KR100927563B1 - 방향족 화합물 - Google Patents

방향족 화합물 Download PDF

Info

Publication number
KR100927563B1
KR100927563B1 KR1020077002786A KR20077002786A KR100927563B1 KR 100927563 B1 KR100927563 B1 KR 100927563B1 KR 1020077002786 A KR1020077002786 A KR 1020077002786A KR 20077002786 A KR20077002786 A KR 20077002786A KR 100927563 B1 KR100927563 B1 KR 100927563B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
groups
phenyl
substituent
alkyl group
Prior art date
Application number
KR1020077002786A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070103351A (ko
Inventor
다에 후쿠시마
슈지 마츠무라
노리아키 다케무라
히데아키 사토우
노부아키 이토
다쿠야 시츠타
히로노리 츠츠이
미치노리 다나카
게이조 간
히토시 나가오
겐지 와타나베
구니노리 다이
다카시 나카가와
히데키 다카스
마코토 사카모토
게이스케 미야지마
사토시 야마다
유타카 고지마
고이치 야스무라
나오토 오히
미츠히로 오쿠노
가즈히사 스기야마
구니히코 기요노
다카시 스즈키
세이지 아카마츠
다케시 고다마
야스오 야나기하라
다쿠미 스미다
Original Assignee
오쓰까 세이야꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오쓰까 세이야꾸 가부시키가이샤 filed Critical 오쓰까 세이야꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20070103351A publication Critical patent/KR20070103351A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100927563B1 publication Critical patent/KR100927563B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C229/02—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
    • C07C229/04—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
    • C07C229/06—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton
    • C07C229/18—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton the nitrogen atom of the amino group being further bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P1/00—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system
    • A61P1/16—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system for liver or gallbladder disorders, e.g. hepatoprotective agents, cholagogues, litholytics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P11/00—Drugs for disorders of the respiratory system
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P13/00—Drugs for disorders of the urinary system
    • A61P13/12—Drugs for disorders of the urinary system of the kidneys
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P19/00—Drugs for skeletal disorders
    • A61P19/04—Drugs for skeletal disorders for non-specific disorders of the connective tissue
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
    • C07C205/27—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by etherified hydroxy groups
    • C07C205/35—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by etherified hydroxy groups having nitro groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C07C205/36—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by etherified hydroxy groups having nitro groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring or to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of the same condensed ring system
    • C07C205/38—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by etherified hydroxy groups having nitro groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring or to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of the same condensed ring system the oxygen atom of at least one of the etherified hydroxy groups being further bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring, e.g. nitrodiphenyl ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C217/78—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
    • C07C217/80—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
    • C07C217/82—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C217/90—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings of the same non-condensed six-membered aromatic ring the oxygen atom of at least one of the etherified hydroxy groups being further bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring, e.g. amino-diphenylethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00—Carboxylic acid amides
    • C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/45—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00—Carboxylic acid amides
    • C07C233/64—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C233/67—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C233/75—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/40—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C271/58—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/28—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C275/32—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton being further substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C275/34—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton being further substituted by singly-bound oxygen atoms having nitrogen atoms of urea groups and singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/40—Oxygen atoms
    • C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
    • C07D211/46—Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/56—Nitrogen atoms
    • C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/60—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D211/62—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/68—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D211/70—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/72—Nitrogen atoms
    • C07D213/75—Amino or imino radicals, acylated by carboxylic or carbonic acids, or by sulfur or nitrogen analogues thereof, e.g. carbamates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/32—One oxygen, sulfur or nitrogen atom
    • C07D239/42—One nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D241/00—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
    • C07D241/02—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D241/10—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D241/14—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D241/20—Nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
    • C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
    • C07D295/182—Radicals derived from carboxylic acids
    • C07D295/185—Radicals derived from carboxylic acids from aliphatic carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
    • C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
    • C07D295/182—Radicals derived from carboxylic acids
    • C07D295/192—Radicals derived from carboxylic acids from aromatic carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
    • C07D317/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D317/46—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
    • C07D317/48—Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes, unsubstituted on the hetero ring
    • C07D317/50—Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes, unsubstituted on the hetero ring with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to atoms of the carbocyclic ring
    • C07D317/58—Radicals substituted by nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/12—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/14—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/02—Systems containing only non-condensed rings with a three-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/18—Systems containing only non-condensed rings with a ring being at least seven-membered

Abstract

본 발명은 콜라겐 생성을 억제하는 뛰어난 효과를 가지며 부작용이 적고 안정성이 탁월한 신규한 화합물을 제공한다. 본 발명의 화합물은 하기 일반식 (1)로 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00859
(식에서, X1 은 질소 원자 또는 -CH= 기를 나타내고;
R1 은 -Z-R6 기를 나타내고,
여기서, Z 는 -CO- 기, -CH(OH)- 기 등을 나타내고,
R6 은 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 내지 15-원 단환식, 이환식, 또는 삼환식 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고;
Y 는 -O- 기, -CO- 기, -CH(OH)- 기, 저급 알킬렌기 등을 나타내고;
A 는
Figure 112007010406990-pct00860
기 등을 나타내고,
여기서, R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기 등을 나타내고,
P 는 1 또는 2 를 나타내고, R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기 등을 나타냄).

Description

방향족 화합물 {AROMATIC COMPOUNDS}
본 발명은 방향족 화합물에 관한 것이다.
현재, 섬유증이라 알려진 질병에는 (희귀 질환도 포함할 경우) 130 종류 이상의 질병이 포함된다. 그러한 섬유증의 대표적 예로는, 폐섬유증, 간섬유증, 및 사구체경화증 등이 있다.
일반적으로 폐섬유증은, 폐포 구조가 염증 반응으로 인해 파괴된 결과 섬유모세포의 성장 및 주로 콜라겐으로 이루어진 세포외 기질의 과잉 증가가 일어나서 폐가 경화되는 현상에 의해 유발되는, 폐포 영역의 재건과 관련된 손상으로 인한 폐기능의 상실과 관계된 일군의 질병을 말한다.
또한 간섬유증은, 만성 바이러스성 간염 또는 알코올성 간염 등의 각종 간병증에 의해 간세포가 괴사한 후, 세포외 기질이 괴사된 부분을 보충하기 위하여 증가함으로써 그와 같은 간섬유증을 불러오는 현상에 의해 유발되는 간의 섬유증과 관계된 병리적 상태를 말한다. 이러한 병리적 상태는 결국엔 전체 간 섬유가 수축하고 경화되는 간경변으로 이어진다.
전술한 간섬유증을 억제하기 위하여, 페니실아민(Penicillamine) 또는 루피로닐(Lufironil) 과 같은 약물이 이용되었다. 페니실아민은 구리 대사의 이상 으로 인해 간에 구리가 축적되어 발생하는 윌킨슨병(Wilkinson's disease)을 치료하기 위한 약물로 알려져 있다. 루피로닐은 프롤린 히드록실라제 억제제로서 그 용도가 연구되고 있다.
그러나, 그 부작용 및 효과를 고려할 때, 상기 약물들은 간섬유증의 예방을 위한 약물로서 충분히 기능하지 못한다. 따라서 사실상, 대표적 예로서 간섬유증을 포함한 섬유증에 효과적인 섬유증의 치료 방법 또는 치료제는 아직까지 확립되지 못하였다. 섬유증의 진행 과정을 특이적으로 억제하는 방법이 당 연구분야에서 관심의 초점이 되고 있다.
전술한 바와 같이, 폐조직 또는 간조직에서 섬유증의 진행 과정에서 주로 콜라겐으로 이루어진 세포외 기질의 과잉 증가가 발생한다는 것이 알려져 있다. 나아가, 간세포 내 세포외 기질의 그와 같은 증가는 주로 시누소이드 벽 (sinusoidal wall) Disse 공간에서 일어나며, 간의 중간엽 세포인 이토 세포 (Ito cell) 가 그러한 세포외 기질의 주요 생성 거점인 것 또한 알려져 있다.
따라서, 간, 폐 또는 기타 장기에서 발생하는 섬유증을 억제하기 위하여는 세포외 기질 (즉, 콜라겐) 의 과잉 증가를 억제하는 것이 중요하다.
JP-A-2002-507601 및 JP-A-2001-89450 은, 특정 종류의 피리딘 유도체가 콜라겐의 생성을 억제하는 효과가 있고 따라서 섬유증에 효과적임을 개시하고 있다. JP-A-2001-89412 는 특정 종류의 벤젠 유도체가 콜라겐 생성을 억제하는 효과가 있고 따라서 섬유증에 효과적임을 개시하고 있다.
그러나, JP-A-2002-507601, JP-A-2001-89450, 및 JP-A-2001-89412 에 개시된 화합물들의 콜라겐 생성 억제 효과는 불충분하거나, 또는 이들 화합물은 심각한 부작용을 갖고 있다. 따라서, 콜라겐 생성 억제 효과가 매우 우수하고, 부작용이 적으며, 안정성이 탁월한 화합물의 개발에 대한 강한 요구가 존재하였다.
본 발명의 목적은 콜라겐 생성을 억제하는 뛰어난 효과를 가지며 아울러 부작용이 적고 안정성이 탁월한 신규한 화합물, 예컨대 폐섬유증, 간섬유증, 사구체경화증 등의 섬유증을 예방 및 치료하는 데 유용한 약학 조성물을 제공하는 것이다.
전술한 목표를 달성하고자 집중적으로 연구한 결과, 본 발명자들은 하기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 콜라겐의 생성을 억제하는 뛰어난 효과를 가지면서 부작용이 적고 안정성이 탁월하다는 것을 발견하였다. 본 발명은 이와 같은 발견을 기초로 완성되었다.
본 발명은 하기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다:
Figure 112007010406990-pct00001
[식에서, X1 은 질소 원자 또는 -CH= 기를 나타내고,
R1 은 -Z-R6 기를 나타내고,
Z 는 -N(R8)-B- 기, -B-N(R8)- 기, -B0-O- 기,
Figure 112007010406990-pct00002
기, -CO- 기, -CH(OH)- 기,
Figure 112007010406990-pct00003
기, -N=CH- 기,
Figure 112007010406990-pct00004
기, 저급 알케닐렌기, -NHCO-B1- 기, -NHCO-B2-(W)u- 기, -B0-O-B19a- 기,
Figure 112007010406990-pct00005
기,
Figure 112007010406990-pct00006
기,
Figure 112007010406990-pct00007
기, -S- 기, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기,
Figure 112007010406990-pct00008
기 또는
Figure 112007010406990-pct00009
기를 나타내고,
{여기서, R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 저급 알킬설포닐기를 나타내고,
B 는 -CO- 기 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B0 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
동일 또는 상이한 각 R9a 및 R9b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
e 는 0 또는 1 을 나타내고,
B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군에서 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
W 는 산소 원자, -NH- 기, 또는 황 원자를 나타내고,
u 는 0 또는 1 을 나타내고,
B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
k 는 2 또는 3 을 나타내고,
c 는 0 또는 1 을 나타내고,
d' 는 0 또는 1 을 나타내고,
R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타냄},
R6 은 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 내지 15-원 단환식, 이환식, 또는 삼환식 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (여기서, 상기 헤테로시클릭 고리는 옥소기; 임의로 할로겐화되는 저급 알콕시기; 임의로 할로겐화되는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬설포닐기; 페닐 고리 상에서, 임의로 할로겐화되는 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기; 피롤릴기; 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군 중에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있음), 아다만틸기, 나프틸기 (여기서, 상기 나프탈렌 고리는 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군 중에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리 상에서, 아미노기 상에 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기에 의해 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 페닐 고리 상에서, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 벤조일기,
Figure 112007010406990-pct00010
기, 할로겐 원자-치환된 저급 알킬기, 또는 시클로알킬 저급 알킬기를 나타내고,
R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬설포닐기, 아미노설포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 옥소기에 의해 치환될 수 있음), 또는 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기를 나타내고,
m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내며, 여기서 m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있고,
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
Y 는 -O- 기, -N(R5)- 기, -CO- 기, -CH(OH)- 기, 저급 알킬렌기, -S(O)n- 기, 또는 -C(=N-OH)- 기를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,
n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,
A 는
Figure 112007010406990-pct00011
기 또는
Figure 112007010406990-pct00012
기를 나타내고,
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 은 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, -CONR11R12 기, 또는 시아노기를 나타내고,
{여기서, 동일 또는 상이한 각 R11 및 R12 는 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R11 및 R12 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있음},
R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기,
Figure 112007010406990-pct00013
기,
Figure 112007010406990-pct00014
기 또는 -(T)1-N(R14)R15 기를 나타내고,
R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노-치환된 저급 알카노일기, 피페라진 고리 상에서, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 피페라진 고리 상에서, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐-치환된 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,
T 는 저급 알킬렌기, -N(R17)-B3-CO- 기, -B19-N(R18)-CO- 기, -B4-CO- 기, -Q-B5-CO- 기, -B6-N(R19)-B7-CO- 기, -CO-B8- 기, -CH(OH)-B9- 기, -CO-B10-CO- 기, -CH(OH)-B11-CO- 기, -CO- 기, -SO2- 기, 또는 -B23a-CO-CO- 기를 나타내고,
{여기서, R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬설포닐기를 나타내고,
B3 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B4 는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
Q 는 산소 원자 또는 -S(O)n- 기를 나타내고 (여기서, n 은 상기한 바와 같음),
B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B6 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R19 는 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,
B7 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B8 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B9 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B10 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B11 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타냄},
R14 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내고,
R15 는 (2) 히드록실기-치환된 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리 상에서, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기-치환된 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 페닐 고리 상에서, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (10) 저급 알콕시카르보닐-치환된 저급 알킬기, (11) 카르복시-치환된 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기(들)로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택된 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 피페라진 고리 상에서, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기-치환된 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐-치환된 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리 상에, 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리 상에서, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기에 의해 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25)
Figure 112007010406990-pct00015
기에 의해 치환된 카르보닐 저급 알킬기, (26)
Figure 112007010406990-pct00016
기에 의해 치환된 카르보닐 저급 알킬기, (27) -CO-B20-N(R36)R37 기, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리 상에서 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리 상에서, 치환기(들)로서 페닐 저급 알킬기 (페닐 고리 상에 치환기(들)로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐-치환된 옥살릴기 또는 (37a) 시아노-치환된 저급 알킬기를 나타내고,
R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,
d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
B20 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R36 및 R37 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭기는 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있고,
R14 및 R15 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는
Figure 112007010406990-pct00017
기를 형성할 수 있고,
여기서, 상기 헤테로시클릭 고리는 (28) 1 내지 2 개의 페닐기를 가지고 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 페닐-치환된 저급 알킬기로서, 여기서 상기 페닐 고리는 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있음, (29) 카르바모일기, (30) 피리딘 고리 상에 치환기(들)로서, 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤즈옥사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리 상에서, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에서, 옥소기 및
Figure 112007010406990-pct00018
기 (식에서, 각 Ra 및 Rb 는 저급 알킬기를 나타냄) 로 이루어진 군에서 선택되는 기에 의해 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에서, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리 상에서, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리 상에서, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) -(B12CO)t-N(R20)R21 기, (50) -(CO)o-B13-N(R22)R23 기, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에서, 치환기(들)로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸-치환된 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에서, 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에서 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐설포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) -(O-B15)s-CO-N(R26)R27 기, (85) -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30 기, (86) -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33 기, (87) 벤즈옥사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
동일 또는 상이한 각 R20 및 R21 은 수소 원자; 시클로알킬기; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에서 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리 상에서, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 저급 알킬기; 페닐 고리 상에서, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸-치환된 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들)로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리 상에서 치환기(들)로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내거나, 또는 R20 및 R21 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 할로겐 원자 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있고,
o 는 0 또는 1 을 나타내고,
B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
동일 또는 상이한 각 R22 및 R23 은 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R22 및 R23 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있고,
B15 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
동일 또는 상이한 각 R26 및 R27 은 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내거나, 또는 R26 및 R27 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 치환기(들)로서, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 저급 알킬기에 의해 치환될 수 있고,
R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R29 및 R30 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기, 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있고,
R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R32 및 R33 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기, 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있되,
단, 전술한 방향족 화합물 또는 그의 염은 하기 (i) 내지 (v) 의 요건을 만족함:
(i) X1 이 -CH= 기를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타냄;
(ii) X1 이 -CH= 기를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 를 나타내고, R14 가 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기를 나타내는 경우, R15 는 전술한 (24) 의 기를 나타냄;
(iii) X１ 이 -CH= 기를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 1 내지 3 개의 전술한 (28) 의 기에 의해 치환됨;
(iv) X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 0 을 나타내거나, 또는 X1 이 질소 원자를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -CO- 또는 -SO2 를 나타내는 경우, R15 는 전술한 (5), (7), (19), 및 (20) 중 어느 하나의 기도 아님; 및
(v) R6 이, 시클로알킬 고리가 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기에 의해 치환될 수 있는 시클로알킬기를 나타내는 경우, R14 는 -(T)l-N(R14)R15 기를 나타냄 (식에서, T 및 l 은 전술한 바와 같은 의미이고, R14 및 R15 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 10-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있거나; 또는 R14 및 R15 는
Figure 112007010406990-pct00019
기를 형성함)].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-1) 내지 (1-7) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00020
Figure 112007010406990-pct00021
[상기 일반식 (1-1) 내지 (1-7) 에 있어서, R6, B, R8, R2, R5, n, X1, 및 A 는 전술한 바와 같은 의미이고, Y3 은 저급 알킬렌기를 나타냄].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-8) 내지 (1-14) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00022
[상기 일반식 (1-8) 내지 (1-14) 에 있어서, R6, B, R8, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-15) 내지 (1-21) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00023
[상기 일반식 (1-15) 내지 (1-21) 에 있어서, R6, B0, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-22) 내지 (1-28) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00024
[상기 일반식 (1-22) 내지 (1-28) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-29) 내지 (1-35) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00025
Figure 112007010406990-pct00026
[상기 일반식 (1-29) 내지 (1-35) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-36) 내지 (1-42) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00027
[상기 일반식 (1-36) 내지 (1-42) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-43) 내지 (1-49) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00028
[상기 일반식 (1-43) 내지 (1-49) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A, R9a, R9b 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-50) 내지 (1-56) 으로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00029
[상기 일반식 (1-50) 내지 (1-56) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-57) 내지 (1-63) 으로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00030
Figure 112007010406990-pct00031
[상기 일반식 (1-57) 내지 (1-63) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A, R10a, B22a, e 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-64) 내지 (1-70) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00032
[상기 일반식 (1-64) 내지 (1-70) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미이고, Z1 은 저급 알케닐렌기를 나타냄].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-71) 내지 (1-77) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00033
[상기 일반식 (1-71) 내지 (1-77) 에 있어서, R6, R2, B1, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-78) 내지 (1-84) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00034
[상기 일반식 (1-78) 내지 (1-84) 에 있어서, R6, W, u, B2, R2, R5, n, X1, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-85) 내지 (1-91) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00035
Figure 112007010406990-pct00036
[상기 일반식 (1-85) 내지 (1-91) 에 있어서, R5, R6, B19a, B0, R2, X1, n, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-92) 내지 (1-98) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00037
Figure 112007010406990-pct00038
[상기 일반식 (1-92) 내지 (1-98) 에 있어서, R5, R6, B20a, R2, X1, A, n, d', k 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-99) 내지 (1-105) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00039
[상기 일반식 (1-99) 내지 (1-105) 에 있어서, R6, R5, B21a, R2, X1, A, n, c 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-106) 내지 (1-112) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00040
[상기 일반식 (1-106) 내지 (1-112) 에 있어서, R5, n, R6, R10b, X1, R2, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-113) 내지 (1-119) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00041
[상기 일반식 (1-113) 내지 (1-119) 에 있어서, R6, R2, X1, R5, n, A 및 Y3 은 전술한 바와 같은 의미임].
상기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염에는 하기 일반식 (1-120) 내지 (1-126) 으로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00042
[상기 일반식 (1-120) 내지 (1-126) 에서, R6, R2, X1, A, R5, n 및 Y3 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Z2 는 저급 알키닐렌기를 나타냄].
일반식 (1) 로 나타내는 상기 방향족 화합물 또는 그의 염에는 일반식 (1-127) 내지 (1-133) 으로 나타내는 하기의 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00043
[상기 일반식 (1-127) 내지 (1-133) 에서, R6, B18a, R2, X1, A, R5, n 및 Y3 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
일반식 (1) 로 나타내는 상기 방향족 화합물 또는 그의 염에는 일반식 (1-134) 내지 (1-140) 으로 나타내는 하기의 방향족 화합물 또는 그의 염이 포함된다:
Figure 112007010406990-pct00044
[상기 일반식 (1-134) 내지 (1-140) 에서, R6, R2, X1, A, R5, 및 n 은 청구항 1 에서 기재하는 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 는 청구항 2 에서 기재하는 바와 동일한 의미를 가지고, Z3 는 저급 알킬렌기 또는
Figure 112007010406990-pct00045
기 (R8d 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 를 나타냄].
본 발명은 Y 가 -O- 기인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 Y 가 -N(R5)- 기 (R5 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 Y 가 -CO- 기, -CH(OH)- 기, 저급 알킬렌기, -S(O)n- 기 (n 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐), 또는 -C(=N-OH)- 기인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 A 가
Figure 112007010406990-pct00046
기 (R3, R4 및 p 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 A 가
Figure 112007010406990-pct00047
기 (R4 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기,
Figure 112007010406990-pct00048
기 또는
Figure 112007010406990-pct00049
기 (R13 및 R13a 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기 (T, R14 및 R15 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 이고, l 이 0 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기 (T, R14 및 R15 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 이고, l 이 1 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 기 (R14, R15, R17 및 B3 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B19-N(R18)-CO- 기 (R14, R15, B19 및 R18 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B4-CO- 기 (R14, R15, 및 B4 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -Q-B5-CO- 기 (R14, R15, Q 및 B5 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B6-N(R19)-B7- 기 (R14, R15, B6, R19 및 B7 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CO-B8- 기 (R14, R15, 및 B8 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CH(OH)-B9- 기 (R14, R15, 및 B9 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CO-B10-CO- 기 (R14, R15, 및 B10 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CH(OH)-B11-CO- 기 (R14, R15, 및 B11 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CO- 기 (R14 및 R15 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -SO2- 기 (R14 및 R15 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B23a-CO-CO- 기 (R14, R15 및 B23a 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 저급 알킬렌기 (R14 및 R15 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
일반식 (1) 로 나타내는 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염에서, 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-64) 및 (1-65) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염이 바람직하다.
또한, Y 가 -O- 기 또는 -N(R5)- 기이고, A 가
Figure 112007010406990-pct00050
기이고, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기 (R3, R4, R5, R14, R15, p 및 l 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 나타내는 화합물 또는 그의 염이 더욱 바람직하다.
본 발명은 l 이 1 이고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 기 (R17 및 B3 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 l 이 1 이고, T 가 -B4-CO- 기 (B4 는 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 l 이 1 이고, T 가 -CO- 기인 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 l 이 0 인 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 제공한다.
본 발명은 특히 하기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방향족 화합물을 제공한다:
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페라진-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-({4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페닐}메틸아미노)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)-1-에틸우레아,
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-{6-[(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-(6-{4-[(2-{4-[4-(4-플루오로벤조일)페닐]피페라진-1-일}-2-옥소에틸)메틸아미노]-2-메톡시-페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-N-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소아세트아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-2-플루오로-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, 및
4-(3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소헥사히드로피리미딘-1-일)벤조산 에틸 에스테르, 또는 그의 염.
본 발명은 아래에 언급하는 반응식-1 내지 46, 48, 49, 52, 59, 104, 105, 108 내지 132 및 135 에 기재하는 방법 중 임의의 하나에 따른, 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염의 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 일반식 (1A) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 함유하는, 섬유증 치료용 약학 조성물을 제공한다:
Figure 112007010406990-pct00051
[여기서, X1 은 질소 원자 또는 -CH= 기를 나타내고,
R1 은 -Z-R6 기를 나타내고,
Z 는 -N(R8)-B- 기, -B-N(R8)- 기, -B0-O- 기,
Figure 112007010406990-pct00052
기, -CO- 기, -CH(OH)- 기,
Figure 112007010406990-pct00053
기, -N=CH- 기,
Figure 112007010406990-pct00054
기, 저급 알케닐렌기, -NHCO-B1- 기, -NHCO-B2-(W)u- 기, -B0-O-B19a- 기,
Figure 112007010406990-pct00055
기,
Figure 112007010406990-pct00056
기,
Figure 112007010406990-pct00057
기, -S- 기, 저급 알키닐렌기, 저급 알킬렌기,
Figure 112007010406990-pct00058
기 또는 -CO-NH-B18a- 기를 나타내고,
여기서, R8 은 수소 원자, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 저급 알킬설포닐기를 나타내고,
B 는 -CO- 기 또는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B0 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
동일 또는 상이한 R9a 및 R9b 각각은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R10a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, B22a 는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
e 는 0 또는 1 을 나타내고,
B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
B2 는 저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기를 나타내고,
W 는 산소 원자, -NH- 기, 또는 황 원자를 나타내고,
u 는 0 또는 1 을 나타내고,
B18a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B20a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B21a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R8d 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
k 는 2 또는 3 을 나타내고,
c 는 0 또는 1 을 나타내고,
d' 는 0 또는 1 을 나타내고,
R10b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
R6 는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 내지 15-원 단환식, 이환식, 또는 삼환식 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (여기서, 헤테로시클릭 고리는 옥소기; 임의로 할로겐화되는 저급 알콕시기; 임의로 할로겐화되는 저급 알킬기; 할로겐 원자; 저급 알킬설포닐기; 페닐 고리에서, 임의로 할로겐화되는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알킬티오기; 피롤릴기; 벤조일기; 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 및 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있음), 아다만틸기, 나프틸기 (여기서, 나프탈렌 고리는 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있음), 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬 고리에서, 아미노기에 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기, 저급 알카노일기, 페닐 고리에서, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기,
Figure 112007010406990-pct00059
기, 할로겐 원자-치환된 저급 알킬기, 또는 시클로알킬 저급 알킬기를 나타내고,
R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 저급 알킬렌디옥시기, 치환기로서, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 및 시클로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알킬설포닐기, 아미노설포닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알카노일옥시기, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (여기서, 헤테로시클릭 고리는 옥소기로 치환될 수 있음), 또는 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기를 나타내고,
m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내고, 여기서, m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우에는, 2 내지 5 개의 R7 이 동일 또는 상이할 수 있고,
R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 저급 알킬기를 나타내고,
Y 는 -O- 기, -N(R5)- 기, -CO- 기, -CH(OH)- 기, 저급 알킬렌기, -S(O)n- 기, 또는 -C(=N-OH)- 기를 나타내고,
R5 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기, 페닐 저급 알킬기, 또는 시클로알킬기를 나타내고,
n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,
A 는
Figure 112007010406990-pct00060
기 또는
Figure 112007010406990-pct00061
기를 나타내고,
p 는 1 또는 2 를 나타내고,
R3 는 수소 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, -CONR11R12 기, 또는 시아노기를 나타내고,
여기서, 동일 또는 상이한 R11 및 R12 각각은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R11 및 R12 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,
R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기,
Figure 112007010406990-pct00062
기,
Figure 112007010406990-pct00063
기 또는 -(T)1-N(R14)R15 기를 나타내고,
R13 은 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 벤조일기, 모르폴리노-치환된 저급 알카노일기, 피페라진 고리에서, 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페라지닐 카르보닐 저급 알킬기, 피페라진 고리에서, 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 모르폴리노카르보닐-치환된 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13a 는 수소 원자 또는 히드록실기를 나타내고,
T 는 저급 알킬렌기, -N(R17)-B3-CO- 기, -(B19)e-N(R18)-CO- 기, -B4-CO- 기, -Q-B5-CO- 기, -B6-N(R19)-B7-CO- 기, -CO-B8- 기, -CH(OH)-B9- 기, -CO-B10-CO- 기, -CH(OH)-B11-CO- 기, -CO- 기, -SO2- 기, 또는 -B23a-CO-CO- 기를 나타내고,
여기서, R17 은 수소 원자, 저급 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알카노일기, 또는 저급 알킬설포닐기를 나타내고,
B3 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B19 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
e 는 0 또는 1 을 나타내고,
R18 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B4 는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내고,
Q 는 산소 원자 또는 -S(O)n- 기 (여기서, n 은 앞서 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 를 나타내고,
B5 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
B6 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R19 은 수소 원자 또는 저급 알카노일기를 나타내고,
B7 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B8 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B9 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B10 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B11 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
B23a 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
l 은 0 또는 1 을 나타내고,
동일 또는 상이한 R14 및 R15 각각은 (1) 수소 원자, (2) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기, (3) 치환기로서 히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (4) 페녹시 저급 알킬기, (5) 페닐 고리에서, 저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기-치환된 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 치환기로서 저급 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (6) 페녹시기, (7) 페닐 고리에서, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, (8) 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기, (9) 저급 알카노일기, (10) 저급 알콕시카르보닐-치환된 저급 알킬기, (11) 카르복시-치환된 저급 알킬기, (12) 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, (13) 테트라히드로퀴놀린 고리에 치환기(들)로서 옥소기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, (14) 시클로알킬 저급 알킬기, (15) 피페라진 고리에서, 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, (16) 피리딜 저급 알킬기, (17) 치환기로서 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노기-치환된 저급 알킬기, (18) 저급 알콕시 저급 알킬기, (19) 이미다졸릴기, (20) 이미다졸릴 저급 알킬기, (21) 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐-치환된 저급 알킬기, (22) 피페리딘 고리에 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, (23) 티아졸리딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (24) 피페리딘 고리에서, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기, 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (25)
Figure 112007010406990-pct00064
기로 치환되는 카르보닐 저급 알킬기, (26)
Figure 112007010406990-pct00065
기로 치환되는 카르보닐 저급 알킬기, (27) -CO-B20-N(R36)R37 기, (26a) 피롤리디닐 저급 알킬기, (27a) 모르폴리노 저급 알킬기, (28a) 페닐 저급 알케닐기, (29a) 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, (30a) 인돌릴기, (31a) 피페라진 고리에 치환기로서, 저급 알킬기 및 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, (32a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, (33a) 플루오레닐기, (34a) 카르바졸 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, (35a) 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, (36a) 피페라진 고리에 치환기(들)로서, 페닐 저급 알킬기 (페닐 고리에 치환기(들)로서 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피페라지닐-치환된 옥살릴기, 또는 (37a) 시아노-치환된 저급 알킬기를 나타내고,
R34 는 옥소기 또는 페닐기를 나타내고,
d 는 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
B20 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
R36 및 R37 은, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 헤테로시클릭기는 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기 1 내지 3 개로 치환될 수 있고,
R14 및 R15 은, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는
Figure 112007010406990-pct00066
기를 형성할 수 있고,
여기서, 헤테로시클릭 고리는 (28) 페닐기가 1 내지 2 개이며, 저급 알킬기에 피리딜기를 가질 수 있는 페닐-치환된 저급 알킬기 (여기서, 페닐 고리는 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있음), (29) 카르바모일기, (30) 피리딘 고리에 치환기(들)로서, 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기, (31) 피롤 고리에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, (32) 벤즈옥사졸릴 저급 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 저급 알킬기, (34) 푸릴 저급 알킬기, (35) 페닐 고리에서, 시아노기, 치환기로서 저급 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) 저급 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리에서, 옥소기 및
Figure 112007010406990-pct00067
기 (여기서, Ra 및 Rb 각각은 저급 알킬기를 나타냄) 로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기, (41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 저급 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, (43) 페닐 고리에서, 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 및 히드록실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 저급 알킬기, (46) 페닐 고리에서, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 저급 알킬기, (48) 페닐 고리에서, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기, (49) -(B12CO)t-N(R20)R21 기, (50) -(CO)o-B13-N(R22)R23 기, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리에서, 치환기(들)로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸-치환된 저급 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리에서, 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 저급 알킬기, (55) 테트라졸 고리에 치환기로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, (56) 티아졸 고리에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, (57) 페닐 고리에 치환기(들)로서 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, (58) 피페리딘 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, (59) 이미다졸 고리에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 저급 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, (64) 시클로알킬 저급 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 저급 알킬기, (67) 피리미딘 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) 저급 알콕시 저급 알킬기, (71) 저급 알콕시 저급 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, (74) 카르복시 저급 알콕시기, (75) 페녹시 저급 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐설포닐기, (78) 이미다졸릴 저급 알카노일기, (79) 이미다졸릴 저급 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, (83) 카르복시 저급 알킬기, (84) -(O-B15)s-CO-N(R26)R27 기, (85) -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30 기, (86) -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33 기, (87) 벤즈옥사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고,
B12 는 저급 알킬렌기를 나타내고,
t 는 0 또는 1 을 나타내고,
동일 또는 상이한 R20 및 R21 각각은 수소 원자; 시클로알킬기; 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; 저급 알킬기; 페닐 고리에서, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기가 1 내지 2 개인 저급 알킬기; 페닐 고리에서, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기; 저급 알콕시카르보닐기; 시클로알킬 저급 알킬기; 피롤리딘 고리에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기 1 내지 3 개를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노-치환된 저급 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리에 치환기(들)로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸-치환된 저급 알킬기; 나프틸 저급 알킬기; 피리딜 저급 알킬기; 퀴놀릴 저급 알킬기; 테트라졸 고리에 치환기(들)로서 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기; 저급 알킬기에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기; 페닐 고리에 치환기(들)로서 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기; 페닐 저급 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기; 이미다졸릴 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내거나, 또는 R20 및 R21 은, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기, 페닐 고리에 치환기(들)로서 할로겐 원자 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고,
o 는 0 또는 1 을 나타내고,
B13 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
동일 또는 상이한 R22 및 R23 각각은 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R22 및 R23 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기 및 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고,
B15 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
s 는 0 또는 1 을 나타내고,
동일 또는 상이한 R26 및 R27 각각은 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내거나, 또는 R26 및 R27 은, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고, 여기서 헤테로시클릭 고리는 치환기(들)로서, 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기 1 내지 3 개로 치환될 수 있고,
R28 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B16 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R29 및 R30 은, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기, 페닐기, 및 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고,
R31 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고,
B17 은 저급 알킬렌기를 나타내고,
R32 및 R33 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해서 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 헤테로시클릭 고리는 저급 알킬기, 페닐기, 및 페닐 고리에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있음].
또한, 본 발명은 앞서 언급한 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염을 함유하는, 섬유증 치료용 약학 조성물을 제공한다.
본 발명은 앞서 언급한 방향족 화합물 또는 그의 염을 함유하는, 앞서 언급한 섬유증 치료용 약학 조성물을 제공하며, 여기서 방향족 화합물은 하기로 이루어지는 군으로부터 선택된다:
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페라진-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-({4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페닐}메틸아미노)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)-1-에틸우레아,
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-{6-[(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-(6-{4-[(2-{4-[4-(4-플루오로벤조일)페닐]피페라진-1-일}-2-옥소에틸)메틸아미노]-2-메톡시-페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-N-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소아세트아미드,
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-2-플루오로-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, 및
4-(3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소헥사히드로피리미딘-1-일)벤조산 에틸 에스테르, 또는 그의 염.
본 발명은 섬유증이 폐 섬유증인, 앞서 언급한 섬유증 치료용 약학 조성물을 제공한다. 본 발명은 섬유증이 간 섬유증인, 앞서 언급한 섬유증 치료용 약학 조성물을 제공한다. 본 발명은 섬유증이 사구체경화증인, 앞서 언급한 섬유증 치료용 약학 조성물을 제공한다.
일반식 (1) 로 나타내는 각각의 기의 구체적인 예는 다음과 같다.
저급 알키닐렌기의 예에는 삼중 결합이 2 내지 6 개인, 탄소 원자가 2 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알키닐렌기 예컨대 에티닐렌, 1-프로피닐렌, 1-메틸-1-프로피닐렌, 2-메틸-1-프로피닐렌, 2-프로피닐렌, 2-부티닐렌, 1-부티닐렌, 3-부티닐렌, 2-펜티닐렌, 1-펜티닐렌, 3-펜티닐렌, 4-펜티닐렌, 2-펜틴-4-이닐렌, 2-헥시닐렌, 1-헥시닐렌, 5-헥시닐렌, 3-헥시닐렌, 4-헥시닐렌, 3,3-디에틸-1-프로피닐렌, 2-에틸-1-프로피닐렌 기가 포함된다.
저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 및 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 치환기를 가질 수 있는 아미노기 예컨대 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, tert-부틸아미노, 펜틸아미노, 헥실아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 디펜틸아미노, 디헥실아미노, N-메틸-N-에틸아미노, N-에틸-N-프로필아미노, N-메틸-N-부틸아미노, N-메틸-N-헥실아미노, N-아세틸아미노, N-포르밀아미노, N-프로피오닐아미노, N-부티릴아미노, N-이소부티릴아미노, N-펜타노일아미노, N-tert-부틸카르보닐아미노, N-헥사노일아미노, 디아세틸아미노, N-아세틸-N-메틸아미노, N-아세틸-N-에틸아미노 기가 포함된다.
벤조일기 (페닐 고리에, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있음) 의 예에는 벤조일기 (페닐 고리에, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있음) 예컨대 벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 2-플루오로벤조일, 3-브로모벤조일, 4-요오도벤조일, 4-메틸벤조일, 2-메틸벤조일, 3-메틸벤조일, 2-에틸벤조일, 3-에틸벤조일, 4-에틸벤조일, 4-이소프로필벤조일, 3-부틸벤조일, 4-펜틸벤조일, 4-헥실벤조일, 3,4-디메틸벤조일, 3,4-디에틸벤조일, 2,4-디메틸벤조일, 2,5-디메틸벤조일, 2,6-디메틸벤조일, 3,4,5-트리메틸벤조일, 2-트리플루오로메틸벤조일, 3-트리플루오로메틸벤조일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 2-(브로모메틸)벤조일, 3-(2-클로로에틸)벤조일, 4-(2,3-디클로로프로필)벤조일, 4-(4-플루오로부틸)벤조일, 3-(5-클로로펜틸)벤조일, 4-(5-브로모헥실)벤조일, 4-(5,6-디브로모헥실)벤조일, 3,4-디(트리플루오로메틸)벤조일, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)벤조일, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)벤조일, 2,5-디(3-클로로프로필)벤조일, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)벤조일, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)벤조일, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)벤조일, 2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-트리클로로메틸벤조일, 2-클로로-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-플루오로벤조일, 3-플루오로-4-트리클로로메틸벤조일, 2-메틸-3-트리플루오로메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-플루오로벤조일, 4-플루오로벤조일, 2-브로모벤조일, 4-브로모벤조일, 2-요오도벤조일, 3-요오도벤조일, 2,3-디브로모벤조일, 2,4-디요오도벤조일, 2,5-디플루오로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 2,4,6-트리클로로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일, 3,5-디플루오로벤조일, 2,6-디플루오로벤조일, 2-클로로벤조일, 3-클로로벤조일, 4-클로로벤조일, 2,3-디클로로벤조일, 2,4-디클로로벤조일, 2,5-디클로로벤조일, 3,4-디클로로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 3,5-디클로로벤조일, 2,4,6-트리플루오로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일 기가 포함된다.
할로겐 치환된 저급 알킬기의 예에는 치환기로서 할로겐 원자가 1 내지 3 개인, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 예컨대 트리플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 클로로메틸기, 브로모메틸기, 플루오로메틸기, 요오도메틸기, 디플루오로메틸기, 디브로모메틸기, 디클로로메틸기, 2-클로로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 3-클로로프로필기, 2,3-디클로로프로필기, 4,4,4-트리클로로부틸기, 4-플루오로부틸기, 5-클로로펜틸기, 3-클로로-2-메틸프로필기, 5-브로모헥실기, 및 5,6-디브로모헥실기가 포함된다.
저급 알카노일 치환된 아미노기의 예에는 치환기로서 할로겐 원자가 1 내지 3 개인, 탄소 원자가 2 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알카노일기 예컨대 아세틸 아미노기, 프로피오닐 아미노기, 부티릴 아미노기, 펜타노일 아미노기, 2-메틸프로피오닐 아미노기 및 헥사노일 아미노기가 포함된다.
피페라진 고리에, 페닐 저급 알킬기 (페닐 고리에, 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환된 옥살릴기의 예에는 피페라진 고리에, 알킬 부분이 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기 (그리고, 페닐 고리에, 탄소 원자가 1 내지 4 개인 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기 및 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있음) 및 알킬 부분이 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 피페라지닐 치환된 옥살릴기 예컨대 4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(2-, 3-, 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(3,4-디메톡시벤질)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(2,3-메틸렌디옥시벤질)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-(3,4-에틸렌디옥시벤질)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-[2-(2-, 3-, 또는 4-피리딜)에틸]-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 4-[3-(2-, 3-, 또는 4-피리딜)프로필-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 2,4-비스(2-, 3-, 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 2-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-4-(2-, 3-, 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴, 2,3,4-트리(2-, 3-, 또는 4-피리딜메틸)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐옥살릴 기가 포함된다.
시아노 치환된 저급 알킬기의 예에는 알킬 부분이 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기인 시아노알킬기 예컨대 시아노메틸기, 2-시아노에틸기, 1-시아노에틸기, 3-시아노프로필기, 4-시아노부틸기, 5-시아노펜틸기, 6-시아노헥실기, 1,1-디메틸-2-시아노에틸기, 및 2-메틸-3-시아노프로필기가 포함된다.
저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기를 갖는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 및 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 기를 가질 수 있는 카르바모일기 예컨대 카르바모일, N-(2-메톡시에틸)카르바모일, 메틸카르바모일, 에틸카르바모일, 프로필카르바모일, 이소프로필카르바모일, 부틸카르바모일, tert-부틸카르바모일, 펜틸카르바모일, 헥실카르바모일, 디메틸카르바모일, 디에틸카르바모일, 디프로필카르바모일, 디부틸카르바모일, 디펜틸카르바모일, 디헥실카르바모일, N-메틸-N-에틸카르바모일, N-에틸-N-프로필카르바모일, N-메틸-N-부틸카르바모일, N-메틸-N-헥실카르바모일, N-(메톡시메틸)카르바모일, N-(3-프로폭시프로필)카르바모일, N-(4-부톡시부틸)카르바모일, N-(4-에톡시부틸)카르바모일, N-(5-펜틸옥시펜틸)카르바모일, N-(5-메톡시펜틸)카르바모일, N-(6-헥실옥시헥실)카르바모일, 디(2-메톡시에틸)카르바모일, N-(2-메톡시에틸)-N-메틸카르바모일, N-(2-메톡시에틸)-N-에틸카르바모일 기가 포함된다.
페닐 고리에, 할로겐 원자 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페닐기의 예에는 페닐 고리에, 할로겐 원자 및 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페닐기 예컨대 페닐, 3,4-디플루오로페닐, 2-플루오로페닐, 3-브로모페닐, 4-요오도페닐, 4-메틸페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모메틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-트리클로로메틸페닐, 2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-플루오로페닐, 3-플루오로-4-트리클로로메틸페닐, 2-메틸-3-트리플루오로메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-플루오로페닐, 4-플루오로페닐, 2-브로모페닐, 4-브로모페닐, 2-요오도페닐, 3-요오도페닐, 2,3-디브로모페닐, 2,4-디요오도페닐, 2,5-디플루오로페닐, 2,6-디클로로페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 2,4-디플루오로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 3,4-디클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,4,6-트리플루오로페닐, 2,4-디플루오로페닐 기가 포함된다.
저급 알케닐렌기의 예에는 이중 결합이 1 내지 3 개인, 탄소 원자가 2 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알케닐렌기 예컨대 비닐렌, 1-프로페닐렌, 1-메틸-1-프로페닐렌, 2-메틸-1-프로페닐렌, 2-프로페닐렌, 2-부테닐렌, 1-부테닐렌, 3-부테닐렌, 3-펜테닐렌, 1-펜테닐렌, 2-펜테닐렌, 4-펜테닐렌, 1,3-부타디에닐렌, 1,3-펜타디에닐렌, 2-펜텐-4-이닐렌, 2-헥세닐렌, 1-헥세닐렌, 5-헥세닐렌, 3-헥세닐렌, 4-헥세닐렌, 3,3-디메틸-1-프로페닐렌, 2-에틸-1-프로페닐렌, 1,3,5-헥사트리에닐렌, 1,3-헥사디에닐렌, 및 1,4-헥사디에닐렌이 포함된다.
저급 알콕시기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기 예컨대 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, tert-부톡실기, 펜틸옥시기, 및 헥실옥시기가 포함된다.
저급 알킬기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기예컨대 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 2,2-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 펜틸기, 및 헥실기가 포함된다.
치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기의 예에는, 앞서 기재한 저급 알킬기에 더하여, 치환기로서 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 예컨대 메톡시메틸기, 1-에톡시에틸기, 2-메톡시에틸기, 2-프로폭시에틸기, 3-이소프로폭시프로필기, 4-부톡시부틸기, 5-펜틸옥시펜틸기, 6-헥실옥시헥실, 1,1-디메틸-2-메톡시에틸기, 2-메틸-3-에톡시프로필, 및 3-메톡시프로필기가 포함된다.
저급 알카노일기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 알카노일기 예컨대 포르밀기, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 이소부티릴기, 펜타노일기, tert-부틸카르보닐, 및 헥사노일기가 포함된다.
페닐 저급 알킬기의 예에는 알킬 부분이 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기 예컨대 벤질기, 2-페닐에틸기, 1-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 4-페닐부틸기, 5-페닐펜틸기, 6-페닐헥실기, 1,1-디메틸-2-페닐에틸기, 및 2-메틸-3-페닐프로필기가 포함된다.
페닐 저급 알킬기 (페닐 고리에, 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있음) 의 예에는, 앞서 기재한 페닐 저급 알킬기에 더하여, 알킬 부분이 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기인 (그리고, 페닐 고리에, 탄소 원자가 1 내지 4 개인 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기 및 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는) 페닐알킬기 예컨대 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(2,3-에틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,3-메틸렌디옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4-에틸렌디옥시페닐)프로필, 2-메톡시벤질, 2-(2-메톡시페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 4-메톡시벤질, 1-(2-에톡시페닐)에틸, 3-(3-에톡시페닐)프로필, 4-(4-에톡시페닐)부틸, 5-(4-이소프로폭시페닐)펜틸, 6-(3-부톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-펜틸옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-헥실옥시페닐)프로필, 3,4-디메톡시벤질, 3,4-디에톡시벤질, 2,4-디메톡시벤질, 2,5-디메톡시벤질, 2,6-디메톡시벤질, 3,4,5-트리메톡시벤질 기가 포함된다.
저급 알킬렌기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬렌기 예컨대 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기, 2,2-디메틸에틸렌기, 2,2-디메틸트리메틸렌기, 1-메틸트리메틸렌기, 메틸메틸렌기, 에틸메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 및 헥사메틸렌기가 포함된다.
치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 저급 알케닐렌기의 예에는 이중 결합이 1 내지 3 개이고 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는, 탄소 원자가 2 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알케닐렌기 예컨대 비닐렌, 1-프로페닐렌, 1-메틸-1-프로페닐렌, 2-메틸-1-프로페닐렌, 2-프로페닐렌, 2-부테닐렌, 1-부테닐렌, 3-부테닐렌, 2-펜테닐렌, 1-펜테닐렌, 3-펜테닐렌, 4-펜테닐렌, 1,3-부타디에닐렌, 1,3-펜타디에닐렌, 2-펜텐-4-이닐렌, 2-헥세닐렌, 1-헥세닐렌, 5-헥세닐렌, 3-헥세닐렌, 4-헥세닐렌, 3,3-디메틸-1-프로페닐렌, 2-에틸-1-프로페닐렌, 1,3,5-헥사트리에닐렌, 1,3-헥사디에닐렌, 1,4-헥사디에닐렌, 1-페닐비닐렌, 3-페닐-1-프로페닐렌, 3-페닐-1-메틸-1-프로페닐렌, 3-페닐-2-메틸-1-프로페닐렌, 1-페닐-2-프로페닐렌, 1-페닐-2-부테닐렌, 3-페닐-1-부테닐렌, 1-페닐-3-부테닐렌, 5-페닐-2-펜테닐렌, 4-페닐-1-펜테닐렌, 2-페닐-3-펜테닐렌, 1-페닐-4-펜테닐렌, 1-페닐-1,3-부타디에닐렌, 1-페닐-1,3-펜타디에닐렌, 1-페닐-2-펜텐-4-이닐렌, 1-페닐-2-헥세닐렌, 3-페닐-1-헥세닐렌, 4-페닐-5-헥세닐렌, 6-페닐-3-헥세닐렌, 5-페닐-4-헥세닐렌, 1-페닐-3,3-디메틸-1-프로페닐렌, 1-페닐-2-에틸-1-프로페닐렌, 6-페닐-1,3,5-헥사트리에닐렌, 1-페닐-1,3-헥사디에닐렌, 2-페닐-1,4-헥사디에닐렌 기가 포함된다.
저급 알콕시기 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기로 치환될 수 있는 저급 알킬렌기의 예에는, 앞서 기재한 저급 알킬렌기에 더하여, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 기로 치환될 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬렌기 예컨대 메톡시메틸렌, 2-페닐에틸렌, 3-에톡시트리메틸렌, 1-프로폭시-2-메틸트리메틸렌, 1-페닐-2,2-디메틸에틸렌, 3-페닐-2,2-디메틸트리메틸렌, 2-부톡시-1-메틸트리메틸렌, 페닐메틸메틸렌, 2-펜틸옥시에틸메틸렌, 4-페닐-2-헥실옥시테트라메틸렌, 3-페닐펜타메틸렌, 5-페닐헥사메틸렌, 에톡시메틸렌, 1-페닐에틸렌, 3-페닐트리메틸렌, 2-페닐-1-메톡시에틸렌 기가 포함된다.
질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 내지 15-원 단환식, 이환식 또는 삼환식 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기의 예에는 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 피리딜, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,5-트리아졸릴, 티아졸리디닐, 1,2,3,4-테트라졸릴, 티에닐, 퀴놀릴, 1,4-디히드로퀴놀릴, 벤조티아졸릴, 피라질, 피리미딜, 피리다질, 2H-피롤릴, 피롤릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라히드로피라닐, 테트라히드로푸릴, 푸라자닐, 카르보스티릴, 3,4-디히드로카르보스티릴, 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴, 인돌릴, 이소인돌릴, 인돌리닐, 벤조이미다졸릴, 벤즈옥사졸릴, 이미다졸리디닐, 이소퀴놀릴, 퀴나졸리디닐, 퀴녹살리닐, 신놀리닐, 프탈라지닐, 카르바조일, 아크리디닐, 크로마닐, 이소인돌리닐, 이소크로마닐, 피라졸릴, 이미다졸릴, 피라졸리디닐, 페노티아지닐, 벤조푸릴, 2,3-디히드로벤조[b]푸릴, 벤조티에닐, 페녹사티닐, 페녹사디닐, 4H-크로메닐, 1H-인다졸릴, 페나지닐, 잔테닐, 티안트레닐, 2-이미다졸리닐, 2-피롤리닐, 푸릴, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 이속사졸리디닐, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라닐, 2-티아졸리닐, 2-피라졸리닐, 퀴누클리디닐, 1,4-벤족사디닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤족사디닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤티아지닐, 1,4-벤조티아지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴녹살리닐, 1,3-디티아-2,4-디히드로나프탈레닐, 페난트리디닐, 1,4-디티아나프탈레닐, 디벤즈[b,e]아제핀, 6,11-디히드로-5H-디벤즈[b,e]아제핀 기가 포함된다.
할로겐 원자의 예에는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 아이오딘 원자가 포함된다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기의 예에는 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알콕시기 예컨대 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, tert-부톡시, 펜틸옥시, 헥실옥시, 트리플루오로메톡시, 트리클로로메톡시, 클로로메톡시, 브로모메톡시, 플루오로메톡시, 요오도메톡시, 디플루오로메톡시, 디브로모메톡시, 2-클로로에톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, 3-클로로프로폭시, 2,3-디클로로프로폭시, 4,4,4-트리클로로부톡시, 4-플루오로부톡시, 5-클로로펜틸옥시, 3-클로로-2-메틸프로폭시, 6-브로모헥실옥시, 5,6-디클로로헥실옥시 기가 포함된다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기의 예에는, 앞서 기재한 저급 알킬기에 더하여, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 예컨대 트리플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 클로로메틸기, 디클로로메틸기, 브로모메틸기, 플루오로메틸기, 요오도메틸기, 디플루오로메틸기, 디브로모메틸기, 디클로로메틸기, 2-클로로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 3-클로로프로필기, 2,3-디클로로프로필기, 4,4,4-트리클로로부틸기, 4-플루오로부틸기, 5-클로로펜틸기, 3-클로로-2-메틸프로필기, 5-브로모헥실기, 및 5,6-디브로모헥실기가 포함된다.
저급 알킬설포닐기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬설포닐기 예컨대 메틸설포닐기, 에틸설포닐기, 프로필설포닐기, 이소프로필설포닐기, 부틸설포닐기, tert-부틸설포닐기, 펜틸설포닐기, 및 헥실설포닐기가 포함된다.
페닐 고리에서, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페닐기의 예에는 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개로 치환될 수 있는 페닐기 예컨대 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모메틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-트리클로로메틸 기가 포함된다.
저급 알킬티오기의 예에는 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬티오기 예컨대 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 이소프로필티오기, 부틸티오기, tert-부틸티오기, 펜틸티오기, 및 헥실티오기가 포함된다.
나프탈렌 고리에서, 저급 알킬기, 할로겐 원자, 및 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 치환될 수 있는 나프틸기의 예에는 나프탈렌 고리에, 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기, 할로겐 원자, 및 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알킬기 및 탄소 원자가 1 내지 6 개인 선형 또는 분지형 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 치환기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 나프틸기 예컨대 (1- 또는 2-)나프틸, 1-메틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 2-에틸-(1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 3-n-프로필-(1-, 2-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 4-n-부틸-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 4-메틸-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 5-n-펜틸-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 6-n-헥실-(1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 7-, 또는 8-)나프틸, 1,7-디메틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 또는 8-)나프틸, 1,2,8-트리메틸-(3-, 4-, 5-, 6-, 또는 7-)나프틸, 1-디메틸아미노-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 2-디메틸아미노-(1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 3-메틸아미노-(1-, 2-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 5-아미노-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 5-디메틸아미노-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 4-(N-메틸-N-에틸아미노)-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 1-메틸-2-디메틸아미노-(3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 1-클로로-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸, 1-아세틸아미노-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 또는 8-)나프틸 기가 포함된다.
치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 알킬기의 예로서는, 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 상기 기재한 알킬기 외에, 치환기로서 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 8 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 헵틸기, 1-에틸펜틸기, 옥틸기, 7-메톡시헵틸기, 1-에톡시헵틸기, 2-프로폭실-1-에틸펜틸기, 3-이소프로폭시옥틸기, 7-부톡시헵틸기, 8-펜틸옥시옥틸기, 및 5-헥실옥시-1-에틸펜틸기를 들 수 있다.
아미노 치환된 저급 알킬기의 예로서는, 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는, 아미노기로 치환된 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 아미노메틸, 2-아미노에틸, 1-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 1-에틸아미노에틸, 2-프로필아미노에틸, 3-이소프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 5-펜틸아미노펜틸, 6-헥실아미노헥실, 디메틸아미노메틸, 2-디에틸아미노에틸, 2-디이소프로필아미노에틸, (N-에틸-N-프로필아미노)메틸, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸기를 들 수 있다.
시클로알킬기의 예로서는, 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬기, 예컨대 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리데실기, 시클로테트라데실기, 시클로펜타데실기, 및 시클로헥사데실기를 들 수 있다.
저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기 및 치환기로서 할로겐을 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기로 치환될 수 있는 시클로알킬기의 예로서는, 시클로알킬 고리가, 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는, 아미노기로 치환된 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기 및 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬기, 예컨대 4-디메틸아미노메틸시클로헥실, 2-(아미노메틸)시클로프로필, 3-(2-아미노메틸)시클로부틸, 2-(1-아미노에틸)시클로펜틸, 3-(3-아미노프로필)시클로헥실, 3-(4-아미노부틸)시클로헵틸, 4-(5-아미노펜틸)시클로옥틸, 4-(6-아미노헥실)시클로헥실, 2-(1,1-디메틸-2-아미노에틸)시클로헵틸, 3-(2-메틸-3-아미노프로필)시클로펜틸, 3-(메틸아미노메틸)시클로헥실, 2-(1-에틸아미노에틸)시클로옥틸, 2-(2-프로필아미노에틸)시클로헥실, 3-(3-이소프로필아미노프로필)시클로펜틸, 4-(4-부틸아미노부틸)시클로헵틸, 2-(5-펜틸아미노펜틸)시클로헥실, 2-(6-헥실아미노헥실)시클로펜틸, 3-(디메틸아미노메틸)시클로헥실, 3-[(N-에틸-N-프로필아미노)메틸]시클로헵틸, 4-[2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸]시클로옥틸, 4-디메틸아미노메틸시클로노닐, 2-(아미노메틸)시클로데실, 3-(2-아미노메틸)시클로운데실, 2-(1-아미노에틸)시클로도데실, 3-(3-아미노프로필)시클로트리데실, 3-(4-아미노부틸)시클로테트라데실, 4-(5-아미노펜틸)시클로펜타데실, 4-(6-아미노헥실)시클로헥사데실, 2-(1,1-디메틸-2-아미노에틸)시클로노닐, 3-(2-메틸-3-아미노프로필)시클로데실, 3-(메틸아미노메틸)시클로운데실, 2-(1-에틸아미노에틸)시클로도데실, 2-(2-프로필아미노에틸)시클로트리데실, 3-(3-이소프로필아미노프로필)시클로테트라데실, 4-(4-부틸아미노부틸)시클로펜타데실, 2-(5-펜틸아미노펜틸)시클로헥사데실, 2-(6-헥실아미노헥실)시클로노닐, 3-(디메틸아미노메틸)시클로도데실, 3-[(N-에틸-N-프로필아미노)메틸]시클로데실, 4-[2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸]시클로헥사데실, 2,2-디메틸시클로프로필, 2-트리플루오로메틸시클로프로필기를 들 수 있다.
저급 알케닐기의 예로서는, 1 내지 3 개의 이중 결합을 가진 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알케닐기, 예컨대 비닐기, 1-프로페닐기, 1-메틸-1-프로페닐기, 2-메틸-1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 2-부테닐기, 1-부테닐기, 3-부테닐기, 2-펜테닐기, 1-펜테닐기, 3-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1,3-부타디에닐기, 1,3-펜타디에닐기, 2-펜텐-4-인일기, 2-헥세닐기, 1-헥세닐기, 5-헥세닐기, 3-헥세닐기, 4-헥세닐기, 3,3-디메틸-1-프로페닐기, 2-에틸-1-프로페닐기, 1,3,5-헥사트리에닐기, 1,3-헥사디에닐기, 및 1,4-헥사디에닐기를 들 수 있다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알케닐기의 예로서는, 상기 기재한 저급 알케닐기 외에, 1 내지 3 개의 이중 결합 및 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알케닐기, 예컨대 3,3,3-트리플루오로-1-프로페닐, 2-브로모비닐, 3-클로로-1-프로페닐, 3-요오도-1-메틸-1-프로페닐, 3-플루오로-2-메틸-1-프로페닐, 2-부테닐, 4,4,3-트리클로로-1-부테닐, 4,4-디플루오로-3-부테닐, 5-플루오로-2-펜테닐, 5,5,3-트리브로모-1-펜테닐, 5-클로로-3-펜테닐, 5,5,5-트리플루오로-4-펜테닐, 4-클로로-1,3-부타디에닐, 5-플루오로-1,3-펜타디에닐, 5-브로모-2-펜텐-4-인일, 6-플루오로-2-헥세닐, 6,6,5-트리플루오로-1-헥세닐, 6-클로로-5-헥세닐, 5-브로모-3-헥세닐, 6-클로로-4-헥세닐, 3,3-디메틸-2-클로로-1-프로페닐, 3-플루오로-2-에틸-1-프로페닐, 6-클로로-1,3,5-헥사트리에닐, 6-브로모-1,3-헥사디에닐, 6-플루오로-1,4-헥사디에닐기를 들 수 있다.
저급 알킬렌디옥시기의 예로서는, 탄소수 1 내지 4 의 선형 또는 분지형 알킬렌기, 예컨대 메틸렌디옥시기, 에틸렌디옥시기, 트리메틸렌디옥시기, 및 테트라메틸렌디옥시기를 들 수 있다.
저급 알킬기, 저급 알카노일기, 벤조일기 및 시클로알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노기의 예로서는, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기, 벤조일기, 및 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 또는 2 개의 치환기를 가질 수 있는 아미노기, 예컨대 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, tert-부틸아미노, 펜틸아미노, 헥실아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 디펜틸아미노, 디헥실아미노, N-메틸-N-에틸아미노, N-에틸-N-프로필아미노, N-메틸-N-부틸아미노, N-메틸-N-헥실아미노, N-메틸-N-아세틸아미노, N-아세틸아미노, N-포르밀아미노, N-프로피오닐아미노, N-부티릴아미노, N-이소부티릴아미노, N-펜타노일아미노, N-tert-부틸카르보닐아미노, N-헥사노일아미노, N-에틸-N-아세틸아미노, N-벤조일아미노, N-에틸-N-벤조일아미노, N-메틸-N-벤조일아미노, N-아세틸-N-벤조일아미노, 시클로프로필아미노, 시클로부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 시클로헥실아미노, 시클로헵틸아미노, 시클로옥틸아미노, N-메틸-N-시클로헥실아미노, N-메틸-N-시클로펜틸아미노, N-메틸-N-시클로헵틸아미노, N-시클로헥실-N-아세틸아미노, N-시클로펜틸-N-벤조일아미노, 시클로노닐아미노, 시클로데실아미노, 시클로도데실아미노, 시클로트리데실아미노, 시클로테트라데실아미노, 시클로펜타데실아미노, N-메틸-N-시클로헥사데실아미노, N-메틸-N-시클로노닐아미노, N-메틸-N-시클로데실아미노, N-시클로운데실-N-아세틸아미노, N-시클로헥사데실-N-벤조일아미노기를 들 수 있다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기의 예로서는, 상기 기재한 저급 알카노일기 외에, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기, 예컨대 2,2,2-트리플루오로아세틸기, 2,2,2-트리클로로아세틸기, 2-클로로아세틸기, 2-브로모아세틸기, 2-플루오로아세틸기, 2-요오도아세틸기, 2,2-디플루오로아세틸기, 2,2-디브로모아세틸기, 3,3,3-트리플루오로프로피오닐기, 3,3,3-트리클로로프로피오닐기, 3-클로로프로피오닐기, 2,3-디클로로프로피오닐기, 4,4,4-트리클로로부티릴기, 4-플루오로부티릴기, 5-클로로펜타노일기, 3-클로로-2-메틸프로피오닐기, 6-브로모헥사노일기, 및 5,6-디브로모헥사노일기를 들 수 있다.
저급 알콕시카르보닐기의 예로서는, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 예컨대 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, tert-부톡시카르보닐기, 펜틸옥시카르보닐기, 및 헥실옥시카르보닐기를 들 수 있다.
저급 알카노일옥시기의 예로서는, 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일옥시기, 예컨대 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기, 부티릴옥시기, 이소부티릴옥시기, 펜타노일옥시기, tert-부틸카르보닐옥시기, 및 헥사노일옥시기를 들 수 있다.
1 내지 4 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 가진 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기의 예로서는, 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노, 피리딜, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 티에닐, 피라질, 피리미딜, 피리다질, 피롤릴, 2H-피롤릴, 이미다졸리디닐, 피라졸릴, 이미다졸릴, 피라졸리디닐, 푸라자닐, 2-이미다졸리닐, 이미다졸리디닐, 2-피롤리닐, 푸릴, 옥사졸릴, 이속사질리디닐, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라닐, 2-피라졸리디닐, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,5-트리아졸릴, 티아졸리디닐, 2-티아졸리닐, 1,2,3,4-테트라졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라히드로피라닐, 테트라히드로푸릴기를 들 수 있다.
R11 및 R12 를 이들에 결합된 질소 원자와 함께, 질소 원자, 황 원자 또는 산소 원자를 통해 또는 이들을 통하지 않고 서로 결합시켜 형성되는 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리의 예로서는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 피페라지닐기, 모르폴리노기, 티오모르폴리노기, 및 호모피페라지닐기를 들 수 있다.
이미다졸릴 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 이미다졸릴알킬기, 예컨대 (1,2,4 또는 5-)이미다졸릴메틸기, 2-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]에틸기, 1-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]에틸기, 3-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]프로필기, 4-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]부틸기, 5-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]펜틸기, 6-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]에틸기, 및 2-메틸-3-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]프로필기를 들 수 있다.
1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,4-트리아졸릴알킬기, 예컨대 (1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴메틸, 2-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]에틸, 1-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]에틸, 3-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]프로필, 4-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]부틸, 5-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]펜틸, 6-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 3, 또는 5-)1,2,4-트리아졸릴]프로필기를 들 수 있다.
1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3-트리아졸릴알킬기, 예컨대 (1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴메틸, 2-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]에틸, 1-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]에틸, 3-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]프로필, 4-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]부틸, 5-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]펜틸, 6-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 4, 또는 5-)1,2,3-트리아졸릴]프로필기를 들 수 있다.
1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,5-트리아졸릴알킬기, 예컨대 (1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴메틸, 2-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]에틸, 1-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]에틸, 3-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]프로필, 4-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]부틸, 5-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]펜틸, 6-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 3, 또는 4-)1,2,5-트리아졸릴]프로필기를 들 수 있다.
피라졸릴 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 피라졸릴알킬기, 예컨대 (1,3,4 또는 5-)피라졸릴메틸기, 2-[(1,3,4 또는 5-)1,2,5-피라졸릴]에틸기, 1-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]에틸기, 3-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]프로필기, 4-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]부틸기, 5-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]펜틸기, 6-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]에틸기, 및 2-메틸-3-[(1,3,4 또는 5-)피라졸릴]프로필기를 들 수 있다.
피리미디닐 저급 알킬기의 예로서는, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 피리미디닐알킬기, 예컨대 (2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐메틸, 2-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]에틸, 1-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]에틸, 3-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]프로필, 4-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]부틸, 5-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]펜틸, 6-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]에틸, 2-메틸-3-[(2, 4, 5, 또는 6-)피리미디닐]프로필, [(1, 3, 4, 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]메틸, [(1, 3, 4, 5, 또는 6-)2-옥소피리미디닐]메틸, [(1, 2, 4, 또는 5-)6-옥소피리미디닐]메틸, [(1, 2, 5, 또는 6-)4-옥소피리미디닐]메틸, [(1, 3, 5, 또는 6-)2,4-디옥소피리미디닐]메틸, 2-[(4 또는 6-)2,5-디옥소피리미디닐]에틸, 1-[(1, 3, 4, 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]에틸, 3-[(1, 3, 또는 5-)2,4,6-트리옥소피리미디닐]프로필, 4-[(1, 3, 4, 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]부틸, 5-[(4 또는 6-)2,5-디옥소피리미디닐]펜틸, 6-[(1, 3, 5, 또는 6-)2,4-디옥소피리미디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 3, 4, 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]에틸, 2-메틸-3-[(1, 3, 4, 또는 5-)2,6-디옥소피리미디닐]프로필기를 들 수 있다.
3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴알킬기, 예컨대 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴메틸기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴에틸기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴프로필기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴이소프로필기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴부틸기, 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴펜틸기, 및 3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴헥실기를 들 수 있다.
1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기의 예로서는, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,4-옥사디아졸릴알킬기, 예컨대 (3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴메틸, 2-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]에틸, 1-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]에틸, 3-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]프로필, 4-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]부틸, 5-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]펜틸, 6-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(3 또는 5-)1,2,4-옥사디아졸릴]프로필, 5-메틸-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)메틸, 3-에틸-2-[5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]에틸, 1-[3-프로필-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]에틸, 3-[5-부틸-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)]프로필, 4-[3-펜틸-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]부틸, 5-[5-헥실-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)]펜틸, 6-[3-메틸-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]헥실, 1,1-디메틸-2-[5-이소프로필-3-(1,2,4-옥사디아졸릴)]에틸, 2-메틸-3-[3-이소부틸-5-(1,2,4-옥사디아졸릴)]프로필기를 들 수 있다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기의 예로서는, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐알킬기, 예컨대 (2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐메틸, 2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 4-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]부틸, 5-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]펜틸, 6-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 2,4-디옥소-5-티아졸리디닐메틸, 2-[2-옥소-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[4-옥소-(2, 3, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[5-옥소-(2, 3, 또는 4-)티아졸리디닐]프로필, 4-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]부틸, 5-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]펜틸, 6-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로필기를 들 수 있다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기의 예로서는, 상기 기재한 페닐 저급 알킬기 외에, 페닐 고리 상에 치환기로서 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 예컨대 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(2,3-에틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,3-메틸렌디옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4-에틸렌디옥시페닐)프로필기를 들 수 있다.
저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기의 예로서는, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기이고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 알콕시카르보닐알킬기, 예컨대 메톡시카르보닐메틸기, 에톡시카르보닐메틸기, 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-에톡시카르보닐메틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐프로필기, 3-에톡시카르보닐프로필기, 4-에톡시카르보닐부틸기, 5-이소프로폭시카르보닐펜틸기, 6-프로폭시카르보닐헥실기, 1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐에틸기, 2-메틸-3-tert-부톡시카르보닐프로필기, 2-펜틸옥시카르보닐에틸기, 및 헥실옥시카르보닐메틸기를 들 수 있다.
카르복시 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 카르복시알킬기, 예컨대 카르복시메틸기, 2-카르복시에틸기, 1-카르복시에틸기, 3-카르복시프로필기, 4-카르복시부틸기, 5-카르복시펜틸기, 6-카르복시헥실기, 1,1-디메틸-2-카르복시에틸기, 및 2-메틸-3-카르복시프로필기를 들 수 있다.
모르폴리노 치환된 저급 알카노일기의 예로서는, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기인 모르폴리노 치환된 알카노일기, 예컨대 2-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]아세틸기, 3-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐기, 2-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐기, 4-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]부티릴기, 5-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]펜타노일기, 6-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]헥사노일기, 2,2-디메틸-2-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐기, 및 2-메틸-3-[(2,3 또는 4-)모르폴리노]프로피오닐기를 들 수 있다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리가 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기의 예로서는, 피페라진 고리가 탄소수 1 내지 4 의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 1 내지 3 개의 페닐알킬기로 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐알킬기로서, 그의 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 피페라지닐카르보닐알킬기, 예컨대 [(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐메틸, 2-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐] 카르보닐에틸, 1-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐에틸, 3-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐프로필, 4-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐부틸, 5-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐펜틸, 6-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]카르보닐프로필, (4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)메틸, 2-[4-(2-페닐에틸)-1-피페라지닐카르보닐]에틸, 1-[4-(3-페닐프로필)-1-피페라지닐카르보닐]에틸, 3-[4-(4-페닐부틸)-1-피페라지닐카르보닐]프로필, 4-[4-(5-페닐펜틸)-1-피페라지닐카르보닐]부틸, 5-[4-(6-페닐프로필)-1-피페라지닐카르보닐]펜틸, 6-(4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)에틸, 2-메틸-3-(4-벤질-1-피페라지닐카르보닐)프로필, [4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸, 2-{4-[2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸]-1-피페라지닐카르보닐}에틸, 1-{4-[3-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐카르보닐}에틸, 3-{4-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)부틸]-1-피페라지닐카르보닐}프로필, 4-{4-[5-(3,4-메틸렌디옥시페닐)펜틸]-1-피페라지닐카르보닐}부틸, 5-{4-[3-(2,3-에틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐카르보닐}펜틸, 6-[4-(3,4-트리메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]에틸, 2-메틸-3-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]프로필, (3,4-디벤질-1-피페라지닐카르보닐)메틸, (3,4,5-트리벤질-1-피페라지닐카르보닐)메틸, [2,4-디(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐])메틸, [2,4,6-트리(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸, [3-벤질-4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐카르보닐]메틸기를 들 수 있다.
피페라진 고리가 페닐 고리 상에서 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기의 예로서는, 피페라진 고리가 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 4 의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 1 내지 3 개의 페닐알킬기로 치환될 수 있는 피페라지닐알카노일기로서, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기인 피페라지닐알카노일기, 예컨대 2-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]아세틸, 3-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 2-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 4-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]부티릴, 5-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]펜타노일, 6-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[(1, 2, 또는 3-)피페라지닐]프로피오닐, 2-(4-벤질-1-피페라지닐)아세틸, 3-[4-(2-페닐에틸)-1-피페라지닐]프로피오닐, 2-[4-(3-페닐프로필)-1-피페라지닐]프로피오닐, 4-[4-(4-페닐부틸)-1-피페라지닐]부티릴, 5-[4-(5-페닐펜틸)-1-피페라지닐]펜타노일, 6-[4-(6-페닐프로필)-1-피페라지닐]헥사노일, 6-(4-벤질-1-피페라지닐)헥사노일, 2,2-디메틸-3-(4-벤질-1-피페라지닐)프로피오닐, 2-메틸-3-(4-벤질-1-피페라지닐)프로피오닐, 2-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐])아세틸, 3-{4-[2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸]-1-피페라지닐}프로피오닐, 2-{4-[3-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐}프로피오닐, 4-{4-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)부틸]-1-피페라지닐}부티릴, 5-{4-[5-(3,4-메틸렌디옥시페닐)펜틸]-1-피페라지닐}펜타노일, 5-{4-[3-(2,3-에틸렌디옥시페닐)프로필]-1-피페라지닐}펜타노일, 6-[4-(3,4-트리메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐])헥사노일, 2,2-디메틸-3-[4-(2,3-테트라메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐]프로피오닐, 2-(3,4-디벤질-1-피페라지닐)아세틸, 2-(3,4,5-트리벤질-1-피페라지닐)아세틸, 2-[2,4-디(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐])아세틸, 2-[2,4,6-트리(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐])아세틸, 2-[3-벤질-4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-1-피페라지닐])아세틸기를 들 수 있다.
모르폴리노카르보닐 치환된 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 모르폴리노카르보닐알킬기, 예컨대 [(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐메틸, 2-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐에틸, 1-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐에틸, 3-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐프로필, 4-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐부틸, 5-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐펜틸, 6-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐에틸, 2-메틸-3-[(2, 3, 또는 4-)모르폴리노]카르보닐프로필기를 들 수 있다.
이미다졸릴 저급 알카노일기의 예로서는, 알카노일 부분이 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기인 이미다졸릴알카노일기, 예컨대 2-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]아세틸기, 3-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐기, 2-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐기, 4-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]부티릴기, 5-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]펜타노일기, 6-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]헥사노일기, 2,2-디메틸-3-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐기, 및 2-메틸-3-[(1,2,4 또는 5-)이미다졸릴]프로피오닐기를 들 수 있다.
시클로알킬카르보닐기의 예로서는, 시클로알킬 부분이 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬기인 시클로알킬카르보닐기, 예컨대 시클로프로필카르보닐기, 시클로부틸카르보닐기, 시클로펜틸카르보닐기, 시클로헥실카르보닐기, 시클로헵틸카르보닐기, 시클로옥틸카르보닐기, 시클로노닐카르보닐기, 시클로데실카르보닐기, 시클로운데실카르보닐기, 시클로도데실카르보닐기, 시클로트리데실카르보닐기, 시클로테트라데실카르보닐기, 시클로펜타데실카르보닐기, 및 시클로헥사데실카르보닐기를 들 수 있다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알카노일기의 예로서는, 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는, 아미노기로 치환된 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기, 예컨대 아미노아세틸, 2-아미노프로피오닐, 3-아미노프로피오닐, 4-아미노부티릴, 5-아미노펜타노일, 6-아미노헥사노일, 2,2-디메틸-3-아미노프로피오닐, 2-메틸-3-아미노프로피오닐, 메틸아미노아세틸, 2-에틸아미노프로피오닐, 3-프로필아미노프로피오닐, 3-이소프로필아미노프로피오닐, 4-부틸아미노부티릴, 5-펜틸아미노펜타노일, 6-헥실아미노헥사노일, 디메틸아미노아세틸, 3-디이소프로필아미노프로피오닐, (N-에틸-N-프로필아미노)아세틸, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)아세틸기를 들 수 있다.
치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬렌기의 예로서는, 상기 기재한 저급 알킬렌기 외에, 1 내지 3 개의 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬렌기, 예컨대 1-히드록시메틸렌, 2-히드록시에틸렌, 1-히드록시에틸렌, 2-히드록시트리메틸렌, 3-히드록시트리메틸렌, 1-히드록시트리메틸렌, 3-히드록시-2-메틸트리메틸렌, 1-히드록시-2-메틸트리메틸렌, 3-히드록시-2,2-디메틸트리메틸렌, 1-히드록시-2,2-디메틸트리메틸렌, 3-히드록시-1-메틸트리메틸렌, 2-히드록시-1-메틸트리메틸렌, 1-히드록시메틸메틸렌, 히드록시메틸메틸렌, 2-히드록시메틸트리메틸렌, 2-히드록시메틸-2-메틸트리메틸렌, (2-히드록시에틸)메틸렌, (1-히드록시에틸)메틸렌, 4-히드록시테트라메틸렌, 2-히드록시테트라메틸렌, 3-히드록시테트라메틸렌, 1-히드록시테트라메틸렌, 5-히드록시펜타메틸렌, 4-히드록시펜타메틸렌, 3-히드록시펜타메틸렌, 2-히드록시펜타메틸렌, 1-히드록시펜타메틸렌, 6-히드록시헥사메틸렌, 5-히드록시헥사메틸렌, 4-히드록시헥사메틸렌, 3-히드록시헥사메틸렌, 2-히드록시헥사메틸렌, 1-히드록시헥사메틸렌, 1,2-디히드록시트리메틸렌, 2,2,4-트리히드록시테트라메틸렌, 1,2,6-트리히드록시헥사메틸렌, 3,4,5-트리히드록시펜타메틸렌기를 들 수 있다.
치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기의 예로서는, 상기 기재한 저급 알킬기 외에, 1 내지 3 개의 히드록실기를 치환기로서 가진 탄소수 1 내지 16 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 1-메틸헥실기, 헥사데실기, 히드록시메틸기, 2-히드록시에틸기, 1-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기, 2,3-디히드록시프로필기, 4-히드록시부틸기, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸기, 5,5,4-트리히드록시펜틸기, 5-히드록시펜틸기, 6-히드록시헥실기, 1-히드록시이소프로필기, 및 2-메틸-3-히드록시프로필기를 들 수 있다.
히드록실기 치환된 알킬기의 예로서는, 1 내지 3 개의 히드록실기를 치환기로서 가진 탄소수 1 내지 16 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 히드록시메틸기, 2-히드록시에틸기, 1-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기, 2,3-디히드록시프로필기, 4-히드록시부틸기, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸기, 5,5,4-트리히드록시펜틸기, 5-히드록시펜틸기, 6-히드록시헥실기, 1-히드록시이소프로필기, 및 2-메틸-3-히드록시프로필기를 들 수 있다.
히드록실기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬기의 예로서는, 상기 기재한 시클로알킬기 외에, 히드록실기 및 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬기, 예컨대 2-히드록시시클로프로필, 3-히드록시시클로부틸, 3-히드록시시클로펜틸, 2-히드록시시클로헥실, 4-히드록시시클로헥실, 3-히드록시시클로헵틸, 4-히드록시시클로옥틸, 5-히드록시시클로노닐, 3-히드록시시클로데실, 4-히드록시시클로운데실, 5-히드록시시클로도데실, 6-히드록시시클로트리데실, 7-히드록시시클로테트라데실, 6-히드록시시클로펜타데실, 8-히드록시시클로헥사데실, 2,4-디히드록시시클로헥실, 2,4,6-트리히드록시시클로헥실, 1-메틸시클로펜틸, 2-에틸시클로프로필, 3-n-프로필시클로부틸, 2-n-부틸시클로헥실, 4-n-펜틸시클로헵틸, 4-n-헥실시클로옥틸, 2,3-디메틸시클로헥실, 2,3,4-트리메틸시클로헥실, 2-메틸-4-히드록시시클로헥실기를 들 수 있다.
페녹시 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페녹시알킬기, 예컨대 페녹시메틸기, 2-페녹시에틸기, 1-페녹시에틸기, 3-페녹시프로필기, 4-페녹시부틸기, 1,1-디메틸-2-페녹시에틸기, 5-페녹시펜틸기, 6-페녹시헥실기, 1-페녹시이소프로필기, 및 2-메틸-3-페녹시프로필기를 들 수 있다.
저급 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기의 예로서는, 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는, 아미노기로 치환된 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기, 예컨대 아미노메톡시, 2-아미노에톡시, 1-아미노에톡시, 3-아미노프로폭시, 4-아미노부톡시, 5-아미노펜틸옥시, 6-아미노헥실옥시, 1,1-디메틸-2-아미노에톡시, 2-메틸-3-아미노프로폭시, 메틸아미노메톡시, 1-에틸아미노에톡시, 2-프로필아미노에톡시, 3-이소프로필아미노프로폭시, 4-부틸아미노부톡시, 5-펜틸아미노펜틸옥시, 6-헥실아미노헥실옥시, 디메틸아미노메톡시, 2-디에틸아미노에톡시, 2-디이소프로필아미노에톡시, (N-에틸-N-프로필아미노)메톡시, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에톡시기를 들 수 있다.
히드록실기 치환된 저급 알킬기의 예로서는, 1 내지 3 개의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기, 2,3-디히드록시프로필기, 4-히드록시부틸기, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸기, 5,5,4-트리히드록시펜틸기, 5-히드록시펜틸기, 6-히드록시헥실기, 1-히드록시이소프로필기, 및 2-메틸-3-히드록시프로필기를 들 수 있다.
저급 알킬설포닐을 치환기로서 가질 수 있는 아미노기의 예로서는, 탄소수 1 내지 6 의 1 또는 2 개의 선형 또는 분지형 알킬설포닐기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기, 예컨대 아미노, 메틸설포닐아미노, 에틸설포닐아미노, 프로필설포닐아미노, 이소프로필설포닐아미노, 부틸설포닐아미노, tert-부틸설포닐아미노, 펜틸설포닐아미노, 헥실설포닐아미노, 디메틸설포닐아미노, 디에틸설포닐아미노, 디프로필설포닐아미노, 디부틸설포닐아미노, 디펜틸설포닐아미노, 디헥실설포닐아미노, N-메틸설포닐-N-에틸설포닐아미노, N-에틸설포닐-N-프로필설포닐아미노, N-메틸설포닐-N-부틸설포닐아미노, N-메틸설포닐-N-헥실설포닐아미노기를 들 수 있다.
저급 알키닐기의 예로서는, 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알키닐기, 예컨대 에티닐기, 2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-펜티닐기, 및 2-헥시닐기를 들 수 있다.
페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기의 예로서는, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기, 예컨대 아닐리노, 2-플루오로아닐리노, 3-플루오로아닐리노, 4-플루오로아닐리노, 2-브로모아닐리노, 3-브로모아닐리노, 4-브로모아닐리노, 2-요오도아닐리노, 3-요오도아닐리노, 4-요오도아닐리노, 2,3-디브로모아닐리노, 2,4-디요오도아닐리노, 2,5-디플루오로아닐리노, 2,6-디클로로아닐리노, 2,4,6-트리클로로아닐리노, 2,6-디플루오로아닐리노, 3,5-디플루오로아닐리노, 2,6-디플루오로아닐리노, 2-클로로아닐리노, 3-클로로아닐리노, 4-클로로아닐리노, 2,3-디클로로아닐리노, 2,4-디클로로아닐리노, 2,5-디클로로아닐리노, 3,4-디클로로아닐리노, 2,6-디클로로아닐리노, 3,5-디클로로아닐리노, 2,4,6-트리플루오로아닐리노, 2,4-디플루오로아닐리노, 3,4-디플루오로아닐리노기를 들 수 있다.
피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기의 예로서는, 피페라진 고리 상에 1 내지 3 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 피페라지닐기, 예컨대 (1-, 2- 또는 3-)피페라지닐기, 4-메틸-(1-, 2- 또는 3-)피페라지닐기, 2,3-디메틸-(1 또는 5-)피페라지닐기, 및 2,3,4-트리메틸-(1-, 5- 또는 6-)피페라지닐기를 들 수 있다.
피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기의 예로서는, 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 1 또는 2 개의 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기, 예컨대 (1-, 2- 또는 3-)피롤리디닐기, 2-옥소-(1-, 3-, 4- 또는 5-)피롤리디닐기, 3-옥소-(1-, 2-, 4- 또는 5-)피롤리디닐기, 2,3-디옥소-(1-, 4- 또는 5-)피롤리디닐기, 및 2,5-디옥소-(1-, 3- 또는 4-)피롤리디닐기를 들 수 있다.
저급 알킬기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기; 할로겐 원자; 저급 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노 저급 알콕시기; 히드록실기 치환된 저급 알킬기; 페닐 저급 알킬기; 저급 알키닐기; 저급 알킬설포닐기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기; 저급 알킬티오기; 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 저급 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피롤리디닐기; 저급 알카노일아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리가 치환될 수 있는 페닐기의 예로서는, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기; 할로겐 원자; 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기이고 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노알콕시기; 1 내지 3 개의 히드록실기를 치환기로서 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기; 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기; 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알키닐기; 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬설포닐기를 치환기로서 가질 수 있는 아미노기; 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬티오기; 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬기; 페닐티오기; 아다만틸기; 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 아닐리노기; 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기; 피페라진 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기; 피롤리딘 고리 상에 1 또는 2 개의 옥소기를 치환기로서 가질 수 있는 피롤리디닐기; 1 또는 2 개의 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기; 시아노기; 및 페녹시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리가 치환될 수 있는 페닐기, 예컨대 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 2-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-메톡시페닐, 2-에톡시페닐, 3-에톡시페닐, 4-에톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 3-부톡시페닐, 4-펜틸옥시페닐, 4-헥실옥시페닐, 3,4-디메톡시페닐, 3,4-디에톡시페닐, 2,4-디메톡시페닐, 2,5-디메톡시페닐, 2,6-디메톡시페닐, 3,4,5-트리메톡시페닐, 2-트리플루오로메톡시페닐, 3-트리플루오로메톡시페닐, 4-트리플루오로메톡시페닐, 2-(브로모메톡시)페닐, 3-(2-클로로에톡시)페닐, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐, 4-(4-플루오로부톡시)페닐, 3-(5-클로로펜틸옥시)페닐, 4-(5-브로모헥실옥시)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메틸-3-트리플루오로메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 2-페녹시페닐, 3-페녹시페닐, 4-페녹시페닐, 2,3-디페녹시페닐, 3,4-디페녹시페닐, 2,6-디페녹시페닐, 3,4,5-트리페녹시페닐, 2-메틸-4-페녹시페닐, 3-에틸-4-페녹시페닐, 2-메톡시-4-페녹시페닐, 3-에톡시-4-페녹시페닐, 2-메틸-3-페녹시-4-트리플루오로메톡시페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 3,4-디클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 2-플루오로페닐, 3-플루오로페닐, 4-플루오로페닐, 2,5-디플루오로페닐, 2,4-디플루오로페닐, 3,4-디플루오로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 2,4,6-트리플루오로페닐, 2-브로모페닐, 3-브로모페닐, 4-브로모페닐, 2-요오도페닐, 3-요오도페닐, 4-요오도페닐, 2,3-디브로모페닐, 2,4-디요오도페닐, 4-메틸티오페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-클로로-2-아닐리노페닐, 2-(4-클로로아닐리노)-5-에톡시카르보닐페닐, 4-[2-(N,N-디에틸아미노)에톡시]페닐, 4-(4-메틸-1-피페라지닐)페닐, 4-(2-옥소-1-피롤리디닐)페닐, 4-메틸설포닐아미노페닐, 4-(2-히드록시에틸)페닐, 4-벤질페닐, 4-에티닐페닐, 4-페닐티오페닐, 4-(1-아다만틸)페닐, 5-아세틸아미노-2-클로로페닐, 3-시아노페닐, 2-시아노페닐, 4-시아노페닐, 2-프로파노일아미노페닐, 3,4-디시아노페닐, 3,4,5-트리시아노페닐기를 들 수 있다.
페닐 고리가 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기의 예로서는, 상기 기재한 페닐 저급 알킬기 외에, 페닐 고리가 할로겐 원자, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 예컨대 4-플루오로벤질, 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2-(2-플루오로페닐)에틸, 2-(4-플루오로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 3,4-디브로모벤질, 3,4-디요오도벤질, 2,4-디플루오로벤질, 2,5-디클로로벤질, 2,6-디클로로벤질, 3,4,5-트리플루오로벤질, 3-(4-클로로페닐)프로필, 1-(2-브로모페닐)에틸, 4-(3-플루오로페닐)부틸, 5-(4-요오도페닐)펜틸, 6-(4-클로로페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-플루오로페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-클로로페닐)프로필, 2-메틸벤질, 2-(3-메틸페닐)에틸, 3-(4-메틸페닐)프로필, 1-(2-에틸페닐)에틸, 4-(3-에틸페닐)부틸, 5-(4-에틸페닐)펜틸, 6-(4-이소프로필페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-부틸페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-펜틸페닐)프로필, 4-헥실벤질, 3,4-디메틸벤질, 3,4-디에틸벤질, 2,4-디메틸벤질, 2,5-디메틸벤질, 2,6-디메틸벤질, 3,4,5-트리메틸벤질, 2-메톡시벤질, 2-(2-메톡시페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 4-메톡시벤질, 1-(2-에톡시페닐)에틸, 3-(3-에톡시페닐)프로필, 4-(4-에톡시페닐)부틸, 5-(4-이소프로폭시페닐)펜틸, 6-(3-부톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-펜틸옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-헥실옥시페닐)프로필, 3,4-디메톡시벤질, 3,4-디에톡시벤질, 2,4-디메톡시벤질, 2,5-디메톡시벤질, 2,6-디메톡시벤질, 3,4,5-트리메톡시벤질, 2-트리플루오로메톡시벤질, 3-트리플루오로메톡시벤질, 4-트리플루오로메톡시벤질, 2-[2-(브로모메톡시)페닐]에틸, 1-[3-(2-클로로에톡시)페닐]에틸, 3-[4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐]프로필, 4-[4-(4-플루오로부톡시)페닐]부틸, 5-[3-(5-클로로펜틸옥시)페닐]펜틸, 6-[4-(5-브로모헥실옥시)페닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐]에틸, 3,4-디(트리플루오로메톡시)벤질, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)벤질, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)벤질, 2,5-디(3-클로로프로폭시)벤질, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤질, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)벤질, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)벤질, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시벤질, 3-에틸-4-트리클로로메톡시벤질, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤질, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시벤질, 2-메틸-3-트리플루오로메톡시-4-트리플루오로메톡시벤질, 2-클로로-3-메틸벤질, 4-플루오로-2-트리플루오로메톡시벤질, 3-클로로-2-메틸-4-메톡시벤질기를 들 수 있다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기의 예로서는, 페닐 고리 상에 탄소수 1 내지 4 의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가지며 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 예컨대 3,4-메틸렌디옥시벤질기, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질기, 2-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸기, 1-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)에틸기, 3-(2,3-테트라메틸렌디옥시페닐)프로필기, 4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)부틸기, 5-(2,3-에틸렌디옥시페닐)펜틸기, 6-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)헥실기, 1,1-디메틸-2-(2,3-메틸렌디옥시페닐)에틸기, 및 2-메틸-3-(3,4-에틸렌디옥시페닐)프로필기를 들 수 있다.
치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기의 예로서는, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기를 치환기로서 가질 수 있는 것, 예컨대 아미노기, N-아세틸아미노기, N-포르밀아미노기, N-프로피오닐아미노기, N-부티릴아미노기, N-이소부티릴아미노기, N-펜타노일아미노기, N-tert-부틸카르보닐아미노기, 및 N-헥사노일아미노기를 들 수 있다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에, 옥소기, 저급 알콕시기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기의 예로서는, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에, 옥소기, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 탄소수 1 내지 4 의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 예컨대 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2-옥소-6,7-메틸렌디옥시-(1, 3, 4, 5, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2,4-디옥소-6,7-메틸렌디옥시-(1, 3, 5, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 5,6-에틸렌디옥시-(1, 2, 3, 4, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 7,8-트리메틸렌디옥시-(1, 2, 3, 4, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 6,7-테트라메틸렌디옥시-(1, 2, 3, 4, 5, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 5-메톡시-2-옥소-(1, 3, 4, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 2-옥소-6,7-에틸렌디옥시-(1, 3, 4, 5, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기를 들 수 있다.
시클로알킬 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 탄소수 3 내지 16 의 시클로알킬알킬기, 예컨대 시클로프로필메틸기, 시클로헥실메틸기, 2-시클로프로필에틸기, 1-시클로부틸에틸기, 3-시클로펜틸프로필기, 4-시클로헥실부틸기, 5-시클로헵틸펜틸기, 6-시클로옥틸헥실기, 1,1-디메틸-2-시클로노닐에틸기, 2-메틸-3-시클로데실프로필기, 시클로운데실메틸기, 2-시클로도데실에틸기, 1-시클로트리데실에틸기, 3-시클로테트라데실프로필기, 4-시클로펜타데실부틸기, 및 5-시클로데실펜틸기를 들 수 있다.
피리딜 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알킬기, 예컨대 (2,3 또는 4-)피리딜메틸기, 2-[(2,3 또는 4-)피리딜]에틸기, 1-[(2,3 또는 4-)피리딜]에틸기, 3-[(2,3 또는 4-)피리딜]프로필기, 4-[(2,3 또는 4-)피리딜]부틸기, 1,1-디메틸-2-[(2,3 또는 4-)피리딜]에틸기, 5-[(2,3 또는 4-)피리딜]펜틸기, 6-[(2,3 또는 4-)피리딜]헥실기, 1-[(2,3 또는 4-)피리딜]이소프로필기, 및 2-메틸-3-[(2,3 또는 4-)피리딜]프로필기를 들 수 있다.
저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노기 치환된 저급 알킬기의 예로서는, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기 및 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기로 이루어진 군에서 선택되는 1 또는 2 개의 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 가진 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 아미노메틸, 2-아미노에틸, 1-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 1-에틸아미노에틸, 2-프로필아미노에틸, 3-이소프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 5-펜틸아미노펜틸, 6-헥실아미노헥실, 디메틸아미노메틸, 2-디이소프로필아미노에틸, (N-에틸-N-프로필아미노)메틸, 2-(N,N-디메틸아미노)에틸, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸, 포르밀아미노메틸, 아세틸아미노메틸, 1-프로피오닐아미노에틸, 2-아세틸아미노에틸, 3-부티릴아미노프로필, 4-펜타노일아미노부틸, 5-헥사노일아미노펜틸, 6-아세틸아미노헥실, N-메틸-N-아세틸아미노메틸, 2-(N-에틸-N-프로파노일아미노)에틸, (N-에틸-N-부티릴아미노)메틸, 2-(N-메틸-N-헥사노일아미노)에틸, 3-(N,N-디메틸아미노)프로필기를 들 수 있다.
저급 알콕시 저급 알킬기의 예로서는, 치환기로서 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기를 갖는 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 메톡시메틸기, 1-에톡시에틸기, 2-메톡시에틸기, 2-프로폭시에틸기, 3-이소프로폭시프로필기, 4-부톡시부틸기, 5-펜틸옥시펜틸기, 6-헥실옥시헥실기, 1,1-디메틸-2-메톡시에틸기, 2-메틸-3-에톡시프로필기, 및 3-메톡시프로필기를 들 수 있다.
1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환된 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐알킬기, 예컨대 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐메틸, 2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]에틸, 1-[((1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]에틸, 3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]프로필, 4-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]부틸, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]에틸, 5-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]펜틸, 6-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]헥실, 1-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]이소프로필, 2-메틸-3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐]프로필기를 들 수 있다.
피페리딘 고리 상에, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기의 예로서는, 피페리딘 고리 상에, 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기인 알콕시카르보닐기, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기 및 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 푸릴알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 피페리디닐카르보닐기, 예컨대 (1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-벤질-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(2 또는 3-)푸릴메틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(2-페닐에틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{2-[(1 또는 2-)푸릴]에틸}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(1-페닐에틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{3-[(1 또는 2-)푸릴]프로필]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(3-페닐프로필)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(4-페닐부틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{4-[(1 또는 2-)푸릴]부틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(5-페닐펜틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{5-[(1 또는 2-)푸릴]펜틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-(6-페닐헥실)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-{6-[(1 또는 2-)푸릴]헥실]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1,2-디벤질-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,3-디(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,3,5-트리벤질-(2, 4, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,2,6-트리(1 또는 2-)푸릴메틸-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐카르보닐, 1-벤질-3-(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-메톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-에톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-프로폭시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-부톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-tert-부톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-펜틸옥시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1-헥실옥시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐카르보닐, 1,2-디메톡시카르보닐-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1,2,6-트리에톡시카르보닐-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐카르보닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-3-tert-부톡시카르보닐-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1-벤질-2-메톡시카르보닐-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-2,4-디메톡시카르보닐-(3, 5, 또는 6-)피페리디닐카르보닐기를 들 수 있다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기의 예로서는, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있고 알카노일 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알카노일기인 티아졸리디닐알카노일기, 예컨대 2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[(2, 3, 4, 또는 5-)1,2,4-티아졸리디닐]펜타노일, 6-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐아세틸, 3-[2-옥소-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-옥소-(2, 3, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[5-옥소-(2, 3, 또는 4-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]헥사노일, 2-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]아세틸, 2,2-디메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐기를 들 수 있다.
피페리딘 고리가 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기, 벤조일기 및 푸릴 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기의 예로서는, 피페리딘 고리가 알콕시 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알콕시기인 알콕시카르보닐기, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기, 벤조일기, 및 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 푸릴알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 피페리디닐기, 예컨대 (1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-벤질-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(2 또는 3-)푸릴메틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(2-페닐에틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-{2-[(1 또는 2-)푸릴]에틸}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(1-페닐에틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-{3-[(1 또는 2-)푸릴]프로필]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(3-페닐프로필)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(4-페닐부틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-{4-[(1 또는 2-)푸릴]부틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(5-페닐펜틸)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-{5-[(1 또는 2-)푸릴]펜틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-(6-페닐헥실)-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-{6-[(1 또는 2-)푸릴]헥실]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디벤질-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1,3-디(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1,3,5-트리벤질-(2, 4, 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리(1 또는 2-)푸릴메틸-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐, 1-벤질-3-(1 또는 2-)푸릴메틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-{1-[(1 또는 2-)푸릴]에틸]}-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-벤조일-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디벤조일-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1,3,5-트리벤조일-(2, 4, 또는 6-)피페리디닐, 1-메틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-에틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-프로필-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-이소프로필-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-이소부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-tert-부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-펜틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-헥실-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디메틸-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리메틸-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐, 1-메틸-3-벤질-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-벤조일-2-메틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-2,4-디메틸-(3, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-메톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-에톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-프로폭시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-부톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-tert-부톡시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-펜틸옥시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-헥실옥시카르보닐-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디메톡시카르보닐-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리에톡시카르보닐-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐, 1-메틸-3-tert-부톡시카르보닐-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-벤조일-2-메톡시카르보닐-(2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-(1 또는 2-)푸릴메틸-2,4-디메톡시카르보닐-(3, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1-벤질-2,4-디메톡시카르보닐-(3, 5, 또는 6-)피페리디닐기를 들 수 있다.
하기 기:
Figure 112007010406990-pct00068
(이하 "A 기"로 지칭) 로 치환된 카르보닐 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 A 기 치환된 카르보닐알킬기, 예컨대 A 기 치환된 카르보닐메틸기, 2-A 기 치환된 카르보닐에틸기, 1-A 기 치환된 카르보닐에틸기, 3-A 기 치환된 카르보닐프로필기, 4-A 기 치환된 카르보닐부틸기, 1,1-디메틸-2-A 기 치환된 카르보닐에틸기, 5-A 기 치환된 카르보닐펜틸기, 6-A 기 치환된 카르보닐헥실기, 1-A 기 치환된 카르보닐이소프로필기, 및 2-메틸-3-A 기 치환된 카르보닐프로필기를 들 수 있다.
하기 기:
Figure 112007010406990-pct00069
{식 중, R34 는 옥소기 또는 페닐기이고, d 는 0 내지 3 의 정수임} (이하 "B 기"로 지칭) 로 치환된 카르보닐 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 B 기 치환된 카르보닐알킬기, 예컨대 B 기 치환된 카르보닐메틸기, 2-B 기 치환된 카르보닐에틸기, 1-B 기 치환된 카르보닐에틸기, 3-B 기 치환된 카르보닐프로필기, 4-B 기 치환된 카르보닐부틸기, 1,1-디메틸-2-B 기 치환된 카르보닐에틸기, 5-B 기 치환된 카르보닐펜틸기, 6-B 기 치환된 카르보닐헥실기, 1-B 기 치환된 카르보닐이소프로필기, 및 2-메틸-3-B 기 치환된 카르보닐프로필기를 들 수 있다.
피롤리디닐 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 피롤리디닐알킬기, 예컨대 (1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐메틸기, 2-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]에틸기, 1-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]에틸기, 3-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]프로필기, 4-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]부틸기, 5-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]펜틸기, 6-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]에틸기, 및 2-메틸-3-[(1-, 2-, 또는 3-)피롤리디닐]프로필기를 들 수 있다.
모르폴리노 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 모르폴리노알킬기, 예컨대 (2-, 3- 또는 4-)모르폴리노메틸기, 2-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]에틸기, 1-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]에틸기, 3-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]프로필기, 4-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]부틸기, 5-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]펜틸기, 6-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]에틸기, 및 2-메틸-3-[(2-, 3- 또는 4-)모르폴리노]프로필기를 들 수 있다.
페닐 저급 알케닐기의 예로서는, 알케닐 부분이 탄소수 2 내지 6 의 선형 또는 분지형 알케닐기이고 1 내지 3 개의 이중 결합을 가진 페닐알케닐기, 예컨대 스티릴기, 3-페닐-2-프로페닐기 (통속명: 신나밀기), 4-페닐-2-부테닐기, 4-페닐-3-부테닐기, 5-페닐-4-펜테닐기, 5-페닐-3-펜테닐기, 6-페닐-5-헥세닐기, 6-페닐-4-헥세닐기, 6-페닐-3-헥세닐기, 4-페닐-1,3-부타디에닐기, 및 6-페닐-1,3,5-헥사트리에닐기를 들 수 있다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기이고 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐알킬기, 예컨대 아닐리노카르보닐메틸, 2-아닐리노카르보닐에틸, 1-아닐리노카르보닐에틸, 3-아닐리노카르보닐프로필, 4-아닐리노카르보닐부틸, 5-아닐리노카르보닐펜틸, 6-아닐리노카르보닐헥실, 1,1-디메틸-2-아닐리노카르보닐에틸, 2-메틸-3-아닐리노카르보닐프로필, (4-메틸아닐리노카르보닐)메틸, 2-(3-메틸아닐리노카르보닐)에틸, 3-(4-메틸아닐리노카르보닐)프로필, 1-(2-에틸아닐리노카르보닐)에틸, 4-(3-에틸아닐리노카르보닐)부틸, 5-(4-에틸아닐리노카르보닐)펜틸, 6-(4-이소프로필아닐리노카르보닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-부틸아닐리노카르보닐)에틸, 2-메틸-3-(4-펜틸아닐리노카르보닐)프로필, 4-헥실아닐리노카르보닐메틸, 3,4-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 3,4-디에틸아닐리노카르보닐메틸, 2,4-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 2,5-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 2,6-디메틸아닐리노카르보닐메틸, 3,4,5-트리메틸아닐리노카르보닐메틸기를 들 수 있다.
저급 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기이고 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기 및 페닐 고리 상에 치환기로서 탄소수 1 내지 4 의 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 가질 수 있고 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 피페라진 고리 상에 가질 수 있는 피페라지닐알킬기, 예컨대 [(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]메틸, 2-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]에틸, 1-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]에틸, 3-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]프로필, 4-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]부틸, 5-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]펜틸, 6-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]에틸, 2-메틸-3-[(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]프로필, [1-메틸-(2-, 3-, 또는 4-)피페라지닐]메틸, 2-[1-에틸-(2-, 3-, 또는 4-)피페라지닐]에틸, 1-[4-프로필-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]에틸, 3-[3-이소프로필-(1-, 2-, 4-, 5-, 또는 6-)피페라지닐]프로필, 4-[2-부틸-(1-, 3, 4-, 5-, 또는 6-)피페라지닐]부틸, 5-[1-이소부틸-(2-, 3-, 또는 4-)피페라지닐]펜틸, 3-[4-메틸-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]프로필, 6-[1-tert-부틸-(2-, 3-, 또는 4-)피페라지닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-펜틸-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]에틸, [1,2-디메틸-(3-, 4-, 5-, 또는 6-)피페라지닐]메틸, [1,2,6-트리메틸-(3-, 4-, 또는 5-)피페라지닐]메틸, 2-[4-(3,4-메틸렌디옥시벤질)-(1-, 2-, 또는 3-)피페라지닐]에틸기를 들 수 있다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기의 예로서는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기이고 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는 아미디노알킬기, 예컨대 아미디노메틸기, 2-아미디노에틸기, 1-아미디노에틸기, 3-아미디노프로필기, 4-아미디노부틸기, 5-아미디노펜틸기, 6-아미디노헥실기, 1,1-디메틸-2-아미디노에틸기, 2-메틸-3-아미디노프로필기, N,N-디메틸아미디노메틸기, 2-(N,N-디메틸아미디노)에틸기, 1-(N-메틸아미디노)에틸기, 3-(N-에틸아미디노)프로필기, 4-(N-n-프로필아미디노)프로필기, 5-(N-n-펜틸아미디노)펜틸기, 6-(N-n-헥실아미디노)헥실기, 및 (N-메틸-N-에틸아미디노)메틸기를 들 수 있다.
카르바졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기의 예로서는, 카르바졸 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 가질 수 있는 카르바졸릴기, 예컨대 (1-, 2-, 3-, 또는 4-)카르바졸릴, 9-메틸-(1-, 2-, 3-, 또는 4-)카르바졸릴, 9-에틸-(1-, 2-, 3-, 또는 4-)카르바졸릴, 1-에틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8-, 또는 9-)카르바졸릴, 2-n-프로필-(1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 8-, 또는 9-)카르바졸릴, 3-n-부틸-(1-, 2-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8-, 또는 9-)카르바졸릴, 4-n-펜틸-(1-, 2-, 3-, 5-, 6-, 7-, 8-, 또는 9-)카르바졸릴, 5-n-헥실-(1-, 2-, 3-, 4-, 6-, 7-, 8-, 또는 9-)카르바졸릴, 6,9-디메틸-(1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 7-, 또는 8-)카르바졸릴, 1,7,8-트리틸-(2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8-, 또는 9-)카르바졸릴기를 들 수 있다.
치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기의 예로서는, 1 또는 2 개의 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기를 치환기로서 가질 수 있는 아미디노기, 예컨대 아미디노기, N,N-디메틸아미디노기, N-메틸아미디노기, N-에틸아미디노기, N-n-프로필아미디노기, N-n-부틸아미디노기, N-n-펜틸아미디노기, N-n-헥실아미디노기, N,N-디에틸아미디노기, 및 N-메틸-N-에틸아미디노기를 들 수 있다.
R36 및 R37 을 서로, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 통해 또는 이들을 통하지 않고 결합시켜 형성되는 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기의 예로서는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 피페라지닐기, 모르폴리노기, 티오모르폴리노기, 및 호모피페라지닐기를 들 수 있다.
R14 및 R15 를 서로, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 통해 또는 이들을 통하지 않고 결합시켜 형성되는 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기의 예로서는, 1,2,3,4,5,6-헥사히드로피리미디닐, 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노, 호모피페라지닐, 호모피페리디닐, 티아졸리디닐, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 피롤릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 2-피롤리닐, 2-이미다졸리닐, 이미다졸리디닐, 2-피라졸리닐, 피라졸리디닐, 1,2-디히드로피리딜, 1,2-디히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴, 1,2-디히드로이소퀴놀릴, 인돌릴, 이소인돌릴, 인돌리닐, 이소인돌리닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤족사디닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤조티아졸리디닐, 1,4-벤조티아지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴녹살리닐, 1,2,3,4-테트라히드로신놀리닐, 1,2,3,4-테트라히드로프탈라지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴나졸리닐, 1,2-디히드로퀴녹살리닐, 3,4-디히드로퀴녹살리닐, 1,4-디히드로퀴녹살리닐, 1,2-디히드로신놀리닐, 1,2-디히드로프탈라지닐, 3,4-디히드로프탈라지닐, 1,2-디히드로퀴나졸리닐, 3,4-디히드로퀴나졸리닐, 인다졸릴, 인다졸리닐, 6-아자비시클로[3,2,1]옥틸, 3-아자-스피로[5,5]운데실, 티아졸리디닐기를 들 수 있다.
페닐 저급 알콕시 기의 예는, 알콕시 부분이 벤질옥시기, 2-페닐에톡시기, 1-페닐에톡시기, 3-페닐프로폭시기, 4-페닐부톡시기, 5-페닐펜틸옥시기, 6-페닐헥실옥시기, 1,1-디메틸-2-페닐에톡시기, 및 2-메틸-3-페닐프로폭시기와 같은, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기인 페닐알콕시기를 포함한다.
저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 1 또는 2 개의 페닐기를 가지고, 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 페닐 치환된 저급 알킬기의 예는, 상기된 페닐 저급 알킬기 이외에, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기, 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 1 또는 2 개의 선형 또는 분지형 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기, 알콕시 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기인 페닐알콕시기, 히드록시기 및 1 내지 4 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 1 또는 2 개의 페닐기를 가지고, 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있고, 그 알킬기 부분이 탄소수 1 내지 6 인 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐 치환된 알킬기 예컨대 1-페닐-1-(2, 3, 또는 4-)피리딜메틸, 1,1-디페닐메틸, 1,1-디(4-플루오로페닐)메틸, 1-페닐-1-(4-메톡시페닐)메틸, 3,4-메틸렌디옥시벤질, 3,4-에틸렌디옥시벤질, 3,4-트리메틸렌디옥시벤질, 2,5-디플루오로벤질, 2,4-디플루오로벤질, 3,4-디플루오로벤질, 3,5-디플루오로벤질, 2,6-디플루오로벤질, 3-트리플루오로메틸벤질, 2-트리플루오로메틸벤질, 4-트리플루오로메틸벤질, 3,4-디메톡시벤질, 3,5-디메톡시벤질, 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 4-메틸벤질, 3,4-디메틸벤질, 2,3-디메틸벤질, 2-메톡시벤질, 3-메톡시벤질, 4-시아노벤질, 2-시아노벤질, 3-시아노벤질, 4-메톡시벤질, 2,3-디클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 2,5-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 2,6-디클로로벤질, 4-플루오로벤질, 3-플루오로벤질, 2-플루오로벤질, 4-니트로벤질, 3-니트로벤질, 2-니트로벤질, 3-트리플루오로메톡시벤질, 4-트리플루오로메톡시벤질, 2-트리플루오로메톡시벤질, 4-메톡시카르보닐벤질, 3-메톡시카르보닐벤질, 4-tert-부틸벤질, 4-에틸벤질, 4-이소프로필벤질, 4-메톡시-3-클로로벤질, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 2-(4-플루오로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-페닐벤질, 3,3-디페닐프로필, 3-메틸-4-니트로벤질, 4-(4-메톡시페닐)부틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-tert-부톡시카르보닐벤질, 3-클로로-6-메톡시벤질, 4-아세틸아미노벤질, 4-니트로-3-메틸벤질, 4-히드록시벤질, 3-히드록시벤질, 2-히드록시벤질, 4-tert-부티릴벤질, 4-벤질옥시벤질, 4-피발로일벤질, 2-(4-아세틸페닐)에틸, 1-(3-프로피오닐페닐)에틸, 3-(2-부티릴페닐)프로필, 4-(4-펜타노일페닐)부틸, 5-(3-헥사노일페닐)펜틸, 6-(2,4-디아세틸페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4,6-트리아세틸페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4-디아세틸페닐)프로필, 2-(4-아미노페닐)에틸, 1-(3-프로피오닐아미노페닐)에틸, 3-(2-부티릴아미노페닐)프로필, 4-(4-펜타노일아미노)페닐부틸, 5-(헥사노일아미노페닐)펜틸, 6-(N-아세틸-N-프로피오닐아미노페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3,4-디아미노페닐)에틸, 2-메틸-3-(3,4,5-트리아세틸아미노페닐)프로필, 2-(2-에톡시카르보닐페닐)에틸, 1-(3-프로폭시카르보닐페닐)에틸, 3-(4-펜틸옥시카르보닐페닐)프로필, 4-(3-헥실옥시카르보닐페닐)부틸, 5-(3,4-디메톡시카르보닐페닐)펜틸, 6-(3,4,5-트리에톡시카르보닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-부톡시카르보닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-메톡시카르보닐페닐)프로필, 2-(2-시아노페닐)에틸, 1-(3-시아노페닐)에틸, 3-(4-시아노페닐)프로필, 4-(2-시아노페닐)부틸, 5-(3-시아노페닐)펜틸, 6-(4-시아노페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디시아노페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리시아노페닐)프로필, 2-(2-니트로페닐)에틸, 1-(3-니트로페닐)에틸, 3-(4-니트로페닐)프로필, 4-(2-니트로페닐)부틸, 5-(3-니트로페닐)펜틸, 6-(4-니트로페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디니트로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리니트로페닐)프로필, 2-(2-페닐페닐)에틸, 1-(3-페닐페닐)에틸, 3-(4-페닐페닐)프로필, 4-(2-페닐페닐)부틸, 5-(3-페닐페닐)펜틸, 6-(4-페닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디페닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리페닐페닐)프로필, 2-(2-플루오로페닐)에틸, 1-(3-브로모페닐)에틸, 3-(4-요오도페닐)프로필, 4-(2-브로모페닐)부틸, 5-(3-클로로페닐)펜틸, 6-(4-브로모페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디클로로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리플루오로페닐)프로필, 2-(2-에틸페닐)에틸, 1-(3-프로필페닐)에틸, 3-(4-부틸페닐)프로필, 4-(2-펜틸페닐)부틸, 5-(3-헥실페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메틸페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메틸)페닐]프로필, 2-(2-에톡시페닐)에틸, 1-(3-프로폭시페닐)에틸, 3-(4-부톡시페닐)프로필, 4-(2-펜틸옥시페닐)부틸, 5-(3-헥실옥시페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메톡시페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메톡시)페닐]프로필, 2-(2-벤질옥시페닐)에틸, 1-[3-(2-페닐에톡시)페닐]에틸, 3-[4-(3-페닐프로폭시)페닐]프로필, 4-[2-(4-페닐부톡시)페닐]부틸, 5-[3-(5-페닐펜틸옥시)페닐]펜틸, 6-[4-(6-페닐헥실옥시)페닐]헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디벤질옥시페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리벤질옥시페닐)프로필, 2-(2-히드록시페닐)에틸, 1-(3-히드록시페닐)에틸, 3-(4-히드록시페닐)프로필, 4-(2-히드록시페닐)부틸, 5-(3-히드록시페닐)펜틸, 6-(4-히드록시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디히드록시페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리히드록시페닐)프로필, 2-(3,4-메틸렌디옥시페닐)에틸, 1-(2,3-에틸렌디옥시페닐)에틸, 3-(3,4-트리메틸렌디옥시페닐)프로필, 4-(3,4-테트라메틸렌디옥시페닐)부틸, 5-(3,4-메틸렌디옥시페닐)펜틸, 6-(3,4-에틸렌디옥시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(3,4-메틸렌디옥시)에틸, 2-메틸-3-(3,4-메틸렌디옥시페닐)프로필기를 포함한다.
치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 피리딘 고리 상에 가질 수 있는 피리딜 저급 알킬기의 예는, 상기된 피리딜 저급 알킬기 이외에, 치환기로서 1 내지 3 개의 히드록시기를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 히드록시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를, 피리딘 고리 상에 가질 수 있고, 이의 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알킬기, 예컨대 [2-메틸-(3, 4, 5, 또는6-)피리딜]메틸, [2-메틸-3-히드록시-5-히드록시메틸-(4 또는 6-)피리딜]메틸, 2-[3-에틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 1-[4-프로필-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 3-[2-부틸-(3, 4, 5, 또는 6-)피리딜]프로필, 4-[3-펜틸-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[4-헥실-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 5-[2,3-디메틸-(4, 5, 또는 6-)피리딜]펜틸, 6-[2,4,6-트리메틸-(3 또는 5-)피리딜]헥실, 1-[2-히드록시-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]이소프로필, 2-메틸-3-[3-히드록시-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]프로필, [2-히드록시-(3, 4, 5, 또는 6-)피리딜]메틸, 2-[3-히드록시-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 1-[4-히드록시-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 3-[2-히드록시-(3, 4, 5, 또는 6-)피리딜]프로필, 4-[3-히드록시-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[4-히드록시-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 5-[2,3-디히드록시-(4, 5, 또는 6-)피리딜]펜틸, 6-[2,4,6-트리히드록시-(3 또는 5-)피리딜]헥실, [2-히드록시메틸-(3, 4, 5, 또는 6-)피리딜]메틸, 2-[3-(2-히드록시에틸)-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜}에틸, 1-[4-(3-히드록시프로필)-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 3-[2-(4-히드록시부틸)-(3, 4, 5, 또는 6-)피리딜]프로필, 4-[3-(5-히드록시펜틸)-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]부틸, 1,1-디메틸-2-[4-(6-히드록시헥실)-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]에틸, 5-[2,3-디(히드록시메틸)-(4, 5, 또는 6-)피리딜]펜틸, 6-[2,4,6-트리(히드록시메틸)-(3 또는 5-)피리딜]헥실, 1-[2-히드록시메틸-(2, 3, 5, 또는 6-)피리딜]이소프로필, 2-메틸-3-[3-(2,3-디히드록시프로필)-(2, 4, 5, 또는 6-)피리딜]프로필, [2-메틸-3-(2,2,4-트리히드록시부틸)-(4, 5, 또는 6-)피리딜]메틸, [2-메틸-5-히드록시메틸-(3, 4, 또는 6-)피리딜]메틸기를 포함한다.
피롤 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기의 예는, 피롤 상에 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피롤릴알킬기; 예컨대 [(1, 2, 또는 3-)피롤릴]메틸, 2-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]에틸, 1-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]에틸, 3-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]프로필, 4-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]부틸, 5-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]펜틸, 6-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 또는 3-)피롤릴]프로필, [1-메틸-(2 또는 3-)피롤릴]메틸, 2-[2-에틸-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤릴]에틸, 1-[3-프로필-(1, 2, 4, 또는 5-)피롤릴]에틸, 3-[1-부틸-(2, 3, 또는 4-)피롤릴]프로필, 4-[2-펜틸-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤릴]부틸, 5-[3-헥실-(1, 2, 4, 또는 5-)피롤릴]펜틸, 6-[1,2-디메틸-(3, 4, 또는 5-)피롤릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,2,3-트리메틸-(4 또는 5-)피롤릴]에틸, 2-메틸-3-[1-에틸-2-메틸-(3, 4, 또는 5-)피롤릴]프로필기를 포함한다.
벤족사졸릴 저급 알킬기의 예는, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 벤족사졸릴알킬기, 예컨대 [(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]메틸, 2-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]에틸, 1-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]에틸, 3-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]프로필, 4-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]부틸, 5-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]펜틸, 6-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤족사졸릴]프로필을 포함한다.
벤조티아졸릴 저급 알킬기의 예는, [(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]메틸, 2-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]에틸, 1-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]에틸, 3-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]프로필, 4-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]부틸, 5-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]펜틸, 6-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤조티아졸릴]프로필과 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 벤조티아졸릴알킬기를 포함한다.
푸릴 저급 알킬기의 예는 [(2 또는 3-)푸릴]메틸기, 2-[(2 또는 3-)푸릴]에틸기, 1-[(2 또는 3-)푸릴]에틸기, 3-[(2 또는 3-)푸릴]프로필기, 4-[(2 또는 3-)푸릴]부틸기, 5-[(2 또는 3-)푸릴]펜틸기, 6-[(2 또는 3-)푸릴]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)푸릴]에틸기, 및 2-메틸-3-[(2 또는 3-)푸릴]프로필기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 푸릴알킬기를 포함한다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기의 예는, (2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐메틸, 2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 4-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]부틸, 5-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]펜틸, 6-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, [2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]메틸, 2-[2-옥소-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 1-[4-옥소-(2, 3, 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 3-[2-옥소-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로필, 4-[5-옥소-(2, 3, 또는 4-) 티아졸리디닐]부틸, 5-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜틸, 6-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]헥실, 1-[4,5-디옥소-(2 또는 -)티아졸리디닐]에틸, 2-[4,5-디옥소-(2- 또는 3-)티아졸리디닐]에틸, 1,1-디메틸-2-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]에틸, 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로필기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기이며, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐알킬기를 포함한다.
티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기의 예는, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴메틸, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴에틸, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴프로필, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴이소프로필, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴부틸, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴펜틸, (2, 4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴헥실, 4,5-디옥소-2-티아졸리디닐리덴메틸, 2,5-디옥소-4-티아졸리디닐리덴메틸, 2,4-디옥소-5-티아졸리디닐리덴메틸, 4-옥소-(2 또는 5-)티아졸리디닐리덴에틸, 5-옥소-(2 또는 4-)티아졸리디닐리덴프로필, 2-옥소-(4, 또는 5-)티아졸리디닐리덴부틸기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기이며 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴알킬기를 포함한다.
시아노기, 치환기로서 저급 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, 저급 알콕시기, 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 벤조일기의 예는 시아노기; 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 1 또는 2 개의 선형 또는 분지형 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기; 할로겐 원자; 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기; 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기; 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있고 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐알킬기; 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있고 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸리디닐리덴알킬기; 및 1 내지 4 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 벤조일기, 예컨대 벤조일, 4-시아노벤조일, 3,4-메틸렌디옥시벤조일, 2-아미노벤조일, 3-아미노벤조일, 4-아미노벤조일, 3,4-디아미노벤조일, 2,4,6-트리아미노벤조일, 4-메톡시벤조일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 4-클로로벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 2-플루오로벤조일, 3-브로모벤조일, 4-요오도벤조일, 3,4-디메톡시벤조일, 4-플루오로벤조일, 3-시아노벤조일, 2-시아노벤조일, 2,3-디시아노벤조일, 3,4,5-트리시아노벤조일, 4-메틸벤조일, 4-(2,4-디옥소티아졸리디닐메틸)벤조일, 4-(2,4-디옥소티아졸리디닐리덴메틸)벤조일, 2-메틸벤조일, 3-메틸벤조일, 2-에틸벤조일, 3-에틸벤조일, 4-에틸벤조일, 4-이소프로필벤조일, 3-부틸벤조일, 4-펜틸벤조일, 4-헥실벤조일, 3,4-디메틸벤조일, 3,4-디에틸벤조일, 2,4-디메틸벤조일, 2,5-디메틸벤조일, 2,6-디메틸벤조일, 3,4,5-트리메틸벤조일, 2-메톡시벤조일, 3-메톡시벤조일, 2-에톡시벤조일, 3-에톡시벤조일, 4-에톡시벤조일, 4-이소프로폭시벤조일, 3-부톡시벤조일, 4-펜틸옥시벤조일, 4-헥실옥시벤조일, 3,4-디에톡시벤조일, 2,4-디메톡시벤조일, 2,5-디메톡시벤조일, 2,6-디메톡시벤조일, 3,4,5-트리메톡시벤조일, 2-트리플루오로메틸벤조일, 3-트리플루오로메틸벤조일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 2-(브로모메틸)벤조일, 3-(2-클로로에틸)벤조일, 4-(2,3-디클로로프로필)벤조일, 4-(4-플루오로부틸)벤조일, 3-(5-클로로펜틸)벤조일, 4-(5-브로모헥실)벤조일, 4-(5,6-디브로모헥실)벤조일, 3,4-디(트리플루오로메틸)벤조일, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)벤조일, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)벤조일, 2,5-디(3-클로로프로필)벤조일, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)벤조일, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)벤조일, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)벤조일, 2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-트리클로로메틸벤조일, 2-메톡시-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-에틸-4-플루오로벤조일, 3-에톡시-4-트리클로로메틸벤조일, 2-메틸-3-트리플루오로메틸-4-트리플루오로메틸벤조일, 3-플루오로벤조일, 4-플루오로벤조일, 2-브로모벤조일, 4-브로모벤조일, 2-요오도벤조일, 3-요오도벤조일, 2,3-디브로모벤조일, 2,4-디요오도벤조일, 2,5-디플루오로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 2,4,6-트리클로로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 3,5-디플루오로벤조일, 2,6-디플루오로벤조일, 2-클로로벤조일, 3-클로로벤조일, 4-클로로벤조일, 2,3-디클로로벤조일, 2,4-디클로로벤조일, 2,5-디클로로벤조일, 3,4-디클로로벤조일, 2,6-디클로로벤조일, 3,5-디클로로벤조일, 2,4,6-트리플루오로벤조일, 2,4-디플루오로벤조일, 3,4-디플루오로벤조일, 3,4-메틸렌디옥시벤조일, 3,4-트리메틸렌디옥시벤조일, 2,3-에틸렌디옥시벤조일, 3,4-트리메틸렌디옥시벤조일, 2,3-테트라메틸렌디옥시벤조일, 2,3-메틸렌디옥시벤조일, 3,4-에틸렌디옥시벤조일, 2-메탄설포닐아미노벤조일기.
옥소기 및 일반식
Figure 112007010406990-pct00070
(식 중, Ra 및 Rb 는 각각 저급 알킬기를 나타냄) 의 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로, 티아졸리딘 고리 상에 치환될 수 있는 티아졸리디닐 저급 알카노일기의 예는, 옥소기 및 일반식
Figure 112007010406990-pct00071
(식 중, Ra 및 Rb 는 각각 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 나타냄) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 티아졸리딘 고리 상에 치환될 수 있고, 알카노일 부분이 2 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기인 티아졸리디닐알카노일기, 예컨대 2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[(2, 3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, [2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[2-옥소-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-옥소-(2, 3, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[5-옥소-(2, 3, 또는 4-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[2,5-디옥소-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[2,4,5-트리옥소-3-티아졸리디닐]헥사노일, 2-[4,5-디옥소-(2 또는 3-)티아졸리디닐]아세틸, 2,2-디메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[2,4-디옥소-(3 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-옥소-2-이소프로필리덴히드라조노-(3 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 2-[2-옥소-5-이소프로필리덴히드라조노-(3 또는 4-)티아졸리디닐]아세틸, 2-[2,4-디(이소프로필리덴히드라조노)-(3 또는 5-)티아졸리디닐]아세틸, 3-[2-메틸리덴히드라조노-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-[4-에틸리덴히드라조노-(2, 3, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 4-[5-프로필리덴히드라조노-(2, 3, 또는 4-)티아졸리디닐]부티릴, 5-[2,5-디(이소프로필리덴히드라조노)-(3 또는 4-)티아졸리디닐]펜타노일, 6-[2,4,5-트리(이소프로필리덴히드라조노)-3-티아졸리디닐]헥사노일, 2-[4,5-디(이소프로필리덴히드라조노)-(2 또는 3-)티아졸리디닐]아세틸, 2,2-디메틸-3-[4-부틸리덴히드라조노-(2, 3, 또는 5-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-메틸-3-[5-펜틸리덴-(2, 3, 또는 4-)티아졸리디닐]프로피오닐, 2-(헥실리덴히드라조노)-(3, 4, 또는 5-)티아졸리디닐아세틸기를 포함한다.
히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기의 예는, 상기된 저급 알킬기 이외에, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 2,3-디히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5,5,4-트리히드록시펜틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 1-히드록시이소프로필, 2-메틸-3-히드록시프로필, 트리플루오로메틸, 트리클로로메틸, 클로로메틸, 브로모메틸, 플루오로메틸, 요오도메틸, 디플루오로메틸, 디브로모메틸, 2-클로로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 4,4,4-트리클로로부틸, 4-플루오로부틸, 5-클로로펜틸, 3-클로로-2-메틸프로필, 5-브로모헥실, 5,6-디브로모헥실, 2-히드록시-3-플루오로프로필, 2,2-디클로로-3-히드록시부틸기와 같은, 히드록시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 포함한다.
저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로센 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기의 예는, 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-메톡시페닐, 2-에톡시페닐, 3-에톡시페닐, 4-에톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 3-부톡시페닐, 4-펜틸옥시페닐, 4-헥실옥시페닐, 3,4-디메톡시페닐, 3,4-디에톡시페닐, 2,4-디메톡시페닐, 2,5-디메톡시페닐, 2,6-디메톡시페닐, 3,4,5-트리메톡시페닐, 2-트리플루오로메톡시페닐, 3-트리플루오로메톡시페닐, 4-트리플루오로메톡시페닐, 2-(브로모메톡시)페닐, 3-(2-클로로에톡시)페닐, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐, 4-(4-플루오로부톡시)페닐, 3-(5-클로로펜틸옥시)페닐, 4-(5-브로모헥실옥시)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모메틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-트리클로로메틸페닐, 2-메톡시카르보닐페닐, 3-메톡시카르보닐페닐, 4-메톡시카르보닐페닐, 2-에톡시카르보닐페닐, 3-에톡시카르보닐페닐, 4-에톡시카르보닐페닐, 4-이소프로폭시카르보닐페닐, 3-부톡시카르보닐페닐, 4-tert-부톡시카르보닐페닐, 4-펜틸옥시카르보닐페닐, 4-헥실옥시카르보닐페닐, 3,4-디메톡시카르보닐페닐, 3,4-디에톡시카르보닐페닐, 2,4-디메톡시카르보닐페닐, 2,5-디에톡시카르보닐페닐, 2,6-디메톡시카르보닐페닐, 3,4,5-트리에톡시카르보닐페닐, 2-시아노페닐, 3-시아노페닐, 4-시아노페닐, 3,4-디시아노페닐, 3,5-디시아노페닐, 2,4-디시아노페닐, 2,5-디시아노페닐, 2,6-디시아노페닐, 3,4,5-트리시아노페닐, 2-페닐페닐, 3-페닐페닐, 4-페닐페닐, 3,4-디페닐페닐, 3,5-디페닐페닐, 2,4-디페닐페닐, 2,5-디페닐페닐, 2,6-디페닐페닐, 3,4,5-트리페닐페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 3,4-디클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 2-플루오로페닐, 3-플루오로페닐, 4-플루오로페닐, 2,5-디플루오로페닐, 2,4-디플루오로페닐, 3,4-디플루오로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 2,4,6-트리플루오로페닐, 2-브로모페닐, 3-브로모페닐, 4-브로모페닐, 2-요오도페닐, 3-요오도페닐, 4-요오도페닐, 2,3-디브로모페닐, 2,4-디요오도페닐, 2-히드록시페닐, 3-히드록시페닐, 4-히드록시페닐, 3,4-디히드록시페닐, 3,5-디히드록시페닐, 2,4-디히드록시페닐, 2,5-디히드록시페닐, 2,6-디히드록시페닐, 3,4,5-트리히드록시페닐, 3-벤질페닐, 2-(2-페닐에틸)페닐, 4-(1-페닐에틸)페닐, 2-(3-페닐프로필)페닐, 3-(4-페닐부틸)페닐, 4-(5-페닐펜틸)페닐, 2-(6-페닐헥실)페닐, 4-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)페닐, 3-(2-메틸-3-페닐프로필)페닐, 2-(4-플루오로벤질)페닐, 2-메틸-5-클로로페닐, 2-메톡시-5-클로로페닐, 4-(4-플루오로벤조일)페닐, 4-(4-플루오로벤질)페닐, 3-(2-클로로벤질)페닐, 4-(3-클로로벤질)페닐, 2-(4-클로로벤질)페닐, 3-[2-(4-플루오로페닐)에틸]페닐, 4-[2-(4-클로로페닐)에틸]페닐, 2-(3,4-디브로모벤질)페닐, 3-(3,4-디요오도벤질)페닐, 4-(2,4-디플루오로벤질)페닐, 2-(2,5-디클로로벤질)페닐, 3-(2,6-디클로로벤질)페닐, 4-(3,4,5-트리플루오로벤질)페닐, 2-[3-(4-클로로페닐)프로필]페닐, 3-[1-(2-브로모페닐)에틸]페닐, 4-[4-(3-플루오로페닐)부틸]페닐, 2-[5-(4-요오도페닐)펜틸]페닐, 3-[6-(4-클로로페닐)헥실]페닐, 2-[1,1-디메틸-2-(3-플루오로페닐)에틸]페닐, 4-[2-메틸-3-(4-클로로페닐)프로필]페닐, 2,4-디벤질페닐, 2,4,6-트리벤질페닐, 2-클로로-4-시아노페닐, 3-히드록시-4-페닐페닐, 3-에톡시카르보닐-2-벤조일페닐, 2-벤질-4-메틸-6-메톡시페닐, 4-[(2-메톡시에틸)카르바모일]페닐, 3-(N-에틸-N-이소프로필카르바모일)페닐, 4-디메틸카르바모일페닐, 2-카르복시페닐, 3-카르복시페닐, 4-카르복시페닐기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 알콕시알킬기 및 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 기를 가질 수 있는 카르바모일기, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 카르보닐기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로, 페닐기 상에 치환될 수 있는 페닐기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐기의 예는, 3,4-메틸렌디옥시페닐기, 3,4-트리메틸렌디옥시페닐기, 2,3-에틸렌디옥시페닐기, 2,3-테트라메틸렌디옥시페닐기, 2,3-메틸렌디옥시페닐기, 3,4-에틸렌디옥시페닐기, 및 2,3-트리메틸렌디옥시페닐기와 같은, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 4 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐기를 포함한다.
나프틸 저급 알킬기의 예는, (1 또는 2-)나프틸메틸기, 2-[(1 또는 2-)나프틸]에틸기, 1-[(1 또는 2-)나프틸]에틸기, 3-[(1 또는 2-)나프틸]프로필기, 4-[(1 또는 2-)나프틸]부틸기, 5-[(1 또는 2-)나프틸]펜틸기, 6-[(1 또는 2-)나프틸]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(1 또는 2-)나프틸]에틸기 및 2-메틸-3-[(1 또는 2-)나프틸]프로필기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 나프틸알킬기를 포함한다.
시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페녹시기의 예는, 페녹시, 2-메틸페녹시, 3-메틸페닐, 4-메틸페녹시, 2-에틸페녹시, 3-에틸페녹시, 4-에틸페녹시, 4-이소프로필페녹시, 3-부틸페녹시, 4-펜틸페녹시, 4-헥실페녹시, 3,4-디메틸페녹시, 3,4-디에틸페녹시, 2,4-디메틸페녹시, 2,5-디메틸페녹시, 2,6-디메틸페녹시, 3,4,5-트리메틸페녹시, 2-메톡시페녹시, 3-메톡시페녹시, 4-메톡시페녹시, 2-에톡시페녹시, 3-에톡시페녹시, 4-에톡시페녹시, 4-이소프로폭시페녹시, 3-부톡시페녹시, 4-펜틸옥시페녹시, 4-헥실옥시페녹시, 3,4-디메톡시페녹시, 3,4-디에톡시페녹시, 2,4-디메톡시페녹시, 2,5-디메톡시페녹시, 2,6-디메톡시페녹시, 3,4,5-트리메톡시페녹시, 2-트리플루오로메톡시페녹시, 3-트리플루오로메톡시페녹시, 4-트리플루오로메톡시페녹시, 2-(브로모메톡시)페녹시, 3-(2-클로로에톡시)페녹시, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페녹시, 4-(4-플루오로부톡시)페녹시, 3-(5-클로로펜틸옥시)페녹시, 4-(5-브로모헥실옥시)페녹시, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페녹시, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페녹시, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페녹시, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페녹시, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페녹시, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페녹시, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페녹시, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페녹시, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페녹시, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페녹시, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페녹시, 2-트리플루오로메틸페녹시, 3-트리플루오로메틸페녹시, 4-트리플루오로메틸페녹시, 2-(브로모메틸)페녹시, 3-(2-클로로에틸)페녹시, 4-(2,3-디클로로프로필)페녹시, 4-(4-플루오로부틸)페녹시, 3-(5-클로로펜틸)페녹시, 4-(5-브로모헥실)페녹시, 4-(5,6-디브로모헥실)페녹시, 3,4-디(트리플루오로메틸)페녹시, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페녹시, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페녹시, 2,5-디(3-클로로프로필)페녹시, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페녹시, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페녹시, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페녹시, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페녹시, 3-에틸-4-트리클로로메틸페녹시, 2-시아노페녹시, 3-시아노페녹시, 4-시아노페녹시, 3,5-디시아노페녹시, 3,4-디시아노페녹시, 2,3-디시아노페녹시, 2,4-디시아노페녹시, 2,5-디시아노페녹시, 2,6-디시아노페녹시, 3,4,5-트리시아노페녹시, 2-시아노-4-메틸페녹시, 3-시아노-4-메톡시페녹시, 3-시아노-5-트리플루오로메틸페녹시, 4-시아노-3-트리플루오로메톡시페녹시기와 같은, 시아노기, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 및 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐기 상에 치환될 수 있는 페녹시기를 포함한다.
할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐기 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알콕시기의 예는, 상기된 페닐 저급 알콕시기 이외에, 2,5-디플루오로벤질옥시, 2,4-디플루오로벤질옥시, 3,4-디플루오로벤질옥시, 3,5-디플루오로벤질옥시, 2,6-디플루오로벤질옥시, 3-트리플루오로메틸벤질옥시, 2-트리플루오로메틸벤질옥시, 4-트리플루오로메틸벤질옥시, 3,4-디메톡시벤질옥시, 3,5-디메톡시벤질옥시, 2-클로로벤질옥시, 3-클로로벤질옥시, 4-클로로벤질옥시, 2-메틸벤질옥시, 3-메틸벤질옥시, 4-메틸벤질옥시, 3,4-디메틸벤질옥시, 2,3-디메틸벤질옥시, 2-메톡시벤질옥시, 3-메톡시벤질옥시, 4-메톡시벤질옥시, 2,3-디클로로벤질옥시, 2,4-디클로로벤질옥시, 2,5-디클로로벤질옥시, 3,4-디클로로벤질옥시, 2,6-디클로로벤질옥시, 4-플루오로벤질옥시, 3-플루오로벤질옥시, 2-플루오로벤질옥시, 3-트리플루오로메톡시벤질옥시, 4-트리플루오로메톡시벤질옥시, 2-트리플루오로메톡시벤질옥시, 4-tert-부틸벤질옥시, 4-에틸벤질옥시, 4-이소프로필벤질옥시, 4-메톡시-3-클로로벤질옥시, 2-(4-메톡시페닐)에톡시, 2-(4-플루오로페닐)에톡시, 2-(4-클로로페닐)에톡시, 2-(3-메톡시페닐)에톡시, 2-(4-메틸페닐)에톡시, 3-메틸-4-클로로벤질옥시, 4-(4-메톡시페닐)부톡시, 2-(4-메틸페닐)에톡시, 4-tert-부톡시벤질옥시, 3-클로로-6-메톡시벤질옥시, 4-메톡시-3-메틸벤질옥시, 2-(2-플루오로페닐)에톡시, 1-(3-브로모페닐)에톡시, 3-(4-요오도페닐)프로폭시, 4-(2-브로모페닐)부톡시, 5-(3-클로로페닐)펜틸옥시, 6-(4-브로모페닐)헥실옥시, 1,1-디메틸-2-(2,4-디클로로페닐)에톡시, 2-메틸-3-(2,4,6-트리플루오로페닐)프로폭시, 2-(2-에틸페닐)에톡시, 1-(3-프로필페닐)에톡시, 3-(4-부틸페닐)프로폭시, 4-(2-펜틸페닐)부톡시, 5-(3-헥실페닐)펜틸옥시, 6-(4-트리플루오로메틸페닐)헥실옥시, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페닐)에톡시, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메틸)페닐]프로폭시, 2-(2-에톡시페닐)에톡시, 1-(3-프로폭시페닐)에톡시, 3-(4-부톡시페닐)프로폭시, 4-(2-펜틸옥시페닐)부톡시, 5-(3-헥실옥시페닐)펜틸옥시, 6-(4-트리플루오로메톡시페닐)헥실옥시, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메톡시페닐)에톡시, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메톡시)페닐]프로폭시기와 같은, 할로겐 원자, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 및 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있고, 알콕시 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기인 페닐알콕시기를 포함한다.
1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기의 예는 (1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 2-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 1-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 3-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필, 4-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]부틸, 5-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]펜틸, 6-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필, 1,1,4,4-테트라메틸(2, 3, 5, 또는 6-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 1,1,4,4,5-펜타메틸(2,3,6,7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 1,4,4-트리메틸(2, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 5,6-디메틸(2, 3, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸메틸, 2-[1-메틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 1-[2-에틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 3-[3-프로필-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필, 4-[(4-부틸-1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]부틸, 5-[5-펜틸-(1, 2, 3, 4, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]펜틸, 6-[6-헥실-(1, 2, 3, 4, 5, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,7-디메틸-(1, 2, 3, 4, 5, 6, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]에틸, 2-메틸-3-[1,1,4-트리메틸-(2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로나프틸]프로필기와 같은, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 5 개를 가질 수 있고, 알킬부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 알킬기를 포함한다.
피페리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기의 예는, (1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-메틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-에틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-프로필-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-이소프로필-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-이소부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-tert-부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-펜틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1-헥실-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐, 1,2-디메틸-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐, 1,2,6-트리메틸-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐기와 같은, 피페리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개를 가질 수 있는 피페리디닐기를 포함한다.
퀴놀릴 저급 알킬기의 예는, (2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴메틸기, 2-[(2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴]에틸기, 1-[(2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴]에틸기, 3-[(2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴]프로필기, 4-[(2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴]부틸기, 5-[(2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴]펜틸기, 및 6-[(2,3,4,5,6,7 또는 8-)퀴놀릴]헥실기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 퀴놀릴알킬기를 포함한다.
저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를, 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기의 예는, [(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]메틸, 2-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]에틸, 1-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]에틸, 3-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]프로필, 4-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]부틸, 5-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]펜틸, 6-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]헥실, 5-[1-메틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]펜틸, 6-[1-메틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실, 5-메틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)메틸, 2-[5-에틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 2-메틸-3-[(1 또는 5-)1,2,3,4-테트라졸릴]프로필, [1-메틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, [1-에틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 2-[1-프로필-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 1-[1-부틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 3-[1-펜틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 3-[5-프로필-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 4-[5-부틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]부틸, 5-[5-펜틸-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]펜틸, 6-[5-헥실-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실, [1-에틸-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, [1-벤질-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 1-[(2-페닐에틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 2-[1-(3-페닐프로필)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 1-[1-(4-페닐부틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 3-[1-(5-페닐펜틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 4-[1-(6-페닐헥실)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]부틸, 5-[1-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]메틸, 6-[1-(2-메틸-3-페닐프로필)-5-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실, 5-벤질-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)메틸, 2-[5-(1-페닐에틸)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]에틸, 3-[5-(3-페닐프로필)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]프로필, 4-[5-(4-페닐부틸)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]부틸, 5-[5-(5-페닐펜틸)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]펜틸, 6-[5-(6-페닐헥실)-1-(1,2,3,4-테트라졸릴)]헥실기와 같은, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 가지고 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인, 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를, 테트라졸 고리 상에 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴알킬기를 포함하며, 상기 1,2,3,4-테트라졸릴알킬기의 알킬 부분은 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기이다.
티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기의 예는, [(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]메틸, 2-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]에틸, 1-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]에틸, 3-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]프로필, 4-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]부틸, 5-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]펜틸, 6-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2, 4, 또는 5-)티아졸릴]프로필, [2-페닐-(4 또는 5-)티아졸릴]메틸, 2-[4-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]에틸, 1-[5-페닐-(2 또는 4-)티아졸릴]에틸, 3-[2-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]프로필, 4-(2,4-디페닐-5-티아졸릴)부틸, 5-(2,5-디페닐-4-티아졸릴)펜틸, 6-(4,5-디페닐-2-티아졸릴)헥실, 1,1-디메틸-2-[2-페닐-(4 또는 5-)티아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[4-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]프로필, [4-페닐-(2 또는 5-)티아졸릴]메틸, [5-페닐-(2 또는 4-)티아졸릴]메틸, (2,4-디페닐-5-티아졸릴)메틸, (2,5-디페닐-4-티아졸릴)메틸, (4,5-디페닐-2-티아졸릴)메틸기와 같은, 티아졸 고리 상에 치환기로서 1 또는 2 개의 페닐기를 가질 수 있고 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 티아졸릴알킬기를 포함한다.
저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를, 페닐 고리에 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기의 예는, 벤조일메틸, 2-벤조일에틸, 1-벤조일에틸, 3-벤조일프로필, 4-벤조일부틸, 5-벤조일펜틸, 6-벤조일헥실, 1,1-디메틸-2-벤조일에틸, 2-메틸-3-벤조일프로필, 4-플루오로벤조일메틸, 2-클로로벤조일메틸, 3-클로로벤조일메틸, 4-클로로벤조일메틸, 2-(4-플루오로벤조일)에틸, 2-(4-클로로벤조일)에틸, 3,4-디브로모벤조일메틸, 3,4-디요오도벤조일메틸, 2,4-디플루오로벤조일메틸, 2,5-디클로로벤조일메틸, 2,6-디클로로벤조일메틸, 3,4,5-트리플루오로벤조일메틸, 3-(4-클로로벤조일)프로필, 1-(2-브로모벤조일)에틸, 4-(3-플루오로벤조일)부틸, 5-(4-요오도벤조일)펜틸, 6-(4-클로로벤조일)헥실, 1,1-디메틸-2-(3-플루오로벤조일)에틸, 2-메틸-3-(4-클로로벤조일)프로필, 2-메톡시벤조일메틸, 2-(3-메톡시벤조일)에틸, 2-(4-메톡시벤조일)에틸, 4-메톡시벤조일메틸, 1-(2-에톡시벤조일)에틸, 3-(3-에톡시벤조일)프로필, 4-(4-에톡시벤조일)부틸, 5-(4-이소프로폭시벤조일)펜틸, 6-(3-부톡시벤조일)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-펜틸옥시벤조일)에틸, 2-메틸-3-(4-헥실옥시벤조일)프로필, 3,4-디메톡시벤조일메틸, 3,4-디에톡시벤조일메틸, 2,4-디메톡시벤조일메틸, 2,5-디메톡시벤조일메틸, 2,6-디메톡시벤조일메틸, 3,4,5-트리메톡시벤조일메틸, 2-클로로-4-메톡시벤조일메틸, 3-플루오로-5-에톡시벤조일메틸기와 같은, 페닐 고리 상에, 할로겐 원자 및 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 벤조일알킬기를 포함한다.
피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기의 예는, [(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]메틸, 2-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]에틸, 1-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]에틸, 3-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]프로필, 4-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]부틸, 5-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]펜틸, 6-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 3, 또는 4-)피페리디닐]프로필, [1-메틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐]메틸, 2-[1-에틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐]에틸, 1-[4-프로필-(1, 2, 또는 3-)피페리디닐]에틸, 3-[3-이소프로필-(1, 2, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐]프로필, 4-[2-부틸-(1, 3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐]부틸, 5-[1-이소부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐]펜틸, 6-[1-tert-부틸-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[4-펜틸-(1, 2, 또는 3-)피페리디닐]에틸, 2-메틸-3-[1-헥실-(2, 3, 또는 4-)피페리디닐]프로필, [1,2-디메틸-(3, 4, 5, 또는 6-)피페리디닐]메틸, [1,2,6-트리메틸-(3, 4, 또는 5-)피페리디닐]메틸기와 같은, 피페리딘 고리 상에 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개를 가질 수 있고 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피레리디닐알킬기를 포함한다.
이미다졸 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기의 예는, (1,2,4 또는 5-)이미다졸릴기, 1-페닐-(2,4 또는 5-)이미다졸릴기, 2-페닐-(1,4 또는 5-)이미다졸릴기, 4-페닐-(1,2 또는 5-)이미다졸릴기, 5-페닐-(1,2 또는 4-)이미다졸릴기, 1,2-디페닐-(4 또는 5-)이미다졸릴기, 2,4-디페닐-(1 또는 5-)이미다졸릴기, 4,5-디페닐-(1 또는 2-)이미다졸릴기, 2,5-디페닐-(1 또는 4-)이미다졸릴기, 및 2,4,5-트리페닐-1-이미다졸릴기와 같은, 이미다졸 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기를 포함한다.
벤즈이미다졸 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기의 예는, (1, 2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-메틸-(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 2-에틸-(1, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 4-프로필-(1, 2, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 5-부틸-(1, 2, 4, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 6-펜틸-(1, 2, 4, 5, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 7-헥실-(1, 2, 4, 5, 또는 6-)벤즈이미다졸릴, 1-에틸-(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴]헥실, 1-부틸-(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-이소프로필-(1, 2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1,2-디메틸-(4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-메틸-4-에틸-(2, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1-프로필-5-메틸-(2, 4, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴, 1,2,5-트리메틸-(2, 4, 5, 6, 또는 7-)벤즈이미다졸릴기와 같은, 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기를 포함한다.
피리딜 저급 알콕시기의 예는, (2,3 또는 4-)피리딜메톡시기, 2-[(2,3 또는 4-)피리딜]에톡시기, 1-[(2,3 또는 4-)피리딜]에톡시기, 3-[(2,3 또는 4-)피리딜]프로폭시기, 4-[(2,3 또는 4-)피리딜]부톡시기, 1-1-디메틸-2-[(2,3 또는 4-)피리딜]에톡시기, 5-[(2,3 또는 4-)피리딜]펜틸옥시기, 6-[(2,3 또는 4-)피리딜]헥실옥시기, 1-[(2,3 또는 4-)피리딜]이소프로폭시기, 및 2-메틸-3-[(2,3 또는 4-)피리딜]프로폭시기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피리딜알콕시기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기의 예는, (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴메틸, 2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 1-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]프로필, 4-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]부틸, 5-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]펜틸, 6-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]프로필, [2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]메틸, [4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]메틸, [2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]메틸, 2-[2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]에틸, 3-[4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]프로필, 4-[2,4-디옥소-(1, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]부틸, 5-[2-옥소-(1, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]펜틸, 6-[4-옥소-(1, 2, 3, 5, 6, 7, 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]헥실기와 같은, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 1 또는 2 개의 옥소기를 가질 수 있고, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴알킬기를 포함한다.
옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기의 예는, (2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴메틸, 2-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 1-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 3-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필, 4-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]부틸, 5-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]펜틸, 6-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필, 2-옥소-[(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]메틸, 5-옥소-[(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]메틸, 2-[2-옥소-(3 또는 5-)(1,3,4-옥사디아졸릴)]에틸, 1-[5-옥소-(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 3-[(2 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필, 4-[2-옥소(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]부틸, 5-[5-옥소(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]펜틸, 6-[2-옥소(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[5-옥소(2 또는 3-)1,3,4-옥사디아졸릴]에틸, 2-메틸-3-[2-옥소(3 또는 5-)1,3,4-옥사디아졸릴]프로필기와 같은, 옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있고, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 1,3,4-옥사디아졸릴알킬기를 포함한다.
티에닐 저급 알킬기의 예는, (2 또는 3-)티에닐메틸기, 2-[(2 또는 3-)티에닐]에틸기, 1-[(2 또는 3-)티에닐]에틸기, 3-[(2 또는 3-)티에닐]프로필기, 4-[(2 또는 3-)티에닐]부틸기, 5-[(2 또는 3-)티에닐]펜틸기, 6-[(2 또는 3-)티에닐]헥실기, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)티에닐]에틸기, 및 2-메틸-3-[(2 또는 3-)티에닐]프로필기와 같은, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 티에닐알킬기를 포함한다.
피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기의 예는, (2,3,4 또는 6-)피리미디닐카르보닐기, 2,6-디옥소-(1,3,4 또는 5-)피리미디닐카르보닐기, 2-옥소-(1,3,4,5 또는 6-)피리미디닐카르보닐기, 6-옥소-(1,2,3,4 또는 5-)피리미디닐카르보닐기, 4-옥소-(1,2,3,4 또는 6-)피리미딜카르보닐기, 2,4-디옥소-(1,3,4 또는 6-)피리미디닐카르보닐기, 및 2,4,6-트리옥소-(1,3 또는 5-)피리미딜카르보닐기와 같은, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기를 포함한다.
저급 알콕시 저급 알콕시기의 예는, 메톡시메톡시기, 1-에톡시에톡시기, 2-메톡시에톡시기, 2-프로폭시에톡시기, 3-이소프로폭시프로폭시기, 4-부톡시부톡시기, 5-펜틸옥시펜틸옥시기, 6-헥실옥시헥실옥시기, 1,1-디메틸-2-메톡시에톡시기, 2-메틸-3-에톡시프로폭시기, 및 3-메톡시프로폭시기와 같은, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기의 예는, 메톡시카르보닐메톡시, 에톡시카르보닐메톡시, 2-메톡시카르보닐에톡시, 2-에톡시카르보닐에톡시, 1-에톡시카르보닐에톡시, 3-메톡시카르보닐프로폭시, 3-에톡시카르보닐프로폭시, 4-에톡시카르보닐부톡시, 5-이소프로폭시카르보닐펜틸옥시, 6-프로폭시카르보닐헥실옥시, 1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐에톡시, 2-메틸-3-tert-부톡시카르보닐프로폭시, 2-펜틸옥시카르보닐에톡시, 헥실옥시카르보닐메톡시기와 같은, 두 알콕시 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기인 알콕시카르보닐알콕시기를 포함한다.
카르복시 저급 알콕시기의 예는, 카르복시메톡시기, 2-카르복시에톡시기, 1-카르복시에톡시기, 3-카르복시프로폭시기, 4-카르복시부톡시기, 5-카르복시펜틸옥시기, 6-카르복시헥실옥시기, 1,1-디메틸-2-카르복시에톡시기, 및 2-메틸-3-카르복시프로폭시기와 같은, 알콕시 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기인 카르복시알콕시기를 포함한다.
페녹시 저급 알카노일기의 예는, 2-페녹시아세틸기, 3-페녹시프로피오닐기, 2-페녹시프로피오닐기, 4-페녹시부티릴기, 5-페녹시펜타노일기, 6-페녹시헥사노일기, 2,2-디메틸-2-페녹시프로피오닐기, 및 2-메틸-3-페녹시프로피오닐기와 같은, 알카노일 부분이 2 내지 6 개의 선형 또는 분지형 알카노일기인 페녹시알카노일기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 갖는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기의 예는, [(1,3,4,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐기, [2-옥소-(1,3,4,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐기, [4-옥소-(1,2,3,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐기, 및 [2,4-디옥소-(1,3,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴]카르보닐기와 같은, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 1 또는 2 개의 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기를 포함한다.
테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기의 예는, (1,2,3,4,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 2-옥소-(1,3,4,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 4-옥소-(1,2,3,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 및 2,4-디옥소-(1,3,5,6,7 또는 8-)1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기와 같은, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 1 또는 2 개의 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기를 포함한다.
치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기의 예는, 아미노기, 메톡시카르보닐아미노기, 에톡시카르보닐아미노기, 프로폭시카르보닐아미노기, 이소프로폭시카르보닐아미노기, 부톡시카르보닐아미노기, tert-부톡시카르보닐아미노기, 펜틸옥시카르보닐아미노기, 및 헥실옥시카르보닐아미노기와 같은, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 사슬 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기의 예는, 벤조일기, 2-메톡시벤조일기, 3-메톡시벤조일기, 4-메톡시벤조일기, 2-에톡시벤조일기, 3-에톡시벤조일기, 4-에톡시벤조일기, 4-이소프로폭시벤조일기, 3-부톡시벤조일기, 4-펜틸옥시벤조일기, 4-헥실옥시벤조일기, 3,4-디메톡시벤조일기, 3,4-디에톡시벤조일기, 2,4-디메톡시벤조일기, 2,5-디메톡시벤조일기, 2,6-디메톡시벤조일기, 및 3,4,5-트리메톡시벤조일기와 같은, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 1 내지 3 개의 선형 또는 분지형 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 포함한다.
저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를, 페닐 고리 상에 가질 수 있는 1 또는 2 개의 페닐을 갖는 저급 알킬기의 예는, 상기된 페닐 저급 알킬기 이외에, 1,1-디페닐메틸, 1,1-디(4-플루오로페닐)메틸, 1-페닐-1-(4-메톡시페닐)메틸, 3,3-디페닐프로필, 2,5-디플루오로벤질, 2,4-디플루오로벤질, 3,4-디플루오로벤질, 3,5-디플루오로벤질, 2,6-디플루오로벤질, 3-트리플루오로메틸벤질, 2-트리플루오로메틸벤질, 4-트리플루오로메틸벤질, 3,4-디메톡시벤질, 3,5-디메톡시벤질, 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 4-메틸벤질, 3,4-디메틸벤질, 2,3-디메틸벤질, 2-메톡시벤질, 3-메톡시벤질, 4-시아노벤질, 2-시아노벤질, 3-시아노벤질, 4-메톡시벤질, 2,3-디클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 2,5-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 2,6-디클로로벤질, 4-플루오로벤질, 3-플루오로벤질, 2-플루오로벤질, 4-니트로벤질, 3-니트로벤질, 2-니트로벤질, 3-트리플루오로메톡시벤질, 4-트리플루오로메톡시벤질, 2-트리플루오로메톡시벤질, 4-메톡시카르보닐벤질, 3-메톡시카르보닐벤질, 4-tert-부틸벤질, 4-에틸벤질, 4-이소프로필벤질, 4-메톡시-3-클로로벤질, 2-(4-메톡시페닐)에틸, 2-(4-플루오로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-페닐벤질, 3,3-디페닐프로필, 3-메틸-4-니트로벤질, 4-(4-메톡시페닐)부틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 4-tert-부톡시카르보닐벤질, 3-클로로-6-메톡시벤질, 4-니트로-3-메틸벤질, 4-tert-부티릴벤질, 2-(2-에톡시카르보닐페닐)에틸, 1-(3-프로폭시카르보닐페닐)에틸, 3-(4-펜틸옥시카르보닐페닐)프로필, 4-(3-헥실옥시카르보닐페닐)부틸, 5-(3,4-디메톡시카르보닐페닐)펜틸, 6-(3,4,5-디에톡시카르보닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(4-부톡시카르보닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(4-메톡시카르보닐페닐)프로필, 2-(2-시아노페닐)에틸, 1-(3-시아노페닐)에틸, 3-(4-시아노페닐)프로필, 4-(2-시아노페닐)부틸, 5-(3-시아노페닐)펜틸, 6-(4-시아노페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디시아노페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리시아노페닐)프로필, 2-(2-니트로페닐)에틸, 1-(3-니트로페닐)에틸, 3-(4-니트로페닐)프로필, 4-(2-니트로페닐)부틸, 5-(3-니트로페닐)펜틸, 6-(4-니트로페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디니트로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리니트로페닐)프로필, 2-(2-페닐페닐)에틸, 1-(3-페닐페닐)에틸, 3-(4-페닐페닐)프로필, 4-(2-페닐페닐)부틸, 5-(3-페닐페닐)펜틸, 6-(4-페닐페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디페닐페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리페닐페닐)프로필, 2-(2-플루오로페닐)에틸, 1-(3-브로모페닐)에틸, 3-(4-요오도페닐)프로필, 4-(2-브로모페닐)부틸, 5-(3-클로로페닐)펜틸, 6-(4-브로모페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디클로로페닐)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리플루오로페닐)프로필, 2-(2-에틸페닐)에틸, 1-(3-프로필페닐)에틸, 3-(4-부틸페닐)프로필, 4-(2-펜틸페닐)부틸, 5-(3-헥실페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메틸페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메틸)페닐]프로필, 2-(2-에톡시페닐)에틸, 1-(3-프로폭시페닐)에틸, 3-(4-부톡시페닐)프로필, 4-(2-펜틸옥시페닐)부틸, 5-(3-헥실옥시페닐)펜틸, 6-(4-트리플루오로메톡시페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메톡시페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리(트리플루오로메톡시)페닐]프로필, 2-메틸티오벤질, 3-메틸티오벤질, 4-메틸티오벤질, 3,4-디메틸티오벤질, 2,3-디메틸티오벤질, 2-(2-에틸티오페닐)에틸, 2-(4-메틸티오페닐)에틸, 1-(3-프로필티오페닐)에틸, 3-(4-부틸티오페닐)프로필, 4-(2-펜틸티오페닐)부틸, 5-(3-헥실티오페닐)펜틸, 6-(4-메틸티오페닐)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸티오페닐)에틸, 2-메틸-3-[2,4,6-트리메틸티오페닐]프로필, 2-메틸-4-시아노벤질, 3-에톡시-4-에톡시카르보닐벤질, 4-페닐-3-니트로벤질, 3-플루오로-4-메톡시벤질, 4-트리플루오로메틸-3-시아노벤질, 3-트리플루오로메톡시-3-플루오로벤질기와 같은, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기, 및 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 페닐 고리 상에 가질 수 있는, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 포함한다.
치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기의 예는, 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 4-이소프로필페닐, 3-부틸페닐, 4-펜틸페닐, 4-헥실페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,4-디에틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4,5-트리메틸페닐, 2-메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-메톡시페닐, 2-에톡시페닐, 3-에톡시페닐, 4-에톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 3-부톡시페닐, 4-펜틸옥시페닐, 4-헥실옥시페닐, 3,4-디메톡시페닐, 3,4-디에톡시페닐, 2,4-디메톡시페닐, 2,5-디메톡시페닐, 2,6-디메톡시페닐, 3,4,5-트리메톡시페닐, 2-트리플루오로메톡시페닐, 3-트리플루오로메톡시페닐, 4-트리플루오로메톡시페닐, 2-(브로모메톡시)페닐, 3-(2-클로로에톡시)페닐, 4-(2,3-디클로로프로폭시)페닐, 4-(4-플루오로부톡시)페닐, 3-(5-클로로펜틸옥시)페닐, 4-(5-브로모헥실옥시)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실옥시)페닐, 3,4-디(트리플루오로메톡시)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부톡시)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메톡시프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로폭시)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메톡시)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에톡시)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에틸-4-트리클로로메톡시페닐, 2-메톡시-4-트리플루오로메톡시페닐, 3-에톡시-4-트리클로로메톡시페닐, 2-트리플루오로메틸페닐, 3-트리플루오로메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 2-(브로모메틸)페닐, 3-(2-클로로에틸)페닐, 4-(2,3-디클로로프로필)페닐, 4-(4-플루오로부틸)페닐, 3-(5-클로로펜틸)페닐, 4-(5-브로모헥실)페닐, 4-(5,6-디브로모헥실)페닐, 3,4-디(트리플루오로메틸)페닐, 3,4-디(4,4,4-트리클로로부틸)페닐, 2,4-디(3-클로로-2-메틸프로필)페닐, 2,5-디(3-클로로프로필)페닐, 2,6-디(2,2,2-트리플루오로에틸)페닐, 3,4,5-트리(트리플루오로메틸)페닐, 4-(2,2,2-트리클로로에틸)페닐, 2-메틸-4-트리플루오로메틸페닐, 3-에틸-4-트리클로로메틸페닐기과 같은, 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 치환기로서 1 내지 3 개의 할로겐 원자를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기를, 페닐 고리 상에 가질 수 있는 페닐기를 포함한다.
치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를, 피롤리딘 고리 상에 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기의 예는, [(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]메틸, 2-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 1-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 3-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]부틸, 5-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]펜틸, 6-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]에틸, 2-메틸-3-[(1, 2, 또는 3-)피롤리디닐]프로필, [1-메틸-(2 또는 3-)피롤리디닐]메틸, 2-[2-에틸-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 1-[3-프로필-(1, 2, 4, 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 3-[1-부틸-(2 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[2-펜틸-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]부틸, 5-[3-헥실-(1, 2, 4, 또는 5-)피롤리디닐]펜틸, 6-[1,2-디메틸-(3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,2,3-트리메틸-(4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 2-메틸-3-[1-에틸-2-메틸-(3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]프로필, [1-(2-히드록시에틸)-(2 또는 3-)피롤리디닐]메틸, [2-히드록시메틸-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]메틸, 2-[2-히드록시메틸-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 1-[3-(3-히드록시프로필)-(1, 2, 4, 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 3-[1-(4-히드록시부틸)-(2 또는 3-)피롤리디닐]프로필, 4-[2-(5-히드록시펜틸)-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]부틸, 5-[3-(6-히드록시헥실)-(1, 2, 4, 또는 5-)피롤리디닐]펜틸, 6-[1,2-디히드록시메틸-(3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]헥실, 1,1-디메틸-2-[1,2,3-트리히드록시메틸-(4 또는 5-)피롤리디닐]에틸, 2-메틸-3-[2-(1,2-히드록시에틸)-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]프로필, [2-(2,3,4-트리히드록시부틸)-(1, 3, 4, 또는 5-)피롤리디닐]메틸기와 같은, 피롤리딘 고리 상에, 치환기로서 1 내지 3 개의 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 1 내지 3 개를 가질 수 있고, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 피롤리디닐알킬기를 포함한다.
페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기의 예는, 아미노메틸, 2-아미노메틸, 1-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, N,N-디에틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 1-에틸아미노에틸, 2-프로필아미노에틸, 3-이소프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 5-펜틸아미노펜틸, 6-헥실아미노헥실, 디메틸아미노메틸, 2-디이소프로필아미노에틸, (N-에틸-N-프로필아미노)메틸, 2-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸, 페닐아미노메틸, 1-페닐아미노에틸, 2-페닐아미노에틸, 3-페닐아미노프로필, 4-페닐아미노부틸, 5-페닐아미노펜틸, 6-페닐아미노헥실, N-메틸-N-페닐아미노메틸, 2-(N-에틸-N-페닐아미노)에틸, (N-에틸-N-페닐아미노)메틸, 2-(N-메틸-N-페닐아미노)에틸기와 같은, 페닐기 및 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 개의 치환기를 가질 수 있는 아미노기로 치환되는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 포함한다.
저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기의 예는, [(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]메틸, 2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 1-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 3-[(2 또는 3-)테트라히드로테트라히드로푸릴]프로필, 4-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]부틸, 5-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]펜틸, 6-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]헥실, 1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 2-메틸-3-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]프로필, 1-히드록시-1-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]메틸, 2-히드록시-2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 2-히드록시-1-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 3-히드록시-3-[(2 또는 3-)테트라히드로테트라히드로푸릴]프로필, 4-히드록시-4-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]부틸, 5-히드록시-5-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]펜틸, 6-히드록시-6-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]헥실, 2-히드록시-1,1-디메틸-2-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]에틸, 3-히드록시-2-메틸-3-[(2 또는 3-)테트라히드로푸릴]프로필기와 같은, 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있고 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 테트라히드로푸릴알킬기를 포함한다.
페닐 고리 상에, 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기의 예는, 상기된 페녹시 저급 알킬기 이외에, 2-메틸페녹시메틸, 3-메틸페녹시메틸, 4-메틸페녹시메틸, 3,4-디메틸페녹시메틸, 2,3-디메틸페녹시메틸, 3,4,5-트리메틸페녹시메틸, 2-(2-에틸페녹시)에틸, 2-(3-메틸페녹시)에틸, 2-(4-메틸페녹시)에틸, 1-(3-프로필페녹시)에틸, 3-(4-부틸페녹시)프로필, 4-(2-펜틸페녹시)부틸, 5-(3-헥실페녹시)펜틸, 6-(4-메틸페녹시)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페녹시)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리메틸페녹시)프로필, 2-(4-니트로-3-메틸페녹시)에틸, 4-니트로페녹시메틸, 3-니트로페녹시메틸, 2-니트로페녹시메틸, 2-(2-니트로페녹시)에틸, 2-(4-니트로페녹시)에틸, 1-(3-니트로페녹시)에틸, 3-(4-니트로페녹시)프로필, 4-(2-니트로페녹시)부틸, 5-(3-니트로페녹시)펜틸, 6-(4-니트로페녹시)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디니트로페녹시)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리니트로페녹시)프로필과 같은, 페닐 고리 상에 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 갖고, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 페녹시알킬기를 포함한다.
페닐 저급 알카노일기의 예는, 2-페닐아세틸기, 3-페닐프로피오닐기, 2-페닐프로피오닐기, 4-페닐부티릴기, 5-페닐펜타노일기, 6-페닐헥사노일기, 2,2-디메틸-3-페닐프로피오닐기, 및 2-메틸-3-페닐프로피오닐기와 같은, 알카노일 부분이 2 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알카노일기인 페닐알카노일기를 포함한다.
질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 통해 또는 이들을 통하지 않고, R20 및 R21, R22 및 R23, R26 및 R27, R29 및 R30, 또는 R32 및 R33 이, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 서로 결합하여 형성되는 5- 내지 7- 원 포화 헤테로시클릭기의 예는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 피페라지닐기, 모르폴리노기, 티오모르폴리노기, 및 호모피페라지닐기를 포함한다.
페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기의 예는, 상기된 페녹시 저급 알킬기 이외에, 2-메틸페녹시메틸, 3-메틸페녹시메틸, 4-메틸페녹시메틸, 3,4-디메틸페녹시메틸, 2,3-디메틸페녹시메틸, 3,4,5-트리메틸페녹시메틸, 2-(2-에틸페녹시)에틸, 2-(4-메틸페녹시)에틸, 1-(3-프로필페녹시)에틸, 3-(4-부틸페녹시)프로필, 4-(2-펜틸페녹시)부틸, 5-(3-헥실페녹시)펜틸, 6-(4-메틸페녹시)헥실, 1,1-디메틸-2-(2,4-디메틸페녹시)에틸, 2-메틸-3-(2,4,6-트리메틸페녹시)프로필기와 같은, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖고, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인, 1 내지 3 개의 선형 또는 분지형 알킬을 가질 수 있는 페녹시알킬기를 포함한다.
본 발명의 화합물의 제조 방법은 하기에 기술될 것이다.
여러 Y 를 갖는 일반식 (1) 의 본 발명의 화합물은, 예를 들어, 하기 반응식 1 내지 4 에 나타난 바와 같이 제조된다.
[반응식 1]
Figure 112007010406990-pct00072
식에서, R1, R2, X1 및 A 는 상기된 바와 같고, Y1 는 -O- 기, -S- 기 또는 -NH 기를 나타내고, X2 는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (2) 및 화합물 (3) 간의 반응은 일반적으로 적절한 용매 중, 또는 용매 없이, 그리고 염기성 화합물의 존재 또는 부재 중 수행된다.
사용된 불활성 용매의 예는 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테르라히드로푸란, 디옥산, 모노글라임 및 디글라임, 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 크로로포름 및 사염화탄소, 저급 알코올 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로파놀, 부탄올, tert-부탄올 및 에틸렌 글리콜, 지방산 예컨대 아세트산, 에스테르 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 그의 혼합물을 포함한다.
염기성 화합물의 예는 탄산염 예컨대 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 및 탄산세슘, 금속 수산화물 예컨대 수산화나트륨, 수산화칼륨, 및 수산화칼슘, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 금속 알코올레이트 예컨대 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 및 나트륨 n-부톡시드, 및 유기 염기 예컨대 피리딘, 이미다졸, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데켄-7 (DBU) 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO), 및 그의 혼합물을 포함한다.
반응이 염기성 화합물의 존재 하에서 수행될 경우, 염기성 화합물은 몰에 기초하여 전형적으로 화합물 (2) 의 등몰의 양, 및 바람직하게는 화합물 (2) 의 1 내지 10 배의 양으로 사용된다.
화합물 (3) 은 몰에 기초하여 전형적으로 화합물 (2) 의 등몰 이상, 및 바람직하게는 화합물 (2) 의 1 내지 10 배의 양으로 사용된다.
반응은 전형적으로 -30 내지 200℃, 바람직하게는 약 -30 내지 150℃ 에서 수행되며, 일반적으로 약 5 분 내지 80 시간 내에 종결된다.
상기 반응계에, 알칼리 금속 할라이드 예컨대 요오드화나트륨 또는 요오드화칼륨이 첨가될 수 있고, 상이동 촉매가 첨가될 수 있다.
상이동 촉매의 예는, 테트라부틸염화암모늄, 테트라부틸암모늄 브로마이드, 테트라부틸암모늄 플루오라이드, 테트라부틸암모늄 요오드화물, 테트라부틸암모늄 히드록시드, 테트라부틸암모늄 히드로겐술파이트, 트리부틸메틸염화암모늄, 트리부틸벤질염화암모늄, 테트라펜틸염화암모늄, 테트라펜틸암모늄 브로마이드, 테트라헥실염화암모늄, 벤질디메틸옥틸염화암모늄, 메틸트리헥실염화암모늄, 벤질디메틸옥카데카닐염화암모늄, 메틸트리데카닐염화암모늄, 벤질트리프로필염화암모늄, 벤질트리에틸염화암모늄, 페닐트리에틸염화암모늄, 테트라에틸염화암모늄, 테트라메틸염화암모늄와 같은, 1 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기, 알킬 부분이 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기인 페닐 저급 알킬기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기로 치환된 4차 암모늄 염; 테트라부틸포스포늄 클로라이드와 같은, 1 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형으로 치환된 포스포늄 염; 1-도데카닐피리디늄 클로라이드와 같은, 1 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기로 치환된 피리디늄 염을 포함한다. 이들 상이동 촉매는 단독으로, 또는 둘 이상의 조합으로 사용된다.
상이동 촉매는 전형적으로 화합물 (2) 의 0.1 내지 1 배의 양으로 사용되며, 바람직하게는 화합물 (2) 의 0.1 내지 0.5 배로 사용된다.
Y1 이 -NH 기를 나타내는 화합물 (1a) 은 염기 대신 산의 존재 하에서, 화합물 (2) 를 화합물 (3) 과 반응시켜 제조될 수 있다. 여기서 사용되는 산의 예는 미네랄산 예컨대 염산, 황산, 및 브롬산, 및 유기산 예컨대 아세트산, 트리플루오로아세트산 및 p-톨루엔설폰산을 포함한다. 이러한 산은 단독으로, 또는 둘 이상의 혼합물로서 사용된다.
Y 가 -N(R5)-기를 나타내고, R5 가 수소 원자 이외의 R5 인 화합물 (1) 은, 하기 반응식 2 에 나타난 바와 같이, Y 가 -NH- 기를 나타내는 상응하는 화합물 (1) 로부터 제조될 수 있다.
[반응식 2]
Figure 112007010406990-pct00073
[식 중, R1, R2, X1, A 및 X2 는 상기된 바와 같고, R5a 는 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R5b 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고, R5c 는 저급 알카노일기 또는 벤조일기를 나타내며, RB 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, R5b 및 RB 는 이들 기가 결합된 탄소 원자와 함께, 서로 결합하여 시클로알킬 고리를 형성할 수 있으며, 단, 화합물 (1d) 의 -CHRBR5b 기의 알킬 부분은 1 내지 6 개의 탄소 원자를 가짐].
화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응은, 상기된 반응식 1 에 나타난 바와 같이, 화합물 (3) 와 화합물 (2) 의 반응에 대한 것과 유사한 조건 하에서 수행된다.
화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 반응은, 예를 들어, 환원제의 존재 하에서 적절한 용매와 함께 또는 용매 없이 수행된다. 이하, 이러한 방법을 "방법 A" 라 칭한다.
여기서 사용되는 용매의 예는 물, 저급 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올 및 에틸렌 글리콜, 아세토니트릴, 지방산 예컨대 포름산 및 아세트산, 예테르 예컨대 디에틸 에테르, 테르라히드로푸란, 디옥산, 모노글라임 및 디글라임, 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔 및 자일렌, 및 할로겐화 탄화수소 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 사염화탄소, 및 그의 혼합물을 포함한다.
환원제의 예는 지방산 및 그의 알칼리 금속염 예컨대 포름산, 나트륨 포르메이트, 및 아세트산 나트륨, 수소화물 환원제 예컨대 나트륨 보로히드라이드, 나트륨 시아노보로히드라이드, 나트륨 트리아세틸옥시보로히드라이드, 및 알루미늄 리튬 히드라이드, 또는 이들 수소화물 환원제의 혼합물, 및 촉매성 수소 환원제 얘컨대 팔라듐 블랙, 팔라듐-탄소, 산화 백금, 백금 블랙 및 레이니 니켈을 포함한다.
지방산 또는 그의 알칼리 금속염 예컨대 포름산, 나트륨 포르메이트, 또는 아세트산 나트륨을 환원제로 사용함에 있어서, 적절한 반응 온도는 전형적으로 실온 내지 약 200℃, 바람직하게는 약 50 내지 약 150℃ 이며, 반응은 보통 약 10 분 내지 10 시간 내에 종결된다. 지방산 또는 그의 알칼리 금속염을, 화합물 (1b) 에 대해 과잉의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.
수소화물 환원제를 사용함에 있어서, 적절한 반응 온도는 전형적으로 -80 내지 100℃, 바람직하게는 -80 내지 70℃ 이며, 반응은 보통 30 분 내지 60 시간 내에 종결된다. 수소화물 환원제는 몰에 기초하여 전형적으로 화합물 (1b) 의 1 내지 20 배, 및 바람직하게는 화합물 (1b) 의 1 내지 6 배의 양으로 사용된다. 특히, 알루미늄 리튬 히드라이드를 수소화물 환원제로 사용함에 있어서, 에테르 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글라임 또는 디글라임, 또는 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔 또는 자일렌을 사용하는 것이 바람직하다. 반응계에, 아민 예컨대 트리메틸아민, 트리에틸아민 및 N-에틸디이소프로필아민, 또는 분자체 예컨대 Molecular Sieves 3A (MS-3A) 또는 Molecular Sieves 4A (MS-4A) 가 첨가될 수 있다.
촉매성 수소 환원제를 사용함에 있어서, 반응은 바람직하게 수소 대기 하에서, 전형적으로 보통 압력 내지 약 20 atm, 바람직하게는 보통 압력 내지 약 10 atm, 또는 포름산, 암모늄 포르메이트, 시클로헥센, 또는 히드라진 히드레이트와 같은 수소 공여체의 존재 하에서, -30 내지 100℃, 바람직하게는 0 내지 60℃ 의 온도에서 수행된다. 상기된 반응은 보통 약 1 내지 12 시간 내에 종결된다. 촉매성 수소 환원제는 화합물 (1b) 에 대해 전형적으로 약 0.1 중량% 내지 40 중량%, 및 약 1 내지 20 중량% 의 양으로 사용된다.
화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 반응에 있어서, 화합물 (5) 는 몰에 기초하여 전형적으로 화합물 (1b) 과 등몰 이상으로 사용되며, 바람직하게는 동량 내지 과량의 화합물 (5) 를 사용된다.
화합물 (5) (식 중, RB 및 R5b 가 이들 기를 결합하는 탄소 원자와 함께 서로 결합되어 시클로알킬 고리를 형성함) 가 출발 물질로 사용되고, 수소화물 환원제가 반응을 수행하기 위해 사용되는 경우, [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란과 같은 시클로알킬옥시트리알킬실란이 화합물 (5) 대신 출발 물질로 사용되어 반응계에서 상기된 화합물 (5) 를 제조한다.
화합물 (1d) 는, 이하 기술되는 반응식 3 의 히드록실아민과 화합물 (1f) 와의 반응 조건과 유사한 반응 조건 하에서, 화합물 (1b) 를 화합물 (5) 와 반응시킨 후, 하기 일반식으로 나타내는 생성 화합물을 환원시켜 제조될 수 있다:
Figure 112007010406990-pct00074
[식 중, R1, R2, X1, RB 및 R5b 는 상기된 바와 같다].
방법 A 와 유사한 반응 조건이 상기 환원 반응에 적용될 수 있다.
화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응은 아미드 결합 제조에 전형적인 반응 중, 화합물 (1b) 를 화합물 (6) 의 카르복실산과 반응시키는 방법으로 수행될 수 있다. 아미드 결합 제조에 대해 공지된 반응이 아미드 결합 제조를 위해 상기 반응에 적용될 수 있다. 그의 구체적인 방법은 하기를 포함한다: (a) 혼합산 무수물 방법, 구체적으로는, 알킬할로카르복실산을 카르복실산 (6) 과 반응시켜 혼합산 무수물을 제조한 후, 아민 (1b) 를 혼합산 무수물과 반응시키는 방법; (b) 활성 에스테르 방법, 구체적으로는, 카르복실산 (6) 으로부터, 페닐 에스테르, p-니트로페닐 에스테르, N-히드록시숙신이미드 에스테르, 또는 1-히드록시벤조트리아졸 에스테르와 같은 활성 에스테르 또는 벤족사졸린-2-티온으로 활성 아미드를 제조한 후, 활성 에스테르 또는 아미드를 아민 (1b) 와 반응시키는 방법; (c) 카르보디이미드 방법, 구체적으로는, 디시클로헥실카르보디이미드, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카르보디이미드 (WSC) 또는 카르보닐디이미다졸과 같은 활성제의 존재 하에서 카르복실산 (6) 과 아민 (1b) 의 축합 반응의 방법; (d) 기타 방법, 예를 들어, 아세트산 무수물과 같은 탈수제의 작용에 의해 카르복실산 (6) 으로부터 카르복실산 무수물을 제조한 후, 카르복실산 무수물을 아민 (1b) 와 반응시키는 방법, 고압 및 고온에서 카르복실산 (6) 과 저급 알코올과의 에스테르를 아민 (1b) 와 반응시키는 방법, 카르복실산 (6) 의 산 할라이드, 즉 카르복실산 할라이드를 아민 (1b) 와 반응시키는 방법.
상기된 혼합 무수물 방법 (a) 에서 사용되는 혼합산 무수물은 전형적인 쇼텐-바우만 (Schotten-Baumann) 반응에 의해 수득될 수 있으며, 일반식 (1e) 의 본 발명의 화합물은 아민 (2) 를, 단리 없이, 혼합산 무수물과 반응시켜 제조될 수 있다.
상기 기재한 쇼텐-바우만 반응을 염기성 화합물의 존재하에서 수행한다.
사용되는 염기성 화합물에는 쇼텐-바우만 반응에 통상 사용되는 화합물, 예를 들어, 유기 염기 예컨대, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디메틸아닐린, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7, 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO), 및 무기 염기 예컨대, 탄산염 예컨대, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 및 중탄산칼륨, 수산화금속 예컨대 수산화나트륨, 수산화칼륨, 및 수산화칼슘, 수소화칼륨, 수소화나트륨, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 및 금속 알코올레이트 예컨대, 나트륨 메틸레이트 및 나트륨 에틸레이트가 포함된다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2 가지 이상의 조합으로 사용된다. 반응을 전형적으로는 약 -20 내지 100℃, 바람직하게는 약 0 내지 50℃ 에서 수행하고, 반응 시간은 약 5 분 내지 10 시간, 바람직하게는 약 5 분 내지 2 시간이다.
수득되는 혼합된 산 무수물을 아민 (1b) 과 전형적으로는 약 -20 내지 150℃, 바람직하게는 약 10 내지 50℃ 에서 반응시키고, 반응 시간은 약 5 분 내지 10 시간, 바람직하게는 약 5 분 내지 5 시간이다.
혼합된 산 무수물 방법을 일반적으로 용매 중에서 수행한다. 혼합된 산 무수물 방법을 위해 통상적으로 사용되는 임의의 용매를 사용할 수 있다. 용매의 특정 예에는 할로겐화 탄화수소 예컨대, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 및 사염화탄소, 방향족 탄화수소 예컨대, 벤젠, 톨루엔 및 자일렌, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 테트라히드로푸란, 및 디메톡시에탄, 에스테르 예컨대, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 및 이소프로필 아세테이트, 및 비양성자성 극성 용매 예컨대, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸설폭시드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 그의 혼합물이 포함된다.
혼합된 산 무수물 방법에서 사용되는 알킬할로카르복실산의 예에는 메틸 클로로포르메이트, 메틸 브로모포르메이트, 에틸 클로르포르메이트, 에틸 브로모포르메이트, 및 이소부틸 클로로포르메이트가 포함된다.
혼합된 산 무수물 방법에서, 전형적으로는 서로 동등 몰의 카르복실산 (6), 알킬할로카르복실산 및 아민 (1b) 을 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 각각의 알킬할로카르복실산 및 카르복실산 (6) 을 몰 기준으로 각각 아민 (1b) 의 1 내지 1.5 배로 사용할 수 있다.
활성제의 존재하의 축합 반응의 상기 기재한 방법 (c) 에서, 적합한 용매중에서 염기성 화합물의 존재 또는 부재하에 반응을 수행한다. 카르복실산 할라이드를 아민과 반응시키는 상기 기재한 다른 방법 (d) 에서의 반응에 사용되는 임의의 용매 및 염기성 화합물을 본 반응을 위해 사용할 수 있다. 활성제를 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (1b) 과 동등 몰 이상, 바람직하게는 화합물 (1b) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용하는 것이 적합하다. WSC 가 활성제로서 사용되는 경우, 반응을 유리하게는 1-히드록시벤조트리아졸 및/또는 산 예컨대, 염산을 첨가하여 수행할 수 있다. 상기 반응을 전형적으로는 약 -20 내지 180℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 수행하고, 전형적으로는 약 5 분 내지 90 시간 내에 완료한다.
아민 (1b) 를 카르복실산 할라이드와 반응시키는 상기 기재한 다른 방법 (d) 에서, 염기성 화합물의 존재하에 적합한 용매 중에서 반응을 수행한다. 이러한 염기성 화합물로서, 공지된 염기성 화합물을 널리 사용할 수 있고, 예를 들어, 상기 기재한 쇼텐-바우만 반응을 위해 사용되는 임의의 화합물을 사용할 수 있다. 용매의 예에는, 상기 기재한 혼합된 산 무수물 방법에서 사용되는 용매 외에, 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 에틸 셀로솔브, 및 메틸 셀로솔브, 아세토니트릴, 피리딘, 아세톤, 및 물이 포함된다. 반응 내의 아민 (1b) 대 카르복실산 할라이드의 비는 특정되지 않으며, 넓은 범위 내에서 적합하게 선택될 수 있다. 몰 기준으로 전형적으로는, 전자는 후자의 약 동등 몰 이상, 바람직하게는 후자의 약 1 내지 5 배의 양으로 사용할 수 있다. 본 반응은 약 -20 내지 180℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 수행하고, 전형적으로는 약 5 분 내지 50 시간 내에 완료한다.
또한, 상기 기재한 반응식 2 에서 제시된 아미드 결합을 생성하기 위한 반응을 인 화합물의 축합제 예컨대, 트리페닐포스핀, 디페닐포스피닐 클로라이드, 페닐-N-페닐포스포르아미드 클로리데이트, 디에틸 클로로포스페이트, 디에틸 시아노포스페이트, 디페닐인산 아지드, 또는 비스(2-옥소-3-옥사졸리디닐)포스핀 클로라이드의 존재하에서 카르복실산 (6) 및 아민 (1b) 을 반응시켜 수행할 수 있다. 상기 기재한 축합제는 단독으로 또는 2 가지 이상의 조합으로 사용된다.
상기 기재한 반응을, 상기 기재한 카르복실산 할라이드를 아민 (1b) 과 반응시키기 위한 방법에서 사용되는 용매 및 염기성 화합물의 존재하에서, 전형적으로는 약 -20 내지 150℃, 바람직하게는 약 0 내지 100℃ 에서 수행하고, 전형적으로는 5 분 내지 약 30 시간 내에 완료한다. 축합제 및 카르복실산 (6) 을 몰 기준으로 각각 아민 (1b) 과 약 동등 몰 이상, 바람직하게는 아민 (1b) 의 약 1 내지 2 배의 양으로 사용할 수 있다.
식 중 Y 가 -CH(OH)- 또는 -C(=N-OH) 기를 나타내는 화합물 (1) 을, 반응식 3 에서 제시되는 바와 같이, 식 중 Y 가 -CO- 기를 나타내는 해당 화합물로부터 제조한다.
[반응식 3]
Figure 112007010406990-pct00075
(식 중 R1, R2, X1 및 A 는 상기 기재한 바와 동일함).
화합물 (1g) 을 화합물 (1f) 을 환원시켜 제조한다.
상기 기재한 환원 반응에서, 수소화물 환원제를 사용하는 환원 방법이 호의적으로 사용된다. 사용되는 환원제의 예에는 알루미늄 리튬 히드라이드, 나트륨 보로히드라이드, 보란, 디보란, 및 리튬 보로히드라이드-트리메톡시보란이 포함된다. 상기 환원제는 단독으로 또는 2 가지 이상의 조합으로 사용된다. 환원제는 전형적으로는 화합물 (1f) 과 동등 몰 이상, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (1f) 의 1 내지 15 배의 양으로 사용할 수 있다. 상기 환원 반응은 전형적으로는 적합한 용매, 예를 들어, 물, 저급 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올, 또는 이소프로판올, 에테르 예컨대, 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 또는 디글림, 또는 할로겐화 탄화수소 예컨대, 디클로로메탄, 클로로포름, 또는 사염화탄소, 또는 그의 혼합물에서, 약 -60 내지 150℃, 바람직하게는 약 -30 내지 100℃, 일반적으로 약 10 분 내지 40 시간에서 수행한다. 알루미늄 리튬 히드라이드 또는 보란을 환원제로서 사용하는 경우에서, 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 디글림 등의 무수 용매를 사용하는 것이 바람직하다.
화합물 (1h) 는 염기성 화합물의 존재 또는 부재 하에 적합한 비활성 용매 중에서 화합물 (1f) 와 히드록실아민을 반응시켜 제조한다.
본 반응에서 사용되는 염기성 화합물의 예에는 무기 염기성 화합물 예컨대, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산나트륨, 및 탄산칼륨, 지방산 알칼리 금속 염 예컨대, 아세트산 나트륨, 유기 염기 예컨대, 피페리딘, 피페리디늄 아세테이트, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디메틸아닐린, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU), 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO) 이 포함된다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용된다.
반응에 대한 역효과를 갖지 않는 임의의 비활성 용매를 사용할 수 있다. 이의 예에는 물, 방향족 탄화수소 예컨대, 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림, 할로겐화 탄화수소 예컨대, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 사염화탄소, 저급 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올, 및 에틸렌 글리콜, 지방산 예컨대, 아세트산, 에스테르 예컨대, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤 예컨대, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸 설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸 포스페이트 트리아미드, 및 그의 혼합물이 포함된다.
히드록실아민은 전형적으로는 화합물 (1f) 와 동등 몰 이상, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (1f) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용할 수 있다. 반응 온도는 전형적으로는 실온 내지 200℃, 바람직하게는 약 50 내지 150℃ 이고, 반응은 일반적으로 약 5 분 내지 30 시간 내에 완료한다.
식 중 Y 가 -S(O)n 기 (n = 1 또는 2) 를 나타내는 화합물 (1) 을, 반응식 4 에서 제시되는 바와 같이, 식 중 Y 가 -S- 기를 나타내는 해당 화합물로부터 제조한다.
[반응식 4]
Figure 112007010406990-pct00076
{식 중, R1, R2, X1 및 A 는 상기 기재한 바와 동일하고, A16 은 -A 기 또는 -A10-T2-COOR59a 기를 나타내고, T2 는 -N(R17)-B3- 기, -B19-N(R18)- 기, -B4- 기, -Q-B5- 기, -B6-N-(R19)-B7- 기, -CO-B10- 기, -CH (OH)-B11- 기, -B23a-CO- 기, 또는 직접 결합을 나타내고, 식 중, R17, B3, B19, R18, B4, B5, B6, R19, B7, B10 및 B11 은 상기 기재한 바와 동일하고, A10 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00077
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, a 는 -S 기 또는 -S(O)j 기와 결합하고, b 는 -T2 와 결합함),
R59a 는 수소 원자 또는 저급 알킬기이고,
j 는 1 또는 2 임}.
화합물 (1zzzz) 을 화합물 (1aaaaa) 로 전환시키기 위한 반응을 적합한 용매 중에서 산화제의 존재하에 수행한다.
용매의 예에는 물, 지방산 예컨대, 포름산, 아세트산, 및 트리플루오로아세트산, 알코올 예컨대, 메탄올 및 에탄올, 및 할로겐화 탄화수소 예컨대, 클로로포름 및 디클로로메탄, 및 그의 혼합물이 포함된다.
산화제의 예에는 과산 (peracid) 예컨대, 퍼포름산, 퍼아세트산, 퍼트리플루오로아세트산, 퍼벤조산, m-클로로퍼벤조산, 및 o-카르복시퍼벤조산, 과산화수소, 나트륨 메타페리도데이트, 디크롬산, 디크로메이트 예컨대, 나트륨 디크로메이트 및 칼륨 디크로메이트, 과망간산, 과망간산염 예컨대, 과망간산나트륨 및 과망간산칼륨 및 납 염 예컨대, 납 테트라아세테이트가 포함된다. 상기 산화제는 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용된다.
산화제는 적합하게는 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (1zzzz) 과 동등 몰 이상, 바람직하게는 화합물 (1zzzz) 의 1 내지 2 배의 양으로 사용된다. 황 원자를 설포닐기 (j=2) 로 전환시키는 산화 반응에서, 산화제를 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (1zzzz) 의 2 배 이상, 바람직하게는 화합물 (1zzzz) 의 2 내지 4 배의 양으로 사용하는 것이 적합하다.
상기 기재한 반응은 전형적으로는 -10 내지 150℃, 바람직하게는 약 -10 내지 100℃ 에서 수행하고, 일반적으로, 약 1 내지 100 시간 내에 완료한다.
다양한 A 의 일반식 (1) 을 갖는 본 발명의 화합물을, 예를 들어, 하기 반응식 5 내지 36 에서 제시되는 바와 같이 제조한다.
A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00078
{식 중, R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 또는 -(T)l-NR14R15 기 (식 중, T 는 저급 알킬렌기이고, l 은 1 임) 임} 을, 반응식 5 에서 제시되는 바와 같이, 화합물 (7) 을 화합물 (8) 과 반응시켜 제조한다.
[반응식 5]
Figure 112007010406990-pct00079
{식 중, R1, R2 Y1 및 X1 은 상기 기재한 바와 동일하고, A1 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00080
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R37a 는 -B21-X2 기를 나타내고, B21 는 저급 알킬렌기를 나타내고, X2 는 상기 기재한 바와 동일함), A2 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00081
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R38 은 -B21-R4a 기를 나타내고, B21 은 상기 기재한 바와 동일하고, R4a 는 이미다졸릴기, 1,2,4-트리아졸릴기, 1,2,3-트리아졸릴기, 1,2,5-트리아졸릴기, 피라졸릴기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 갖는 피리미디닐기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,4-옥사디아졸릴기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐기, 또는 -NR14R15 기를 나타내고, R14 및 R15 는 상기 기재한 바와 동일함)}.
화합물 (7) 과 화합물 (8) 의 반응을 상기 기재한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건 하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00082
{식 중, R4 는 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,3-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,5-트리아졸릴 저급 알킬기, 피라졸릴 저급 알킬기, 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 갖는 피리미디닐 저급 알킬기, 1,2,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 갖는 1,2,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 갖는 티아졸리디닐 저급 알킬기, 또는 (T)l-NR14R15 기 (식 중, T 는 저급 알킬렌기이고, l 은 1 임) 임} 을, 또한 반응식 6 에서 제시되는 바와 같이, 화합물 (8) 을 화합물 (9) 과 반응시켜 제조한다.
[반응식 6]
Figure 112007010406990-pct00083
{식 중, R1, R2, X1 및 Y1 및 R4a 은 상기 기재한 바와 동일하고, A3 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00084
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R39 는 (B21)fCORA 기를 나타내고, B21 은 상기 기재한 바와 동일하고, RA 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, f 는 0 또는 1 을 나타냄), A4 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00085
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R40 은 -(B21)fCHRAR4a 기를 나타내고, B21, RA, f 및 R4a 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, -(B21)fCHRAR4a 기의 알킬 부분은 6 개 이하의 탄소 원자를 가짐)}.
화합물 (9) 와 화합물 (8) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 동일한 조건하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00086
(식 중, R4 는 3,5-디옥소이소옥사졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 3,5-디옥소이소옥사졸리디닐 저급 알킬리덴기를 나타냄) 을, 반응식 7 에서 제시되는 바와 같이, 화합물 (11) 을 화합물 (10) 과 반응시켜 제조한다.
[반응식 7]
Figure 112007010406990-pct00087
{식 중, R1, R2, X1 및 Y 는 상기 기재한 바와 동일하고,
A5 는 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00088
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R41 은 -B22(CO2R43)(CO2R44) 기를 나타내고, B22 는 저급 알킬리덴기를 나타내고, R43 및 R44 는 저급 알킬기를 나타냄),
A6 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00089
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R42 는
Figure 112007010406990-pct00090
(식 중, B22 는 상기 기재한 바와 동일함) 를 나타냄)}.
화합물 (10) 과 화합물(11) 의 반응은 반응식 3 의 화합물 (1f) 을 화합물 (1h) 로 전환시키는 반응과 동일한 조건 하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00091
(식 중, R4 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00092
)
을, 반응식 8 에서 제시되는 바와 같이, 화합물 (13) 로부터 제조한다.
[반응식 8]
Figure 112007010406990-pct00093
{식 중, R1, R2, X1, Y 및 R13 은 상기 기재한 바와 동일하고,
A7 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00094
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R45 는 할로겐 원자를 나타냄),
A8 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00095
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R46 은
Figure 112007010406990-pct00096
(식 중, R13 은 상기 기재한 바와 동일함) 를 나타냄),
A9 는 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00097
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R47 은 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00098
(식 중, R13 은 상기 기재한 바와 동일함)),
A8a 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00099
(식 중, R3 및 p 는 상기 기재한 바와 동일하고, R46' 는 하기 기
Figure 112007010406990-pct00100
(식 중, R13 은 상기 기재한 바와 동일함) 를 나타냄)}.
화합물 (13) 과 화합물 (12) 의 반응은 적합한 용매 중에서 염기성 화합물의 존재하에 수행된다.
여기서 사용되는 염기성 화합물의 예에는 예컨대, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 수소화나트륨, 나트륨 아미드, 금속 알코올레이트 예컨대, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 및 칼륨 tert-부톡시드, 및 알킬 및 아릴 리튬 또는 리튬 아미드 예컨대, 메틸 리튬, n-부틸 리튬, 페닐 리튬, 및 리튬 디이소프로필아미드가 포함된다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용된다.
염기성 화합물은 적합하게는 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (13) 과 동등 몰 이상으로, 바람직하게는 화합물 (13) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용된다.
사용되는 비활성 용매의 예에는 방향족 탄화수소 예컨대, 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글림, 및 디글림, 지방족 탄화수소 예컨대, n-헥산, 헵탄, 및 시클로헥산, 할로겐화 탄화수소 예컨대, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 및 사염화탄소, 디메틸설폭시드, 및 N,N-디메틸포름아미드, 및 그의 혼합물이 포함된다.
반응은 전형적으로는 약 -90 내지 150℃, 바람직하게는 약 -90 내지 120℃ 에서 수행하고, 일반적으로 약 10 분 내지 10 시간 내에 완료한다.
화합물 (12) 는 적합하게는 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (13) 과 동등 몰 이상, 바람직하게는 화합물 (13) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용된다.
화합물 (11) 을 화합물 (1m) 으로 전환시키는 반응을 적합한 비활성 용매 중에서, 산의 존재하에 수행한다.
여기서 사용되는 산의 예에는 무기산 예컨대, 염산, 황산, 및 브롬산, 및 유기산 예컨대, p-톨루엔설폰산을 포함하는 설폰산이 포함된다. 상기 산은 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용된다.
산을 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (11) 과 동등 몰 이상, 바람직하게는 화합물 (11) 에 대해 동등량 내지 매우 과량으로 사용하는 것이 적합하다.
화합물 (13) 과 화합물 (12) 의 반응에 사용되는 임의의 비활성 용매를 상기 반응에 사용할 수 있다.
상기 반응은 적합하게는 전형적으로는 실온 내지 200℃, 바람직하게는 실온 내지 약 150℃ 에서 수행하고, 일반적으로 약 1 내지 20 시간 내에 완료한다.
화합물 (1l) 을 화합물 (11') 로 전환시키는 반응은 적합한 용매 중에서 산 및 촉매의 존재하에 수행한다.
사용되는 용매의 예에는 물, 저급 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올, 및 이소프로판올, 케톤 예컨대, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 할로겐화 탄화수소 예컨대, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 사염화탄소, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 디이소프로필 에테르, 디글림, 및 1,4-디옥산, 방향족 탄화수소 예컨대, 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌, 아세토니트릴, 디메틸 설폭시드, N,N-디메틸아세타미드, N,N-디메틸포름아미드, 및 N-메틸피롤리돈, 및 그의 혼합물이 포함된다.
여기서 사용되는 산의 예에는 무기산 예컨대, 염산, 황산, 및 브롬산, 및 유기산 예컨대, 보론 트리플루오라이드 디에틸 에테레이트, 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 및 p-톨루엔설폰산이 포함된다.
촉매의 예에는 알킬실란 화합물 예컨대, 트리에틸실란이 포함된다.
상기 기재한 산 및 촉매는 각각 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (1l) 의 약 0.01 내지 5 배, 바람직하게는 화합물 (1l) 의 약 0.01 내지 1 배의 양으로 사용한다.
상기 기재한 반응을 약 실온 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150℃ 에서 수행하고, 일반적으로 약 1 내지 10 시간 내에 완료한다.
화합물 (1l) 을 화합물 (11') 로 전환시키는 반응은 적합한 용매 중에서 촉매적 수소 환원제의 존재하에 수행할 수 있다.
사용되는 용매의 예에는 물, 지방산 예컨대, 아세트산, 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올, 및 이소프로판올, 지방족 탄화수소 예컨대, n-헥산, 지환족 탄화수소 예컨대, 시클로헥산, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 모노글림, 디글림 및 1,4-디옥산, 에스테르 예컨대, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 및 부틸 아세테이트, 및 비양성자성 극성 용매 예컨대, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세타미드, N-메틸피롤리돈, 및 그의 혼합물이 포함된다.
촉매적 수소 환원제의 예에는 팔라듐, 팔라듐-블랙, 팔라듐-탄소, 수산화팔라듐-탄소, 로듐-알루미나, 백금, 산화 백금, 구리 크로마이트, 레이니 니켈, 및 아세트산팔라듐이 포함된다.
촉매적 수소 환원제는 중량 기준으로 전형적으로는 화합물 (1l) 의 0.01 내지 1 배의 양으로 사용된다.
상기 기재한 반응은 전형적으로는 약 -20 내지 100℃, 바람직하게는 약 0 내지 80℃ 에서 유리하게 진행하고, 일반적으로 약 0.5 내지 20 시간 내에 완료하며, 수소압은 전형적으로는 1 내지 10 atm 이다.
무기산 예컨대, 염산을 상기 반응계에 첨가하는 것이 바람직하다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00101
{식 중, R4 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00102
(식 중, R13 은 수소 원자 이외의 기를 나타냄)} 을, 하기 반응식 9 에서 제시되는 바와 같이, 식 중 R13 이 수소 원자인 해당 화합물로부터 제조한다.
[반응식 9]
Figure 112007010406990-pct00103
(식 중, R1, R2, X1, Y, A10, RA, R13a 및 X2 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 피페리디닐기와 결합하고, R13b 는 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기, 또는 모르폴리노카르보닐 치환된 저급 알킬기를 나타내고,
R13c 는 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 저급 알콕시 카르보닐기, 벤조일기, 모르폴리노 치환된 알카노일기, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기; 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내고,
R13d 는 수소 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, 이미다졸릴기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기, 또는 모르폴리노카르보닐 치환된 저급 알킬기를 나타내고,
단, 화합물 (1q) 의 (-CHRAR13d) 의 측쇄의 알킬 부분은 6 개 이하의 탄소 원자를 가짐).
화합물 (1n-1) 과 화합물 (13') 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
화합물 (1n-1) 과 화합물 (14) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
화합물 (1n-1) 과 화합물 (15) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
또한, 화합물 (1n-2) 와 화합물 (13') 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행하고, 화합물 (1n-2) 와 화합물 (14) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행하고, 화합물 (1n-2) 와 화합물 (15) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
반응식 9 에서, 화합물 (1o-1) 및 (1o-2) (식 중, R13b 는 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기를 나타냄) 의 가수분해를 통해, 해당 화합물 (1o-1) 및 (1o-2) (식 중, R13b 는 카르복시 저급 알킬기를 나타냄) 을 제조할 수 있다.
반응식 9 에서, 화합물 (1p-1) 및 (1p-2) (식 중, R13c 는 저급 알콕시카르보닐기를 나타냄) 의 가수분해를 통해, 해당 화합물 (1p-1) 및 (1p-2) (식 중, R13c 는 수소 원자임) 을 제조할 수 있다.
가수분해 반응 (이하 상기 가수분해 반응을 "가수분해 B" 라고 부름) 을 산성 또는 염기성 화합물의 존재하에, 적합한 용매 중에서 또는 용매 없이 수행할 수 있다.
사용되는 용매의 예에는 물, 저급 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 tert-부탄올, 케톤 예컨대, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 모노글림, 및 디글림, 지방산 예컨대, 아세트산 및 포름산, 에스테르 예컨대, 메틸 아세테이트 및 에틸 아세테이트, 할로겐화 탄화수소 예컨대, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 및 사염화탄소, 디메틸설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 그의 혼합물이 포함된다.
산의 예에는 무기산 예컨대, 염산, 황산, 및 브롬산, 유기산 예컨대, 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, p-톨루엔설폰산을 포함하는 설폰산, 및 루이스 산 예컨대, 보론 트리브로마이드 및 보론 트리클로라이드가 포함된다. 상기 산은 단독으로 또는 2 개 이상의 혼합물로 사용된다.
염기성 화합물의 예에는 탄산염 예컨대, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 및 중탄산칼륨, 및 금속 수산화물 예컨대, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 및 수산화리튬이 포함된다. 상기 염기성 화합물은 단독으로 또는 2 개 이상의 혼합물로 사용된다.
가수분해 반응은 전형적으로는 약 0 내지 약 200℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 유리하게 수행하고, 일반적으로 약 10 분 내지 50 시간 내에 완료한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00104
{식 중, R4 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00105
(식 중, R13 은 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타냄)} 을 하기 반응식 10 에서 제시되는 바와 같이 제조한다.
[반응식 10]
Figure 112007010406990-pct00106
(식 중, R1, R2, X1, Y, A10, R13a, B21 및 X2 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 피페리디닐기와 결합함).
화합물 (1r-1) 과 화합물 (16) 의 반응, 및 화합물 (1r-2) 와 화합물 (16) 의 반응을 상기 기재한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 조건하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00107
{식 중, R4 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00108
(식 중, R13 은 모르폴리노 치환된 알카노일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 갖는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐 저급 알카노일기, 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타냄)} 을, 하기 반응식 11 에서 제시되는 바와 같이, 식 중 R13 이 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기를 나타내는 해당 화합물로부터 제조할 수 있다.
[반응식 11]
Figure 112007010406990-pct00109
(식 중, R1, R2, X1, Y, R13a, B21 및 X2 는 상기 기재한 바와 동일하고, R47' 는 모르폴리노기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐기, 또는 이미다졸릴기이고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 피페리디닐기와 결합함).
화합물 (1t-1) 과 화합물 (17) 의 반응, 및 화합물 (1t-2) 과 화합물 (17) 의 반응을 상기 기재한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 과 유사한 조건 하에서 수행한다.
A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00110
{식 중, R4 는 하기 일반식의 기를 나타냄:
Figure 112007010406990-pct00111
(식 중, R13 은 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환된 피페라지닐카르보닐 저급 알킬기, 또는 모르폴리노카르보닐 치환된 저급 알킬기를 나타냄)} 을, 하기 반응식 12 에서 제시되는 바와 같이, 식 중 R13 이 카르복시기인 해당 화합물로부터 제조한다.
[반응식 12]
Figure 112007010406990-pct00112
(식 중, R1, R2, X1, Y, A10, R13a, 및 B21 은 상기 기재한 바와 동일하고, R48 은 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기로 피페라진 고리 상에 치환될 수 있는 피페라지닐기, 또는 모르폴리노기이고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 피페리디닐기와 결합함).
화합물 (1v-1) 과 화합물 (18) 의 반응, 및 화합물 (1v-2) 와 화합물 (18) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 조건하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00113
(식 중, R4 는 -(T)l-NR14R15 를 나타냄) 을 반응식 13 및 14 에서 제시되는 바와 같이 제조한다.
[반응식 13]
Figure 112007010406990-pct00114
일반식에서, R1, R2, X1, Y, A10, X2, l, R14 및 R15 는 상기 기재한 바와 동일하고, T1 은 저급 알킬렌기, -COB8-, -SO2- 또는 -CH(OH)-B9- 이고, B8 및 B9 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, 화합물 (35) 및 (1pp) 에서, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 -(T1)l 과 결합한다.
화합물 (35) 와 화합물 (36) 의 반응을 상기 기재한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건에서 수행한다.
l 이 0 인 화합물 (35) 를 또한 적합한 용매 중에서 염기성 화합물 및 촉매의 존재하에 해당 화합물 (35) 와 화합물 (36) 을 반응시켜 제조할 수 있다.
상기 기재한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 임의의 용매 및 염기성 화합물을 여기서 사용할 수 있다.
사용되는 촉매의 예에는 다양한 금속 착물 뿐 아니라, 금속 착물과 리간드의 다양한 조합이 포함된다. 금속 착물의 예에는, 예를 들어, 아세트산팔라듐 (II), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (0), 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 (0) 등이 포함된다. 리간드의 예에는, 예를 들어, R-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (R-BINAP), S-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (S-BINAP), RAC-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (RAC-BINAP), t-부틸포스핀, 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸크산텐 등이 포함된다.
촉매는 적합하게는 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (35) 와 동등 몰 이상, 바람직하게는 화합물 (35) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 전형적으로는 약 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 수행하고, 일반적으로는 약 1 내지 60 시간 내에 완료한다. 상기 반응을 이하 "반응 C" 라고 부른다.
[반응식 14]
Figure 112007010406990-pct00115
일반식에서, R2, X1, Y, A10, T2, R14 및 R15 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, 화합물 (37) 및 (1qq) 에서, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 T2 와 결합하고, R95 는 R1 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (37) 과 화합물 (36) 의 반응을, 상기 기재한 반응식 2 에서 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00116
(식 중, R4 는 -(T)l-NR14R15 를 나타내고, l 은 0 을 나타냄) 을 또한 반응식 15 에서 제시되는 방법에 의해 제조할 수 있다.
[반응식 15]
Figure 112007010406990-pct00117
(식 중, R1, R2, X1, Y, RA, X2, T, l, 및 A10 은 상기 기재한 바와 동일하고, R49 는 (15), (22), (23), (27) 및 (36a) 에서 정의된 R15 와 동일한 기이고, R49a 는 (2) 내지 (5), (7), (8), (10), (11), (13), (14), (16) 내지 (21), (24), (25), (26), (26a), (27a), (28a), (29a), (30a), (31a), (32a), (33a), (34a), (35a), 또는 (37a) 에서 정의된 R15 , 페녹시카르보닐기 및 저급 알킬설포닐기이고,
R49b 는 수소 원자, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 알킬기, 페녹시 저급 알킬기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, 저급 알콕시카르보닐 치환된 저급 알킬기, 카르복시 치환된 저급 알킬기, 시클로알킬 저급 알킬기, 시클로알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 피리딜기, 저급 알킬기 및 저급 알카노일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노기 치환된 저급 알킬기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 이미다졸릴기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴카르보닐 치환된 저급 알킬기, A 기-치환된 카르보닐 저급 알킬기, 피롤리디닐기, 피롤리디닐 저급 알킬기, 모르폴리노기, 모르폴리노 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아닐리노카르보닐 저급 알킬기, 피페라진 고리 상에, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 피페라지닐기, 피페라진 고리 상에, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 피페라지닐 저급 알킬기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 아미디노 저급 알킬기, B 기 치환된 카르보닐 저급 알킬기, 또는 시아노 치환된 저급 알킬기를 나타내고,
R14a 는 수소 원자 또는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고,
R34, d, R36, R37 및 B20 은 상기 기재한 바와 동일하고,
단, 화합물 (1rr), (1ss), (1ss') 및 (1ss'') 에서, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 N 과 결합하고, 화합물 (1ss'') 에서, 측쇄, (-Y-A10N(R14a)(CHRAR49b) 의 CHRAR49b 부분은 6 개 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (1rr) 과 화합물 (38a) 의 반응은 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
화합물 (1rr) 과 화합물 (38) 의 반응은 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행된다.
화합물 (1rr) 과 화합물 (38b) 의 반응은 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행된다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00118
(식 중, R4 는 -(T)l-NR14R15 기를 나타내고, l 은 1 을 나타내고, T 는 -CH(OH)-B9- 기를 나타냄) 을 또한 하기 반응식 16 에서 제시되는 방법에 의해 제조할 수 있다.
[반응식 16]
Figure 112007010406990-pct00119
(식 중, R1, R2, X1, A10, Y, B8, B9, R14, 및 R15 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, 화합물 (1tt) 및 (1uu) 에서, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 B8 또는 B9 와 결합함).
화합물 (1tt) 를 화합물 (1uu) 로 전환시키는 반응을 상기 기재한 반응식 3 의 화합물 (1f) 를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응과 유사한 조건 하에서 수행된다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00120
(식 중, R4 는 -(T)l-NR14R15 기를 나타내고, l 은 1 을 나타내고, T 는 -CH(OH)-B11-CO- 기를 나타냄) 을 또한 하기 반응식 17 에서 제시되는 방법에 의해 제조할 수 있다.
[반응식 17]
Figure 112007010406990-pct00121
(식 중, R1, R2, X1, A10, Y, B10, B11, R14 및 R15 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, 화합물 (1vv) 및 (1ww) 에서, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 -COB10 또는 -CH(OH)B11- 기와 결합함).
화합물 (1vv) 를 화합물 (1ww) 로 전환시키는 반응은 상기 기재한 반응식 3 의 화합물 (1f) 를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응과 유사한 조건하에서 수행한다.
식 중 A 가 하기 일반식의 기를 나타내는 화합물 (1):
Figure 112007010406990-pct00122
(식 중, R4 는 -(T)lNR14R15 기 이고, R14 및 R15 는 서로 결합하여 그 곳에 다양한 치환기를 갖는 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 형성함) 을, 하기 반응식 18 내지 20, 22, 24 내지 31, 및 34 내지 36 에서 제시되는 바와 같이 제조할 수 있다.
[반응식 18]
Figure 112007010406990-pct00123
일반식에서, R1, R2, RB, X1, Y, T, l, A10 및 X2 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 과 결합하고;
R14b 및 R15a 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 하나 이상의 2 차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14c 및 R15b 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 R50 으로 치환된 하나 이상의 3차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14d 및 R15c 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 R51 로 치환된 하나 이상의 3차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14e 및 R15d 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 R52(RB)CH- 기로 치환된 하나 이상의 3차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고;
R14f 및 R15e 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 하기 일반식의 기로 치환된 하나 이상의 3차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00124
R50 은 상기 기재한 (28), (30), (31), (32), (33), (34), (36), (37), (38), (41), (43), (44), (45), (47), (49) (단, t 는 1 임), (50) (단, o 는 0 임), (51), (52), (53), (54), (55), (56), (57), (58), (59), (60), (62), (63), (64), (65), (66), (70), (77), (79), (82), (83), (87), (88a), 또는 (90a) 와 같이, R14 및 R15 가 서로 결합되어 형성된 헤테로시클릭 고리의 동일한 치환기이고;
R51 은 상기 기재한 (35), (39), (40), (42), (50) (단, o 는 1 임), (67), (75), (76), (77), (78), (80), (81) 또는 (84) (단, s 는 0 임) 와 같이, R14 및 R15 가 서로 결합되어 형성된 헤테로시클릭기의 동일한 치환기이다;
R52 는 수소 원자, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록실기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 1 또는 2 개의 페닐을 가지고 저급 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록시기, 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기, 치환기로서 히드록실기 및 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 피리딘 고리 상에 치환될 수 있는 피리딜 저급 알킬기, 치환기로서 히드록실기 및 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 피리딘 고리 상에 치환될 수 있는 피리딜기, 피롤 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 저급 알킬기, 피롤 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴기, 벤즈옥사졸릴 저급 알킬기, 벤즈옥사졸릴기, 벤즈티아졸릴 저급 알킬기, 벤조티아졸릴기, 푸릴 저급 알킬기, 푸릴기, 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 나프틸기, 페녹시 저급 알킬기, -B12CO-NR20R21 기; -B13NR22R23 기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 퀴놀릴기, 테트라졸 고리 상에, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 테트라졸 고리 상에, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴기, 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 저급 알킬기, 티아졸 고리상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴기, 페닐 고리 상에, 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 피페리디닐 저급 알킬기, 페닐 고리 상에, 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 벤조일 저급 알킬기, 피페리딘 고리 상에 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 저급 알킬기, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 저급 알킬기, 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴기, 시클로알킬 저급 알킬기, 시클로알킬기, 티에닐 저급 알킬기, 티에닐기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 이미다졸릴 저급 알킬기, 또는 이미다졸릴기이고;
RB 및 R52 는 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께, 시클로알킬기 또는 테트라히드로-4H-피라닐기를 형성할 수 있다;
단, 화합물 (1aaa) 내의 R52(RB)CH- 기의 알킬 부분은 6 개 이하의 탄소 원자를 갖는다.
화합물 (35') 와 화합물 (39) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
화합물 (35') 와 화합물 (40) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
화합물 (35') 와 화합물 (41) 의 반응을 상기 기재한 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행한다.
화합물 (41) 을 원료로서 사용하여 반응을 수행하는 경우, 식 중 RB 및 R52 는 그들에 결합된 탄소 원자와 함께 수소화물 환원제를 사용하여 시클로알킬 고리 또는 테트라히드로-4H-피란 고리를 형성하고, 시클로알킬옥시트리알킬실란 예컨대, [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란을 화합물 (41) 대신에 원료로서 사용하여 반응계 내에 상기 기재한 화합물 (41) 을 발생시킬 수 있다.
화합물 (35') 와 화합물 (42) 의 반응을 상기 기재한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 조건 하에서 수행하였다.
화합물 (35') 를 또한 이후 기재하는 반응식 24 의 화합물 (1iii') 를 화합물 (1hhh') 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건 하에서 화합물 (1yy), (1zz) 또는 (1aaa) 로 부터 생성할 수 있다.
[반응식 19]
Figure 112007010406990-pct00125
일반식에서, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 는 상기 기재한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 과 결합하고;
R14g 및 R15f 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 저급 알콕시카르보닐기로 치환된 하나 이상의 3차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14h 및 R15g 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 하나 이상의 2 차 아민을 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이다.
화합물 (1ccc) 를 화합물 (1ddd) 로 전환시키는 반응은 상기 기재한 반응식 9 에 대해 기재된 가수분해 B 와 유사한 반응 조건하에서 수행할 수 있다.
[반응식 20]
Figure 112007010406990-pct00126
일반식에서, R74a 는 니트로기 또는 R'1 기를 나타내고, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 과 결합하고;
R14i 및 R15h 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 하나 이상의 저급 알콕시카르보닐 저급 알콕시기, 저급 알콕시카르보닐기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 -(B12CO)t-N(R20a)R51' 기를 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
R14j 및 R15i 는 헤테로시클릭기가 그 곳에 하나 이상의 카르복시 저급 알콕시기, 카르복시기, 카르복시 저급 알킬기 또는 -(B12CO)t-N(R20a)R52' 기를 갖는 것을 제외하고는 상기 기재한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이고;
B12 및 t 는 상기 기재한 바와 동일하고;
R20a 는 수소 원자, 시클로알킬기, 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 갖는 아미노기, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 저급 알콕시기, 및 저급 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 1 또는 2 개의 페닐을 갖는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 페닐 고리 상에 치환될 수 있는 페닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 시클로알킬 저급 알킬기, 피롤리딘 고리 상에, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 테트라졸 고리 상에, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 페닐 고리 상에, 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알카노일기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 이미다졸릴 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 피리딜기, 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내고;
R51' 는 저급 알콕시카르보닐기 또는 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기이고;
R52' 는 수소 원자 또는 카르복시 저급 알킬기이고;
R53 은 저급 알킬기이다.
화합물 (1eee) 를 화합물 (1fff) 로 전환시키는 반응은 상기 기재한 반응식 9 에 대해 기재된 바와 같이, 가수분해 B 와 유사한 반응 조건하에서 수행할 수 있다.
전형적인 에스테르화 반응에 대한 임의의 반응 조건을 화합물 (1fff) 와 화합물 (43) 의 반응에 대해 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 기재한 반응을 무기산 예컨대, 염산 또는 황산, 및 할로겐화제 예컨대, 티오닐클로라이드, 인 옥시클로라이드, 인 펜타클로라이드, 또는 인 트리클로라이드의 존재하에 수행한다. 화합물 (43) 은 화합물 (1fff) 에 대해 과량으로 사용한다. 상기 기재한 반응은 전형적으로는 약 0 내지 150℃, 바람직하게는 약 50 내지 100℃ 에서 유리하게 진행하고, 일반적으로 약 1 내지 10 시간 내에 완료한다. 상기 기재한 에스테르화는 축합제 예컨대, 카르보디이미드를 사용하여 염기성 화합물 예컨대, 디메틸아미노피리딘의 존재하에 수행할 수 있다. 반응식 2 에서 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응에서 사용되는 아미드 결합을 발생하기 위한 전형적인 반응 조건을 또한 사용할 수 있다.
화합물 (1fff) 와 화합물 (43) 의 반응을 또한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에서 사용되는 것과 동일한 염기성 화합물 및 용매의 존재하에서 수행할 수 있다. 반응은 전형적으로는 약 0 내지 100℃, 바람직하게는 약 0 내지 70℃ 에서 수행하고, 일반적으로 약 1 내지 30 시간 내에 완료한다.
화합물 (1eee) 는 또한 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 조건 하에서 화합물 (43) 대신에 할로겐화된 저급 알킬 예컨대, 요오드화 메틸을 사용하여 제조할 수 있다.
[반응식 21]
Figure 112007010406990-pct00127
Figure 112007010406990-pct00128
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, R13a, B21 및 R53 은 상기 기재된 바와 같고, R54 는 저급 알킬기이나, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 피페리디닐기에 결합되어 있다.
화합물 (1ggg-1) 을 화합물 (1v-1) 로 전환시키는 반응 및 화합물 (1ggg-2) 을 화합물 (1v-2) 로 전환시키는 반응은 각각 상기 기재된 반응식 -9 에 기재된 가수분해 B 의 것과 동일하다.
화합물 (1v-1) 와 화합물 (43) 의 반응 및 화합물 (1v-2) 와 화합물 (43) 의 반응은 상기 기재된 반응식 20 의 화합물 (1fff) 와 화합물 (43) 의 반응의 것과 동일한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1ggg-1) 은 상기 기재된 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응의 것과 동일한 반응 조건 하에 화합물 (43) 대신 요오드화메틸과 같은 할로겐화 저급 알킬을 이용하여 제조될 수 있다.
유사하게, 화합물 (1ggg-2) 은 또한 상기 기재된 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응의 것과 유사한 조건 하에 화합물 (43) 대신 요오드화메틸과 같은 할로겐화 저급 알킬을 이용하여 제조될 수 있다.
[반응식 22]
Figure 112007010406990-pct00129
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있으며;
R14k 및 R15j 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하나 이상의 -B21CONHNH2 기를 갖고, 여기서 B21 은 상기 기재된 것과 동일하며;
R14l 및 R15k 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하기 일반식의 하나 이상의 기를 갖는다:
Figure 112007010406990-pct00130
.
화합물 (1hhh) 를 화합물 (1iii) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 조건 하에 수행된다.
[반응식 23]
Figure 112007010406990-pct00131
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B21 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있으며, R55 는 저급 알카노일기이며, R55a 는 저급 알킬기이다.
화합물 (44) 와 화합물 (45) 의 반응은 상기 기재된 반응식 3 의 화합물 (1f) 을 화합물 (1h) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 조건 하에 수행된다.
화합물 (44a) 와 화합물 (46) 의 반응은 상기 기재된 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응의 것과 유사한 조건 하에 수행된다.
화합물 (47) 을 화합물 (1rrr) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 3 의 화합물 (1f) 를 화합물 (1h) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 조건 하에 수행된다.
[반응식 24]
Figure 112007010406990-pct00132
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14m 및 R15l 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하나 이상의 히드록실기 또는 히드록실기 치환된 저급 알킬기를 갖고;
R14n 및 R15m 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 것과 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하나 이상의 -OR56 기를 갖고;
R56 은 페닐 고리 상에서 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 치환될 수 있는 페닐기, 페닐 고리 상에서 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 치환될 수 있는 페닐 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 벤조일기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 카르복시 저급 알킬기; 또는 -B15-CO-NR26R27 기로서, B15, R26 및 R27 은 상기 기재된 것과 동일한 것을 나타내는 것이며;
단, 화합물 (48) 의 R56 은, 화합물 (1hhh') 의 하나 이상의 히드록실기 치환된 저급 알킬기로 치환된 상기 기재된 헤테로시클릭기와 반응하는데, 비치환된 페닐기 또는 저급 알킬기이다.
화합물 (1hhh') 와 화합물 (48) 의 반응은 상기 기재된 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응의 것과 유사한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1iii') 를 화합물 (1hhh') 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 의 것과 유사한 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (1iii') 은 환원 반응에 의해 화합물 (1hhh') 로 전환될 수 있다. 상기 환원 반응은, 예를 들어, 촉매 수소 환원제의 존재 하에 적당한 용매에서 수행된다.
사용되는 용매의 예시에는 물, 지방산, 예컨대 아세트산, 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올, 지방족 탄화수소, 예컨대 헥산 및 시클로헥산, 에테르, 예컨대 디옥산, 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르, 모노글라임 및 디글라임, 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 비양자성 극성 용매, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, 및 이들의 혼합물이 포함된다.
촉매 수소 환원제의 예시에는 팔라듐, 팔라듐 블랙, 팔라듐-카본, 백금, 산화백금, 구리 크롬화물 및 레이니 니켈이 포함된다. 이들 환원제는 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
촉매 수소 환원제는 바람직하게는 중량 기준으로 화합물 (1iii') 의 0.02 내지 1 배의 양으로 사용된다.
반응 온도는 일반적으로 약 -20 내지 100℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 80℃이다. 반응은 바람직하게는 일반적으로 1 내지 10 atm 의 수소압에서 수행되며, 일반적으로 약 0.5 내지 20 시간 내에 완결된다.
[반응식 25]
Figure 112007010406990-pct00133
식 중 R1, R2, X1, Y, T, l, A10, RA 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14o 및 R15n 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하나 이상의 -(B12CO)tNHR20a 기를 갖고;
R14p 및 R15o 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하나 이상의 -(B12CO)tN(R20a)R21b 기를 갖고;
R14q 및 R15p 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭기는 하나 이상의 -(B12CO)tN(R20a)R21c 기를 갖고;
R14r 및 R15q 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(B12CO)tN(R20a)(CHRAR21d) 기를 갖고,
여기서 B12, t 및 R20a 는 상기 기재된 것과 동일하며;
R21b 는 저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알킬기로서, 페닐 고리 상에서 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 치환될 수 있는 1 또는 2 개의 페닐기를 가진 저급 알킬기, 페닐기로서 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, 시클로알킬 저급 알킬기, 피롤리디닐 저급 알킬기로서 피롤리딘 고리 상에, 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기로서 테트라졸 고리 상에 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 테트라히드로푸릴 저급 알킬기로서 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 페녹시 저급 알킬기로서 페닐 고리 상에 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 피리딜기, 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내며;
R21c 는 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급 알콕시카르보닐기, 페닐 저급 알카노일기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기 또는 이미다졸릴 저급 알카노일기를 나타내며;
R21d 는 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알킬기로서 페닐 고리 상에 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1 또는 2 개의 페닐기를 가진 저급 알킬기, 페닐기로서 페닐 고리 상에 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환될 수 있는 저급 알킬기, 할로겐 원자 및 저급 알킬티오기로 치환될 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페닐기, 시클로알킬 저급 알킬기, 시클로알킬기, 피롤리디닐 저급 알킬기로서 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 히드록실기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 피롤리디닐기로서 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐기, 아미노 치환된 저급 알킬기로서 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기로서 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기로서 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기, 나프틸 저급 알킬기, 나프틸기, 피리딜 저급 알킬기, 피리딜기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 퀴놀릴기, 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기로서 테트라졸 고리 상에 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 테트라졸 고리 상에 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴기, 테트라히드로푸릴 저급 알킬기로서 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 테트라히드로푸릴기로서 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴기, 페녹시 저급 알킬기로서 페닐 고리 상에 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타내며;
단, 측쇄 (-(B21CO)tN(R20a)(CHRAR21d)) 에서의 CHRAR21d 의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (1uuu) 과 화합물 (49) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 조건 하에 수행된다.
화합물 (1uuu) 과 화합물 (51) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1uuu) 과 화합물 (50) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 26]
Figure 112007010406990-pct00134
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14s 및 R15r 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(CO)oB13X2 기를 가지며;
R14t 및 R15s 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(CO)oB13R84 기를 가지며;
R84 는 -NR22R23 기 또는 이미다졸릴기이며;
여기서, B13, o, X2, R22 및 R23 은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1yyy) 와 화합물 (52) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 27]
Figure 112007010406990-pct00135
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14s' 및 R15r' 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -N(R28)-CO-B16X2 기를 가지며;
R14u 및 R15t 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -N(R28)-CO-B16NR29R30 기를 가지며;
여기서, R28, B16, X2, R29 및 R30 은 상기 기재된 것과 동일한 것을 나타낸다.
화합물 (1aaaa) 와 화합물 (53) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 28]
Figure 112007010406990-pct00136
식 중, R74a, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14v 및 R15u 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의- B12COOH 기를 나타내고;
R14w 및 R15v 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -B12CONR20R21 기를 갖고;
여기서, B12, R20 및 R21 은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1cccc) 와 화합물 (54) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 29]
Figure 112007010406990-pct00137
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14x 및 R15w 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -O-B15COOH 기를 갖고;
R14y 및 R15x 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 같은 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기이며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -O-B15CONR26R27 기를 갖고;
여기서, B15, R26 및 R27 은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1eeee) 와 화합물 (55) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 30]
Figure 112007010406990-pct00138
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14z 및 R15y 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -N(R31)-B17-COOH 기를 가지며;
R14aa 및 R15z 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -N(R31)-B17CONR32R33 기를 가지며;
여기서, R31, B17 및 R32, R33 는 상기 기재된 바와 동일하다.
화합물 (1gggg) 과 화합물 (56) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 31]
Figure 112007010406990-pct00139
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 연결되어 있으며;
R14bb 및 R15aa 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -COOH 기를 가지며;
R14cc 및 R15bb 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -CONR26R27 기를 가지며;
여기서, R26 및 R27 은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1iiii) 와 화합물 (57) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 32]
Figure 112007010406990-pct00140
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, R14a 및 A10 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있으며;
h 는 0 또는 1 을 나타내며;
R57 은 저급 알콕시카르보닐기를 나타낸다.
화합물 (1kkkk) 를 화합물 (1llll) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 9 에 대해 기재된 가수분해 B 의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
[반응식 33]
Figure 112007010406990-pct00141
식 중, R1, R2, X1, R3, R4, Y, R11 및 R12 은 상기 기재된 것과 동일하며, R58 은 저급 알킬기를 나타내며, g 는 0 또는 1 을 나타낸다.
화합물 (1mmmm) 을 화합물 (1nnnn) 으로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 9 에 대해 기재된 가수분해 B 의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (1nnnn) 과 화합물 (58) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 34]
Figure 112007010406990-pct00142
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14hh 및 R15gg 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 것과 동일한 5- 내지 -10 원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(CO)o-B13NH(R22a) 기를 가지며;
R14ii 및 R15hh 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(CO)o-B13N(R22a)R23a 기를 가지며;
R14jj 및 R15ii 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(CO)o-B13N(R22a)R23b 기를 가지며;
R14kk 및 R15jj 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(CO)o-B13N(R22a)(CHRAR23c) 기를 가지며,
여기서 RA, B13 및 o 는 상기 기재된 것과 동일하며;
R22a 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 페닐기를 나타내며;
R23a 는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 페닐기를 나타내며;
R23b 는 페닐 고리 상에 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 나타내며;
R23c 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 페닐기를 나타내며; 단 화합물 (1ssss) 의 측쇄 (-(CO)o-B13-N(R22a)(CHRAR23c)) 중의 -CHRAR23c 기의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (1pppp) 와 화합물 (59) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1pppp) 와 화합물 (61) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1pppp) 와 화합물 (60) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 35]
Figure 112007010406990-pct00143
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R14ll 및 R15kk 는 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(O-B15)s-CONH(R26a) 기를 가지며;
R14mm 및 R15ll 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(O-B15)s-CON(R26a)(R27a) 기를 가지며;
R14nn 및 R15mm 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -(O-B15)s-CON(R26a)(CHRAR27b) 기를 가지며,
여기에서 B15, s 및 RA 는 상기 기재된 것과 동일하며;
R26a 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고;
R27a 는 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고;
R27b 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐 저급 알킬기, 페닐기, 이미다졸릴기 또는 이미다졸릴 저급 알킬기를 나타내고;
단, 화합물 (1vvvv) 의 측쇄 (-(O-B15)s-CO(R26a)(CHRAR27b)) 중의 -CHRAR27b 기의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (1tttt) 와 화합물 (62) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1tttt) 와 화합물 (63) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 36]
Figure 112007010406990-pct00144
식 중, R1, R2, X1, Y, T, l, A10, R14v, R15u, R14k 및 R14j 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 (T)l 에 결합되어 있고;
R59 는 저급 알킬기를 나타내며;
R14oo 및 R15nn 은 상기 기재된 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내며, 단 상기 헤테로시클릭 고리는 하나 이상의 -B21CONHNHCOOR59 기를 가지며,
여기서 B21 은 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1cccc') 와 화합물 (102) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1yyyy) 를 화합물 (1hhh) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 9 에 대해 기재된 가수분해 B 의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
각종 R1s 를 갖는 일반식 I 의 본 발명의 화합물은 예를 들어, 하기 반응식 37 내지 46 에 나타낸 바와 같이 제조된다.
[반응식 37]
Figure 112007010406990-pct00145
식 중, R2, X1, Y, A16, R6, R8, B21, RA 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 화합물 (1y) 의 (R6-B21CHRA-) 기의 B21CHRA 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (19) 와 화합물 (20) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (19) 와 화합물 (21) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (19) 와 화합물 (22) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 38]
Figure 112007010406990-pct00146
식 중, R2, X1, Y, A, R6, B, RA 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, R8a 는 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 저급 알킬설포닐기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내며, R8b 는 수소 원자, 페닐기, 페닐 저급 알킬기 또는 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내며, R8c 는 저급 알카노일기를 나타내며, 단 화합물 (1cc) 의 -CHRAR8b 기의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (1aa) 와 화합물 (23) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1aa) 와 화합물 (24) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1aa) 와 화합물 (25) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 39]
Figure 112007010406990-pct00147
식 중, R2, X1, Y, A, B21, f, RA 및 R6 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 화합물 (1ee) 의 (-(B21)fCHRANHR6) 기의 (B21)fCHRA 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (26) 과 화합물 (27) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 40]
Figure 112007010406990-pct00148
식 중, R88 은 -Y-A 기 또는 할로겐 원자를 나타내며, R2, X1, Y, A 및 R6 은 상기 기재된 바와 동일하다.
화합물 (28) 과 화합물 (27) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 41]
Figure 112007010406990-pct00149
식 중, R2, X1, Y, A, R6, R8a, R8b, R8c, RA 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 화합물 (1hh) 의 -CHRAR8b 기의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (1ff') 와 화합물 (23) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1ff') 와 화합물 (24) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (1ff') 와 화합물 (25) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 42]
Figure 112007010406990-pct00150
식 중, R2, X1, Y, A, R6 및 X2 는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (30) 을 화합물 (1jj) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 3 의 화합물 (1f) 를 화합물 (1h) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (1jj) 를 화합물 (1kk) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (30) 과 화합물 (32) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 43]
Figure 112007010406990-pct00151
식 중, R2, X1, Y, A, X2 및 R6 은 상기 기재된 것과 동일하며, B23 은 저급 알킬렌기 또는 저급 알케닐렌기를 나타내며, 화합물 (1mm) 의 측쇄 (R6B23-HC=CH-) 에서의 B23-HC=CH- 부분은 1 내지 3 개의 이중결합을 가지며, 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (33) 과 화합물 (34) 의 반응은 적당한 불활성 용매 중에서 축합제의 존재 하에 수행된다.
상기 기재된 반응에 사용되는 불활성 용매의 예시에는 방향족 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔 및 자일렌, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 모노글라임 및 디글라임, 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 사염화탄소, 저급 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올 및 에틸렌 글리콜, 지방산, 예컨대 α-디메틸아미노아세트산 및 아세트산, 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤, 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 1-메틸-2-피롤리돈, 피리딘, 디메틸 설폭시드, 디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 이들의 혼합물이 포함된다.
축합제의 예시에는 팔라듐 착물, 예컨대 비스(벤조니트릴)디클로로팔라듐 (II) 이 포함된다.
축합제는 몰 기준으로 전형적으로는 화합물 (33) 의 0.01 내지 1 배, 바람직하게는 0.01 내지 0.5 배의 양으로 적절하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 일반적으로 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 약 150℃ 에서 진행되며, 일반적으로 약 10 분 내지 20 시간 내에 완결된다.
상기 기재된 반응은 유리하게는 지방산의 알칼리 금속염, 예컨대 아세트산 나트륨을 반응계에 첨가하여 진행된다.
[반응식 44]
Figure 112007010406990-pct00152
식 중, R2, X1, Y, A 및 R6 는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (1nn) 을 화합물 (1oo) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 3 의 화합물 (1f) 를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
[반응식 45]
Figure 112007010406990-pct00153
식 중, A17 은 하기 일반식의 기를 나타내며:
Figure 112007010406990-pct00154
또는
Figure 112007010406990-pct00155
식 중, R2, R3, p, X1, Y, A, Bo 및 R6 는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (64) 와 화합물 (65) 의 반응은 축합제의 존재 하에 적당한 용매에서 수행된다.
화합물 (1b) 를 화합물 (6) (아미드 결합 생성 반응) 과 반응시키기 위한 반응식 2 의 방법 (d) 에 의한 카르복실산 할라이드와 아민 (1b) 의 반응에 이용되는 임의의 용매가 상기 반응에 이용될 수 있다.
사용되는 축합제의 예시에는 아조카르복실레이트 (예컨대, 디에틸 아조디카르복실레이트) 와 인 화합물 (예컨대, 트리페닐포스핀) 의 혼합물이 포함된다.
축합제는 화합물 (64) 와 등몰량 이상, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (64) 의 1 내지 2 배의 양으로 사용된다.
화합물 (65) 는 화합물 (64) 와 등몰량 이상, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (64) 의 1 내지 2 배의 양으로 적절하게 사용된다.
상기 기재된 반응은 일반적으로는 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 에서 유리하게 수행되며, 일반적으로 약 1 내지 10 시간 내에 완결된다.
[반응식 46]
Figure 112007010406990-pct00156
식 중, R2, X1, Y, A 및 R6 는 상기 기재된 것과 동일하다.
화합물 (30) 과 화합물 (66) 의 반응은, 적절한 용매에서 또는 용매 없이, 염기성 화합물의 존재 또는 부재 하에, 바람직하게는 염기성 화합물의 부재 하에 수행된다.
화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응 (아미드 결합을 제공하는 반응) 을 위한 반응식 2 의 방법 (d) 에 의한 카르복실산 할라이드와 아민 (1b) 의 반응에 이용되는, 임의의 불활성 용매 및 염기성 화합물을 본 반응에 이용할 수 있다.
화합물 (66) 은 일반적으로는 몰 기준으로 화합물 (30) 의 약 1 내지 5 배 이상, 바람직하게는 약 1 내지 3 배의 양으로 사용될 수 있다.
상기 기재된 반응은 일반적으로는 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150℃ 에서 수행되며, 일반적으로 약 5 분 내지 50 시간 내에 완결된다.
붕소 화합물, 예컨대 삼불화붕소-디에틸 에테르 착물이 상기 기재된 반응계에 첨가될 수 있다.
[반응식 47]
Figure 112007010406990-pct00157
식 중, R2, X1, Y, T2, A10, R14, R15, B21, RA, X2, R6 및 R59 은 상기 기재된 것과 동일하며, 단 A10 의 a 및 b 는 각각 Y 및 T2 에 결합되어 있다.
화합물 (68) 을 화합물 (71) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 9 에 대해 기재된 가수분해 B 의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (71) 과 화합물 (100) 의 반응은 상기 기재된 반응식 20 에서 화합물 (1fff) 와 화합물 (43) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (68) 은 또한 화합물 (100) 대신 할로겐화 저급 알킬기, 예컨대 요오드화메틸을 사용하여 상기 기재된 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응에서 제조될 수 있다.
화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 반응은, 예를 들어, (1) 적당한 용매에서 촉매 수소화물 환원제로 화합물 (68) 을 환원시키거나, 또는 (2) 화합물 (68) 을 환원제, 예컨대 금속 또는 금속 염과 산의 혼합물, 또는 금속 또는 금속염과 알칼리 금속 수산화물, 황화물, 암모늄 염 등의 혼합물로 적당한 불활성 용매에서 환원시켜 수행할 수 있다.
방법 (1) 을 이용하는 용매의 예시에는, 물, 아세트산, 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올, 탄화수소, 예컨대 n-헥산 및 시클로헥산, 에테르, 예컨대 디옥산, 테트라히드로푸란, 디에틸 에테르 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 및 비양성자성 극성 용매, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, 및 이들의 혼합물이 포함된다. 사용되는 촉매 수소화물 환원제의 예시에는 팔라듐, 팔라듐 블랙, 팔라듐-카본, 백금-카본, 백금, 산화백금, 구리 크롬화물 및 레이니 니켈이 포함된다. 이들 환원제는 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 일반적으로, 환원제는 중량 기준으로 화합물 (68) 의 0.02 내지 1 배의 양으로 사용될 수 있다. 반응 온도는 일반적으로 약 -20 내지 150℃, 바람직하게는 약 0 내지 100℃ 이며, 수소 압력은 일반적으로 1 내지 10 atm 이다. 일반적으로, 상기 기재된 반응은 약 0.5 내지 100 시간 내에 완결된다. 염산과 같은 산이 상기 기재된 반응계에 첨가될 수 있다.
방법 (2) 를 이용함에 있어서 사용될 수 있는 환원제는 철, 아연, 주석 또는 제 1 염화주석와 무기산, 예컨대 염산 또는 황산의 혼합물; 또는 철, 황산 제 1 철, 아연 또는 주석과 알칼리 금속 수산화물, 예컨대 수산화나트륨, 황산염, 예컨대 황산암모늄 또는 암모늄 염, 예컨대 수산화암모늄 또는 염화암모늄의 혼합물이다. 불활성 용매의 예시에는 물, 아세트산, 알콜, 예컨대 메탄올 및 에탄올, 및 에테르, 예컨대 디옥산 및 이들의 혼합물이 포함된다. 반응 조건은 사용되는 환원제에 따라 적당하게 선택될 수 있다. 예를 들어, 염화주석 또는 염산이 환원제로 사용되는 경우, 반응은 유리하게는 약 0 내지 150℃ 에서 약 0.5 내지 10 시간 동안 적절하게 수행된다. 상기 기재된 환원제는 화합물 (68) 의 등몰량 이상, 및 전형적으로는 몰 기준으로 화합물 (68) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용된다.
화합물 (69) 와 화합물 (20) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (69) 와 화합물 (22) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (69) 와 화합물 (21) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (69) 를 화합물 (37a) 로 전환시키는 반응, 화합물 (70a) 를 화합물 (37d) 로 전환시키는 반응, 화합물 (70b) 를 화합물 (37c) 로 전환시키는 반응 및 화합물 (70c) 를 화합물 (37b) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 9 에 대한 가수분해 B 의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (71) 과 화합물 (36) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (69) 와 화합물 (32) 의 반응은 상기 기재된 반응식 42 에서의 화합물 (30) 과 화합물 (32) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 48]
Figure 112007010406990-pct00158
식 중, R2, X1, Y, A10, B3, R14, R15, RA, R74a 및 X2 는 상기 기재된 것과 동일하며;
Rc 는 -CONR14R15 기 또는 -COOR59b 기를 나타내며, R59b 는 저급 알킬기 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내며;
R17a 는 저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알킬 설포닐기 또는 저급 알케닐기를 나타내며;
R17b 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내며;
R17c 는 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기 또는 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 치환아미노 치환된 저급 알카노일기를 나타내며; 여기서 A10 의 a 는 Y 기에 결합되어 있고, b 는 -NHB3-Rc 기, -N(R17a)B3-Rc 기, -N(CH(RA)(R17b))B3-Rc 기 또는 -N(R17c)B3-Rc 기에 결합되어 있다.
화합물 (72a) 와 화합물 (73) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (72a) 와 화합물 (75) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (72a) 와 화합물 (74) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 49]
Figure 112007010406990-pct00159
식 중, R2, X1, Y, A10, B3, R14 및 R15 은 상기 기재된 것과 동일하며, R17d 는 할로겐 원자로 치환된 저급 알카노일기를 나타내며, R60 은 저급 알킬기로 치환될 수 있는 아미노기를 나타내며, R61 은 저급 알킬기로 치환될 수 있는 아미노 치환된 저급 알카노일기를 나타내며, 여기에서 A10 의 a 는 Y 기에 결합되어 있고, b 는 -N(R17d)B3-CONR14R15 기 또는 -NR61B3-CONR14R15 기에 결합되어 있다.
화합물 (72e) 와 화합물 (76) 의 반응은 상기 기재된 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 50]
Figure 112007010406990-pct00160
식 중, R2, X1, Y, R6, B21, RA 및 X2 은 상기 기재된 것과 동일하며, A11 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00161
또는
Figure 112007010406990-pct00162
여기서, R3 및 p 는 상기 기재된 것과 동일하며, 단 화합물 (78b) 의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6) 기의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (77a) 를 화합물 (77b) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 47 의 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (77b) 와 화합물 (20) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (77b) 와 화합물 (22) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (77b) 와 화합물 (21) 의 반응은 상기 기재된 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 51]
Figure 112007010406990-pct00163
식 중, R1, R2, X1, Y 및 A11 은 상기 기재된 것과 동일하며, i 는 2 내지 4 의 정수를 나타낸다.
일반적으로, 화합물 (77c) 와 화합물 (79) 의 반응은 프리델-크라프트 (Friedel-Crafts) 반응으로 명명되며, 루이스산의 존재 하에 적당한 용매에서 수행된다.
프리델-크라프트 반응에 일반적으로 사용되는 임의의 루이스산이 본원에서 사용될 수 있다. 상기 루이스산의 예시에는 염화알루미늄, 염화아연, 염화철, 염화주석, 삼브롬화붕소 및 진한 황산이 포함된다. 상기 루이스산은 단독으로 또는 2 가지 이상의 혼합물로 사용된다. 루이스산은 일반적으로 몰 기준으로 화합물 (77c) 의 2 내지 6 배량으로 사용된다.
본원에서 사용되는 용매의 예시에는 방향족 탄화수소, 예컨대 이황화탄소, 니트로벤젠 및 클로로벤젠, 및 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 사염화탄소 및 테트라클로로에탄, 및 이들의 혼합물이 포함된다.
화합물 (79) 은 일반적으로 화합물 (77c) 의 등몰량 이상, 및 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (77c) 의 1 내지 5 배량으로 사용된다.
일반적으로 상기 기재된 반응은 0 내지 120℃, 바람직하게는 약 0 내지 70℃ 에서 진행되며, 일반적으로 약 0.5 내지 24 시간 내에 완결된다.
[반응식 52]
Figure 112007010406990-pct00164
식 중, R2, X1, Y, R6, X2, B21 및 RA 는 상기 기재된 것과 동일하다. A12 는 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00165
또는
Figure 112007010406990-pct00166
R3 및 p 는 상기 정의된 것과 동일하며,
R62 는 저급 알카노일기 또는 히드록실기 치환된 저급 알킬기를 나타내며, 단 화합물 (81b) 의 측쇄 (NHCH(RA)(B21R6) 기) 에서의 알킬 부분의 탄소수는 6 개 이하이다.
화합물 (80a) 를 화합물 (80b) 로 전환시키는 반응은 상기 기재된 반응식 47 의 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (80b) 과 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 과 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (80b) 과 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 과 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (80b) 과 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 과 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 53]
Figure 112007010406990-pct00167
식 중, R1, R2, X1, 및 Y 은 상기한 바와 같고,
A13 는 하기식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00168
또는
Figure 112007010406990-pct00169
(여기서 R3 및 p 는 상기한 바와 같고, R63a 는 저급 알카노일기 또는 저급 알킬기를 나타냄),
A14 는 하기식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00170
또는
Figure 112007010406990-pct00171
(여기서 R63b 는 α-위치가 할로겐 원자로 치환된 저급 알카노일기 또는 2 위치가 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기를 나타냄).
화합물 (80b') 를 화합물 (35a) 로 전환시키는 반응은, 할로겐화제의 존재하, 적절한 용매 중에서 수행된다.
할로겐화제의 예는 하기를 포함한다: 할로겐 원자 예컨대, 브롬 및 염소, 요오드 클로라이드, 설퍼릴 클로라이드, 구리 화합물 예컨대, 구리(II) 브로마이드, 및 N-할로겐화 숙신산 이미드 예컨대, N-브로모숙신산 이미드 및 N-클로로숙신산 이미드.
사용되는 용매의 예는 하기를 포함한다: 할로겐화 탄화수소 예컨대, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 사염화탄소, 지방산 예컨대, 아세트산 및 프로피온산 및 이황화탄소.
할로겐화제는 적절하게 통상 몰 기준으로 화합물 (80b') 의 1 내지 10 배, 바람직하게 1 내지 5 배의 양으로 사용된다
상기 반응은 통상 0 ℃ 내지 용매의 비등점, 바람직하게 약 0 내지 100 ℃ 에서 수행되고, 통상 5 분 내지 30 시간 내에 완결된다.
N-할로겐화 숙신산 이미드가 할로겐화제로 사용될 때, 퍼옥시드 예컨대, 벤조일 퍼옥시드를 라디칼 반응 개시제로서 반응계에 첨가할 수 있다.
[반응식 54]
Figure 112007010406990-pct00172
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, R59, R8a, R8b, R8c, X2 및 RA 는 상기한 바와 같고,
R64 는 페닐 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단 화합물 (84b) 의 측쇄
(-N(CHRAR8b)(R64)기) 및 화합물 (84e) 의 측쇄 (-NH(CHRAR8b)기) 의 알킬 부분은 각각탄소수가 6 이하이고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y 기 및 T2 기에 각각 결합된다.
화합물 (83) 과 화합물 (23) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 과 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (69) 과 화합물 (82) 의 반응, 및 화합물 (83) 과 화합물 (25) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 과 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (83) 과 화합물 (24) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 과 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
각각 화합물 (84a) 를 화합물 (84d) 로, 화합물 (84b) 를 화합물 (84e) 로, 및 화합물 (84c) 를 화합물 (84f) 로 전환시키는 반응들은, 상기 반응식 24 에서 화합물 (1iii') 를 화합물 (1hhh') 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 55]
Figure 112007010406990-pct00173
식 중, R2, X1, Y, A10, B21, R74a 및 X2 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y기 및 B21 기에 각각 결합된다.
화합물 (85) 을 화합물 (7') 로 전환시키는 반응은, 화합물 (85) 를 적절한 용매 내에서 또는 용매의 부재하에서 할로겐화제와 반응시켜 수행된다.
할로겐화제의 예는 하기를 포함한다: 무기산 예컨대, 염산 및 브롬산, N,N-디에틸-1,2,2-트리클로로비닐 아지드, 포스포러스 펜타클로라이드, 포스포러스 펜타브로마이드, 포스포러스 옥시클로라이드, 설포닐 할라이드 화합물 예컨대, 염화티오닐, 염화메실 및 염화토실, 및 사브롬화탄소와 트리페닐포스핀의 혼합물. 설포닐 할라이드 화합물은 염기성 화합물과 함께 사용된다.
반응식 1 의 화합물 (2) 과 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 임의의 염기성 화합물을 사용할 수 있다.
사용되는 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르 예컨대, 디옥산, 테트라히드로푸란 및 디에틸 에테르, 할로겐화 탄화수소 예컨대, 클로로포름, 메틸렌 클로라이드 및 사염화탄소 및 디메틸포름아미드, 및 이의 혼합물.
설포닐 할라이드 화합물이 할로겐화제로서 염기성 화합물과 함께 사용될 때, 설포닐 할라이드 화합물은 적절하게, 통상 화합물 (85) 에 등몰량 이상으로, 바람직하게 몰 기준으로 화합물 (85) 의 1 내지 2 배의 양으로 사용된다. 염기성 화합물은 통상 화합물 (85) 의 촉매량으로, 바람직하게 화합물 (85) 의 촉매량 내지 등몰량으로 사용된다. 다른 할로겐화제가 사용될 때, 이러한 할로겐화제는 화합물 (85) 의 등몰량 이상으로 사용되고, 통상 큰 초과량으로 사용된다.
상기 반응은 유리하게 통상 실온 내지 200 ℃, 바람직하게 실온 내지 150 ℃ 에서 진행되고, 일반적으로 약 1 내지 80 시간 내에 완료된다.
[반응식 56]
Figure 112007010406990-pct00174
식 중, R74a, R2, X1, Y, A10 및 B21 는 상기한 바와 같고,
R65 트리-저급 알킬 실릴기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y 기 및 B21 기에 각각 결합된다.
여기서, 트리-저급 알킬 실릴기의 예는, 알킬 부분이 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬기인 트리알킬실릴, 예컨대 tert-부틸디메틸실릴기, 트리메틸실릴기, 및 디에틸메틸실릴기를 포함한다.
화합물 (86) 을 화합물 (85) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 와 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 57]
Figure 112007010406990-pct00175
식 중, R74a, R2, X1, Y, A10, B21, R65 및 X2 는 상기한 바와 같고,
R66 는 수소 원자, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y 및 B21 에 각각 결합되며, 화합물 (85a) 의 측쇄 (-Y-A10-B21CH2OH), 및 화합물 (86a) 의 측쇄 (-Y-A10-B21CH2OR65) 의 알킬 부분은 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (69a) 를 화합물 (85a) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 3 에 기재된 화합물 (1f) 를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (85a) 를 화합물 (101) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 1 에 기재된 화합물 (2) 를 화합물 (3) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 58]
Figure 112007010406990-pct00176
식 중, R2, X1, Y, A10, B21, R6, RA, f, R43, R44 및 X2 는 상기한 바와 같고,
B21 저급 알킬렌기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y 및 B21' 에 각각 결합되고, 화합물 (90c) 의 측쇄 (-Y-A10-(B21')f-CH=C(COOR43)(COOR44)) 중 (B21')f-CH=C 부분, 및 화합물 (90b) 의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6)) 의 알킬 부분은 각각 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (87) 과 화합물 (88) 의 반응은, 상기 반응식 3 의 화합물 (1f) 와 히드록실아민의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (89a) 를 화합물 (89b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (89b) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (89b) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (89b) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 59]
Figure 112007010406990-pct00177
식 중, R2, X1, Y, A10, B21' R65, R6, B21, RA 및 X2 는 상기 정의와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y기 및 B21' 기에 각각 결합되고, 화합물 (91b) 의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6)) 중 알킬 부분의 탄소수는 6 이하이다.
화합물 (86a') 을 화합물 (86b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (86b) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (86b) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (86b) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 60]
Figure 112007010406990-pct00178
식 중, R2, X1, Y, A10, B21, B21', R6, RA 및 X2 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y기 및 B21 기에 결합되고, 화합물 (44c) 의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6)) 중 알킬 부분은 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (92a) 를 화합물 (92b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (92b) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (92b) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (92b) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 61]
Figure 112007010406990-pct00179
식 중, R2, X1, 및 X2 는 상기한 바와 같고,
R67 는 -A10B21CN기, -A10-R59d기, -A10-T2-COOR59a기 또는 -A기를 나타내고,
R59d 는 저급 알킬기를 나타내고,
A10, B21, T2 및 R59a 는 상기한 바와 같고,
R68 는 니트로기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (93) 과 화합물 (94) 의 반응은, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 62]
Figure 112007010406990-pct00180
식 중, R2, R67, 및 X1 는 상기한 바와 같다.
화합물 (95a) 를 화합물 (95b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 63]
Figure 112007010406990-pct00181
식 중, R2, X1, Y, A7, R6, B21, RA 및 X2 는 상기한 바와 같고, 단 화합물 (13b) 의 측쇄 (-NHCH(RA)(B21R6)) 중 알킬 부분은 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (96) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (96) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (96) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 64]
Figure 112007010406990-pct00182
식 중, R2, X1, Y, B21, f, i, R6, B21, A10, RA 및 X2 는 상기한 바와 같고, RA'는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, 단 화합물 (98b) 의 측쇄
(-NHCH(RA)(B21R6)) 중 알킬 부분은 탄소수가 6 이하이고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y 기 및 (B21)f 기에 각각 결합된다.
화합물 (97a) 를 화합물 (97b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (97b) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (97b) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (97b) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 에 기재된 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 65]
Figure 112007010406990-pct00183
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B21, f, RA'및 A3 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 Y기 및 (B21)f기에 결합된다.
화합물 (98d) 을 화합물 (9') 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 66]
Figure 112007010406990-pct00184
식 중, R1, R2, X1, Y, A3, R59, A10, B21 및 f 는 상기한 바와 같고,
T3 은 직접 결합 또는 B7기를 나타내고,
B7 은 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각 Y기 및 (B21)f기에 각각 결합된다.
화합물 (9') 와 화합물 (99) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 67]
Figure 112007010406990-pct00185
식 중, R2, X1, Y, A10, R14a, R49a, R49, R49b, T, l, RA 및 X2 는 상기한 바와 같고, 단 화합물 (104c) 의 측쇄 (-N(R14a)(CHRAR49b)) 중 CHRA 부분의 탄소수는 6 이하이고, 단, A10 의 a 는 Y기에 결합되고, A10 의 b 는 -NR14aH기, -NR14aR49a기,
-NR14aR49기, 또는 -NR14a(CHRAR49b)기에 결합된다.
화합물 (103) 와 화합물 (38a) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (103) 와 화합물 (38) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (103) 와 화합물 (38b) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 68]
Figure 112007010406990-pct00186
식 중, R2, X1, Y 및 A 는 상기한 바와 같다.
화합물 (105) 을 화합물 (19a) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다. 화합물 (19a) 은 단리하지 않고 하기 반응에 사용될 수 있다.
[반응식 69]
Figure 112007010406990-pct00187
식 중, R2, X1, Y 및 A10 는 상기한 바와 동일하고,
R69a 는 티아졸리딘 고리에 옥소기를 치환기로서 가질 수 있는 티아졸리디닐기를 나타내고,
R69 는 티아졸리딘 고리에 옥소기를 치환기로서 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 저급 알킬기를 나타내고,
R70 는 티아졸리딘 고리에 옥소기를 치환기로서 가질 수 있는 티아졸리디닐 저급 알킬기를 나타내고, 단, A10 의 a 는 Y기에 결합되고, A10 의 b 는 -R69기 또는 -R70기에 결합된다.
화합물 (106a) 와 화합물 (160) 의 반응은, 상기 반응식 58 의 화합물 (87) 과 화합물 (88) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (106) 을 화합물 (19b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 70]
Figure 112007010406990-pct00188
식 중, R2, X1, X2, A, Y1, A10, T2, R59 및 R59a 는 상기한 바와 같고,
X3 는 할로겐 원자를 나타내고,
R71 는 -R1기 (여기서 R1 는 상기한 바와 같음), 니트로기 또는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고,
R72 는 히드록실기로 치환될 수 있는 저급 알킬기, 니트로기, 저급 알카노일기로 치환될 수 있는 아미노기, 카르복시 저급 알킬기, -(B21)fC(=O)RA기 (여기서 B21, f 및 RA 는 상기한 바와 같음), 저급 알카노일기, 저급 알콕시기 또는 수소 원자를 나타내고, 단, A10 의 a 는 Y1기에 결합되고, A10 의 b 는 -T2기 또는 -R72기에 결합된다.
화합물 (94a) 와 화합물 (107) 의 반응, 및 화합물 (94a) 와 화합물 (107a) 의 반응은 적절한 용매 중에서, 촉매의 존재하에서 수행된다.
상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 상기 반응에 사용될 수 있다.
사용될 수 있는 촉매의 예에는 다양한 금속 착물 뿐 아니라 다양한 금속 착물과 리간드의 조합도 포함된다. 금속 착물의 예에는, 예를 들어, 아세트산팔라듐 (II), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (0), 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 (0) 등이 포함된다. 리간드의 예에는, 예를 들어, R-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (R-BINAP), S-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (S-BINAP), RAC-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (RAC-BINAP), t-부틸포스핀, 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸잔텐 등이 포함된다.
상기 촉매는 적절하게, 통상 화합물 (94a) 의 등몰량으로, 바람직하게 몰 기준으로 화합물 (94a) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상 약 0 내지 200 ℃, 바람직하게 약 0 내지 150 ℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 30 분 내지 10 시간안에 완결된다.
분자체 3A (MS3A) 또는 분자체 4A (MS4A) 와 같은 분자체, 또는 트리페닐포스핀 또는 트리(2-푸릴)포스핀과 같은 포스포러스 화합물을 첨가하여 반응의 진행을 유리하게 한다.
화합물 (94a) 와 화합물 (108), 화합물 (3) 또는 화합물 (110) 의 반응은, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
R71 이 저급 알콕시카르보닐기를 나타내는 화합물 (109c) 는, 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 와 유사한 반응 조건하에서 가수분해되어, R71 이 카르복시기를 나타내는 대응 화합물 (109c) 로 전환될 수 있다.
[반응식 71]
Figure 112007010406990-pct00189
식 중, R1, R2, X1, X2, Y1, A10 및 T2 는 상기한 바와 같고,
R59c 는 수소 원자, 저급 알킬 또는 페닐 저급 알킬기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y1기 및 -T2기에 각각 결합된다.
화합물 (2) 과 화합물 (108') 의 반응은, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 72]
Figure 112007010406990-pct00190
식 중, R2, X1, R5a, R5b, RA, R5c 및 X2 는 상기한 바와 같고,
R73a 는 -A10-T2-COOR59 기 (여기서 A10, T2 및 R59 는 상기한 바와 같음), -A기 (여기서 A 는 상기한 바와 같음)를 나타내고, 단, A10 의 a 는 -NH-기, NR5a-기, -N(CHRAR5b)기 또는 -NR5c-기에 결합되고, A10 의 b 는 -T2기에 결합되고, 화합물 (68d) 의 측쇄 (-N(R73a)(CHRAR5b)) 중의 알킬 부분은 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (111) 과 화합물 (4) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (111) 과 화합물 (6) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (111) 과 화합물 (5) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 73]
Figure 112007010406990-pct00191
식 중, R2, X1, Y, A10, X2, R17, B3, R74a 및 Rc 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 는 -Y기에 결합되고, A10 의 b 는 -NHR17기 또는 -NR17B3Rc기에 결합된다.
화합물 (112) 와 화합물 (113) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 74]
Figure 112007010406990-pct00192
식 중, R2, X1, Y, A10, T1, l, R14, 및 R15 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -(T1)l기에 각각 결합된다.
화합물 (114) 와 화합물 (36) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
l 이 0 인 화합물 (109e) 는, 대응 (114) 와 화합물 (36) 이 적절한 용매 중에서, 염기성 화합물 및 촉매의 존재하에서 반응하여 생성될 수도 있다.
상기 반응은, 상기 반응식 13 에 기재된 반응 C 와 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 75]
Figure 112007010406990-pct00193
식 중, R2, X1, Y, R8, B21, R6, A10, T2, R59, RA 및 X2 는 상기한 바와 같고, 단, 화합물 (84i) 의 측쇄 (-N(R8)(CH(RA) B21R6)) 중 CHRAB21 부분은 탄소수가 6 이하이고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -T2기에 각각 결합된다
화합물 (84g) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (84g) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (84g) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 76]
Figure 112007010406990-pct00194
식 중, R2, X1, Y, R8a, R8b, R8c, B, R6, A10, T2, R59, RA 및 X2 는 상기한 바와 같고, 단, 화합물 (116b) 의 측쇄 (-NB(R6)(CH(RA )R8b)) 중 CHRA 부분은 탄소수가 6 이하이고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -T2기에 각각 결합된다.
화합물 (115) 와 화합물 (23) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (115) 와 화합물 (25) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (115) 와 화합물 (24) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 77]
Figure 112007010406990-pct00195
식 중, R2, X1, Y, A3, R14 및 R15 는 상기한 바와 같고, A15 는 하기식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00196
또는
Figure 112007010406990-pct00197
(여기서 R73 는 -(B21)fCH(RA)(NR14R15)기를 나타내고, B21, f 및 RA 는 상기한 바와 같고, 단 (B21)fCH(RA) 부분은 탄소수가 6 이하임).
화합물 (117) 과 화합물 (36) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 78]
Figure 112007010406990-pct00198
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, R6, R9a 및 R59 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -T2기에 각각 결합된다.
화합물 (69') 와 화합물 (66) 의 반응은, 상기 반응식 46 의 화합물 (30) 과 화합물 (66) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 79]
Figure 112007010406990-pct00199
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, R95 및 R59b 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -T2기에 각각 결합된다.
화합물 (120a) 를 화합물 (120b) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (120b) 와 화합물 (100') 의 반응은, 상기 반응식 20 의 화합물 (1fff) 와 화합물 (43) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서, 화합물 (100') 대신에 저급 알킬 할라이드 예컨대, 요오드화메틸을 사용하여, 화합물 (120a) 를 제조할 수 있다.
[반응식 80]
Figure 112007010406990-pct00200
식 중, R1, R2, X1, Y, A10, B5, R59a 및 j 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -S기에 각각 결합된다.
화합물 (120c) 를 화합물 (120d) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 4 에 기재된 화합물 (1zzzz) 를 화합물 (1aaaaa) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 81]
Figure 112007010406990-pct00201
식 중, R2, X1, Y, A10, T, l, R6, X2, RA, B21 및 R14a 는 상기한 바와 같고,
R49c 는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -(T)l기에 각각 결합된다.
화합물 (103) 와 화합물 (38c) 의 반응은, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (104d) 를 화합물 (104e)로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 의 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (104e) 와 화합물 (20) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (104e) 와 화합물 (22) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (104e) 와 화합물 (21) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 82]
Figure 112007010406990-pct00202
식 중, R2, X1, Y, A3, A10, B21, f, RA 및 i 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -(B21)f기에 각각 결합되고, 화합물 (123a) 의 측쇄중 (B21)fC(RA) 은 총 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (121) 과 화합물 (122) 의 반응은 산의 존재하, 적절한 용매중에서 수행될 수 있다.
상기 반응식 1 에서 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 본 반응에 사용될 수 있다.
사용되는 산의 예에는, 무기산 예컨대 염산, 황산, 및 브롬산, 유기산 예컨대, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 및 p-톨루엔설폰산을 포함하는 설폰산이 포함된다. 이러한 산은 단독으로 또는 2 개 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 산은 적절하게 통상 몰 기준으로 화합물 (121) 의 0.01 이상 내지 5 배, 바람직하게 0.01 내지 2 배의 양으로 사용된다. 화합물 (122) 은 적절하게, 통상 화합물 (121) 의 등몰량 이상, 바람직하게 몰 기준으로 화합물 (121) 의 1 내지 10 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상 0 내지 200 ℃, 바람직하게 약 0 내지 150 ℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 30 분 내지 10 시간 내에 완결된다.
[반응식 83]
Figure 112007010406990-pct00203
식 중, R2, X1, Y 및 A10 는 상기한 바와 같고, R72a 은 저급 알콕시기를 나타내고, 단, A10 의 a 는 -Y기에 결합되고, A10 의 b 는 -R72a기 또는 히드록실기에 결합된다.
화합물 (109f) 를 화합물 (124) 로 전환시키는 반응은 산의 존재하, 적절한 용매중에서 수행될 수 있다.
물 이외에, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 이 반응에 사용될 수 있다.
사용되는 산의 예에는, 무기산 예컨대, 브롬산, 염산 및 진한 황산, 지방산 예컨대, 포름산 및 아세트산, 유기산 예컨대, p-톨루엔설폰산, 루이스산 예컨대, 염화알루미늄, 염화아연, 염화철, 염화주석, 삼불화붕소, 및 삼브롬화붕소, 요오드화물 예컨대, 요오드화나트륨 및 요오드화칼륨, 상기 루이스산과 상기 요오드화물의 혼합물이 포함된다. 산은 적절하게, 통상 몰 기준으로 화합물 (109f) 의 0.1 내지 5 배, 바람직하게 0.5 내지 3 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상 0 내지 150 ℃, 바람직하게 약 0 내지 100 ℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 15 시간 내에 완결된다.
[반응식 84]
Figure 112007010406990-pct00204
식 중, R2, X1, Y, A10, B5, X2, R14, 및 R15 는 상기한 바와 같고,
Q1 는 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -Q1기에 각각 결합된다.
화합물 (124a) 와 화합물 (125) 의 반응은, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 85]
Figure 112007010406990-pct00205
식 중, R2, X1, Y, A10, R14a, R74a, T 및 l 는 상기한 바와 같고,
R74b 는 저급 알카노일기 또는 저급 알콕시카르보닐기를 나타내고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -(T)l기에 각각 결합된다.
화합물 (109g) 을 화합물 (109h) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 9 에 기재된 가수분해 B 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 86]
Figure 112007010406990-pct00206
식 중, R2, X1, Y, A10, T2, X2, R59a, B23 및 R6 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -T2기에 각각 결합된다.
화합물 (126) 와 화합물 (34) 의 반응은, 상기 반응식 43 의 화합물 (33) 와 화합물 (34) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 87]
Figure 112007010406990-pct00207
식 중, R2, X1, Y, R74a 및 A10 는 상기한 바와 같고,
R74c 는 아미노기 또는 -R1기 (여기서 R1 는 상기한 바와 동일함)를 나타내고, R75 는 저급 알카노일기, R76 은 저급 알콕시카르보닐기, R77 및 R78 는 둘다 저급 알콕시기, R79 는 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타내고, 단, A10 의 a 는 -Y 기에 결합되고, A10 의 b 는 -R75기, -C(R79)=CHR76기 또는 -CH(R79)CH2R76기에 결합되고, C(R79)=CH 부분 또는 CH(R79)CH2 부분은 탄소수가 6 이하이다.
화합물 (128) 과 화합물 (129) 의 반응은 염기성 화합물의 존재하, 적절한 용매중에서 수행된다.
반응에 영향을 주지 않는 임의의 통상적 용매가 사용될 수 있다. 이러한 용매의 예에는, 에테르 예컨대, 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 모노글림 및 디글림, 방향족 탄화수소 예컨대, 벤젠, 톨루엔 및 자일렌, 지방족 탄화수소 예컨대, n-헥산, 헵탄 및 시클로헥산, 아민 예컨대, 피리딘 및 N,N-디메틸아닐린, 비양자성 극성 용매 예컨대, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 설폭시드 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올, 및 이의 혼합물이 포함된다.
염기성 화합물의 예에는, 금속 나트륨, 금속 칼륨, 수소화나트륨, 나트륨 아미드, 금속 수산화물 예컨대, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 수산화칼슘, 탄산염 예컨대, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 및 중탄산나트륨, 금속 알코올레이트 예컨대, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트 및 칼륨 tert-부톡시드, 알킬 및 아릴 리튬 또는 리튬 아미드 예컨대, 메틸 리튬, n-부티릴 리튬, 페닐 리튬 및 리튬 디이소프로필아미드, 및 유기 염기 예컨대, 피리딘, 피페리딘, 퀴놀린, 트리메틸아민, 디이소프로필에틸아민, N,N-디메틸아닐린이 포함된다. 이러한 염기성 화합물은 단독 또는 2 개 이상의 혼합물로 사용된다. 염기성 화합물은 적절하게 통상, 몰 기준으로 화합물 (128) 의 0.1 내지 10 배, 바람직하게 0.5 내지 5 배의 양으로 사용된다.
화합물 (129) 은 적절하게, 통상 화합물 (128) 의 등몰량 이상, 바람직하게 몰 기준으로 화합물 (128) 의 1 이상 내지 5 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상 -80 내지 150 ℃, 바람직하게 약 -80 내지 120 ℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 40 시간 내에 완결된다.
유기 염기가 염기성 화합물로서 사용될 때, 반응계에 염화리튬과 같은 리튬 염을 첨가함으로써, 유리하게 반응이 진행된다.
화합물 (130) 을 화합물 (131) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 에 기재된 화합물 (68) 를 화합물 (69) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
[반응식 88]
Figure 112007010406990-pct00208
식 중, R2, X1, Y, R66 및 A17 는 상기한 바와 같다.
화합물 (28') 을 화합물 (64a) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 3 에 기재된 화합물 (1f) 를 화합물 (1g) 로 전환시키는 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 89]
Figure 112007010406990-pct00209
식 중, R2, X1, Y 및 A 는 상기한 바와 같다.
화합물 (64b) 를 화합물 (26a) 로 전환시키는 반응은 산화제의 존재하, 적절한 용매중에서 수행된다.
용매의 예에는, 물, 지방산 예컨대, 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산 및 프로피온산, 에스테르 예컨대, 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올, 에테르 예컨대, 디옥산, 테트라히드로푸란 및 디에틸 에테르, 케톤 예컨대, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 방향족 탄화수소 예컨대, 벤젠, 톨루엔, 클로로벤젠 및 자일렌, 및 할로겐화 탄화수소 예컨대, 클로로포름 및 디클로로메탄, 헥사메틸인산 트리아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 설폭시드 및 피리딘, 및 이의 혼합물이 포함된다.
산화제의 예에는, 과산 예컨대, 퍼포름산, 퍼아세트산, 퍼트리플루오로아세트산, 퍼벤조산, m-클로로퍼벤조산 및 o-카르복시퍼벤조산, 과산화수소, 나트륨 메타페리도데이트, 디크롬산, 디크로메이트 예컨대, 나트륨 디크로메이트 및 칼륨 디크로메이트, 이산화망간, 퍼망간산, 퍼망가네이트 예컨대, 과망간산나트륨 및 과망간산칼륨, 납 염 예컨대, 납 테트라아세테이트, 산화은, 및 Dess-Martin 시약 (Dess-Martin 페리오디난)이 포함된다. 이러한 산화제는 단독 또는 2 개 이상의 혼합물로 사용된다. 산화제는 통상, 화합물 (64b) 의 등몰량 이상, 바람직하게 몰 기준으로 화합물 (64b) 의 1 내지 3 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상 -10 내지 100 ℃, 바람직하게 약 0 내지 50 ℃ 에서 수행되고, 약 30 분 내지 24 시간 내에 완결된다.
[반응식 90]
Figure 112007010406990-pct00210
식 중, R2, X1, Y, A10, B19, R18, X2, R14, R74a 및 R15 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 및 b 는 -Y기 및 -B19기에 각각 결합된다.
화합물 (133) 과 화합물 (134) 사이의 반응, 화합물 (135) 와 화합물 (36) 사이의 반응은, 상기 반응식 1 의 화합물 (2) 과 화합물 (3) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
[반응식 91]
Figure 112007010406990-pct00211
식 중, A10, B3, R17a, R17b, RA, R17, Y1, Rc 및 X2 는 상기한 바와 같고,
R80 는 -Y1H기 또는 -OR81기를 나타내고, R81 는 히드록실기의 보호기를 나타내고, 단, 화합물 (108c) 의 측쇄 (-N(B3Rc)(CHRAR17b)) 중 CHRA 부분은 탄소수가 6 이하이고, 단, A10 의 a 는 -R80기에 결합되고, b 는 -NHB3Rc기, -N(R17a)B3Rc기, -N(CHRAR17b)B3Rc기 또는 -N(R17)B3Rc기에 결합된다.
여기서 히드록실기의 보호기의 예는, 상기 언급한 기, 예컨대, 페닐 저급 알킬기, 저급 알콕시 저급 알킬기, 테트라히드로피라닐기, 트리 저급 알킬실릴기, 저급 알카노일기 및 저급 알킬기를 포함한다.
화합물 (108a) 와 화합물 (73) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (108a) 와 화합물 (75') 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (6) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (108a) 와 화합물 (74) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (5) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
출발 물질로서의 화합물 (74) (여기서, RA 및 R17b 는 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 서로 결합하여, 시클로알킬 고리를 형성함) 및 수소화물 환원제를 사용하여 반응이 수행될 때, 반응계에서 상기 화합물 (74) 대신에 출발 물질로서 시클로알킬옥시트리알킬실란 예컨대, [1-에톡시시클로프로필]옥시]트리메틸실란을 사용하여 화합물 (74) 를 제조할 수 있다.
[반응식 92]
Figure 112007010406990-pct00212
식 중, R80, A10, R17, B3, Rc, X2, 및 R59b 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 는 -R80기에 결합되고, b 는 -NHR17기, -N(R17)B3Rc기 또는 -N(R17)CH2CH2COOR59기에 결합된다.
화합물 (108e) 와 화합물 (113) 의 반응은, 상기 반응식 2 의 화합물 (1b) 와 화합물 (4) 의 반응과 유사한 반응 조건하에서 수행된다.
화합물 (108e) 와 화합물 (137) 의 반응은 산의 존재하, 적절한 용매중에서 수행된다.
상기 반응식 1 의 화합물 (2) 와 화합물 (3) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 상기 반응에 사용될 수 있다.
사용되는 산의 예에는, 무기산 예컨대, 염산, 황산, 및 브롬산, 유기산 예컨대, 아세트산, 트리플루오로아세트산 및 p-톨루엔설폰산을 포함하는 설폰산, 및 루이스산 예컨대, 염화알루미늄, 염화아연, 염화철, 염화주석, 삼브롬화붕소 및 삼불화붕소/디에틸 에테르 착물이 포함된다. 이러한 산은 단독 또는 2 개 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 산은 적절하게, 통상 몰 기준으로 화합물 (108e) 의 0.01 이상 내지 5 배, 바람직하게 0.1 내지 2 배의 양으로 사용된다. 화합물 (137) 은 적절하게, 통상 화합물 (108e) 의 등몰량 이상, 바람직하게 몰 기준으로 화합물 (108e) 의 1 내지 10 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상 0 내지 200 ℃, 바람직하게 약 0 내지 150 ℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 30 분 내지 80 시간 내에 완결된다.
[반응식 93]
Figure 112007010406990-pct00213
식 중, R81 는 상기한 바와 같고, R73b 는 -A10-T2-COOR59a 또는 -A기를 나타내고, A10, T2, R59a 및 A 는 상기한 바와 같고, 단, A10 의 a 는 -OR81기 또는 히드록실기에 결합되고, A10 의 b 는 -T2기에 결합된다.
재료 화합물 (138) 의 R81 이 페닐 저급 알킬기를 나타낼 때, 화합물 (138) 을 화합물 (139) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 47 의 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 하나의 반응인, 환원 반응 (1) (촉매성 수소 환원제를 사용하는 방법) 과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
재료 화합물 (138) 의 R81 이 테트라히드로피라닐기 또는 트리-저급 알킬실릴기를 나타낼 때, 화합물 (138) 을 화합물 (139) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 9 의 가수분해 반응 B 와 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다. 화합물 (138) 을 화합물 (139) 로 전환시키는 반응은 산을 이용한 가수분해를 통해 유리하게 수행할 수 있다. 산은 적절하게, 통상 몰 기준으로 화합물 (138) 의 1 내지 10 배, 바람직하게, 1 내지 2 배의 양으로 사용된다.
화합물 (138) 의 R81 이 트리-저급 알킬실릴기를 나타낼 때, 화합물 (138) 은 불소 화합물 예컨대, 테트라-n-부틸 암모늄 플루오라이드, 수소 플루오라이드 또는 세슘 플루오라이드로 처리될 수 있다.
재료 화합물 (138) 의 R81 이 저급 알콕시 저급 알킬기 또는 저급 알킬기를 나타낼 때, 화합물 (138) 은 산의 존재하, 적절한 용매중에서 처리될 수 있다.
용매의 예로는, 물, 저급 알코올 예컨대, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올, 에테르 예컨대, 디옥산, 테트라히드로푸란 및 디에틸 에테르, 할로겐화 탄화수소 예컨대, 디클로로메탄, 클로로포름 및 사염화탄소, 및 극성 용매 예컨대, 아세토니트릴, 및 이의 혼합물이 포함된다. 사용되는 산의 예에는, 무기산 예컨대, 염산, 황산 및 브롬산, 지방산 예컨대, 포름산 및 아세트산, 설폰산 예컨대, p-톨루엔설폰산, 루이스산 예컨대, 삼불화붕소, 염화알루미늄 및 삼브롬화붕소, 요오드화물 예컨대, 요오드화나트륨 및 요오드화칼륨, 및 상기 요오드화물과 상기 루이스산의 혼합물이 포함된다. 상기 반응은 통상 0 내지 200 ℃, 바람직하게 약 실온 내지 150 ℃ 에서 수행되고, 일반적으로 약 0.5 내지 25 시간 내에 완결된다.
상기 가수분해는 염기성 화합물을 사용하여, 상기 반응식 9 의 가수분해 반응 B 와 유사한 반응 조건하에서 수행될 수도 있다. 여기서 아민 예컨대, 트리에틸아민은 염기성 화합물로서, 가수분해 반응 B 에 사용되는 염기성 화합물에 부가적으로 사용될 수 있다.
재료 화합물 (138) 의 R81 이 저급 알카노일기를 나타낼 때, 화합물 (138) 을 화합물 (139) 로 전환시키는 반응은, 상기 반응식 9 의 가수분해 반응 B 와 유사한 반응 조건하에서 수행될 수 있다.
화합물 (138) 의 R73a 가 하기식의 기를 나타내는 경우:
Figure 112007010406990-pct00214
,
탈수 반응을 상기 가수분해 조건하에서 수행하고, 때때로, 대응되는 R73a 이 하기의 기를 나타내는 화합물 (138) 을 수득할 수 있다:
Figure 112007010406990-pct00215
.
[반응식 94]
Figure 112007010406990-pct00216
상기 식에서, R80, A10, T2, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 및 b 는 각각, -R80 기 및 -T2 기에 결합된다.
화합물 (36) 과 화합물 (140) 의 반응은 상술된 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 95]
Figure 112007010406990-pct00217
상기 식에서, Y1, A7, R13 및 A9 는 상술한 바와 동일하다.
화합물 (12) 와 화합물 (141) 의 반응은 상술한 반응식 8 에서의 화합물 (12) 와 화합물 (13) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 96]
Figure 112007010406990-pct00218
상기 식에서, R80, A10, B21 및 f 는 상술한 바와 동일하고, 단, 화합물 (144) 의 측쇄 (-(B21)f-CH2NH2) 내의 알킬 부분은 6 개 이하의 탄소 원자를 가진다.
화합물 (143) 을 화합물 (144) 로 전환시키는 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 한 반응인 수소화물 환원제를 이용한 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 97]
Figure 112007010406990-pct00219
상기 식에서, R80, A10, B19, X2, R18, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 는 -R80 기에 결합되고, b 는 -B19 기에 결합된다.
화합물 (134) 와 화합물 (145) 의 반응은, 상술한 반응식 90 에서의 화합물 (134) 와 화합물 (133) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (36) 과 화합물 (146) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 98]
Figure 112007010406990-pct00220
상기 식에서, A10, B19, R14, R15, R80 및 X2 는 상술한 바와 동일하고, R18a 는 저급 알킬기를 나타내며, 단, A10 의 a 및 b 는 각각, -R80 기 및 -B19 에 결합된다.
화합물 (147) 과 화합물 (108j) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 99]
Figure 112007010406990-pct00221
상기 식에서, R2, X1, X2, X3 및 R6 은 상술한 바와 동일하고, R82 는 저급 알킬기를 나타내고, R83 은 저급 알콕시기를 나타낸다.
화합물 (149) 와 화합물 (148) 의 반응은 촉매의 존재 하에 적절한 용매 내에서 수행된다.
상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 이 반응에 사용될 수 있다.
촉매의 예에는 마그네슘이 포함된다. 촉매는 전형적으로는 화합물 (148) 와 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (148) 의 1 내지 5 배의 양으로 사용된다.
상술한 반응은 전형적으로는 0 내지 200℃, 바람직하게는 약 0 내지 150℃ 의 온도에서 수행되며, 일반적으로는 약 30 분 내지 10 시간 내에 완료된다.
[반응식 100]
Figure 112007010406990-pct00222
상기 식에서, A18 은 -A 기 또는 -A10-T2-COOR59b 기를 나타내고, A, A10, T2, R59b 및 X3 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (150) 을 화합물 (107') 로 전환시키는 반응은, 화합물 (85) 을 화합물 (7') 로 전환시키는 상술한 반응식 55 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 101]
Figure 112007010406990-pct00223
상기 식에서, R2, X1, A10, T2 및 R6 은 상술한 바와 동일하고, 단, A10 의 a 는 -CO 기, -CH(OH) 기 또는 -CH2 에 결합되고, b 는 -T2 기에 결합된다.
화합물 (109a') 를 화합물 (151) 를 전환시키는 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 한 반응인 수소화물 환원제를 사용하는 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
화합물 (151) 을 화합물 (152) 로 전환시키는 반응은, 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 상술한 반응식 47 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (22) 와 화합물 (152) 의 반응은 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (153) 을 화합물 (154) 로 전환시키는 반응은, 상술한 반응식 9 에 대해 기술된 가수분해 B 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 102]
Figure 112007010406990-pct00224
상기 식에서, R1, R2, X1, Y, A10, B6, B7 또는 R59 는 상술한 바와 동일하고, R19a 는 저급 알카노일기를 나타내며, 단, A10 의 a 및 b 는 각각, -Y 기 및 -B6 기에 결합된다.
화합물 (156) 과 화합물 (155) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 103]
Figure 112007010406990-pct00225
상기 식에서, R80, A10, X2, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일하다.
화합물 (36) 과 화합물 (158) 의 반응은, l 이 0 인 상술한 반응식 74 의 화합물 (36) 과 화합물 (114) 의 반응과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 104]
Figure 112007010406990-pct00226
상기 식에서, R1, R2, Y, A10, R14a, h, T, l, RB, X1 및 X2 는 상술한 바와 동일하고, R85a 는 벤조일기를 나타내고, R85b 는 저급 알콕시 카르보닐기, 페닐 저급 알킬기, 저급 알킬기 또는 푸릴 저급 알킬기를 나타내고, R85c 는 수소 원자, 저급 알킬기, 페닐기, 페닐 저급 알킬기, 푸릴기 또는 푸릴 저급 알킬기를 나타내며, 단, 화합물 (1bbbbb) 의 -CH(RB)R85c 기는 6 개 이하의 탄소 원자를 가진다.
화합물 (160') 과 화합물 (1yyyy') 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (161) 과 화합물 (1yyyy') 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (162) 와 화합물 (1yyyy') 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 105]
Figure 112007010406990-pct00227
상기 식에서, R2, B0, Y, X1, A17, R8, X2, X3 및 R6 은 상술한 바와 동일하고, R86 은 저급 알킬설포닐기를 나타내고, R87 은 산소 원자 또는 -N(R8)- 기를 나타낸다.
화합물 (163) 과 화합물 (165) 의 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (165) 를 화합물 (167) 로 전환시키는 반응은, 화합물 (85) 를 화합물 (7') 으로 전환시키는 상술한 반응식 55 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (164) 와 화합물 (166) 또는 화합물 (167) 의 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 106]
Figure 112007010406990-pct00228
상기 식에서, R80 및 A10 은 상술한 바와 동일하고, R15' 은 상술한 R15 에서의 (5) 와 동일한 기를 나타낸다.
화합물 (170) 과 화합물 (168) 의 반응은 상술한 반응식 46 의 화합물 (66) 과 화합물 (30) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 107]
Figure 112007010406990-pct00229
상기 식에서, R80, A10, T, l, R14bb, R15aa, R14cc, R15bb, R26 및 R27 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (57) 과 화합물 (171) 의 반응은, 상술한 반응식 31 의 화합물 (57) 과 화합물 (1iiii) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 108]
Figure 112007010406990-pct00230
상기 식에서, R1, R2, X1, Y, A10, R15' 및 X2 는 상술한 바와 동일하고, R89 는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (170) 과 화합물 (173) 의 반응은, 상술한 반응식 46 의 화합물 (66) 과 화합물 (30) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (173) 과 화합물 (1ddddd) 의 반응은, 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 109]
Figure 112007010406990-pct00231
상기 식에서, R1, R2, X1, Y, X2, B3, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일하고, A19 는 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00232
또는
Figure 112007010406990-pct00233
,
A20 은 하기 일반식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00234
또는
Figure 112007010406990-pct00235
[식 중, R3, p, R17, B3, R14 및 R15 은 상술한 바와 동일함].
화합물 (175) 와 화합물 (174) 의 반응은, 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 110]
Figure 112007010406990-pct00236
상기 식에서, R1, R2, X1 및 Y 는 상술한 바와 동일하고, A21 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00237
,
A22 는 하기 일반식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00238
[식 중, R3, p, R17, B3, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (1ggggg) 를 화합물 (1hhhhh) 로 전환시키는 반응은, 수소 환원제가 사용되는 상술한 반응식 2 의 화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
[반응식 111]
Figure 112007010406990-pct00239
상기 식에서, R1, R2, X1 및 Y 는 상술한 바와 동일하고, A23 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00240
또는
Figure 112007010406990-pct00241
A24 는 하기 일반식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00242
또는
Figure 112007010406990-pct00243
[식 중, R3 및 p 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (1iiiii) 을 화합물 (1jjjjj) 로 전환시키는 반응은, 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 상술한 반응식 47 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 112]
Figure 112007010406990-pct00244
상기 식에서, R2, X1 및 Y 는 상술한 바와 동일하고,
A25 는 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00245
또는
Figure 112007010406990-pct00246
,
A26 은 하기 일반식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00247
또는
Figure 112007010406990-pct00248
[식 중, B4a 는 저급 알케닐렌기를 나타내고, B4b 는 저급 알킬렌기를 나타내고, R3, p, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (1kkkkk) 를 화합물 (1lllll) 로 전환시키는 반응은, 상술한 반응식 47 의 방법 (1) 에서 화합물 (68) 을 화합물 (69) 로 전환시키는 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 113]
Figure 112007010406990-pct00249
상기 식에서, R2, X1, Y, 및 R59b 는 상술한 바와 동일하고,
A28 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00250
또는
Figure 112007010406990-pct00251
,
A27 은 하기 일반식의 기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00252
또는
Figure 112007010406990-pct00253
[식 중, R3, p 및 R59b 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (1mmmmm) 을 화합물 (1nnnnn) 으로 전환시키는 반응은, 상술한 반응식 9 에 대해 기술된 가수분해 B 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (100') 과 화합물 (1nnnnn) 의 반응은, 상술한 반응식 20 의 화합물 (43) 과 화합물 (1fff) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 114]
Figure 112007010406990-pct00254
상기 식에서, R2, X1, X2 및 Y 는 상술한 바와 동일하고,
A29 는 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00255
또는
Figure 112007010406990-pct00256
,
A30 은 하기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00257
또는
Figure 112007010406990-pct00258
[식 중, R90 은 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고, R3, p 및 R59b 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (176) 과 화합물 (1ooooo) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 115]
Figure 112007010406990-pct00259
상기 식에서, R2, X1, X2 및 Y 는 상술한 바와 동일하고,
A31 은 하기 일반식의 기를 나타내고:
Figure 112007010406990-pct00260
또는
Figure 112007010406990-pct00261
,
A32 는 하기를 나타낸다:
Figure 112007010406990-pct00262
또는
Figure 112007010406990-pct00263
[식 중, R3, p, R59b 및 R89 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (173) 과 화합물 (1qqqqq) 의 반응은, 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 116]
Figure 112007010406990-pct00264
상기 식에서, R1, R2, X1, Y, A10, T, l, R90 및 X2 는 상술한 바와 동일하다. R15'' 은 상술한 R15 에 대해 정의된, 상술한 기 (2), (3), (4), (5), (6), (7), (8), (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17), (18), (19), (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (26a), (27a), (28a), (29a), (30a), (31a), (32a), (33a), (34a), (35a), (36a) 또는 (37a) 를 나타낸다.
화합물 (176) 과 화합물 (1sssss) 의 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 117]
Figure 112007010406990-pct00265
상기 식에서, R1, R2, X1, Y, A10, T 및 l 은 상술한 바와 동일하고,
R14AA 및 R15BB 는, 헤테로시클릭 고리가 그 안에 하나 이상의 -(B12CO)t-N(R20')-CO-B16X2 기를 가진다는 것을 제외하고는, 상술한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고,
R14CC 및 R15DD 는 헤테로시클릭 고리가 그 안에 하나 이상의 -(B12CO)t-N(R20')-CO-B16R91 기 (식 중, B12, t, B16 및 X2 는 상술한 바와 동일함) 를 가진다는 것을 제외하고는, 상술한 R14 및 R15 에 대해 정의된 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고,
R91 은 이미다졸릴기를 나타내고,
R20' 은 수소 원자, 시클로알킬기, 치환기로서 저급 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기, 페닐 고리 상에 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급 알킬기, 페닐 고리 상에서, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 저급 알킬티오기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기로 치환될 수 있는 1 또는 2 개의 페닐을 갖는 저급 알킬기, 페닐 고리 상에서 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있는 페닐기, 저급 알콕시카르보닐기, 시클로알킬 저급 알킬기, 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 저급 알킬기, 페닐기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 아미노 치환된 저급 알킬기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸 치환된 저급 알킬기, 나프틸 저급 알킬기, 피리딜 저급 알킬기, 퀴놀릴 저급 알킬기, 테트라졸 고리 상에 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 저급 알킬기, 1,2,4-트리아졸릴 저급 알킬기, 저급 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 저급 알킬기, 페닐 고리 상에, 저급 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페녹시 저급 알킬기, 페닐 저급 알카노일기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 이미다졸릴 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐 저급 알킬기, 피리딜기 또는 카르복시 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (177) 과 화합물 (1uuuuu) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 118]
Figure 112007010406990-pct00266
상기 식에서, X1, X2, R2, Y, A 및 R6 은 상술한 바와 동일하고, R91 은 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (178) 과 화합물 (33) 의 반응은 또한 염기성 화합물 및 촉매의 존재 하에 적절한 용매 내에서 수행될 수 있다. 사용되는 불활성 용매의 예에는, 물, 방향족 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 2-메톡시에탄올, 모노글림, 및 디글림, 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 사염화탄소, 저급 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올, 및 에틸렌 글리콜, 지방산, 예컨대 아세트산, 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤, 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, N-메틸피롤리돈, 디메틸 설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 이들의 혼합물이 포함된다.
염기성 화합물의 예에는, 탄산염, 예컨대 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 및 탄산세슘, 금속 수산화물, 예컨대 수산화나트륨, 수산화칼륨, 및 수산화칼슘, 인산칼륨, 인산나트륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 금속 알콜레이트, 예컨대 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 나트륨 n-부톡시드, 나트륨 tert-부톡시드, 및 칼륨 tert-부톡시드, 알킬실릴아미드 알칼리 금속염, 예컨대 칼륨 비스(트리메틸실릴)아미드, 및 유기 염기, 예컨대 피리딘, 이미다졸, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU), 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO), 및 이들의 혼합물이 포함된다.
촉매의 예에는, 팔라듐 화합물, 예컨대 아세트산팔라듐, 비스(트리부틸틴)/비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐, 요오드화구리/2,2'-비피리딜, 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐, 요오드화구리/비스(트리페닐-포스핀)팔라듐 디클로라이드, 트리스(디벤질리덴-아세톤)디팔라듐, R-트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐, S-트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐, 아세트산팔라듐 (II), [1,1'-비스(디페닐포스피노)페로센]디클로로팔라듐 (II), 및 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐, R-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (R-BINAP), S-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (S-BINAP), RAC-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 (RAC-BINAP) 과 같은 화합물, 및 2,2-비스(디페닐이미다졸리디닐리덴), 잔텐 화합물, 예컨대 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸잔텐, 및 붕산염, 예컨대 트리-tert-부틸포스핀 테트라플루오로보레이트, 및 이들의 혼합물이 포함될 수 있다.
염기성 화합물은 몰 기준으로 화합물 (33) 의 0.5 배 이상, 바람직하게는 0.5 내지 40 배의 양으로 적절히 사용된다. 촉매는 화합물 (33) 을 기준으로 한 전형적인 촉매량으로 적절히 사용된다.
화합물 (178) 은 몰 기준으로 화합물 (33) 의 0.5 배 이상, 바람직하게는 0.5 내지 3 배의 양으로 적절히 사용된다.
상술한 반응은 전형적으로는 실온 내지 200℃, 바람직하게는 실온 내지 약 150℃ 에서 수행되며, 약 0.5 내지 20 시간 내에 완료된다.
[반응식 119]
Figure 112007010406990-pct00267
상기 식에서, Bo, X1, R2, Y, A17, R6 및 X2 는 상술한 바와 동일하고, R92 는 R6-Z4- 기 또는 R6- 기를 나타내고, Z4 는 저급 알킬렌기를 나타낸다.
화합물 (179) 과 화합물 (64) 의 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
[반응식 120]
Figure 112007010406990-pct00268
상기 식에서, R2, X1, Y, A 및 R6 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (30) 을 화합물 (1bbbbbb) 로 전환시키는 방법은, 화합물 (30) 을 디아조화시키고 이렇게 수득된 디아조늄 염을 화합물 (180) 과 반응시킴으로써 화합물 (1bbbbbb) 을 수득하는 것이다.
디아조화 반응 1. 은 산 및 디아조화제의 존재 하에 적절한 용매 내에서 수행될 수 있다. 상술한 반응에 사용되는 용매의 예에는 물과 아세토니트릴이 포함된다. 사용되는 산의 예에는, 염산, 브롬산, 황산, 테트라플루오로붕산, 및 헥사플루오로인산이 포함된다. 디아조화제의 예에는, 금속 아질산염, 예컨대 아질산나트륨 및 아질산칼륨, 저급 알킬 아질산염, 예컨대 t-부틸 아질산염및 이소아밀 아질산염이 포함된다. 산은 몰 기준으로, 전형적으로는 화합물 (30) 의 약 1 내지 10 배, 바람직하게는 화합물 (30) 의 약 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다. 디아조화제는 전형적으로는 화합물 (30) 과 대략 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (30) 의 1 내지 3 배의 양으로 적절히 사용된다. 상술한 반응은 전형적으로는 약 0 내지 70℃, 바람직하게는 약 0℃ 내지 실온에서 수행되고, 대략 수분 내지 5 시간 내에 완료된다. 반응 1. 에서 수득된 디아조늄 염과 화합물 (180) 의 반응 2. 는 반응 1 에서와 유사한 용매 내에서 및 염기성 화합물의 존재 하에 수행될 수 있다. 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응에 사용되는 임의의 염기성 화합물이 이 반응에 사용될 수 있다. 염기성 화합물은 화합물 (30) 과 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (30) 의 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다. 화합물 (180) 은 화합물 (30) 과 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (30) 의 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다. 상술한 반응은 전형적으로는 약 0 내지 70℃ 에서, 바람직하게는 약 0℃ 내지 실온에서 수행되고, 대략 수분 내지 5 시간 내에 완료된다.
[반응식 121]
Figure 112007010406990-pct00269
상기 식에서, X1, R8d, Y, A, R2 및 R6 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (181) 과 화합물 (30a) 의 반응은 산 및 촉매의 존재 하에 적절한 용매 내에서 수행될 수 있다. 사용되는 불활성 용매의 예에는, 물, 방향족 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 2-메톡시에탄올, 모노글림, 및 디글림, 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 사염화탄소, 저급 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, tert-부탄올, 및 에틸렌 글리콜, 지방산, 예컨대 아세트산, 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트 및 메틸 아세테이트, 케톤, 예컨대 아세톤 및 메틸 에틸 케톤, 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드, 및 이들의 혼합물이 포함된다.
염기성 화합물의 예에는, 탄산염, 예컨대 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 및 탄산세슘, 금속 수산화물, 예컨대 수산화나트륨, 수산화칼륨, 및 수산화칼슘, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 칼륨, 나트륨, 나트륨 아미드, 금속 알콜레이트, 예컨대 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트, 나트륨 n-부톡시드, 나트륨 tert-부톡시드, 및 칼륨 tert-부톡시드, 유기 염기, 예컨대 피리딘, 이미다졸, N-에틸디이소프로필아민, 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5 (DBN), 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 (DBU), 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO), 및 이들의 혼합물이 포함된다.
촉매의 예에는, 팔라듐 화합물, 예컨대 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (0) 및 디클로로비스(트리페닐포스핀)팔라듐 (II), 및 구리 화합물, 예컨대 아세트산구리 (II) 가 포함된다.
염기성 화합물은 화합물 (30a) 와 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (30a) 의 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다. 촉매는 몰 기준으로 화합물 (30a) 의 0.001 내지 1 배, 바람직하게는 0.01 내지 0.5 배의 양으로 적절히 사용된다.
화합물 (181) 은 화합물 (30a) 와 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (30a) 의 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다.
상술한 반응은 전형적으로는 -30 내지 200℃ 에서, 바람직하게는 0 내지 150℃ 에서 수행되고, 0.5 내지 약 30 시간 내에 완료된다. 분자체, 예컨대 Molecular Sieves 3A (MS-3A), Molecular Sieves 4A (MS-4A) 등이 반응에 첨가될 수 있다.
[반응식 122]
Figure 112007010406990-pct00270
상기 식에서, R6, Z1, X1, R2, Y 및 A 는 상술한 바와 동일하다. Z4 는 저급 알킬렌기를 나타낸다.
화합물 (1dddddd) 를 화합물 (1eeeeee) 로 전환시키는 반응은 촉매적 수소 환원제의 존재 하에서 적절한 용매 내에서 수행될 수 있다.
사용되는 용매의 예에는, 물, 지방산, 예컨대 아세트산, 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 및 이소프로판올, 지방족 탄화수소, 예컨대 n-헥산, 지환족 탄화수소, 예컨대 시클로헥산, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 모노글림, 디글림, 및 1,4-디옥산, 에스테르, 예컨대 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 및 부틸 아세테이트, 및 비양성자성 극성 용매, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, 및 N-메틸피롤리돈, 및 이들의 혼합물이 포함된다.
촉매적 수소 환원제의 예에는, 팔라듐, 팔라듐-블랙, 팔라듐-탄소, 수산화팔라듐-탄소, 로듐-알루미나, 백금, 산화백금, 구리 크로마이트, 레이니 니켈, 및 아세트산팔라듐이 포함된다.
상술한 촉매적 수소 환원제는 전형적으로는 몰 기준으로 화합물 (1dddddd) 의 0.01 내지 1 배의 양으로 사용된다.
상기 반응은 전형적으로는 약 -20 내지 150℃, 바람직하게는 0 내지 100℃ 의 온도에서 유리하게 진행되며, 일반적으로는 0.5 내지 20 시간 내에 완료된다. 수소압은 전형적으로는 1 내지 10 기압에서 적용될 수 있다.
[반응식 123]
Figure 112007010406990-pct00271
상기 식에서, R1, R2, Y, X1, A10, T 및 l 은 상술한 바와 동일하고; R14II 및 R15JJ 는 헤테로시클릭 고리 상에 저급 알콕시카르보닐기를 갖는 하나 이상의 페닐기를 갖는다는 것을 제외하고는 상술한 R14 및 R15 에 대해 정의한 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고; R14EE 및 R15FF 는 헤테로시클릭 고리 상에 카르복시기를 갖는 하나 이상의 페닐기를 갖는다는 것을 제외하고는 상술한 R14 및 R15 에 대해 정의한 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고; R14GG 및 R15HH 는 헤테로시클릭 고리 상에 저급 알콕시 저급 알킬기 및 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 카르바모일기를 갖는 하나 이상의 페닐기를 갖는다는 것을 제외하고는 상술한 R14 및 R15 에 대해 정의한 바와 동일한 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기를 나타내고; R93 및 R94 는 수소 원자, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (1hhhhhh) 를 화합물 (1ffffff) 로 전환시키는 반응은 상술한 반응식 9 에 대해 기술된 가수분해 B 의 조건과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (182) 와 화합물 (1ffffff) 의 반응은 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 124]
Figure 112007010406990-pct00272
상기 식에서, X1, R2, Y, A, X2, k, X3, R6, B20a 및 d' 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (183) 과 화합물 (30) 의 반응은 상술한 반응식 46 의 화합물 (66) 과 화합물 (30) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (184) 를 화합물 (1jjjjjj) 로 전환시키는 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (185) 와 화합물 (1jjjjjj) 의 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
화합물 (185) 에서 d' 이 0 을 나타낼 경우, 화합물 (1jjjjjj) 를 화합물 (1kkkkkk) 로 전환시키는 반응은 또한 할로겐화 구리, 예컨대 요오드화구리, 알킬글리신, 예컨대 N,N-디메틸글리신, 또는 알칼리 금속 인산염, 예컨대 인산칼륨의 존재 하에 적절한 용매 중에서 수행될 수 있다. 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 여기에 사용될 수 있다. 할로겐화 구리 또는 알킬글리신은 전형적인 촉매량으로 사용된다. 알칼리 금속 인산염은 전형적으로는 화합물 (1jjjjjj) 과 등몰량의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (1jjjjjj) 의 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다. 화합물 (185) 는 몰 기준으로 화합물 (1jjjjjj) 의 전형적으로는 0.5 내지 5 배, 바람직하게는 0.5 내지 3 배의 양으로 사용된다. 상술한 반응은 전형적으로는 약 실온 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150℃ 에서 수행되며, 약 1 내지 30 시간 내에 완료된다.
[반응식 125]
Figure 112007010406990-pct00273
상기 식에서, X2, R2, X1, Y, A 및 R6 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (186) 과 화합물 (33) 의 반응은 상술한 반응식 118 의 화합물 (178) 과 화합물 (33) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 126]
Figure 112007010406990-pct00274
상기 식에서, X1, X2, R2, R6, Y, A, B21a 및 c 는 상술한 바와 동일하다.
화합물 (187) 과 화합물 (33) 의 반응은 상술한 반응식 118 의 화합물 (178) 과 화합물 (33) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행된다.
[반응식 127]
Figure 112007010406990-pct00275
상기 식에서, R8, R2, X1, Y, A16, X2, R6 및 R8b 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (189) 과 화합물 (188) 의 반응은 카르복실산 할라이드가 아민과 반응되는 반응식 2 의 방법 (d) 에 의한 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (191) 과 화합물 (190) 의 반응은 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
[반응식 128]
Figure 112007010406990-pct00276
상기 식에서, R1, R2, X1, Y 및 A16 은 상술한 바와 동일하다. Xa 는 할로겐 원자를 나타낸다.
화합물 (1oooooo) 를 화합물 (1pppppp) 로 전환시키는 반응은 촉매적 수소화 환원제 및 수소 공여체, 예컨대 포름산, 포름산암모늄, 시클로헥산, 또는 히드라진 수화물의 존재 하에 적절한 용매 내에서 수행될 수 있다.
화합물 (1dddddd) 를 화합물 (1eeeeee) 로 전환시키는 상술한 반응식 122 의 반응에 사용되는 임의의 용매 및 촉매적 수소화 환원제가 상술한 반응에 사용될 수 있다.
상술한 반응은 전형적으로는 약 1 기압 내지 20 기압, 바람직하게는 약 1 기압 내지 10 기압의 수소 대기 하에, 약 -30 내지 150℃, 바람직하게는 약 0 내지 100℃ 의 온도에서 수행된다. 일반적으로, 반응은 약 1 내지 12 시간 내에 완료된다.
촉매적 수소화 환원제는 전형적으로는 화합물 (1oooooo) 의 0.01 내지 40 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 20 중량% 로 사용된다.
수소 공여체는 전형적으로는 화합물 (1oooooo) 와 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (1oooooo) 의 1 내지 10 배의 양으로 사용된다.
[반응식 129]
Figure 112007010406990-pct00277
상기 식에서, A10, X2, k, X3, R80 및 RB 는 상술한 바와 동일하고; 상술한 R14 및 R15 가 헤테로시클릭 고리를 형성할 경우, R94a 는 치환기 (35), (40), (42) 또는 (50) (여기서, o 는 1 임), 또는 (67), (75) 내지 (76), (78), (80) 내지 (81) 또는 (84) (여기서, s 는 1 임) 로 정의된 기를 나타내고; 상술한 R14 및 R15 가 헤테로시클릭 고리를 형성하는 경우, R94b 는 치환기 (28), (30) 내지 (34), (36) 내지 (39), (41), (43) 내지 (45), (47) 또는 (49) (여기서, t 는 1 임), (50) (여기서, o 는 0 임), (52) 내지 (60), (62) 내지 (66), (70), (77), (79), (82) 내지 (83), (87), (88a) 또는 (90a)로 정의된 기를 나타내고; 상술한 R14 및 R15 가 헤테로시클릭 고리, 페닐 고리 상에, 저급 알카노일기, 치환기로서 저급 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, 저급 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 저급 알콕시기, 페닐 저급 알콕시기, 히드록시기 및 저급 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 페닐기, 피리딘 고리 상에, 히드록시기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 피리딜기, 치환기로서 1 내지 3 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴기, 벤족사졸릴기, 벤조티아졸릴기, 푸릴기, 히드록시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 나프틸기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기로서 1 내지 5 개의 저급 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸기, 퀴놀릴기, 테트라졸 고리 상에, 저급 알킬기 및 페닐 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴기; 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴기; 페닐 고리 상에, 저급 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 벤조일기, 피페리딘 고리 상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기, 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기, 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴기, 시클로알킬기, 티에닐기, 또는 이미다졸릴기를 형성할 경우, R94c 는 치환기 (28), (30) 내지 (34), (39), (41), (45), (47) 또는 (49) (여기서, t 는 1 임), 및 (50) (여기서, o 는 0 임), (54) 내지 (58), (62) 내지 (64), (66), (70), (79) 또는 (82) 내지 (83)으로 정의된 기를 나타낸다.
화합물 (183) 과 화합물 (192) 의 반응은 상술한 반응식 124 의 화합물 (183) 과 화합물 (30) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (193) 를 화합물 (1qqqqqq) 로 전환시키는 반응은 화합물 (184) 를 화합물 (1jjjjjj) 로 전환시키는 상술한 반응식 124 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (195) 와 화합물 (1qqqqqq) 의 반응은 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에 수행될 수 있다.
화합물 (195) 의 R94b 가 (36) 내지 (38), (43), (44), (53), (59) 내지 (60), (87), (88a) 또는 (90a) 를 나타낼 경우, 화합물 (195) 와 화합물 (1qqqqqq) 의 반응은 또한 할로겐화구리, 예컨대 요오드화구리, 알킬글리신, 예컨대 N,N-디메틸글리신, 또는 알칼리 금속 인산염, 예컨대 인산칼륨의 존재 하에, 적절한 용매 내에서 수행될 수 있다. 상술한 반응에는, 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응에 사용되는 임의의 용매가 사용될 수 있다. 할로겐화구리 및 알킬글리신은 일반적인 촉매량으로 사용된다. 알칼리 금속 인산염은 전형적으로는 화합물 (1qqqqqq) 와 등몰량 이상의 양으로, 바람직하게는 몰 기준으로 화합물 (1qqqqqq) 의 1 내지 5 배의 양으로 적절히 사용된다. 화합물 (195) 는 몰 기준으로 화합물 (1qqqqqq) 의 전형적으로는 0.5 내지 5 배, 바람직하게는 0.5 내지 3 배의 양으로 사용된다. 상술한 반응은 전형적으로는 실온 내지 200℃, 바람직하게는 약 실온 내지 150℃ 에서 수행되며, 약 1 내지 30 시간 내에 완료된다.
화합물 (194) 와 화합물 (1qqqqqq) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
화합물 (196) 과 화합물 (1qqqqqq) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (5) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 130]
Figure 112007010406990-pct00278
상기 식에서, X1, Y, A, R2, R6, B22a, e 및 X2 는 상술한 바와 동일하고, R10a' 는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (197) 과 화합물 (1uuuuuu) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 131]
Figure 112007010406990-pct00279
상기 식에서, X1, Y, A, R2, R6 및 X2 는 상술한 바와 동일하다. R10b' 는 저급 알킬기를 나타낸다.
화합물 (197a) 와 화합물 (1wwwwww) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (4) 와 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 132]
Figure 112007010406990-pct00280
상기 식에서, R1, X1, R2, Y, A10, X2, R14a 및 R59b 는 상술한 바와 동일하고, R96 은 피페라진 고리 상에, 페닐 저급 알킬기 (페닐 고리 상에, 저급 알킬렌디옥시기 및 저급 알콕시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있음) 및 피리딜 저급 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 치환기를 가질 수 있는 피페라지닐기를 나타낸다.
화합물 (199) 와 화합물 (198) 의 반응은, 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 와 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
화합물 (200) 을 화합물 (201) 로 전환시키는 반응은, 상술한 반응식 9 에 대해 기술된 가수분해 B 의 조건과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
화합물 (100') 과 화합물 (201) 의 반응은, 상술한 반응식 79 의 화합물 (100') 과 화합물 (120b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (202) 와 화합물 (201) 의 반응은, 상술한 반응식 2 의 화합물 (6) 과 화합물 (1b) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행된다.
화합물 (200) 은 또한 하기 반응식 133 의 방법에 의해 제조될 수도 있다:
[반응식 133]
Figure 112007010406990-pct00281
[식 중, R74a, R2, X1, Y, A10, R59b 및 X2 는 상술한 바와 동일하고, R14a' 는 치환기로서 히드록시기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타냄].
화합물 (203) 과 화합물 (200a) 의 반응은, 상술한 반응식 1 의 화합물 (3) 과 화합물 (2) 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
화합물 (3) 은 또한 하기 반응식 134 의 방법에 의해 제조될 수도 있다:
[반응식 134]
Figure 112007010406990-pct00282
[식 중, R80, A10, B23a, R14 및 R15 는 상술한 바와 동일함].
화합물 (108l) 을 화합물 (108m) 으로 전환시키는 반응은, 화합물 (1f) 를 화합물 (1g) 로 전환시키는 상술한 반응식 3 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
[반응식 135]
Figure 112007010406990-pct00283
상기 식에서, R1, R2, X1, Y, A10, B23a, R14 및 R15 은 상술한 바와 동일하다.
화합물 (1zzzzzz) 를 화합물 (1AAAAAA) 로 전환시키는 반응은, 화합물 (64b) 를 화합물 (26a) 로 전환시키는 상술한 반응식 89 의 반응의 것과 유사한 반응 조건 하에서 수행될 수 있다.
상기 나타낸 반응식들에 의해 수득된 각각의 표적 화합물은, 냉각 후 단리 절차, 예컨대 여과, 농축 또는 추출을 이용하여 반응 혼합물로부터 조 (crude) 반응 생성물을 분리시킴으로써, 및 통상의 정제 절차, 예컨대 컬럼 크로마토그래피 또는 재결정을 이용하여 정제함으로써 단리 및 정제될 수 있다.
일반식 (1) 로 나타내는 본 발명의 화합물은 입체이성질체 및 광학 이성질체를 포함한다.
염기성 기를 갖는 본 발명의 화합물은 통상의 약리학적으로 허용되는 산과 용이하게 염을 형성할 수 있다. 이러한 산의 예에는, 무기산, 예컨대 염산, 브롬산, 질산, 황산 및 인산, 및 유기산, 예컨대 메탄설폰산, p-톨루엔설폰산, 아세트산, 시트르산, 타르타르산, 말레산, 푸마르산, 말론산 및 락트산이 포함된다.
산성 기를 갖는 본 발명의 화합물은 통상의 약리학적으로 허용되는 염기성 화합물과 용이하게 염을 형성할 수 있다. 이러한 염기성 화합물의 예에는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨 및 중탄산칼륨이 포함된다.
다음으로, 본 발명의 화합물을 활성 성분으로서 함유하는 의약적 제형물을 설명할 것이다.
통상의 약학적 형태로 제형화된 본 발명의 화합물의 제조에 의해 수득되는 상술한 의약적 제형물은 통상적으로 사용되는 희석제 또는 부형제, 예컨대 충전재, 익스팬더 (expander), 결합제, 보습제 (moistener), 붕해제 (disintegrator), 계면활성제 또는 윤활제를 사용하여 제조된다.
이러한 의약적 제형물은 치료 목적에 따라 다양한 형태에서 선택될 수 있으며, 이러한 제형물의 전형적인 예에는 정제, 환제, 산제, 액제, 현탁제, 에멀젼, 과립제, 캡슐제, 좌제 및 주사제 (액제, 현탁제) 가 포함된다.
정제의 형성에 사용되는 담체는 통상의 담체로부터 광범위하게 선택될 수 있으며, 그 예에는 부형제, 예컨대 락토오스, 사카로오스, 염화나트륨, 글루코오스, 우레아, 전분, 탄산칼슘, 카올린, 및 결정성 셀룰로오스, 결합제, 예컨대 물, 에탄올, 프로판올, 단미시럽, 글루코오스 용액, 전분 용액, 젤라틴 용액, 카르복시메틸셀룰로오스, 쉘락 (shellac), 메틸셀룰로오스, 인산칼륨, 및 폴리비닐피롤리돈, 붕해제, 예컨대 건조 전분, 나트륨 아르기네이트, 한천 분말, 라미나란 (laminaran) 분말, 중탄산나트륨, 탄산칼슘, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 나트륨 라우릴 술페이트, 스테아르산 모노글리세리드, 전분, 및 락토오스, 붕해방지제, 예컨대 사카로오스, 스테아린, 카카오 버터, 및 경화유 (hydrogenated oil), 촉진제 (absorbefacient), 예컨대 4차 암모늄 염기 및 나트륨 라우릴 술페이트, 습윤제 (wetting agent), 예컨대 글리세롤 및 전분, 흡착제, 예컨대 전분, 락토오스, 카올린, 벤토나이트 및 콜로이드성 실리케이트, 및 윤활제, 예컨대 정제 탈크, 스테아레이트, 붕산 분말, 및 폴리에틸렌 글리콜이 포함된다.
또한, 정제는 통상의 코팅정, 예를 들어 당의정, 젤라틴-코팅정, 장용 (enteric)-코팅정, 필름-코팅정, 또는 이중 또는 다중-층 정제로 만들어질 수 있다.
환제의 형성에 사용되는 담체는 통상의 담체에서 광범위하게 선택될 수 있으며, 그 예에는 부형제, 예컨대 글루코오스, 락토오스, 전분, 카카오 버터, 경화 식물유 (hydrogenated vegetable oil), 카올린, 및 탈크, 결합제, 예컨대 아라비아 고무 분말, 트라가칸트 분말, 젤라틴, 및 에탄올, 및 붕해제, 예컨대 라미나란 및 한천이 포함된다.
좌제의 형성에 사용되는 담체는 통상의 담체에서 광범위하게 선택될 수 있는데, 그의 예에는 폴리에틸렌 글리콜, 카카오 버터, 고급 알콜, 고급 알콜의 에스테르, 젤라틴, 및 반 (semi)-합성 글리세리드가 포함된다.
액체, 에멀젼 및 현탁액 형태의 주사제는 바람직하게는 멸균되거나 혈액과 등장성이다. 이러한 액체, 에멀젼 및 현탁액 제제의 형성에 사용되는 희석제는 통상의 희석제에서 광범위하게 선택될 수 있으며, 그 예에는 물, 에탄올, 프로필렌 글리콜, 에톡시화 이소스테아릴 알콜, 폴리옥시화 이소스테아릴 알콜, 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르가 포함된다. 이 경우, 의약적 제형물은 등장성 용액제를 제조하기에 충분한 염화나트륨, 글루코오스 또는 글리세롤을 함유할 수 있다. 또한, 통상의 가용화제, 완충제, 진통제 등, 및 필요시, 착색제, 방부제, 향신료, 풍미제, 감미제 등, 또는 기타 약제가 첨가될 수 있다.
의약적 제형물에 포함되는 본 발명의 화합물의 양은 제한되지 않으며 광범위한 범위 내에서 적절히 선택될 수 있지만, 전형적으로는 의약적 제형물이 본 발명의 화합물을 1 내지 70 중량% 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 의약적 제형물의 투여 방법은 제한되지 않으며, 투여는 의약적 제형물의 형태, 환자의 나이, 성별, 질병의 경중도와 같은 조건 및 기타 조건에 따라 수행된다. 예를 들어, 정제, 환제, 액제, 현탁제, 에멀젼, 과립제 및 캡슐제는 경구 투여된다. 주사 제형물은 단독으로 또는 통상의 유체 대체물, 예컨대 글루코오스 용액 또는 아미노산 용액과 혼합하여 정맥 내 투여되거나, 또는 필요시, 단독으로 및 근육내, 피내, 피하 또는 복막내 투여된다. 좌제는 직장 내로 투여된다.
상기 언급된 의약적 제형물에 대한 투여량은 용법, 환자의 나이, 성별, 및 질병의 경중도 및 기타 조건에 따라 적절히 선택될 수 있다. 전형적으로는, 1 일 당 체중 1 kg 당 0.001 내지 100 mg, 바람직하게는 1 일 당 체중 1 kg 당 0.001 내지 50 mg 을 하루에 1 회 또는 수회 투여한다.
상술한 투여량은 각종 조건에 따라 다양할 수 있지만, 상술한 범위 보다 더 적은 투여량으로도 충분할 수 있거나, 또는 상술한 범위 보다 더 큰 투여량을 투여해야 할 필요가 있을 수 있다.
본 발명의 화합물은 콜라겐의 생성을 억제하는 데 있어서 우수한 효과를 나타낸다.
본 발명의 화합물은 부작용이 보다 적으며, 안전성에 있어서 탁월하다.
하기와 같이 참고예, 실시예, 제형예 및 약리학적 시험을 예시함으로써 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
참고예 1
1-(t-부톡시카르보닐)-4-(4-히드록시페닐)-1,2,5,6-테트라히드로피리딘의 제조
(단계 1)
1-(t-부톡시카르보닐)-4-[(4-메톡시메톡시)페닐]-4-히드록시피페리딘의 제조
테트라히드로푸란 (THF) (100 mL) 중 1-브로모-4-메톡시메톡시벤젠 (5.43 g, 25.0 mmol) 의 용액을 -85 ℃ 에서 교반하고, 교반된 용액에 2.46 M 의 n-부틸리튬 헥산 용액 (10.2 mL, 25.0 mmol) 을 10 분에 걸쳐 적가했다. 생성된 용액을 동일한 온도에서 40 분 동안 교반했다. 반응 용액에 10 분 동안 THF (30 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-피페리돈 (5.20 g, 26.0 mmol) 의 용액을 적가했다. 생성된 용액의 온도를 4 시간에 걸쳐 -25 ℃ 로 승온시킨 후, 용액을 상기 온도에서 2 시간 동안 교반하였다. 이후, 염화암모늄 포화 수용액을 이 용액에 첨가하였다. 반응 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트: n-헥산 = 2 : 3, 부피비; 이하 동일), 7.63 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 오일
Figure 112007010406990-pct00284
(단계 2)
1-(t-부톡시카르보닐)-4-(4-히드록시페닐)-1,2,5,6-테트라히드로피리딘의 제 조
톨루엔 (100 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-[(4-메톡시메톡시)페닐]-4-히드록시피페리딘 (5.32 g, 15.8 mmol) 의 용액에 p-톨루엔설폰산 모노히드레이트 (0.56 g, 2.95 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 21 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 실온으로 냉각시키고, 감압 하에 증발시켰다. 상기 조생성물에 에탄올 (60 mL) 및 2 M 염산 (40 mL, 80 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 2 시간 동안 60 ℃ 에서 교반하였다. 반응 용액을 다시 실온으로 냉각시키고, 감압 하에서 증발시켰다. 잔류물에 메탄올 (100 mL), 트리에틸아민 (9.0 mL, 64.6 mmol) 및 디-t-부틸 디카보네이트 (5.20 g, 23.8 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 24 시간 동안 실온에서 교반했다. 용매를 감압 하에 증발시킨 후, 잔류물에 100 mL 의 에틸 아세테이트를 첨가했다. 불용성 물질을 여과에 의해 제거한 후, 여액을 감압 하에 증발시켰다. 잔류물에 1,4-디옥산 (50 mL) 및 수산화나트륨 (50 mL, 50 mmol) 의 1 M 수용액을 14 시간 동안 60 ℃ 에서 교반하였다. 생성된 반응 용액에 2 M 의 염산 (25 mL, 50 mmol) 을 실온에서 첨가하여 중화시킨 후, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 4.10 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 무정형
Figure 112007010406990-pct00285
참고예 2
메틸 5-(4-벤질피페라진-1-일)-2-메톡시메톡시벤조에이트의 제조
톨루엔 (50 mL) 중 메틸 5-클로로-2-메톡시메톡시벤조에이트 (1.45 g, 6.29 mmol) 및 1-벤질피페라진 (1.66 g, 9.43 mmol) 의 용액에 아세트산팔라듐 (28 mg, 0.126 mmol), 2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-바이나프틸 (157 mg, 0.252 mmol) 및 탄산세슘 (3.07 g, 9.43 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 3 시간 동안 환류시켰다. 생성된 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 2), 400 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00286
하기 화합물을 참고예 2 에서와 동일한 방법으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00287
Figure 112007010406990-pct00288
참고예 14
메틸 5-(4-벤질피페라진-1-일)-2-히드록시벤조에이트의 제조
1,4-디옥산 (20 mL) 중 400 mg 의 메틸 5-(4-벤질피페라진-1-일)-2-메톡시메톡시벤조에이트 (1.1 mmol) 의 용액에 1,4-디옥산 (4 mL, 16 mmol) 중 4 N 염화수소의 용액을 첨가하고, 생성된 용액에 2 시간 동안 100 ℃ 에서 교반하였다. 생성된 반응 용액을 감압 하에 증류시켜, 잔류물을 수득하였다. 이 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1), 353 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
Figure 112007010406990-pct00289
참고예 14 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00290
참고예 20
에틸 N-(4-히드록시페닐)이소니페코테이트의 제조
디클로로메탄 (100 mL) 중 에틸 N-(4-메톡시페닐)이소니페코테이트 (2.63 g, 10 mmol) 의 용액에 디클로로메탄 (20 mL, 40 mmol) 중 2 M 삼브롬화붕소의 용액을 첨가하고, 생성된 용액을 0.5 시간 동안 실온에서 교반하였다. 생성된 반응 용액을 얼음물에 부은 후, 상기 용액에 1 M 수산화나트륨의 수용액 (110 mL) 을 첨가했다. 교반 후, 생성된 용액을 분리하였다. 유기층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압 하에 증발시켜, 2.43 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00291
참고예 20 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 21
4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페놀
Figure 112007010406990-pct00292
참고예 22
1-벤질-3-(4-히드록시페닐)이미다졸리딘-2-온
Figure 112007010406990-pct00293
참고예 23
2-(4-히드록시페닐아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온의 제조
N,N-디메틸포름아미드 (DMF) (150 mL) 중 N-(4-히드록시페닐)글리신 (11.38 g, 68.1 mmol) 의 용액에 1-피페로닐피페라진 (15.0 g, 68.1 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (10.43 g, 68.1 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (15.66 g, 81.7 mmol) 를 얼음 냉각 하에 첨가하고, 생성된 용액을 30 분 동안 얼음 냉각 하에서 및 4.5 시간 동안 실온에서 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화 용액 (400 mL) 을 첨가하고, 에틸 아세테이트 (400 mL) 로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 분말화된 형태로 고체화된 생성된 생성물을 남겼다. 에틸 아세테이트를 첨가하고, 생성된 생성물을 여과 제거하고, 에틸 아세테이트로 세정하여, 18.58 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 분말
Figure 112007010406990-pct00294
참고예 23 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 24
6-클로로-N-(3,4-디클로로페닐)니코틴아미드
Figure 112007010406990-pct00295
참고예 25
4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)-1-(4-히드록시페닐)피롤리딘-2-온
Figure 112007010406990-pct00296
Figure 112007010406990-pct00297
참고예 35
에틸 (4-히드록시-3-메틸페닐아미노)아세테이트의 제조
탄산칼륨 (5.04 g, 36.5 mmol) 을 실온에서 DMF (30 mL) 중 4-아미노-o-크레솔 (3.00 g, 24.4 mmol) 및 에틸 브로모아세테이트 (2.70 mL, 24.4 mmol) 의 용액에 첨가했다. 생성된 용액을 실온에서 1.5 시간 동안 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 3 : 1), 5.10 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 고체
Figure 112007010406990-pct00298
참고예 35 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 36
에틸 (3-히드록시페닐아미노)아세테이트
Figure 112007010406990-pct00299
Figure 112007010406990-pct00300
참고예 37
벤질 (4-히드록시-3-메톡시페닐아미노)아세테이트
Figure 112007010406990-pct00301
참고예 38
t-부틸 [3-(4-벤질옥시-3-메틸페닐)-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]아세테이트
Figure 112007010406990-pct00302
Figure 112007010406990-pct00303
Figure 112007010406990-pct00304
Figure 112007010406990-pct00305
참고예 58
t-부틸 (3-시아노-4-히드록시페닐아미노)아세테이트
MS 248(M+).
참고예 59
2-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페녹시]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온의 제조
탄산칼륨 (0.350 g, 2.53 mmol) 을 DMF (8 mL) 중 4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페놀 (0.420 g, 1.69 mmol) 및 1-클로로아세틸-4-피페로닐피페라진 (0.500 g, 1.70 mmol) 의 용액에 첨가하였다. 생성된 반응 혼합물을 40 분 동안100 ℃ 에서 교반하였다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켜, 0.860 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 오일
Figure 112007010406990-pct00306
참고예 59 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 60
2-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
Figure 112007010406990-pct00307
참고예 61
메틸 3-(4-벤질옥시페닐아미노)프로피오네이트의 제조
질소 하에서, 4-벤질옥시아닐린 (13.0 g, 65 mmol) 을 70 ℃ 에서 가열에 의해 용해시키고, 상기 용해된 용액에 삼불화붕소-디에틸 에테르 착물 (0.82 mL, 6.5 mmol) 을 동일한 온도에서 적가했다. 이후, 메틸 아크릴레이트 (5.85 mL, 65 mmol) 을 생성된 용액에 서서히 적가했다. 이 용액을 10 시간 동안 70 ℃ 에서 교반하였다. 얼음으로 냉각시킨 후, 에틸 아세테이트를 반응 혼합물에 첨가하고, 수성 1 N 수산화나트륨 및 염수로 세정했다. 유기층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 17.5 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 분말
Figure 112007010406990-pct00308
참고예 62
에틸 3-(4-메톡시페닐아미노)프로피오네이트의 제조
3-(4-히드록시페닐아미노)프로피온산 (4.00 g, 20.5 mmol) 을 48 % 브롬산 (50 mL) 에 첨가하고, 생성된 용액을 2.5 시간 동안 100 ℃ 에서 교반하였다. 감압 하에서 농축 후, 에탄올 (10 mL) 을 잔류물에 첨가하고, 감압 하에서 농축시켰다. 중탄산나트륨 포화 용액을 잔류물에 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1), 1.27 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00309
참고예 63
에틸 [(3-플루오로-4-히드록시페닐)메틸아미노]아세테이트의 제조
에틸 (3-플루오로-4-히드록시페닐아미노)아세테이트 (1.06 g, 5.1 mmol) 를 메탄올 (150 mL) 중에 용해시키고, 생성된 용액을 얼음으로 냉각시켰다. 생성된 용액에 수성 37 % 포름알데히드 (1.5 mL), 나트륨 트리아세톡시보로히드라이드 (1 g, 16 mmol) 및 아세트산 (0.9 mL, 15 mmol) 을 첨가한 후, 실온에서 질소 대기 하에서 14 시간 동안 교반했다. 용매를 감압 하에 증발시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 생성된 용액을 중탄산나트륨 포화 용액으로 중화시키고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층 염수로 세정한 후, 무수 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용매를 감압 하에서 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 2), 0.93 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 밝은 갈색 오일
Figure 112007010406990-pct00310
참고예 63 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 64
에틸 (메틸{4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)아세테이트
Figure 112007010406990-pct00311
참고예 65
에틸 [(4-히드록시-2-트리플루오로메틸페닐)메틸아미노]- 아세테이트
MS 277(M+).
Figure 112007010406990-pct00312
Figure 112007010406990-pct00313
참고예 77
1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-[시클로프로필(4-히드록시페닐)아미노]에탄온의 제조
메탄올 (10 mL) 중 1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-(4-히드록시페닐아미노)에탄온 (1.00 g, 2.7 mmol) 의 용액에 아세트산 (1.55 mL, 27 mmol), 분자체 3A1/16 (1.00 g), [(1-에톡시시클로프로필)옥시]트리메틸실란 (0.653 mL, 3.2 mmol) 및 나트륨 시아노보로히드라이드 (770 mg, 12 mmol) 를 첨가했다. 생성된 용액을 16 시간 동안 60 ℃ 에서 교반했다. 이 반응 용액을 여과하고, 농축시키고, 잔류물에 에틸 아세테이트 및 물을 첨가했다. 수성 6 N 수산화나트륨을 이용하여 수성층을 pH 10 으로 조정했다. 이 층을 잠시 교반했고, 불용성 물질이 용해된 후, 에틸 아세테이트층을 제거하고, 수성 2 N 수산화나트륨 및 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정한 후, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시켜, 770 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
Figure 112007010406990-pct00314
참고예 77 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 78
에틸 {시클로프로필[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세테이트
Figure 112007010406990-pct00315
참고예 79
에틸 [(3-히드록시페닐)메틸아미노]-아세테이트의 제조
중탄산칼륨 (1.42 mL, 14.19 mmol) 을 DMF (15 mL) 중 에틸 (3-히드록시페닐아미노)아세테이트 (2.77 g, 14.19 mmol) 의 용액에 첨가했다. 생성된 용액에 요오드화메틸 (1.77 mL, 28.38 mmol) 을 추가로 첨가한 후, 실온에서 18 시간 동안 교반했다. 생성된 반응 용액에 염수 (150 mL) 를 첨가하고, 수득된 혼합물을 에틸 아세테이트 (150 mL) 로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산나트륨 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시켜, 2.48 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 오일
Figure 112007010406990-pct00316
참고예 79 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00317
Figure 112007010406990-pct00318
Figure 112007010406990-pct00319
Figure 112007010406990-pct00320
참고예 100
에틸 [아세틸(3-플루오로-4-히드록시페닐)아미노]아세테이트의 제조
에틸 (3-플루오로-4-히드록시페닐아미노)아세테이트 (0.84 g, 4 mmol) 를N,N-디메틸아세트아미드 (4 mL) 중에 용해시켰다. 생성된 용액에 아세틸 클로라이드 (0.6 mL, 10 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 물 (1 mL), 메탄올 (10 mL) 및 포화 탄산나트륨 (10 mL) 를 첨가하고, 혼합물을 실온에서 1 시간 동안 교반했다. 물을 상기 용액에 첨가했다. 10 % 염산을 적용하여 상기 용액이 산성이 되게 한 후, 용액을 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층을 물 및 염수로 세정한 후, 무수 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용매를 감압 하에서 증발시키고, 수득된 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트: n-헥산 = 2 : 1), 0.84 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 분말
Figure 112007010406990-pct00321
참고예 100 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00322
Figure 112007010406990-pct00323
Figure 112007010406990-pct00324
참고예 110
(6-클로로피리딘-3-일) (4-트리플루오로메틸페닐)메탄온의 제조
아르곤 기체 흐름 하에서, THF (6 mL) 중 4-브로모벤조트리플루오라이드 (1.20 g, 5.33 mmol) 용액의 절반을 마그네슘 (156 mg, 6.41 mmol) 에 첨가했다. 생성된 용액을 교반하고, 추가로 1,2-디브로모에탄 (3 방울) 을 첨가했다. 반응이 시작된 후, 상기 THF 용액 중 4-브로모벤조트리플루오라이드의 남은 부분을 적가했고, 적가가 끝난 후, 생성된 용액을 30 분 동안 60 ℃ 에서 교반했다. THF (3 mL) 중 6-클로로-N-메톡시-N-메틸니코틴아미드 (990 mg, 5.36 mmol) 의 용액을 별도의 반응 용기에 충전하고, 여기로 얼음 냉각 및 아르곤 기체 흐름 하에서 상기 반응 용액을 적가하였다. 적가 완료 후, 생성된 용액을 30 분 동안 실온에서 교반한 후, 1 시간 동안 가열하여 환류시켰다. 반응 용액을 얼음으로 냉각시킨 후, 수성 염화암모늄 및 물을 첨가했다. 생성된 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 :에틸 아세테이트 = 10 : 1), 610 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
Figure 112007010406990-pct00325
참고예 111
에틸 3-[4-(4-니트로페녹시)페닐]프로피오네이트의 제조
DMF (60 mL) 중 에틸 3-(4-히드록시페닐)프로피오네이트 (6.00 g, 30.9 mmol) 의 용액에 4-플루오로니트로벤젠 (6.54 g, 46.3 mmol) 및 탄산칼륨 (5.12 g, 37.1 mmol) 을 첨가했다. 생성된 반응 용액을 1 시간 동안 80 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 생성된 에틸 아세테이트층을 물 및 이후 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 9.64 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 오일
Figure 112007010406990-pct00327
참고예 111 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00328
Figure 112007010406990-pct00329
Figure 112007010406990-pct00330
Figure 112007010406990-pct00331
Figure 112007010406990-pct00332
Figure 112007010406990-pct00333
Figure 112007010406990-pct00334
Figure 112007010406990-pct00335
Figure 112007010406990-pct00336
Figure 112007010406990-pct00337
Figure 112007010406990-pct00338
Figure 112007010406990-pct00339
Figure 112007010406990-pct00340
Figure 112007010406990-pct00341
Figure 112007010406990-pct00342
Figure 112007010406990-pct00343
Figure 112007010406990-pct00344
Figure 112007010406990-pct00345
참고예 247
4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아민의 제조
메탄올 증 수산화나트륨 (730 mg, 18.25 mmol) 의 용액에 4-아미노페놀 (2.00 g, 18.32 mmol) 을 첨가했다. 생성된 혼합물을 용해시키고, 메탄올을 감압 하에서 증발시켰다. 잔류물에 DMF (20 mL), 및 이후 2-클로로-5-니트로피리딘 (2.91 g, 18.35 mmol) 을 첨가했다. 반응 용액을 1.5 시간 동안 70 ℃ 에서 교반한 후, 감압 하에서 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 생성된 용액을 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 1), 3.37 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 흑-적색 분말
Figure 112007010406990-pct00346
참고예 247 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00347
Figure 112007010406990-pct00348
참고예 254
에틸 3-[4-(3-니트로페녹시)페닐]프로피오네이트의 제조
아르곤 하에서, 피리딘 (15 mL) 중 3-요오도니트로벤젠 (3.00 g, 12.0 mmol) 의 용액에 에틸 3-(4-히드록시페닐)프로피오네이트 (2.81 g, 14.5 mmol), 산화 구리 (3.35 g, 42.2 mmol) 및 탄산칼륨 (4.16 g, 30.1 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 40 시간 동안 가열하여 환류시켰다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물 및 에틸 아세테이트를 잔류물에 첨가하고, 불용성 물질을 여과 제거시킨 후, 여액을 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 1 M 염산, 물 및 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정한 후, 염수로 세정하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 9 : 1 → 6 : 1), 1.12 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 오일
Figure 112007010406990-pct00349
참고예 255
1-(t-부톡시카르보닐)-4-[4-(4-니트로페녹시)페닐]피페라진의 제조
탄산칼륨 (15.7 g, 114 mmol) 을 DMF (80 mL) 중 2-클로로-5-니트로피리딘 (4.50 g, 28.4 mmol) 및 1-(4-히드록시페닐)피페라진 디히드로클로라이드 (7.13 g, 28.4 mmol) 의 용액에 첨가했다. 생성된 용액을 실온에서 8 시간 동안 교반했다. 이 반응 용액에 디-t-부틸 디카보네이트 (6.81 g, 31.2 mmol) 를 첨가하고, 실온에서 2.5 일 동안 교반하였다. 반응 용액에 에틸 아세테이트를 공급하고, 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 3), 7.05 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 침정 (needle)
Figure 112007010406990-pct00350
참고예 256
(에틸{3-메톡시-4-[5-(4-트리플루오로메틸페닐카르바모일)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)아세테이트의 제조
벤질 [에틸 (4-히드록시-3-메톡시페닐)아미노]아세테이트 (9.46 g, 30 mmol) 및 6-클로로-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드 (9.02 g, 30 mmol) 를 DMF (100 mL) 에 용해시켰다. 생성된 용액에 탄산칼륨 (6.22 g, 45 mmol) 을 첨가한 후, 12 시간 동안 120 ℃ 에서 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 물로 추출하였다. 1 M 염산을 이용하여 수성층의 pH 를 3 내지 4 로 조정한 후, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 4.2 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 분말
Figure 112007010406990-pct00351
Figure 112007010406990-pct00352
참고예 257
에틸 메틸 [2,5-디플루오로-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노아세테이트의 제조
DMF (25 mL) 중 에틸 (2,5-디플루오로-4-히드록시페닐)아미노아세테이트 (1.1 g, 4.8 mmol) 의 용액에 중탄산나트륨 (0.44 g, 5.2 mmol) 및 요오드화메틸 (1.69 mL, 28.6 mmol) 을 첨가하고, 생성된 반응 용액을 2 일 동안 실온에서 교반하였다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정한 후, 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 DMF (30 mL) 에 용해시키고, 이 생성된 용액에 탄산칼륨 (0.72 g, 5.2 mmol) 및 2-클로로-5-니트로피리딘 (0.79 g, 5.0 mmol) 을 첨가했다. 반응 용액을 2.5 일 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 이후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 8 : 1), 1.41 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00353
참고예 257 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00354
참고예 260
에틸 4-{3-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일}벤조에이트의 제조
질소 대기 하에서, 에탄올-DMF (70 mL-30 mL) 중 에틸 4-[3-(4-벤질옥시-3-메틸)페닐-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]벤조에이트 (1.82 g, 3.1 mmol) 의 용액에 10 % 팔라듐-탄소 (0.4 g) 를 첨가하고, 생성된 용액을 수소 대기 하에서 4 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성된 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 에탄올을 감압 하에 증발시켜, DMF (30 mL) 용액을 수득하였다. 이 용액에 2-클로로-5-니트로피리딘 (0.52 g, 3.3 mmol) 을 첨가하고, 질소 대기 하에서 14 시간 동안 실온에서, 및 이후 3 시간 동안 40 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 10 : 1), 1.8 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
Figure 112007010406990-pct00355
참고예 261
3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피온산의 제조
DMF (30 mL) 중 2-클로로-5-니트로피리딘 (1.74 g, 11.0 mmol) 및 4-메르캅토히드로신남산 (2.00 g, 11.0 mmol) 의 용액에 탄산칼륨 (4.55 g, 32.9 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 80 ℃ 에서 교반하였다. 반응 용액에 물 및 진한 염산을 첨가한 후, 얼음으로 냉각시켰다. 침전된 고체 물질을 여과에 의해 수거하여, 3.29 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
Figure 112007010406990-pct00356
참고예 262
에틸 3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일아미노)페닐]프로피오네이트의 제조
2-클로로-5-니트로피리딘 (3.11 g, 20 mmol) 에 에틸 3-(4-아미노-3-메톡시페닐)프로피오네이트 (4.38 g, 20 mmol) 및 아세트산 (10 mL) 을 첨가하고, 생성된 용액을 13 시간 동안 100 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 에틸 아세테이트 및 물을 첨가했다. 에틸 아세테이트층을 분리시키고, 염수, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1), 3.78 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
Figure 112007010406990-pct00357
참고예 262 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00358
참고예 267
4-[(5-니트로-2-피리딜)옥시]벤즈알데히드 에틸렌 아세탈의 제조
벤젠 (100 mL) 중 4-[(5-니트로-2-피리딜)옥시]벤즈알데히드 (5.00 g, 20.5 mmol) 의 용액에 에틸렌 글리콜 (2.28 mL, 41.0 mmol) 및 p-톨루엔설폰산 (0.50 g) 을 첨가하고, 생성된 용액을 3 시간 동안 가열 환류시키면서, 딘-스탁 (Dean-Stark) 을 이용해 물을 제거하였다. 반응 용액을 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정하고, 이어서 염수로 세정하였다. 벤젠층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 5.88 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
Figure 112007010406990-pct00359
참고예 267 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 268
4-(2-플루오로-4-니트로페녹시벤즈알데히드 에틸렌 아세탈
Figure 112007010406990-pct00360
참고예 269
t-부틸 [4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]카르바메이트의 제조
THF 중 4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아민 (2.97 g, 12.85 mmol) 의 용액에 디-t-부틸 디카보네이트 (5.60 g, 25.66 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 4 시간 동안 환류 하에 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 생성된 생성물에 디에틸 에테르를 첨가했다. 수득된 백색 분말을 여과하고, 생성된 생성물을 디에틸 에테르로 세정하여, 3.04 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
Figure 112007010406990-pct00361
참고예 270
5-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)벤질리덴]티아졸리딘-2,4-디온의 제조
톨루엔 (35 mL) 중 3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)벤즈알데히드 (600 mg, 2.32 mmol) 의 용액에 2,4-티아졸리딘디온 (270 mg, 2.31 mmol) 및 피페리딘 아세테이트 (135 mg, 0.93 mmol) 를 첨가했다. 생성된 용액을 딘 스탁에 첨부 (attach) 하고, 1.5 시간 동안 환류 하에 교반했다. 17 시간 동안 실온에서 냉각되도록 방치한 후, 침전된 황색 분말을 여과하여, 600 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
Figure 112007010406990-pct00362
Figure 112007010406990-pct00363
참고예 270 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00364
참고예 273
N-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥시에틸]아세트아미드의 제조
DMF (5 mL) 중 N-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]아세트아미드 (0.800 g, 2,76 mmol) 의 용액에 60 % 수소화나트륨 (0.118 g, 2.95 mmol) 을 첨가했다. 생성된 용액을 10 분 동안 실온에서 교반한 후, DMF (4 mL) 중 1-클로로아세틸-4-피페로닐피페라진 (0.870 g, 2.96 mmol) 의 용액을 상기 반응 용액에 첨가했다. 반응 용액을 2 시간 동안 60 ℃ 에서, 이후 1 시간 동안 100 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 5 : 1), 0.730 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00365
참고예 273 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 274
3-(4-벤질옥시-3-메틸페닐)-1-[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]테트라히드로피리미딘-2-온
Figure 112007010406990-pct00366
참고예 275
2-디메틸아미노-N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]아세트아미드의 제조
아세토니트릴 (3 mL) 중 2-클로로-N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]아세트아미드 (0.300 g, 0.528 mmol) 의 용액에 실온에서 디메틸아민 (0.150 mL, 1.63 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 2 시간 동안 50 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1), 0.270 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
Figure 112007010406990-pct00367
참고예 276
메틸 2-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트의 제조
DMF (10 mL) 중 메틸 2-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아세테이트 (0.50 g, 1.7 mmol) 의 용액에 60 % 수소화나트륨 (0.153 g, 3.8 mmol) 및 요오드화메틸 (0.13 mL, 2.1 mmol) 을 첨가하고, 생성된 반응 용액을 1 시간 동안 0 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 포화 수성 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 물 및 포화 수성 염화나트륨으로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 8 : 1), 0.32 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 오일
Figure 112007010406990-pct00368
참고예 277
에틸 3-{3-메톡시-4-[메틸 (5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}프로피오네이트의 제조
DMF (60 mL) 중 에틸 3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일아미노)페닐]프로피오네이트 (3.70 g, 11 mmol) 의 용액에 얼음-냉각 하에서 수소화나트륨 (60 %, 490 mg, 12 mmol) 및 요오드화메틸 (0.77 mL, 12 mmol) 을 첨가하고, 생성된 반응 용액을 점차 실온으로 가온하면서 2 시간 동안 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 물 및 염수로 세정한 후, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시켜, 4.27 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일 물질
Figure 112007010406990-pct00369
참고예 277 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00370
Figure 112007010406990-pct00371
Figure 112007010406990-pct00372
참고예 291
N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)아세트아미드의 제조
(4-피페로닐피페라진-1-일)아세트산 (13.9 g, 50 mmol) 의 용액을 DMF (400 mL) 에 현탁시키고, 생성된 현탁액에 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (8.42 g, 55 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (10.5 g, 55 mmol) 및 4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아민 (11.6 g, 50 mmol) 을 얼음 냉각 하에서 첨가했다. 생성된 용액을 6 시간 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 유기층을 실온에서 하룻밤동안 방치하여 두고, 생성된 침전 결정을 흡입 여과에 의해 수거하여, 12.8 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
Figure 112007010406990-pct00373
참고예 292
에틸 {메탄설포닐[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세테이트의 제조
에틸 [3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐아미노]아세테이트 (2.43 g, 7.00 mmol) 의 용액을 THF (15 mL), 디클로로메탄 (20 mL) 및 DMF (10 mL) 에 용해시키고, 생성된 용액에 트리에틸아민 (1.95 mL, 13.99 mmol), 4-디메틸아미노피리딘 (0.86 g, 7.00 mmol) 및 메탄설포닐 클로라이드 (1.08 mL, 13.99 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가했다. 생성된 용액을 14 시간 동안 30 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 물 및 염수로 세정했다. 디클로로메탄층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 2), 1.10 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00374
참고예 292 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00375
참고예 296
3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-n-프로판올의 제조
THF (50 mL) 중 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피온산 (2.64 g, 9.2 mmol) 의 용액에 1 M 보란-THF 착물 THF 용액 (38.4 mL, 38.4 mmol) 을 얼음 냉각 하에서 적가했다. 반응 용액을 2 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 물 및 이후 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 1), 1.17 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 녹색 오일
Figure 112007010406990-pct00376
참고예 297
2-{4-[3-(t-부틸디메틸실란일옥시)프로필]페녹시}-5-니트로피리딘의 제조
DMF (10 mL) 중 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-n-프로판올 (1.17 g, 4.3 mmol) 의 용액에 이미다졸 (580 mg, 8.5 mmol) 및 t-부틸클로로디메틸실란 (640 mg, 4.2 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 13 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 디에틸 에테르로 추출하고, 디에틸 에테르층을 물 및 이후 염수로 세정했다. 디에틸 에테르층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 1.14 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
Figure 112007010406990-pct00377
참고예 297 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 298
2-{4-[2-(t-부틸디메틸실란일옥시)에틸]페녹시}-5-니트로피리딘
Figure 112007010406990-pct00378
참고예 299
에틸 4-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]부타노에이트의 제조
디클로로메탄 중 4-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]부탄산 (9.98 g, 33.01 mmol) 의 용액에 에탄올 (5.59 mL, 99.01 mmol), 4-디메틸아미노피리딘 (400 mg, 3.27 mmol), 트리에틸아민 (13.81 mL, 99.08 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (7.6 g, 39.65 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가하고, 생성된 용액을 20 분 동안 얼음 냉각 하에서 및 이후 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 1 N 염산, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 6.77 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 오일
Figure 112007010406990-pct00379
참고예 300
메틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피오네이트의 제조
DMF (1 mL) 중 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피온산 (86.0 g, 0.283 mmol) 의 용액에 탄산칼륨 (59.0 mg, 0.424 mmol) 및 요오드화메틸 (0.0260 mL, 0.424 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가한 후, 얼음으로 냉각시켰다. 침전된 고체 물질을 여과에 의해 수거하여 76.9 mg 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 밝은 갈색 분말
Figure 112007010406990-pct00380
Figure 112007010406990-pct00381
참고예 301
에틸 (Z)-3-[4-(5-니트로-2-피리딜옥시)페닐]-2-부테노에이트의 제조
THF (80 mL) 중 60 % 수소화나트륨 (1.28 g, 32.0 mmol) 의 현탁액에 THF (40 mL) 중 트리에틸 포스포노아세테이트 (8.71 g, 38.8 mmol) 의 용액을 얼음 냉각 하에서 적가하고, 생성된 용액을 10 분 동일한 온도에서 교반했다. 반응 용액에 4-[(5-니트로-2-피리딜)옥시]아세토페논 (5.90 g, 22.8 mmol) 을 첨가하고, 생성된 용액을 동일한 온도에서 10 분 동안 교반한 후, 실온에서 60 시간 동안 교반했다. 반응 용액에 포화 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정한 후, 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 5 : 1), 1.17 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 침정
Figure 112007010406990-pct00382
Figure 112007010406990-pct00383
참고예 301 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 302
에틸 (E)-3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}아크릴레이트
융점: 166-167 ℃
Figure 112007010406990-pct00384
참고예 306
에틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-카르보닐)페닐]프로피오네이트의 제조
톨루엔 (7 mL) 중 비스(트리부틸틴) (1.37 g, 2.36 mmol) 의 용액을 아르곤 대기 하에서 2-클로로-5-니트로피리딘 (0.325 g, 2.05 mmol), 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐 (0) (18.1 mg, 0.0315 mmol), 트리(2-푸릴)포스핀 (29.3 mg, 0.126 mmol) 및 분자체 4A (1.90 g) 에 첨가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 가열하여 환류시켰다. 반응 용액에 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐 (0) (27.2 mg, 0.0472 mmol) 및 트리(2-푸릴)포스핀 (43.9 mg, 0.189 mmol) 을 첨가하고, 이어서 톨루엔 (5 mL) 중 4-[2-에톡시카르보닐]에틸]벤조일 클로라이드 (0.379 g, 1.57 mmol) 의 용액을 첨가했다. 생성된 반응 용액을 4 시간 동안 80 ℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 포화 수성 칼륨 플루오라이드를 첨가하고, 0.5 시간 동안 실온에서 교반했다. 이후, 불용성 물질을 여과 제거했다. 여액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 → n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 4 : 1), 0.323 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 분말
Figure 112007010406990-pct00385
참고예 307
에틸 3-[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로피오네이트의 제조
에탄올 (50 mL) 중 5 % 팔라듐-탄소 (0.50 g) 의 현탁액에 에틸 3-[4-(4-니트로페녹시)페닐]프로피오네이트 (5.00 g, 15.9 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 대기압 및 실온에서 촉매 환원시켰다. 수소의 흡수가 중단된 후, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여액을 감압 하에 농축시켜 4.52 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 밝은 갈색 오일
Figure 112007010406990-pct00386
참고예 307 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00387
Figure 112007010406990-pct00388
Figure 112007010406990-pct00389
Figure 112007010406990-pct00390
Figure 112007010406990-pct00391
Figure 112007010406990-pct00392
Figure 112007010406990-pct00393
Figure 112007010406990-pct00394
Figure 112007010406990-pct00395
Figure 112007010406990-pct00396
Figure 112007010406990-pct00397
Figure 112007010406990-pct00398
Figure 112007010406990-pct00399
참고예 404
메틸 3-[(4-히드록시페닐)메틸아미노]프로피오네이트의 제조
메틸 3-[(4-벤질옥시페닐)메틸아미노]프로피오네이트 (27.3 g, 91.1 mmol) 를 에탄올 (300 mL) 에 용해시키고, 생성된 용액을 얼음으로 냉각시키고, 10 % 팔라듐-탄소 (3.0 g) 를 첨가했다. 생성된 용액을 4.5 시간 동안 실온에서 수소 대기 하에서 교반했다. 반응 용액을 셀라이트를 통해 여과하여 불용성 물질을 제거하고, 여액을 감압 하에 농축시켜 19.1 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 적색 오일
Figure 112007010406990-pct00400
참고예 404 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 405
에틸 [아세틸(4-히드록시페닐)아미노]아세테이트
Figure 112007010406990-pct00401
Figure 112007010406990-pct00402
참고예 411
[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐](4-피페로닐피페라진-1-일)메탄온의 제조
[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐](4-피페로닐피페라진-1-일)메탄온 (0.36 g, 0.78 mmol) 을 에탄올 (5 mL) 및 THF (5 mL) 로 이루어진 혼합 용매에 용해시켰다. 생성된 용액에 5 % 백금-탄소 (0.06 g) 를 첨가하고, 실온에서 수소 대기 하에서 교반했다. 2 시간 후, 5 % 백금-탄소를 여과에 의해 제거하고, 용매를 감압 하에서 증발시켜, 0.32 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 담황색 무정형 분말
Figure 112007010406990-pct00403
참고예 411 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 412
4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐아민
Figure 112007010406990-pct00404
참고예 413
3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐아민
Figure 112007010406990-pct00405
Figure 112007010406990-pct00406
참고예 414
2-{[4-(4-아미노페녹시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
Figure 112007010406990-pct00407
참고예 415
2-{[3-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
Figure 112007010406990-pct00408
Figure 112007010406990-pct00409
Figure 112007010406990-pct00410
Figure 112007010406990-pct00411
Figure 112007010406990-pct00412
Figure 112007010406990-pct00413
Figure 112007010406990-pct00414
Figure 112007010406990-pct00415
Figure 112007010406990-pct00416
Figure 112007010406990-pct00417
Figure 112007010406990-pct00418
Figure 112007010406990-pct00419
Figure 112007010406990-pct00420
참고예 488
에틸 [4-(4-아미노-2-플루오로페녹시)페닐술파닐]아세테이트의 제조
에탄올 (100 mL) 중 에틸 [4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐술파닐]아세테이트 (4.93 g, 14.0 mmol) 의 용액에 틴 클로라이드 디히드레이트 (9.50 g, 42.1 mmol) 를 첨가하고, 생성된 용액을 8 시간 동안 50 ℃ 에서 교반했다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 1 M 염산, 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시키고, 증발시켜, 3.45 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 갈색 오일
Figure 112007010406990-pct00421
참고예 488 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 489
2-{알릴[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-플루오로페닐]아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에탄온
Figure 112007010406990-pct00422
참고예 490
(E)-3-[3-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판온
MS 458(M+).
참고예 491
메틸 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피오네이트의 제조
메탄올 (50 mL) 중 메틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일술파닐)페닐]프로피오네이트 (2.97 g, 9.33 mmol) 의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.590 g, 15.6 mmol) 및 10 % 팔라듐-탄소 (1.80 g) 를 첨가하고, 생성된 용액을 24 시간 동안 실온에서 수소 대기 하의 대기압에서 교반하였다. 반응 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 생성된 여액에 진한 염산 (1.5 mL) 을 첨가하고, 감압 하에서 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화 용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트층을 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 2.49 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 분말
Figure 112007010406990-pct00423
참고예 492
에틸 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]아크릴레이트의 제조
메탄올 (100 mL) 중 에틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아크릴레이트 (2.02 g, 6.43 mmol) 의 용액에 아연 (6.3 g, 96.3 mmol) 및 염화암모늄 (710 mg, 13.27 mmol) 을 첨가했다. 생성된 반응 용액을 2.5 시간 동안 환류 하에 교반시킨 후, 아세트산 (5 mL) 을 첨가하고, 20 분 동안 환류 하에 교반시켰다. 불용성 물질을 셀라이트를 통해 여과 제거한 후, 여액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 5 % 황산수소칼륨 (150 mL) 을 첨가하고, 혼합물을 디클로로메탄으로 추출하고, 디클로로메탄층 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 디클로로메탄층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 1.78 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00424
참고예 493
3-(4-(5-아미노-4-메틸피리딘-2-일옥시)페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
3-(4-히드록시페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (0.38 g, 1.0 mmol) 을 DMF (6 mL) 에 용해시켰다. 생성된 용액에 60 % 수소화나트륨 (0.05 g, 1.2 mmol) 및 2-클로로-4-메틸-5-니트로피리딘 (0.196 g, 1.1 mmol) 을 첨가하고,생성된 반응 용액을 하룻밤 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액에 포화 수성 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 물 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트), 중간체 생성물 3-(4-(4-메틸-5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온을 수득했다. 3-(4-(4-메틸-5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온을 에탄올 (4 mL) 및 디옥산 (1 mL) 으로 이루어진 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에 10 % 팔라듐-탄소 (0.034 g) 를 첨가하고, 생성된 용액을 실온 및 대기압에서 8 시간 동안 촉매 환원시켰다. 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1), 0.22 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 약간 황색 오일
Figure 112007010406990-pct00425
참고예 494
에틸 3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오네이트의 제조
3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (3.65 g, 17.4 mmol) 의 용액을 THF (80 mL) 중 에틸 3-[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로피오네이트 (4.52 g, 15.9 mmol) 및 트리에틸아민 (2.65 mL, 19.0 mmol) 의 용액에 얼음 냉각 하에서 적가하고, 생성된 용액을 1 시간 동안 동일한 온도에서 교반하였다. 물을 반응 혼합물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 물-함유 에탄올로부터 재결정하여, 6.67 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 무색 침정
융점: 139-141 ℃
참고예 494 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 495
에틸 3-[4-(5-페녹시카르보닐아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트
MS 406(M+).
Figure 112007010406990-pct00426
Figure 112007010406990-pct00427
Figure 112007010406990-pct00428
Figure 112007010406990-pct00429
Figure 112007010406990-pct00430
Figure 112007010406990-pct00431
Figure 112007010406990-pct00432
Figure 112007010406990-pct00433
Figure 112007010406990-pct00434
Figure 112007010406990-pct00435
참고예 580
에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]-3-메톡시페닐}프로피오네이트의 제조
얼음 냉각 하에서, 디클로로메탄 (30 mL) 중 에틸 3-(4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-메톡시페닐)프로피오네이트 (1.43 g, 4.5 mmol) 의 용액에 피리딘 (0.44 mL, 5.4 mmol) 및 이후 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.99 g, 4.7 mmol) 를 첨가했다. 생성된 용액을 1 시간 동안 얼음 냉각 하에서, 이후 10 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성된 반응 용액에 10 % 염산을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출했다. 디클로로메탄층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물에 디에틸 에테르를 첨가하고, 교반했다. 침전물을 여과에 의해 수거했다. 물 및 디에틸 에테르로 세정한 후, 침전물을 60 ℃ 에서 공기 건조시켜, 0.52 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
Figure 112007010406990-pct00436
참고예 580 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00437
Figure 112007010406990-pct00438
참고예 589
에틸 4-[5-(3,4-디메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤조에이트의 제조
DMF (100 mL) 중 에틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤조에이트 (14.15 g, 54.8 mmol) 의 용액에 3,4-디메틸벤조산 (8.23 g, 54.8 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (8.4 g, 54.8 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (12.6 g, 65.7 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가한 후, 30 분 동안 얼음 냉각 하에서 및 17 시간 동안 실온에서 교반했다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 물 (200 mL) 을 첨가하고, 에틸 아세테이트 (250 mL) 로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화 용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1), 16.15 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 백색 분말
Figure 112007010406990-pct00439
참고예 589 에서와 동일한 방법으로 하기 화합물을 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00440
참고예 592
에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]-3-에톡시페닐}프로피오네이트의 제조
에탄올 (40 mL) 중 에틸 3-[3-에톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (0.82 g, 2.3 mmol) 의 용액에 10 % 팔라듐-탄소 (0.15 g) 를 질소 대기 하에서 첨가하고, 생성된 용액을 수소 대기 하 대기압에서 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 팔라듐-탄소을 여과에 의해 제거하고, 여액을 농축시켰다. 수득된 여액 (0.58 g) 을 디클로로메탄 (30 mL) 에 용해시키고, 생성된 용액에 피리딘 (0.17 mL, 2.1 mmol) 및 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.39 g, 1.84 mmol) 를 얼음 냉각 하에서 첨가했다. 생성된 용액을 얼음 냉각 하에서 1 시간 동안 교반 한 후, 12 시간 동안 실온에서 교반했다. 10 % 염산을 첨가하여 반응 용액을 산성으로 만들고, 디클로로메탄으로 추출했다. 디클로로메탄층을 중탄산나트륨 포화 용액으로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켜, 0.94 g 의 표제 화합물을 수득하였다.
외관: 황색 무정형 분말
Figure 112007010406990-pct00441
참고예 592 에서와 동일한 방법에 따라 하기 화합물을 제조하였다.
참고예 593
N-{6-[4-(3-히드록시프로필)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드
Figure 112007010406990-pct00442
참고예 594
메틸 2-(4-{5-[3-(3,4-디클로로페닐)-우레이도]피리딘-2-일옥시}페닐)아세테이트의 제조
디클로로메탄 (7 mL) 중의 메틸 2-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]아세테이트 (0.44 g, 1.7 mmol) 의 용액에 3,4-디클로로페닐이소시아네이트 (0.353 g, 1.9 mmol) 를 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 디이소프로필 에테르를 첨가하였다. 불용성 물질을 여과에 의해 제거하여, 표제 화합물 0.60 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.63(3H, s), 3.69(2H, s), 6.99-7.05(3H, m), 7.26-7.30(2H, m), 7.35(1H, dd, J = 8.8, 2.4 Hz), 7.52(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.86(1H, d, J = 2.4 Hz), 7.98(1H, dd, J = 8.8, 2.8 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.7 Hz), 8.91(1H, s), 9.10(1H, s).
하기 화합물을 참고예 594 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00443
Figure 112007010406990-pct00444
Figure 112007010406990-pct00445
Figure 112007010406990-pct00446
참고예 606
메틸 3-(4-{5-[3-(4-트리플루오로메틸-페닐)우레이도]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트의 제조
메틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (1.00 g, 3.3 mmol) 를 THF (1 mL) 및 에탄올 (120 mL) 로 이루어진 혼합 용매 중에 용해시켰다. 생성 용액에 10% 팔라듐-탄소 (100 mg) 를 첨가하고, 수소 대기 하에 실온에서 23 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 여과하고, 여과액을 농축시켰다. 잔류물에 THF (20 mL), 트리에틸아민 (0.917 mL, 6.6 mmol) 및 페닐 4-트리플루오로메틸이소시아네이트 (0.61 mL, 4.3 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 20 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 850 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.62-2.68(2H, m), 2.83-2.88(2H, m), 3.60(3H, s), 6.97-7.02(3H, m), 7.24(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.65-7.69(4H, m), 7.99(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.19(1H, d, J = 2.8 Hz), 8.88(1H, s), 9.20(1H, s).
참고예 607
메틸 3-플루오로-4-{5-[(4-트리플루오로메틸-벤질리덴)아미노]피리딘-2-일옥시}벤조에이트의 제조
메틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-플루오로벤조에이트 (2.0 g, 7.63 mmol) 를 메탄올 (50 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 4-트리플루오로메틸벤즈알데히드 (1.04 mL, 7.63 mmol) 를 첨가하고, 6 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 실온으로 냉각시키고, 생성 침전 결정을 석션 여과에 의해 수합하였다. 수합된 결정을 메탄올로 세척하여, 표제 화합물 2.81 g 을 수득하였다.
외관 : 담회색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.89(3H, s), 7.32(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.48-7.54(1H, m), 7.85-7.92(4H, m), 8.01(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.6 Hz), 8.13-8.16(3H, m), 8.86(1H, s).
하기 화합물을 참고예 607 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00447
참고예 612
에틸 4-{5-[1-(4-트리플루오로메틸페닐)-에틸리덴아미노]피리딘-2-일옥시}벤조에이트의 제조
에틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤조에이트 (16.0 g, 62 mmol) 를 톨루엔 (300 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 4-트리플루오로메틸아세토페논 (11.7 g, 62 mmol) 및 (±)-캄포-10-설폰산 (1.08 g, 4.65 mmol) 을 첨가하고, 밤새 환류시켰다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켜, 표제 화합물 26.5 g 을 수득하였다.
외관 : 짙은 녹색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.35-1.41(3H, m), 2.34(3H, s), 4.36(2H, d, J = 7.1 Hz), 7.01-7.31(4H, m), 7.70-7.77(3H, m), 8.01-8.11(4H, m).
참고예 613
메틸 4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질-아미노)피리딘-2-일옥시]벤조에이트의 제조
메틸 4-{5-[(4-트리플루오로메틸벤질리덴)-아미노]피리딘-2-일옥시}벤조에이트 (2.64 g, 6.59 mmol) 를 메탄올 (25 mL) 중에 현탁시키고, 생성 현탁액에 나트륨 보로히드라이드 (1.25 g, 33.0 mmol) 를 서서히 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 3 일 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 물 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 디에틸 에테르로 세척하여, 표제 화합물 2.65 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 3.89(3H, s), 4.16(1H, brs), 4.42(2H, s), 6.84(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.01(1H, dd, J = 8.6 Hz, 3.0 Hz), 7.05(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.49(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.62(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.67(1H, d, J = 3.1 Hz), 8.01(2H, d, J = 8.6 Hz).
하기 화합물을 참고예 613 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00448
참고예 618
에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트의 제조
3,4-디클로로벤즈알데히드 (1.28 g, 7.3 mmol) 의 용액을 에탄올 (20 mL) 중의 에틸 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (2.1 g, 7.3 mmol) 의 용액에 첨가하고, 생성 용액을 40℃ 에서 2 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.55 g, 15.7 mmol) 를 빙냉 하에 첨가하고, 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1), 표제 화합물 2.71 g 을 수득하였다.
외관 : 무색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.24(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.50-2.68(2H, m), 2.81-3.01(2H, m), 3.71-4.20(3H, m), 4.28(2H, s), 6.76(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.88-7.02(3H, m), 7.06-7.23(3H, m), 7.41(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.46(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.60(1H, d, J = 3.0 Hz).
하기 화합물을 참고예 618 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00449
참고예 628
에틸 3-(4-{5-[벤질옥시카르보닐(2-메톡시에틸)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트의 제조
질소 대기 하에, DMF (50 mL) 중의 에틸 3-[4-(5-벤질옥시카르보닐아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로피오네이트 (1.7 g, 4.0 mmol) 의 용액에 60% 수소화나트륨 (0.19 g, 4.9 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하고, 생성 용액을 동일 온도에서 35 분 동안 교반하였다. 2-브로모에틸메틸 에테르 (0.4 mL, 4.2 mmol) 를 용액에 적가하였다. 반응 용액을 빙냉 하에 2 시간 동안 교반한 다음, 실온에서 2 일 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1), 표제 화합물 1.6 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.57-2.70(2H, m), 2.89-3.02(2H, m), 3.52(2H, t, J = 5.4 Hz), 3.79(2H, t, J = 5.4 Hz), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 5.14(2H, brs), 6.87(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.89-7.10(2H, m), 7.11-7.41(7H, m), 7.47-7.69(1H, m), 8.10(1H, brs).
하기 화합물을 참고예 628 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 629
에틸 [(4-{5-[(3,4-디클로로페닐)메틸아미노]피리딘-2-일옥시}-2-트리플루오로메틸페닐)에틸아미노]아세테이트
MS 541(M+).
Figure 112007010406990-pct00450
참고예 636
에틸 3-{4-[5-(2-메톡시에틸아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트의 제조
에탄올-에틸 아세테이트(10 mL - 10 mL) 중의 에틸 3-(4-{5-[벤질옥시카르보닐(2-메톡시에틸)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐}프로피오네이트 (1.82 g, 3.8 mmol) 의 용액에 질소 대기 하에 10% 팔라듐-탄소 (0.2 g) 를 첨가하고, 생성 용액을 대기압에서 수소 대기 하에 3 시간 동안 교반하였다. 팔라듐-탄소를 셀라이트를 통해 여과제거하고, 여과액을 증발시켜 표제 화합물 1.23 g 을 수득하였다.
외관 : 청색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.24(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.55-2.68(2H, m), 2.87-2.98(2H, m), 3.20-3.31(2H, m), 3.56-3.66(2H, m), 4.13(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.77(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.93-7.01(2H, m), 7.03(1H, dd, J = 8.7 Hz, 3.0 Hz), 7.13-7.22(2H, m), 7.66(1H, d, J = 3.0 Hz).
하기 화합물을 참고예 636 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 637
에틸 3-[4-(5-에틸아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-프로피오네이트
1H NMR (CDCl3) δ 1.29-1.32(6H, m), 2.55-2.67(2H, m), 2.87-2.99(2H, m), 3.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 4.13(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.77(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.89-7.02(3H, m), 7.09-7.25(3H, m), 7.63(1H, d, J = 3.0 Hz).
참고예 638
에틸 3-(3-메톡시-4-{5-[메틸-(4-트리플루오로메틸벤질)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)-프로피오네이트의 제조
메탄올 (15 mL) 중 에틸 3-{3-메톡시-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질아미노]피리딘-2-일옥시}페닐}-프로피오네이트 (0.8 g, 1.7 mmol) 의 용액에 37% 포름알데히드 수용액 (0.38 mL, 5.1 mmol) 및 아세트산 (0.1 mL, 1.7 mmol) 을 첨가하였다. 반응 용액을 실온에서 30 분 동안 교반하였다. 그런 후, 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.24 g, 3.4 mmol) 를 빙냉 하에 반응 용액에 첨가하고, 혼합물을 빙냉 하에 40 분 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1), 표제 화합물 0.62 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.52-2.70(2H, m), 2.87-3.02(5H, m), 3.77(3H, s), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 4.40-4.50(2H, m), 6.74-6.86((3H, m), 6.97(1H, d, J = 8.0 Hz), 7.11(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.2 Hz), 7.34(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.57(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.65(1H, d, J = 3.2 Hz).
하기 화합물을 참고예 638 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00451
Figure 112007010406990-pct00452
Figure 112007010406990-pct00453
참고예 656
에틸 3-(4-(5-(3,4-디클로로페닐아미노)피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트의 제조
트리에틸아민 (1.2 mL, 8.4 mmol) 을 디클로로메탄 (24 mL) 중의 에틸 3-(4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트 (1.2 g, 4.2 mmol), 3,4-디클로로페닐보론산 (1.6 g, 8.4 mmol), 무수 아세트산구리 (0.762 g, 4.2 mmol) 및 분자 망 4A (5 g) 의 현탁액에 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 밤새 교반하였다. 생성 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 여과액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 4 : 1) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 1.5 g 을 수득하였다.
외관 : 담갈색 고체
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.60-2.66(2H, m), 2.93-2.99(2H, m), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 5.52(1H, brs), 6.71(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.7 Hz), 6.90(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.97(1H, d, J = 2.7 Hz), 7.04-7.08(2H, m), 7.21-7.26(3H, m), 7.49(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.9 Hz), 8.01(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 656 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 657
에틸 ({4-[5-(3,4-디클로로페닐아미노)피리딘-2-일옥시]-2-트리플루오로메틸페닐}에틸아미노)아세테이트
MS 527(M+).
참고예 658
에틸 4-[3-(4-벤질옥시-3-메틸)페닐-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]벤조에이트의 제조
질소 대기 하에, 디옥산 (5 mL) 중의 1-(4-벤질옥시-3-메틸)페닐테트라히드로피리미딘-2-온 (0.5 g, 1.7 mmol) 의 용액에 요오드와구리 (I) (16 mg, 0.08 mmol) 및 N,N-디메틸글리신 히드로클로라이드 (47 mg, 0.34 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 5 분 동안 교반한 다음, 에틸 4-요오도벤조에이트 (0.39 g, 1.4 mmol) 및 칼륨 (III) 포스페이트 (1.04 g, 4.9 mmol) 를 반응 혼합물에 첨가하였다. 생성 용액을 100℃ 에서 20 시간 동안 교반하고, 그런 후에 생성 용액을 실리카 겔로 부었다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 3 : 1 → 디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 0.43 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.30(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.08-2.22(5H, m), 3.66(2H, t, J = 5.9 Hz), 3.81(2H, t, J = 5.9 Hz), 4.28(2H, q, J = 7.1 Hz), 5.10(2H, s), 6.86-7.14(3H, m), 7.26-7.51(7H, m), 7.82-7.92(2H, m).
참고예 659
에틸 (E)-3-(3-메톡시-4-{5-[2-(4-트리플루오로메틸페닐)비닐]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트의 제조
에틸 3-[4-(5-브로모피리딘-2-일옥시)-3-메톡시페닐]프로피오네이트 (610 mg, 1.6 mmol) 에 4-트리플루오로메틸스티렌 (0.332 mL, 2.2 mmol), 디클로로비스(벤조니트릴)-팔라듐 (II) (33 mg, 0.082 mmol), N,N-디메틸글리신 히드로클로라이드 (17 mg, 0.16 mmol), 아세트산 나트륨 (263 mg, 3.2 mmol) 및 N-메틸피롤리돈 (5 mL) 을 아르곤 대기 하에 첨가하였다. 생성 용액을 아르곤 대기 하에 130℃ 에서 17 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 여과하였다. 여과액을 물로 세척한 다음, 무수 나트륨 술페이트로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 3 : 1), 표제 화합물 500 mg 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.27(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.64-2.69(2H, m), 2.95-3.01(2H, m), 3.76(3H, s), 4.05(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.71-6.88(2H, m), 6.95(1H, d, J = 8.6 Hz), 6.98-7.08(2H, m), 7.11(1H, d, J = 16.5 Hz), 7.56-7.63(4H, m), 7.87-7.91(1H, m), 8.23(1H, d, J = 2.3 Hz).
하기 화합물을 참고예 659 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 660
에틸 3-(4-{5-[(E)-2-(3,4-디클로로페닐)비닐]피리딘-2-일옥시}-3-메톡시페닐)프로피오네이트
1H NMR (CDCl3) δ 1.26(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.63-2.69(2H, m), 2.94-3.00(2H, m), 3.76(3H, s), 4.15(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.81-6.90(3H, m), 6.93(1H, d, J = 8.6 Hz), 6.99(1H, d, J = 15.3 Hz), 7.06(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.27-7.31(1H, m), 7.40(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.82-7.86(1H, m), 8.19(1H, d, J = 2.5 Hz).
참고예 661
에틸 {4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]벤젠설포닐}아세테이트의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중의 에틸 {4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐술파닐}-아세테이트(1.20 g, 2.43 mmol) 의 용액에 m-클로로퍼벤조산 (1.45 g, 6.06 mmol) 을 0℃ 에서 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 메탄올을 첨가하고, 얼마간 교반하였다. 다음, 생성 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산: 에틸 아세테이트= 1 : 1), 표제 화합물 1.28 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.22(3H, t, J = 7.1 Hz), 4.11(2H, s), 4.16(2H, q, J = 7.1 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.19(1H, t, J = 8.7 Hz), 7.30(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.59(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.71(1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.75-7.85(1H, m), 7.86-7.95(3H, m), 7.98(1H, d, J = 2.0 Hz).
참고예 662
메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-술피닐]페닐}프로피오네이트의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중의 메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일술파닐]페닐}프로피오네이트 (1.00 g, 2.17 mmol) 의 용액에 m-클로로퍼벤조산 (0.620 g, 2.60 mmol) 을 0℃ 에서 첨가하였다. 생성 용액을 0℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 메탄올을 첨가하고, 얼마간 교반하였다. 다음, 생성 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 잔류물을 에탄올로부터 3 회 재결정화시켜, 표제 화합물 0.790 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점 : 164-166℃
참고예 663
메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-설포닐]페닐}프로피오네이트의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중의 메틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일술파닐]페닐}-프로피오네이트 (1.00 g, 2.17 mmol) 의 용액에 m-클로로퍼벤조산 (1.29 g, 5.42 mmol) 을 0℃ 에서 첨가하였다. 생성 용액을 0℃ 에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 메탄올을 첨가하고, 얼마간 교반하였다. 다음, 생성 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 잔류물을 에탄올로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 0.890 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점: 165-166 ℃
참고예 664
에틸 {4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]벤젠술페닐}아세테이트의 제조
메탄올 (20 mL) 중의 에틸 {4-[4-(3,4-디클로로-벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐술파닐}아세테이트(0.800 g, 1.61 mmol) 의 용액에 31% 과산화수소 용액 (2.08 mL, 18.5 mmol) 을 첨가하였다. 생성 용액을 16 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 빙냉시키고, 생성 침전 고체를 여과에 의해 수합하여, 표제 화합물 0.651 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.13(3H, t, J = 7.1 Hz), 3.90-4.10(4H, m), 7.14(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.34(1H, t, J = 9.0 Hz), 7.55-7.65(1H, m), 7.72(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.90-8.00(2H, m), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 10.63(1H, s).
참고예 665
에틸 3-(4-{5-[4-(트리플루오로메틸)페닐-카르바모일]피리딘-2-일옥시}페닐)부티레이트의 제조
THF (6 mL) 중의 60% 수소화나트륨 (0.133 g, 3.3 mmol) 의 현탁액에 트리에틸포스포노 아세테이트 (0.53 mL, 2.7 mmol) 를 빙냉 하에 적가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 THF (6 mL) 중의 6-(4-아세틸페녹시)-N-[4-(트리플루오로메틸]페닐]니코틴아미드 (0.53 g, 1.3 mmol) 의 용액을 첨가하고, 생성 용액을 60℃ 에서 10 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 포화 수성 염화암모늄을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 4 : 1) 에 의해 정제하여, 중간 생성물 에틸 3-(4-{5-[4-(트리플루오로메틸)페닐-카르바모일]피리딘-2-일옥시}페닐)-2-부테노에이트 0.57 g 을 수득하였다. 10% 팔라듐-탄소 (0.057 g) 를 에탄올 (8 mL) 및 디옥산 (2 mL) 으로 이루어진 혼합 용매 중에 현탁시키고, 상기 현탁액에 에틸 3-(4-{5-[4-(트리플루오로메틸)페닐카르바모일]피리딘-2-일옥시}페닐)-2-부테노에이트 (0.57 g, 1.2 mmol) 를 첨가하였다. 결과 생성물을 대기압 및 실온에서 촉매 환원시켰다. 일단 수소 흡수가 중지하면, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과액을 감압 하에 농축시켜, 표제 화합물 0.56 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 고체
1H NMR (CDCl3) δ 1.21(3H, t, J = 7.1 Hz), 1.33(3H, d, J = 7.0 Hz), 2.51-2.67(2H, m), 3.28-3.37(1H, m), 4.10(2H, q, J = 7.1 Hz), 7.00(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.07-7.12(2H, m), 7.26-7.31(2H, m), 7.60-7.65(2H, m), 7.73-7.77(2H, m), 7.81(1H, brs), 8.21(1H, dd, J = 8.6, 2.6 Hz), 8.68(1H, d, J = 2.3 Hz).
하기 화합물을 참고예 665 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 666
에틸 2-메틸-3-{4-[5-(4-트리플루오로메틸페닐-카르바모일)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트
MS 472(M+)
참고예 667
3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-히드록시-카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
에탄올 (30 mL) 중의 3,4-디클로로-N-[6-(4-시아노메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 (700 mg, 1.76 mmol) 의 용액에 물 (2 mL), 히드록실아민 (420 mg, 12.71 mmol) 및 탄산칼륨 (1.76 g, 12.73 mmol) 을 첨가하였다. 아르곤 하에, 생성 용액을 환류 하에 4 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1), 표제 화합물 510 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.27(2H, s), 5.41(2H, brs), 7.03(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.05(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.31(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.88(1H, s), 10.53(1H, s).
참고예 668
3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-아세톡시-카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
디옥산 (8 mL) 중의 3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-히드록시카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 (510 mg, 1.18 mmol) 의 용액에 탄산칼륨 (163 mg, 1.18 mmol) 을 첨가하였다. 빙냉 하에 교반하면서, 생성 용액에 아세틸 클로라이드 (0.084 mL, 1.18 mmol) 를 적가하고, 생성 용액을 실온에서 15 분 동안 교반하였다. 반응 용액에 THF (10 mL) 를 첨가한 다음, 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 340 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.05(3H, s), 3.35(2H, s), 6.43(2H, brs), 7.06(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.36(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.47(1H, d, J = 2.5 Hz), 10.54(1H, s).
참고예 669
4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}-4-옥소부티르산의 제조
1,2-디클로로에탄 (25 mL) 중에서 3,4-디클로로-3'-플루오로-4'-페녹시벤즈아닐리드 (5.05 g, 13.4 mmol) 및 숙신산 무수물 (1.48 g, 14.8 mmol) 로 이루어진 현탁액에 염화알루미늄 (6.26 g, 47.0 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하고, 생성 혼합물을 동일 온도에서 5 분 동안 교반한 다음, 실온에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 얼음물에 붓고, 생성 고체를 여과에 의해 수합하였다. 고체에 50% 수성 아세톤 (200 mL) 을 첨가하고, 생성 용액을 0.5 시간 동안 환류시킨 다음, 냉각시켰다. 수득된 고체를 여과에 의해 수합하고, 표제 화합물 6.30 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점 : 205-208℃
참고예 670
에틸 3-{4-[히드록시(5-니트로-2-피리딜)-메틸]페닐}프로피오네이트의 제조
디클로로메탄 (15 mL) 및 에탄올 (15 mL) 중의 에틸 3-[4-(5-니트로피리딘-2-카르보닐)페닐]프로피오네이트 (1.52 g, 4.63 mmol) 의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.175 g, 4.63 mmol) 를 빙냉 하에 첨가하고, 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물을 물 및 에틸 아세테이트 중에 용해시켰다. 상기 용액에 아세트산을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척한 다음,무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 :에틸 아세테이트= 3 : 1), 표제 화합물 0.264 g 을 수득하였다.
외관 : 갈색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.19(3H, t, J = 7.2 Hz), 2.56(2H, t, J = 7.8 Hz), 2.91(2H, t, J = 7.8 Hz), 4.09(2H, q, J = 7.2 Hz), 4.35(1H, brs), 5.84(1H, s), 7.17(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.26(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.46(1H, d, J = 8.7 Hz), 8.40(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.5 Hz), 9.36(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 참고예 670 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 671
t-부틸 4-[2-히드록시-3-(4-히드록시페닐)프로피오닐]-피페라진-1-카르복실레이트
1H NMR (CDCl3) δ 1.47(9H, s), 1.62(1H, brs), 2.85(2H, d, J = 6.0 Hz), 3.00-3.80(8H, m), 4.56(1H, t, J = 6.0 Hz), 5.35(1H, brs), 6.74(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.4 Hz).
참고예 672
에틸 3-(4-{5-[비스(3,4-디클로로벤조일)-아미노]-2-피리딜메틸}페닐)프로피오네이트의 제조
에탄올 (5 mL) 중의 10% 팔라듐-탄소 (27 mg) 의 현탁액에 에틸 3-{4-[히드록시 (5-니트로-2-피리딜)-메틸]페닐}프로피오네이트 (0.264 g, 0.799 mmol) 및 에탄올 (2 mL) 중의 0.5 M 염화수소의 용액을 첨가하고, 생성 용액을 50℃ 에서 대기압에서 촉매 환원시켰다. 일단 수소 흡수가 중지되면, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물을 THF (5 mL) 중에 현탁시키고, 트리에틸아민 (0.267 mL, 2.40 mmol) 을 첨가하였다. 상기 용액에 THF (1 mL) 중의 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.255 g, 0.879 mmol) 의 용액을 빙냉 하에 적가하고, 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 :에틸 아세테이트= 5 : 1), 표제 화합물 0.177 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.20(3H, t, J = 7.2 Hz), 2.56(2H, t, J = 7.8 Hz), 2.89(2H, t, J = 7.8 Hz), 4.09(2H, q, J = 7.2 Hz), 6.99(1H, s), 7.17(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.35(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.42(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.43-7.56(2H, m), 7.63(1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.1 Hz), 7.85-7.94(2H, m), 8.15(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.20-8.32(2H, m), 8.57(1H, d, J = 2.5 Hz).
참고예 673
에틸 3-(4-(5-(N-(4-(트리플루오로메틸)-페닐)술파모일)피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트의 제조
에탄올 (10 mL) 중의 에틸 3-(4-(3-브로모-5-(N-(4-(트리플루오로메틸)페닐)술파모일)피리딘-2-일옥시)페닐)프로피오네이트 (0.41 g, 0.7 mmol) 의 용액에 10% 팔라듐-탄소 (0.041 g) 및 암모늄 포르메이트 (0.226 g, 3.6 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 2 시간 동안 가열환류시켰다. 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과액을 감압 하에 농축시켰다. 다음, 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (n-헥산 :에틸 아세테이트= 4 : 1) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 0.28 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 고체
1H NMR (CDCl3) δ 1.24(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.60-2.66(2H, m), 2.93-2.99(2H, m), 4.14(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.95(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.01-7.05(2H, m), 7.20-7.26(3H, m), 7.50-7.54(3H, m), 8.03(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.59(1H, d, J = 2.6 Hz).
참고예 674
1-(4-메톡시페닐)이미다졸린-2-온의 제조
t-부탄올 (120 mL) 중의 1-(2-클로로에틸)-3-(4-메톡시페닐)우레아 (7.0 g, 30.6 mmol) 의 용액에 칼륨 t-부톡시드 (6.4 g, 57.0 mmol) 를 질소 대기 하에 첨가하였다. 생성 용액을 10 분 동안 교반한 다음, 칼륨 t-부톡시드 (3.0 g, 26.7 mmol) 를 첨가하였다. 상기 용액을 10 분 동안 교반한 다음, 칼륨 t-부톡시드 (4.3 g, 38.3 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 16 시간 동안 교반하였다. pH 를 10% 염산으로 2 내지 3 으로 조정하고, 용매를 감압 하에 증발시켰다. 잔류물에 물 (100 mL) 및 에틸 아세테이트(100 mL) 를 첨가하고, 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 침전물을 여과하고, 디에틸 에테르로 세척한 다음, 감압 하에 건조시켜, 표제 화합물 5.1 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.29-3.44(2H, m), 3.70(3H, s), 3.71-3.88(2H, m), 6.77(1H, s), 6.81-6.95(2H, m), 7.35-7.50(2H, m).
하기 화합물을 참고예 674 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 675
1-(4-벤질옥시-3-메틸페닐)테트라히드로피리미딘-2-온
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.81-1.96(2H, m), 2.16(3H, s), 3.11-3.25(2H, m), 3.51(2H, t, J = 5.6 Hz), 5.09(2H, s), 6.42(1H, s), 6.91(1H, d, J = 8.7 Hz), 6.98(1H, dd, J = 2.6 Hz, 8.7 Hz), 7.04(1H, d, J = 2.6 Hz), 7.28-7.34(1H, m), 7.36-7.41(2H, m), 7.42-7.48(2H, m).
Figure 112007010406990-pct00454
Figure 112007010406990-pct00455
참고예 682
3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피온산의 제조
THF (60 mL) 및 에탄올 (30 mL) 중의 에틸 3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오네이트 (6.00 g, 13.1 mmol) 의 용액에 5 M 수성 수산화나트륨 (3.14 mL, 15.7 mmol) 및 (30 mL) 을 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 빙냉시켰다. 반응 용액에 5 M 염산 (4.0 mL, 20.0 mmol) 및 물 (100 mL) 을 첨가하였다. 수득된 고체를 여과에 의해 수합하고, 물-함유 아세톤으로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 5.60 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
용융점: 188-190 ℃
하기 화합물을 참고예 682 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00456
Figure 112007010406990-pct00457
Figure 112007010406990-pct00458
Figure 112007010406990-pct00459
Figure 112007010406990-pct00460
Figure 112007010406990-pct00461
Figure 112007010406990-pct00462
Figure 112007010406990-pct00463
Figure 112007010406990-pct00464
Figure 112007010406990-pct00465
Figure 112007010406990-pct00466
Figure 112007010406990-pct00467
Figure 112007010406990-pct00468
Figure 112007010406990-pct00469
Figure 112007010406990-pct00470
Figure 112007010406990-pct00471
Figure 112007010406990-pct00472
Figure 112007010406990-pct00473
Figure 112007010406990-pct00474
Figure 112007010406990-pct00475
Figure 112007010406990-pct00476
참고예 857
3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질메틸아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피온산의 제조
에탄올 (30 mL) 중의 에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트 (1.63 g, 3.7 mmol) 의 용액에 37% 수성 포름알데히드 (2.0 mL, 22 mmol) 및 아세트산 (0.21 mL, 3.7 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 다음, 이 용액에 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.46 g, 7.3 mmol) 를 0℃ 에서 첨가하고, 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 이 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 5 : 1), 에틸 3-{4-[5-(3,4-디클로로벤질메틸아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오네이트 1.55 g 을 수득하였다. 이 생성물을 에탄올 (40 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 10% 수성 수산화나트륨 (2.7 mL, 6.7 mmol) 을 첨가하고, 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 다음, 생성 용액을 10% 염산을 첨가하여 산성화시키고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 1.44 g 을 수득하였다.
외관 : 무색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.38-2.60(2H, m), 2.78(2H, t, J = 7.6 Hz), 4.52(2H, s), 6.81-6.92(3H, m), 7.12-7.23(3H, m), 7.28(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.3 Hz), 7.48(1H, d, J = 1.9 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63(1H, d, J = 3.3 Hz), 11.70-12.40(1H, m).
하기 화합물을 참고예 857 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 858
3-(4-{5-[(3,4-디클로로벤질)에틸아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)프로피온산
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.09(3H, t, J = 6.9 Hz), 2.37-2.59(2H, m), 2.64-2.83(2H, m), 3.45(2H, q, J = 6.9 Hz), 4.48(2H, s), 6.82(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.85-6.92(2H, m), 7.12-7.25(4H, m), 7.48(1H, d, J = 1.8 Hz), 7.54-7.61(2H, m), 11.77-12.38(1H, m).
참고예 859
N-[2-(4-포르밀페녹시)-5-피리딜]-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
THF (80 mL) 중의 4-[(5-아미노-2-피리딜)옥시]벤즈알데히드 에틸렌 아세탈 (5.27 g, 20.4 mmol) 및 트리에틸아민 (3.41 mL, 24.5 mmol) 의 용액에 THF (30 mL) 중의 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (4.49 g, 21.4 mmol) 의 용액을 빙냉 하에 적가하였다. 생성 용액을 동일 온도에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물에 80% 아세트산 (55 mL) 을 첨가하고, 상기 혼합물을 1 시간 동안 교반하면서 80℃ 에서 가열하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다, 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 수득된 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 5.63 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 7.05(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.24(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.70(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.1 Hz), 7.82-7.93(3H, m), 7.97(1H, d, J = 2.1 Hz), 8.25(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.7 Hz), 8.29(1H, d, J = 2.7 Hz), 9.96(1H, s).
참고예 860
에틸 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]벤질아미노}아세테이트의 제조
메탄올 (20 mL) 중의 N-[2-(4-포르밀페녹시)-5-피리딜]-3,4-디클로로벤즈아미드 (1.00 g, 2.58 mmol), 글리신 에틸 에스테르 히드로클로라이드 (0.400 g, 2.84 mmol) 및 아세트산 나트륨(0.230 g, 2.84 mmol) 의 용액을 60℃ 에서 30 분 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 빙냉시킨 다음, 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.180 g, 2.84 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 5 M 염산 (2 mL) 을 첨가하고, 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 2), 표제 화합물 0.752 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.27(3H, t, J = 7.1 Hz), 3.43(2H, s), 3.81(2H, s), 4.20(2H, q, J = 7.1 Hz), 6.95(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.09(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.36(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.71(1H, dd, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 7.84(1H, s), 7.98(1H, d, J = 2.1 Hz), 8.18(1H, dd, J = 2.7 Hz, 8.8 Hz), 8.24(1H, d, J = 2.7 Hz).
참고예 861
(아세틸{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]벤질}아미노)아세트산의 제조
디클로로메탄 (5 mL) 중의 에틸 {4-[5-(3,4-디클로로-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질아미노}아세테이트 (0.811 g, 1.59 mmol) 의 용액에 트리에틸아민 (0.332 mL, 2.39 mmol) 및 아세틸 클로라이드 (0.136 mL, 1.91 mmol) 를 실온에서 첨가하였다. 생성 용액을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켜, 잔류물 0.785 g 을 수득하였다. 이 잔류물을 에탄올 (5 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 5 M 수성 수산화나트륨 (0.350 mL, 1.75 mmol) 을 실온에서 첨가하고, 동일 온도에서 14 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 5 M 염산 (0.400 mL) 및 물을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 0.776 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 무정형 분말
1H NMR (375 K 에서 DMSO-d6) δ 2.10(3H, s), 4.02(2H, s), 4.60(2H, s), 7.03(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.11(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.32(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.78(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.97(1H, dd, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 8.10-8.30(2H, m), 8.53(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.23(1H, s).
참고예 862
1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-{메틸-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}-에타논의 제조
DMF (40 mL) 중의 {메틸[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세트산 (0.93 g, 2.9 mmol) 의 용액에 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (0.67 g, 3.5 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.54 g, 3.5 mmol),및 1-피페로닐피페라진 (0.68 g, 3.08 mmol) 을 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 질소 대기 하에 15 시간 동안 교반하였다. 생성 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척한 다음, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 2 : 1 → 디클로로메탄 : 메탄올 = 100 : 1), 표제 화합물 1.2 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 분말
용융점: 142-143℃
하기 화합물을 참고예 862 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00477
Figure 112007010406990-pct00478
Figure 112007010406990-pct00479
Figure 112007010406990-pct00480
Figure 112007010406990-pct00481
Figure 112007010406990-pct00482
Figure 112007010406990-pct00483
참고예 909
(4-벤질피페라진-1-일){4-[메틸(5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}메타논의 제조
DMF (15 mL) 중의 4-[메틸-(5-니트로피리딘-2-일)아미노]벤조산 (0.800 g, 2.93 mmol) 및 1-벤질피페라진 (0.542 g, 3.08 mmol) 의 용액에 트리에틸아민 (1.02 mL, 7.32 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.593 mL, 3.52 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 3 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트), 표제 화합물 1.25 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.25-2.65(4H, m), 3.49(2H, brs), 3.56(2H, s), 3.57(3H, s), 3.81(2H, brs), 6.43(1H, d, J = 9.5 Hz), 7.25-7.35(7H, m), 7.53(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.06(1H, dd, J = 2.8 Hz, 9.5 Hz), 9.12(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 909 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00484
참고예 913
N-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-N-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]아세트아미드의 제조
에탄올 (50 mL) 중의 에틸 {아세틸 [4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}아세테이트 (2.30 g, 6.40 mmol) 의 용액에 5 M 수성 수산화나트륨 (1.92 mL, 9.60 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 30 분 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 5 M 염산 (2 mL) 및 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시키고, 수득된 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 1), 오일 1.68 g 을 수득하였다. DMF (10 mL) 중의 상기 오일의 용액에 1-피페로닐피페라진 (1.29 g, 5.86 mmol), 트리에틸아민 (1.85 mL, 13.3 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (1.07 mL, 6.36 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1), 표제 화합물 2.21 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.98(3H, s), 2.40-2.50(4H, m), 3.40-3.45(4H, m), 3.62(2H, brs), 4.48(2H, s), 5.94(2H, s), 6.70-6.76(2H, m), 6.85(1H, s), 7.09(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.20(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.51(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.51(1H, dd, J = 2.8 Hz, 9.1 Hz), 9.04(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 913 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00485
참고예 916
3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
3-[3-메톡시-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]프로피온산 (3.18 g, 10 mmol) 을 디클로로메탄 (30 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 염화티오닐 (0.88 mL, 12 mmol) 및 DMF (1 방울) 를 첨가하고, 2 시간 동안 환류시켰다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물을 디클로로메탄 (20 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 트리에틸아민 (1.67 mL, 12 mmol) 및 디클로로메탄 (30 mL) 중의 1-피페로닐피페라진 (2.20 g, 10 mmol) 의 용액을 빙냉 하에 첨가하고, 상기 생성 용액을 0℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 물 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 4.95 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.33-2.42(4H, m), 2.63-2.69(2H, m), 2.97-3.03(2H, m), 3.42(4H, brs), 3.62-3.66(2H, m), 3.74(3H, s), 5.95(2H, s), 6.73-6.75(2H, m), 6.85-6.90(3H, m), 7.04(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.06(1H, d, J = 7.9 Hz), 8.45(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 9.01(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 916 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 917
6-클로로-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ7.74(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.76(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.00(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.38(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.5 Hz), 8.97(1H, d, J = 2.5 Hz), 10.80(1H, brs).
참고예 918
3-{3-메톡시-4-[메틸(5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
에탄올 (80 mL) 중의 에틸 3-{3-메톡시-4-[메틸-(5-니트로피리딘-2-일)아미노]페닐}프로피오네이트 (3.85 g, 11 mmol) 의 용액에 2 N 수성 수산화나트륨 (6.4 mL, 13 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2.5 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 6 N 염산 (2.2 mL, 13 mmol) 을 첨가하고, 용매를 감압 하에 제거하였다. 잔류물에 THF (80 mL) 및 N,N'-카르보닐디이미다졸 (2.08 g, 13 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 3 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액에 1-피페로닐피페라진 (2.60 g, 12 mmol) 및 DMF (40 mL) 를 첨가하고, 실온에서 21 시간 동안 교반하였다. 용매를 감압 하에 증발시키고, 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (에틸 아세테이트), 표제 화합물 4.59 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.36-2.43(4H, m), 2.64-2.70(2H, m), 2.99-3.05(2H, m), 3.42-3.46(7H, m), 3.63-3.67(2H, m), 3.77(3H, s), 5.95(2H, s), 6.12(1H, brd, J = 9.1 Hz), 6.70-6.77(2H, m), 6.85-6.90(3H, m), 7.12(1H, d, J = 8.1 Hz), 7.97-8.01(1H, m), 9.11(1H, d, J = 2.6 Hz).
참고예 919
5-{메틸[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}-2-(5-니트로피리딘-2-일옥시)-벤조니트릴의 제조
디클로로메탄 (12 mL) 중의 t-부틸 2-((3-시아노-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)(메틸)아미노)아세테이트 (1.2 g, 3.1 mmol) 의 용액에 트리플루오로아세트산 (12 mL) 을 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 5 시간 동안 교반하였다. 용매를 증발시키고, 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜, 미정제 2-((3-시아노-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐)(메틸)아미노)-아세트산을 수득하였다. DMF (24 mL) 중의 상기 화합물의 용액에 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)-카르보디이미드 히드로클로라이드 (659 mg, 3.4 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (526 mg, 3.4 mmol) 및 1-피페로닐피페라진 (757 mg, 3.4 mmol) 을 첨가하고, 생성 반응 용액을 실온에서 8 시간 동안 교반하였다. 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 다음, 에틸 아세테이트층을 순서대로, 포화 수성 중탄산나트륨 용액, 물 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (에틸 아세테이트) 에 의해 정제하여, 표제 화합물 412 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.40-2.55(4H, m), 3.09(3H, s), 3.45-3.50(4H, m), 3.55-3.70(2H, m), 4.14(2H, s), 5.95(2H, s), 6.70-6.80(2H, m), 6.80-6.95(3H, m), 7.10-7.20(2H, m), 8.50(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 8.99(1H, d, J = 2.8 Hz).
참고예 920
2-{(2,3-디플루오로-4-t-부톡시카르보닐-아미노)페녹시}-5-니트로피리딘의 제조
t-부탄올 (50 mL) 중의 {2,3-디플루오로-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)}벤조산 (1.22 g, 4.1 mmol) 의 용액에 디페닐포스포릴아지드 (0.98 mL, 4.5 mmol) 및 트리에틸아민 (0.63 mL, 4.5 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 질소 대기 하에 4 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 6 : 1), 표제 화합물 1.2 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.54(9H, s), 6.59-6.78(1H, m), 6.90-7.04(1H, m), 7.13(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.84-8.02(1H, m), 8.51(1H, dd, J = 2.8 Hz, 9.0 Hz), 8.99(1H, d, J = 2.8 Hz).
참고예 921
3,4-디클로로-N-[3-플루오로-4-(4-포르밀페녹시)페닐]벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-[4-(4-[1,3]디옥솔란-2-일페녹시)-3-플루오로페닐]벤즈아미드 (17.4 g, 38.9 mmol) 를 80% 아세트산에 첨가하고, 생성 용액을 80℃ 에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 여기서 수득된 잔류물을 80% 에탄올로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 12.8 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.13(2H, d, J = 8.6 Hz), 3.40(1H, t, J = 9.0 Hz), 7.63(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.85(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.90-8.00(4H, m), 8.22(1H, d, J = 1.9 Hz), 9.93(1H, s), 10.67(1H, s).
참고예 922
N-[6-(4-아미노페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드의 제조
t-부틸 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}카르바메이트 (4.31 g, 9.09 mmol) 를 클로로포름-메탄올-에틸 아세테이트의 혼합 용액 중에 용해시켰다. 생성 용액을 부피 약 20 mL 로 농축시켰다. 잔류 용액에 에틸 아세테이트(70 mL) 중의 4 N 염화수소 용액을 첨가하고, 실온에서 2 시간 동안 놔두어서 냉각시켰다. 침전된 백색 분말을 여과하고, 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 4.04 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 5.20(2H, brs), 7.14(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.25(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.42(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.24(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.6 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.51(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.65(1H, s).
하기 화합물을 참고예 922 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00486
참고예 926
4-(테트라히드로피란-2-일옥시)벤질아민의 제조
THF (200 mL) 중의 리튬 알루미늄 히드라이드 (2.66 g, 70 mmol) 의 용액에 THF (70 mL) 중의 4-(테트라히드로피란-2-일옥시)벤조니트릴의 용액을 빙냉 하에 적가하였다. 다음, 생성 용액을 1 시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 다시 빙냉시킨 다음, 상기 용액에 순서대로, 물 (2.66 mL), 1 N 수성 수산화나트륨 (2.66 mL) 및 물 (7.98 mL) 을 적가하였다. 불용성 물질을 여과에 의해 제거하였다. 여과액을 감압 하에 농축시키고, 그런 후에 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (클로로포름 : 메탄올 = 7 : 1), 표제 화합물 11.41 g 을 수득하였다.
외관 : 무색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.56(2H, s), 1.45-1.78(3H, m), 1.78-2.12(3H, m), 3.53-3.66(1H, m), 3.80(2H, s), 3.84-3.99(1H, m), 5.41(1H, t, J = 3.2 Hz), 7.02(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.22(2H, d, J = 8.7 Hz).
참고예 927
4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐아민 히드로클로라이드의 제조
N-[4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]-아세트아미드 (1.00 g, 3.45 mmol) 를 6 M 염산 (10 mL) 에 첨가하고, 생성 용액을 2 시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켜, 표제 화합물 0.910 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.40-4.00(2H, m), 7.18(1H, t, J = 8.7 Hz), 7.24(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.32(2H, d, J = 8.9 Hz), 8.10(1H, ddd, J = 1.4 Hz, 2.6 Hz, 8.9 Hz), 8.35(1H, dd, J = 2.6 Hz, 10.8 Hz).
참고예 928
{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}카르바메이트 페닐 에스테르의 제조
THF (20 mL) 중의 N-[6-(4-아미노페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드 (700 mg, 1.57 mmol) 의 현탁액에 트리에틸아민 (1.1 mL, 7.89 mmol) 을 첨가하였다. 다음, 생성 용액에 페닐 클로로카보네이트 (0.39 mL, 3.14 mmol) 를 빙냉 하에 적가하였다. 생성 반응 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시키고, 이때 잔류물이 분말로 고체화되었다. 분말을 여과하고, 디에틸 에테르로 세척하여, 표제 화합물 470 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.11(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.19-7.31(3H, m), 7.38-7.49(2H, m), 7.53(2H, d, J = 8.0 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.2 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.47(1H, d, J = 2.2 Hz), 10.26(1H, s), 10.54(1H, s).
하기 화합물을 참고예 928 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00487
참고예 932
4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 [4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)페닐]아미드의 제조
DMF (15 mL) 중의 [4-(2-플루오로-4-니트로페녹시)-페닐] 카르바메이트 페닐 에스테르 (0.700 g, 1.90 mmol) 의 용액에 1-피페로닐피페라진 (0.460 g, 2.09 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 0.939 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.30-2.40(4H, m), 3.35-3.50(6H, m), 6.00(2H, s), 6.70-6.90(2H, m), 7.00-7.15(2H, m), 7.55(2H, d, J = 9.1 Hz), 8.05-8.10(1H, m), 8.30(1H, dd, J = 2.8 Hz, 10.9 Hz), 9.31(1H, s).
하기 화합물을 참고예 932 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 933
에틸 3-(4-{5-[3-(3,4-디클로로페닐)-3-에틸우레이도]-피리딘-2-일옥시}페닐)프로피오네이트
MS 501(M+).
Figure 112007010406990-pct00488
참고예 936
4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 4-히드록시벤질아미드의 제조
메탄올 (50 mL) 중의 4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 4-(테트라히드로피란-2-일옥시)벤질아미드 (1.1 g, 2.43 mmol) 의 용액에 p-톨루엔설폰산 모노히드레이트 (1.0 g, 5.26 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜, 표제 화합물 330 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.41(4H, t, J = 5.0 Hz), 3.37(4H, t, J = 5.0 Hz), 3.42(2H, s), 4.32(2H, d, J = 5.2 Hz), 4.68(1H, t, J = 5.2 Hz), 5.94(2H, s), 6.15(1H, brs), 6.70-6.80(2H, m), 6.75(2H, d, J = 8.6 Hz), 6.84(1H, s), 7.13(2H, d, J = 8.6 Hz).
하기 화합물을 참고예 936 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 937
4-벤질피페라진-1-카르복실산 (4-히드록시페닐)메틸아미드 히드로클로라이드
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.69-2.91(2H, m), 3.03(3H, s), 2.92-3.23(4H, m), 3.68(2H, d, J = 13.7 Hz), 4.26(2H, s), 6.75(2H, d, J = 8.7 Hz), 6.98(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.45(3H, brs), 7.54(2H, brs), 9.52(1H, s).
참고예 938
3,4-디클로로-N-{6-[4-(3-히드록시프로필)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
2-{4-[3-(t-부틸디메틸실라닐옥시)프로필]페녹시}-5-니트로피리딘 (950 mg, 1.8 mmol) 에 아세트산 (10 mL) 및 물 (5 mL) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 생성 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 520 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 각주형
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.70-1.78(2H, m), 2.59-2.65(2H, m), 3.32-3.47(2H, m), 4.46-4.49(1H, m), 7.00-7.05(3H, m), 7.23(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.16-8.22(2H, m), 8.48(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.54(1H, s).
하기 화합물을 참고예 938 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 939
3,4-디클로로-N-{6-[4-(2-히드록시에틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.73(2H, t, J = 6.9 Hz), 3.59-3.66(2H, m), 4.65(1H, t, J = 5.3 Hz), 7.00-7.06(3H, m), 7.25(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.16-8.23(2H, m), 8.47(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.54(1H, s).
참고예 940
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-히드록시펜틸)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
THF (140 mL) 중의 에틸 5-{4-[5-(3,4-디클로로-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}펜타노에이트 (8.79 g, 18.0 mmol) 의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (3.14 g, 144 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 질소 대기 하에 3 시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 빙냉시키고, 1 N 염산으로 처리하였다. 생성 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 2), 표제 화합물 7.07 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.25-1.75(7H, m), 2.62(2H, t, J = 7.6 Hz), 3.65(2H, t, J = 6.6 Hz), 6.92(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.02(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.19(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.56(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.69(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 7.93(1H, s), 7.97(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.15(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 참고예 940 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00489
Figure 112007010406990-pct00490
참고예 948
4-시아노-N-[6-(4-히드록시메틸페녹시)-피리딘-3-일]벤즈아미드의 제조
THF (20 mL) 중의 4-[5-(4-시아노벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]벤조산 (1.80 g, 5.01 mmol) 의 현탁액을 빙-식염 (ice-common salt) 으로 냉각시키고, 상기 용액에 트리에틸아민 (0.77 mL, 5.51 mmol) 을 첨가한 다음, 에틸 클로르포르메이트 (0.53 mL, 5.51 mmol) 를 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 교반하였다. 30 분 후, 반응 용액을 여과하고, 불용성 물질을 제거하였다. 생성 여과액을 80% 메탄올 (40 mL) 중의 나트륨 보로히드라이드 (0.95 g, 25.05 mmol) 의 수용액에 빙냉 하에 교반하면서 부었다. 실온에서 30 분 동안 교반한 후에, 물 (200 mL) 을 반응 용액에 첨가하였다. 수득된 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다 (200 mL). 에틸 아세테이트층을 염수로 세척하고, 무수 나트륨 술페이트로 건조시키고, 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트-n-헥산의 혼합 용액으로부터 재결정화시켜, 표제 화합물 1.26 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 4.50(2H, d, J = 5.3 Hz), 5.19(1H, t, J = 5.6 Hz), 7.04-7.09(3H, m), 7.35(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.04(2H, d, J = 8.9 Hz), 8.12(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.21(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.3 Hz), 11.63(1H, s).
하기 화합물을 참고예 948 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 949
4-클로로-N-[6-(4-히드록시메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ 4.50(2H, d, J = 5.3 Hz), 5.18(1H, t, J = 5.6 Hz), 7.03-7.08(3H, m), 7.35(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.63(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.00(2H, d, J = 8.6 Hz), 8.20(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.48(1H, d, J = 2.3 Hz), 10.46(1H, s).
Figure 112007010406990-pct00491
참고예 955
2-[4-(1-브로모에틸)페녹시]-5-니트로피리딘의 제조
2-(4-에틸페녹시)-5-니트로피리딘 (7.33 g, 30 mmol) 을 사염화탄소 (100 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 N-브로모숙신이미드 (5.34 g, 30 mmol) 및 벤조일 퍼옥시드 (0.73 g, 3 mmol) 를 첨가하였다. 상기 용액을 질소 대기 하에 밤새 환류시켰다. 반응 용액을 냉각되도록 놔두고, 그런 후에 불용성 물질을 여과에 의해 제거하였다. 생성 여과액을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 10 : 1), 표제 화합물 1.34 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.08(3H, d, J = 6.9 Hz), 5.26(1H, q, J = 6.9 Hz), 7.05(1H, d, J = 9.1 Hz), 7.15(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.53(2H, d, J = 8.7 Hz), 8.49(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 9.04(1H, d, J = 2.8 Hz).
참고예 956
N-[6-(4-클로로메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
디클로로메탄 (90 mL) 중의 N-[6-(4-히드록시메틸페녹시)-피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (3.06 g, 7.9 mmol) 의 용액에 염화티오닐 (1.7 mL, 23.3 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 4 시간 동안 교반하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 디에틸 에테르로 세척하여, 표제 화합물 2.95 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 4.61(2H, s), 7.00(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.11-7.14(2H, m), 7.41-7.44(2H, m), 7.77(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.89(1H, brs), 8.00(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.22-8.28(2H, m).
하기 화합물을 참고예 956 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 957
3,4-디클로로-N-[4-(4-클로로메틸페녹시)-3-플루오로페닐]벤즈아미드
1H NMR (CDCl3) δ 4.58(2H, s), 6.95(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.10(1H, t, J = 8.6 Hz), 7.20-7.30(1H, m), 7.30-7.40(3H, m), 7.59(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.65-7.78(2H, m), 7.96(1H, d, J = 2.1 Hz).
Figure 112007010406990-pct00492
참고예 963
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-클로로펜틸)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 히드로클로라이드의 제조
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-히드록시펜틸)-페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 (6.83 g, 15.34 mmol) 에 염화티오닐 (35 mL) 를 첨가하였다. 생성 용액을 실온에서 20 분 동안 교반하고, 이어서 50℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 과량의 염화티오닐을 증발시키고, 그런 후에 생성 잔류물에 에틸 아세테이트 (100 mL) 를 첨가하였다. 수득된 백색 분말을 여과하고, 에틸 아세테이트로 세척하여, 표제 화합물 6.98 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.33-1.50(2H, m), 1.50-1.68(2H, m), 1.68-1.85(2H, m), 2.59(2H, t, J = 7.6 Hz), 3.64(2H, t, J = 6.6 Hz), 7.02(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.03(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.23(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.83(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.20(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.50(1H, d, J = 2.5 Hz), 10.63(1H, s).
하기 화합물을 참고예 963 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00493
참고예 968
N-{6-[4-(2-브로모아세틸)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-아세틸페녹시)피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드 (4.0 g, 10 mmol) 를 클로로포름 (200 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 브롬화구리 (5.76 g, 25 mmol) 를 첨가하고, 밤새 환류시켰다. 생성 반응 용액을 여과하고, 여과액을 나트륨 티오술페이트 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 전 단계로부터 여과된 생성물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 나트륨 티오술페이트 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 수합하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 3 : 1), 표제 화합물 1.86 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 4.43(2H, s), 7.06(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.21(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.72(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 7.99(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.03(2H, d, J = 8.9 Hz), 8.09(1H, brs), 8.27(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.8 Hz), 8.32(1H, d, J = 2.2 Hz).
하기 화합물을 참고예 968 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 969
N-{4-[4-(2-브로모아세틸)페녹시]-3-플루오로페닐}-3,4-디클로로벤즈아미드
1H NMR (DMSO-D6) δ 4.88(2H, s), 7.06(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.30-7.50(1H, m), 7.60-7.70(1H, m), 7.80-8.20(5H, m), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 10.67(1H, brs).
참고예 970
4'-[4-(3-브로모프로필)페녹시]-3,4-디클로로-3'-플루오로벤즈아닐리드의 제조
디클로로메탄 (46 mL) 중의 3,4-디클로로-3'-플루오로-4'-[4-(3-히드록시프로필)페녹시]벤즈아닐리드 (2.32 g, 5.34 mmol) 의 현탁액에 사브롬화탄소 (2.13 g, 6.41 mmol) 및 트리페닐포스핀 (1.54 g, 5.88 mmol) 을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 12 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 5 : 1), 표제 화합물 2.41 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.08-2.11(2H, m), 2.73(2H, t, J = 7.3 Hz), 3.38(2H, t, J = 6.5 Hz), 6.88(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.02(1H, dd, J = 9.0 Hz, 8.0 Hz), 7.13(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.17-7.28(1H, m), 7.54(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.60-7.74(2H, m), 7.85(1H, brs), 7.93(1H, d, J = 2.0 Hz).
하기 화합물을 참고예 970 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00494
참고예 973
t-부틸 4-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)벤질]피페라진-1-카르복실레이트의 제조
DMF (120 mL) 중의 2-(4-클로로메틸페녹시)-5-니트로피리딘 (12.32 g, 47 mmol) 의 용액에 트리에틸아민 (19.4 mL, 140 mmol) 및 t-부틸 피페라진-1-카르복실레이트 (11.27 g, 61 mmol) 를 첨가하고, 생성 용액을 50℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 물 및 염수로 세척하였다. 에틸 아세테이트층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 1), 표제 화합물 11.26 g 을 수득하였다.
외관 : 황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.46(9H, s), 2.40-2.44(4H, m), 3.43-3.46(4H, m), 3.54(2H, s), 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.09-7.14(2H, m), 7.38-7.44(2H, m), 8.48(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 9.05(1H, d, J = 2.8 Hz).
하기 화합물을 참고예 973 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 974
4-{1-[4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]에틸}모르폴린
1H NMR (CDCl3) δ 1.38(3H, d, J = 6.8 Hz), 2.36-2.54(4H, m), 3.37(1H, q, J = 6.8 Hz), 3.69-3.72(4H, m), 7.02(1H, dd, J = 9.1 Hz, 0.5 Hz), 7.11(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.40(2H, d, J = 8.5 Hz), 8.47(1H, dd, J = 9.1 Hz, 2.8 Hz), 9.06(1H, dd, J = 2.8 Hz, 0.5 Hz).
참고예 975
메탄설폰산 6-(4-니트로페녹시)-피리딘-3-일메틸 에스테르의 제조
[6-(4-니트로페녹시)피리딘-3-일]메탄올 (6.1 g, 24.8 mmol) 을 디클로로메탄 (150 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 트리에틸아민 (4.15 mL, 29.8 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하였다. 생성 용액에 메탄설폰산 클로라이드 (2.11 mL, 27.3 mmol) 를 적가한 다음, 질소 대기 하에 0℃ 에서 30 분 동안 교반하였다. 반응 용액을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물에 n-헥산 : 에틸 아세테이트= 1 : 1 의 혼합 용매 (50 mL) 를 첨가하였다. 침전된 결정을 석션 여과에 의해 제거하고, 표제 화합물 7.9 g 을 수득하였다.
외관 : 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 3.04(3H, s), 5.23(2H, s), 7.09(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.29(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.88(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.23(1H, d, J = 2.3 Hz), 8.28(2H, d, J = 9.1 Hz).
하기 화합물을 참고예 975 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00495
참고예 978
2-(4-니트로페녹시)-5-(4-트리플루오로메틸-페녹시메틸)피리딘의 제조
메탄설폰산 6-(4-니트로페녹시)-피리딘-3-일메틸 에스테르 (4.86 g, 15 mmol) 를 DMF (250 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 4-히드록시벤조트리플루오라이드 (2.92 g, 18 mmol) 및 탄산칼륨 (3.11 g, 22.5 mmol) 을 첨가하였다. 생성 용액을 질소 대기 하에 50℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (디클로로메탄 : 메탄올 = 80 : 1), 표제 화합물 5.8 g 을 수득하였다.
외관 : 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 5.09(2H, s), 7.02-7.10(3H, m), 7.26-7.31(2H, m), 7.56-7.59(2H, m), 7.88(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.25-8.31(3H, m).
하기 화합물을 참고예 978 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
참고예 979
2-(2-메틸-4-니트로페녹시)-5-(4-트리플루오로메틸-페녹시메틸)피리딘
1H NMR (CDCl3) δ 2.31(3H, s), 5.07(2H, s), 7.03(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.08(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.17(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.57(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.87(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.10(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.21(1H, d, J = 2.5 Hz).
실시예 1
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)-페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
DMF (30 mL) 중의 4-[5-(4-트리플루오로메틸-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤조산 (1.19 g, 2.3 mmol) 의 용액에 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (530 mg, 2.8 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (370 mg, 2.7 mmol) 및 벤질피페라진 (0.475 mL, 2.7 mmol) 을 빙냉 하에 첨가하였다. 생성 용액을 1 일 동안 실온으로 점차 데우면서 교반하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 19), 표제 화합물 800 mg 을 수득하였다.
외관 : 백색 침정
1H NMR (CDCl3) δ 2.46(4H, brs), 3.55(2H, s), 3.72(4H, brs), 6.96(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.10-7.13(2H, m), 7.28-7.40(7H, m), 7.74(2H, d, J = 8.3 Hz), 8.02(2H, d, J = 8.3 Hz), 8.16-8.21(1H, m), 8.32(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.53(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00496
Figure 112007010406990-pct00497
Figure 112007010406990-pct00498
Figure 112007010406990-pct00499
Figure 112007010406990-pct00500
Figure 112007010406990-pct00501
Figure 112007010406990-pct00502
Figure 112007010406990-pct00503
Figure 112007010406990-pct00504
Figure 112007010406990-pct00505
Figure 112007010406990-pct00506
Figure 112007010406990-pct00507
Figure 112007010406990-pct00508
Figure 112007010406990-pct00509
Figure 112007010406990-pct00510
Figure 112007010406990-pct00511
Figure 112007010406990-pct00512
Figure 112007010406990-pct00514
Figure 112007010406990-pct00515
Figure 112007010406990-pct00516
Figure 112007010406990-pct00517
Figure 112007010406990-pct00518
Figure 112007010406990-pct00519
Figure 112007010406990-pct00520
Figure 112007010406990-pct00521
Figure 112007010406990-pct00522
Figure 112007010406990-pct00523
Figure 112007010406990-pct00524
Figure 112007010406990-pct00525
Figure 112007010406990-pct00526
Figure 112007010406990-pct00527
Figure 112007010406990-pct00528
Figure 112007010406990-pct00529
Figure 112007010406990-pct00530
Figure 112007010406990-pct00531
Figure 112007010406990-pct00532
Figure 112007010406990-pct00533
Figure 112007010406990-pct00534
Figure 112007010406990-pct00535
Figure 112007010406990-pct00536
Figure 112007010406990-pct00537
Figure 112007010406990-pct00538
Figure 112007010406990-pct00539
Figure 112007010406990-pct00540
Figure 112007010406990-pct00541
Figure 112007010406990-pct00542
Figure 112007010406990-pct00543
Figure 112007010406990-pct00544
Figure 112007010406990-pct00545
Figure 112007010406990-pct00546
Figure 112007010406990-pct00547
Figure 112007010406990-pct00548
Figure 112007010406990-pct00549
Figure 112007010406990-pct00550
Figure 112007010406990-pct00551
Figure 112007010406990-pct00552
Figure 112007010406990-pct00553
Figure 112007010406990-pct00554
Figure 112007010406990-pct00555
Figure 112007010406990-pct00556
Figure 112007010406990-pct00557
Figure 112007010406990-pct00558
Figure 112007010406990-pct00559
Figure 112007010406990-pct00560
Figure 112007010406990-pct00561
Figure 112007010406990-pct00562
Figure 112007010406990-pct00563
Figure 112007010406990-pct00564
Figure 112007010406990-pct00565
Figure 112007010406990-pct00566
Figure 112007010406990-pct00567
Figure 112007010406990-pct00568
Figure 112007010406990-pct00569
Figure 112007010406990-pct00570
Figure 112007010406990-pct00571
Figure 112007010406990-pct00572
Figure 112007010406990-pct00573
Figure 112007010406990-pct00574
Figure 112007010406990-pct00575
Figure 112007010406990-pct00576
Figure 112007010406990-pct00577
Figure 112007010406990-pct00578
Figure 112007010406990-pct00579
Figure 112007010406990-pct00580
Figure 112007010406990-pct00581
Figure 112007010406990-pct00582
Figure 112007010406990-pct00583
Figure 112007010406990-pct00584
하기 화합물을 참고예 918 에서와 동일한 방법으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00585
Figure 112007010406990-pct00586
Figure 112007010406990-pct00587
Figure 112007010406990-pct00588
Figure 112007010406990-pct00589
Figure 112007010406990-pct00590
실시예 950
3,4-디클로로-N-{6-[4-(4-펜에틸피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
THF (10 mL) 중 에틸 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤조에이트 (690 mg, 2.7 mmol)의 용액에, 트리에틸아민 (0.73 mL, 5.3 mmol) 및 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (570 mg, 2.7 mmol)를 빙냉하에서 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 빙냉하에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가했다. 생성 용액을 물, 1 N 염산 및 염수로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 뜨거울 때, 잔류물을 n-헥산 : 디클로로메탄 = 1 : 2 으로 세정했다. 생성물을 THF (20 mL) 중에 용해시켰다. 잔류물에 1 N 수산화나트륨 수용액 (2.9 mL, 2.9 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 5 시간 동안 100℃ 에서 교반시켰다. THF 를 증발시키고, 수성 층의 pH 를 1 N 염산으로 3 으로 조절하였다. 침전물을 여과 수집하고 건조시켰다. 수득한 생성물을 DMF (10 mL) 중에 용해시키고, 1-펜에틸피페라진 (200 mg, 1.1 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (240 mg, 1.3 mmol) 및 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (170 mg, 1.3 mmol) 를 상기 용액에 첨가했다. 생성 용액을 1 일 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 클로로포름을 첨가했다. 생성 용액을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 99)로 정제해, 310 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.54(4H, brs), 2.62-2.68(2H, m), 2.79-2.85(2H, m), 3.60-3.73(4H, m), 6.95(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.09-7.23(5H, m), 7.27-7.33(2H, m), 7.37-7.41(2H, m), 7.55(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.74-7.78(1H, m), 8.04(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.11-8.15(1H, m), 8.31(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.57(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 950 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00591
Figure 112007010406990-pct00592
Figure 112007010406990-pct00593
Figure 112007010406990-pct00594
실시예 1036
2-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일)피리딘-2-일옥시]페닐아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
DMF (30 mL) 중 2-클로로-5-(4-트리플루오로메틸벤조일)피리딘 (1.00 g, 3.5 mmol)의 용액에, N-(4-히드록시-3-메틸페닐)글리신 에틸 에스테르 (0.81 g, 3.9 mmol), 탄산세슘 (1.71 g, 5.2 mmol) 및 요오드화구리 (I) (200 mg, 1.05 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 3.5 시간 동안 아르곤 대기 하 60℃ 에서 교반했다. 생성 반응 용액을 여과 및 농축했다. 잔류물에 물을 첨가하고 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 3 : 1) 로 정제해, 1.20 g 의 황색 오일을 수득했다. 황색 오일을 THF (23 mL) 중에 용해시키고, 상기 용액에 1 M 수산화나트륨 수용액 (3.9 mL, 3.9 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 3 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 얼음으로 냉각시키고, 6M 염산으로 pH 를 1 로 조절하였다. 생성 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 감압하에서 증발시켜, 1.04 g 의 황색 오일을 수득했다. 상기 황색 오일을 DMF (20 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 1-피페로닐피페라진 (530 mg, 2.4 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (560 mg, 2.9 mmol) 및 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (390 mg, 2.6 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 15 시간 동안 교반했다. 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 2 → 에틸 아세테이트)로 정제하여, 280 mg 의 황색 오일을 수득했다. 상기 오일에 디에틸 에테르를 첨가하고 정치시켰다. 침전물을 여과 수집해, 220 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.11(3H, s), 2.43-2.48(4H, m), 3.45-3.48(4H, m), 3.67-3.71(2H, m), 3.86(2H, d, J = 4.1 Hz), 4.90(1H, t, J = 4.1 Hz), 5.96(2H, s), 6.49-6.53(2H, m), 6.71-6.78(2H, m), 6.86-6.97(3H, m), 7.75(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.87(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.5 Hz), 8.58(1H, d, J = 2.1 Hz).
하기 화합물을 실시예 1036 에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 1037
6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2,5-디플루오로페녹시)-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드 히드로브로마이드
용융점: 224.5 - 226.0℃
실시예 1038
N-(6-{2-메틸-4-[메틸-(2-옥소-2-피페라진-1-일에틸)아미노]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
DMF (60 mL) 중 메틸{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-피리딘-2-일옥시]-3-메틸페닐}아미노아세트산 (1.59 g, 3.5 mmol) 용액에, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (0.79 g, 4.1 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.63 g, 4.1 mmol), 및 1-t-부틸옥시카르보닐피페라진 (0.68 g, 3.6 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 질소 대기 하에서 15 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 상기 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액으로 세정하고, 이어서 에틸 아세테이트 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1 → 3 : 2)로 정제해 아미드 생성물을 수득했다. 상기 아미드 생성물을 THF (20 mL) 중에 용해시켰다. 이어서, 상기 용액에 10% 염산 (10 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 14 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가해, 용액을 중성으로 만들고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시키며, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 50 : 1 → 20 : 1)으로 정제해, 0.38 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.10(3H, s), 2.75-2.94(4H, m), 2.99(3H, s), 3.40-3.70(4H, m), 4.08(2H, s), 6.46-6.59(2H, m), 6.79(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.89(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.55(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.71(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.1 Hz), 7.98(1H, d, J = 2.1 Hz), 8.03-8.14(2H, m), 8.23(1H, d, J = 2.6 Hz).
실시예 1039
N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
THF (4 mL) 중 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 트리히드로클로라이드 (200 mg, 0.35 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.243 mL, 1.8 mmol) 및 4-트리플루오로메틸벤조일 클로라이드 (0.055 mL, 0.37 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반했다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 물 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조, 증발시키고 잔류물을 디에틸 에테르로 재결정화시켜, 170 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 140-141℃
1H NMR (CDCl3) δ 2.32-2.40(4H, m), 2.59-2.65(2H, m), 2.93-2.99(2H, m), 3.41(4H, brs), 3.60-3.64(2H, m), 5.94(2H, s), 6.71-6.77(2H, m), 6.85(1H, s), 6.96(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.05(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.22(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.76(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.01(2H, d, J = 8.4 Hz), 8.11-8.14(1H, m), 8.23(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 8.28(1H, d, J = 2.7 Hz).
동일한 절차를 이용해 수득한 조 표제 생성물 (77.4 g) 을 에틸 아세테이트 (400 mL)로부터 재결정화시켜, 49.66 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말; 용융점: 142-144℃
하기 화합물을 실시예 1039 에서와 동일한 방법으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00595
Figure 112007010406990-pct00596
Figure 112007010406990-pct00597
Figure 112007010406990-pct00598
Figure 112007010406990-pct00599
Figure 112007010406990-pct00600
Figure 112007010406990-pct00601
Figure 112007010406990-pct00602
Figure 112007010406990-pct00603
Figure 112007010406990-pct00604
Figure 112007010406990-pct00605
Figure 112007010406990-pct00606
Figure 112007010406990-pct00607
Figure 112007010406990-pct00608
Figure 112007010406990-pct00609
Figure 112007010406990-pct00610
Figure 112007010406990-pct00611
Figure 112007010406990-pct00612
Figure 112007010406990-pct00613
Figure 112007010406990-pct00614
Figure 112007010406990-pct00615
Figure 112007010406990-pct00616
Figure 112007010406990-pct00617
Figure 112007010406990-pct00618
Figure 112007010406990-pct00619
Figure 112007010406990-pct00620
Figure 112007010406990-pct00621
Figure 112007010406990-pct00622
Figure 112007010406990-pct00623
Figure 112007010406990-pct00624
실시예 1217
1H-인돌-2-카르복실산 {6-[4-(2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸)-2-메틸페녹시]피리딘-3-일}아미드의 제조
DMF (5 mL) 중 5-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-메틸벤질]티아졸리딘-2,4-디온 (150 mg, 0.46 mmol)의 용액에 인돌-2-카르복실산 (74 mg, 0.46 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (70 mg, 0.46 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (110 mg, 0.57 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 5 일 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조, 증발시키고, 이어서 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 30 : 1)으로 정제했다. 수득한 분말성 물질에 에탄올을 첨가하고, 생성 용액을 여과시키고 여과액을 에탄올로 세정해, 100 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.10(3H, s), 3.09(1H, dd, J = 14.2 Hz, 9.7 Hz), 3.40(1H, dd, J = 14.2 Hz, 4.2 Hz), 4.94(1H, dd, J = 9.7 Hz, 4.2 Hz), 6.99(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.05-7.16(2H, m), 7.20(1H, s), 7.24(1H, dd, J = 7.0 Hz, 1.0 Hz), 7.39(1H, d, J = 1.6 Hz), 7.46(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.68(1H, d, J = 7.7 Hz), 8.21(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.8 Hz), 10.37(1H, s), 11.80(1H, s), 12.09(1H, s).
하기 화합물을 실시예 1217 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00625
Figure 112007010406990-pct00626
Figure 112007010406990-pct00627
Figure 112007010406990-pct00628
Figure 112007010406990-pct00629
Figure 112007010406990-pct00630
Figure 112007010406990-pct00631
Figure 112007010406990-pct00632
Figure 112007010406990-pct00633
Figure 112007010406990-pct00634
Figure 112007010406990-pct00635
Figure 112007010406990-pct00636
Figure 112007010406990-pct00637
Figure 112007010406990-pct00638
Figure 112007010406990-pct00639
Figure 112007010406990-pct00640
Figure 112007010406990-pct00641
Figure 112007010406990-pct00642
Figure 112007010406990-pct00643
Figure 112007010406990-pct00644
실시예 1503
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
에틸 아세테이트 (50 mL) 중 1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-{메틸-[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]아미노}에타논 (2.65 g, 5.10 mmol)의 현탁액에 5% 백금-탄소 (0.20 g)를 질소 대기 하에서 첨가하고, 생성 혼합물을 11 시간 동안 수소 대기 하에서 교반했다. 백금-탄소를 셀라이트(셀라이트) 를 이용해 여과시켜 분리 제거했다. 에틸 아세테이트 중 생성 여과액의 용액에 트리에틸아민 (0.78 mL, 5.61 mmol) 을 빙냉하에서 첨가하고, 이어서 생성 용액에 4-(트리플루오로메틸)벤조일 클로라이드 (0.80 mL, 5.36 mmol)를 첨가했다. 상기 용액을 16 시간 동안 교반하고, 이어서 중탄산나트륨 포화용액을 첨가했다. 생성 용액을 실온에서 교반하고, 20 분 후, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시키고 잔류물을 아세톤-디에틸 에테르로부터 재결정화시켜, 3.03 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
용융점: 153.0-154.5℃; 1H NMR (CDCl3) δ 2.12(3H, s), 2.31-2.52(4H, m), 3.01(3H, s), 3.38-3.72(6H, m), 4.07(2H, s), 5.95(2H, s), 6.49-6.61(2H, m), 6.69-6.78(2H, m), 6.79-6.88(2H, m), 6.92(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.76(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.81-7.90(1H, m), 7.99(2H, d, J = 8.3 Hz), 8.13(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.23(1H, d, J = 2.6 Hz).
동일한 절차를 이용해 수득한 조 표제 생성물(5.00 g, 7.6 mmol)을 에탄올 (15 mL)로부터 재결정화시켜, 3.90 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
용융점: 156-158℃
하기 화합물을 실시예 1503 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 1504
N-{6-[2-메틸-4-(2-옥소-3-피페로닐이미다졸리딘-1-일)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드
용융점 188.0 - 189.0℃
Figure 112007010406990-pct00645
Figure 112007010406990-pct00646
Figure 112007010406990-pct00647
Figure 112007010406990-pct00648
Figure 112007010406990-pct00649
Figure 112007010406990-pct00650
Figure 112007010406990-pct00651
실시예 1615
3,4-디클로로-N-[6-(2-플루오로-4-{메틸[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}페녹시)피리딘-3-일]벤젠설폰아미드의 제조
디클로로메탄 (150 mL) 중 2-{[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)-3-플루오로페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (15.85 g, 1.9 mmol) 의 용액에 3,4-디클로로벤젠설포닐 클로라이드 (12.92 g, 1.9 mmol) 및 피리딘 (11 mL, 12.4 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 유기층을 물 및 염수로 세정하고, 이어서 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 감압하에서 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제하고, 에탄올로부터 재결정화시켜, 5.6 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말; 용융점: 185.6-187.0℃; 1H NMR (CDCl3) δ 2.45(4H, t, J = 4.6 Hz), 3.01(3H, s), 3.44(2H, s), 3.47(2H, brs), 3.64(2H, brs), 4.07(2H, s), 5.95(2H, s), 6.33-6.44(2H, m), 6.71-6.78(2H, m), 6.84-6.87(2H, m), 6.98(1H, t, J = 9.1 Hz), 7.47(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 7.51(2H, dd, J = 8.4 Hz, 2.8 Hz), 7.68(1H, d, J = 2.1 Hz), 7.83(1H, d, J = 1.8 Hz).; MS 701(M+).
하기 화합물을 실시예 1615 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00652
Figure 112007010406990-pct00653
Figure 112007010406990-pct00654
Figure 112007010406990-pct00655
Figure 112007010406990-pct00656
Figure 112007010406990-pct00657
Figure 112007010406990-pct00658
Figure 112007010406990-pct00659
Figure 112007010406990-pct00660
Figure 112007010406990-pct00661
Figure 112007010406990-pct00662
Figure 112007010406990-pct00663
Figure 112007010406990-pct00664
Figure 112007010406990-pct00665
Figure 112007010406990-pct00666
Figure 112007010406990-pct00667
Figure 112007010406990-pct00668
Figure 112007010406990-pct00669
Figure 112007010406990-pct00670
Figure 112007010406990-pct00671
Figure 112007010406990-pct00672
Figure 112007010406990-pct00673
Figure 112007010406990-pct00674
Figure 112007010406990-pct00675
Figure 112007010406990-pct00676
Figure 112007010406990-pct00677
Figure 112007010406990-pct00678
Figure 112007010406990-pct00679
Figure 112007010406990-pct00680
Figure 112007010406990-pct00681
실시예 2031
N-{4-[4-(4-벤젠설포닐피페라진-1-일)페녹시]페닐}-3,4-디클로로벤즈아미드
용융점: 191-192 ℃
하기 화합물을 참고예 292 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00682
실시예 2034
t-부틸 4-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐카르바모일}피페리딘-1-카르복실레이트의 제조
DMF (15 mL) 중 N-[6-(4-아미노페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드 (1.0 g, 2.24 mmol) 용액에 빙냉하에서 피페리딘-1,4-디카르복실산 모노-t-부틸 에스테르 (510 mg, 2.22 mmol), 트리에틸아민 (0.94 mL, 6.74 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (350 mg, 2.29 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)-카르보디이미드 히드로클로라이드 (514 mg, 2.68 mmol)을 첨가했다. 이어서, 생성 용액을 빙냉하에서 1 시간 동안 교반하고, 실온에서 17 시간 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 물 및 에틸 아세테이트로 희석해, 그 결과 백색 분말을 침전시켰다. 백색 분말을 여과하고, 이어서 물로 세정하고 후속적으로 에틸 아세테이트로 세정해, 1.04 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.41(9H, s), 1.35-1.50(2H, m), 1.70-1.85(2H, m), 2.40-2.60(1H, m), 2.65-2.90(2H, m), 3.90-4.11(2H, m), 7.03(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.62(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.17(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46(1H, d, J = 2.6 Hz), 9.96(1H, s), 10.54(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2034 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2035
3,4-디클로로-N-(6-{4-[2-(2,4-디옥소티아졸리딘-5-일)-아세틸아미노]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.07(1H, dd, J = 16.5 Hz, 8.9 Hz), 3.24(1H, dd, J = 16.5 Hz, 4.0 Hz), 4.73(1H, dd, J = 9.0 Hz, 4.0 Hz), 7.04(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.08(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.58(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.21(1H, s), 10.53(1H, s), 12.00(1H, s).
실시예 2036
3,4-디클로로-N-(6-{4-[4-피페로닐피페라진-1-일메틸]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드의 제조
DMF (10 mL) 중 3,4-디클로로-N-[6-(4-피페라진-1-일메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 (300 mg, 0.66 mmol) 의 용액에 피페로닐산 (120 mg, 0.72 mmol), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)-카르보디이미드 히드로클로라이드 (140 mg, 0.73 mmol) 및 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (100 mg, 0.74 mmol) 를 빙냉하에서 첨가했다. 생성 반응 용액을 밤새 실온에서 교반했다. 잔류물에 포화 중탄산나트륨 용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 에틸 아세테이트 층을 무수 황산 마그네슘 상에서 건조, 증발시켜 110 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.46(4H, brs), 3.53(2H, s), 3.60(4H, brs), 5.99(2H, s), 6.79(1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85-6.96(3H, m), 7.08(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.33(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.54(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.69-7.73(1H, m), 7.99(1H, d, J = 2.3 Hz), 8.16-8.21(1H, m), 8.27-8.30(2H, m).
하기 화합물을 실시예 2036 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00683
Figure 112007010406990-pct00684
Figure 112007010406990-pct00685
실시예 2056
N-{6-[4-(4-클로로아세틸피페라지노)페녹시]-3-피리딜}-4-(트리플루오로메틸)벤즈아미드의 제조
DMF (20 mL) 중 N-[6-(4-피페라지노페녹시)-3-피리딜]-4-(트리플루오로메틸)벤즈아미드 (885 mg, 2.00 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.418 mL, 3.00 mmol) 및 클로로아세틸 클로라이드 (0.191 g, 2.40 mmol)을 첨가하고, 생성 반응 용액을 10 분 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액에 에틸 아세테이트를 첨가했다. 생성 용액을 물로 세정하고, 이어서 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시켜, 1.00 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 3.17(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.22(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.70(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.80(2H, t, J = 5.0 Hz), 6.95(1H, d, J = 9.0 Hz), 6.97(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.08(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.77(1H, brs), 7.78(2H, d, J = 8.0 Hz), 7.99(2H, d, J = 8.0 Hz), 8.20(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.26(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 실시예 2056 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00686
Figure 112007010406990-pct00687
Figure 112007010406990-pct00688
Figure 112007010406990-pct00689
Figure 112007010406990-pct00690
Figure 112007010406990-pct00691
Figure 112007010406990-pct00692
실시예 2095
1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}-4-벤조일옥시피페리딘의 제조
디클로로메탄 (8 mL) 중 1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘 (200 mg, 0.44 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.091 mL, 0.65 mmol)과 함께, 벤조일 클로라이드 (74 mg, 0.53 mmol) 및 4-(디메틸아미노)피리딘 (3 mg, 0.025 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2.5 일 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 디클로로메탄 = 7 : 93)로 정제해, 80 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 188-190℃
실시예 2096
3,4-디클로로-N-(6-{4-[[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸](2,2,2-트리플루오로아세틸)아미노]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드의 제조
THF (5 mL) 중 3,4-디클로로-N-(6-{4-[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸아미노]페녹시}피리딘-3-일)벤즈아미드 (0.152 g, 0.239 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.0500 mL, 0.359 mmol) 및 트리플루오로아세트산 무수물 (0.0410 mL, 0.287 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 6 시간 동안 교반했다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1) 로 정제해 고체를 수득했다. 상기 고체를 메탄올로부터 재결정화시켜 28.8 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 211-213℃
하기 화합물을 실시예 2096 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2097
N-[6-(4-아세틸[2-옥소-2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드
1H NMR (CDCl3) δ 1.90(3H, s), 2.28(2H, brs), 2.38(2H, brs), 3.37(4H, brs), 3.49(2H, brs), 3.67(3H, s), 4.43(2H, s), 5.93(2H, s), 6.68-6.75(2H, m), 6.82(1H, s), 6.91-6.97(2H, m), 7.07-7.10(2H, m), 7.53(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.76(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.05(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.20(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.37(1H, d, J = 2.6 Hz), 9.26(1H, s).
실시예 2098
N-[6-(벤조일{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐}아미노)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 모노옥살레이트의 제조
THF (5 mL) 중 3,4-디클로로-N-(6-{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐아미노}-피리딘-3-일)벤즈아미드 (250 mg, 0.395 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.132 mL, 0.949 mmol) 및 벤조일 클로라이드 (0.0550 mL, 0.474 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 7 시간 동안 교반했다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1) 로 정제해 0.300 g 의 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태에 이소프로판올 (5 mL) 및 옥살산 디히드레이트 (100 mg, 0.793 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 가열 하에 용해시켰다. 용매를 증발시키고, 생성 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 80.0 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 분말
용융점: 140-143℃
하기 화합물을 실시예 2098 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2099
N-[6-(아세틸{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐}아미노)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드
용융점: 150-165℃
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.98(3H, s), 2.62-2.98(7H, m), 3.04(1H, t, J = 12.1 Hz), 3.26(2H, t, J = 14.7 Hz), 3.35-3.50(2H, m), 4.06(1H, d, J = 13.8 Hz), 4.13-4.26(2H, m), 4.44(1H, d, J = 13.8 Hz), 6.07(2H, s), 6.95-7.02(2H, m), 7.20-7.24(3H, m), 7.28(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.52(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.85(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.96(1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 8.23-8.26(2H, m), 8.77(1H, s), 10.77(1H, s), 11.10(1H, brs).
실시예 2100
6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}-N-(3,4-디클로로페닐)니코틴아미드의 제조
THF (35 mL) 중 6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}니코틴산 (1.23 g, 2.5 mmol)의 용액에 N,N'-카르보닐디이미다졸 (540 mg, 3.3 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 30 분 동안 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물에 3,4-디클로로아닐린 (4.07 g, 25 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 3 일 동안 실온에서 교반했다. 용매를 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제하고, 수득한 생성물을 디에틸 에테르로부터 재결정화시켜, 510 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.33(4H, brs), 2.59-2.65(2H, m), 2.91-2.97(2H, m), 3.40(4H, brs), 3.59(2H, s), 5.94(2H, s), 6.70-6.76(2H, m), 6.83(1H, s), 6.96-7.06(3H, m), 7.20-7.26(2H, m), 7.40(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.50-7.54(1H, m), 7.86(1H, d, J = 1.8 Hz), 8.18-8.22(1H, m), 8.44(1H, brs), 8.66(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 2100 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00693
실시예 2106
(4-벤질피페라진-1-일){4-[5-(3,4-디클로로페닐술파닐)피리딘-2-일옥시]페닐}메타논의 제조
진한 황산 (0.38 mL) - 물 (1.1 mL) 중 [4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐](4-벤질피페라진-1-일)메타논 (0.73 g, 1.88 mmol)의 용액에, 빙냉하에서 물 (0.6 mL) 중 질산나트륨 용액(0.13 g, 1.88 mmol)을 적가했다. 반응 혼합물을 10 분 동안 교반했다. 상기 반응 혼합물을 빙냉하에서 2 N 수산화나트륨 수용액 (2 mL) 중 3,4-디클로로벤젠티올 (0.24 mL, 1.88 mmol)의 용액에 첨가했다. 물을 생성 반응 용액에 첨가하고 디클로로메탄으로 추출했다. 디클로로메탄 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피(디클로로메탄 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제해, 0.1 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 2.49(4H, brs), 3.56(2H, s), 3.56(2H, brs), 3.78(2H, brs), 6.99(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.20(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.25-7.39(5H, m), 7.46(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 7.47(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.56(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.76(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.86(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.5 Hz), 8.50(1H, d, J = 2.5 Hz).
하기 화합물을 실시예 2106 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2107
2-({4-[5-(3,4-디클로로페닐술파닐)피리딘-2-일옥시]-3-메톡시페닐}에틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논
1H NMR (CDCl3)δ 1.20(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.43(4H, t, J = 4.9 Hz), 3.43(2H, s), 3.35-3.50(2H, m), 3.49-3.60(2H, m), 3.60-3.70(2H, m), 3.73(3H, s), 4.05(2H, s), 5.95(2H, s), 6.22(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 6.35(1H, d, J = 2.7 Hz), 6.70-6.76(2H, m), 6.85(1H, s), 6.90(1H, d, J = 9.0 Hz), 6.98(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.46(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 7.55(1H, d, J = 8.2 Hz), 7.75(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.78(1H, dd, J = 9.0 Hz, 2.5 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.5 Hz).
실시예 2108
1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)우레아의 제조
톨루엔 (20 mL) 중 3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (600 mg, 1.3 mmol)의 용액에 에틸디이소프로필아민 (0.454 mL, 2.6 mmol) 및 3,4-디클로로페닐이소시아네이트 (270 mg, 1.4 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 환류하에서 1 일 동안 교반했다. 반응 용액을 감압하에서 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 19)로 정제하고, 이어서 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜, 280 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.37-2.39(4H, m), 2.61-2.67(2H, m), 2.89-2.94(2H, m), 3.41-3.47(4H, m), 3.61-3.65(2H, m), 5.94(2H, s), 6.69-6.83(4H, m), 6.95(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.10-7.26(4H, m), 7.49(1H, d, J = 2.3 Hz), 7.93-7.96(2H, m), 8.15(1H, s), 8.21(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2108 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00694
실시예 2113
4-피페로닐피페라진-1-카르복실산 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}아미드 히드로클로라이드의 제조
DMF (4 mL) 중 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}- 카르밤산 페닐 에스테르 (320 mg, 0.65 mmol)의 용액에 1-피페로닐피페라진 (285 mg, 1.29 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 17 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 25 : 1)로 정제했다. 수득한 잔류물을 에탄올-에틸 아세테이트의 혼합 용매 중에 용해시켰다. 생성 용액에 에틸 아세테이트 중 4 N 염화 수소 용액을 첨가해 pH 를 3 으로 하였다. 이어서, 침전된 백색 분말을 여과 제거하고 에탄올로 세정해, 330 mg 의 표제 화합물을 수득했다. 외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.85-3.09(2H, m), 3.20-3.50(4H, m), 4.12-4.38(4H, m), 6.08(2H, s), 7.02(2H, d, J = 9.0 Hz), 6.93-7.12(3H, m), 7.28(1H, d, J = 1.5 Hz), 7.49(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.83(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz), 8.19(1H, dd, J = 8.8 Hz, 2.6 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.50(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.92(1H, s), 10.63(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2113 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2114
4-벤질피페라진-1-카르복실산 {4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}아미드 히드로클로라이드
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.90-3.20(2H, m), 3.22-3.45(4H, m), 4.27(2H, d, J = 13.6 Hz), 4.35(2H, d, J = 5.0 Hz), 7.02(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.03(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.41-7.52(3H, m), 7.48(2H, d, J = 8.9 Hz), 7.55-7.69(2H, m), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.97(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.19(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.49(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.90(1H, s), 10.62(1H, s).
실시예 2115
2-[(4-{5-[(3,4-디클로로벤질리덴)-아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)메틸아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
메탄올 (400 mL) 중에 2-{[(4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (7.80 g, 16.4 mmol)을 용해시키고, 생성 용액에 3,4-디클로로벤즈알데히드 (2.87 g, 16.4 mmol)를 첨가했다. 상기 용액을 16시간 동안 환류시켰다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켜, 10.4 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 갈색 오일
1H NMR (CDCl3)δ 2.44(4H, brs), 3.03(3H, s), 3.44-3.45(2H, m), 3.50(2H, brs), 3.63(2H, brs), 4.09(2H, s), 5.94(2H, s), 6.65-6.77(4H, m), 6.84-6.88(2H, m), 7.03(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.54(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.58(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 7.70(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.00(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.10(1H, d, J = 2.8 Hz), 8.39(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2115 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00695
Figure 112007010406990-pct00696
Figure 112007010406990-pct00697
Figure 112007010406990-pct00698
실시예 2133
3-({4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)-피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
3-[(4-{5-(3,4-디클로로벤질리덴)피리딘-2-일옥시}페닐)메틸아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (3.88 g, 6.0 mmol)을 메탄올 (150 mL) 및 THF (50 mL)의 혼합 용매 중에 용해시켰다. 생성 용액에 나트륨 보로히드라이드 (1.13 g, 30.0 mmol)를 천천히 첨가하고 생성 용액을 실온에서 13 시간 동안 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 생성 잔류물을 에틸 아세테이트로 희석시키고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1)로 정제해, 3.60 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3)δ 2.32-2.39(4H, m), 2.52-2.57(2H, m), 2.91(3H, s), 3.36-3.40(4H, m), 3.59-3.63(2H, m), 3.66-3.71(2H, m), 3.97(1H, brs), 4.27(2H, d, J = 5.0 Hz), 5.94(2H, s), 6.65-6.76(5H, m), 6.83(1H, d, J = 1.0 Hz), 6.94(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.0 Hz), 6.97(2H, d, J = 9.2 Hz), 7.18(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 7.40(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.45(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.56(1H, d, J = 2.5 Hz). MS 647(M+).
하기 화합물을 실시예 2133 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00699
Figure 112007010406990-pct00700
Figure 112007010406990-pct00701
Figure 112007010406990-pct00702
실시예 2150
1-(4-벤질피페라진-1-일)-3-(4-{5-(피페로닐아미노)피리딘-2-일옥시}페닐)프로판-1-온의 제조
3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (1.04 g, 2.5 mmol)을 메탄올 (25 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 피페로날 (0.39 g, 2.63 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 밤새 환류시켰다. 생성 반응 용액을 얼음으로 냉각시키고, 이어서 나트륨 보로히드라이드 (0.28 g, 7.50 mmol)를 첨가했다. 생성 용액을 2 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 희석하고, 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제해, 0.80 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.28(4H, brs), 2.57(2H, t, J = 7.9 Hz), 2.76(2H, t, J = 7.9 Hz), 3.40-3.46(6H, m), 4.15(2H, d, J = 6.1 Hz), 5.97(2H, s), 6.21(1H, t, J = 6.1 Hz), 6.76(1H, d, J = 8.6 Hz), 6.82-6.86(4H, m), 6.92(1H, brs), 7.08(1H, dd, J = 8.7 Hz, 3.0 Hz), 7.17(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.24-7.32(5H, m), 7.51(1H, d, J = 3.0 Hz).
하기 화합물을 실시예 2150 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00703
Figure 112007010406990-pct00704
Figure 112007010406990-pct00705
실시예 2171
1-(4-벤질피페라진-1-일)-3-[4-(5-디벤질아미노피리딘-2-일옥시)페닐]프로판-1-온의 제조
3-[4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-벤질피페라진-1-일)프로판-1-온 (1.0 g, 2.4 mmol) 를 DMF (30 mL) 중에 용해시켰다. 상기 용액에 탄산칼륨 (0.73 g, 5.28 mmol), 요오드화나트륨 (0.76 g, 5.04 mmol) 및 벤질 브로마이드 (0.60 mL, 5.04 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 밤새 교반했다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 클로로포름으로 희석시키고, 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제해, 0.67 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 황색 오일
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.27(4H, brs), 2.50-2.59(2H, m), 2.73-2.78(2H, m), 3.37-3.45(6H, m), 4.68(4H, s), 6.78(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.85(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.17(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.20-7.36(16H, m), 7.54(1H, d, J = 3.1 Hz).
실시예 2172
2-[(4-{5-[(3,4-디클로로벤질)-에틸아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)메틸아미노]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
2-({4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (1.59 g, 2.5 mmol) 을 디클로로에탄 (80 mL) 중에 용해시켰다. 상기 용액에 아세토알데히드 (1.40 mL, 25.0 mmol) 및 나트륨 트리아세틸옥시 보로히드라이드 (1.59 mL, 7.5 mmol)를 빙냉하에서 첨가했다. 생성 용액에 아세트산 (0.43 mL, 7.5 mmol)을 적가하고, 상기 용액을 실온에서 16 시간 동안 교반했다. 생성 반응 용액을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 50 : 1)로 정제했다. 수득한 고체를 에탄올로부터 재결정화시켜, 0.65 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.17(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.41(4H, brs), 2.99(3H, s), 3.36-3.44(4H, m), 3.48(2H, brs), 3.62(2H, brs), 4.04(2H, s), 4.35(2H, s), 5.95(2H, s), 6.67-6.77(5H, m), 6.85(1H, brs), 6.97(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.01(1H, dd, J = 8.9 Hz, 3.1 Hz), 7.07(1H, dd, J = 8.2 Hz, 2.0 Hz), 7.32(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.37(1H, d, J = 8.3 Hz), 7.63(1H, d, J = 3.0 Hz). MS 661(M+).
하기 화합물을 실시예 2172 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00706
Figure 112007010406990-pct00707
Figure 112007010406990-pct00708
Figure 112007010406990-pct00709
Figure 112007010406990-pct00710
Figure 112007010406990-pct00711
Figure 112007010406990-pct00712
Figure 112007010406990-pct00713
Figure 112007010406990-pct00714
Figure 112007010406990-pct00715
실시예 2235
(4-{5-[벤질-(3,4-디클로로벤질)-아미노]피리딘-2-일옥시}(4-벤질피페라진-1-일)메타논의 제조
(4-벤질피페라진-1-일){4-[5-(3,4-디클로로벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메타논 (1.09 g, 2.0 mmol)을 DMF (30 mL) 중에 용해시켰다. 상기 용액에 탄산칼륨 (0.28 g, 2.0 mmol) 및 벤질 브로마이드 (0.24 mL, 2.0 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반한 후, 후속적으로 1 시간 동안 70℃에서 교반했다. 생성 용액에 추가로 탄산칼륨 (0.03 g, 0.2 mmol) 및 벤질 브로마이드 (0.02 mL, 0.2 mmol)를 첨가하고, 상기 용액을 3 시간 동안 70℃ 에서 교반했다. 생성 용액에 다시 탄산칼륨 (0.03 g, 0.2 mmol), 벤질 브로마이드 (0.02 mL, 0.2 mmol) 및 요오드화나트륨 (0.15 g, 1.0 mmol)를 첨가하고, 상기 용액을 70℃ 에서 밤새 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 클로로포름으로 희석하고, 상기 용액을 물, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 이어서 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트)로 정제해, 0.64 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 2.37(4H, brs), 3.28-3.50(6H, m), 4.71(2H, s), 4.73(2H, s), 6.90(1H, d, J = 8.9 Hz), 6.99(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.22-7.37(14H, m), 7.52(1H, d, J = 2.0 Hz), 7.58-7.61(2H, m).
하기 화합물을 실시예 2235 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00716
Figure 112007010406990-pct00717
Figure 112007010406990-pct00718
Figure 112007010406990-pct00719
Figure 112007010406990-pct00720
Figure 112007010406990-pct00721
Figure 112007010406990-pct00722
실시예 2270
1-(t-부톡시카르보닐)-4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘의 제조
THF (100 mL) 중 N-[4-(4-보로모페녹시)페닐]-3,4-디클로로벤즈아미드 (4.94 g, 11.3 mmol)의 용액을 -85 ℃ 에서 교반하고, 여기에 2.46 M n-부틸 리튬 헥산 (9.65 mL, 23.7 mmol)의 용액을 10 분에 걸쳐 적가했다. 20 분 동안 동일한 온도에서 교반하면서, 결정을 침전시켰다. 상기 반응 용액에 THF (20 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-피페리돈 (2.48 g, 12.4 mmol)의 용액을 첨가했다. 용액 온도를 3 시간에 걸쳐 -40℃ 로 올리고, 이어서 수성 포화 염화암모늄을 상기 용액에 첨가했다. 생성 반응 용액을 에틸 아세테이트로 추출하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 이어서, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 2 : 3 내지 1 : 1)로 정제해, 2.30 g 의 백색 분말을 수득했다. 상기 결정을 에테르로 세정하여, 1.80 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 208-209℃
실시예 2271
1-(t-부톡시카르보닐)-4-(4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-1,2,5,6-테트라히드로피리딘의 제조
톨루엔 (32 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘 (1.56 g, 2.80 mmol)의 용액에 p-톨루엔설폰산 히드레이트 (53 mg, 0.28 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 18 시간 동안 환류했다. 생성 반응 용액을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1)로 정제해, 1.35 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 173-174℃
실시예 2272
1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}-4-히드록시피페리딘의 제조
에탄올 (110 mL) 중 1-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-4-(메톡시메톡시)피페리딘 (5.50 g, 11.0 mmol)의 용액에 2 M 염산 (55 mL, 110 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 8 시간 동안 60℃ 에서 교반했다. 생성 반응 용액에 탄산칼륨 (16 g)을 실온에서 첨가하고, 용매를 감압하에서 증발시켰다. 물 (200 mL)을 잔류물에 첨가했다. 침전된 결정을 여과 수집해, 5.0 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담갈색 분말
용융점: 178-180℃
실시예 2273
1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)피페라진 모노히드로클로라이드의 제조
디클로로메탄 (24 mL) 중 1-(t-부톡시카르보닐)-4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}-프로피오닐)피페라진 (2.40 g, 4.01 mmol)의 용액에 빙냉하에서 트리플루오로아세트산 (12 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 동일한 온도에서 3 시간 동안 교반했다. 용매를 증발시켰다. 잔류물에 아세톤 (5 mL)을 첨가하고, 이어서 중탄산나트륨 포화용액을 첨가해 용액을 염기성으로 만들었다. 형성된 고체를 여과 수집하여 건조해, 2.00 g 의 백색 분말 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태 (0.500 g)를 가열에 의해 에탄올 (10 mL) 및 5 M 염산 (0.4 mL) 중에 용해시켰다. 이어서 용매를 증발시키고, 수득한 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 0.388 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 127-130℃
하기 화합물을 실시예 2273 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00723
Figure 112007010406990-pct00724
Figure 112007010406990-pct00725
실시예 2291
[3-(4-{5-[3-(3,4-디클로로페닐)우레이도]피리딘-2-일옥시}-3-메틸페닐)-2-옥소테트라히드로피리미딘-1-일]아세트산
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.87-2.15(5H, m), 3.25-3.47(2H, m), 3.58-3.75(2H, m), 3.95(2H, s), 6.82-7.00(2H, m), 7.01-7.12(1H, m), 7.17(1H, d, J = 2.4 Hz), 7.29-7.32(1H, m), 7.50(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.85(1H, d, J = 2.4 Hz), 7.89-8.02(1H, m), 8.11(1H, d, J = 2.7 Hz), 8.95(1H, s), 9.17(1H, s), 12.50(1H, s).
하기 화합물을 참고예 922 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00726
Figure 112007010406990-pct00727
실시예 2299
1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)-4-피페로닐피페라진 모노히드로클로라이드의 제조
아세토니트릴 (12 mL) 중 디이소프로필-에틸아민 (0.262 mL, 1.50 mmol) 및 1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오닐)-피페라진 (0.500 g, 1.00 mmol)으로 이루어진 현탁액에 피페로닐 클로라이드 (0.188 g, 1.10 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 1.5 시간 동안 가열 환류시켰다. 물을 상기 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)로 정제해, 0.486 g 의 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태를 가열에 의해 에탄올 (10 mL) 및 5 M 염산 (0.3 mL) 중에 용해시켰다. 이어서, 용매를 증발시키고, 수득한 고체를 90% 에탄올 (17.5 mL)로부터 재결정화시켜, 0.322 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 221-224℃
동일한 절차를 이용해 수득한 조 표제 생성물 (9.95 g, 14.9 mmol) 을 80% 에탄올 (350 mL)로부터 재결정화시켜, 9.37 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 232-234℃
하기 화합물을 실시예 2299 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00728
Figure 112007010406990-pct00729
Figure 112007010406990-pct00730
Figure 112007010406990-pct00731
Figure 112007010406990-pct00732
Figure 112007010406990-pct00733
Figure 112007010406990-pct00734
Figure 112007010406990-pct00735
실시예 2357
3,4-디클로로-N-[6-(4-{4-[(3,4-디플루오로벤질)메틸아미노]피페리딘-1-카르보닐}페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-{6-[4-(4-메틸아미노-피페리딘-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 디히드로클로라이드 (114 mg, 0.2 mmol) 를 DMF (3 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 4-보로모메틸-1,2-디플루오로벤젠 (31 ㎕, 0.24 mmol) 및 탄산칼륨 (111 mg, 0.8 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 4 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 희석하고, 물 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 상기 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 50 : 1)로 정제해, 60 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.64(4H, brs), 1.84(2H, brs), 2.20(3H, s), 2.65-2.90(3H, m), 3.54(2H, s), 6.95-7.08(4H, m), 7.13(2H, d, J = 9.3 Hz), 7.41(2H, d, J = 9.2 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.75(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.03(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.15(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.30(1H, brs), 8.31(1H, d, J = 2.2 Hz).
하기 화합물을 실시예 2357 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00736
Figure 112007010406990-pct00737
Figure 112007010406990-pct00738
Figure 112007010406990-pct00739
Figure 112007010406990-pct00740
Figure 112007010406990-pct00741
실시예 2444
1-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-{4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]-페닐아미노}에타논의 제조
4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐아민 (4.50 g, 12.5 mmol)을 DMF (150 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 탄산칼륨 (2.60 g, 18.8 mmol) 및 요오드화나트륨 (1.87 g, 12.5 mmol)를 첨가하고, 이어서 상기 용액에 2-클로로-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (4.21 g, 12.5 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 질소 대기 하에서 11 시간 동안 80℃ 에서 교반시켰다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제해, 5.2 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.44-2.46(4H, m), 3.43-3.47(4H, m), 3.69(2H, t, J = 5.0 Hz), 3.86(2H, s), 4.91(1H, brs), 5.02(2H, s), 5.94(2H, s), 6.64(2H, d, J = 8.9 Hz), 6.74-6.75(2H, m), 6.85-6.89(2H, m), 6.96-7.03(4H, m), 7.55(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.72(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz).
실시예 2445
N-{6-[4-(4-티아졸-2-일메틸피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드의 제조
1,2-디클로로에탄 (20 mL) 중 N-{6-[4-(피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드 디히드로클로라이드 (400 mg, 0.74 mmol)의 현탁액에 2-포르밀티아졸 (125 mg, 1.10 mmol) 및 트리에틸아민 (0.21 mL, 1.50 mmol)을 첨가했다. 생성 용액을 실온에서 30 분 동안 교반한 후, 나트륨 트리아세틸옥시 보로히드라이드 (312 mg, 1.47 mmol) 를 빙냉하에서 첨가했다. 반응 혼합물을 동일한 온도에서 30 분 동안 교반하고, 실온에서 1 시간 동안 교반했다. 아세트산 (0.085 mL, 1.48 mmol) 을 반응 혼합물에 첨가하고, 실온에서 17 시간 동안 교반했다. 반응 혼합물을 얼음물에 붓고, 클로로포름으로 추출했다. 클로로포름 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 상당 부분의 용매를 증발시켰다. 이어서, 백색 침전물을 여과 제거하고 에틸 아세테이트로 세정해, 293 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.55(4H, brs), 3.55(4H, brs), 3.90(2H, s), 7.15(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.16(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.45(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.68(1H, d, J = 3.2 Hz), 7.73(1H, d, J = 3.2 Hz), 7.94(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.17(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.26(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.3 Hz), 8.55(1H, d, J = 2.3 Hz), 10.68(1H, s).
하기 화합물을 실시예 2445 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00742
Figure 112007010406990-pct00743
Figure 112007010406990-pct00744
Figure 112007010406990-pct00745
Figure 112007010406990-pct00746
Figure 112007010406990-pct00747
Figure 112007010406990-pct00748
실시예 2482
N-(6-{4-[4-((1S, 2S)-2-히드록시-시클로헥실)피페라진-1-카르보닐]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
메탄올 중 N-{6-[4-(피페라진-1-카르보닐)페녹시]-피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드 (430 mg, 0.91 mmol)의 용액에 1,2-에폭시시클로헥산 (180 mg, 1.83 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 환류하에서 1 일 동안 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 35 : 1)로 정제하고, 이어서 에틸 아세테이트를 첨가했다. 침전된 백색 분말을 여과 제거하고 에틸 아세테이트로 세정해, 284 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.03-1.38(4H, m), 1.42-1.88(3H, m), 2.06-2.35(2H, m), 2.31(2H, brs), 2.74(2H, brs), 3.30-4.00(6H, m), 7.00(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.15(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.43(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.77(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.02(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.21(1H, brs), 8.22(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 8.33(1H, d, J = 2.7 Hz).
실시예 2483
3,4-디클로로-N-[6-({4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐}메틸아미노)-피리딘-3-일]벤즈아미드 디옥살레이트의 제조
메탄올 (3 mL) 중 3,4-디클로로-N-(6-{4-[3-옥소-3-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로필]페닐아미노}-피리딘-3-일)벤즈아미드 (250 mg, 0.395 mmol)의 용액에 아세트산 (0.500 mL) 및 37% 수성 포름알데히드 (0.640 mL, 7.89 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 30 분 동안 50℃ 에서 교반했다. 반응 용액에 나트륨 시아노보로히드라이드 (0.160 g, 2.55 mmol)를 실온에서 첨가하고, 8 시간 동안 50℃ 에서 교반했다. 물을 반응 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 10 : 1)로 정제해, 유리 형태를 수득했다. 상기 유리 형태를 가열에 의해 이소프로판올 (5 mL) 및 옥살산 디히드레이트 (70 mg, 0.555 mmol) 중에 용해시켰다. 용매를 증발시키고, 생성 고체를 이소프로판올로부터 재결정화시켜, 0.193 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
용융점: 127-129℃
하기 화합물을 실시예 2483 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2484
2-(에틸{4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논
1H NMR (CDCl3) δ 1.18(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.41-2.44(4H, m), 3.39-3.47(4H, m), 3.51(2H, brs), 3.64(2H, brs), 4.03(2H, s), 5.03(2H, s), 5.94(2H, s), 6.68(2H, d, J = 9.1 Hz), 6.73-6.74(2H, m), 6.85-6.88(2H, m), 6.99(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.01(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.55(2H, d, J = 8.7 Hz), 7.71(1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.5 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.3 Hz).
실시예 2485
3,4-디클로로-N-[6-(4-티오모르폴린-4-일메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 모노히드로클로라이드의 제조
3,4-디클로로-N-[6-(4-클로로메틸페녹시)-피리딘-3-일]벤즈아미드 (0.61 g, 1.5 mmol)를 DMF (5 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 트리에틸아민 (0.84 mL, 6.0 mmol) 및 티오모르폴린 (0.15 mL, 1.5 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 밤새 40℃ 에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정했다. 유기 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 상기 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 80 : 1)로 정제했다. 수득한 고체 (0.56 g, 1.18 mmol) 를 에틸 아세테이트 (50 mL) 중에 용해시키고, 에틸 아세테이트 (0.295 mL, 1.18 mmol) 중 4 N 염화 수소의 용액을 첨가하고, 상기 용액을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 침전된 결정을 흡입 여과로 수집하고, 메탄올로부터 재결정화시켜, 0.38 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.80-2.83(2H, m), 3.09-3.17(4H, m), 3.61(2H, m), 4.35(2H, s), 7.14(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.21(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.60(2H, d, J = 8.3 Hz), 7.85(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.96(1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 8.23(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.24(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.53(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.45(1H, brs), 10.62(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 2485 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2486
3,4-디클로로-N-(4-{4-[1-(3-이미다졸-1-일프로필)-1,2,3,6-테트라히드로피리딘-4-일]페녹시}페닐)-벤즈아미드
용융점: 169-171℃
Figure 112007010406990-pct00749
Figure 112007010406990-pct00750
Figure 112007010406990-pct00751
Figure 112007010406990-pct00752
Figure 112007010406990-pct00753
Figure 112007010406990-pct00754
Figure 112007010406990-pct00755
Figure 112007010406990-pct00756
Figure 112007010406990-pct00757
Figure 112007010406990-pct00758
실시예 2551
1-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)-4-[2-(모르폴리노)아세틸]-피페라진의 제조
아세토니트릴 (11 mL) 중 디이소프로필에틸아민 (0.234 mL, 1.34 mmol) 및 1-클로로아세틸-4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오닐)-피페라진 (0.515 g, 0.896 mmol)의 용액에 모르폴린 (0.117 mL, 1.34 mmol)을 첨가하고, 생성 용액을 1 시간 동안 환류시켰다. 상기 반응 용액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 클로로포름으로 추출했다. 클로로포름 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조 및 증발시켰다. 수득한 고체를 함수 (water-containing) 아세톤으로부터 재결정화해, 0.441 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
용융점: 187-190℃
하기 화합물을 실시예 2551 에서와 같이 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00759
Figure 112007010406990-pct00760
Figure 112007010406990-pct00761
Figure 112007010406990-pct00762
Figure 112007010406990-pct00763
Figure 112007010406990-pct00764
Figure 112007010406990-pct00765
하기 화합물을 참고예 860 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2582
1-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질}피페라진-4-카르복실산 에틸 에스테르
외관: 담황색 오일
1H NMR (CDCl3) δ 1.25(3H, t, J = 7.0 Hz), 1.76(2H, m), 1.77(2H, m), 2.03(2H, t, J = 11.5 Hz), 2.28(1H, m), 2.87(2H, brd, J = 11.5 Hz), 3.48(2H, s), 4.13(2H, q, J = 7.0 Hz), 6.94(1H, d, J = 9.0 Hz), 7.06(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.33(2H, d, J = 9.0 Hz), 7.57(1H, d, J = 8.5 Hz), 7.70(1H, dd, J = 8.5 Hz, 2.0Hz), 7.88(1H, brs), 7.97(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.17(1H, dd, J = 9.0 Hz, 3.0 Hz), 8.24(1H, d, J = 3.0 Hz).
실시예 2583
3,4-디클로로-N-{6-[4-(2,4-디옥소-3,4-디히드로-2H-피리미딘-1-일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
우라실 (200 mg, 1.8 mmol)에 헥사메틸디실라잔 (5 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 5.5 시간 동안 150℃ 에서 교반했다. 불용물을 여과 제거하고, 여과액을 감압하에서 농축시켰다. 잔류물을 아세토니트릴 (10 mL)-THF (5 mL)의 용액 중에 용해시키고, 상기 용액에 3,4-디클로로-N-[6-(4-클로로메틸페녹시)피리딘-3-일]벤즈아미드 (500 mg, 1.2 mmol) 및 주석 테트라클로라이드 (3 방울)를 첨가했다. 생성 용액을 2.5 시간 동안 환류했다. 상기 반응 용액에 메탄올 (1 mL)을 첨가하고, 생성 용액을 30 분 동안 실온에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (메탄올 : 클로로포름 = 1 : 99 → 3 : 97)로 정제해, 20 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 4.88(2H, s), 5.61(1H, dd, J = 7.9 Hz, 2.3 Hz), 7.07-7.13(3H, m), 7.35(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.79-7.85(2H, m), 7.95(1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.0 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.47(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.55(1H, s), 11.33(1H, s). MS: m/z 482(M+).
실시예 2584
N-{6-[4-(4-벤질-2-옥소피페라진-1-일메틸)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드의 제조
DMF (10 mL) 중 4-벤질피페라진-2-온 (0.56 g, 2.95 mmol)의 용액에, 60% 수소화나트륨 (0.12 g, 2.95 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 실온에서 30 분 동안 교반했다. 2-(4-클로로메틸페녹시)-5-니트로피리딘 (0.78 g, 2.95 mmol)을 반응 혼합물에 첨가하고, 혼합물을 1 시간 동안 실온에서 교반했다. 상기 혼합물에 염수 (50 mL)를 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다 (50 mL). 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압하에서 증발시켰다. 잔류 오일을 에틸 아세테이트 (5 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 철 분말 (0.33 g, 5.89 mmol)을 첨가했다. 상기 용액을 2 시간 동안 실온에서 교반했다. 생성 반응 용액을 감압하에서 농축시키고, 중탄산나트륨 포화용액 (50 mL)을 잔류물에 첨가했다. 수득한 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출했다 (50 mL). 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조 및 증발시켰다. 잔류 오일을 THF (10 mL) 중에 용해시켰다. 생성 용액에 트리에틸아민 (0.21 mL, 1.47 mmol) 및 3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (0.31 mL, 1.47 mmol)를 첨가하고, 상기 용액을 실온에서 2 시간 동안 교반했다. 중탄산나트륨 포화용액 (50 mL)을 상기 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출했다 (50 mL). 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 40 : 1)로 정제했다. 수득한 오일을 에틸 아세테이트 (5 mL) 중에 용해시키고, 생성 용액에 에틸 아세테이트 (1.5 mL, 6 mmol) 중 4 N 염화 수소의 용액을 첨가했다. 형성된 백색 분말을 흡입 여과로 수집해, 0.045 g 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 3.54(4H, m), 3.86(2H, brs), 4.42(2H, s), 4.59(2H, brs), 7.06-7.12(3H, m), 7.34(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.48-7.51(3H, m), 7.57-7.60(2H, m), 7.84(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.97(1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 8.18-8.24(2H, m), 8.49(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.61(1H, s).
하기 화합물을 참고예 656 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
실시예 2585
2-({4-[5-(3,4-디클로로페닐아미노)피리딘-2-일옥시]-2-트리플루오로메틸페닐}에틸아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논
1H NMR (CDCl3) δ 1.02(3H, t, J = 7.1 Hz), 2.30-2.45(4H, m), 3.22(2H, q, J = 7.1 Hz), 3.40(2H, s), 3.45-3.65(4H, m), 3.85(2H, s), 5.57(1H, brs), 5.94(2H, s), 6.65-6.80(3H, m), 6.85(1H, s), 6.95(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.00(1H, d, J = 2.7 Hz), 7.29-7.31(2H, m), 7.39(1H, d, J = 2.7 Hz), 7.53(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.9 Hz), 7.64(1H, d, J = 8.8 Hz), 7.99(1H, d, J = 2.7 Hz).
하기 화합물을 참고예 658 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00766
Figure 112007010406990-pct00767
실시예 2596
3-(4-{5-[4-(3,4-디클로로페닐)피페라진-1-일]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온의 제조
톨루엔 (16 mL) 중 1-(3,4-디클로로페닐)-피페라진 (206 mg, 0.89 mmol) 및 3-[4-(5-보로모피리딘-2-일옥시)페닐]-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (359 mg, 0.69 mmol)의 용액에 Pd2(dba)3 (25 mg, 0.027 mmol)과 함께, Xantphos (32 mg, 0.055 mmol) 및 나트륨 t-부톡시드 (99 mg, 1.03 mmol)를 첨가하고, 생성 용액을 아르곤 대기 하에서 3 시간 동안 환류시켰다. 용액을 방치하여 냉각시키고, 물을 상기 반응 혼합물에 첨가했다. 생성 용액을 디클로로메탄으로 추출하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 감압하에서 증발시켰다. 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)로 정제해, 236 mg 의 표제 화합물을 수득했다.
외관: 담황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.31-2.40(4H, m), 2.58-2.64(2H, m), 2.92-2.98(2H, m), 3.23-3.38(8H, m), 3.41(4H, brs), 3.63(2H, t, J = 4.9 Hz), 5.94(2H, s), 6.72-6.73(2H, m), 6.78(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 6.84-6.90(2H, m), 6.99-7.06(3H, m), 7.19-7.24(3H, m), 7.32(1H, dd, J = 9.4 Hz, 3.1 Hz), 7.88(1H, d, J = 3.0 Hz).
트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐의 약자는 Pd2(dba)3 이다. 이하, 동일하다. 4,5-비스(디페닐포스피노)-9,9-디메틸잔텐의 약자는 Xantphos 이다. 이하 동일하다.
하기 화합물을 실시예 2596 에서와 동일한 방식으로 제조했다.
Figure 112007010406990-pct00768
하기 화합물을 참고예 659와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00769
Figure 112007010406990-pct00770
실시예 2608
1-(3,4-디메톡시벤질)-3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페닐에티닐)피리딘-2-일옥시]페닐}테트라히드로피리미딘-2-온의 제조
질소 대기 하에 N-메틸피롤리돈 (10 mL) 중 1-[4-(5-브로모피리딘-2-일옥시)-3-메틸페닐]-3-(3,4-디메톡시벤질)테트라히드로-피리미딘-2-온 (0.3 g, 0.59 mmol)의 용액에 비스(트리페닐포스핀)팔라듐 디클로라이드 (20 mg, 0.03 mmol), 요오드화구리 (11 mg, 0.059 mmol), 4-에티닐-α,α,α-트리플루오로톨루엔 (0.14 mL, 0.88 mmol) 및 트리에틸아민 (0.14 mL, 10 mmol)을 첨가하였다. 생성되는 혼합물을 110 내지 120℃에서 3시간 동안 교반하였다. 방치하여 냉각시킨 후, 반응 용액에 물을 첨가하였다. 생성되는 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하였다. 그 후, 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 4 : 1 → 1 : 1)에 의해 정제하여 표제 화합물 0.28 g을 제공하였다.
외관: 담갈색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.97-2.15(2H, m), 2.16(3H, s), 3.31(2H, t, J = 6.0 Hz), 3.72(2H, t, J = 6.0 Hz), 3.88(3H, s), 3.89(3H, s), 4.57(2H, s), 6.72-6.95(5H, m), 7.04(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.17(1H, dd, J = 2.6 Hz, 8.6 Hz), 7.55-7.68(4H, m), 7.78(1H, dd, J = 2.3 Hz, 8.6 Hz), 8.36(1H, d, J = 2.3 Hz).
실시예 2609
3-(3-메틸-4-{5-[2-옥소-2-(4-트리플루오로메틸페닐)에틸]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-피페로닐테트라히드로피리미딘-2-온 히드로브로마이드의 제조
질소 대기 하에 톨루엔 (10 mL) 중 3-[4-(5-브로모피리딘-2-일옥시)-3-메틸페닐]-1-피페로닐테트라히드로피리미딘-2-온 (0.11 g, 0.22 mmol)의 용액에 Pd2(dba)3 (10 mg, 0.01 mmol) 및 Xantphos (15 mg, 0.03 mmol)를 첨가하였다. 생성되는 용액을 5분 동안 교반한 후, 4'-(트리플루오로메틸)아세토페논 (63 mg, 0.33 mmol) 및 칼륨 비스(트리메틸실릴)아미드 (66 mg, 0.33 mmol)를 반응 용액에 첨가하였다. 생성되는 용액을 70 ∼ 80℃에서 30분 동안 교반하고, 방치하여 냉각시켰다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 2 : 1 → 1 :1)에 의해 정제하여 유리 형태 50 mg을 제공하였다. 상기 유리 형태에 동량의 브롬산을 첨가하여, 이에 따라 표제 화합물 50 mg을 제공하였다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.85-2.10(2H, m), 2.06(3H, s), 3.14-3.47(2H, m), 3.50-3.76(2H, m), 4.40(2H, s), 4.49(2H, s), 4.70-5.40(1H, m), 5.98(2H, s), 6.70-6.80(1H, m), 6.81-6.90(2H, m), 6.90-7.04(2H, m), 7.12(1H, d, J = 2.2 Hz, 8.6 Hz), 7.18-7.26(1H, m), 7.72(1H, dd, J = 2.2 Hz, 8.5 Hz), 7.93(2H, d, J = 8.2 Hz), 7.95-8.02(1H, m), 8.24(2H, d, J = 8.2 Hz).
하기 화합물을 실시예 2609에서와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00771
Figure 112007010406990-pct00772
하기 화합물을 참고예 111과 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00773
Figure 112007010406990-pct00774
Figure 112007010406990-pct00775
실시예 2623
2-[4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-페녹시]페닐}프로피오닐)피페라진-1-일]아세트산 히드로클로라이드의 제조
THF (5 mL) 및 에탄올 (5 mL) 중 에틸 2-[4-(3-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)페녹시]페닐}프로피오닐)피페라진-1-일] 아세테이트 (0.493 g, 0.843 mmol)의 용액에 5 M 수산화나트륨 수용액 (0.253 mL, 1.27 mmol) 및 물 (1 mL)을 첨가하고, 생성되는 용액을 1시간 동안 환류하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하고, 잔류물을 50%의 에탄올 수용액에 용해하였다. 생성되는 용액을 5 M 염산 (0.253 mL, 1.27 mmol)에 첨가하고, 수득된 고체를 여과에 의해 수집하였다. 상기 고체에 에탄올 (10 mL) 및 5 M 염산 (0.3 mL)을 가열에 의해 용해하였다. 용매를 증발시키고, 수득된 고체를 에탄올 - 디에틸 에테르로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 0.381 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 215-218℃
하기 화합물을 실시예 2623와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00776
Figure 112007010406990-pct00777
Figure 112007010406990-pct00778
Figure 112007010406990-pct00779
Figure 112007010406990-pct00780
Figure 112007010406990-pct00781
Figure 112007010406990-pct00782
Figure 112007010406990-pct00783
Figure 112007010406990-pct00784
실시예 2664
(4-{5-[(4-트리플루오로메틸페닐아미노)-메틸]-피리딘-2-일옥시}페닐)(4-피페로닐피페라진-1-일)메타논의 제조
메탄설폰산 6-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일 에스테르 (0.433 g, 0.824 mmol) 및 4-트리플루오로메틸 페닐아민 (0.310 mL, 2.47 mmol)을 함께 혼합하고, 생성되는 혼합물을 100℃에서 2시간 동안 교반하였다. 형성된 황색 물질을 중탄산나트륨 포화용액, 에틸 아세테이트 및 THF (각각 20 ml)과 함께 교반하였다. 유기층을 수집하고, 염수로 세정하며, 무수 황산나트륨 상에서 건조하고, 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 50 : 1)에 의해 정제하여 표제 화합물 0.236 g을 제공하였다.
외관: 담황색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.44(4H, brs), 3.45(2H, s), 3.57(2H, brs), 3.75(2H, brs), 4.30-4.35(1H, m), 4.36(2H, s), 5.95(2H, s), 6.63(2H, d, J = 8.7 Hz), 6.74-6.77(2H, m), 6.85(1H, s), 6.93(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.15(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.39-7.47(4H, m), 7.71(1H, dd, J = 2.5 Hz, 8.4 Hz), 8.18(1H, d, J = 2.3 Hz).
하기 화합물을 실시예 2664와 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00785
실시예 2668
2-(메틸-{4-[5-(5-트리플루오로메틸-피리딘-2-일옥시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}아미노)-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논의 제조
2-{[4-(5-히드록시메틸피리딘-2-일옥시)페닐]메틸아미노}-1-(4-피페로닐피페라진-1-일)에타논 (0.98 g, 2.0 mmol)을 DMF (30 mL)에 용해하였다. 생성되는 용액을 빙냉 하에 60%의 수소화나트륨 (60%, 88 mg, 2.2 mmol)에 첨가하고, 상기 용액을 0℃에서 30분 동안 교반하였다. 반응 용액에 2-클로로-5-(트리플루오로메틸)피리딘 (0.36 g, 2.0 mol)을 첨가하고, 상기 용액을 질소 대기 하에 3시간 동안 60℃에서 교반하였다. 생성되는 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 상기 용액을 물 및 염수로 세정하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (n-헥산 : 에틸 아세테이트 = 1 : 5)에 의해 정제하여, 이에 따라 표제 화합물 0.68 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.41-2.44(4H, m), 3.02(3H, s), 3.43(2H, s), 3.48(2H, brs), 3.63(2H, brs), 4.08(2H, s), 5.37(2H, s), 5.94(2H, s), 6.68-6.77(4H, m), 6.81-6.84(3H, m), 7.00(2H, d, J = 9.1 Hz), 7.72-7.79(2H, m), 8.27(1H, d, J = 2.3 Hz), 8.44(1H, brs).
하기 화합물을 실시예 2668과 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00786
실시예 2672
3,4-디클로로-N-{6-[4-(3,5-디옥소이속사졸리딘-4-일리덴메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
물 (0.2 mL) 중 히드록실아민 히드로클로라이드 (500 mg, 1.0 mmol) 용액에 THF (5 mL) 중 탄산나트륨 (1.05 g, 9.91 mmol) 및 2-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질리덴}말론산 디메틸 에스테르 (500 mg, 1.0 mmol)의 용액을 첨가하였다. 생성되는 용액에 이어서 메탄올 (5 mL)을 첨가하고 60℃에서 8시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)에 의해 정제하였다. 생성되는 백색 침전물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 여과하며, 여과액을 디에틸 에테르로 세정하여, 이에 따라 표제 화합물 105 mg을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.12(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.14(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.63(2H, d, J = 8.8 Hz), 7.84(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.95(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.15(1H, s), 8.22(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.6 Hz), 8.22(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.51(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.57(1H, s), 11.16(1H, s).
실시예 2673
3,4-디클로로-N-{6-[4-(5-메틸-[1,2,4]옥사디아졸-3-일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 모노히드로클로라이드의 제조
3,4-디클로로-N-{6-[4-(N-아세톡시카르밤이미도일메틸)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드 (340 mg, 0.788 mmol)에 아세트산 (4 mL)을 첨가하고, 생성되는 용액을 10분 동안 환류 하에 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 생성되는 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 40 : 1)에 의해 정제하고 수득된 잔류물을 에틸 아세테이트 (5 mL)에 용해하였다. 상기 용액에 에틸 아세테이트 중 4 N 염화수소 용액을 화합물이 더이상 침전되지 않을 때까지 첨가하였다. 수득된 백색 분말을 여과하고, 디에틸 에테르로 세정하여, 이에 따라 표제 화합물 154 mg을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.55(3H, s), 4.05(2H, s), 7.07(1H, d, J = 8.7 Hz), 7.07(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.33(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.83(1H, d, J = 8.4 Hz), 7.96(1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 8.21(1H, dd, J = 8.7 Hz, 2.6 Hz), 8.24(1H, d, J = 2.0 Hz), 8.48(1H, d, J = 2.6 Hz), 10.62(1H, s).
실시예 2674
1-(3-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-피리딜메틸]페닐}프로피오닐)-4-피페로닐피페라진 모노히드로클로라이드의 제조
THF (5 mL) 및 에탄올 (5 mL) 중 에틸 3-(4-{5-[비스(3,4-디클로로벤조일)아미노]-2-피리딜메틸}페닐)프로피오네이트 (177 mg, 0.281 mmol)의 용액에 5 M 수산화나트륨 수용액 (0.0929 mL, 0.463 mmol) 및 물 (1 mL)을 첨가하고, 생성되는 용액을 1시간 동안 환류하였다. 상기 반응 용액에 5 M 염산 (0.12 mL)을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 DMF (3 mL)에 용해한 후, 생성되는 용액에 1-피페로닐피페라진 (102 mg, 0.463 mmol), 트리에틸아민 (0.137 mL, 0.983 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.0703 mL, 463 mmol)를 첨가하고, 실온에서 1.5시간 동안 교반하였다. 생성되는 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 70 : 1 → 40 : 1 → 20 : 1)에 의해 정제하여, 이에 따라 44.1 mg의 유리 형태를 제공하였다. 상기 유리 형태를 가열에 의해 에탄올 (5 mL) 및 5 M 염산 (0.03 mL)에 용해하였다. 그 후, 용매를 증발시키고, 수득된 고체를 함수 이소프로판올로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 19.6 mg을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 181-183℃
실시예 2675
N-(6-{4-[4-(5-옥소-4,5-디히드로-[1,3,4]옥사디아졸-2-일메틸)피페라진-1-카르보닐]-페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 모노옥살레이트의 제조
THF (7 mL) 중 N-{6-[4-(4-히드라지노카르보닐-메틸피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 트리히드로클로라이드 (300 mg, 0.46 mmol)의 현탁액에 트리에틸아민 (0.29 mL, 2.08 mmol)을 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 10분 동안 교반하였다. 용액에 N,N'-카르보닐디이미다졸 (97 mg, 0.60 mmol)을 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 1시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 무수 환산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 그 후, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 15 : 1)에 의해 정제하였다. 수득된 잔류물을 에탄올에 용해하고, 생성되는 용액에 옥살산을 첨가하였다. 에탄올을 감압 하에 증발시키고, 그 후 고형화된 백색 물질을 여과시키며, 디에틸 에테르로 세정하여 표제 화합물 140 mg을 제공하였다.
외관: 백색 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 2.31-2.69(4H, m), 3.53(2H, s), 3.53(4H, brs), 7.16(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.17(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.45(2H, d, J = 8.5 Hz), 7.94(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.17(2H, d, J = 8.1 Hz), 8.26(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.7 Hz), 8.55(1H, d, J = 2.7 Hz), 10.67(1H, s), 12.27(1H, s).
실시예 2676
4-(4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}-4-히드록시부티릴)모르폴린의 제조
THF (20 mL) 및 메탄올 (5 mL) 중 4-(4-{4-[4-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-플루오로페녹시]페닐}-4-옥소부티릴)모르폴린 (1.00 g, 1.83 mmol)의 용액에 나트륨 보로히드라이드 (0.0694 g, 1.83 mmol)를 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 1시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 물 및 포화 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)에 의해 정제하였다. 수득된 고체를 함수 이소프로판올로부터 재결정화하여, 표제 화합물 0.850 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 108-111℃
하기 화합물을 실시예 2676과 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00787
Figure 112007010406990-pct00788
Figure 112007010406990-pct00789
실시예 2685
{6-[4-(4-피페로닐피페라진-1-일메틸)페녹시]피리딘-3-일메틸}-(4-트리플루오로메틸페닐)아민의 제조
THF (10 mL) 중 리튬 알루미늄 히드라이드 (0.106 g, 2.80 mmol)의 현탁액에 THF (10 mL) 중 6-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)-페녹시]-N-(4-트리플루오로메틸페닐)니코틴아미드 (0.423 g, 0.700 mmol)의 용액을 빙냉 하에 교반하면서 첨가하였다. 일단 전량을 적가하면, 용액의 온도를 서서히 승온하고, 환류 하에 2시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 빙수 (50 mL)를 용액에 첨가하고, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산나그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1)에 의해 정제하여 표제 화합물 0.125 g을 제공하였다.
외관: 연황색 오일
MS 576(M+)
하기 화합물을 실시예 2685와 동일한 방식으로 제조하였다.
실시예 2686
N-[6-(2-플루오로-4-{메틸[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)에틸]아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드
1H NMR (CDCl3) δ 2.50-2.55(10H, m), 2.92(3H, s), 3.41-3.45(4H, m), 5.93(2H, s), 6.39-6.49(2H, m), 6.73-6.74(2H, m), 6.84-6.89(2H, m), 6.99(1H, t, J = 9.1 Hz), 7.42-7.70(4H, m), 7.81(1H, brs).
실시예 2687
3-(3-메틸-4-{5-[2-(4-트리플루오로메틸-페닐)에틸]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-피페로닐-테트라히드로피리미딘-2-온 히드로브로마이드의 제조
질소 대기 하에 에틸 아세테이트 (15 mL) 중 3-(3-메틸-4-{5-[(E)-2-(4-트리플루오로메틸페닐)비닐]피리딘-2-일옥시}페닐)-1-피페로닐테트라히드로피리미딘-2-온 (0.16 g, 0.27 mmol)의 용액에 5% 백금-탄소 (0.05 g)를 첨가한 후, 생성되는 용액을 수소 대기 하에 4.5시간 동안 실온에서 교반하였다. 생성되는 반응 용액을 셀라이트를 통해 여과하고, 여과액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물을 실리카겔 크로마트그래피 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 4 - 1 : 2)에 의해 정제하고, 생성물에 히드로브로마이드를 첨가하여, 이에 따라 표제 화합물 50 mg을 제공하였다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (DMSO-d6) δ 1.85-2.09(5H, m), 2.77-3.02(4H, m), 3.15-3.33(2H, m), 3.55-3.70(2H, m), 3.75-4.15(1H, m), 4.40(2H, s), 5.99(2H, s), 6.76(1H, dd, J = 1.5 Hz, 7.8 Hz), 6.80-6.98(4H, m), 7.10(1H, dd, J = 2.6 Hz, 8.5 Hz), 7.19(1H, d, J = 2.6 Hz), 7.44(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.62(2H, d, J = 8.1 Hz), 7.71(1H, dd, J = 2.4 Hz, 8.4 Hz), 7.91(1H, d, J = 2.4 Hz).
하기 화합물을 참고예 673과 동일한 방식으로 제조하였다.
Figure 112007010406990-pct00790
실시예 2692
1-[3-(4-{1-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)-2-피리딜]-1-히드록시이미노}메틸페닐)프로피오닐]-4-피페로닐피페라진의 제조
피리딘 (7 mL) 중 1-(3-{4-[5-(3,4-디클로로-벤조일아미노)피리딘-2-카르보닐]페닐}프로피오닐)-4-피페로닐피페라진 (0.330 g, 0.511 mmol)의 용액에 히드록실아민 히드로클로라이드 (53.3 mg, 0.767 mmol)를 첨가하고, 생성되는 용액을 0.5시간 동안 환류하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하고, 잔류물에 염수를 첨가하였다. 상기 용액을 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄 층을 무수 황산마그네슘 상에서 건조하고, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 15 : 1)에 의해 정제하여, 이에 따라 표제 화합물 0.225 g을 옥심의 syn 형태 및 anti 형태의 혼합물로서 수득하였다.
외관: 무색 무정형 분말
1H NMR (CDCl3) δ 2.21-2.39(4H, m), 2.49-2.60(2H, m), 2.78-2.90(2H, m), 3.29-3.44(4H, m), 3.55(2H, s), 5.90(2H, s), 6.62-6.73(2H, m), 6.80(1H, s), 7.07(1H, d, J = 7.7 Hz), 7.12(1H, d, J = 7.7 Hz), 7.15-7.30(2.5H, m), 7.39(0.5H, d, J = 8.4 Hz), 7.42(0.5H, d, J = 8.4 Hz), 7.45-7.51(0.5H, m), 7.62-7.74(1H, m), 7.94(0.5H, d, J = 2.0 Hz), 7.99(0.5H, d, J = 2.0 Hz), 8.09-8.28(1H, m), 8.62(0.5H, s), 8.85(0.5H, s), 9.40(0.5H, brs), 9.62(0.5H, brs), 10.21(0.5H, brs), 13.85(0.5H, brs).
실시예 2693
4-(2-옥소-3-{4-[5-(4-트리플루오로메틸-벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오닐)-피페라진-1-카르복실산 t-부틸 에스테르의 제조
디클로로메탄 (4 mL) 중 4-(2-히드록시-3-{4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}프로피오닐)피페라진-1-카르복실산 t-부틸 에스테르 (0.58 g, 0.94 mmol)의 용액에 Dess-Martin 시약 (0.8 g, 1.89 mmol)을 첨가한 후, 생성되는 용액을 질소 기류 하에 4시간 동안 실온에서 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 1 N 수산화나트륨 수용액 (50 mL)을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 50 : 1)에 의해 정제하여, 이에 따라 표제 화합물 0.31 g을 제공하였다.
외관: 황색 분말
1H NMR (CDCl3) δ 1.41(9H, s), 2.99-3.22(4H, m), 3.25-3.41(2H, m), 3.42-3.60(2H, m), 4.04(2H, s), 6.97(1H, d, J = 8.9 Hz), 7.10(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.27(2H, d, J = 8.4 Hz), 7.73(2H, d, J = 8.0 Hz), 7.99(2H, d, J = 8.0 Hz), 8.13(1H, d, J = 2.8 Hz), 8.30(1H, dd, J = 8.9 Hz, 2.8 Hz), 8.45(1H, brs).
실시예 2694
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드 (37.4 g)를 에탄올 (700 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 34.34 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 175-176℃
실시예 2695
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드 (8.15 g)를 에탄올 (60 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 7.78 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 163-166℃
실시예 2696
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (5.1 g, 7.7 mmol)를 아세톤 (15 mL)으로부터 제결정화하여 표제 화합물 3.7 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 128-131℃
실시예 2697
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸-벤즈아미드의 제조
N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)-페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (78.86 g)를 에탄올 (530 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 96.66 g을 제공하였다.
외관: 백색 침정
융점: 177.6-179.2℃
실시예 2698
N-(6-{4-[4-(2-옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴놀린-6-일메틸)피페라진-1-카르보닐]페녹시}-피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
DMF (150 mL) 중 4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤조산 (4.30 g, 10.7 mmol)의 용액에 1-(2-옥소-1,2,3,4-테트라히드로퀴놀린-6-일메틸)-피페라진 (2.6 g, 10.7 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (1.64 g, 10.7 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필) 카르보디이미드 히드로클로라이드 (2.46 g, 12.8 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 1시간 동안 및 실온에서 17시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화하여 표제 화합물 5.24 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 250.5-252.5℃
실시예 2699
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페리딘-1-카르보닐)피페라진-1-카르보닐]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
DMF (88 mL) 중 1-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]벤조일}피페리딘-4-카르복실산 (4.5 g, 8.8 mmol)의 용액에, 1-벤질피페라진 (1.83 mL, 10.5 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (1.61 g, 10.5 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (2.02 g, 10.5 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 밤새 교반하였다. 상기 반응 용액에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 생성되는 용액을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 이소프로필 알콜 (700 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 3.2 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 223-225℃
실시예 2700
N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
질소 대기 하에 에틸 아세테이트 (30 mL) 중 1-(4-벤질피페라진-1-일)-2-{메틸[3-메틸-4-(5-니트로피리딘-2-일옥시)페닐]-아미노}에타논 (2.85 g, 6.0 mmol)의 현탁액에 5% 백금-탄소 (0.30 g)를 첨가하고, 생성되는 용액을 수소 대기 하에 40℃에서 3시간 동안 교반하였다. 백금-탄소를 셀라이트로 분리하고, 여과액을 농축하였다. 잔류물을 THF (30 mL)에 용해하고, 상기 용액에 트리에틸아민 (1.26 mL, 9.1 mmol)을 빙냉 하에 첨가하였다. 그 후, 생성되는 용액에 4-(트리플루오로메틸)벤조일 클로라이드 (1.16 mL, 7.8 mmol)를 적가하였다. 상기 반응 용액을 밤새 교반한 후, 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 물로 세정한 후, 무수 황산나트륨 상에서 건조하였다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1)에 의해 정제하였다. 그 후, 생성물을 디이소프로필 에테르-아세톤으로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.37 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 112-113℃
실시예 2701
(4-벤질피페라진-1-일)(4-{5-[메틸(4-트리플루오로메틸벤질)아미노]피리딘-2-일옥시}페닐)-메타논의 제조
메탄올 (150 mL) 중 (4-벤질피페라진-1-일){4-[5-(4-트리플루오로메틸벤질아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-메타논 (5.40 g, 9.88 mmol)의 용액에 37% 포름알데히드 수용액 (2.8 mL), 나트륨 시아노보로히드라이드 (1.86 g, 29.6 mmol) 및 아세트산 (1.7 mL)을 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 용액을 감압 하에 증발시켰다. 물을 잔류물에 첨가하고, 상기 용액을 중탄산나트륨 포화용액으로 중성화하며, 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물로 세정한 후, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하였다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (클로로포름 : 메탄올 = 60 : 1)에 의해 정제하였다. 그 후, 생성물에 에틸 아세테이트 중 4 M 염화수소 용액을 생성되는 용액의 pH가 1이 될 때까지 첨가하였다. 침전물을 여과에 의해 수집하고 에탄올 (80 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 2.5 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 180-183.5℃
실시예 2702
4-피페로닐피페라진-1-카르복실 4-[5-(3,4-디클로로벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]벤질아미드 히드로클로라이드의 제조
THF (50 mL) 중 4-피페로닐피페라진-1-카르복실 4-(5-아미노피리딘-2-일옥시)벤질아미드 (2.48 g, 5.4 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.9 mL, 6.5 mmol) 및3,4-디클로로벤조일 클로라이드 (1.13 g, 5.4 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 10분 동안 교반하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 물 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 25 : 1)에 의해 정제하여 백색 분말 2.97 g을 제공하였다. 상기 백색 분말을 에탄올 (45 mL)에 용해하고, 생성되는 용액에 에틸 아세테이트 중 4 M 염화수소 용액을 용액의 pH가 1이 될 때까지 첨가하였다. 침전물을 여과에 의해 수집하고, 83% 에탄올 (36 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 2.72 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 243.5-246.5℃
실시예 2703
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드의 제조
N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드 (1.35 g)를 에탄올 (20 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.23 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 156-158℃
실시예 2704
N-(6-{4-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
N-(6-{4-[4-(4-피페로닐피페리딘-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드 (1.95 g)를 에탄올 (35 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.70 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 130-133℃
실시예 2705
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (0.86 g, 1.30 mmol)를 아세톤 (3 mL), 디에틸 에테르 (4 mL) 및 n-헥산 (1 mL)의 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 0.72 g을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 154-155℃
실시예 2706
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드의 제조
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페리딘-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드 (1.55 g)를 에탄올 (60 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.41 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 199-201℃
실시예 2707
N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
DMF (40 mL) 중 (1-{4-[5-(3,4-디클로로벤젠설포닐아미노)피리딘-2-일옥시]-3-메틸페닐}피페리딘-4-일)아세트산 (1.70 g, 3.1 mmol) 및 1-벤질피페라진 (0.71 g, 4.0 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (1.08 mL, 7.8 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.76 g, 4.3 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 1시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 40 : 1)에 의해 정제한 후, 생성물을 에탄올로부터 재결정화하여 이에 따라 표제 화합물 1.61 g을 제공하였다.
외관: 백색 침정
융점: 151-155℃
실시예 2708
N-[6-(4-{[2-(4-벤조티아졸-6-일메틸피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드 디히드로클로라이드의 제조
DMF (15 mL) 중 ({4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)아세트산 (1.02 g, 2.3 mmol) 및 1-(벤조티아졸-6-일메틸)-피페라진 (0.58 g, 2.5 mmol)의 용액에 트리에틸아민 (0.95 mL, 6.9 mmol) 및 디에틸 시아노포스포네이트 (0.447 mL, 2.7 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉 하에 30분 동안 및 실온에서 45분 동안 교반하였다. 물을 용액에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 30 : 1)에 의해 정제하여 백색 분말 1.28 g을 수득하였다. 상기 백색 분말을 에탄올 (15 mL)에 용해하고, 생성되는 용액에 에틸 아세테이트 중 4 M 염화수소 용액을 생성되는 용액의 pH가 1이 될 때까지 첨가하였다. 침전물을 여과에 의해 수집하고 85% 에탄올 (30 mL)로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 1.06 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 202-223℃
실시예 2709
3,4-디클로로-N-{6-[4-({2-[4-(2,3-디히드로벤조[1,4]디옥신-6-일메틸)피페라진-1-일]-2-옥소에틸}메틸아미노)페녹시]피리딘-3-일}벤즈아미드의 제조
DMF (55 mL) 중 ({4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}메틸아미노)아세트산 (2.50 g, 5.6 mmol)의 용액에 1-(2,3-디히드로벤조[1,4]디옥신-6-일메틸)피페라진 (1.7 g, 7.3 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.86 g, 5.6 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (1.29 g, 6.7 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 빙냉하에 30분 동안 및 실온에서 17시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 물을 잔류물에 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 에틸 아세테이트 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 에탄올 (30 mL)에 용해하였다. 생성되는 용액에 말레산 (0.32 g, 2.7 mmol)을 첨가하고, 상기 용액을 정치시켰다. 침전물을 여과에 의해 수집하여, 이에 따라 표제 화합물 1.45 g을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 188-190℃
실시예 2710
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드의 제조
N-(6-{4-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드 (0.79 g)를 에탄올 (15 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 0.67 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 185-189℃
실시예 2711
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-피롤-1-일벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-피롤-1-일벤즈아미드 (2.49 g)를 아세톤 (20 mL) 및 디에틸 에테르 (30 mL)로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 2.26 g을 제공하였다.
외관: 연황색 분말
융점: 163.1-166.5℃
실시예 2712
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤젠설폰아미드 (8.18 g)를 에틸 아세테이트 (70 mL) 및 n-헥산 (20 mL)으로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 6.93 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 177.8-180.1℃
실시예 2713
6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일]-2-메틸페녹시}피리딘-3-설포닐-(4-트리플루오로메틸페닐)아미드의 제조
6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일]-2-메틸페녹시}피리딘-3-설포닐-(4-트리플루오로메틸페닐)아미드 (1.50 g)를 에탄올 (20 mL)로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.40 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 156-160℃
실시예 2714
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 (2.1 g, 3.2 mmol)를 가열하여 아세톤 (5 mL)에 용해하고, 그 후 생성되는 용액에 디에틸 에테르 (10 mL)를 첨가함으로써 재결정화하여 표제 화합물 2.0 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 113-116℃
실시예 2715
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드의 제조
3,4-디클로로-N-{3-플루오로-4-[4-(1-히드록시-2-모르폴린-4-일에틸)페녹시]페닐}벤즈아미드 (5 g)를 에틸 아세테이트-n-헥산로부터 재결정화하여 표제 화합물 4.73 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 169-170℃
실시예 2716
N-(6-{4-[4-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-카르보닐]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드의 제조
DMF (160 mL) 중 1-{4-[5-(3,4-디클로로벤조일-아미노)피리딘-2-일옥시]벤조일}피페리딘-4-카르복실산 (7.96 g, 15.5 mmol)의 용액에 1-피페로닐피페라진 (3.75 g, 17.6 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (2.85 g, 18.6 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (3.56 g, 18.6 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 물 및 에틸 아세테이트를 첨가하고, 생성되는 용액을 격렬하게 교반하였다. 생성되는 침전물을 여과에 의해 수집하고, 디클로로메탄-메탄올 혼합 용매로부터 재결정화하여, 이에 따라 표제 화합물 7.36 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 236-238℃
실시예 2717
N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]-피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드의 제조
DMF (10 mL) 중 [1-(4-{메틸[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일]아미노}페닐)피페리딘-4-일]아세트산 (0.80 g, 1.6 mmol)의 용액에 1-피페로닐피페라진 (0.41 g, 1.9 mmol), 1-히드록시벤조트리아졸 모노히드레이트 (0.24 g, 1.6 mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 히드로클로라이드 (0.39 g, 2.0 mmol)를 빙냉 하에 첨가하고, 생성되는 용액을 실온에서 3시간 동안 교반하였다. 상기 반응 용액을 감압 하에 농축하였다. 잔류물에 중탄산나트륨 포화용액을 첨가하고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 디클로로메탄 층을 중탄산나트륨 포화용액 및 염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘 상에서 건조하며, 증발시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (디클로로메탄 : 메탄올 = 20 : 1)에 의해 정제하였다. 그 후, 생성물을 95% 에탄올-디클로로메탄으로 이루어진 혼합 용매로부터 재결정화하여 표제 화합물 1.05 g을 제공하였다.
외관: 백색 분말
융점: 210-212℃
제형예 1
실시예 319에서 수득한 N-[6-(4-{4-[2-(피페로닐-피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)-피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드 100 g, Avicel (상표명, Asahi Kasei Corporation사 제품) 40 g, 옥수수 전분 30 g 및
2 g을 혼합하고 함께 연마하였다. 그 후, 생성되는 혼합물을 막자를 사용하여 R 10 mm의 당의정으로 만들었다. 수득된 정제를 TC-5 (상표명, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.사 제품, 히드록시프로필메틸 셀룰로오스) 10 g, 폴리에틸렌 글리콜 6000 3 g, 피마자유 40 g 및 적량의 에탄올을 함유하는 필름 코팅제로 코팅하여, 이에 따라 필름코팅정을 제공하였다.
약리 시험
인간 성상 세포주인 LI90 세포를 10% 소태아 혈청이 보충된 DMEM (DULBECCO의 변형된 이글 (eagle) 배지) 중 12-웰 프라스틱 플레이트에 시딩하고, 이산화탄소(CO2) 인큐베이터 (설정 온도: 37℃, 설정된 CO2 농도: 5%) 에서 24시간 동안 배양하였다. 그 후, 배양된 세포를 D-PBS(-) (DULBECCO의 인산염 완충 식염수)로 세정하고, 이어서 0.1% 소태아 혈청이 보충된 MEM (Eagle 의 최소 필수 배지) 에서 3일 동안 더 배양하였다. 상기 배양된 세포를 D-PBS(-)로 다시 세정하고, 시험 화합물 및 10pM의 h-TGF-β1(인간 형질전환 성장 인자 β1)을 함유하는 MEM (총 MEM 부피에 대하여 소태아 혈청 0.1%) 에서 16시간 동안 배양하였다. 그 후, 배양된 LI90 세포를 D-PBS(-)로 세정하고, 3H-프롤린 (방사성 표지된 화합물) 및 2.5mM의 아스코르브산 함유 MEM 에서 24시간 동안 배양하였다. 생성된 콜라겐을 RI (방사성 동위원소)로 표지하였다. 상기 배양 상청액으로부터, 산 용해성 분획을 추출하였다. 상기 분획으로부터 방사능을 측정하였다. 측정치를 콜라겐 합성 활성도로 하였다.
시험 화합물로 배양한 배양 상청액의 방사능을 시험 화합물 없이 배양한 배양 상청액의 방사능과 비교하여 콜라겐 합성 억제 활성도(T/C)를 계산하고, 콜라겐 합성이 50% 억제되는 농도(㎛) (IC50 = T/C가 0.5에 해당되는 시험 화합물의 농도)를 측정하였다.
T/C = (시험 화합물로 배양한 배양 상청액의 방사능)/(시험 화합물 없이 배양한 배양 상청액의 방사능)
상기 결과는 표 432에 기재되어 있다.
Figure 112007010406990-pct00791

Claims (58)

  1. 하기 일반식 (1) 로 나타내는 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112008057100353-pct00792
    [식에서, X1 은 질소 원자 또는 -CH= 기를 나타내고,
    R1 은 -Z-R6 기를 나타내고,
    Z 는 -N(R8)-B- 기, -B-N(R8)- 기, -B0-O- 기,
    Figure 112008057100353-pct00793
    기, -CO- 기, -CH(OH)- 기,
    Figure 112008057100353-pct00794
    기, -N=CH- 기,
    Figure 112008057100353-pct00795
    기, C2-C6 알케닐렌기, -NHCO-B1- 기, -NHCO-B2-(W)u- 기, -B0-O-B19a- 기,
    Figure 112008057100353-pct00796
    기,
    Figure 112008057100353-pct00797
    기,
    Figure 112008057100353-pct00798
    기, -S- 기, C2-C6 알키닐렌기, C1-C6 알킬렌기,
    Figure 112008057100353-pct00799
    기 또는
    Figure 112008057100353-pct00800
    기를 나타내고,
    여기서, R8 은 수소 원자, 치환기로서 C1-C6 알콕시기를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, C1-C6 알카노일기, 페닐 C1-C6 알킬기, 또는 C1-C6 알킬설포닐기를 나타내고,
    B 는 -CO- 기 또는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B0 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    동일 또는 상이한 각 R9a 및 R9b 는 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    R10a 는 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    B22a 는 C1-C6 알킬렌기 또는 C2-C6 알케닐렌기를 나타내고,
    e 는 0 또는 1 을 나타내고,
    B1 은 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 C2-C6 알케닐렌기를 나타내고,
    B2 는 C1-C6 알콕시기 및 페닐기로 이루어진 군에서 선택되는 기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    W 는 산소 원자, -NH- 기, 또는 황 원자를 나타내고,
    u 는 0 또는 1 을 나타내고,
    B18a 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B19a 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B20a 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B21a 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    R8d 는 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    k 는 2 또는 3 을 나타내고,
    c 는 0 또는 1 을 나타내고,
    d' 는 0 또는 1 을 나타내고,
    R10b 는 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    R6 은 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 내지 15-원 단환식, 이환식, 또는 삼환식 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (여기서, 상기 헤테로시클릭 고리는 옥소기; 임의로 할로겐화되는 C1-C6 알콕시기; 임의로 할로겐화되는 C1-C6 알킬기; 할로겐 원자; C1-C6 알킬설포닐기; 페닐 고리 상에서, 임의로 할로겐화되는 C1-C6 알킬기에 의해 치환될 수 있는 페닐기; C1-C6 알킬티오기; 피롤릴기; 벤조일기; C1-C6 알카노일기; C1-C6 알콕시카르보닐기; 및 치환기로서 C1-C6 알킬기 및 C1-C6 알카노일기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군 중에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있음), 아다만틸기, 나프틸기 (여기서, 상기 나프탈렌 고리는 C1-C6 알킬기, 할로겐 원자, 및 치환기로서 C1-C6 알킬기 및 C1-C6 알카노일기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 아미노기로 이루어진 군 중에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있음), 치환기로서 C1-C6 알콕시기를 가질 수 있는 C1-C8 알킬기, C3-C16 시클로알킬 고리 상에서, 아미노기 상에 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 C1-C6 알킬기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기에 의해 치환될 수 있는 C3-C16 시클로알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C2-C6 알케닐기, C1-C6 알카노일기, 페닐 고리 상에서, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 벤조일기,
    Figure 112008057100353-pct00801
    기, 할로겐 원자-치환된 C1-C6 알킬기, 또는 C3-C16 시클로알킬 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    R7 은 수소 원자, 페닐기, 카르복시기, 히드록실기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 페녹시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기, C1-C4 알킬렌디옥시기, 치환기로서, C1-C6 알킬기, C1-C6 알카노일기, 벤조일기, 및 C3-C16 시클로알킬기로 이루어진 군에서 선택된 기를 가질 수 있는 아미노기, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C2-C6 알카노일기, C1-C6 알킬설포닐기, 아미노설포닐기, C1-C6 알콕시카르보닐기, C2-C6 알카노일옥시기, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자가 1 내지 4 개인 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기 (여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 옥소기에 의해 치환될 수 있음), 또는 C1-C6 알콕시카르보닐 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    m 은 1 내지 5 의 정수를 나타내며, 여기서 m 이 2 내지 5 를 나타내는 경우, 2 내지 5 개의 R7 은 동일 또는 상이할 수 있고,
    R2 는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    Y 는 -O- 기, -N(R5)- 기, -CO- 기, -CH(OH)- 기, C1-C6 알킬렌기, -S(O)n- 기, 또는 -C(=N-OH)- 기를 나타내고,
    R5 는 수소 원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알카노일기, 벤조일기, 페닐 C1-C6 알킬기, 또는 C3-C16 시클로알킬기를 나타내고,
    n 은 0, 1, 또는 2 를 나타내고,
    A 는
    Figure 112008057100353-pct00802
    기 또는
    Figure 112008057100353-pct00803
    기를 나타내고,
    p 는 1 또는 2 를 나타내고,
    R3 은 수소 원자, C1-C6 알콕시기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시카르보닐기, 카르복시기, -CONR11R12 기, 또는 시아노기를 나타내고,
    여기서, 동일 또는 상이한 각 R11 및 R12 는 수소 원자, C1-C6 알킬기, C3-C16 시클로알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R11 및 R12 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있고,
    R4 는 -(T)1-N(R14)R15 기를 나타내고,
    T 는 C1-C6 알킬렌기, -N(R17)-B3-CO- 기, -B19-N(R18)-CO- 기, -B4-CO- 기, -Q-B5-CO- 기, -B6-N(R19)-B7-CO- 기, -CO-B8- 기, -CH(OH)-B9- 기, -CO-B10-CO- 기, -CH(OH)-B11-CO- 기, -CO- 기, -SO2- 기, 또는 -B23a-CO-CO- 기를 나타내고,
    여기서, R17 은 수소 원자, C1-C6 알킬기, C3-C16 시클로알킬기, C3-C16 시클로알킬카르보닐기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C2-C6 알카노일기, C2-C6 알케닐기, 치환기로서 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 아미노-치환된 C2-C6 알카노일기, 또는 C1-C6 알킬설포닐기를 나타내고,
    B3 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B19 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    R18 은 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    B4 는 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 C1-C6 알킬렌기 또는 C2-C6 알케닐렌기를 나타내고,
    Q 는 산소 원자 또는 -S(O)n- 기를 나타내고 (여기서, n 은 상기한 바와 같음),
    B5 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B6 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    R19 는 수소 원자 또는 C1-C6 알카노일기를 나타내고,
    B7 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B8 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B9 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B10 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B11 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    B23a 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    l 은 0 또는 1 을 나타내고,
    R14 및 R15 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리; 또는
    Figure 112008057100353-pct00808
    기를 형성할 수 있고,
    여기서, 상기 헤테로시클릭 고리는 (28) 1 내지 2 개의 페닐기를 가지고 C1-C6 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 페닐-치환된 C1-C6 알킬기 (여기서 상기 페닐 고리는 C1-C6 알카노일기, 치환기로서 C1-C6 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, C1-C6 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기, 페닐 C1-C6 알콕시기, 히드록실기, 및 C1-C4 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있음), (29) 카르바모일기, (30) 피리딘 고리 상에 치환기(들)로서, 히드록실기 및 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 피리딜 C1-C6 알킬기, (31) 피롤 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 피롤릴 C1-C6 알킬기, (32) 벤즈옥사졸릴 C1-C6 알킬기, (33) 벤조티아졸릴 C1-C6 알킬기, (34) 푸릴 C1-C6 알킬기, (35) 페닐 고리 상에서, 시아노기, 치환기로서 C1-C6 알킬설포닐기를 가질 수 있는 아미노기, 할로겐 원자, C1-C6 알콕시기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐 C1-C6 알킬기, 티아졸리딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 티아졸리디닐리덴 C1-C6 알킬기, 및 C1-C4 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 벤조일기, (36) 피리미디닐기, (37) 피라지닐기, (38) 피리딜기, (39) C1-C6 알콕시카르보닐기, (40) 티아졸리딘 고리 상에서, 옥소기 및
    Figure 112008057100353-pct00809
    기 (식에서, 각 Ra 및 Rb 는 C1-C6 알킬기를 나타냄) 로 이루어진 군에서 선택되는 기에 의해 치환될 수 있는 티아졸리디닐 C1-C6 알카노일기, (41) 치환기로서 히드록실기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, (42) 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C2-C6 알카노일기, (43) 페닐 고리 상에서, C1-C6 알콕시 C1-C6 알킬기 및 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 카르바모일기, C1-C6 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 시아노기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 페닐 C1-C6 알킬기, 및 히드록실기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐기, (44) 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C4 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐기, (45) 나프틸 C1-C6 알킬기, (46) 페닐 고리 상에서, 시아노기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페녹시기, (47) 페녹시 C1-C6 알킬기, (48) 페닐 고리 상에서, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐 C1-C6 알콕시기, (49) -(B12CO)t-N(R20)R21 기, (50) -(CO)o-B13-N(R22)R23 기, (51) 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에서, 치환기(들)로서 1 내지 5 개의 C1-C6 알킬기에 의해 치환될 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸-치환된 C1-C6 알킬기, (52) 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 C3-C16 시클로알킬기, (53) 피페리딘 고리 상에서, 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 C1-C6 알킬기에 의해 치환될 수 있는 피페리디닐기, (54) 퀴놀릴 C1-C6 알킬기, (55) 테트라졸 고리 상에 치환기로서 C1-C6 알킬기 및 페닐 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 C1-C6 알킬기, (56) 티아졸 고리 상에 치환기로서 페닐기를 가질 수 있는 티아졸릴 C1-C6 알킬기, (57) 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 C1-C6 알콕시기 및 할로겐 원자로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 벤조일 C1-C6 알킬기, (58) 피페리딘 고리 상에서 치환기로서 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐 C1-C6 알킬기, (59) 이미다졸 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 페닐기를 가질 수 있는 이미다졸릴기, (60) 벤즈이미다졸 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 벤즈이미다졸릴기, (61) 피리딜 C1-C6 알콕시기, (62) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴 C1-C6 알킬기, (63) 1,3,4-옥사디아졸 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,3,4-옥사디아졸릴 C1-C6 알킬기, (64) C3-C16 시클로알킬 C1-C6 알킬기, (65) 테트라히드로피라닐기, (66) 티에닐 C1-C6 알킬기, (67) 피리미딘 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 피리미디닐카르보닐기, (68) 히드록실기, (69) 카르복시기, (70) C1-C6 알콕시 C1-C6 알킬기, (71) C1-C6 알콕시 C1-C6 알콕시기, (72) 벤조일옥시기, (73) C1-C6 알콕시카르보닐 C1-C6 알콕시기, (74) 카르복시 C1-C6 알콕시기, (75) 페녹시 C2-C6 알카노일기, (76) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴카르보닐기, (77) 페닐설포닐기, (78) 이미다졸릴 C2-C6 알카노일기, (79) 이미다졸릴 C1-C6 알킬기, (80) 피리딜카르보닐기, (81) 이미다졸릴카르보닐기, (82) C1-C6 알콕시카르보닐 C1-C6 알킬기, (83) 카르복시 C1-C6 알킬기, (84) -(O-B15)s-CO-N(R26)R27 기, (85) -N(R28)-CO-B16-N(R29)R30 기, (86) -N(R31)-B17-CO-N(R32)R33 기, (87) 벤즈옥사졸릴기, (88a) 벤조티에닐기, (89a) 옥소기, 및 (90a) 테트라히드로퀴놀린 고리 상에 치환기로서 옥소기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기로 치환될 수 있고,
    B12 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    t 는 0 또는 1 을 나타내고,
    동일 또는 상이한 각 R20 및 R21 은 수소 원자; C3-C16 시클로알킬기; 치환기로서 C1-C6 알콕시카르보닐기를 가질 수 있는 아미노기; 페닐 고리 상에서 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 C1-C6 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기; C1-C6 알킬기; 페닐 고리 상에서, C1-C6 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기, 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 1 내지 2 개의 페닐기를 갖는 C1-C6 알킬기; 페닐 고리 상에서, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기 및 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있는 페닐기; C1-C6 알콕시카르보닐기; C3-C16 시클로알킬 C1-C6 알킬기; 피롤리딘 고리 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 피롤리디닐 C1-C6 알킬기; 치환기로서 페닐기 및 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 기를 가질 수 있는 아미노-치환된 C1-C6 알킬기; 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 5 개의 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라히드로나프틸-치환된 C1-C6 알킬기; 나프틸 C1-C6 알킬기; 피리딜 C1-C6 알킬기; 퀴놀릴 C1-C6 알킬기; 테트라졸 고리 상에 치환기(들)로서 C1-C6 알킬기 및 페닐 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 1,2,3,4-테트라졸릴 C1-C6 알킬기; 1,2,4-트리아졸릴 C1-C6 알킬기; C1-C6 알킬기 상에 치환기로서 히드록실기를 가질 수 있는 테트라히드로푸릴 C1-C6 알킬기; 페닐 고리 상에서 치환기(들)로서 C1-C6 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페녹시 C1-C6 알킬기; 페닐 C2-C6 알카노일기; 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C2-C6 알카노일기; 이미다졸릴 C2-C6 알카노일기; C1-C6 알콕시카르보닐 C1-C6 알킬기; 피리딜기; 또는 카르복시 C1-C6 알킬기를 나타내거나, 또는 R20 및 R21 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 C1-C6 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 할로겐 원자 및 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기를 가질 수 있는 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C4 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있고,
    o 는 0 또는 1 을 나타내고,
    B13 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    동일 또는 상이한 각 R22 및 R23 은 수소 원자, C1-C6 알킬기, 페닐 고리 상에 치환기(들)로서 1 내지 3 개의 C1-C6 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C6 알킬기를 가질 수 있는 페녹시 C1-C6 알킬기, 페닐 C1-C6 알킬기, 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R22 및 R23 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C4 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 C1-C6 알킬기 및 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있고,
    B15 는 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    s 는 0 또는 1 을 나타내고,
    동일 또는 상이한 각 R26 및 R27 은 수소 원자, C1-C6 알킬기, 페닐 C1-C6 알킬기, 또는 이미다졸릴 C1-C6 알킬기를 나타내거나, 또는 R26 및 R27 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 치환기(들)로서, 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C4 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 1 내지 3 개의 페닐 C1-C6 알킬기에 의해 치환될 수 있고,
    R28 은 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    B16 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    R29 및 R30 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 C1-C6 알킬기, 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C4 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있고,
    R31 은 수소 원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고,
    B17 은 C1-C6 알킬렌기를 나타내고,
    R32 및 R33 은 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 7-원 포화 헤테로시클릭기를 형성할 수 있고, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 C1-C6 알킬기, 페닐기, 및 페닐 고리 상에 치환기로서 C1-C4 알킬렌디옥시기를 가질 수 있는 페닐 C1-C6 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있되,
    단, 전술한 방향족 화합물 또는 그의 염은 하기 (i) 내지 (ii) 의 요건을 만족함:
    (i) X1 이 -CH= 기를 나타내는 경우, R3 은 수소 원자를 나타냄;
    (ii) X１ 이 -CH= 기를 나타내고, l 이 1 을 나타내고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 를 나타내는 경우, R14 및 R15 는, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여, 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리를 형성할 수 있으며, 여기서 상기 헤테로시클릭 고리는 1 내지 3 개의 전술한 (28) 의 기에 의해 치환됨].
  2. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-1) 내지 (1-7) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112008057100353-pct00811
    Figure 112008057100353-pct00812
    [상기 일반식 (1-1) 내지 (1-7) 에 있어서, R6, B, R8, R2, R5, n, X1, 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 C1-C6 알킬렌기를 나타냄].
  3. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-8) 내지 (1-14) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00813
    [상기 일반식 (1-8) 내지 (1-14) 에 있어서, R6, B, R8, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  4. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-15) 내지 (1-21) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00814
    [상기 일반식 (1-15) 내지 (1-21) 에 있어서, R6, B0, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  5. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-22) 내지 (1-28) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00815
    [상기 일반식 (1-22) 내지 (1-28) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  6. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-29) 내지 (1-35) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00816
    Figure 112007010406990-pct00817
    [상기 일반식 (1-29) 내지 (1-35) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  7. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-36) 내지 (1-42) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00818
    [상기 일반식 (1-36) 내지 (1-42) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  8. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-43) 내지 (1-49) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00819
    [상기 일반식 (1-43) 내지 (1-49) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A, R9a 및 R9b 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  9. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-50) 내지 (1-56) 으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00820
    [상기 일반식 (1-50) 내지 (1-56) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  10. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-57) 내지 (1-63) 으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00821
    Figure 112007010406990-pct00822
    [상기 일반식 (1-57) 내지 (1-63) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1, A, R10a, B22a 및 e 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  11. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-64) 내지 (1-70) 으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112008057100353-pct00823
    [상기 일반식 (1-64) 내지 (1-70) 에 있어서, R6, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Z1 은 C2-C6 알케닐렌기를 나타냄].
  12. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-71) 내지 (1-77) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00824
    [상기 일반식 (1-71) 내지 (1-77) 에 있어서, R6, R2, B1, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  13. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-78) 내지 (1-84) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00825
    [상기 일반식 (1-78) 내지 (1-84) 에 있어서, R6, W, u, B2, R2, R5, n, X1 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  14. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-85) 내지 (1-91) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00826
    Figure 112007010406990-pct00827
    [상기 일반식 (1-85) 내지 (1-91) 에 있어서, R5, R6, B19a, B0, R2, X1, n 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  15. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-92) 내지 (1-98) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00828
    Figure 112007010406990-pct00829
    [상기 일반식 (1-92) 내지 (1-98) 에 있어서, R5, R6, B20a, R2, X1, A, n, d' 및 k 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  16. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-99) 내지 (1-105) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00830
    [상기 일반식 (1-99) 내지 (1-105) 에 있어서, R6, R5, B21a, R2, X1, A, n 및 c 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  17. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-106) 내지 (1-112) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00831
    [상기 일반식 (1-106) 내지 (1-112) 에 있어서, R5, n, R6, R10b, X1, R2 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  18. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-113) 내지 (1-119) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00832
    [상기 일반식 (1-113) 내지 (1-119) 에 있어서, R6, R2, X1, R5, n 및 A 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐].
  19. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-120) 내지 (1-126) 으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112008057100353-pct00833
    [상기 일반식 (1-120) 내지 (1-126) 에서, R6, R2, X1, A, R5 및 n 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가지며, Z2 는 C2-C6 알키닐렌기를 나타냄].
  20. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-127) 내지 (1-133) 으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112007010406990-pct00834
    [상기 일반식 (1-127) 내지 (1-133) 에서, R6, B18a, R2, X1, A, R5 및 n 은 제 1 항에 기재된 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에 기재된 바와 동일한 의미를 가짐].
  21. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 하기 일반식 (1-134) 내지 (1-140) 으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염:
    Figure 112008057100353-pct00835
    [상기 일반식 (1-134) 내지 (1-140) 에서, R6, R2, X1, A, R5, 및 n 은 제 1 항에서 기재하는 바와 동일한 의미를 가지고, Y3 은 제 2 항에서 기재하는 바와 동일한 의미를 가지고, Z3 은 C1-C6 알킬렌기 또는
    Figure 112008057100353-pct00836
    기 (R8d 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 를 나타냄].
  22. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 -O- 기인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  23. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 -N(R5)- 기 (R5 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  24. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, Y 가 -CO- 기, -CH(OH)- 기, C1-C6 알킬렌기, -S(O)n- 기 (n 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐), 또는 -C(=N-OH)- 기인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  25. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, A 가
    Figure 112007010406990-pct00837
    기 (R3, R4 및 p 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  26. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, A 가
    Figure 112008057100353-pct00838
    기 (R4 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  27. 삭제
  28. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기 (T, R14 및 R15 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 이고, l 이 0 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  29. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기 (T, R14 및 R15 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 이고, l 이 1 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  30. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이 고, l 이 1 이고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 기 (R14, R15, R17 및 B3 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  31. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B19-N(R18)-CO- 기 (R14, R15, B19 및 R18 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  32. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B4-CO- 기 (R14, R15, 및 B4 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  33. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -Q-B5-CO- 기 (R14, R15, Q 및 B5 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  34. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B6-N(R19)-B7- 기 (R14, R15, B6, R19 및 B7 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  35. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CO-B8- 기 (R14, R15, 및 B8 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  36. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CH(OH)-B9- 기 (R14, R15, 및 B9 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  37. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CO-B10-CO- 기 (R14, R15, 및 B10 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  38. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CH(OH)-B11-CO- 기 (R14, R15, 및 B11 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  39. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -CO- 기 (R14 및 R15 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  40. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -SO2- 기 (R14 및 R15 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  41. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 -B23a-CO-CO- 기 (R14, R15 및 B23a 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  42. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기이고, l 이 1 이고, T 가 C1-C6 알킬렌기 (R14 및 R15 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  43. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 제 2 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 6 항, 제 8 항, 제 10 항 또는 제 11 항에 정의된 일반식 (1-1), (1-2), (1-8), (1-9), (1-15), (1-16), (1-29), (1-30), (1-43), (1-44), (1-57), (1-58), (1-64) 및 (1-65) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고, A 가
    Figure 112009019967858-pct00841
    기이고(R3, R4, 및 p 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐), R4 가 -(T)l-N(R14)R15 기 (T, l, R14 및 R15 은 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  44. 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 -N(R17)-B3-CO- 기 (R17 및 B3 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  45. 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 -B4-CO- 기 (B4 는 제 1 항에 기재한 바와 동일한 의미를 가짐) 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  46. 제 43 항에 있어서, l 이 1 이고, T 가 -CO- 기인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  47. 제 43 항에 있어서, l 이 0 인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  48. 하기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방향족 화합물:
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페 녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤젠설폰아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페라진-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-{6-[(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메 틸페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-{6-[4-(4-벤질피페라진-1-카르보닐)페녹시]피리딘-3-일}-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-({4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페닐}메틸아미노)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]에틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-플루오로페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    1-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-3-(3,4-디클로로페닐)-1-에틸우레아,
    N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-일)-3-옥소프로필]페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시) 피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-(6-{4-[3-(4-피페로닐피페라진-1-카르보닐)피페리딘-1-일]페녹시}피리딘-3-일)-3,4-디클로로벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-{6-[(4-{4-[2-(4-벤질피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}페닐)메틸아미노]피리딘-3-일}-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-(6-{4-[(2-{4-[4-(4-플루오로벤조일)페닐]피페라진-1-일}-2-옥소에틸)메틸아미노]-2-메톡시-페녹시}피리딘-3-일)-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-N-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸페녹시메틸)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소아세트아미드,
    N-[6-(4-{[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]메틸아미노}-2-메틸페녹시)피리딘-3-일]-2-플루오로-4-트리플루오로메틸벤즈아미드,
    N-[6-(4-{4-[2-(4-피페로닐피페라진-1-일)-2-옥소에틸]피페리딘-1-일}-2-메톡시페녹시)피리딘-3-일]-4-트리플루오로메틸벤즈아미드, 및
    4-(3-{3-메틸-4-[5-(4-트리플루오로메틸벤조일아미노)피리딘-2-일옥시]페닐}-2-옥소헥사히드로피리미딘-1-일)벤조산 에틸 에스테르, 또는 그의 염.
  49. 삭제
  50. 삭제
  51. 삭제
  52. 삭제
  53. 삭제
  54. 삭제
  55. 삭제
  56. 제 43 항에 있어서, R14 및 R15 가, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 형성된 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리가, 1,2,3,4,5,6-헥사히드로피리미디닐, 피롤리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 모르폴리노, 티오모르폴리노, 호모피페라지닐, 호모피페리디닐, 티아졸리디닐, 1,2,5,6-테트라히드로피리딜, 피롤릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 2-피롤리닐, 2-이미다졸리닐, 이미다졸리디닐, 2-피라졸리닐, 피라졸리디닐, 1,2-디히드로피리딜, 1,2-디히드로퀴놀릴, 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 1,2-디히드로이소퀴놀릴, 인돌릴, 이소인돌릴, 인돌리닐, 이소인돌리닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤족사디닐, 3,4-디히드로-2H-1,4-벤조티아졸리디닐, 1,4-벤조티아지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴녹살리닐, 1,2,3,4-테트라히드로신놀리닐, 1,2,3,4-테트라히드로프탈라지닐, 1,2,3,4-테트라히드로퀴나졸리닐, 1,2-디히드로퀴녹살리닐, 3,4-디히드로퀴녹살리닐, 1,4-디히드로퀴녹살리닐, 1,2-디히드로신놀리닐, 1,2-디히드로프탈라지닐, 3,4-디히드로프탈라지닐, 1,2-디히드로퀴나졸리닐, 3,4-디히드로퀴나졸리닐, 인다졸릴, 인다졸리닐, 6-아자비시클로[3,2,1]옥틸, 3-아자-스피로[5,5]운데실 및 티아졸리디닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  57. 제 56 항에 있어서, R14 및 R15 가, 그들이 결합하는 질소 원자와 함께, 직접 또는 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 통해 서로 결합하여 형성된 5- 내지 10-원 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 고리가 피페리디닐기 또는 피페라지닐기 중 어느 하나인 방향족 화합물 또는 그의 염.
  58. 제 57 항에 있어서, 피페리디닐기 또는 피페라지닐기가, 제 1 항에 정의된 (28) 1 개 내지 2 개의 페닐기를 가지고 C1-C6 알킬기 상에 피리딜기를 가질 수 있는 페닐-치환된 C1-C6 알킬기 (여기서 페닐 고리는 C1-C6 알카노일기, 치환기로서 C1-C6 알카노일기를 가질 수 있는 아미노기, C1-C6 알콕시카르보닐기, 시아노기, 니트로기, 페닐기, 할로겐 원자, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알킬기, 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수 있는 C1-C6 알콕시기, 페닐 C1-C6 알콕시기, 히드록실기, 및 C1-C4 알킬렌디옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 1 개 내지 3 개의 기에 의해 치환될 수 있음) 로 치환될 수 있는 방향족 화합물 또는 그의 염.
KR1020077002786A 2004-08-06 2005-08-03 방향족 화합물 KR100927563B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2004-00230092 2004-08-06
JP2004230092 2004-08-06
JP2005090149 2005-03-25
JPJP-P-2005-00090149 2005-03-25
PCT/JP2005/014611 WO2006014012A2 (en) 2004-08-06 2005-08-03 Aromatic compounds

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070103351A KR20070103351A (ko) 2007-10-23
KR100927563B1 true KR100927563B1 (ko) 2009-11-23

Family

ID=35508545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077002786A KR100927563B1 (ko) 2004-08-06 2005-08-03 방향족 화합물

Country Status (17)

Country Link
US (2) US8188277B2 (ko)
EP (1) EP1773797A2 (ko)
JP (2) JP4154613B2 (ko)
KR (1) KR100927563B1 (ko)
CN (1) CN1993339B (ko)
AR (1) AR050448A1 (ko)
AU (1) AU2005268030B2 (ko)
BR (1) BRPI0514150A (ko)
CA (1) CA2573223C (ko)
HK (1) HK1101824A1 (ko)
IL (1) IL180884A (ko)
MX (1) MX2007001215A (ko)
MY (1) MY148905A (ko)
RU (1) RU2416608C2 (ko)
TW (1) TWI353983B (ko)
WO (1) WO2006014012A2 (ko)
ZA (1) ZA200700811B (ko)

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1993339B (zh) 2004-08-06 2013-05-22 大塚制药株式会社 芳香化合物
EP1856053A1 (en) 2005-01-14 2007-11-21 Millennium Pharmaceuticals, Inc. Cinnamide and hydrocinnamide derivatives with raf-kinase inhibitory activity
EP1893609B1 (en) 2005-06-16 2009-11-18 Pfizer, Inc. N-(pyridin-2-yl)-sulfonamide derivatives
PL1940786T3 (pl) 2005-09-16 2010-12-31 Arrow Therapeutics Ltd Pochodne bifenylowe i ich zastosowanie w leczeniu zapalenia wątroby typu C
ES2431388T3 (es) 2005-11-08 2013-11-26 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Compuesto heterocíclico útil como un modulador de transportadores de casete de unión a ATP
AU2006323700B2 (en) 2005-12-05 2011-02-17 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Diarylether derivatives as antitumor agents
JP5142513B2 (ja) * 2005-12-05 2013-02-13 大塚製薬株式会社 医薬
WO2007067444A1 (en) 2005-12-08 2007-06-14 Millennium Pharmaceuticals, Inc. Bicyclic compounds with kinase inhibitory activity
US7671221B2 (en) 2005-12-28 2010-03-02 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Modulators of ATP-Binding Cassette transporters
US10022352B2 (en) 2006-04-07 2018-07-17 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Modulators of ATP-binding cassette transporters
CN101460489A (zh) 2006-04-07 2009-06-17 弗特克斯药品有限公司 Atp-结合盒转运蛋白调节剂
US7645789B2 (en) 2006-04-07 2010-01-12 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Indole derivatives as CFTR modulators
US7943622B2 (en) 2006-06-06 2011-05-17 Cornerstone Therapeutics, Inc. Piperazines, pharmaceutical compositions and methods of use thereof
EP2044038B1 (en) * 2006-06-06 2014-07-02 Cornerstone Therapeutics Inc. Novel piperazines, pharmaceutical compositions and methods of use thereof
US8765812B2 (en) 2006-07-05 2014-07-01 Fibrotech Therapeutics Pty Ltd Therapeutic compounds
SG174069A1 (en) * 2006-08-21 2011-09-29 Array Biopharma Inc 4-substituted phenoxyphenylacetic acid derivatives
RU2448093C2 (ru) * 2006-09-21 2012-04-20 Пирамал Лайф Сайнсиз Лимитед Производные пиридина для лечения метаболических нарушений, связанных с устойчивостью к действию инсулина или гипергликемией
UA95978C2 (ru) * 2006-10-02 2011-09-26 Оцука Фармас'Ютікел Ко., Лтд. Ингибитор активации stat3/5
AU2012202382B2 (en) * 2006-10-02 2014-06-26 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. STAT3/5 activation inhibitor
US8563573B2 (en) 2007-11-02 2013-10-22 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Azaindole derivatives as CFTR modulators
US7754739B2 (en) 2007-05-09 2010-07-13 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Modulators of CFTR
WO2008116145A2 (en) * 2007-03-22 2008-09-25 Arete Therapeutics, Inc. Soluble epoxide hydrolase inhibitors
AU2008251504B2 (en) 2007-05-09 2013-07-18 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Modulators of CFTR
US20110092547A1 (en) * 2007-08-17 2011-04-21 Alan Martin Birch Chemical compounds 979
SG186638A1 (en) 2007-12-07 2013-01-30 Vertex Pharma Solid forms of 3-(6-(1-(2,2-difluorobenzo[d][1,3] dioxol-5-yl) cyclopropanecarboxamido)-3-methylpyridin-2-yl) benzoic acid
RS56083B1 (sr) 2007-12-07 2017-10-31 Vertex Pharma Proces za proizvodnju cikloalkilkarboksiamido-piridin benzojevih kiselina
WO2009108657A2 (en) 2008-02-28 2009-09-03 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Heteroaryl derivatives as cftr modulators
FR2932483A1 (fr) * 2008-06-13 2009-12-18 Cytomics Systems Composes utiles pour le traitement des cancers.
MX2011005037A (es) 2008-11-21 2011-06-16 High Point Pharmaceuticals Llc Compuestos de adamantilo benzamida.
WO2010079443A1 (en) 2009-01-12 2010-07-15 Pfizer Limited Sulfonamide derivatives
JP5688918B2 (ja) * 2009-04-28 2015-03-25 大塚製薬株式会社 医薬組成物
WO2011046954A1 (en) 2009-10-13 2011-04-21 Ligand Pharmaceuticals Inc. Hematopoietic growth factor mimetic small molecule compounds and their uses
SG10201501272SA (en) * 2009-10-22 2015-04-29 Fibrotech Therapeutics Pty Ltd Fused ring analogues of anti-fibrotic agents
MX2012008391A (es) 2010-01-29 2012-08-15 Otsuka Pharma Co Ltd Derivados de piridina di-sustituida como agentes anticancer.
US8802868B2 (en) 2010-03-25 2014-08-12 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Solid forms of (R)-1(2,2-difluorobenzo[D][1,3]dioxo1-5-yl)-N-(1-(2,3-dihydroxypropyl-6-fluoro-2-(1-hydroxy-2-methylpropan2-yl)-1H-Indol-5-yl)-Cyclopropanecarboxamide
NZ602838A (en) 2010-04-07 2015-06-26 Vertex Pharma Pharmaceutical compositions of 3-(6-(1-(2,2-difluorobenzo[d][1,3]dioxol-5-yl) cyclopropanecarboxamido)-3-methylpyridin-2-yl)benzoic acid and administration thereof
JP2013525371A (ja) 2010-04-22 2013-06-20 バーテックス ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド シクロアルキルカルボキサミド−インドール化合物の製造方法
US9145407B2 (en) 2010-07-09 2015-09-29 Pfizer Limited Sulfonamide compounds
US8513430B2 (en) 2010-07-27 2013-08-20 High Point Pharmaceuticals, Llc Substituted thiazol-2-ylamine derivatives, pharmaceutical compositions, and methods of use as 11-beta HSD1 modulators
AR083287A1 (es) 2010-10-04 2013-02-13 Otsuka Pharma Co Ltd Derivados de fenoxi-piridin-3-il-benzamida
AU2013290444B2 (en) 2012-07-16 2018-04-26 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Pharmaceutical compositions of (R)-1-(2,2-diflurorbenzo[d][1,3]dioxol-5-yl)-N-(1-(2,3-dihydroxypropyl)-6-fluoro-2-(1-hydroxy-2-methylpropan-2-yl)-1H-indol-5-yl) cyclopropanecarboxamide and administration thereof
EA027810B1 (ru) * 2012-08-31 2017-09-29 НОВАДРАГ, ЭлЭлСи Гетероциклические карбоксамиды для лечения вирусных заболеваний
SI2922845T1 (sl) * 2012-11-20 2018-10-30 Merial, Inc. Antihelmintske spojine in sestavki ter postopek za njihovo uporabo
KR102280372B1 (ko) 2013-11-12 2021-07-22 버텍스 파마슈티칼스 인코포레이티드 Cftr 매개된 질환 치료용 약제학적 조성물의 제조 방법
EP4223294A1 (en) 2014-04-15 2023-08-09 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Pharmaceutical compositions for the treatment of cystic fibrosis transmembrane conductance regulator mediated diseases
CN106536518B (zh) * 2014-05-19 2020-05-12 勃林格殷格翰动物保健美国公司 驱蠕虫化合物
AU2015350049B2 (en) 2014-11-18 2021-08-19 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Process of conducting high throughput testing high performance liquid chromatography
US10316021B2 (en) 2016-11-28 2019-06-11 Pfizer Inc. Heteroarylphenoxy benzamide kappa opioid ligands
SG11201907139UA (en) 2017-02-03 2019-09-27 Certa Therapeutics Pty Ltd Anti-fibrotic compounds
WO2020059841A1 (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 国立大学法人 長崎大学 プリオン病治療薬
CN111847474B (zh) * 2020-07-17 2021-09-28 浙江恒澜科技有限公司 一种Ti-ITQ-24沸石分子筛及其原位合成方法和应用
WO2023160638A1 (en) * 2022-02-28 2023-08-31 Sironax Ltd. Rip1 modulators, preparations, and uses thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999048871A1 (en) * 1998-03-25 1999-09-30 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Pyridine derivative and pharmaceutical containing the same
JP2001089450A (ja) * 1999-09-22 2001-04-03 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ピリジン誘導体含有医薬製剤
JP2001089412A (ja) * 1999-09-22 2001-04-03 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ベンゼン誘導体またはその医薬的に許容される塩
JP2004035475A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Ajinomoto Co Inc ＴＧＦβ作用抑制剤

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE629102A (ko) * 1961-03-29
NL7111711A (ko) 1970-09-17 1972-03-21
US3715375A (en) * 1970-09-17 1973-02-06 Merck & Co Inc New diphenyl sulfones
GB1494117A (en) 1974-11-02 1977-12-07 Bayer Ag Process for the preparation of acid amides
DE2707660C2 (de) 1977-02-23 1985-12-19 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Abspalter- und Diolrest enthaltende Diisocyanat-Addukte, ihre Herstellung und Verwendung
DE2707659A1 (de) * 1977-02-23 1978-08-24 Bayer Ag Selbstvernetzbare polyurethane
DE2812252A1 (de) * 1978-03-21 1979-10-04 Bayer Ag 1,2,4-triazol-blockierte polyisocyanate als vernetzer fuer lackbindemittel
US4978672A (en) * 1986-03-07 1990-12-18 Ciba-Geigy Corporation Alpha-heterocyclc substituted tolunitriles
EP0500495A3 (en) 1991-02-21 1993-04-07 Ciba-Geigy Ag Thermosetting composition
DE69314718T2 (de) 1992-07-21 1998-02-26 Ciba Geigy Ag Oxamidsäure-Derivate als hypocholesterämische Mittel
HUT73813A (en) 1993-06-30 1996-09-30 Wellcome Found Anti-athero-sclerotic diaryl compounds, process to prepare them and pharmaceutical compositions contg. them
WO1996040620A1 (en) 1995-06-07 1996-12-19 Institute Of Materia Medica Chalcone retinoids and methods of use of same
US6022884A (en) 1997-11-07 2000-02-08 Amgen Inc. Substituted pyridine compounds and methods of use
PT1060175E (pt) 1998-02-06 2005-03-31 Max Planck Ges Ford Wissenscha Inibidores de triptase
WO1999040073A2 (de) 1998-02-06 1999-08-12 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Tryptase-inhibitoren
TWI245035B (en) 1998-06-26 2005-12-11 Ono Pharmaceutical Co Amino acid derivatives and a pharmaceutical composition comprising the derivatives
DE69920923T2 (de) 1998-07-24 2005-10-20 Teijin Ltd. Anthranilsäurederivate
EP1113000A4 (en) * 1998-09-11 2004-12-15 Ajinomoto Kk BENZENE DERIVATIVES AND THEIR MEDICAL APPLICATION
WO2000042012A1 (en) 1999-01-13 2000-07-20 Bayer Corporation φ-CARBOXYARYL SUBSTITUTED DIPHENYL UREAS AS RAF KINASE INHIBITORS
US20020065296A1 (en) * 1999-01-13 2002-05-30 Bayer Corporation Heteroaryl ureas containing nitrogen hetero-atoms as p38 kinase inhibitors
AU2871900A (en) 1999-02-04 2000-08-25 Millennium Pharmaceuticals, Inc. G-protein coupled heptahelical receptor binding compounds and methods of use thereof
CO5160290A1 (es) 1999-03-29 2002-05-30 Novartis Ag Derivados de acido fenoxifeniloxamico sustituido .
US6159694A (en) * 1999-04-08 2000-12-12 Isis Pharmaceuticals Inc. Antisense modulation of stat3 expression
KR20020064147A (ko) 1999-07-01 2002-08-07 아지노모토 가부시키가이샤 헤테로사이클릭 화합물 및 이의 의약 용도
AU2001234089B2 (en) 2000-02-15 2005-08-11 Teijin Limited Cancer remedy comprising anthranilic acid derivative as active ingredient
PL360495A1 (en) 2000-05-22 2004-09-06 Aventis Pharmaceuticals Inc. Arylmethylamine derivatives for use as tryptase inhibitors
GB0015205D0 (en) 2000-06-21 2000-08-09 Karobio Ab Bioisosteric thyroid receptor ligands and method
US6479510B2 (en) 2000-08-18 2002-11-12 Pharmacia & Upjohn Company Quinuclidine-substituted aryl compounds for treatment of disease
WO2002026191A2 (en) 2000-09-28 2002-04-04 Nanocyte Inc. Methods, compositions and devices utilizing stinging cells/capsules for delivering a therapeutic or a cosmetic agent into a tissue
WO2002032408A2 (en) 2000-10-20 2002-04-25 Novartis Ag Combinations of a thyromimetic compound and a statin
EP1211235A3 (en) 2000-11-30 2004-01-02 JFE Chemical Corporation Preparation process of 4,4'-Dicarboxydiphenyl ethers or derivatives thereof
JP2004269356A (ja) 2000-12-27 2004-09-30 Ajinomoto Co Inc 創傷部癒着防止剤
GB2374009A (en) 2001-02-12 2002-10-09 Novartis Ag Method of treating hair loss
BR0210531A (pt) 2001-06-20 2004-06-22 Pfizer Prod Inc Derivados de ácido sulfÈnico
BR0212123A (pt) 2001-08-24 2004-07-20 Upjohn Co 7-aza[2.2.1]biciclo-heptanos substituìdos com arila para o tratamento de doenças
CN1575283A (zh) 2001-10-22 2005-02-02 辉瑞产品公司 具有ccr1受体拮抗剂活性的哌嗪衍生物
WO2003035602A1 (fr) 2001-10-25 2003-05-01 Sankyo Company, Limited Modulateurs lipidiques
EP1480977A2 (en) 2002-02-15 2004-12-01 PHARMACIA & UPJOHN COMPANY Substituted aryl compounds for treatment of disease
FR2836917B1 (fr) 2002-03-11 2006-02-24 Lipha Derives nitroso de la diphenylamine, compositions pharmaceutiques les contenant en tant que medicaments utilisables dans le traitement des pathologies caracterisees par une situation de stress oxydatif
JP4736043B2 (ja) 2003-03-14 2011-07-27 小野薬品工業株式会社 含窒素複素環誘導体およびそれらを有効成分とする薬剤
EP1651595A2 (en) 2003-05-30 2006-05-03 Rigel Pharmaceuticals, Inc. Ubiquitin ligase inhibitors
CA2530302C (en) 2003-07-24 2013-12-03 Leo Pharma A/S Novel aminobenzophenone compounds
CN1993339B (zh) 2004-08-06 2013-05-22 大塚制药株式会社 芳香化合物
AU2006323700B2 (en) 2005-12-05 2011-02-17 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Diarylether derivatives as antitumor agents
UA95978C2 (ru) 2006-10-02 2011-09-26 Оцука Фармас'Ютікел Ко., Лтд. Ингибитор активации stat3/5
TWI440638B (zh) 2007-10-30 2014-06-11 Otsuka Pharma Co Ltd 雜環化合物及其藥學組成物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999048871A1 (en) * 1998-03-25 1999-09-30 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Pyridine derivative and pharmaceutical containing the same
JP2001089450A (ja) * 1999-09-22 2001-04-03 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ピリジン誘導体含有医薬製剤
JP2001089412A (ja) * 1999-09-22 2001-04-03 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ベンゼン誘導体またはその医薬的に許容される塩
JP2004035475A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Ajinomoto Co Inc ＴＧＦβ作用抑制剤

Also Published As

Publication number Publication date
IL180884A (en) 2013-10-31
US20070270422A1 (en) 2007-11-22
AR050448A1 (es) 2006-10-25
CN1993339A (zh) 2007-07-04
CA2573223C (en) 2013-05-21
IL180884A0 (en) 2007-07-04
TW200619214A (en) 2006-06-16
BRPI0514150A (pt) 2007-11-27
MX2007001215A (es) 2007-04-17
JP4931775B2 (ja) 2012-05-16
RU2007108298A (ru) 2008-09-20
AU2005268030A1 (en) 2006-02-09
WO2006014012A3 (en) 2006-12-07
CN1993339B (zh) 2013-05-22
WO2006014012A2 (en) 2006-02-09
KR20070103351A (ko) 2007-10-23
ZA200700811B (en) 2008-10-29
RU2416608C2 (ru) 2011-04-20
US8188277B2 (en) 2012-05-29
JP4154613B2 (ja) 2008-09-24
TWI353983B (en) 2011-12-11
EP1773797A2 (en) 2007-04-18
CA2573223A1 (en) 2006-02-09
MY148905A (en) 2013-06-14
US20120238750A1 (en) 2012-09-20
AU2005268030B2 (en) 2009-02-19
JP2006298893A (ja) 2006-11-02
HK1101824A1 (en) 2007-10-26
JP2008133278A (ja) 2008-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100927563B1 (ko) 방향족 화합물
KR101157004B1 (ko) 항종양제로서의 디아릴에테르 유도체
JP5089185B2 (ja) コラーゲン産生抑制剤。
CA2665000C (en) Stat3/5 activation inhibitor
JP5142513B2 (ja) 医薬
MX2008006849A (en) Diarylether derivatives as antitumor agents
AU2012202382B2 (en) STAT3/5 activation inhibitor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121023

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131022

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141021

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee