(1H, d, J = 15.3 Hz), 7.06(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.27-7.31(1H, m), 7.40(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.82-7.86(1H, m), 8.19(1H, d, J = 2.5 Hz).
참고예 661
에틸 {4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]벤젠설포닐}아세테이트의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중의 에틸 {4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐술파닐}-아세테이트(1.20 g, 2.43 mmol) 의 용액에 m-클로로퍼벤조산 (1.45 g, 6.06 mmol) 을 0℃ 에서 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 메탄올을 첨가하고, 얼마간 교반하였다. 다음, 생성 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 1 : 1), 표제 화합물 1.28 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.22(3H, t, J = 7.1 Hz), 4.11(2H, s), 4.16(2H, q, J = 7.1 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.19(1H, t, J = 8.7 Hz), 7.30(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.59(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.71(1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.75-7.85(1H, m), 7.86-7.95(3H, m), 7.98(1H, d, J = 2.0 Hz).
참고예 662
메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-술피닐]페닐}프로피오네이트의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중의 메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일술파닐]페닐}프로피오네이트 (1.00 g, 2.17 mmol) 의 용액에 m-클로로퍼벤조산 (0.620 g, 2.60 mmol) 을 0℃ 에서 첨가하였다. 생성 용액을 0℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 메탄올을 첨가하고, 얼마간 교반하였다. 다음, 생성 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 잔류물을 에탄올로부터 3 회 재결정화시켜, 표제 화합물 0.790 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점 : 164-166℃
참고예 663
메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-설포닐]페닐}프로피오네이트의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중의 메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일술파닐]페닐}-프로피오네이트 (1.00 g, 2.17 mmol) 의 용액에 m-클로로퍼벤조산 (1.29 g, 5.42 mmol) 을 0℃ 에서 첨가하였다. 생성 용액을 0℃ 에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 메탄올을 첨가하고, 얼마간 교반하였다. 다음, 생성 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 잔류물을 에탄올로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 0.890 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점: 165-166 ℃
참고예 664
에틸 {4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]벤젠술페닐}아세테이트의 제조
메탄올 (20 mL) 중의 에틸 {4-[4-(3,4-디클로로-벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐술파닐}아세테이트(0.800 g, 1.61 mmol) 의 용액에 31% 과산화수소 용액 (2.08 mL, 18.5 mmol) 을 첨가하였다. 생성 용액을 16 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 빙냉시키고, 생성 침전 고체를 여과에 의해 수합하여, 표제 화합물 0.651 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.13(3H, t, J = 7.1 Hz), 3.90-4.10(4H, m), 7.14(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.34(1H, t, J = 9.0 Hz), 7.55-7.65(1H, m), 7.72(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.90-8.00(2H, m), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 10.63(1H, s).
참고예 665
에틸 3-(4-{5-[4-(트리플루오로메틸)페닐-카르바모일]피리딘-2-일옥시}페닐)부티레이트의 제조
THF (6 mL) 중의 60% 수소화나트륨 (0.133 g, 3.3 mmol) 의 현탁액에 트리에틸포스포노 아세테이트 (0.53 mL, 2.7 mmol) 를 빙냉 하에 적가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 THF (6 mL) 중의 6-(4-아세틸페녹시)-N-[4-(트리플루오로메틸]페닐]니코틴아미드 (0.53 g, 1.3 mmol) 의 용액을 첨가하고, 생성 용액을 60℃ 에서 10 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 포화 수성 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 4 : 1) 에 의해 정제하여, 중간 생성물 에틸 3-(4-{5-[4-(트리플루오로메틸)페닐-카르바모일]피리딘-2-일옥시}페닐)-2-부테노에이트 0.57 g 을 수득하였다. 10% 팔라듐-탄소 (0.057 g) 를 에탄올 (8 mL) 및 디옥산 (2 mL) 으로 이루어진 혼합 용매 중에 현탁시키고, 상기 현탁액에 에틸 3-(4-{5-[4-(트리플루오로메틸)페닐카르바모일]피리딘-2-일옥시}페닐)-2-부테노에이트 (0.57 g, 1.2 mmol) 를 첨가하였다. 결과 생성물을 대기압 및 실온에서 촉매 환원시켰다. 일단 수소 흡수가 중지하면, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과액을 감압 하에 농축시켜, 표제 화합물 0.56 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 고체
1H NMR (CDCl3) δ 1.21(3H, t, J = 7.1 Hz), 1.33(3H, d, J = 7.0 Hz), 2.51-2.67(2H, m), 3.28-3.37(1H, m), 4.10(2H, q, J = 7.1 Hz), 7.00(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.07-7.12(2H, m), 7.26-7.31(2H, m), 7.60-7.65(2H, m), 7.73-7.77(2H, m), 7.81(1H, brs), 8.21(1H, dd, J = 8.6, 2.6 Hz), 8.68(1H, d, J = 2.3 Hz).
하기 화합물을 참고예 665 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 666
에틸 2-메틸-3-{4-[5-(4-트리플루오로메틸페닐-카르바모일)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트
MS 472(M+)
참고예 667
3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-히드록시-카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
에탄올 (30 mL) 중의 3,4-디클로로-N-[6-(4-시아노메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 (700 mg, 1.76 mmol) 의 용액에 물 (2 mL), 히드록실아민 (420 mg, 12.71 mmol) 및 탄산칼륨 (1.76 g, 12.73 mmol) 을 첨가하였다. 아르곤 하에, 생성 용액을 환류 하에 4 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1), 표제 화합물 510 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.27(2H, s), 5.41(2H, brs), 7.03(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.05(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.31(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.88(1H, s), 10.53(1H, s).
참고예 668
3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-아세톡시-카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
디옥산 (8 mL) 중의 3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-히드록시카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 (510 mg, 1.18 mmol) 의 용액에 탄산칼륨 (163 mg, 1.18 mmol) 을 첨가하였다. 빙냉 하에 교반하면서, 생성 용액에 아세틸 클로라이드 (0.084 mL, 1.18 mmol) 를 적가하고, 생성 용액을 실온에서 15 분 동안 교반하였다. 반응 용액에 THF (10 mL) 를 첨가한 다음, 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 340 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.05(3H, s), 3.35(2H, s), 6.43(2H, brs), 7.06(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.36(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.47(1H, d, J = 2.5 Hz), 10.54(1H, s).
참고예 669
4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}-4-옥소부티르산의 제조
1,2-디클로로에탄 (25 mL) 중에서 3,4-디클로로-3'-플루오로-4'-페녹시벤즈아닐리드 (5.05 g, 13.4 mmol) 및 숙신산 무수물 (1.48 g, 14.8 mmol) 로 이루어진 현탁액에 염화알루미늄 (6.26 g, 47.0 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하고, 생성 혼합물을 동일 온도에서 5 분 동안 교반한 다음, 실온에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 얼음물에 붓고, 생성 고체를 여과에 의해 수합하였다. 고체에 50% 수성 아세톤 (200 mL) 을 첨가하고, 생성 용액을 0.5 시간 동안 환류시킨 다음, 냉각시켰다. 수득된 고체를 여과에 의해 수합하고, 표제 화합물 6.30 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점 : 205-208℃
참고예 670
에틸 3-{4-[히드록시(5-니트로-2-피리딜)-메틸]페닐}프로피오네이트의 제조
디클로로메탄 (15 mL) 및 에탄올 (15 mL) 중의 에틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-카르보닐)페닐]프로피오네이트 (1.52 g, 4.63 mmol) 의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.175 g, 4.63 mmol) 를 빙냉 하에 첨가하고, 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물을 물 및 에틸 아세테이트 중에 용해시켰다. 상기 용액에 아세트산을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척한 다음,무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 :에틸 아세테이트= 3 : 1), 표제 화합물 0.264 g 을 수득하였다.
외관 : 갈색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.19(3H, t, J = 7.2 Hz), 2.56(2H, t, J = 7.8 Hz), 2.91(2H, t, J = 7.8 Hz), 4.09(2H, q, J = 7.2 Hz), 4.35(1H, brs), 5.84(1H, s), 7.17(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.26(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.46(1H, d, J = 8.7 Hz), 8.40(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.5 Hz), 9.36(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 참고예 670 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 671
t-부틸 4-[2-히드록시-3-(4-히드록시페닐)프로피오닐]-피페라진-1-카르복실레이트
1H NMR (CDCl3) δ 1.47(9H, s), 1.62(1H, brs), 2.85(2H, d, J = 6.0 Hz), 3.00-3.80(8H, m), 4.56(1H, t, J = 6.0 Hz), 5.35(1H, brs), 6.74(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.4 Hz).
참고예 672
에틸 3-(4-{5-[비스(3,4-디클로로벤조일)-아미노]-2-피리딜메틸}페닐)프로피오네이트의 제조
에탄올 (5 mL) 중의 10% 팔라듐-탄소 (27 mg) 의 현탁액에 에틸 3-{4-[히드록시 (5-니트로-2-피리딜)-메틸]페닐}프로피오네이트 (0.264 g, 0.799 mmol) 및 에탄올 (2 mL) 중의 0.5 M 염화수소의 용액을 첨가하고, 생성 용액을 50℃ 에서 대기압에서 촉매 환원시켰다. 일단 수소 흡수가 중지되면, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물을 THF (5 mL) 중에 현탁시키고, 트리에틸아민 (0.267 mL, 2.40 mmol) 을 첨가하였다. 상기 용액에 THF (1 mL) 중의 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.255 g, 0.879 mmol) 의 용액을 빙냉 하에 적가하고, 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 :에틸 아세테이트= 5 : 1), 표제 화합물 0.177 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.20(3H, t, J = 7.2 Hz), 2.56(2H, t, J = 7.8 Hz), 2.89(2H, t, J = 7.8 Hz), 4.09(2H, q, J = 7.2 Hz), 6.99(1H, s), 7.17(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.35(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.42(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.43-7.56(2H, m), 7.63(1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.1 Hz), 7.85-7.94(2H, m), 8.15(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.20-8.32(2H, m), 8.57(1H, d, J = 2.5 Hz).
참고예 673
에틸 3-(4-(5-(N-(4-(트리플루오로메틸)-페닐)술파모일)피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트의 제조
에탄올 (10 mL) 중의 에틸 3-(4-(3-브로모-5-(N-(4-(트리플루오로메틸)페닐)술파모일)피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트 (0.41 g, 0.7 mmol) 의 용액에 10% 팔라듐-탄소 (0.041 g) 및 암모늄 포르메이트 (0.226 g, 3.6 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 2 시간 동안 가열환류시켰다. 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과액을 감압 하에 농축시켰다. 다음, 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산 :에틸 아세테이트= 4 : 1) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 0.28 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 고체
1H NMR (CDCl3) δ 1.24(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.60-2.66(2H, m), 2.93-2.99(2H, m), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.95(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.01-7.05(2H, m), 7.20-7.26(3H, m), 7.50-7.54(3H, m), 8.03(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.59(1H, d, J = 2.6 Hz).
참고예 674
1-(4-메톡시페닐)이미다졸린-2-온의 제조
t-부탄올 (120 mL) 중의 1-(2-클로로에틸)-3-(4-메톡시페닐)우레아 (7.0 g, 30.6 mmol) 의 용액에 칼륨 t-부톡시드 (6.4 g, 57.0 mmol) 를 질소 대기 하에 첨가하였다. 생성 용액을 10 분 동안 교반한 다음, 칼륨 t-부톡시드 (3.0 g, 26.7 mmol) 를 첨가하였다. 상기 용액을 10 분 동안 교반한 다음, 칼륨 t-부톡시드 (4.3 g, 38.3 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 16 시간 동안 교반하였다. pH 를 10% 염산으로 2 내지 3 으로 조정하고, 용매를 감압 하에 증발시켰다. 잔류물에 물 (100 mL) 및 에틸 아세테이트(100 mL) 를 첨가하고, 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 침전물을 여과하고, 디에틸 에테르로 세척한 다음, 감압 하에 건조시켜, 표제 화합물 5.1 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.29-3.44(2H, m), 3.70(3H, s), 3.71-3.88(2H, m), 6.77(1H, s), 6.81-6.95(2H, m), 7.35-7.50(2H, m).
하기 화합물을 참고예 674 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 675
1-(4-벤질옥시-3-메틸페닐)테트라히드로피리미딘-2-온
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.81-1.96(2H, m), 2.16(3H, s), 3.11-3.25(2H, m), 3.51(2H, t, J = 5.6 Hz), 5.09(2H, s), 6.42(1H, s), 6.91(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.98(1H, dd, J = 2.6 Hz, 8.7 Hz), 7.04(1H, d, J = 2.6 Hz), 7.28-7.34(1H, m), 7.36-7.41(2H, m), 7.42-7.48(2H, m).
참고예 682
3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피온산의 제조
THF (60 mL) 및 에탄올 (30 mL) 중의 에틸 3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오네이트 (6.00 g, 13.1 mmol) 의 용액에 5 M 수성 수산화나트륨 (3.14 mL, 15.7 mmol) 및 (30 mL) 을 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 빙냉시켰다. 반응 용액에 5 M 염산 (4.0 mL, 20.0 mmol) 및 물 (100 mL) 을 첨가하였다. 수득된 고체를 여과에 의해 수합하고, 물-함유 아세톤으로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 5.60 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점: 188-190 ℃
하기 화합물을 참고예 682 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 857
3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질메틸아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피온산의 제조
에탄올 (30 mL) 중의 에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트 (1.63 g, 3.7 mmol) 의 용액에 37% 수성 포름알데히드 (2.0 mL, 22 mmol) 및 아세트산 (0.21 mL, 3.7 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 다음, 이 용액에 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.46 g, 7.3 mmol) 를 0℃ 에서 첨가하고, 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 이 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 5 : 1), 에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질메틸아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트 1.55 g 을 수득하였다. 이 생성물을 에탄올 (40 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 10% 수성 수산화나트륨 (2.7 mL, 6.7 mmol) 을 첨가하고, 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 다음, 생성 용액을 10% 염산을 첨가하여 산성화시키고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 1.44 g 을 수득하였다.
외관 : 무색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.38-2.60(2H, m), 2.78(2H, t, J = 7.6 Hz), 4.52(2H, s), 6.81-6.92(3H, m), 7.12-7.23(3H, m), 7.28(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.3 Hz), 7.48(1H, d, J = 1.9 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63(1H, d, J = 3.3 Hz), 11.70-12.40(1H, m).
하기 화합물을 참고예 857 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 858
3-(4-{5-[(3,4-디클로로벤질)에틸아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피온산
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.09(3H, t, J = 6.9 Hz), 2.37-2.59(2H, m), 2.64-2.83(2H, m), 3.45(2H, q, J = 6.9 Hz), 4.48(2H, s), 6.82(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.85-6.92(2H, m), 7.12-7.25(4H, m), 7.48(1H, d, J = 1.8 Hz), 7.54-7.61(2H, m), 11.77-12.38(1H, m).
참고예 859
N-[2-(4-포르밀페녹시)-5-피리딜]-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
THF (80 mL) 중의 4-[(5-아미노-2-피리딜)옥시]벤즈알데히드 에틸렌 아세탈 (5.27 g, 20.4 mmol) 및 트리에틸아민 (3.41 mL, 24.5 mmol) 의 용액에 THF (30 mL) 중의 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (4.49 g, 21.4 mmol) 의 용액을 빙냉 하에 적가하였다. 생성 용액을 동일 온도에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물에 80% 아세트산 (55 mL) 을 첨가하고, 상기 혼합물을 1 시간 동안 교반하면서 80℃ 에서 가열하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다, 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 5.63 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 7.05(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.24(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.70(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.1 Hz), 7.82-7.93(3H, m), 7.97(1H, d, J = 2.1 Hz), 8.25(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.7 Hz), 8.29(1H, d, J = 2.7 Hz), 9.96(1H, s).
참고예 860
에틸 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]벤질아미노}아세테이트의 제조
메탄올 (20 mL) 중의 N-[2-(4-포르밀페녹시)-5-피리딜]-3,4-디클로로벤즈아미드 (1.00 g, 2.58 mmol), 글리신 에틸 에스테르 히드로클로라이드 (0.400 g, 2.84 mmol) 및 아세트산 나트륨(0.230 g, 2.84 mmol) 의 용액을 60℃ 에서 30 분 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 빙냉시킨 다음, 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.180 g, 2.84 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 5 M 염산 (2 mL) 을 첨가하고, 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 2), 표제 화합물 0.752 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.27(3H, t, J = 7.1 Hz), 3.43(2H, s), 3.81(2H, s), 4.20(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.95(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.09(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.36(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.71(1H, dd, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 7.84(1H, s), 7.98(1H, d, J = 2.1 Hz), 8.18(1H, dd, J = 2.7 Hz, 8.8 Hz), 8.24(1H, d, J = 2.7 Hz).
참고예 861
(아세틸{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]벤질}아미노)아세트산의 제조
디클로로메탄 (5 mL) 중의 에틸 {4-[5-(3,4-디클로로-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질아미노}아세테이트 (0.811 g, 1.59 mmol) 의 용액에 트리에틸아민 (0.332 mL, 2.39 mmol) 및 아세틸 클로라이드 (0.136 mL, 1.91 mmol) 를 실온에서 첨가하였다. 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켜, 잔류물 0.785 g 을 수득하였다. 이 잔류물을 에탄올 (5 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 5 M 수성 수산화나트륨 (0.350 mL, 1.75 mmol) 을 실온에서 첨가하고, 동일 온도에서 14 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 5 M 염산 (0.400 mL) 및 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 0.776 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 무정형 분말
1H NMR (375 K 에서 DMSO-d6) δ 2.10(3H, s), 4.02(2H, s), 4.60(2H, s), 7.03(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.11(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.32(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.78(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.97(1H, dd, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 8.10-8.30(2H, m), 8.53(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.23(1H, s).
참고예 862
1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-{메틸-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}-에타논의 제조
DMF (40 mL) 중의 {메틸[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세트산 (0.93 g, 2.9 mmol) 의 용액에 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (0.67 g, 3.5 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.54 g, 3.5 mmol),및 1-피페로닐피페라진 (0.68 g, 3.08 mmol) 을 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 질소 대기 하에 15 시간 동안 교반하였다. 생성 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 2 : 1 → 디클로로메탄 : 메탄올 = 100 : 1), 표제 화합물 1.2 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 분말
용융점: 142-143℃
하기 화합물을 참고예 862 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 909
(4-벤질피페라진-1-일){4-[메틸(5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}메타논의 제조
DMF (15 mL) 중의 4-[메틸-(5-니트로피리딘-2-일)아미노]벤조산 (0.800 g, 2.93 mmol) 및 1-벤질피페라진 (0.542 g, 3.08 mmol) 의 용액에 트리에틸아민 (1.02 mL, 7.32 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.593 mL, 3.52 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 3 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트), 표제 화합물 1.25 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.25-2.65(4H, m), 3.49(2H, brs), 3.56(2H, s), 3.57(3H, s), 3.81(2H, brs), 6.43(1H, d, J = 9.5 Hz), 7.25-7.35(7H, m), 7.53(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.06(1H, dd, J = 2.8 Hz, 9.5 Hz), 9.12(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 909 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 913
N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]아세트아미드의 제조
에탄올 (50 mL) 중의 에틸 {아세틸 [4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세테이트 (2.30 g, 6.40 mmol) 의 용액에 5 M 수성 수산화나트륨 (1.92 mL, 9.60 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 30 분 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 5 M 염산 (2 mL) 및 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시키고, 수득된 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 1), 오일 1.68 g 을 수득하였다. DMF (10 mL) 중의 상기 오일의 용액에 1-피페로닐피페라진 (1.29 g, 5.86 mmol), 트리에틸아민 (1.85 mL, 13.3 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (1.07 mL, 6.36 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1), 표제 화합물 2.21 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.98(3H, s), 2.40-2.50(4H, m), 3.40-3.45(4H, m), 3.62(2H, brs), 4.48(2H, s), 5.94(2H, s), 6.70-6.76(2H, m), 6.85(1H, s), 7.09(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.20(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.51(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.51(1H, dd, J = 2.8 Hz, 9.1 Hz), 9.04(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 913 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 916
3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피온산 (3.18 g, 10 mmol) 을 디클로로메탄 (30 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 염화티오닐 (0.88 mL, 12 mmol) 및 DMF (1 방울) 를 첨가하고, 2 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물을 디클로로메탄 (20 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 트리에틸아민 (1.67 mL, 12 mmol) 및 디클로로메탄 (30 mL) 중의 1-피페로닐피페라진 (2.20 g, 10 mmol) 의 용액을 빙냉 하에 첨가하고, 상기 생성 용액을 0℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 물 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 4.95 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.33-2.42(4H, m), 2.63-2.69(2H, m), 2.97-3.03(2H, m), 3.42(4H, brs), 3.62-3.66(2H, m), 3.74(3H, s), 5.95(2H, s), 6.73-6.75(2H, m), 6.85-6.90(3H, m), 7.04(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.06(1H, d, J = 7.9 Hz), 8.45(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 9.01(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 916 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 917
6-클로로-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ7.74(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.76(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.00(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.38(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.5 Hz), 8.97(1H, d, J = 2.5 Hz), 10.80(1H, brs).
참고예 918
3-{3-메톡시-4-[메틸(5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
에탄올 (80 mL) 중의 에틸 3-{3-메톡시-4-[메틸-(5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}프로피오네이트 (3.85 g, 11 mmol) 의 용액에 2 N 수성 수산화나트륨 (6.4 mL, 13 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2.5 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 6 N 염산 (2.2 mL, 13 mmol) 을 첨가하고, 용매를 감압 하에 제거하였다. 잔류물에 THF (80 mL) 및 N,N'-카르보닐디이미다졸 (2.08 g, 13 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 3 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 1-피페로닐피페라진 (2.60 g, 12 mmol) 및 DMF (40 mL) 를 첨가하고, 실온에서 21 시간 동안 교반하였다. 용매를 감압 하에 증발시키고, 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트), 표제 화합물 4.59 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.36-2.43(4H, m), 2.64-2.70(2H, m), 2.99-3.05(2H, m), 3.42-3.46(7H, m), 3.63-3.67(2H, m), 3.77(3H, s), 5.95(2H, s), 6.12(1H, brd, J = 9.1 Hz), 6.70-6.77(2H, m), 6.85-6.90(3H, m), 7.12(1H, d, J = 8.1 Hz), 7.97-8.01(1H, m), 9.11(1H, d, J = 2.6 Hz).
참고예 919
5-{메틸[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}-2-(5-니트로피리딘-2-일옥시)-벤조니트릴의 제조
디클로로메탄 (12 mL) 중의 t-부틸 2-((3-시아노-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)(메틸)아미노)아세테이트 (1.2 g, 3.1 mmol) 의 용액에 트리플루오로아세트산 (12 mL) 을 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 5 시간 동안 교반하였다. 용매를 증발시키고, 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜, 미정제 2-((3-시아노-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)(메틸)아미노)-아세트산을 수득하였다. DMF (24 mL) 중의 상기 화합물의 용액에 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)-카르보디이미드 히드로클로라이드 (659 mg, 3.4 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (526 mg, 3.4 mmol) 및 1-피페로닐피페라진 (757 mg, 3.4 mmol) 을 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 8 시간 동안 교반하였다. 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 다음, 에틸 아세테이트층을 순서대로, 포화 수성 중탄산나트륨 용액, 물 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (에틸 아세테이트) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 412 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.40-2.55(4H, m), 3.09(3H, s), 3.45-3.50(4H, m), 3.55-3.70(2H, m), 4.14(2H, s), 5.95(2H, s), 6.70-6.80(2H, m), 6.80-6.95(3H, m), 7.10-7.20(2H, m), 8.50(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 8.99(1H, d, J = 2.8 Hz).
참고예 920
2-{(2,3-디플루오로-4-t-부톡시카르보닐-아미노)페녹시}-5-니트로피리딘의 제조
t-부탄올 (50 mL) 중의 {2,3-디플루오로-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)}벤조산 (1.22 g, 4.1 mmol) 의 용액에 디페닐포스포릴아지드 (0.98 mL, 4.5 mmol) 및 트리에틸아민 (0.63 mL, 4.5 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 질소 대기 하에 4 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 6 : 1), 표제 화합물 1.2 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.54(9H, s), 6.59-6.78(1H, m), 6.90-7.04(1H, m), 7.13(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.84-8.02(1H, m), 8.51(1H, dd, J = 2.8 Hz, 9.0 Hz), 8.99(1H, d, J = 2.8 Hz).
참고예 921
3,4-디클로로-N-[3-플루오로-4-(4-포르밀페녹시)페닐]벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-[4-(4-[1,3]디옥솔란-2-일페녹시)-3-플루오로페닐]벤즈아미드 (17.4 g, 38.9 mmol) 를 80% 아세트산에 첨가하고, 생성 용액을 80℃ 에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 여기서 수득된 잔류물을 80% 에탄올로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 12.8 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.13(2H, d, J = 8.6 Hz), 3.40(1H, t, J = 9.0 Hz), 7.63(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.85(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.90-8.00(4H, m), 8.22(1H, d, J = 1.9 Hz), 9.93(1H, s), 10.67(1H, s).
참고예 922
N-[6-(4-아미노페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드의 제조
t-부틸 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}카르바메이트 (4.31 g, 9.09 mmol) 를 클로로포름-메탄올-에틸 아세테이트의 혼합 용액 중에 용해시켰다. 생성 용액을 부피 약 20 mL 로 농축시켰다. 잔류 용액에 에틸 아세테이트(70 mL) 중의 4 N 염화수소 용액을 첨가하고, 실온에서 2 시간 동안 놔두어서 냉각시켰다. 침전된 백색 분말을 여과하고, 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 4.04 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 5.20(2H, brs), 7.14(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.25(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.42(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.24(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.6 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.51(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.65(1H, s).
하기 화합물을 참고예 922 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 926
4-(테트라히드로피란-2-일옥시)벤질아민의 제조
THF (200 mL) 중의 리튬 알루미늄 히드라이드 (2.66 g, 70 mmol) 의 용액에 THF (70 mL) 중의 4-(테트라히드로피란-2-일옥시)벤조니트릴의 용액을 빙냉 하에 적가하였다. 다음, 생성 용액을 1 시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 다시 빙냉시킨 다음, 상기 용액에 순서대로, 물 (2.66 mL), 1 N 수성 수산화나트륨 (2.66 mL) 및 물 (7.98 mL) 을 적가하였다. 불용성 물질을 여과에 의해 제거하였다. 여과액을 감압 하에 농축시키고, 그런 후에 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (클로로포름 : 메탄올 = 7 : 1), 표제 화합물 11.41 g 을 수득하였다.
외관 : 무색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.56(2H, s), 1.45-1.78(3H, m), 1.78-2.12(3H, m), 3.53-3.66(1H, m), 3.80(2H, s), 3.84-3.99(1H, m), 5.41(1H, t, J = 3.2 Hz), 7.02(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.22(2H, d, J = 8.7 Hz).
참고예 927
4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐아민 히드로클로라이드의 제조
N-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]-아세트아미드 (1.00 g, 3.45 mmol) 를 6 M 염산 (10 mL) 에 첨가하고, 생성 용액을 2 시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켜, 표제 화합물 0.910 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.40-4.00(2H, m), 7.18(1H, t, J = 8.7 Hz), 7.24(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.32(2H, d, J = 8.9 Hz), 8.10(1H, ddd, J = 1.4 Hz, 2.6 Hz, 8.9 Hz), 8.35(1H, dd, J = 2.6 Hz, 10.8 Hz).
참고예 928
{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}카르바메이트 페닐 에스테르의 제조
THF (20 mL) 중의 N-[6-(4-아미노페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드 (700 mg, 1.57 mmol) 의 현탁액에 트리에틸아민 (1.1 mL, 7.89 mmol) 을 첨가하였다. 다음, 생성 용액에 페닐 클로로카보네이트 (0.39 mL, 3.14 mmol) 를 빙냉 하에 적가하였다. 생성 반응 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 이때 잔류물이 분말로 고체화되었다. 분말을 여과하고, 디에틸 에테르로 세척하여, 표제 화합물 470 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.11(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.19-7.31(3H, m), 7.38-7.49(2H, m), 7.53(2H, d, J = 8.0 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.2 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.47(1H, d, J = 2.2 Hz), 10.26(1H, s), 10.54(1H, s).
하기 화합물을 참고예 928 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 932
4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 [4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]아미드의 제조
DMF (15 mL) 중의 [4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)-페닐] 카르바메이트 페닐 에스테르 (0.700 g, 1.90 mmol) 의 용액에 1-피페로닐피페라진 (0.460 g, 2.09 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 0.939 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.30-2.40(4H, m), 3.35-3.50(6H, m), 6.00(2H, s), 6.70-6.90(2H, m), 7.00-7.15(2H, m), 7.55(2H, d, J = 9.1 Hz), 8.05-8.10(1H, m), 8.30(1H, dd, J = 2.8 Hz, 10.9 Hz), 9.31(1H, s).
하기 화합물을 참고예 932 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 933
에틸 3-(4-{5-[3-(3,4-디클로로페닐)-3-에틸우레이도]-피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트
MS 501(M+).
참고예 936
4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 4-히드록시벤질아미드의 제조
메탄올 (50 mL) 중의 4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 4-(테트라히드로피란-2-일옥시)벤질아미드 (1.1 g, 2.43 mmol) 의 용액에 p-톨루엔설폰산 모노히드레이트 (1.0 g, 5.26 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 330 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.41(4H, t, J = 5.0 Hz), 3.37(4H, t, J = 5.0 Hz), 3.42(2H, s), 4.32(2H, d, J = 5.2 Hz), 4.68(1H, t, J = 5.2 Hz), 5.94(2H, s), 6.15(1H, brs), 6.70-6.80(2H, m), 6.75(2H, d, J = 8.6 Hz), 6.84(1H, s), 7.13(2H, d, J = 8.6 Hz).
하기 화합물을 참고예 936 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 937
4-벤질피페라진-1-카르복실산 (4-히드록시페닐)메틸아미드 히드로클로라이드
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.69-2.91(2H, m), 3.03(3H, s), 2.92-3.23(4H, m), 3.68(2H, d, J = 13.7 Hz), 4.26(2H, s), 6.75(2H, d, J = 8.7 Hz), 6.98(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.45(3H, brs), 7.54(2H, brs), 9.52(1H, s).
참고예 938
3,4-디클로로-N-{6-[4-(3-히드록시프로필)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
2-{4-[3-(t-부틸디메틸실라닐옥시)프로필]페녹시}-5-니트로피리딘 (950 mg, 1.8 mmol) 에 아세트산 (10 mL) 및 물 (5 mL) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 520 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 각주형
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.70-1.78(2H, m), 2.59-2.65(2H, m), 3.32-3.47(2H, m), 4.46-4.49(1H, m), 7.00-7.05(3H, m), 7.23(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.16-8.22(2H, m), 8.48(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.54(1H, s).
하기 화합물을 참고예 938 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 939
3,4-디클로로-N-{6-[4-(2-히드록시에틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.73(2H, t, J = 6.9 Hz), 3.59-3.66(2H, m), 4.65(1H, t, J = 5.3 Hz), 7.00-7.06(3H, m), 7.25(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.16-8.23(2H, m), 8.47(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.54(1H, s).
참고예 940
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-히드록시펜틸)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
THF (140 mL) 중의 에틸 5-{4-[5-(3,4-디클로로-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}펜타노에이트 (8.79 g, 18.0 mmol) 의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (3.14 g, 144 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 질소 대기 하에 3 시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 빙냉시키고, 1 N 염산으로 처리하였다. 생성 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 2), 표제 화합물 7.07 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.25-1.75(7H, m), 2.62(2H, t, J = 7.6 Hz), 3.65(2H, t, J = 6.6 Hz), 6.92(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.02(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.19(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.56(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.69(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 7.93(1H, s), 7.97(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.15(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 참고예 940 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 948
4-시아노-N-[6-(4-히드록시메틸페녹시)-피리딘-3-일]벤즈아미드의 제조
THF (20 mL) 중의 4-[5-(4-시아노벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]벤조산 (1.80 g, 5.01 mmol) 의 현탁액을 빙-식염 (ice-common salt) 으로 냉각시키고, 상기 용액에 트리에틸아민 (0.77 mL, 5.51 mmol) 을 첨가한 다음, 에틸 클로르포르메이트 (0.53 mL, 5.51 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 교반하였다. 30 분 후, 반응 용액을 여과하고, 불용성 물질을 제거하였다. 생성 여과액을 80% 메탄올 (40 mL) 중의 나트륨 보로히드라이드 (0.95 g, 25.05 mmol) 의 수용액에 빙냉 하에 교반하면서 부었다. 실온에서 30 분 동안 교반한 후에, 물 (200 mL) 을 반응 용액에 첨가하였다. 수득된 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다 (200 mL). 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트-n-헥산의 혼합 용액으로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 1.26 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 4.50(2H, d, J = 5.3 Hz), 5.19(1H, t, J = 5.6 Hz), 7.04-7.09(3H, m), 7.35(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.04(2H, d, J = 8.9 Hz), 8.12(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.21(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.3 Hz), 11.63(1H, s).
하기 화합물을 참고예 948 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 949
4-클로로-N-[6-(4-히드록시메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ 4.50(2H, d, J = 5.3 Hz), 5.18(1H, t, J = 5.6 Hz), 7.03-7.08(3H, m), 7.35(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.63(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.00(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.20(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.48(1H, d, J = 2.3 Hz), 10.46(1H, s).
참고예 955
2-[4-(1-브로모에틸)페녹시]-5-니트로피리딘의 제조
2-(4-에틸페녹시)-5-니트로피리딘 (7.33 g, 30 mmol) 을 사염화탄소 (100 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 N-브로모숙신이미드 (5.34 g, 30 mmol) 및 벤조일 퍼옥시드 (0.73 g, 3 mmol) 를 첨가하였다. 상기 용액을 질소 대기 하에 밤새 환류시켰다. 반응 용액을 냉각되도록 놔두고, 그런 후에 불용성 물질을 여과에 의해 제거하였다. 생성 여과액을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 10 : 1), 표제 화합물 1.34 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.08(3H, d, J = 6.9 Hz), 5.26(1H, q, J = 6.9 Hz), 7.05(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.15(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.53(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.49(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 9.04(1H, d, J = 2.8 Hz).
참고예 956
N-[6-(4-클로로메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
디클로로메탄 (90 mL) 중의 N-[6-(4-히드록시메틸페녹시)-피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (3.06 g, 7.9 mmol) 의 용액에 염화티오닐 (1.7 mL, 23.3 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 4 시간 동안 교반하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 디에틸 에테르로 세척하여, 표제 화합물 2.95 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 4.61(2H, s), 7.00(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.11-7.14(2H, m), 7.41-7.44(2H, m), 7.77(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.89(1H, brs), 8.00(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.22-8.28(2H, m).
하기 화합물을 참고예 956 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 957
3,4-디클로로-N-[4-(4-클로로메틸페녹시)-3-플루오로페닐]벤즈아미드
1H NMR (CDCl3) δ 4.58(2H, s), 6.95(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.10(1H, t, J = 8.6 Hz), 7.20-7.30(1H, m), 7.30-7.40(3H, m), 7.59(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.65-7.78(2H, m), 7.96(1H, d, J = 2.1 Hz).
참고예 963
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-클로로펜틸)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 히드로클로라이드의 제조
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-히드록시펜틸)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 (6.83 g, 15.34 mmol) 에 염화티오닐 (35 mL) 를 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 20 분 동안 교반하고, 이어서 50℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 과량의 염화티오닐을 증발시키고, 그런 후에 생성 잔류물에 에틸 아세테이트 (100 mL) 를 첨가하였다. 수득된 백색 분말을 여과하고, 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 6.98 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.33-1.50(2H, m), 1.50-1.68(2H, m), 1.68-1.85(2H, m), 2.59(2H, t, J = 7.6 Hz), 3.64(2H, t, J = 6.6 Hz), 7.02(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.03(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.23(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.83(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.20(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.50(1H, d, J = 2.5 Hz), 10.63(1H, s).
하기 화합물을 참고예 963 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 968
N-{6-[4-(2-브로모아세틸)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-아세틸페녹시)피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드 (4.0 g, 10 mmol) 를 클로로포름 (200 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 브롬화구리 (5.76 g, 25 mmol) 를 첨가하고, 밤새 환류시켰다. 생성 반응 용액을 여과하고, 여과액을 나트륨 티오술페이트 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 전 단계로부터 여과된 생성물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 나트륨 티오술페이트 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 수합하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 3 : 1), 표제 화합물 1.86 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 4.43(2H, s), 7.06(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.21(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.72(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 7.99(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.03(2H, d, J = 8.9 Hz), 8.09(1H, brs), 8.27(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.8 Hz), 8.32(1H, d, J = 2.2 Hz).
하기 화합물을 참고예 968 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 969
N-{4-[4-(2-브로모아세틸)페녹시]-3-플루오로페닐}-3,4-디클로로벤즈아미드
1H NMR (DMSO-D6) δ 4.88(2H, s), 7.06(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.30-7.50(1H, m), 7.60-7.70(1H, m), 7.80-8.20(5H, m), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 10.67(1H, brs).
참고예 970
4'-[4-(3-브로모프로필)페녹시]-3,4-디클로로-3'-플루오로벤즈아닐리드의 제조
디클로로메탄 (46 mL) 중의 3,4-디클로로-3'-플루오로-4'-[4-(3-히드록시프로필)페녹시]벤즈아닐리드 (2.32 g, 5.34 mmol) 의 현탁액에 사브롬화탄소 (2.13 g, 6.41 mmol) 및 트리페닐포스핀 (1.54 g, 5.88 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 12 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 5 : 1), 표제 화합물 2.41 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.08-2.11(2H, m), 2.73(2H, t, J = 7.3 Hz), 3.38(2H, t, J = 6.5 Hz), 6.88(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.02(1H, dd, J = 9.0 Hz, 8.0 Hz), 7.13(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.17-7.28(1H, m), 7.54(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.60-7.74(2H, m), 7.85(1H, brs), 7.93(1H, d, J = 2.0 Hz).
하기 화합물을 참고예 970 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 973
t-부틸 4-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)벤질]피페라진-1-카르복실레이트의 제조
DMF (120 mL) 중의 2-(4-클로로메틸페녹시)-5-니트로피리딘 (12.32 g, 47 mmol) 의 용액에 트리에틸아민 (19.4 mL, 140 mmol) 및 t-부틸 피페라진-1-카르복실레이트 (11.27 g, 61 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 50℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 1), 표제 화합물 11.26 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.46(9H, s), 2.40-2.44(4H, m), 3.43-3.46(4H, m), 3.54(2H, s), 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.09-7.14(2H, m), 7.38-7.44(2H, m), 8.48(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 9.05(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 973 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 974
4-{1-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]에틸}모르폴린
1H NMR (CDCl3) δ 1.38(3H, d, J = 6.8 Hz), 2.36-2.54(4H, m), 3.37(1H, q, J = 6.8 Hz), 3.69-3.72(4H, m), 7.02(1H, dd, J = 9.1 Hz, 0.5 Hz), 7.11(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.40(2H, d, J = 8.5 Hz), 8.47(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 9.06(1H, dd, J = 2.8 Hz, 0.5 Hz).
참고예 975
메탄설폰산 6-(4-니트로페녹시)-피리딘-3-일메틸 에스테르의 제조
[6-(4-니트로페녹시)피리딘-3-일]메탄올 (6.1 g, 24.8 mmol) 을 디클로로메탄 (150 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 트리에틸아민 (4.15 mL, 29.8 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하였다. 생성 용액에 메탄설폰산 클로라이드 (2.11 mL, 27.3 mmol) 를 적가한 다음, 질소 대기 하에 0℃ 에서 30 분 동안 교반하였다. 반응 용액을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물에 n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 1 의 혼합 용매 (50 mL) 를 첨가하였다. 침전된 결정을 석션 여과에 의해 제거하고, 표제 화합물 7.9 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 3.04(3H, s), 5.23(2H, s), 7.09(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.29(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.88(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.23(1H, d, J = 2.3 Hz), 8.28(2H, d, J = 9.1 Hz).
하기 화합물을 참고예 975 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 978
2-(4-니트로페녹시)-5-(4-트리플루오로메틸-페녹시메틸)피리딘의 제조
메탄설폰산 6-(4-니트로페녹시)-피리딘-3-일메틸 에스테르 (4.86 g, 15 mmol) 를 DMF (250 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 4-히드록시벤조트리플루오라이드 (2.92 g, 18 mmol) 및 탄산칼륨 (3.11 g, 22.5 mmol) 을 첨가하였다. 생성 용액을 질소 대기 하에 50℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 80 : 1), 표제 화합물 5.8 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 5.09(2H, s), 7.02-7.10(3H, m), 7.26-7.31(2H, m), 7.56-7.59(2H, m), 7.88(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.25-8.31(3H, m).
하기 화합물을 참고예 978 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 979
2-(2-메틸-4-니트로페녹시)-5-(4-트리플루오로메틸-페녹시메틸)피리딘
1H NMR (CDCl3) δ 2.31(3H, s), 5.07(2H, s), 7.03(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.08(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.17(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.57(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.87(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.10(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.21(1H, d, J = 2.5 Hz).
실시예 1
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)-페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
DMF (30 mL) 중의 4-[5-(4-트리플루오로메틸-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤조산 (1.19 g, 2.3 mmol) 의 용액에 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (530 mg, 2.8 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (370 mg, 2.7 mmol) 및 벤질피페라진 (0.475 mL, 2.7 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하였다. 생성 용액을 1 일 동안 실온으로 점차 데우면서 교반하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 19), 표제 화합물 800 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 침정
1H NMR (CDCl3) δ 2.46(4H, brs), 3.55(2H, s), 3.72(4H, brs), 6.96(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.10-7.13(2H, m), 7.28-7.40(7H, m), 7.74(2H, d, J = 8.3 Hz), 8.02(2H, d, J = 8.3 Hz), 8.16-8.21(1H, m), 8.32(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.53(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
하기 화합물을 참고예 918 에서와 동일한 방법으로 제조하였다.
실시예 950
3,4-디클로로-N-{6-[4-(4-펜에틸피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
THF (10 mL) 중 에틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤조에이트 (690 mg, 2.7 mmol)의 용액에, 트리에틸아민 (0.73 mL, 5.3 mmol) 및 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (570 mg, 2.7 mmol)를 빙냉하에서 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 빙냉하에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가했다. 생성 용액을 물, 1 N 염산 및 염수로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 뜨거울 때, 잔류물을 n-헥산 : 디클로로메탄 = 1 : 2 으로 세정했다. 생성물을 THF (20 mL) 중에 용해시켰다. 잔류물에 1 N 수산화나트륨 수용액 (2.9 mL, 2.9 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 5 시간 동안 100℃ 에서 교반시켰다. THF 를 증발시키고, 수성 층의 pH 를 1 N 염산으로 3 으로 조절하였다. 침전물을 여과 수집하고 건조시켰다. 수득한 생성물을 DMF (10 mL) 중에 용해시키고, 1-펜에틸피페라진 (200 mg, 1.1 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (240 mg, 1.3 mmol) 및 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (170 mg, 1.3 mmol) 를 상기 용액에 첨가했다. 생성 용액을 1 일 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 클로로포름을 첨가했다. 생성 용액을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 99)로 정제해, 310 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.54(4H, brs), 2.62-2.68(2H, m), 2.79-2.85(2H, m), 3.60-3.73(4H, m), 6.95(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.09-7.23(5H, m), 7.27-7.33(2H, m), 7.37-7.41(2H, m), 7.55(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.74-7.78(1H, m), 8.04(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.11-8.15(1H, m), 8.31(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.57(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 950 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 1036
2-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일)피리딘-2-일옥시]페닐아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
DMF (30 mL) 중 2-클로로-5-(4-트리플루오로메틸벤조일)피리딘 (1.00 g, 3.5 mmol)의 용액에, N-(4-히드록시-3-메틸페닐)글리신 에틸 에스테르 (0.81 g, 3.9 mmol), 탄산세슘 (1.71 g, 5.2 mmol) 및 요오드화구리 (I) (200 mg, 1.05 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 3.5 시간 동안 아르곤 대기 하 60℃ 에서 교반했다. 생성 반응 용액을 여과 및 농축했다. 잔류물에 물을 첨가하고 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 3 : 1) 로 정제해, 1.20 g 의 황색 오일을 수득했다. 황색 오일을 THF (23 mL) 중에 용해시키고, 상기 용액에 1 M 수산화나트륨 수용액 (3.9 mL, 3.9 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 3 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 얼음으로 냉각시키고, 6M 염산으로 pH 를 1 로 조절하였다. 생성 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 감압하에서 증발시켜, 1.04 g 의 황색 오일을 수득했다. 상기 황색 오일을 DMF (20 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 1-피페로닐피페라진 (530 mg, 2.4 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (560 mg, 2.9 mmol) 및 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (390 mg, 2.6 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 15 시간 동안 교반했다. 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 2 → 에틸 아세테이트)로 정제하여, 280 mg 의 황색 오일을 수득했다. 상기 오일에 디에틸 에테르를 첨가하고 정치시켰다. 침전물을 여과 수집해, 220 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.11(3H, s), 2.43-2.48(4H, m), 3.45-3.48(4H, m), 3.67-3.71(2H, m), 3.86(2H, d, J = 4.1 Hz), 4.90(1H, t, J = 4.1 Hz), 5.96(2H, s), 6.49-6.53(2H, m), 6.71-6.78(2H, m), 6.86-6.97(3H, m), 7.75(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.87(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.5 Hz), 8.58(1H, d, J = 2.1 Hz).
하기 화합물을 실시예 1036 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 1037
6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2,5-디플루오로페녹시)-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드 히드로브로마이드
용융점: 224.5 - 226.0℃
실시예 1038
N-(6-{2-메틸-4-[메틸-(2-옥소-2-피페라진-1-일에틸)아미노]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
DMF (60 mL) 중 메틸{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]-3-메틸페닐}아미노아세트산 (1.59 g, 3.5 mmol) 용액에, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (0.79 g, 4.1 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.63 g, 4.1 mmol), 및 1-t-부틸옥시카르보닐피페라진 (0.68 g, 3.6 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 질소 대기 하에서 15 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 상기 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액으로 세정하고, 이어서 에틸 아세테이트 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1 → 3 : 2)로 정제해 아미드 생성물을 수득했다. 상기 아미드 생성물을 THF (20 mL) 중에 용해시켰다. 이어서, 상기 용액에 10% 염산 (10 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 14 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가해, 용액을 중성으로 만들고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키며, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 50 : 1 → 20 : 1)으로 정제해, 0.38 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.10(3H, s), 2.75-2.94(4H, m), 2.99(3H, s), 3.40-3.70(4H, m), 4.08(2H, s), 6.46-6.59(2H, m), 6.79(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.89(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.55(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.71(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.1 Hz), 7.98(1H, d, J = 2.1 Hz), 8.03-8.14(2H, m), 8.23(1H, d, J = 2.6 Hz).
실시예 1039
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
THF (4 mL) 중 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 트리히드로클로라이드 (200 mg, 0.35 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.243 mL, 1.8 mmol) 및 4-트리플루오로메틸벤조일 클로라이드 (0.055 mL, 0.37 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반했다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 물 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조, 증발시키고 잔류물을 디에틸 에테르로 재결정화시켜, 170 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 140-141℃
1H NMR (CDCl3) δ 2.32-2.40(4H, m), 2.59-2.65(2H, m), 2.93-2.99(2H, m), 3.41(4H, brs), 3.60-3.64(2H, m), 5.94(2H, s), 6.71-6.77(2H, m), 6.85(1H, s), 6.96(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.05(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.22(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.76(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.01(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.11-8.14(1H, m), 8.23(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 8.28(1H, d, J = 2.7 Hz).
동일한 절차를 이용해 수득한 조 표제 생성물 (77.4 g) 을 에틸 아세테이트 (400 mL)로부터 재결정화시켜, 49.66 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말; 용융점: 142-144℃
하기 화합물을 실시예 1039 에서와 동일한 방법으로 제조했다.
실시예 1217
1H-인돌-2-카르복실산 {6-[4-(2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸)-2-메틸페녹시]피리딘-3-일}아미드의 제조
DMF (5 mL) 중 5-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-메틸벤질]티아졸리딘-2,4-디온 (150 mg, 0.46 mmol)의 용액에 인돌-2-카르복실산 (74 mg, 0.46 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (70 mg, 0.46 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (110 mg, 0.57 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 5 일 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조, 증발시키고, 이어서 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 30 : 1)으로 정제했다. 수득한 분말성 물질에 에탄올을 첨가하고, 생성 용액을 여과시키고 여과액을 에탄올로 세정해, 100 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.10(3H, s), 3.09(1H, dd, J = 14.2 Hz, 9.7 Hz), 3.40(1H, dd, J = 14.2 Hz, 4.2 Hz), 4.94(1H, dd, J = 9.7 Hz, 4.2 Hz), 6.99(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.05-7.16(2H, m), 7.20(1H, s), 7.24(1H, dd, J = 7.0 Hz, 1.0 Hz), 7.39(1H, d, J = 1.6 Hz), 7.46(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.68(1H, d, J = 7.7 Hz), 8.21(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.8 Hz), 10.37(1H, s), 11.80(1H, s), 12.09(1H, s).
하기 화합물을 실시예 1217 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 1503
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
에틸 아세테이트 (50 mL) 중 1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-{메틸-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}에타논 (2.65 g, 5.10 mmol)의 현탁액에 5% 백금-탄소 (0.20 g)를 질소 대기 하에서 첨가하고, 생성 혼합물을 11 시간 동안 수소 대기 하에서 교반했다. 백금-탄소를 셀라이트(셀라이트) 를 이용해 여과시켜 분리 제거했다. 에틸 아세테이트 중 생성 여과액의 용액에 트리에틸아민 (0.78 mL, 5.61 mmol) 을 빙냉하에서 첨가하고, 이어서 생성 용액에 4-(트리플루오로메틸)벤조일 클로라이드 (0.80 mL, 5.36 mmol)를 첨가했다. 상기 용액을 16 시간 동안 교반하고, 이어서 중탄산나트륨 포화용액을 첨가했다. 생성 용액을 실온에서 교반하고, 20 분 후, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고 잔류물을 아세톤-디에틸 에테르로부터 재결정화시켜, 3.03 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
용융점: 153.0-154.5℃; 1H NMR (CDCl3) δ 2.12(3H, s), 2.31-2.52(4H, m), 3.01(3H, s), 3.38-3.72(6H, m), 4.07(2H, s), 5.95(2H, s), 6.49-6.61(2H, m), 6.69-6.78(2H, m), 6.79-6.88(2H, m), 6.92(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.76(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.81-7.90(1H, m), 7.99(2H, d, J = 8.3 Hz), 8.13(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.23(1H, d, J = 2.6 Hz).
동일한 절차를 이용해 수득한 조 표제 생성물(5.00 g, 7.6 mmol)을 에탄올 (15 mL)로부터 재결정화시켜, 3.90 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
용융점: 156-158℃
하기 화합물을 실시예 1503 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 1504
N-{6-[2-메틸-4-(2-옥소-3-피페로닐이미다졸리딘-1-일)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드
용융점 188.0 - 189.0℃
실시예 1615
3,4-디클로로-N-[6-(2-플루오로-4-{메틸[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}페녹시)피리딘-3-일]벤젠설폰아미드의 제조
디클로로메탄 (150 mL) 중 2-{[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-플루오로페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (15.85 g, 1.9 mmol) 의 용액에 3,4-디클로로벤젠설포닐 클로라이드 (12.92 g, 1.9 mmol) 및 피리딘 (11 mL, 12.4 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층을 물 및 염수로 세정하고, 이어서 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 감압하에서 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제하고, 에탄올로부터 재결정화시켜, 5.6 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말; 용융점: 185.6-187.0℃; 1H NMR (CDCl3) δ 2.45(4H, t, J = 4.6 Hz), 3.01(3H, s), 3.44(2H, s), 3.47(2H, brs), 3.64(2H, brs), 4.07(2H, s), 5.95(2H, s), 6.33-6.44(2H, m), 6.71-6.78(2H, m), 6.84-6.87(2H, m), 6.98(1H, t, J = 9.1 Hz), 7.47(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 7.51(2H, dd, J = 8.4 Hz, 2.8 Hz), 7.68(1H, d, J = 2.1 Hz), 7.83(1H, d, J = 1.8 Hz).; MS 701(M+).
하기 화합물을 실시예 1615 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2031
N-{4-[4-(4-벤젠설포닐피페라진-1-일)페녹시]페닐}-3,4-디클로로벤즈아미드
용융점: 191-192 ℃
하기 화합물을 참고예 292 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2034
t-부틸 4-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐카르바모일}피페리딘-1-카르복실레이트의 제조
DMF (15 mL) 중 N-[6-(4-아미노페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드 (1.0 g, 2.24 mmol) 용액에 빙냉하에서 피페리딘-1,4-디카르복실산 모노-t-부틸 에스테르 (510 mg, 2.22 mmol), 트리에틸아민 (0.94 mL, 6.74 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (350 mg, 2.29 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)-카르보디이미드 히드로클로라이드 (514 mg, 2.68 mmol)을 첨가했다. 이어서, 생성 용액을 빙냉하에서 1 시간 동안 교반하고, 실온에서 17 시간 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 물 및 에틸 아세테이트로 희석해, 그 결과 백색 분말을 침전시켰다. 백색 분말을 여과하고, 이어서 물로 세정하고 후속적으로 에틸 아세테이트로 세정해, 1.04 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.41(9H, s), 1.35-1.50(2H, m), 1.70-1.85(2H, m), 2.40-2.60(1H, m), 2.65-2.90(2H, m), 3.90-4.11(2H, m), 7.03(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.62(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.17(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46(1H, d, J = 2.6 Hz), 9.96(1H, s), 10.54(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2034 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2035
3,4-디클로로-N-(6-{4-[2-(2,4-디옥소티아졸리딘-5-일)-아세틸아미노]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.07(1H, dd, J = 16.5 Hz, 8.9 Hz), 3.24(1H, dd, J = 16.5 Hz, 4.0 Hz), 4.73(1H, dd, J = 9.0 Hz, 4.0 Hz), 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.08(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.58(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.21(1H, s), 10.53(1H, s), 12.00(1H, s).
실시예 2036
3,4-디클로로-N-(6-{4-[4-피페로닐피페라진-1-일메틸]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드의 제조
DMF (10 mL) 중 3,4-디클로로-N-[6-(4-피페라진-1-일메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 (300 mg, 0.66 mmol) 의 용액에 피페로닐산 (120 mg, 0.72 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)-카르보디이미드 히드로클로라이드 (140 mg, 0.73 mmol) 및 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (100 mg, 0.74 mmol) 를 빙냉하에서 첨가했다. 생성 반응 용액을 밤새 실온에서 교반했다. 잔류물에 포화 중탄산나트륨 용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트 층을 무수 황산 마그네슘 상에서 건조, 증발시켜 110 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.46(4H, brs), 3.53(2H, s), 3.60(4H, brs), 5.99(2H, s), 6.79(1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85-6.96(3H, m), 7.08(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.33(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.54(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.69-7.73(1H, m), 7.99(1H, d, J = 2.3 Hz), 8.16-8.21(1H, m), 8.27-8.30(2H, m).
하기 화합물을 실시예 2036 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2056
N-{6-[4-(4-클로로아세틸피페라지노)페녹시]-3-피리딜}-4-(트리플루오로메틸)벤즈아미드의 제조
DMF (20 mL) 중 N-[6-(4-피페라지노페녹시)-3-피리딜]-4-(트리플루오로메틸)벤즈아미드 (885 mg, 2.00 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.418 mL, 3.00 mmol) 및 클로로아세틸 클로라이드 (0.191 g, 2.40 mmol)을 첨가하고, 생성 반응 용액을 10 분 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액에 에틸 아세테이트를 첨가했다. 생성 용액을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시켜, 1.00 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 3.17(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.22(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.70(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.80(2H, t, J = 5.0 Hz), 6.95(1H, d, J = 9.0 Hz), 6.97(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.08(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.77(1H, brs), 7.78(2H, d, J = 8.0 Hz), 7.99(2H, d, J = 8.0 Hz), 8.20(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.26(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 실시예 2056 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2095
1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}-4-벤조일옥시피페리딘의 제조
디클로로메탄 (8 mL) 중 1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘 (200 mg, 0.44 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.091 mL, 0.65 mmol)과 함께, 벤조일 클로라이드 (74 mg, 0.53 mmol) 및 4-(디메틸아미노)피리딘 (3 mg, 0.025 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2.5 일 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 디클로로메탄 = 7 : 93)로 정제해, 80 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 188-190℃
실시예 2096
3,4-디클로로-N-(6-{4-[[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸](2,2,2-트리플루오로아세틸)아미노]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드의 제조
THF (5 mL) 중 3,4-디클로로-N-(6-{4-[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸아미노]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드 (0.152 g, 0.239 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.0500 mL, 0.359 mmol) 및 트리플루오로아세트산 무수물 (0.0410 mL, 0.287 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 6 시간 동안 교반했다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1) 로 정제해 고체를 수득했다. 상기 고체를 메탄올로부터 재결정화시켜 28.8 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 211-213℃
하기 화합물을 실시예 2096 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2097
N-[6-(4-아세틸[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드
1H NMR (CDCl3) δ 1.90(3H, s), 2.28(2H, brs), 2.38(2H, brs), 3.37(4H, brs), 3.49(2H, brs), 3.67(3H, s), 4.43(2H, s), 5.93(2H, s), 6.68-6.75(2H, m), 6.82(1H, s), 6.91-6.97(2H, m), 7.07-7.10(2H, m), 7.53(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.76(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.05(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.20(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.37(1H, d, J = 2.6 Hz), 9.26(1H, s).
실시예 2098
N-[6-(벤조일{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐}아미노)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 모노옥살레이트의 제조
THF (5 mL) 중 3,4-디클로로-N-(6-{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐아미노}-피리딘-3-일)벤즈아미드 (250 mg, 0.395 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.132 mL, 0.949 mmol) 및 벤조일 클로라이드 (0.0550 mL, 0.474 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 7 시간 동안 교반했다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1) 로 정제해 0.300 g 의 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태에 이소프로판올 (5 mL) 및 옥살산 디히드레이트 (100 mg, 0.793 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 가열 하에 용해시켰다. 용매를 증발시키고, 생성 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 80.0 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 분말
용융점: 140-143℃
하기 화합물을 실시예 2098 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2099
N-[6-(아세틸{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐}아미노)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드
용융점: 150-165℃
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.98(3H, s), 2.62-2.98(7H, m), 3.04(1H, t, J = 12.1 Hz), 3.26(2H, t, J = 14.7 Hz), 3.35-3.50(2H, m), 4.06(1H, d, J = 13.8 Hz), 4.13-4.26(2H, m), 4.44(1H, d, J = 13.8 Hz), 6.07(2H, s), 6.95-7.02(2H, m), 7.20-7.24(3H, m), 7.28(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.52(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.85(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.96(1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 8.23-8.26(2H, m), 8.77(1H, s), 10.77(1H, s), 11.10(1H, brs).
실시예 2100
6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}-N-(3,4-디클로로페닐)니코틴아미드의 제조
THF (35 mL) 중 6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}니코틴산 (1.23 g, 2.5 mmol)의 용액에 N,N'-카르보닐디이미다졸 (540 mg, 3.3 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 30 분 동안 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 3,4-디클로로아닐린 (4.07 g, 25 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 3 일 동안 실온에서 교반했다. 용매를 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제하고, 수득한 생성물을 디에틸 에테르로부터 재결정화시켜, 510 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.33(4H, brs), 2.59-2.65(2H, m), 2.91-2.97(2H, m), 3.40(4H, brs), 3.59(2H, s), 5.94(2H, s), 6.70-6.76(2H, m), 6.83(1H, s), 6.96-7.06(3H, m), 7.20-7.26(2H, m), 7.40(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.50-7.54(1H, m), 7.86(1H, d, J = 1.8 Hz), 8.18-8.22(1H, m), 8.44(1H, brs), 8.66(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 2100 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2106
(4-벤질피페라진-1-일){4-[5-(3,4-디클로로페닐술파닐)피리딘-2-일옥시]페닐}메타논의 제조
진한 황산 (0.38 mL) - 물 (1.1 mL) 중 [4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐](4-벤질피페라진-1-일)메타논 (0.73 g, 1.88 mmol)의 용액에, 빙냉하에서 물 (0.6 mL) 중 질산나트륨 용액(0.13 g, 1.88 mmol)을 적가했다. 반응 혼합물을 10 분 동안 교반했다. 상기 반응 혼합물을 빙냉하에서 2 N 수산화나트륨 수용액 (2 mL) 중 3,4-디클로로벤젠티올 (0.24 mL, 1.88 mmol)의 용액에 첨가했다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고 디클로로메탄으로 추출했다. 디클로로메탄 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피(디클로로메탄 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제해, 0.1 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 2.49(4H, brs), 3.56(2H, s), 3.56(2H, brs), 3.78(2H, brs), 6.99(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.20(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.25-7.39(5H, m), 7.46(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 7.47(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.56(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.76(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.86(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.5 Hz), 8.50(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 실시예 2106 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2107
2-({4-[5-(3,4-디클로로페닐술파닐)피리딘-2-일옥시]-3-메톡시페닐}에틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논
1H NMR (CDCl3)δ 1.20(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.43(4H, t, J = 4.9 Hz), 3.43(2H, s), 3.35-3.50(2H, m), 3.49-3.60(2H, m), 3.60-3.70(2H, m), 3.73(3H, s), 4.05(2H, s), 5.95(2H, s), 6.22(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 6.35(1H, d, J = 2.7 Hz), 6.70-6.76(2H, m), 6.85(1H, s), 6.90(1H, d, J = 9.0 Hz), 6.98(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.46(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 7.55(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.75(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.78(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.5 Hz).
실시예 2108
1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)우레아의 제조
톨루엔 (20 mL) 중 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (600 mg, 1.3 mmol)의 용액에 에틸디이소프로필아민 (0.454 mL, 2.6 mmol) 및 3,4-디클로로페닐이소시아네이트 (270 mg, 1.4 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 환류하에서 1 일 동안 교반했다. 반응 용액을 감압하에서 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 19)로 정제하고, 이어서 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜, 280 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.37-2.39(4H, m), 2.61-2.67(2H, m), 2.89-2.94(2H, m), 3.41-3.47(4H, m), 3.61-3.65(2H, m), 5.94(2H, s), 6.69-6.83(4H, m), 6.95(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.10-7.26(4H, m), 7.49(1H, d, J = 2.3 Hz), 7.93-7.96(2H, m), 8.15(1H, s), 8.21(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2108 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2113
4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}아미드 히드로클로라이드의 제조
DMF (4 mL) 중 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}- 카르밤산 페닐 에스테르 (320 mg, 0.65 mmol)의 용액에 1-피페로닐피페라진 (285 mg, 1.29 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 17 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 25 : 1)로 정제했다. 수득한 잔류물을 에탄올-에틸 아세테이트의 혼합 용매 중에 용해시켰다. 생성 용액에 에틸 아세테이트 중 4 N 염화 수소 용액을 첨가해 pH 를 3 으로 하였다. 이어서, 침전된 백색 분말을 여과 제거하고 에탄올로 세정해, 330 mg 의 표제 화합물을 수득했다. 외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.85-3.09(2H, m), 3.20-3.50(4H, m), 4.12-4.38(4H, m), 6.08(2H, s), 7.02(2H, d, J = 9.0 Hz), 6.93-7.12(3H, m), 7.28(1H, d, J = 1.5 Hz), 7.49(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.83(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.19(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.50(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.92(1H, s), 10.63(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2113 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2114
4-벤질피페라진-1-카르복실산 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}아미드 히드로클로라이드
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.90-3.20(2H, m), 3.22-3.45(4H, m), 4.27(2H, d, J = 13.6 Hz), 4.35(2H, d, J = 5.0 Hz), 7.02(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.03(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.41-7.52(3H, m), 7.48(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.55-7.69(2H, m), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.19(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.90(1H, s), 10.62(1H, s).
실시예 2115
2-[(4-{5-[(3,4-디클로로벤질리덴)-아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)메틸아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
메탄올 (400 mL) 중에 2-{[(4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (7.80 g, 16.4 mmol)을 용해시키고, 생성 용액에 3,4-디클로로벤즈알데히드 (2.87 g, 16.4 mmol)를 첨가했다. 상기 용액을 16시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켜, 10.4 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 갈색 오일
1H NMR (CDCl3)δ 2.44(4H, brs), 3.03(3H, s), 3.44-3.45(2H, m), 3.50(2H, brs), 3.63(2H, brs), 4.09(2H, s), 5.94(2H, s), 6.65-6.77(4H, m), 6.84-6.88(2H, m), 7.03(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.54(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.58(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 7.70(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.00(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.10(1H, d, J = 2.8 Hz), 8.39(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2115 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2133
3-({4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
3-[(4-{5-(3,4-디클로로벤질리덴)피리딘-2-일옥시}페닐)메틸아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (3.88 g, 6.0 mmol)을 메탄올 (150 mL) 및 THF (50 mL)의 혼합 용매 중에 용해시켰다. 생성 용액에 나트륨 보로히드라이드 (1.13 g, 30.0 mmol)를 천천히 첨가하고 생성 용액을 실온에서 13 시간 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 생성 잔류물을 에틸 아세테이트로 희석시키고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1)로 정제해, 3.60 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.32-2.39(4H, m), 2.52-2.57(2H, m), 2.91(3H, s), 3.36-3.40(4H, m), 3.59-3.63(2H, m), 3.66-3.71(2H, m), 3.97(1H, brs), 4.27(2H, d, J = 5.0 Hz), 5.94(2H, s), 6.65-6.76(5H, m), 6.83(1H, d, J = 1.0 Hz), 6.94(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.0 Hz), 6.97(2H, d, J = 9.2 Hz), 7.18(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 7.40(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.45(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.56(1H, d, J = 2.5 Hz). MS 647(M+).
하기 화합물을 실시예 2133 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2150
1-(4-벤질피페라진-1-일)-3-(4-{5-(피페로닐아미노)피리딘-2-일옥시}페닐)프로판-1-온의 제조
3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (1.04 g, 2.5 mmol)을 메탄올 (25 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 피페로날 (0.39 g, 2.63 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 밤새 환류시켰다. 생성 반응 용액을 얼음으로 냉각시키고, 이어서 나트륨 보로히드라이드 (0.28 g, 7.50 mmol)를 첨가했다. 생성 용액을 2 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 희석하고, 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제해, 0.80 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.28(4H, brs), 2.57(2H, t, J = 7.9 Hz), 2.76(2H, t, J = 7.9 Hz), 3.40-3.46(6H, m), 4.15(2H, d, J = 6.1 Hz), 5.97(2H, s), 6.21(1H, t, J = 6.1 Hz), 6.76(1H, d, J = 8.6 Hz), 6.82-6.86(4H, m), 6.92(1H, brs), 7.08(1H, dd, J = 8.7 Hz, 3.0 Hz), 7.17(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.24-7.32(5H, m), 7.51(1H, d, J = 3.0 Hz).
하기 화합물을 실시예 2150 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2171
1-(4-벤질피페라진-1-일)-3-[4-(5-디벤질아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로판-1-온의 제조
3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-벤질피페라진-1-일)프로판-1-온 (1.0 g, 2.4 mmol) 를 DMF (30 mL) 중에 용해시켰다. 상기 용액에 탄산칼륨 (0.73 g, 5.28 mmol), 요오드화나트륨 (0.76 g, 5.04 mmol) 및 벤질 브로마이드 (0.60 mL, 5.04 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 밤새 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 클로로포름으로 희석시키고, 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제해, 0.67 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.27(4H, brs), 2.50-2.59(2H, m), 2.73-2.78(2H, m), 3.37-3.45(6H, m), 4.68(4H, s), 6.78(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.85(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.17(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.20-7.36(16H, m), 7.54(1H, d, J = 3.1 Hz).
실시예 2172
2-[(4-{5-[(3,4-디클로로벤질)-에틸아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)메틸아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
2-({4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (1.59 g, 2.5 mmol) 을 디클로로에탄 (80 mL) 중에 용해시켰다. 상기 용액에 아세토알데히드 (1.40 mL, 25.0 mmol) 및 나트륨 트리아세틸옥시 보로히드라이드 (1.59 mL, 7.5 mmol)를 빙냉하에서 첨가했다. 생성 용액에 아세트산 (0.43 mL, 7.5 mmol)을 적가하고, 상기 용액을 실온에서 16 시간 동안 교반했다. 생성 반응 용액을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 50 : 1)로 정제했다. 수득한 고체를 에탄올로부터 재결정화시켜, 0.65 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.17(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.41(4H, brs), 2.99(3H, s), 3.36-3.44(4H, m), 3.48(2H, brs), 3.62(2H, brs), 4.04(2H, s), 4.35(2H, s), 5.95(2H, s), 6.67-6.77(5H, m), 6.85(1H, brs), 6.97(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.01(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.1 Hz), 7.07(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 7.32(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.37(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.63(1H, d, J = 3.0 Hz). MS 661(M+).
하기 화합물을 실시예 2172 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2235
(4-{5-[벤질-(3,4-디클로로벤질)-아미노]피리딘-2-일옥시}(4-벤질피페라진-1-일)메타논의 제조
(4-벤질피페라진-1-일){4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메타논 (1.09 g, 2.0 mmol)을 DMF (30 mL) 중에 용해시켰다. 상기 용액에 탄산칼륨 (0.28 g, 2.0 mmol) 및 벤질 브로마이드 (0.24 mL, 2.0 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반한 후, 후속적으로 1 시간 동안 70℃에서 교반했다. 생성 용액에 추가로 탄산칼륨 (0.03 g, 0.2 mmol) 및 벤질 브로마이드 (0.02 mL, 0.2 mmol)를 첨가하고, 상기 용액을 3 시간 동안 70℃ 에서 교반했다. 생성 용액에 다시 탄산칼륨 (0.03 g, 0.2 mmol), 벤질 브로마이드 (0.02 mL, 0.2 mmol) 및 요오드화나트륨 (0.15 g, 1.0 mmol)를 첨가하고, 상기 용액을 70℃ 에서 밤새 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 클로로포름으로 희석하고, 상기 용액을 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제해, 0.64 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 2.37(4H, brs), 3.28-3.50(6H, m), 4.71(2H, s), 4.73(2H, s), 6.90(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.99(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.22-7.37(14H, m), 7.52(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.58-7.61(2H, m).
하기 화합물을 실시예 2235 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2270
1-(t-부톡시카르보닐)-4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘의 제조
THF (100 mL) 중 N-[4-(4-보로모페녹시)페닐]-3,4-디클로로벤즈아미드 (4.94 g, 11.3 mmol)의 용액을 -85 ℃ 에서 교반하고, 여기에 2.46 M n-부틸 리튬 헥산 (9.65 mL, 23.7 mmol)의 용액을 10 분에 걸쳐 적가했다. 20 분 동안 동일한 온도에서 교반하면서, 결정을 침전시켰다. 상기 반응 용액에 THF (20 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-피페리돈 (2.48 g, 12.4 mmol)의 용액을 첨가했다. 용액 온도를 3 시간에 걸쳐 -40℃ 로 올리고, 이어서 수성 포화 염화암모늄을 상기 용액에 첨가했다. 생성 반응 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 이어서, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 2 : 3 내지 1 : 1)로 정제해, 2.30 g 의 백색 분말을 수득했다. 상기 결정을 에테르로 세정하여, 1.80 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 208-209℃
실시예 2271
1-(t-부톡시카르보닐)-4-(4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-1,2,5,6-테트라히드로피리딘의 제조
톨루엔 (32 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘 (1.56 g, 2.80 mmol)의 용액에 p-톨루엔설폰산 히드레이트 (53 mg, 0.28 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 18 시간 동안 환류했다. 생성 반응 용액을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1)로 정제해, 1.35 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 173-174℃
실시예 2272
1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘의 제조
에탄올 (110 mL) 중 1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-(메톡시메톡시)피페리딘 (5.50 g, 11.0 mmol)의 용액에 2 M 염산 (55 mL, 110 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 8 시간 동안 60℃ 에서 교반했다. 생성 반응 용액에 탄산칼륨 (16 g)을 실온에서 첨가하고, 용매를 감압하에서 증발시켰다. 물 (200 mL)을 잔류물에 첨가했다. 침전된 결정을 여과 수집해, 5.0 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담갈색 분말
용융점: 178-180℃
실시예 2273
1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)피페라진 모노히드로클로라이드의 제조
디클로로메탄 (24 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-프로피오닐)피페라진 (2.40 g, 4.01 mmol)의 용액에 빙냉하에서 트리플루오로아세트산 (12 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 동일한 온도에서 3 시간 동안 교반했다. 용매를 증발시켰다. 잔류물에 아세톤 (5 mL)을 첨가하고, 이어서 중탄산나트륨 포화용액을 첨가해 용액을 염기성으로 만들었다. 형성된 고체를 여과 수집하여 건조해, 2.00 g 의 백색 분말 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태 (0.500 g)를 가열에 의해 에탄올 (10 mL) 및 5 M 염산 (0.4 mL) 중에 용해시켰다. 이어서 용매를 증발시키고, 수득한 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 0.388 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 127-130℃
하기 화합물을 실시예 2273 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2291
[3-(4-{5-[3-(3,4-디클로로페닐)우레이도]피리딘-2-일옥시}-3-메틸페닐)-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]아세트산
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.87-2.15(5H, m), 3.25-3.47(2H, m), 3.58-3.75(2H, m), 3.95(2H, s), 6.82-7.00(2H, m), 7.01-7.12(1H, m), 7.17(1H, d, J = 2.4 Hz), 7.29-7.32(1H, m), 7.50(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.85(1H, d, J = 2.4 Hz), 7.89-8.02(1H, m), 8.11(1H, d, J = 2.7 Hz), 8.95(1H, s), 9.17(1H, s), 12.50(1H, s).
하기 화합물을 참고예 922 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2299
1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)-4-피페로닐피페라진 모노히드로클로라이드의 제조
아세토니트릴 (12 mL) 중 디이소프로필-에틸아민 (0.262 mL, 1.50 mmol) 및 1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오닐)-피페라진 (0.500 g, 1.00 mmol)으로 이루어진 현탁액에 피페로닐 클로라이드 (0.188 g, 1.10 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 1.5 시간 동안 가열 환류시켰다. 물을 상기 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)로 정제해, 0.486 g 의 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태를 가열에 의해 에탄올 (10 mL) 및 5 M 염산 (0.3 mL) 중에 용해시켰다. 이어서, 용매를 증발시키고, 수득한 고체를 90% 에탄올 (17.5 mL)로부터 재결정화시켜, 0.322 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 221-224℃
동일한 절차를 이용해 수득한 조 표제 생성물 (9.95 g, 14.9 mmol) 을 80% 에탄올 (350 mL)로부터 재결정화시켜, 9.37 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 232-234℃
하기 화합물을 실시예 2299 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2357
3,4-디클로로-N-[6-(4-{4-[(3,4-디플루오로벤질)메틸아미노]피페리딘-1-카르보닐}페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-{6-[4-(4-메틸아미노-피페리딘-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 디히드로클로라이드 (114 mg, 0.2 mmol) 를 DMF (3 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 4-보로모메틸-1,2-디플루오로벤젠 (31 ㎕, 0.24 mmol) 및 탄산칼륨 (111 mg, 0.8 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 4 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 희석하고, 물 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 상기 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 50 : 1)로 정제해, 60 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.64(4H, brs), 1.84(2H, brs), 2.20(3H, s), 2.65-2.90(3H, m), 3.54(2H, s), 6.95-7.08(4H, m), 7.13(2H, d, J = 9.3 Hz), 7.41(2H, d, J = 9.2 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.75(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.03(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.15(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.30(1H, brs), 8.31(1H, d, J = 2.2 Hz).
하기 화합물을 실시예 2357 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2444
1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-{4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]-페닐아미노}에타논의 제조
4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐아민 (4.50 g, 12.5 mmol)을 DMF (150 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 탄산칼륨 (2.60 g, 18.8 mmol) 및 요오드화나트륨 (1.87 g, 12.5 mmol)를 첨가하고, 이어서 상기 용액에 2-클로로-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (4.21 g, 12.5 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 질소 대기 하에서 11 시간 동안 80℃ 에서 교반시켰다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제해, 5.2 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.44-2.46(4H, m), 3.43-3.47(4H, m), 3.69(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.86(2H, s), 4.91(1H, brs), 5.02(2H, s), 5.94(2H, s), 6.64(2H, d, J = 8.9 Hz), 6.74-6.75(2H, m), 6.85-6.89(2H, m), 6.96-7.03(4H, m), 7.55(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.72(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz).
실시예 2445
N-{6-[4-(4-티아졸-2-일메틸피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드의 제조
1,2-디클로로에탄 (20 mL) 중 N-{6-[4-(피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드 디히드로클로라이드 (400 mg, 0.74 mmol)의 현탁액에 2-포르밀티아졸 (125 mg, 1.10 mmol) 및 트리에틸아민 (0.21 mL, 1.50 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 실온에서 30 분 동안 교반한 후, 나트륨 트리아세틸옥시 보로히드라이드 (312 mg, 1.47 mmol) 를 빙냉하에서 첨가했다. 반응 혼합물을 동일한 온도에서 30 분 동안 교반하고, 실온에서 1 시간 동안 교반했다. 아세트산 (0.085 mL, 1.48 mmol) 을 반응 혼합물에 첨가하고, 실온에서 17 시간 동안 교반했다. 반응 혼합물을 얼음물에 붓고, 클로로포름으로 추출했다. 클로로포름 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 상당 부분의 용매를 증발시켰다. 이어서, 백색 침전물을 여과 제거하고 에틸 아세테이트로 세정해, 293 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.55(4H, brs), 3.55(4H, brs), 3.90(2H, s), 7.15(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.16(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.45(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.68(1H, d, J = 3.2 Hz), 7.73(1H, d, J = 3.2 Hz), 7.94(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.17(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.26(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.3 Hz), 8.55(1H, d, J = 2.3 Hz), 10.68(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2445 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2482
N-(6-{4-[4-((1S, 2S)-2-히드록시-시클로헥실)피페라진-1-카르보닐]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
메탄올 중 N-{6-[4-(피페라진-1-카르보닐)페녹시]-피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드 (430 mg, 0.91 mmol)의 용액에 1,2-에폭시시클로헥산 (180 mg, 1.83 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 환류하에서 1 일 동안 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 35 : 1)로 정제하고, 이어서 에틸 아세테이트를 첨가했다. 침전된 백색 분말을 여과 제거하고 에틸 아세테이트로 세정해, 284 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.03-1.38(4H, m), 1.42-1.88(3H, m), 2.06-2.35(2H, m), 2.31(2H, brs), 2.74(2H, brs), 3.30-4.00(6H, m), 7.00(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.15(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.43(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.77(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.02(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.21(1H, brs), 8.22(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 8.33(1H, d, J = 2.7 Hz).
실시예 2483
3,4-디클로로-N-[6-({4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐}메틸아미노)-피리딘-3-일]벤즈아미드 디옥살레이트의 제조
메탄올 (3 mL) 중 3,4-디클로로-N-(6-{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐아미노}-피리딘-3-일)벤즈아미드 (250 mg, 0.395 mmol)의 용액에 아세트산 (0.500 mL) 및 37% 수성 포름알데히드 (0.640 mL, 7.89 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 30 분 동안 50℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.160 g, 2.55 mmol)를 실온에서 첨가하고, 8 시간 동안 50℃ 에서 교반했다. 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1)로 정제해, 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태를 가열에 의해 이소프로판올 (5 mL) 및 옥살산 디히드레이트 (70 mg, 0.555 mmol) 중에 용해시켰다. 용매를 증발시키고, 생성 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 0.193 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
용융점: 127-129℃
하기 화합물을 실시예 2483 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2484
2-(에틸{4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논
1H NMR (CDCl3) δ 1.18(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.41-2.44(4H, m), 3.39-3.47(4H, m), 3.51(2H, brs), 3.64(2H, brs), 4.03(2H, s), 5.03(2H, s), 5.94(2H, s), 6.68(2H, d, J = 9.1 Hz), 6.73-6.74(2H, m), 6.85-6.88(2H, m), 6.99(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.01(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.55(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.71(1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.3 Hz).
실시예 2485
3,4-디클로로-N-[6-(4-티오모르폴린-4-일메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 모노히드로클로라이드의 제조
3,4-디클로로-N-[6-(4-클로로메틸페녹시)-피리딘-3-일]벤즈아미드 (0.61 g, 1.5 mmol)를 DMF (5 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 트리에틸아민 (0.84 mL, 6.0 mmol) 및 티오모르폴린 (0.15 mL, 1.5 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 밤새 40℃ 에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 상기 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제했다. 수득한 고체 (0.56 g, 1.18 mmol) 를 에틸 아세테이트 (50 mL) 중에 용해시키고, 에틸 아세테이트 (0.295 mL, 1.18 mmol) 중 4 N 염화 수소의 용액을 첨가하고, 상기 용액을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 침전된 결정을 흡입 여과로 수집하고, 메탄올로부터 재결정화시켜, 0.38 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.80-2.83(2H, m), 3.09-3.17(4H, m), 3.61(2H, m), 4.35(2H, s), 7.14(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.21(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.60(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.85(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.96(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.23(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.24(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.53(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.45(1H, brs), 10.62(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 2485 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2486
3,4-디클로로-N-(4-{4-[1-(3-이미다졸-1-일프로필)-1,2,3,6-테트라히드로피리딘-4-일]페녹시}페닐)-벤즈아미드
용융점: 169-171℃
실시예 2551
1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)-4-[2-(모르폴리노)아세틸]-피페라진의 제조
아세토니트릴 (11 mL) 중 디이소프로필에틸아민 (0.234 mL, 1.34 mmol) 및 1-클로로아세틸-4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오닐)-피페라진 (0.515 g, 0.896 mmol)의 용액에 모르폴린 (0.117 mL, 1.34 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 환류시켰다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 클로로포름으로 추출했다. 클로로포름 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 수득한 고체를 함수 (water-containing) 아세톤으로부터 재결정화해, 0.441 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 187-190℃
하기 화합물을 실시예 2551 에서와 같이 동일한 방식으로 제조했다.
하기 화합물을 참고예 860 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2582
1-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질}피페라진-4-카르복실산 에틸 에스테르
외관: 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.0 Hz), 1.76(2H, m), 1.77(2H, m), 2.03(2H, t, J = 11.5 Hz), 2.28(1H, m), 2.87(2H, brd, J = 11.5 Hz), 3.48(2H, s), 4.13(2H, q, J = 7.0 Hz), 6.94(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.33(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.70(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0Hz), 7.88(1H, brs), 7.97(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.17(1H, dd, J = 9.0 Hz, 3.0 Hz), 8.24(1H, d, J = 3.0 Hz).
실시예 2583
3,4-디클로로-N-{6-[4-(2,4-디옥소-3,4-디히드로-2H-피리미딘-1-일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
우라실 (200 mg, 1.8 mmol)에 헥사메틸디실라잔 (5 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 5.5 시간 동안 150℃ 에서 교반했다. 불용물을 여과 제거하고, 여과액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 아세토니트릴 (10 mL)-THF (5 mL)의 용액 중에 용해시키고, 상기 용액에 3,4-디클로로-N-[6-(4-클로로메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 (500 mg, 1.2 mmol) 및 주석 테트라클로라이드 (3 방울)를 첨가했다. 생성 용액을 2.5 시간 동안 환류했다. 상기 반응 용액에 메탄올 (1 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 30 분 동안 실온에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 99 → 3 : 97)로 정제해, 20 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 4.88(2H, s), 5.61(1H, dd, J = 7.9 Hz, 2.3 Hz), 7.07-7.13(3H, m), 7.35(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.79-7.85(2H, m), 7.95(1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.47(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.55(1H, s), 11.33(1H, s). MS: m/z 482(M+).
실시예 2584
N-{6-[4-(4-벤질-2-옥소피페라진-1-일메틸)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드의 제조
DMF (10 mL) 중 4-벤질피페라진-2-온 (0.56 g, 2.95 mmol)의 용액에, 60% 수소화나트륨 (0.12 g, 2.95 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 실온에서 30 분 동안 교반했다. 2-(4-클로로메틸페녹시)-5-니트로피리딘 (0.78 g, 2.95 mmol)을 반응 혼합물에 첨가하고, 혼합물을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 혼합물에 염수 (50 mL)를 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다 (50 mL). 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압하에서 증발시켰다. 잔류 오일을 에틸 아세테이트 (5 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 철 분말 (0.33 g, 5.89 mmol)을 첨가했다. 상기 용액을 2 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 중탄산나트륨 포화용액 (50 mL)을 잔류물에 첨가했다. 수득한 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출했다 (50 mL). 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류 오일을 THF (10 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 트리에틸아민 (0.21 mL, 1.47 mmol) 및 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.31 mL, 1.47 mmol)를 첨가하고, 상기 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반했다. 중탄산나트륨 포화용액 (50 mL)을 상기 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다 (50 mL). 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 40 : 1)로 정제했다. 수득한 오일을 에틸 아세테이트 (5 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 에틸 아세테이트 (1.5 mL, 6 mmol) 중 4 N 염화 수소의 용액을 첨가했다. 형성된 백색 분말을 흡입 여과로 수집해, 0.045 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.54(4H, m), 3.86(2H, brs), 4.42(2H, s), 4.59(2H, brs), 7.06-7.12(3H, m), 7.34(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.48-7.51(3H, m), 7.57-7.60(2H, m), 7.84(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.97(1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 8.18-8.24(2H, m), 8.49(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.61(1H, s).
하기 화합물을 참고예 656 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2585
2-({4-[5-(3,4-디클로로페닐아미노)피리딘-2-일옥시]-2-트리플루오로메틸페닐}에틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논
1H NMR (CDCl3) δ 1.02(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.30-2.45(4H, m), 3.22(2H, q, J = 7.1 Hz), 3.40(2H, s), 3.45-3.65(4H, m), 3.85(2H, s), 5.57(1H, brs), 5.94(2H, s), 6.65-6.80(3H, m), 6.85(1H, s), 6.95(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.00(1H, d, J = 2.7 Hz), 7.29-7.31(2H, m), 7.39(1H, d, J = 2.7 Hz), 7.53(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.9 Hz), 7.64(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.99(1H, d, J = 2.7 Hz).
하기 화합물을 참고예 658 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2596
3-(4-{5-[4-(3,4-디클로로페닐)피페라진-1-일]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
톨루엔 (16 mL) 중 1-(3,4-디클로로페닐)-피페라진 (206 mg, 0.89 mmol) 및 3-[4-(5-보로모피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (359 mg, 0.69 mmol)의 용액에 Pd2(dba)3 (25 mg, 0.027 mmol)과 함께, Xantphos (32 mg, 0.055 mmol) 및 나트륨 t-부톡시드 (99 mg, 1.03 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 아르곤 대기 하에서 3 시간 동안 환류시켰다. 용액을 방치하여 냉각시키고, 물을 상기 반응 혼합물에 첨가했다. 생성 용액을 디클로로메탄으로 추출하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)로 정제해, 236 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.31-2.40(4H, m), 2.58-2.64(2H, m), 2.92-2.98(2H, m), 3.23-3.38(8H, m), 3.41(4H, brs), 3.63(2H, t, J = 4.9 Hz), 5.94(2H, s), 6.72-6.73(2H, m), 6.78(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 6.84-6.90(2H, m), 6.99-7.06(3H, m), 7.19-7.24(3H, m), 7.32(1H, dd, J = 9.4 Hz, 3.1 Hz), 7.88(1H, d, J = 3.0 Hz).
트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐의 약자는 Pd2(dba)3 이다. 이하, 동일하다. 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸잔텐의 약자는 Xantphos 이다. 이하 동일하다.
하기 화합물을 실시예 2596 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
하기 화합물을 참고예 659와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2608
1-(3,4-디메톡시벤질)-3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페닐에티닐)피리딘-2-일옥시]페닐}테트라히드로피리미딘-2-온의 제조
질소 대기 하에 N-메틸피롤리돈 (10 mL) 중 1-[4-(5-브로모피리딘-2-일옥시)-3-메틸페닐]-3-(3,4-디메톡시벤질)테트라히드로-피리미딘-2-온 (0.3 g, 0.59 mmol)의 용액에 비스(트리페닐포스핀)팔라듐 디클로라이드 (20 mg, 0.03 mmol), 요오드화구리 (11 mg, 0.059 mmol), 4-에티닐-α,α,α-트리플루오로톨루엔 (0.14 mL, 0.88 mmol) 및 트리에틸아민 (0.14 mL, 10 mmol)을 첨가하였다. 생성되는 혼합물을 110 내지 120℃에서 3시간 동안 교반하였다. 방치하여 냉각시킨 후, 반응 용액에 물을 첨가하였다. 생성되는 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하였다. 그 후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 4 : 1 → 1 : 1)에 의해 정제하여 표제 화합물 0.28 g을 제공하였다.
외관: 담갈색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.97-2.15(2H, m), 2.16(3H, s), 3.31(2H, t, J = 6.0 Hz), 3.72(2H, t, J = 6.0 Hz), 3.88(3H, s), 3.89(3H, s), 4.57(2H, s), 6.72-6.95(5H, m), 7.04(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.17(1H, dd, J = 2.6 Hz, 8.6 Hz), 7.55-7.68(4H, m), 7.78(1H, dd, J = 2.3 Hz, 8.6 Hz), 8.36(1H, d, J = 2.3 Hz).
실시예 2609
3-(3-메틸-4-{5-[2-옥소-2-(4-트리플루오로메틸페닐)에틸]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-피페로닐테트라히드로피리미딘-2-온 히드로브로마이드의 제조
질소 대기 하에 톨루엔 (10 mL) 중 3-[4-(5-브로모피리딘-2-일옥시)-3-메틸페닐]-1-피페로닐테트라히드로피리미딘-2-온 (0.11 g, 0.22 mmol)의 용액에 Pd2(dba)3 (10 mg, 0.01 mmol) 및 Xantphos (15 mg, 0.03 mmol)를 첨가하였다. 생성되는 용액을 5분 동안 교반한 후, 4'-(트리플루오로메틸)아세토페논 (63 mg, 0.33 mmol) 및 칼륨 비스(트리메틸실릴)아미드 (66 mg, 0.33 mmol)를 반응 용액에 첨가하였다. 생성되는 용액을 70 ∼ 80℃에서 30분 동안 교반하고, 방치하여 냉각시켰다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1 → 1 :1)에 의해 정제하여 유리 형태 50 mg을 제공하였다. 상기 유리 형태에 동량의 브롬산을 첨가하여, 이에 따라 표제 화합물 50 mg을 제공하였다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.85-2.10(2H, m), 2.06(3H, s), 3.14-3.47(2H, m), 3.50-3.76(2H, m), 4.40(2H, s), 4.49(2H, s), 4.70-5.40(1H, m), 5.98(2H, s), 6.70-6.80(1H, m), 6.81-6.90(2H, m), 6.90-7.04(2H, m), 7.12(1H, d, J = 2.2 Hz, 8.6 Hz), 7.18-7.26(1H, m), 7.72(1H, dd, J = 2.2 Hz, 8.5 Hz), 7.93(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.95-8.02(1H, m), 8.24(2H, d, J = 8.2 Hz).
하기 화합물을 실시예 2609에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
하기 화합물을 참고예 111과 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2623
2-[4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)피페라진-1-일]아세트산 히드로클로라이드의 제조
THF (5 mL) 및 에탄올 (5 mL) 중 에틸 2-[4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오닐)피페라진-1-일] 아세테이트 (0.493 g, 0.843 mmol)의 용액에 5 M 수산화나트륨 수용액 (0.253 mL, 1.27 mmol) 및 물 (1 mL)을 첨가하고, 생성되는 용액을 1시간 동안 환류하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하고, 잔류물을 50%의 에탄올 수용액에 용해하였다. 생성되는 용액을 5 M 염산 (0.253 mL, 1.27 mmol)에 첨가하고, 수득된 고체를 여과에 의해 수집하였다. 상기 고체에 에탄올 (10 mL) 및 5 M 염산 (0.3 mL)을 가열에 의해 용해하였다. 용매를 증발시키고, 수득된 고체를 에탄올 - 디에틸 에테르로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 0.381 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 215-218℃
하기 화합물을 실시예 2623와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2664
(4-{5-[(4-트리플루오로메틸페닐아미노)-메틸]-피리딘-2-일옥시}페닐)(4-피페로닐피페라진-1-일)메타논의 제조
메탄설폰산 6-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일 에스테르 (0.433 g, 0.824 mmol) 및 4-트리플루오로메틸 페닐아민 (0.310 mL, 2.47 mmol)을 함께 혼합하고, 생성되는 혼합물을 100℃에서 2시간 동안 교반하였다. 형성된 황색 물질을 중탄산나트륨 포화용액, 에틸 아세테이트 및 THF (각각 20 ml)과 함께 교반하였다. 유기층을 수집하고, 염수로 세정하며, 무수 황산나트륨 상에서 건조하고, 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 50 : 1)에 의해 정제하여 표제 화합물 0.236 g을 제공하였다.
외관: 담황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.44(4H, brs), 3.45(2H, s), 3.57(2H, brs), 3.75(2H, brs), 4.30-4.35(1H, m), 4.36(2H, s), 5.95(2H, s), 6.63(2H, d, J = 8.7 Hz), 6.74-6.77(2H, m), 6.85(1H, s), 6.93(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.15(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.39-7.47(4H, m), 7.71(1H, dd, J = 2.5 Hz, 8.4 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.3 Hz).
하기 화합물을 실시예 2664와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2668
2-(메틸-{4-[5-(5-트리플루오로메틸-피리딘-2-일옥시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
2-{[4-(5-히드록시메틸피리딘-2-일옥시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (0.98 g, 2.0 mmol)을 DMF (30 mL)에 용해하였다. 생성되는 용액을 빙냉 하에 60%의 수소화나트륨 (60%, 88 mg, 2.2 mmol)에 첨가하고, 상기 용액을 0℃에서 30분 동안 교반하였다. 반응 용액에 2-클로로-5-(트리플루오로메틸)피리딘 (0.36 g, 2.0 mol)을 첨가하고, 상기 용액을 질소 대기 하에 3시간 동안 60℃에서 교반하였다. 생성되는 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 상기 용액을 물 및 염수로 세정하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 5)에 의해 정제하여, 이에 따라 표제 화합물 0.68 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.41-2.44(4H, m), 3.02(3H, s), 3.43(2H, s), 3.48(2H, brs), 3.63(2H, brs), 4.08(2H, s), 5.37(2H, s), 5.94(2H, s), 6.68-6.77(4H, m), 6.81-6.84(3H, m), 7.00(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.72-7.79(2H, m), 8.27(1H, d, J = 2.3 Hz), 8.44(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 2668과 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2672
3,4-디클로로-N-{6-[4-(3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
물 (0.2 mL) 중 히드록실아민 히드로클로라이드 (500 mg, 1.0 mmol) 용액에 THF (5 mL) 중 탄산나트륨 (1.05 g, 9.91 mmol) 및 2-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질리덴}말론산 디메틸 에스테르 (500 mg, 1.0 mmol)의 용액을 첨가하였다. 생성되는 용액에 이어서 메탄올 (5 mL)을 첨가하고 60℃에서 8시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)에 의해 정제하였다. 생성되는 백색 침전물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 여과하며, 여과액을 디에틸 에테르로 세정하여, 이에 따라 표제 화합물 105 mg을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.12(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.14(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.63(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.15(1H, s), 8.22(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.51(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.57(1H, s), 11.16(1H, s).
실시예 2673
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-메틸-[1,2,4]옥사디아졸-3-일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 모노히드로클로라이드의 제조
3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-아세톡시카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 (340 mg, 0.788 mmol)에 아세트산 (4 mL)을 첨가하고, 생성되는 용액을 10분 동안 환류 하에 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 생성되는 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 40 : 1)에 의해 정제하고 수득된 잔류물을 에틸 아세테이트 (5 mL)에 용해하였다. 상기 용액에 에틸 아세테이트 중 4 N 염화수소 용액을 화합물이 더이상 침전되지 않을 때까지 첨가하였다. 수득된 백색 분말을 여과하고, 디에틸 에테르로 세정하여, 이에 따라 표제 화합물 154 mg을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.55(3H, s), 4.05(2H, s), 7.07(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.07(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.33(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.83(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.96(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.21(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.6 Hz), 8.24(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.48(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.62(1H, s).
실시예 2674
1-(3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-피리딜메틸]페닐}프로피오닐)-4-피페로닐피페라진 모노히드로클로라이드의 제조
THF (5 mL) 및 에탄올 (5 mL) 중 에틸 3-(4-{5-[비스(3,4-디클로로벤조일)아미노]-2-피리딜메틸}페닐)프로피오네이트 (177 mg, 0.281 mmol)의 용액에 5 M 수산화나트륨 수용액 (0.0929 mL, 0.463 mmol) 및 물 (1 mL)을 첨가하고, 생성되는 용액을 1시간 동안 환류하였다. 상기 반응 용액에 5 M 염산 (0.12 mL)을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 DMF (3 mL)에 용해한 후, 생성되는 용액에 1-피페로닐피페라진 (102 mg, 0.463 mmol), 트리에틸아민 (0.137 mL, 0.983 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.0703 mL, 463 mmol)를 첨가하고, 실온에서 1.5시간 동안 교반하였다. 생성되는 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 70 : 1 → 40 : 1 → 20 : 1)에 의해 정제하여, 이에 따라 44.1 mg의 유리 형태를 제공하였다. 상기 유리 형태를 가열에 의해 에탄올 (5 mL) 및 5 M 염산 (0.03 mL)에 용해하였다. 그 후, 용매를 증발시키고, 수득된 고체를 함수 이소프로판올로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 19.6 mg을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 181-183℃
실시예 2675
N-(6-{4-[4-(5-옥소-4,5-디히드로-[1,3,4]옥사디아졸-2-일메틸)피페라진-1-카르보닐]-페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 모노옥살레이트의 제조
THF (7 mL) 중 N-{6-[4-(4-히드라지노카르보닐-메틸피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 트리히드로클로라이드 (300 mg, 0.46 mmol)의 현탁액에 트리에틸아민 (0.29 mL, 2.08 mmol)을 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 10분 동안 교반하였다. 용액에 N,N'-카르보닐디이미다졸 (97 mg, 0.60 mmol)을 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 1시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 무수 환산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 그 후, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 15 : 1)에 의해 정제하였다. 수득된 잔류물을 에탄올에 용해하고, 생성되는 용액에 옥살산을 첨가하였다. 에탄올을 감압 하에 증발시키고, 그 후 고형화된 백색 물질을 여과시키며, 디에틸 에테르로 세정하여 표제 화합물 140 mg을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.31-2.69(4H, m), 3.53(2H, s), 3.53(4H, brs), 7.16(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.17(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.45(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.94(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.17(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.26(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 8.55(1H, d, J = 2.7 Hz), 10.67(1H, s), 12.27(1H, s).
실시예 2676
4-(4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}-4-히드록시부티릴)모르폴린의 제조
THF (20 mL) 및 메탄올 (5 mL) 중 4-(4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}-4-옥소부티릴)모르폴린 (1.00 g, 1.83 mmol)의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.0694 g, 1.83 mmol)를 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 1시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 물 및 포화 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)에 의해 정제하였다. 수득된 고체를 함수 이소프로판올로부터 재결정화하여, 표제 화합물 0.850 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 108-111℃
하기 화합물을 실시예 2676과 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2685
{6-[4-(4-피페로닐피페라진-1-일메틸)페녹시]피리딘-3-일메틸}-(4-트리플루오로메틸페닐)아민의 제조
THF (10 mL) 중 리튬 알루미늄 히드라이드 (0.106 g, 2.80 mmol)의 현탁액에 THF (10 mL) 중 6-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)-페녹시]-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드 (0.423 g, 0.700 mmol)의 용액을 빙냉 하에 교반하면서 첨가하였다. 일단 전량을 적가하면, 용액의 온도를 서서히 승온하고, 환류 하에 2시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 빙수 (50 mL)를 용액에 첨가하고, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산나그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1)에 의해 정제하여 표제 화합물 0.125 g을 제공하였다.
외관: 연황색 오일
MS 576(M+)
하기 화합물을 실시예 2685와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2686
N-[6-(2-플루오로-4-{메틸[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드
1H NMR (CDCl3) δ 2.50-2.55(10H, m), 2.92(3H, s), 3.41-3.45(4H, m), 5.93(2H, s), 6.39-6.49(2H, m), 6.73-6.74(2H, m), 6.84-6.89(2H, m), 6.99(1H, t, J = 9.1 Hz), 7.42-7.70(4H, m), 7.81(1H, brs).
실시예 2687
3-(3-메틸-4-{5-[2-(4-트리플루오로메틸-페닐)에틸]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-피페로닐-테트라히드로피리미딘-2-온 히드로브로마이드의 제조
질소 대기 하에 에틸 아세테이트 (15 mL) 중 3-(3-메틸-4-{5-[(E)-2-(4-트리플루오로메틸페닐)비닐]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-피페로닐테트라히드로피리미딘-2-온 (0.16 g, 0.27 mmol)의 용액에 5% 백금-탄소 (0.05 g)를 첨가한 후, 생성되는 용액을 수소 대기 하에 4.5시간 동안 실온에서 교반하였다. 생성되는 반응 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 여과액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물을 실리카겔 크로마트그래피 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 4 - 1 : 2)에 의해 정제하고, 생성물에 히드로브로마이드를 첨가하여, 이에 따라 표제 화합물 50 mg을 제공하였다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.85-2.09(5H, m), 2.77-3.02(4H, m), 3.15-3.33(2H, m), 3.55-3.70(2H, m), 3.75-4.15(1H, m), 4.40(2H, s), 5.99(2H, s), 6.76(1H, dd, J = 1.5 Hz, 7.8 Hz), 6.80-6.98(4H, m), 7.10(1H, dd, J = 2.6 Hz, 8.5 Hz), 7.19(1H, d, J = 2.6 Hz), 7.44(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.62(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.71(1H, dd, J = 2.4 Hz, 8.4 Hz), 7.91(1H, d, J = 2.4 Hz).
하기 화합물을 참고예 673과 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2692
1-[3-(4-{1-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-피리딜]-1-히드록시이미노}메틸페닐)프로피오닐]-4-피페로닐피페라진의 제조
피리딘 (7 mL) 중 1-(3-{4-[5-(3,4-디클로로-벤조일아미노)피리딘-2-카르보닐]페닐}프로피오닐)-4-피페로닐피페라진 (0.330 g, 0.511 mmol)의 용액에 히드록실아민 히드로클로라이드 (53.3 mg, 0.767 mmol)를 첨가하고, 생성되는 용액을 0.5시간 동안 환류하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하고, 잔류물에 염수를 첨가하였다. 상기 용액을 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 15 : 1)에 의해 정제하여, 이에 따라 표제 화합물 0.225 g을 옥심의 syn 형태 및 anti 형태의 혼합물로서 수득하였다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.21-2.39(4H, m), 2.49-2.60(2H, m), 2.78-2.90(2H, m), 3.29-3.44(4H, m), 3.55(2H, s), 5.90(2H, s), 6.62-6.73(2H, m), 6.80(1H, s), 7.07(1H, d, J = 7.7 Hz), 7.12(1H, d, J = 7.7 Hz), 7.15-7.30(2.5H, m), 7.39(0.5H, d, J = 8.4 Hz), 7.42(0.5H, d, J = 8.4 Hz), 7.45-7.51(0.5H, m), 7.62-7.74(1H, m), 7.94(0.5H, d, J = 2.0 Hz), 7.99(0.5H, d, J = 2.0 Hz), 8.09-8.28(1H, m), 8.62(0.5H, s), 8.85(0.5H, s), 9.40(0.5H, brs), 9.62(0.5H, brs), 10.21(0.5H, brs), 13.85(0.5H, brs).
실시예 2693
4-(2-옥소-3-{4-[5-(4-트리플루오로메틸-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오닐)-피페라진-1-카르복실산 t-부틸 에스테르의 제조
디클로로메탄 (4 mL) 중 4-(2-히드록시-3-{4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오닐)피페라진-1-카르복실산 t-부틸 에스테르 (0.58 g, 0.94 mmol)의 용액에 Dess-Martin 시약 (0.8 g, 1.89 mmol)을 첨가한 후, 생성되는 용액을 질소 기류 하에 4시간 동안 실온에서 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 1 N 수산화나트륨 수용액 (50 mL)을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 50 : 1)에 의해 정제하여, 이에 따라 표제 화합물 0.31 g을 제공하였다.
외관: 황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.41(9H, s), 2.99-3.22(4H, m), 3.25-3.41(2H, m), 3.42-3.60(2H, m), 4.04(2H, s), 6.97(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.10(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.27(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.73(2H, d, J = 8.0 Hz), 7.99(2H, d, J = 8.0 Hz), 8.13(1H, d, J = 2.8 Hz), 8.30(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.45(1H, brs).
실시예 2694
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드 (37.4 g)를 에탄올 (700 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 34.34 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 175-176℃
실시예 2695
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드 (8.15 g)를 에탄올 (60 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 7.78 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 163-166℃
실시예 2696
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (5.1 g, 7.7 mmol)를 아세톤 (15 mL)으로부터 제결정화하여 표제 화합물 3.7 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 128-131℃
실시예 2697
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드의 제조
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)-페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (78.86 g)를 에탄올 (530 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 96.66 g을 제공하였다.
외관: 백색 침정
융점: 177.6-179.2℃
실시예 2698
N-(6-{4-[4-(2-옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴놀린-6-일메틸)피페라진-1-카르보닐]페녹시}-피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
DMF (150 mL) 중 4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤조산 (4.30 g, 10.7 mmol)의 용액에 1-(2-옥소-1,2,3,4-테트라히드로퀴놀린-6-일메틸)-피페라진 (2.6 g, 10.7 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (1.64 g, 10.7 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필) 카르보디이미드 히드로클로라이드 (2.46 g, 12.8 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 1시간 동안 및 실온에서 17시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화하여 표제 화합물 5.24 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 250.5-252.5℃
실시예 2699
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페리딘-1-카르보닐)피페라진-1-카르보닐]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
DMF (88 mL) 중 1-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]벤조일}피페리딘-4-카르복실산 (4.5 g, 8.8 mmol)의 용액에, 1-벤질피페라진 (1.83 mL, 10.5 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (1.61 g, 10.5 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (2.02 g, 10.5 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 밤새 교반하였다. 상기 반응 용액에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 생성되는 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 이소프로필 알콜 (700 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 3.2 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 223-225℃
실시예 2700
N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
질소 대기 하에 에틸 아세테이트 (30 mL) 중 1-(4-벤질피페라진-1-일)-2-{메틸[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-아미노}에타논 (2.85 g, 6.0 mmol)의 현탁액에 5% 백금-탄소 (0.30 g)를 첨가하고, 생성되는 용액을 수소 대기 하에 40℃에서 3시간 동안 교반하였다. 백금-탄소를 셀라이트로 분리하고, 여과액을 농축하였다. 잔류물을 THF (30 mL)에 용해하고, 상기 용액에 트리에틸아민 (1.26 mL, 9.1 mmol)을 빙냉 하에 첨가하였다. 그 후, 생성되는 용액에 4-(트리플루오로메틸)벤조일 클로라이드 (1.16 mL, 7.8 mmol)를 적가하였다. 상기 반응 용액을 밤새 교반한 후, 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정한 후, 무수 황산나트륨 상에서 건조하였다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1)에 의해 정제하였다. 그 후, 생성물을 디이소프로필 에테르-아세톤으로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.37 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 112-113℃
실시예 2701
(4-벤질피페라진-1-일)(4-{5-[메틸(4-트리플루오로메틸벤질)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)-메타논의 제조
메탄올 (150 mL) 중 (4-벤질피페라진-1-일){4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-메타논 (5.40 g, 9.88 mmol)의 용액에 37% 포름알데히드 수용액 (2.8 mL), 나트륨 시아노보로히드라이드 (1.86 g, 29.6 mmol) 및 아세트산 (1.7 mL)을 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 용액을 감압 하에 증발시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 상기 용액을 중탄산나트륨 포화용액으로 중성화하며, 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물로 세정한 후, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하였다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 60 : 1)에 의해 정제하였다. 그 후, 생성물에 에틸 아세테이트 중 4 M 염화수소 용액을 생성되는 용액의 pH가 1이 될 때까지 첨가하였다. 침전물을 여과에 의해 수집하고 에탄올 (80 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 2.5 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 180-183.5℃
실시예 2702
4-피페로닐피페라진-1-카르복실 4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질아미드 히드로클로라이드의 제조
THF (50 mL) 중 4-피페로닐피페라진-1-카르복실 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤질아미드 (2.48 g, 5.4 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.9 mL, 6.5 mmol) 및3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (1.13 g, 5.4 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 10분 동안 교반하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 물 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 25 : 1)에 의해 정제하여 백색 분말 2.97 g을 제공하였다. 상기 백색 분말을 에탄올 (45 mL)에 용해하고, 생성되는 용액에 에틸 아세테이트 중 4 M 염화수소 용액을 용액의 pH가 1이 될 때까지 첨가하였다. 침전물을 여과에 의해 수집하고, 83% 에탄올 (36 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 2.72 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 243.5-246.5℃
실시예 2703
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드의 제조
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드 (1.35 g)를 에탄올 (20 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.23 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 156-158℃
실시예 2704
N-(6-{4-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
N-(6-{4-[4-(4-피페로닐피페리딘-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드 (1.95 g)를 에탄올 (35 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.70 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 130-133℃
실시예 2705
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (0.86 g, 1.30 mmol)를 아세톤 (3 mL), 디에틸 에테르 (4 mL) 및 n-헥산 (1 mL)의 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 0.72 g을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 154-155℃
실시예 2706
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드의 제조
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페리딘-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드 (1.55 g)를 에탄올 (60 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.41 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 199-201℃
실시예 2707
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
DMF (40 mL) 중 (1-{4-[5-(3,4-디클로로벤젠설포닐아미노)피리딘-2-일옥시]-3-메틸페닐}피페리딘-4-일)아세트산 (1.70 g, 3.1 mmol) 및 1-벤질피페라진 (0.71 g, 4.0 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (1.08 mL, 7.8 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.76 g, 4.3 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 1시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1)에 의해 정제한 후, 생성물을 에탄올로부터 재결정화하여 이에 따라 표제 화합물 1.61 g을 제공하였다.
외관: 백색 침정
융점: 151-155℃
실시예 2708
N-[6-(4-{[2-(4-벤조티아졸-6-일메틸피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드의 제조
DMF (15 mL) 중 ({4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)아세트산 (1.02 g, 2.3 mmol) 및 1-(벤조티아졸-6-일메틸)-피페라진 (0.58 g, 2.5 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.95 mL, 6.9 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.447 mL, 2.7 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 30분 동안 및 실온에서 45분 동안 교반하였다. 물을 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)에 의해 정제하여 백색 분말 1.28 g을 수득하였다. 상기 백색 분말을 에탄올 (15 mL)에 용해하고, 생성되는 용액에 에틸 아세테이트 중 4 M 염화수소 용액을 생성되는 용액의 pH가 1이 될 때까지 첨가하였다. 침전물을 여과에 의해 수집하고 85% 에탄올 (30 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 1.06 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 202-223℃
실시예 2709
3,4-디클로로-N-{6-[4-({2-[4-(2,3-디히드로벤조[1,4]디옥신-6-일메틸)피페라진-1-일]-2-옥소에틸}메틸아미노)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
DMF (55 mL) 중 ({4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)아세트산 (2.50 g, 5.6 mmol)의 용액에 1-(2,3-디히드로벤조[1,4]디옥신-6-일메틸)피페라진 (1.7 g, 7.3 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.86 g, 5.6 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (1.29 g, 6.7 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉하에 30분 동안 및 실온에서 17시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 에탄올 (30 mL)에 용해하였다. 생성되는 용액에 말레산 (0.32 g, 2.7 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 정치시켰다. 침전물을 여과에 의해 수집하여, 이에 따라 표제 화합물 1.45 g을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 188-190℃
실시예 2710
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드 (0.79 g)를 에탄올 (15 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 0.67 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 185-189℃
실시예 2711
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-피롤-1-일벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-피롤-1-일벤즈아미드 (2.49 g)를 아세톤 (20 mL) 및 디에틸 에테르 (30 mL)로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 2.26 g을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 163.1-166.5℃
실시예 2712
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드 (8.18 g)를 에틸 아세테이트 (70 mL) 및 n-헥산 (20 mL)으로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 6.93 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 177.8-180.1℃
실시예 2713
6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일]-2-메틸페녹시}피리딘-3-설포닐-(4-트리플루오로메틸페닐)아미드의 제조
6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일]-2-메틸페녹시}피리딘-3-설포닐-(4-트리플루오로메틸페닐)아미드 (1.50 g)를 에탄올 (20 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.40 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 156-160℃
실시예 2714
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (2.1 g, 3.2 mmol)를 가열하여 아세톤 (5 mL)에 용해하고, 그 후 생성되는 용액에 디에틸 에테르 (10 mL)를 첨가함으로써 재결정화하여 표제 화합물 2.0 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 113-116℃
실시예 2715
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드 (5 g)를 에틸 아세테이트-n-헥산로부터 재결정화하여 표제 화합물 4.73 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 169-170℃
실시예 2716
N-(6-{4-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-카르보닐]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
DMF (160 mL) 중 1-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]벤조일}피페리딘-4-카르복실산 (7.96 g, 15.5 mmol)의 용액에 1-피페로닐피페라진 (3.75 g, 17.6 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (2.85 g, 18.6 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (3.56 g, 18.6 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 물 및 에틸 아세테이트를 첨가하고, 생성되는 용액을 격렬하게 교반하였다. 생성되는 침전물을 여과에 의해 수집하고, 디클로로메탄-메탄올 혼합 용매로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 7.36 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 236-238℃
실시예 2717
N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]-피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
DMF (10 mL) 중 [1-(4-{메틸[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일]아미노}페닐)피페리딘-4-일]아세트산 (0.80 g, 1.6 mmol)의 용액에 1-피페로닐피페라진 (0.41 g, 1.9 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.24 g, 1.6 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (0.39 g, 2.0 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 3시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1)에 의해 정제하였다. 그 후, 생성물을 95% 에탄올-디클로로메탄으로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.05 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 210-212℃
제형예 1
실시예 319에서 수득한 N-[6-(4-{4-[2-(피페로닐-피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)-피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 100 g, Avicel (상표명, Asahi Kasei Corporation사 제품) 40 g, 옥수수 전분 30 g 및
2 g을 혼합하고 함께 연마하였다. 그 후, 생성되는 혼합물을 막자를 사용하여 R 10 mm의 당의정으로 만들었다. 수득된 정제를 TC-5 (상표명, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.사 제품, 히드록시프로필메틸 셀룰로오스) 10 g, 폴리에틸렌 글리콜 6000 3 g, 피마자유 40 g 및 적량의 에탄올을 함유하는 필름 코팅제로 코팅하여, 이에 따라 필름코팅정을 제공하였다.
약리학적 시험 1
암세포에 대한 항암 효과 (생체 외)
인간 간암 세포 (HuH-7), 인간 폐암 세포 (EBC-1), 인간 결장암 세포 (HCT116), 인간 전립선암 세포 (22Rv1), 인간 췌장암 세포 (MIA PaCa-2), 인간 위암 세포 (MKN45), 인간 유방암 세포 (ZR-75-1) 에 대한 시험 화합물의 항증식성 효과를 Skehan P 등 (J. Natl. Cancer Inst. 1990 Jul 4; 82(13): 1107-12) 에 따른 술포로다민 B 방법으로 조사하였다. 예로서 HuH-7 세포를 취하여 설명할 것이다.
96-웰 마이크로플레이트 중 10 % 소 태아 혈청을 함유한 DMEM 배지 (Dulbeco's modified Eagle Medium) 에 HuH-7 세포를 시딩하고, 5 %의 이산화탄소 기체 (CO2) 의 존재 하에 37 ℃에서 24 시간 동안 배양하였다. 이후, 시험 화합물을 상기 웰에 첨가하고, 상기 세포를 추가로 5 일 동안 배양하였다. 배양 후, 트리클로로 아세트산을 상기 웰에 첨가하여, 10 %의 최종 농도를 수득하였다. 마이크로플레이트를 4 ℃에서 1 시간 동안 방치하여, 상기 웰에 세포를 고정시켰다. 상기 마이크로플레이트를 물로 세척하여, 배지 및 트리클로로아세트산을 제거하고, 공기 중에 건조시켰다. 공기-건조 후, 상기 마이크로플레이트를 술포로다민 B 로 착색할 때까지 4 ℃에서 저장하였다.
각각의 웰에, 0.4 % 술포로다민 B 를 함유한 1 % 아세트산 수용액을 첨가하고, 상기 웰을 실온에서 20 내지 30 분 동안 방치하였다. 상청액을 제거한 후, 각 웰을 1 % 아세트산 수용액으로 세척하고, 10 mM 트리스 (트리스 히드록시아미노메탄) 수용액을 각 웰에 첨가하고, 교반하였다. 이러한 방식으로, 세포의 염료를 용리시켰다. 이어서, OD (광학 밀도) 를 492 nm의 측정 파장 및 690 nm의 참고 파장에서 측정하여, 이와 같이 측정된 OD 의 차 (A) 를 수득하였다. 또한, 대조 웰 (세포를 함유하지 않음) 의 OD 를 492 nm의 측정 파장 및 690 nm의 참고 파장에서 측정하여, OD 의 차 (B) 를 수득하였다. 차 (A-B) 를 각 웰의 세포 증식 활성으로서 간주하였다.
인간 만성 골수성 백혈병 세포 (KU812) 에 대한 시험 화합물의 항증식성 효과를 Singh AK 등 (Cancer Lett. 1996 Oct 1; 107(1): 109-15) 에 기재된 방법에 따라 MTT 분석으로 결정하였다. 더욱 구체적으로 설명하기 위해, 96-웰 마이크로플레이트 중 10 % 소 태아 혈청을 함유한 RPMI 1640 배지에 KU812 세포를 시딩하고, 5 % 이산화탄소 기체 (CO2) 의 존재 하에 37 ℃에서 24 시간 동안 배양하였다. 이후, 시험 화합물을 상기 웰에 첨가하고, 세포를 추가로 5 일 동안 배양하였다. 배양 후, 10 ㎕의 5 mg/mL MTT (3-(4,5-디메틸)-2,5-디페닐테트라졸륨 브로마이드) 를 웰에 첨가하였다. 세포를 4 시간 동안 배양한 후, 10% SDS (나트륨 도데실 술페이트) 를 함유한 100 ㎕의 0.01N HCl 을 상기 웰에 첨가하고, 이를 추가로 밤새 배양하였다. 이어서, OD 를 570 nm의 측정 파장 및 690 nm의 참고 파장에서 측정하여, OD 의 차 (A) 를 수득하였다. 또한, 대조 웰 (세포를 함유하지 않음) 의 OD 를 570 nm의 측정 파장 및 690 nm의 참고 파장에서 측정하여, OD 의 차 (B) 를 수득하였다. 차 (A-B) 를 각 웰의 세포 증식 활성으로서 간주하였다.
시험 화합물을 첨가한 시간에서의 세포 증식 활성 (T) 를 대조군 (시험 화합물을 함유하지 않음) 의 세포 증식 활성 (C) 와 비교하고, 시험 화합물의 세포 증식 억제 활성 (T/C) 을 계산적으로 수득하였다. 이에 기초하여, 세포 중 50 %의 증식이 억제되는 시험 화합물의 농도 (IC50), 즉 T/C=0.5 를 제공하는 시험 화합물의 농도를 수득하였다.
약리학적 시험 2
간암 세포
HuH
-7 에 대한 항암 효과 (생체 외)
인간 간암 세포 HuH-7 를 SCID 마우스 (6 마리의 암컷 마우스의 군) 에 이식하였다. 본 발명에 따른 시험 화합물의 항종양 효과를 검사하였다. 더욱 구체적으로 설명하기 위해, 암 세포를 미리 배양하고, 2.5 × 107 세포/mL 농도의 암 세포를 함유한 세포 현탁 용액을 제조하였다. 이어서, 0.2 mL의 세포 현탁 용액을 각 마우스의 우측 겨드랑이 영역에 주입하여, 암세포를 이식하였다. 이러한 방식으로, 암-유지 마우스를 제조하였다. 종양이 5 mm 이상의 직경으로 성장할 때, 마우스를 종양 부피에 기재한 군으로 분리하였다. 군 분리 후 다음날로부터, 시험 화합물을 함유한 5 % 검 아라비아 현탁 용액을 연속 9 일 동안 1 일에 1 회 경구적으로 투여하였다. 대조군에, 5 % 검 아라비아 현탁 용액을 투여하였다. 투여 완료 후 다음날, 종양의 부피를 측정하였다. 투여 완료 후 다음날 측정된 것에 대한 군 분리 시점에서의 종양 부피의 비율을 산출하여, 각 군의 상대적 종양 부피를 수득하였다. 이어서, 대조군 대 시험군 (시험 화합물을 투여함) 의 상대적 종양 부피의 비율 (T/C %) 를 산출하고, 효과의 지수로 사용하였다.
상대적 종양 부피 = 투여 완료의 다음날 측정된 종양 부피/군 분리의 시점에서 측정된 종양 부피
(T/C %)= (시험 화합물 투여 군의 상대적 종양 부피의 평균치)/(대조군의 상대적 종양 부피의 평균치) × 100
약리학적 시험 3
인간 신장암 세포 (Caki-2) 에 대한 시험 화합물의 항증식성 효과를 Skehan P 등의 술포로다민 B 방법에 따른 약리학적 시험 1 과 동일한 방식으로 검사하였다.
또한, 인간 급성 골수성 백혈병 세포 (KG-1), 인간 버키트 (Burkitt) 림프종 세포 (Daudi), 인간 림프종 세포 (U937) 및 인간 다발성 골수종 세포 (IM-9) 에 대한 시험 화합물의 항증식성 효과를 Singh AK 등 (Cancer Lett. 1996 Oct 1; 107(1): 109-15) 에 따른 약리학적 시험 1 과 동일한 방식으로 MTT 분석으로 검사하였다.
인간 신장암 세포 (Caki-2), 인간 급성 골수성 백혈병 세포 (KG-1) 및 인간 다발성 골수종 세포 (IM-9) 의 IC50 값을 표 434 에 나타낸다.
인간 버키트 림프종 세포 (Daudi) 및 인간 림프종 세포 (U937) 에 대한 각 시험 화합물의 세포 증식 활성을 대조군 (시험 화합물을 함유하지 않음) 의 세포 증식 활성과 비교하여, 각 시험 화합물의 세포 증식 억제 활성 (T/C) 를 수득하였다. 결과를 표 435 에 나타낸다.
Claims (61)
- 하기 화학식 (1) 로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 1]
{식 중 X1 은 질소 원자 또는 기 -CH= 를 나타내고,R1 은 기 -Z-R6 을 나타내고,Z 는 기 -N(R8)-B-, 기 -B-N(R8)-, 기 -B0-O-, 기[화학식 2]
기 -CO-, 기-CH(OH)-, 기 -N(R9a)-CO-N-(R9b)-, 기 -N=CH-, 기 -N(R10a)-SO2-(B22a)e-, 저급 알케닐렌기, 기 -NHCO-B1-, 기 -NHCO-B2-(W)u-, 기 -B0-O-B19a-, 기[화학식 3]
, 기[화학식 4]
, 기 -SO2-N(R10b)-, 기 -S-, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기, 기 -N(R8d)- 또는 기 -CO-NH-B18a- 를 나타내고,R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,B 는 기 -CO- 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,e 는 0 또는 1 을 나타내고,B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,k 는 2 또는 3 을 나타내고,c 는 0 또는 1 을 나타내고,d' 는 0 또는 1 을 나타내고,R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,W 는 산소 원자, 기 -NH-, 또는 황 원자를 나타내고,u 는 0 또는 1 을 나타내고,R6 은 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 가질 수 있는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (이것은 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있으며, 이는 옥소기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬술포닐기; 페닐 고리 상에 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기, 피롤릴기, 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택됨), 아다만틸기, 나프틸기 (이것은 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 나프탈렌 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 벤조일기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기로서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 할로겐 원자 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기 또는 기[화학식 5]
를 나타내고,R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기, 아미노술포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고 (이것은 헤테로시클릭 고리 상에 옥소기를 가질 수 있음),m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고 (m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있음),R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,Y 는 기 -O-, 기 -N(R5)-, 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 를 나타내고,R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,A 는 기[화학식 6]
또는 기[화학식 7]
를 나타내고,p 는 1 또는 2 를 나타내고,R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 기 -CONR11R12, 또는 시아노기를 나타내고,여기서 R11 및 R12 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알 킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, R11 및 R12 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 기[화학식 8]
, 기[화학식 9]
또는 기 -(T)1-N(R14)R15 를 나타내고,R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,T 는 저급 알킬렌기, 기 -N(R17)-B3-CO-, 기 -B19-N(R18)-CO-, 기 -B4-CO-, 기 -Q-B5-CO-, 기 -B6-N(R19)-B7-CO-, 기 -CO-B8-, 기 -CH(OH)-B9-, 기 -CO-B10-CO-, 기 -CH(OH)-B11-CO-, 기 -CO-, 기 -SO2-, 또는 기 -B23a-CO-CO- 를 나타내고,여기서 R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기, 또는 저급 알 킬술포닐기를 나타내고,B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B4 는 저급 알케닐렌기 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,Q 는 산소 원자 또는 기 -S(O)n- (여기서 n 은 상기 기재된 바와 동일함) 을 나타내고,B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,B7 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B8 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B10 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B11 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,l 은 0 또는 1 을 나타내고,R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,R15 는 (2) 히드록실기 치환 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알 킬기, (11) 카르복시 치환 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들) 로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기[화학식 10]
, (26) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기[화학식 11]
(27) 기 -CO-B20-N(R36)R37, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에 치환기(들) 로서 페닐 저급 알킬기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R36 및 R37 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가 치환기(들) 로서 존재할 수 있고,R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는 기[화학식 12]
를 형성할 수 있고,여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 (28) 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할 로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는, 페닐 치환 저급 알킬기, (29) 카르바모일기, (30) 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 피리딘 고리 상에 치환기(들) 로서 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤족사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에, 옥소기 및 하기 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기[화학식 13]
(식 중 Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄),(41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저 급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) 기 -(B12CO)t-N(R20)R21, (50) 기 -(CO)o-B13-N(R22)R23, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미 딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐술포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) 기 -(O-B15)s-CO-N(R26)R27, (85) 기 -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30, (86) 기 -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33, (87) 벤족사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며,B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,t 는 0 또는 1 을 나타내고,R20 및 R21 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할 로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고; R20 및 R21 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),o 는 0 또는 1 을 나타내고,B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R22 및 R23 은 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, R22 및 R23 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저 급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,s 는 0 또는 1 을 나타내고,R26 및 R27 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 존재할 수 있음),R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R29 및 R30 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고,R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R32 및 R33 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨)},단, 상기 언급한 화합물 또는 그의 염은 하기 필요조건 (i) 내지 (v) 를 만족시킨다:(i) X1 이 기 -CH= 를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타내고;(ii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 기 (24) 를 나타내고;(iii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 (28) 의 기가 치환기(들) 로서 존재하고;(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내는 경우, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 기 (5), (7), (19), 또는 (20) 이 아니며;(v) R6 이 시클로알킬 고리 상에, 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R4 는 기 -(T)l-N(R14)R15 (여기서 T 및 l 은 상기 기재된 바와 동일하고, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; R14 및 R15 는 하기 기를 형성함[화학식 14]) 를 나타냄.
- 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-1) 내지 (1-7) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 15]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-8) 내지 (1-14) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 16]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-15) 내지 (1-21) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 17]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-22) 내지 (1-28) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 18]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-29) 내지 (1-35) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 19]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-36) 내지 (1-42) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 20]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-43) 내지 (1-49) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 21]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-50) 내지 (1-56) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 22]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-57) 내지 (1-63) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 23]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-64) 내지 (1-70) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 24]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타내고, Z1 은 저급 알케닐렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-71) 내지 (1-77) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 25]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-78) 내지 (1-84) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 26]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-85) 내지 (1-91) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 27]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-92) 내지 (1-98) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 28]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-99) 내지 (1-105) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 29]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-106) 내지 (1-112) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 30]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-113) 내지 (1-119) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 31]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-120) 내지 (1-126) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 32]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타내고, Z2 는 저급 알키닐렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-127) 내지 (1-133) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 33]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄). - 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 (1-134) 내지 (1-140) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제:[화학식 34]
(식 중 Y3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,Z3 은 저급 알킬렌기 또는 기 -N(R8d)- 를 나타냄). - 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 기 -O- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 기 -N(R5)- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, A 가 하기 기인 항종양제:[화학식 35].
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, A 가 하기 기인 항종양제:[화학식 36].
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 하기 기[화학식 37]
또는 하기 기[화학식 38]
를 나타내는 항종양제. - 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 0 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -N(R17)-B3-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B19-N(R18)-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B4-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -Q-B5-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B6-N(R19)-B7- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CO-B8- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CH(OH)-B9- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CO-B10-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CH(OH)-B11-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -SO2- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 기 -B23a-CO-CO- 인 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 이고, l 이 1 이고, T 가 저급 알킬렌기인 항종양제.
- 제 1 항에 있어서, 화학식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하며, Y 가 기 -O- 또는 기 -N(R5)- 이고, A 가 기[화학식 39]
이고,R4 가 기 -(T)l-N(R14)R15 인 항종양제. - 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 기 -N(R17)-B3-CO- 인 항종양제.
- 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 기 -B4-CO- 인 항종양제.
- 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 기 -CO- 인 항종양제.
- 제 43 항에 있어서, l 이 0 인 항종양제.
- 제 1 항에 있어서, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}- 2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠술폰아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페라진-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸 벤즈아미드, N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-({4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페닐}메틸아미노)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, 1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)-1-에틸우레아, N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸로벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드, N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질루피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-{6-[(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-(6-{4-[(2-{4-[4-(4-플루오로벤조일)페닐]피페라진-1-일}-2-옥소에틸)메틸아미노]-2-메톡시페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메 틸벤즈아미드, 2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-N-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소아세타미드, N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-2-플루오로-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 및 4-(3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소헥사히드로피리미딘-1-일)벤조산 에틸 에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 또는 그의 염을 활성 성분으로 포함하는 항종양제.
- 제 1 항 내지 제 48 항 중 어느 한 항에 있어서, 항종양제의 표적이 악성 종양인 항종양제.
- 제 49 항에 있어서, 악성 종양이 고형 종양인 항종양제.
- 제 49 항에 있어서, 악성 종양이 혈액암인 항종양제.
- 제 49 항에 있어서, 악성 종양이 림프종, 백혈병, 또는 골수종인 항종양제.
- 하기 화학식 (1) 로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 투여하는 것을 포함하는 종양의 치료 또는 예방 방법:[화학식 40]
{식 중 X1 은 질소 원자 또는 기 -CH= 를 나타내고,R1 은 기 -Z-R6 을 나타내고,Z 는 기 -N(R8)-B-, 기 -B-N(R8)-, 기 -B0-O-, 기[화학식 41]
기 -CO-, 기-CH(OH)-, 기 -N(R9a)-CO-N-(R9b)-, 기 -N=CH-, 기 -N(R10a)-SO2-(B22a)e-, 저급 알케닐렌기, 기 -NHCO-B1-, 기 -NHCO-B2-(W)u-, 기 -BO-O-B19a-, 기[화학식 42]
, 기[화학식 43]
, 기 -SO2-N(R10b)-, 기 -S-, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기, 기 -N(R8d)- 또는 기 -CO-NH-B18a-를 나타내고,R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,B 는 기 -CO- 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,e 는 0 또는 1 을 나타내고,B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,k 는 2 또는 3 을 나타내고,c 는 0 또는 1 을 나타내고,d' 는 0 또는 1 을 나타내고,R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,W 는 산소 원자, 기 -NH-, 또는 황 원자를 나타내고,u 는 0 또는 1 을 나타내고,R6 은 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 갖는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (이것은 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있으며, 이는 옥소기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬술포닐기; 페닐 고리 상에 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기, 피롤릴기, 벤조일 기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택됨), 아다만틸기, 나프틸기 (이것은 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 나프탈렌 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 벤조일기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기로서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 할로겐 원자 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기 또는 기[화학식 44]
를 나타내고,R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기, 아미노술포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고 (이것은 헤테로시클릭 고리 상에 옥소기를 가질 수 있음),m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고 (m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있음),R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,Y 는 기 -O-, 기 -N(R5)-, 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 를 나타내고,R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,A 는 기[화학식 45]
또는 기[화학식 46]
를 나타내고,p 는 1 또는 2 를 나타내고,R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 기 -CONR11R12, 또는 시아노기를 나타내고,여기서 R11 및 R12 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, R11 및 R12 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리 아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 기[화학식 47]
, 기[화학식 48]
또는 기 -(T)1-N(R14)R15 를 나타내고,R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저 급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,T 는 저급 알킬렌기, 기 -N(R17)-B3-CO-, 기 -B19-N(R18)-CO-, 기 -B4-CO-, 기 -Q-B5-CO-, 기 -B6-N(R19)-B7-CO-, 기 -CO-B8-, 기 -CH(OH)-B9-, 기 -CO-B10-CO-, 기 -CH(OH)-B11-CO-, 기 -CO-, 기 -SO2-, 또는 기 -B23a-CO-CO- 를 나타내고,여기서 R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬술포닐기를 나타내고,B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B4 는 저급 알케닐렌기 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,Q 는 산소 원자 또는 기 -S(O)n- (여기서 n 은 상기 기재된 바와 동일함) 을 나타내고,B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,B7 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B8 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B10 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B11 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,l 은 0 또는 1 을 나타내고,R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,R15 는 (2) 히드록실기 치환 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알킬기, (11) 카르복시 치환 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들) 로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알 킬기, (15) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기[화학식 49]
, (26) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기[화학식 50]
(27) 기 -CO-B20-N(R36)R37, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에 치환기(들) 로서 페닐 저급 알킬기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R36 및 R37 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질 소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가 치환기(들) 로서 존재할 수 있고,R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는 기[화학식 51]
를 형성할 수 있고,여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 (28) 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는, 페닐 치환 저급 알킬기, (29) 카르바모일기, (30) 히드록실기 및 치환기로서 히드록 실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 피리딘 고리 상에 치환기(들) 로서 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤족사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에, 옥소기 및 하기 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기[화학식 52]
(식 중 Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄),(41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) 기 -(B12CO)t-N(R20)R21, (50) 기 -(CO)o-B13-N(R22)R23, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐술포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카 르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) 기 -(O-B15)s-CO-N(R26)R27, (85) 기 -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30, (86) 기 -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33, (87) 벤족사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며,B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,t 는 0 또는 1 을 나타내고,R20 및 R21 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬 기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고; R20 및 R21 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),o 는 0 또는 1 을 나타내고,B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R22 및 R23 은 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, R22 및 R23 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,s 는 0 또는 1 을 나타내고,R26 및 R27 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여 기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 존재할 수 있음),R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R29 및 R30 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고,R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R32 및 R33 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선 택됨)},단, 상기 언급한 화합물 또는 그의 염은 하기 필요조건 (i) 내지 (v) 를 만족시킨다:(i) X1 이 기 -CH= 를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타내고;(ii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 기 (24) 를 나타내고;(iii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 (28) 의 기가 치환기(들) 로서 존재하고;(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내는 경우, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 기 (5), (7), (19), 또는 (20) 이 아니며;(v) R6 이 시클로알킬 고리 상에, 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R4 는 기 -(T)l-N(R14)R15 (여기서 T 및 l 은 상기 기재된 바와 동일하고, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; R14 및 R15 는 하기 기를 형성함[화학식 53]) 를 나타냄.
- 하기 화학식 (1) 로 나타내는 화합물 또는 그의 염의 항종양제의 제조를 위한 용도:[화학식 54]
{식 중 X1 은 질소 원자 또는 기 -CH= 를 나타내고,R1 은 기 -Z-R6 을 나타내고,Z 는 기 -N(R8)-B-, 기 -B-N(R8)-, 기 -B0-O-, 기[화학식 55]
기 -CO-, 기-CH(OH)-, 기 -N(R9a)-CO-N-(R9b)-, 기 -N=CH-, 기 -N(R10a)-SO2-(B22a)e-, 저급 알케닐렌기, 기 -NHCO-B1-, 기 -NHCO-B2-(W)u-, 기 -B0-O-B19a-, 기[화학식 56]
, 기[화학식 57]
, 기 -SO2-N(R10b)-, 기 -S-, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기, 기 -N(R8d)- 또는 기 -CO-NH-B18a- 를 나타내고,R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고,B 는 기 -CO- 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,B0 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,R9a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,e 는 0 또는 1 을 나타내고,B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,k 는 2 또는 3 을 나타내고,c 는 0 또는 1 을 나타내고,d' 는 0 또는 1 을 나타내고,R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,W 는 산소 원자, 기 -NH-, 또는 황 원자를 나타내고,u 는 0 또는 1 을 나타내고,R6 은 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 가질 수 있는 5- 내지 15-원 모노시클릭, 디시클릭 또는 트리시클릭 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (이것은 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있으며, 이는 옥소기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬술포닐기; 페닐 고리 상에 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기, 피롤릴기, 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택됨), 아다만틸기, 나프틸기 (이것은 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 나프탈렌 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 벤조일기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기로서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음), 할로겐 원자 치환 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기 또는 기[화학식 58]
를 나타내고,R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬술포닐기, 아미노술포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카 노일옥시기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 갖는 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고 (이것은 헤테로시클릭 고리 상에 옥소기를 가질 수 있음),m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고 (m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있음),R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,Y 는 기 -O-, 기 -N(R5)-, 기 -CO-, 기 -CH(OH)-, 저급 알킬렌기, 기 -S(O)n-, 또는 기 -C(=N-OH)- 를 나타내고,R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,A 는 기[화학식 59]
또는 기[화학식 60]
를 나타내고,p 는 1 또는 2 를 나타내고,R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 기 -CONR11R12, 또는 시아노기를 나타내고,여기서 R11 및 R12 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, R11 및 R12 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 기[화학식 61]
, 기[화학식 62]
또는 기 -(T)1-N(R14)R15 를 나타내고,R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노 치환 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐 치환 저급 알킬기, 또는 이 미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,T 는 저급 알킬렌기, 기 -N(R17)-B3-CO-, 기 -B19-N(R18)-CO-, 기 -B4-CO-, 기 -Q-B5-CO-, 기 -B6-N(R19)-B7-CO-, 기 -CO-B8-, 기 -CH(OH)-B9-, 기 -CO-B10-CO-, 기 -CH(OH)-B11-CO-, 기 -CO-, 기 -SO2-, 또는 기 -B23a-CO-CO- 를 나타내고,여기서 R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬술포닐기를 나타내고,B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B4 는 저급 알케닐렌기 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,Q 는 산소 원자 또는 기 -S(O)n- (여기서 n 은 상기 기재된 바와 동일함) 을 나타내고,B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,B7 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B8 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,B10 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B11 은 저급 알킬렌기를 나타내고,B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,l 은 0 또는 1 을 나타내고,R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,R15 는 (2) 히드록실기 치환 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐 치환 저급 알킬기, (11) 카르복시 치환 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들) 로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로, 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기 치환 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기[화학식 63]
, (26) 하기 기로 치환된 카르보닐 저급 알킬기[화학식 64]
(27) 기 -CO-B20-N(R36)R37, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알 킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에 치환기(들) 로서 페닐 저급 알킬기 (이것은 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노 치환 저급 알킬기를 나타내고,R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R36 및 R37 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가 치환기(들) 로서 존재할 수 있고,R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는 기[화학식 65]
를 형성할 수 있고,여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 (28) 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는, 페닐 치환 저급 알킬기, (29) 카르바모일기, (30) 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 피리딘 고리 상에 치환기(들) 로서 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤족사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬술포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에, 옥소기 및 하기 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기[화학식 66]
(식 중 Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄),(41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시 기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) 기 -(B12CO)t-N(R20)R21, (50) 기 -(CO)o-B13-N(R22)R23, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에, 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐술포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) 기 -(O-B15)s-CO-N(R26)R27, (85) 기 -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30, (86) 기 -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33, (87) 벤족사졸릴 기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며,B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,t 는 0 또는 1 을 나타내고,R20 및 R21 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 5 개의 저급 알 킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고; R20 및 R21 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),o 는 0 또는 1 을 나타내고,B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R22 및 R23 은 동일 또는 상이할 수 있으며, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들) 로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, R22 및 R23 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨),B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,s 는 0 또는 1 을 나타내고,R26 및 R27 은 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고, R26 및 R27 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기가, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 존재할 수 있음),R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R29 및 R30 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고,R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,R32 및 R33 은 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고 (여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 치환기가 존재할 수 있으며, 이는 저급 알킬기, 페닐기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택됨)},단, 상기 언급한 화합물 또는 그의 염은 하기 필요조건 (i) 내지 (v) 를 만족시킨다:(i) X1 이 기 -CH= 를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타내고;(ii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 기 (24) 를 나타내고;(iii) X1 이 기 -CH= 를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서, 헤테로시클릭 고리 상에, 1 내지 3 개의 (28) 의 기가 치환기(들) 로서 존재하고;(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내는 경우, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 기 (5), (7), (19), 또는 (20) 이 아니며;(v) R6 이 시클로알킬 고리 상에, 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R4 는 기 -(T)l-N(R14)R15 (여기서 T 및 l 은 상기 기재된 바와 동일하고, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 결합하여 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; R14 및 R15 는 하기 기를 형성함[화학식 67]) 를 나타냄.
- 제 54 항에 있어서, 항종양제의 표적이 악성 종양인 용도.
- 제 55 항에 있어서, 악성 종양이 고형 종양인 용도.
- 제 55 항에 있어서, 악성 종양이 혈액암인 용도.
- 제 55 항에 있어서, 악성 종양이 림프종, 백혈병 또는 골수종인 용도.
- 제 44 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서, R14 및 R15 는 이들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로, 직접적으로 또는 질소 원자를 통해 결합하여, 페닐 고리 상에, 치환기(들)로서, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 기(들)로 치환될 수 있는 페닐 치환 저급 알킬기로 헤테로시클릭 고리 상에 치환된 6-원 포화 헤테로시클릭 기를 형성하는 항종양제.
- 제 59 항에 있어서, 포화 헤테로시클릭기가 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기로 치환된 페닐 치환 저급 알킬기로 치환된 피페라지닐기인 항종양제.
- 제 59 항 또는 제 60 항에 있어서, X1 이 질소 원자이고, Y 가 산소 원자인 항종양제.
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