KR20050043990A - 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성적층체, 및 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 미소성 적층, 및 이러한 전면 플레이트를 제조하는 방법. 적층체는 가연성 중간층을 포함하고, 미소성 유전체층 및 감광성 미소성 스페이서 재료층을 포함할 수 있다. 가연성 중간층은 유전체층과 스페이서 재료층 사이에 위치하고, 소성 처리할 때 연소될 수 있어서, 그 제거를 받는 영역에서 스페이서 재료층의 잔여물의 제거를 가능하게 한다.
Description
기술분야
본 발명은 표면상에 형성되는 전극을 포함하는 유리 기판, 유리 기판상에 형성되는 유전체층, 및 유전체층 상에 패턴화된 스페이서층을 구비하는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 (unbaked) 적층체에 관한 것이다. 또한 본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트의 제조 방법에 관한 것이다.
배경기술
복수의 미세한 셀 (fine cell) 이 전기적 방전 현상을 이용하여 자기발광하게 함으로서 이미지를 디스플레이하는 플라즈마 디스플레이 장치 ("PDP") 는 크고 얇은 사이즈, 경량 및 평평한 형태와 같은, 종래의 디스플레이 장치에서 실현되지 못한 좋은 성질을 가지며, 널리 사용되고 있다.
대부분의 종래의 플라즈마 디스플레이 장치는 립 (rib) 이 오직 디스플레이 표면상에 수직한 방향으로만 형성되는 스트레이트 구조 (straight structure) 를 가진 셀을 채용한다. 다만, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면에 효율적으로 광을 유입하기 위해서, 플라즈마 디스플레이 장치는 립이 수직 방향뿐만 아니라 수평 방향에서도 형성되는 와플 (waffle) 구조를 가지는 발전된 셀을 최근에 갖게 되었다. 셀이 이러한 와플 구조를 가지게 되면, 인접한 셀로부터의 광의 유출은 방지되며, 매우 효율적인 전면으로 광의 유입을 가능하게 한다.
도 1 은 와플 셀을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 필수적 부분의 투시 분해도이다. 플라즈마 디스플레이 장치는 각각 결합된 전극이 투명 전극 (110) 과 버스 전극 (112) 로 구성되고 서로 평행하게 형성되는 결합된 전극 (11) 을 가지는 전면 플레이트 (1) 와 결합된 전극 (11) 에 대하여 맞은편에 평행하게 형성되는 어드레스 전극 (21) 을 가지는 배면 플레이트 (2) 를 포함한다. 전면 플레이트 (1) 와 배면 플레이트 (2) 는 대향하도록 배치되며 디스플레이 구성요소를 구성하도록 일체화된다. 전면 플레이트 (1) 은 디스플레이 평면으로서 투명한 유리 기판 (10) 을 가지고, 결합된 전극 (11) 은 마주보는 배면 플레이트 (2) 의 측면상에, 소위 유리 기판 (10) 의 내측면에 배치된다. 유전체층 (12) 은 결합된 전극 (11) 을 커버하도록 형성되며, 패턴화된 스페이서층 (16) 은 유전체층 (12) 상에서 제공된다. 예를 들어 MgO 로 만든 보호층 (19) 는, 유전체층 (12) 와 스페이서층 (16)의 표면상에 형성된다. 또한, 배면 플레이트 (2) 는 기판 (20) 을 가지며, 기판 (20) 은 전면 플레이트 (1) 과 마주보는 기판 (20)의 측면상에 배치된 어드레스 전극 (21) 을 제공받는다. 유전체층 (22) 는 어드레스 전극 (21) 을 커버하도록 형성되고 발광부는 아래에 기술된것 같이 유전체층 (22) 상에 형성된다.
발광부분은 결합된 전극 (11) 이 어드레스 전극 (21) 에 교차하는 각각의 공간에 위치한 복수의 셀을 포함한다. 각각의 셀은 디스플레이의 수직 및 수평 방향 (즉, 도 1 에 각각 도시된 것 같이 화살표 V 및 H 에 의해 가리키는 방향) 을 따라 유전체층 (22) 상에 형성되는 립 (24) 에 의해 제한된다. 현광체층 (26) 은 립 (24) 의 측벽과 립 내부의 유전체층 (22) 의 표면, 즉 각각의 셀의 내벽 및 바닥을 커버하도록 제공된다. 플라즈마 디스플레이 장치에서, 교류 전원으로부터의 소정의 전압이 전극들 사이에 전기장을 형성하도록 전면 플레이트의 결합된 전극에 인가되어서, 셀에서 전기적 방전이 일어난다. 이 방전은 자외선의 발생을 유발하며, 이는 현광체층 (26) 의 발광을 또한 유발한다.
도 2 는 배면 플레이트 면으로부터 보는 바와 같이, 와플 셀을 가지는 플라즈마 디스플레이의 전면 플레이트 (1) 의 투시도이다. 도 3 은 와플 셀을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 단면도이다. 도 2 에서 도시된바와 같이, 와플 구조를 가지는 플라즈마 디스플레이 장치에서, 복수의 스페이서층 (16) 은 균일한 간격의 선의 형태로 정렬되도록 유전체층 (12) 상에 제공된다. 도 3 에서 도시된바와 같이, 전면 플레이트 (1) 에서, 스페이서층 (16) 은 립 (24) 과 접하고 있다. 그러므로, 빈틈 (X) 은 립 (24) 에 둘러싸인 각각의 셀의 상부에 형성되고, 희박한 가스가 빈틈 (X) 을 통하여 각각의 셀로 유입될 수 있다.
이러한 전면 플레이트를 제조하기 위한 프로세스는 크게 스크린 프린팅 방법을 이용한 제조 프로세스와 포토리소그래피 (photolithography) 방법을 이용한 제조 프로세스로 분류된다.
스크린 프린팅 방법을 이용한 제조 프로세스에서, 유리 페이스트 (paste) 층은 유리 기판 (10) 상에 형성되며 유전체층 (12) 을 형성하도록 500 부터 700℃ 까지에서 소성된다. 그 뒤에 유전체층 (12) 상에서, 유리 페이스트 조성물은 스크린 프린팅에 의해 패턴화된 형태로 쌓이고, 또한 스페이서층 (16) 을 형성하도록 500 부터 700℃ 까지에서 소성된다.
다만, 스크린 프린팅 방법을 이용한 제조 방법은 패턴 정렬의 낮은 정확도뿐만 아니라 2개의 필수 소성 (baking) 단계에 기인한 제조때문에 비용의 문제를 가진다.
도 10을 참조하여, 포토리소그래피 방법을 이용한 제조 프로세스를 설명한다. 유리 기판 (10) 상에 감광성의 유리 페이스트층으로 구성되는 감광성의 노광되지 않고 미소성 스페이서 재료층 (16A) 뿐만 아니라 비감광 유리 페이스트층으로 구성되는 미소성 유전체층 (12A) 이 형성된다. 그 후, 스페이서 재료층 (16A) 은 포토마스크 (3) 를 통해 예를 들어,자외선 광이 조사된다 (도 10a). 그 후, 재료층은 리지스트 패턴 (16A') 이 생기도록 (도 10b) 현상된다. 완제품은 동시에 유전체층 (12) 과 스페이서층 (16) 을 형성하도록 500 에서 700℃ 까지에서 소성된다 (도 10c).
포토리소그래피 방법을 이용한 제조 프로세스에서, 유전체층 (12) 과 스페이서층 (16) 은 단일 소성 실시에서 동시에 소성될 수 있고, 그러므로 제조 비용은 스크린 프린팅 방법을 이용한 제조 프로세스의 비용과 비교하여 유리하게 저감될 수 있다.
하지만, 이러한 제조 프로세스에서 현상 처리 후에 리지스트 패턴이 나타날 때, 스페이서 재료는 스페이서층으로서 남겨진다 (도 10b에 도시). 현상 제거 영역 (오목한 영역) 에 남겨진 스페이서 재료 잔여물 (A) 가 소성 처리에서 유리 프릿 (flit) 조성물이 용융으로 인하여 어느정도 평평하게 되지만, 그것은 유전체층 (12) 의 노광 표면의 고저를 유발하여 스페이서층들 (16) 사이에 유전체층 (12) 의 두께가 불균일해지는 문제가 이어진다 (도 10c에 도시).
도 3 에 도시된바, 플라즈마 디스플레이 장치에서, 발광부분은 스페이서층들 (16) 사이에 배치된다. 저 부분에 유전체층 (12) 의 두게가 균일하지 않을 때, 광 투과율 또는 전기적 방전 성질은 불균일하며 이는 이미지 (image) 의 왜곡을 유발하는 하나의 이유가 될 수 있다.
본 발명의 개시
본 발명은 종래 기술에 수반하는 상술한 문제의 관점에서 만들어졌다. 그러므로 본 발명의 목적은 균일한 방전 성질과 광 투과율을 가진 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조할 수 있는 재료, 및 동일한 재료를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기 기술한 문제를 해결하기 위한 관점에서 광범위한 연구를 수행하였다. 결과적으로, 발명자들은 아래의 발견을 얻었다.
즉, 상술한 스페이서 재료 잔여물의 제거는, 소성 처리 전에 미소성 유전체층과 그 위에 형성되는 스페이서 재료 층 사이에 중간층을 삽입함으로써 달성될 수 있으며, 중간층은 현상으로 물 또는 수용성 용액에 용해하거나 팽윤하고 소성 처리로써 가연되는 재료로 만들어지며, 그 후 종래의 노광 처리와 후속 처리를 수행한다. 중간층은 소성 처리에서 연소되기 때문에, 종래의 적층 구조와 동일한 적층 구조가 소성 처리 후에 얻어질 수 있다.
또한, 균일한 두께와 우수한 표면 평평함을 가지는 층은, 제거 가능한 지지막 상에 중간 층을 포함하는 2 또는 3 개의 상부층 및 하부층을 예비적으로 형성하고 기판상에 합성 적층체를 전달함으로써, 제조될 수 있다는 내용이 알려졌다.
본 발명은 상기 기술한 내용을 기초로 달성될 수 있었다. 요약하면, 본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 미소성 적층체는, 제거 가능한 지지막 상에 아래의 조합 (1) 부터 (3) 까지 중 어느 하나가 형성된다는 특징을 가진다.
(1) 가연성 중간층 및 미소성 유전체층
(2) 스페이서 재료층 및 가연성 중간층
(3) 스페이서 재료층, 가연성 중간층, 및 미소성 유전체층
즉, 본 발명에 따르면, 복수의 전극이 형성되는 표면, 표면상에 형성되는 유전체층, 및 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 갖는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 미소성 적층체를 제공하며, 적층체는 제거 가능한 지지 막; 제거 가능한 지지막 상에 형성되는, 수용성 또는 수팽윤성 중간층; 및 가연성 중간층 상에 형성되는 미소성 유리 페이스트 재료로 구성되는 유전체층을 포함한다.
본 발명에 따르면, 또한 복수의 전극이 형성되는 표면, 표면 상에 형성되는 유전체층, 및 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 갖는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 미소성 적층체를 제공하며, 적층체는 제거 가능한 지지 막; 제거 가능한 지지막 상에 형성되는 감광성 미소성 스페이서 재료 층; 및 스페이서 재료 층 상에 형성되는 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층을 포함한다.
본 발명에 따르면, 복수의 전극이 형성되는 표면, 표면 상에 형성되는 유전체층, 및 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 갖는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 미소성 적층체를 추가로 제공하며, 적층체는 제거 가능한 지지 막; 제거 가능한 지지막 상에 형성되는 감광성 미소성 스페이서 재료 층; 및 스페이서 재료 층 상에 형성되는 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층; 및 가연성 중간층 상에 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층을 포함한다.
본 발명에 따르면, 복수의 전극이 형성되는 표면, 표면 상에 형성되는 유전체층, 및 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 갖는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 방법을 추가로 제공하며, 그 방법은 (a) 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층, 및 감광성 미소성 스페이서 재료 층을 이 순서대로 가지는 기판의 표면을 형성하는 단계; (b) 패턴화된 스페이서 재료 층을 구성하도록 패턴화하는 광으로 스페이서 재료 층을 조사하고, 스페이서 재료 층을 현상하는 단계; (c) 가연성 중간층을 연소시키도록 미소성 유전체층, 가연성 중간층, 및 패턴화된 스페이서 재료 층을 동시에 소성하고, 유리 기판 상에 유전체층 및 스페이서층을 동시에 형성하는 단계를 포함한다.
이 명세서에서 사용되는 "플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조용 미소성 적층" 은 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트의 제조하는데 사용되는 적층체를 말하며, 제거 가능한 지지막과, 층에서 제거 가능한 지지막을 박리하는 동안 유리기판에 전달되고 부착되는 지지막 위에 형성되는 상술한 층을 가진다.
이 명세서에서 사용되는 "미소성" 적층 또는 층은 플라즈마 디스플레이 장치에서 사용되는 적층 또는 층이 되도록 소성 처리에 의해 변형될 수 있는 적층 또는 층을 말한다. 예를 들어, 미소성 유전체층은 플라즈마 디스플레이 장치의 유전체층이 되도록 소성 처리에 의해 변형될 수 있고, 미소성 스페이서 재료 층은 플라즈마 디스플레이 장치의 스페이서 층이 되도록 소성 처리에 의해 변형될 수 있다.
본 발명인 미소성 적층체를 가진 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트의 제조에서, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층은 미소성 유전체층과 스페이서 재료 층 사이에 위치한다. 패턴화된 스페이서 재료 층을 구성하도록 스페이서 재료 층이 패턴화하는 광으로 조사되고 스페이서 재료 층을 현상할 때, 스페이서 재료의 잔여물은 패턴의 투영하는 부분들 사이에 가연성 중간층의 노광된 표면에 남는다. 하지만, 본 발명의 미소성 적층체의 사용으로, 스페이서 재료의 잔여물은 가연성 중간 층의 표면상에 형성되고, 따라서 스페이서 재료 잔여물은 현상기 (물 또는 수용성 용액) 에 의해 제거될 수 있어서, 스페이서 층 재료는 제거 현상 (development) 을 받는 영역에 쉽게 남지 않도록 한다.
본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 적층체에서, 제거 가능한 지지 막의 다른 면의 표면은 제거 가능한 보호막으로 보호되는 것이 바람직하다.
스페이서 재료 층은 수-현상형 (즉, 물을 사용하여 현상할 수 있는) 감광성 유리 페이스트층인 것이 바람직하다. 가연성 중간층은 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 알콜 유도체, 및 수용성 셀룰로우스로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 합성수지를 포함하고 5 마이크로미터 이하의 두께를 가지는 것이 바람직하다.
본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법은 전극이 형성되는 유리 기판의 표면상에 유리 페이스트 재료를 포함하는 미소성 유전체층, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층, 및 노광된 감광성 미소성 스페이서 재료층을 하부로 부터 순차적으로 적층하는 단계; 패턴화된 스페이서 재료층을 구성하도록 패턴화하는 광으로 스페이서 재료층을 조사하고 스페이서 재료층을 현상하는 단계; 및 가연성 중간층이 연소할 수 있도록 유리 기판상에서 미소성 유전체층, 가연성 중간층 및 패턴화된 스페이서 재료층을 동시에 소성하여, 유리 기판상에 유전체층과 스페이서층을 동시에 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법에서, 유리 기판상에 가연성 중간층, 미소성 유전체층, 및/또는 스페이서 재료층을 형성하기 위한 미소성 적층체를 사용하는 것이 바람직한다. 즉, 유리 기판상에 가연성 중간층, 미소성 유전체층, 및/또는 스페이서 재료층의 적층체는 제거 가능한 지지막을 층에서 제거하는 동안 유리 기판에 이들 층을 전달하고 뒤이어 제거 가능한 지지막 상에 이들 층을 형성함으로써 수행될 수 있는 것이 바람직하다.
본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법에서, 유리 기판상에 층을 배치하기 위한 본 발명인 미소성 적층체의 사용이 층의 균일한 두께 및 우수한 표면 평평함을 만들 수 있다.
도면의 간단한 설명
도 1 은 와플 셀을 가진 플라즈마 디스플레이 장치를 도시하는 투시 분해도이다.
도 2 는 배면 플레이트 쪽에서 바라본 플라즈마 디스플레이 장치를 도시하는 투시도이다.
도 3 은 와플 셀을 가진 플라즈마 디스플레이 장치를 도시하는 단면도이다.
도 4a 내지 4c 는 본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 적층체의 전형적인 실시형태를 도시하는 단면도이다. 도 4 이하를 참조하면, 도면부호 18 은 제거 가능한 막을 표시하고, 집합적으로 지지막 및 보호막을 표시한다.
도 5a 내지 5d 는 도 4a 의 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 적층체를 사용한 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 프로세스를 도시하는 단면도이다.
도 6 은 도 4a 의 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 적층체를 사용한 유리 기판 (10) 에 미소성 유전체층 (12A) 및 가연성 중간층 (14) 을 전달하는 단계를 도시하는 개략도이다.
도 7a 내지 7d 는 도 4b 의 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 적층체를 사용한 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 프로세스를 도시하는 단면도이다.
도 8a 내지 8c 는 도 4c 의 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성 적층체를 사용한 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 프로세스를 도시하는 단면도이다.
도 9a 내지 9d 는 본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 용 방법에서 노광, 현상 및 소성 단계를 도시하는 단면도이다.
도 10a 내지 10c 는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조하기 위한 종래의 프로세스를 도시한 단면도이다.
본 발명을 수행하기 위한 최상의 양태
본 발명인 미소성 적층체의 일반적인 실시형태는 미소성 유전체층, 가연성 중간층, 및 노광되지 않은 감광성 미소성 스페이서 재료층을 가지는 3층 적층 구조뿐만 아니라 가연성 중간층과 노광되지 않은 감광성 미소성 스페이서 재료층 및 미소성 유전체층 중 어느 하나를 가지는 2층 적층 구조를 포함할 수 있다. 2층 또는 3층을 가지는 적층체는 저장, 전달 및 취급을 원활하게 하도록 적층체의 양 표면들을 커버링하는 제거 가능한 막을 즉시 가지는 것이 바람직하다.
본 발명의 미소성 적층체는 사전에 제조되고 그 시간 동안 저장할 수 있기 때문에, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하는 동안에 즉시 사용될 수 있어서, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트의 제조의 효율을 향상시키는 것이 가능하게 한다. 미소성 적층체의 필수적이고 가장 중요한 특성은 적층이 가연성 중간층을 가진다는 것에 있다. 가연성 중간층은 수용성 또는 수팽윤성이고 또한 소성 처리에서 완전히 연소하는 특성을 가진다.
플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트의 제조에서, 가연성 중간층은 제조 방법과 연결하여 후술하는 미소성 유전체층과 스페이서 재료층 사이에 위치한다. 이러한 적층 내의 스페이서 재료층은 패턴화하는 광으로 조사되며 패턴화된 스페이서 재료층을 구성하도록 현상될 때, 스페이서 재료의 잔여물은 종래의 기술과 연결하여 상술한 패턴의 투사부들 사이에 가연성 중간층의 노광된 표면상에 존속한다. 종래의 제조 방법에서, 스페이서 재료 잔여물은 이렇게 남아있고 균일하고 평평한 표면이어야 하는 유전체층의 노광된 표면의 고저를 야기하는 가열 처리에서 녹는다. 반면에, 본 발명의 미소성 적층체를 사용하는 동안, 스페이서 재료의 잔여물은 가연성 중간층의 표면상에 형성된다. 가연성 중간층이 수용성이면, 스페이서 재료 잔여물은 노광된 지역에서의 가연성 중간층과 함께, 현상기 (물 또는 수용성 용액) 에 의해 세정된다. 가연성 중간층이 수팽윤성이라면, 가연성 중간층의 표면상에 존재하는 스페이서 재료 잔여물이 표면에서 떠나게 하는 것은 현상기로 팽윤되어서, 잔여물은 현상기에 의해 쉽게 제거될 수 있다.
상술한 현상기에 의해 스페이서 재료 잔여물의 제거를 촉진하고 그 역할을 다하는 가연성 중간층은 미소성 유전체층 및 미소성 스페이서 재료층을 소성하기 위한 소성 처리를 완전히 연소한다. 결과적으로, 종래의 층과 동일한 구조와 크기를 가지는 유전체층 및 스페이서층은 전면 플레이트의 유리 기판상에 형성된다. 결과로서의 전면 플레이트와 종래의 전면 플레이트의 차이점은 스페이서층과 인접한 스페이서층 사이에 유전체층의 노광된 표면은 일반적으로 고저가 있으나, 반면에 본 발명에 의해 제조된 전면 플레이트에서는, 노광된 표면이 평평하다는 것에 있다. 이점은 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층을 구성으로서 가지는 본 발명의 미소성 적층체에 의해 얻은 극히 탁월한 효과이다.
본 발명의 미소성 적층체의 각각 층의 구조는 하술하며, 본 발명의 미소성 적층체를 사용하는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법은 상세하게 설명된다.
[A] 미소성 적층체
도 4 는 본 발명의 미소성 적층체의 일반적인 실시형태의 단면도이다. 도 4a 는 가연성 중간층 및 미소성 유전체층을 포함하는 2층 적층 구조의 실시예이다. 도 4a 에서, 참조 번호 180 은 제거가능한 지지막을 지시하고, 가연성 중간층 (14) 은 지지막 상에 형성된다. 가연성 중간층 (14) 상에서, 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층은 형성되고, 보호층으로서 보호막 (182) 로 커버된다.
도 4b 는 스페이서 재료층 및 가연성 중간층을 포함하는 2층 적층 구조의 실시예이다. 도 4b 에서, 노광되지 않은 감광성 미소성 스페이서 재료층 (16A) 은 제거 가능한 지지막 (180) 상에 형성된다. 스페이서 재료층 (16A) 상에, 수용성 또는 수팽윤성인, 가연성 중간층 (14) 이 형성되고 보호층으로서 보호막 (182) 으로 커버된다.
도 4c 는 스페이서 재료층, 가연성 중간층, 및 미소성 유전체층을 포함하는 3층 적층 구조의 실시예이다. 도 4c 에서, 노광된, 감광성 미소성 스페이서 재료층 (16A) 은 제거 가능한 지지막 (180) 상에서 형성된다. 스페이서 재료층 (16A) 상에서, 수용성 또는 수팽윤성인, 가연성 중간층 (14) 은 형성된다. 가연성 중간층 (14) 상에서, 미소성 유전체층 (12A) 은 형성된다. 미소성 유전체층 (12A) 의 표면은 보호막 (182) 에 의해 보호된다.
(a) 가연성 중간층
가연성 중간층 (14) 은 수용성 또는 수팽윤성인 층이다. 가연성 중간층은 제거 현상을 받는 영역에 남겨진 미소성 스페이서 재료층이 표면에 남겨지게 허락하도록 물로 세정되고, 그로 인해 이러한 잔여물을 제거함으로써 용해되거나 팽윤될 수 있다.
가연성 중간층 (14) 에 대해서, 가연성 중간층이 수용성 또는 수팽윤성이고 소성 처리에 의해 분해되거나 연소되는 한 특별한 한계는 없다. 중간층을 분해하거나 연소하기 위한 소성 처리는 500 부터 700℃ 까지에서 실시된다. 중간층은 수용성 수지와 수팽윤성 수지 중 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 가연성 중간층은 가연성 중간층을 형성하기 위한 합성물을 사용함으로써 형성되고, 수용성 수지 및 수팽윤성 수지 중 하나 이상과 용매를 포함한다.
(ⅰ) 수용성 수지 또는 수팽윤성 수지
수용성 수지로서, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 알콜 유도체, 또는 수용성 셀룰로우스가 사용되는 것이 바람직하다. 수팽윤성 수지로서, 상기 수용성 수지와 부분적으로 가교함으로써 얻어지는 것을 사용할 수 있다. 이러한 수지는 개별적으로 또는 조합으로 사용될 수 있다.
폴리비닐 알콜 유도체의 구체적인 실시예는 변형된 실란올 폴리비닐 알콜, 변형된 양이온 폴리비닐 알콜, 머캡토 (mercapto) 그룹 포함하는 폴리비닐 알콜, 및 부티랄 (부티랄) 수지를 포함할 수 있다.
수용성 수지의 구체적인 실시예는 카르복시메틸 셀룰로우스, 하이드록시메틸 셀룰로우스, 에틸 하이드록시에틸 셀룰로우스, 카르복시메틸 에틸 셀룰로우스, 및 하이드록시 메틸 셀룰로우스를 포함할 수 있다.
이들 중에서, 폴리비닐 알콜 및 하이드록시메틸 셀룰로우스는 우수한 용해도, 열 분해성, 및 용매 저항성 (용매에 대항하는 유전체층의 저항성) 을 얻는 관점에서 부분적으로 바람직하다.
(ⅱ) 용매
가연성 중간층을 형성하기 위한 용매는 수용성 수지 또는 수팽윤성 수지가 즉시 용해되는 용매인 것이 바람직하다. 용매는 합성물에 적용하기에 적합한 점성을 제공할 수 있고, 건식 증발에 의해 층으로부터 쉽게 제거될 수 있는 것이 바람직하다. 용매의 실시예는 물 및 이소프로필 알콜과 같은 유기 용매를 포함할 수 있다.
(ⅲ) 가연성 중간층의 형성
가연성 중간층은 적용하기에 적합한 농도를 갖도록 용매에 의해 수용성 수지 또는 수팽윤성 수지를 희석시키고, 층을 형성용 층에 결과 합성물을 사용하며, 그 후 용매를 제거하기 위해 층을 건조함으로써 형성될 수 있다.
가연성 중간층을 형성하기 위해 가연성 중간층 합성물에서의 수용성 수지 또는 수팽윤성 수지의 용량은 50 중량% 이하가 바람직하며, 30 중량% 이하는 더욱 바람직하고, 0.1 부터 20 중량% 까지가 가장 바람직하다.
가연성 중간층의 두께는 20 마이크로미터 이하가 바람직하며, 10 마이크로미터 이하는 더욱 바람직하고, 5 마이크로미터 이하가 더욱 바람직하다. 가연성 중간층이 너무 두껍다면, 미소성 스페이서 재료층에서의 패턴은 후속적으로 물로 세정하는 단계에서 세정되어 바람직하지 않다. 가용성 중간층의 가장 바람직한 두께는 0.1 부터 3 마이크로미터까지이다.
(b) 미소성 유전체층
미소성 유전체층 (12A) 은 층을 형성하기 위해 기판에 유리 프릿 (frit) 을 포함하는 유리 페이스트 합성물을 적용하고, 그 후에 층을 건조함으로써 얻어지는 유리 페이스트 층을 포함한다. 유전체층 (12A) 이 소성 처리를 받을 때, 그 내부의 유기 물질은 제거되고 그 내부의 유리 프릿은 소결되어서, 유전체층 (12) 의 형성을 만든다. 미소성 유전체층 (12A) 을 형성하기 위한 유리 페이스트 합성물은 유리 프릿, 결합 수지 및 용매를 포함할 수 있다.
(ⅰ) 유리 프릿
유리 페이스트 합성물에 포함되는 유리 프릿은 요구되는 투명성을 갖는 것이 바람직하다. 채용된 유리 프릿의 실시예는 PbO-SiO2, PbO-B2O3-SiO2, ZnO-SiO2, ZnO-B2O3-SiO2 및 BiO-B2O3-SiO2 과 같은 납 보로실리게이트 유리, 아연 보로실리게이트 유리, 및 비스무스 보로실리게이트 유리의 유리 파우더를 포함할 수도 있다.
사용된 유리 프릿의 파티클 크기는 0.1 부터 10 마이크로미터까지의 평균 파티클 크기를 갖는 것이 바람직하며, 0.5 부터 0.8 마이크로미터까지가 더욱 바람직하며, 배치된 패턴의 형태에 의해 결정된다. 유리 프릿의 평균 파티클 크기는 10 마이크로미터보다 클 때는, 표면은 정교한 (fine) 패턴을 형성하는 동안 거칠어질 수 있어, 바람직하지 않다. 평균 파티클 크기가 0.1 마이크로미터보다 작을 때에는, 분리 실패를 일으키는 작은 포어 (pore) 들이 소성 동안 형성될 수 있어, 바람직하지 않다. 유리 프릿 형태의 실시예는 구형 형태, 블록 형태, 파편 (flake) 형태, 엽상 (dedrite) 형태, 및 그 조합을 포함할 수 있다.
유리 프릿에 추가하여, 미소성 유전체층은 세라믹 (예를 들어, 근청석) 또는 금속 같은 무기 파우더를 더 포함할 수 있다. 무기 파우더의 구체적인 예는 산화 코발트, 산화 철, 산화 크롬, 산화 니켈, 산화 구리, 산화 망간, 산화 네오디뮴, 산화 바나듐, 산화 세륨 티바큐 엘로우 (tipaque yellow), 산화 카드늄, 산화 류데늄, 실리카, 마그네시아, 및 스피넬과 같은 Na, K, Mg, Ca, Ba, Ti, Zr, 및 Al 의 산화물을 포함할 수 있다.
무기 파우더가 산화 실리콘, 산화 알루미늄 또는 산화 티탄늄을 포함할 때, 이러한 구성성분은 결과층을 불투명하게 할 수 있어, 저 (low) 광 투과율을 만든다. 그러므로, 무기 파우더는 이러한 구성성분을 포함하지 않을 것이 요구된다.
또한, 유전체층을 흑색, 적색, 청색, 또는 녹색으로 채색할 수 있는 무기 안료가, 유전체층이 플라즈마 디스플레이 장치의 색상 필터로서 기능하도록 각각 색상을 가지는 패턴을 형성하는 무기 파우더로서, 첨가되는 것이 바람직하다.
무기 파우더는 다른 파티클과 상이한 물리적 특성 값을 각각 가지는 복수의 파티클 종류의 혼합물일 수 있다. 특히 유리 프릿과 상이한 열 연화점 (softening point) 을 가지는 세라믹 파우더를 사용할 때, 연소 동안 수축은 억제될 수 있다. 무기 파우더는 유전체의 요구되는 특성에 의해 결정되는 형태 및 물리적 특성의 조합을 선택함으로써 준비되는 것이 바람직하다.
(ⅱ) 결합 수지
유리 페이스트 합성물 내에 포함된 결합 수지로서, 아크릴 수지, 셀룰로우스 유도체, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 부티랄, 폴리에틸렌 글리콜, 우레탄 수지, 및 멜라민 수지는 공지되어 있다. 아크릴 수지, 특히 하이드록실 그룹을 가지는 아크릴 수지는, 유리 기판에 우수한 열 부착 특성을 보여주기 때문에 바람직하다.
하이드록실 그룹을 가지는 아크릴 수지의 예는 주 중합성 단량체로서 하이드록실 그룹을 가지는 중합 단량체에 의해 획득된 코폴리머를 포함하고, 필요하다면 그 것과 함께 중합하는 다른 단량체를 포함한다. 하이드록실 그룹을 가지는 단량체 (단량체) 로서, 아크릴 수지 또는 메타아크릴 수지 및 1 내지 20 개의 탄소 원자를 가지는 모노알콜이 바람직하다. 단량체의 예는 하이드록시메틸 아크릴레이트, 하이드록시메틸 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필 아크릴레이트, 2-하이드록시프로필 메타아크릴레이트, 3-하이드록시프로필 아크릴레이트, 3-하이드록시프로필 메타크릴레이트, 2-하이드록시부틸 아크릴레이트, 2-하이드록시부틸 메타크릴레이트, 3-하이드록시부틸 아크릴레이트, 3-하이드록시부틸 메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트, 및 4-하이드록시부틸 메타크릴레이트를 포함할 수 있다. 또한 단량체의 예는 아크릴 산 또는 메타크릴 산 및 1 내지 10 개의 탄소 원자를 가지는 글르콜의 모노에스테르, 및 글리세롤 아크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 디펜태리스리톨 모노아크릴레이트, 디펜태리스리톨 모노메타크릴레이트, ε-카프롤락톤-변형 하이드록시에틸 아크릴레이트,ε-카프롤락톤-변형 하이드록시에틸 메타크릴레이트, 및 2-하이드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트로 구성되는 에폭시 에스터 합성물을 포함할 수 있다.
하이드록실 그룹을 포함하는 단량체와 중합할 수 있는 다른 단량체의 예는 아크릴 산, 메타크릴 산, 이타코닉 산, 시트라코닉 산, 말레익 산, 및 푸마릭 산과 같은 α,β-불포화 카르복실 산, 및 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, n-프로필 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 섹-부틸 (sec-부틸) 아크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 스티어릴 (stearyl) 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n-프로필 메타크릴레이트, 이소프로필 메타크릴레이트, 섹-프로필 메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 섹-부틸 메타크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 스티어릴 메타크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로메틸 아크릴레이트, 및 2,2,2-트리플루오로메틸 메타크릴레이트와 같은 α,β-불포화 카르복실 산 에스테르; 및 스티렌, α-메틸스티렌, 및 p-비닐톨루엔과 같은 스티렌의 안하이드라드 (anhydride) 및 반 에스테르 (half ester) 를 포함할 수도 있다. 또한, 아크릴로니트릴, 메타아크릴로니트릴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 비닐 아세테이트, 글리사이딜 아크릴레이트, 및 글리사이딜 메타크릴레이트 사용될 수 있다. 이러한 단량체는 개별적으로 또는 조합으로 사용될 수 있다.
(ⅲ) 용매
유리 페이스트 합성물을 포함하는 용매는 유기 구성성분이 잘 용해되는 용매일 수 있다. 결과 감광성 유리 페이스트 합성물이 정당한 점성을 갖도록 용매는 적합하게 선택될 수 있다. 용매는 건조 증발에 의해 쉽게 제거될 수 있는 것이 바람직하다. 용매의 구체적인 바람직한 실시예는 100 내지 200℃ 의 끓는점을 갖는 케톤, 알콜, 및 에스테르를 포함할 수 있다.
용매의 구체적인 실시예는 디에틸케톤, 메틸 부틸 케톤, 디프로필 케톤, 및 시클로헥사농과 같은 케톤; n-펜탄올, 4-메틸-2-페탄올, 시클로헤산올, 및 디아세톤 알콜과 같은 알콜; 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 및 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르와 같은 에테르 알콜; n-부틸 아세테이트 및 아밀 아세테이트와 같은 포화 알리패틱 모노카르복실릭 액시드 알킬 에스테르; 에틸 락테이트 및 n-부틸 락테이트 같은 락틱 액시드 에스테르; 및 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 에틸 3-에속시프로피온네이트, 2-메속시부틸 에세테이트, 3-메속시부틸 아세테이트, 4-메속시부틸 아세테이트, 2-메틸-3-메속시부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메속시부틸 아세테이트, 3-에틸-3-메속시부틸 아세테이트, 2-에속시부틸 아세테이트, 4-에속시부틸 아세테이트, 4-프로폭시부틸 아세테이트, 및 2-메속시펜틸 아세테이트와 같은 에테르 에스터를 포함할 수 있다. 이러한 용매는 개별적으로 또는 조합으로 사용될 수 있다.
(ⅳ) 미소성 유전체층의 형성
미소성 유전체층은 유리 페이스트 합성물의 층을 형성하고, 그 후, 용매를 제거하도록 층을 건조시킴으로써 형성될 수 있다.
무기 구성성분의 양 (유리 프릿 및 무기 파티클의 합) 및 (결합 수지를 포함하는) 유기 구성성분의 양의 바람직한 비율은 다음에 따른다: 무기 구성성분 및 유기 구성성분의 합의 100 중량부 당, 유기 구성성분의 양은 5 중량부부터 40 중량부까지의 범위내이고 무기 구성성분의 양은 95 중량부부터 60 중량부까지의 범위 내 일 수 있다; 또한 유기 구성성분의 양은 7 중량부부터 35 중량부까지의 범위 내이고 무기 구성성분의 양은 93 중량부부터 65 중량부까지의 범위 내인 것이 바람직하다; 또한 유기 구성성분의 양은 10 중량부부터 30 중량부까지의 범위 내이고 무기 구성성분의 양은 90 중량부부터 70 중량부까지의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 유기 구성성분의 양이 5 중량부 미만일때, 층을 형성하기가 어렵게 될 수 있다; 반면에 유기 구성성분의 양이 40 중량부 초과일때, 불리하게 가열 후 수축이 너무 크게 될 수 있다.
유리 페이스트 합성물의 점성을 적당한 범위에서 유지하기 위해서, 무기 구성성분 및 유기 구성성분의 합의 중량을 100 중량부 (part) 라 하면 비례하여, 용매의 양이 300 중량부 이하인 것이 바람직하고, 10 중량부부터 70 중량부까지인 것이 더 바람직하며, 25 중량부부터 35 중량부까지인 것이 가장 바람직하다.
유리 프릿, 결합 수지 및 용매를 포함하는 상술한 구성성분에 추가하여, 유리 페이스트 합성물은 가소제, 분산제, 점착 부여제, 표면 장력 조절제, 안정제, 또는 소포제와 같은 첨가제로서 임의의 구성성분을 더 포함할 수 있다.
건조된 후에 미소성 유전체층의 두께는 10 부터 100 마이크로미터까지가 바람직하며, 25 부터 70 마이크로미터까지는 더욱 바람직하다.
(c) 스페이서 재료층
스페이서 재료층 (16A) 은 감광성 유리 페이스트 합성물의 층을 포함할 수 있다. 이러한 스페이서 재료층은 표면상에 감광성 유리 페이스트 합성물의 층을 형성하고 층을 건조함으로써 제조될 수 있다. 이 명세서에서 사용되는 바와 같이, 스페이서 재료층은 소성 처리에 의해 스페이서 층으로 변형된 층을 말한다. 스페이서 재료층 (16A) 은 패턴을 형성하기 위해 포토리소그래피를 받고 그후에 유기 물질을 제거하기 위한 소성 처리 및 동시에 유리 프릿을 소결을 받게 되어, 스페이서층 (16)을 형성할 수 있다.
유리 재료층을 형성하기 위한 감광성 유리 페이스트 합성물은 노광 처리를 수행하기 위해 자외선, 엑시머 레이저, X-선, 또는 전자선 (이하 "광"이라 한다) 을 갖는 것들일 수 있다. 감광성 유리 페이스트 합성물은 고 정확도를 갖는 패턴이 포토리소그래피 방법으로 형성될 수 있는 스페이서 재료층 내부의 물질인 것이 바람직하다.
이러한 감광성 유리 페이스트 합성물의 실시예는, 예를 들어, 일본 특허 공개 공보 제 2000-268633 호, 일본 특허 공개 공보 제 2000-53444 호, 일본 특허평 제 11-246638 호, 및 일본 특허 공개 공보 제 2002-328470 호에 개시된 감광성 페이스트 합성물을 포함할 수 있다.
감광성 유리 페이스트 합성물은, 유전 패턴을 형성하는 현상 단계 및 물로 세정하는 단계는 제조 프로세스를 단순화하도록 동시에 수행될 수 있기 때문에, 수-현상형인 것이 바람직하다. 이러한 수-현상형 합성물은 일반적으로 우수한 광 투과율을 가지고 심지어 다량의 유기 구성성분을 포함하고 있을 때에도 고 광 투과율을 유지할 수 있어서, 포토리소그래피에 고 정확도를 가지는 패턴 형성을 가능하게 한다.
감광성 유리 페이스트 구성성분은 저항 구성성분, 유리 프릿, 및 용매를 포함할 수 있다. 유리 프릿 및 용매로서, "(b) 미소성 유전체층" 섹션에서 상술한 유리 페이스트 구성성분에서 사용된 것과 동일한 것이 사용될 수 있다.
감광성 유리 페이스트 구성성분에서 사용된 저항 구성성분은 결합 수지, 광중합성 (photopolymerizable) 단량체, 및 광중합성 개시제를 포함할 수 있다.
(ⅰ) 결합 수지
감광성 유리 페이스트 구성성분내의 결합 수지로서, "(b) 미소성 유전체층" 섹션에서 상술한 유리 페이스트 구성성분에서 사용된 결합 수지와 동일한 것이 사용될 수 있다. 상세하게는, 감광성 유리 페이스트 구성성분은, 고 정확도를 가지는 패턴의 형성을 가능하게 하는 자외선, 엑시머 레이저, X-선, 또는 전자선과 같은 활성 광의 투과율을 개선하기 때문에, 하이드록실 그룹 및 수용성 셀룰로스 유도체의 조합을 가지는 아크릴 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
수용성 셀룰로우스 유도체로서, 일반적으로 알려진 것은 특정 제한 없이 사용될 수 있다. 그 실시예는 카르복시메틸 셀룰로우스, 하이드록시메틸 셀룰로우스, 하이드록시에틸 셀룰로우스, 하이드록시에틸 메틸 셀룰롱우스, 하이드록시프로필 셀룰로우스, 에틸 하이드록시에틸 셀룰로우스, 카르복시메틸 에틸 셀룰로우스, 및 하이드록시프로필 메틸 셀룰로우스를 포함할 수 있다.
(ⅱ) 광중합성 단량체
광중합성 단량체로서, 일반적으로 알려진 광중합성 단량체는 특정 제한 없이 사용될 수 있다. 그 실시예는 벤질 아크릴레이트, 벤질 메타아크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트, 시클로헥실 메타아크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 페녹시에틸 메타아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌 글리콜 메타아크릴레이트, 스티렌, 노닐페녹시폴리에틸렌 글리콜 모노아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌 글리콜 모노메타아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌 글리콜 모노메타아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌 글리콜 모노메타아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 2-아크릴로일록시 프탈레이트, 2-아크릴로일록시에틸-2-하이드록시에틸 프탈레이트, 2-메타아크릴로일록시에틸-2-하이드록시프로필 프탈레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 메타아크릴레이트, n-프로필 아크릴레이트, n-프로필 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타아크릴레이트, 3-하이드록시프로필 아크릴레이트, 3-하이드록시프로필 메타아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메타아크릴레이트, 글리세롤 아크릴레이트, 글리세롤 메타아크릴레이트, 디펜태리스리톨 모노아크릴레이트, 디펜테리스리톨 모노메타아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 메타아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 메타아크릴레이트, 프탈릭 액시드-변형 모노아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리메타아크릴레이트, 펜태리스리톨 디아크릴레이트, 펜태리스리톨 디메타아크릴레이트, 펜태리스리톨 트리아크릴레이트, 펜태리스리톨 트리메타아크릴레이트, 펜태리스리톨 테라아크릴레이트, 펜태리스리톨 테트라메타아크릴레이트, 디펜태리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜태리스리톨 테트라메타아크릴레이트, 디펜태리스톨 펜타아크릴레이트, 디펜태리스리톨 펜타메타아크릴레이트, 디펜태리스리톨 헥사아크릴레이트, 디펜태리스리톨 헥사메타아크릴레이트, 글리세롤 아크릴레이트, 글리세롤 메타아크릴레이트, 카르도에폭시 디아크릴레이트, 및 상술한 (메타)아크릴레이트를 푸마레이트로 치환한 합성물, 상술한 (메타)아크릴레이트를 이타코네이트로 치환한 합성물, 및 상술한 (메타)아크릴레이트를 말리에이트로 치환한 합성물을 포함할 수 있다.
(ⅲ) 광중합성 개시제
광중합성 개시제로서, 일반적으로 알려진 것이 사용될 수 있다. 그 실시예는 벤조페논, 벤조인, 벤조인 알킬 에스테르, 아세토페논, 아미노아세토페논, 벤질, 벤질 알킬 케탈, 안스라퀘논, 케탈, 및 디옥산톤을 포함할 수 있다. 그 구체적인 실시예는 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브롬모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브롬모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브롬모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브롬모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스미세한 옥사이드, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-원, 2,4-디에틸디옥산톤, 2,4-디메틸디옥산톤, 2-클로로디옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시디옥산톤, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤조페논, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-원, 1-(4-도드실페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-원, 4-벤조일-4'-메틸디메틸 술파이드, 4-메틸아미노벤조익 액시드, 메틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 에틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 부틸 4-디메틸아미노벤조에이크, 2-에틸헥실 4-디메틸아미노벤조에이트, 2-이소아밀 4-디메틸아미노벤조에이트, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤질 디메틸 케탈, 벤질-β-메톡시에틸 아세탈, 1-페닐-1,2-프로판에디온 2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 메틸 o-벤조일베조에이트, 비스(4-디메틸아미노페닐) 케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 n-부틸 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, p-디메틸아미노아세토페논, p-터트-부틸트리클로로아세토페논, p-터트-부틸디클로로아세토페논, 디오산톤, 2-메틸디옥산톤, 2-이소프로필디옥산톤, 디벤조수버론, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 펜틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 및 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐리미드아조닐 다이머를 포함할 수 있다. 이러한 개시제는 개별적으로 또는 조합으로 사용될 수 있다.
(ⅳ) 스페이서 재료층의 형성
스페이서 재료층은 표면상에 감광성 유리 페이스트 조성물층을 형성함으로써 형성될 수 있고, 그 후, 그 용매를 제거하도록 층을 건조할 수 있다.
감광성 유리 페이스트 조성물의 수용성 셀룰로스 유도체 및 하이드록시 그룹을 가지는 아크릴 수지의 합의 중량을 100 중량부 당, 수용성 셀룰로스 유도체의 양은 50 부터 90 중량부까지의 범위일 수 있고 하이드록시 그룹을 가지는 아크릴 수지의 양은 50 부터 10 중량부까지의 범위일 수 있고; 수용성 셀룰로스 유도체의 양은 60 부터 80 중량부까지의 범위이고 하이드록시 그룹을 가지는 아크릴 수지의 양은 40 부터 20 중량부까지의 범위인 것이 바람직하며; 수용성 셀룰로스 유도체의 양은 60 부터 70 중량부까지의 범위이고 하이드록시 그룹을 가지는 아크릴 수지의 양은 40 부터 30 중량부까지의 범위인 것이 더욱 바람직하다.
수용성 셀룰로스 유도체와 광중합성 단량체의 합의 중량을 100 중량부 당, 수용성 셀룰로스 유도체의 양은 10 부터 50 중량부까지의 범위일 수 있고 광중합성 단량체의 양은 90 부터 50 중량부까지의 범위일 수 있고; 수용성 셀룰로스 유도체의 양은 20 부터 40 중량부까지의 범위이고 광중합성 단량체의 양은 80 부터 60 중량부까지의 범위인 것이 바람직하며; 수용성 셀룰로스 유도체의 양은 25 부터 35 중량부까지의 범위이고 광중합성 단량체의 양은 75 부터 65 중량부까지의 범위인 것이 더욱 바람직하다.
수용성 셀룰로스 유도체와 광중합성 단량체의 합의 중량을 100 중량부 당, 광중합성 개시제의 양은 0.1 부터 10 중량부가지의 범위에서 사용되는 것이 바람직하고, 0.2 부터 5 중량부까지의 범위에서 사용되는 것이 보다 바람직하다. 광중합성 개시제의 양이 0.1 중량부보다 작을 때에는, 조성물의 경화성은 저하될 수 있다. 광중합성 개시제의 양이 10 중량부보다 많을 때에는, 개시제의 흡수에 기인하여 하부에서 경화의 실패가 일어날 수 있다.
(수용성 셀룰로스 유도체 또는 아크릴 수지와 같은 결합 수지 및 광중합성 개시제를 포함한) 유기 조성물의 양, 및 무기 조성물의 양 (유리 프릿 및 무기 파티클의 합) 의 바람직한 비율은 아래와 같다. 감광성 유리 페이스트 조성물의 중량을 100 중량부 당, 유기 조성물의 양은 10 부터 40 중량부까지의 범위일 수 있고 무기 조성물의 양은 90 부터 60 중량부까지의 범위일 수 있고; 유기 조성물의 양은 15 부터 35 중량부까지의 범위이고 무기 조성물의 양은 85 부터 65 중량부까지의 범위인 것이 바람직하며; 유기 조성물의 양은 20 부터 30 중량부까지의 범위이고 무기 조성물의 양은 80 부터 70 중량부까지의 범위인 것이 더욱 바람직하다.
바람직한 범위로 감광성 유리 페이스트 조성물의 점성을 유지하기 위해서, 무기 조성물 및 유기 조성물의 합을 100 중량부 당, 용매의 양은 300 중량부 이하인 것이 바람직하고, 10 부터 70 중량부까지가 더 바람직하며, 25 부터 35 중량부까지가 가장 바람직하다.
상술한 구성성분에 추가하여, 감광성 유리 페이스트 조성물은 좌외선 광 흡수제, 인식제, 인식 보조제, 중합 금지제, 가소제, 점성도 부여제, 유기 용매, 분산제, 변형제, 또는 유기 또는 무기 반-침전제와 같은 첨가 구성성분을 더 포함할 수 있다.
감광성 유리 페이스트 조성물의 층을 건조함으로써 얻어지는 노광되지 않은, 감광성 미소성 스페이서 재료층의 두께는 10 내지 50 마이크로미터의 범위내일 수 있고, 15 내지 40 마이크로미터가 바람직하다.
(d) 미소성 적층체를 형성하기 위한 방법
본 발명의 미소성 적층체에 사용되는 지지막 (180) 은 제거 가능한 막일 수 있어서, 지지막 상에 형성되는 층은 그로부터 쉽게 박리할 수 있고 유리 기판에 전달될 수 있다. 그 실시예는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카르보네이트, 또는 폴리비닐 클로라이드과 같은 합성 수지막으로 구성되는 15 내지 125 마이크로미터의 두께를 가지는 연성막을 포함한다. 전달의 활성화가 필요하다면 지지막은 제거 가능하도록 처리되는 것이 바람직하다.
지지막 상에 스페이서 재료층 (16A), 가연성 중간층 (14), 및 미소성 유전체층 (12A) 을 형성함에 있어, 각각의 층을 형성하기 위한 조성물은 애플리케이터 (applicator), 바 코터 (bar coater), 와이어드 (wired) 바 코터, 롤 (roll) 코터, 또는 커튼 플루어 코터를 이용하는 지지막 (180) 에 준비하고 적용된다. 롤 코터는 적용 두께에서 우수한 균일성이 달성되기 때문에 특히 바람직하며 만족스럽게 큰 두께를 가진 층을 효율적으로 형성할 수 있다. 적용된 조성물의 층은 건조될 수 있고 그 후에 다른 층을 형성하기 위한 다른 조성물은 건조된 층에 적용될 수 있다. 이러한 방법으로, 각각 층은 도 4a 내지 4c 에 도시된 본 발명의 미소성 적층체를 제조하기 위해 적층될 수 있다.
지지막 (180) 의 다른 면 상의 미소성 적층체의 표면은 예를 들어, 사용 전의 감광성 유리 페이스트 층의, 안정적 보호를 위해 보호막 (182) 으로 커버되는 것이 바람직하다. 보호막은 코팅되거나 소성된 실리콘을 가지고 약 15 내지 125 마이크로미터의 두께를 가지는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막, 폴리프로필렌 막 또는 폴리에틸렌 막인 것이 바람직하다.
[B] 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 방법
본 발명인 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하기 위한 방법은 전극이 형성되는 유리 기판의 표면상에 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층, 및 감광성 미소성 스페이서 재료층을 하부로 부터 순차적으로 적층하는 단계; 패턴화된 스페이서 재료층을 구성하도록 패턴화하는 광으로 스페이서 재료층을 조사하고 스페이서 재료층을 현상하는 단계; 및 가연성 중간층이 연소할 수 있도록 유리 기판상에서 미소성 유전체층, 가연성 중간층 및 패턴화된 스페이서 재료층을 동시에 소성하여, 유리 기판상에 유전체층과 스페이서층을 동시에 형성하는 단계를 포함한다.
(a) 유리 기판상에 층의 형성
유리 기판상에 가연성 중간층, 미소성 유전체층, 및 스페이서 재료층을 쌓는 것은 제한 없이 응용 방법 또는 스크린 인쇄 방법과 같이 임의의 종래에 알려진 방법으로써 수행될 수 있다. 균일한 두께와 우수한 표면 평평함을 가지는 층의 형성의 관점에서, 상술한 도 4a 내지 4c 에 도시된 본 발명의 미소성 적층체를 이용하여 층을 형성하는 방법은 가장 바람직하다.
도 5a 내지 5d 및 도 6 을 참조하여, 도 4a 에 도시된 미소성 적층체를 이용하는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하는 프로세스의 실시예는 설명된다. 먼저, 지지막 (180), 가연성 중간층 (14), 미소성 유전체층 (12A), 및 보호막 (182) 은 미소성 적층체를 준비하기 위해 그 위에 차례차례 쌓는다 (도 5a). 그 후, 도 6 에 도시된 바와 같이, 보호막 (182) 을 박리하는 동안, 미소성 적층체는 유리기판 (10) 상에 위치하여 이와 같이 커버되지 않은 미소성 유전체층 (12A) 이 전극 (11) 이 형성되는 유리 기판 (10) 의 표면과 접하고, 가열 롤러 (40) 가 유리 기판의 표면에 대항하여 미소성 유전체층 (12A) 및 가연성 중간층 (14) 을 가열-압축하도록 지지막 (180) 상에서 이동한다 (도 5b).
가열 압축은, 유리 기판 (10) 이 가열되어 표면 온도가 80 내지 140℃ 이 되고, 롤 압축이 1 내지 5 kg/cm2 의 범위 내이며, 이동 속도가 0.1 내지 10.0 m/분의 범위와 같은 조건하에서 수행되는 것이 바람직하다. 유리 기판은 사전 가열될 수 있으며, 사전 가열 온도는 예를 들어, 40 내지 100℃ 범위에서 선택될 수 있다.
미소성 유전체층 (12A) 으로 부터 박리된 보호막 (182) 은 감는 롤러 (42) 에 의해 감겨지고 재사용될 수 있는 롤의 형태로 저장되어 질 수 있다.
이러한 방법으로 가열-결합에 의해 유리 기판 (10) 의 표면 상에 미소성 유전체층 (12A) 및 가연성 중간층 (14) 을 제공한 후 (도 5b), 지지막 (180) 은 가연성 중간층 (14) 의 표면을 노출하도록 가연성 중간층 (14) 으로부터 박리된다 (도 5b). 또한 가연성 중간층 (14) 으로 부터 박리된 지지막 (180) 은 감는 롤러에 의해 연속적으로 감겨지고 재사용될 수 있는 롤의 형태로 저장되어 질 수 있다.
그 후, 스페이서 재료층 (16A) 은 가연성 중간층 (14) 의 노출된 표면 상에 쌓인다 (도 5d). 스페이서 재료층 (16A) 을 쌓는 방법에 제한이 없지만, 스페이서 재료층은 가연성 중간층 또는 미소성 유전체층을 형성하는 방법과 동일한 방법에 의해 쌓는 것이 바람직하다. 상세하게는, 감광성 유리 페이스트 조성물은 지지막에 적용되고 스페이서 재료층 (16A) 을 형성하도록 건조되며, 완제품은 가연성 중간층 (14) 상에 쌓여서 스페이서 재료층 (16A) 은 가연성 중간층 (14) 과 접하고, 가열 롤러는 스페이서 재료층 (16A) 을 가연성 중간층 (14) 의 표면에 전달하도록 지지막 상에서 이동한다.
또한 도 7a 내지 7d 를 참조하여, 도 4b 에 도시된 미소성 적층체를 이용하는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트을 제조하는 프로세스의 실시예를 설명한다. 먼저, 지지막 (180), 스페이서 재료층 (16A), 가연성 중간층 (14), 및 보호막 (182) 은 미소성 적층체를 준비하기 위해 그 위에 순차적으로 쌓인다 (도 7a). 개별적으로, 미소성 유전체층 (12A) 은 전극 (11) 이 형성되는 유리 기판 (10) 의 표면 상에 형성된다 (도 7b). 미소성 유전체층 (12A) 을 형성하는 방법에 제한이 없지만, 유리 페이스트 조성물은 지지막에 적용되고 미소성 유전체층 (12A) 을 형성하도록 건조되며, 완제품은 미소성 유전체층 (12A) 이 전극 (11) 이 형성되는 유리 기판 (10) 의 표면에 접하도록 유리 기판 (10) 상에 쌓이고, 가열 롤러는 미소성 유전체층 (12A) 을 유리 기판 (10) 에 전달하도록 지지 막 상에서 이동한다. 도 7a 의 미소성 적층 내에 보호막 (182) 은 박리되고 미소성 적층 가연성 중간층 (14) 은 미소성 유전체층 (12A) 의 표면과 접하게 되며, 가열 롤러 (40) 은 가연성 중간층 (14) 및 스페이서 재료층 (16A) 를 미소성 유전체층 (12A) 에 가열-결합하도록 지지막 (180) 상에서 이동한다 (도 7c). 그 후, 지지막 (180) 은 스페이서 재료층 (16A) 으로부터 박리되서, 유리 기판 (10) 상에 미소성 유전체층 (12A), 가연성 중간층 (14), 및 스페이서 재료층 (16A) 을 형성한다 (도 7d).
또한, 도 8a 내지 8c 를 참조하여, 도 4c 에 도시된 미소성 적층체를 이용하는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 형성하는 프로세스의 실시예를 설명한다. 먼저, 지지막 (180), 스페이서 재료층 (16A), 가연성 중간층 (14), 및 보호막 (182) 은 미소성 적층체를 준비하기 위해 그 위에 순차적으로 쌓인다 (도 8a). 미소성 적층 내의 보호막 (182) 은 미소성 유전체층 (12A) 를 노출하도록 박리되고 미소성 유전체층 (12A) 는 전극 (11) 이 형성되는 유리 기판 (10) 의 표면에 접하게 되며, 가열 롤러 (40) 는 층을 유리 기판의 표면에 가열-결합하도록 지지막 (180) 상에서 이동한다 (도 8b). 그 후, 지지막 (180) 은 스페이서 재료층 (16A) 으로부터 박리되서, 유리 기판 (10) 상에 미소성 유전체층 (12A), 가연성 중간층 (14), 및 스페이서 재료층 (16A) 을 형성한다 (도 8c).
(b) 노광 및 현상 처리
이하 도 9a 내지 도 9d 를 참조하여, 노광 및 현상 처리의 단계의 실시예를 설명한다. 상술한 방법에 따라 유리 기판 상에 미소성 유전체층 (12A), 가연성 중간층 (14), 및 스페이서 재료층 (16A) 을 형성한 후, 스페이서 재료층의 패턴화된 영역을 경화하기 위해, 포토마스크 (3) 는 페이서 재료층 (16A) 상에 위치하고, 다음으로 스페이서 재료층을 노광한다 (도 9A).
스페이서 재료층 (16A) 이 산소의 존재하에 경화 반응을 거의 겪지 않은 감광성 재료를 포함할 때, 노광은 스페이서 재료층 (16A) 의 표면을 커버하는 투명막으로 수행되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 투명막이 본 발명의 미소성 적층체의 지지막 (180) 으로서 사용될 때, 노광 단계는 유리 기판 상에 층을 쌓은 후 지지막을 박리되기 전에 수행되는 것이 바람직하다. 즉, 노광은 스페이서 재료층 (16A) 을 커버하는 지지막 (180) 으로 수행할 수 있고, 그 후, 지지막 (180) 은 노광의 완료 후에 박리된다.
노광 단계에서 사용된 조사하기 위한 장치는 포토리소그래피 방법으로 일반적으로 사용되는 자외선 광 조사 장치, 또는 반도체 제조 또는 액정 디스플레이 장치의 제조에 사용되는 노광 시스템을 포함할 수 있다.
그 후 스페이서 재료층의 경화되지 않은 부분 (16A) 이 현상에 의해 제거되어서, 저항 패턴 (16A') 이 나타난다 (도 9b 에 도시).
현상 처리에 있어서, 일반적인 목적의 알카라인 현상기 또는 물이 사용될 수 있다. 알카라인 현상기의 알카리 조성물의 실시예는 리듐, 소듐, 또는 포타슘과 같은 알칼리 금속의 하이드록사이드, 카르보네이트, 바이카르보네이트, 포스페이트, 및 피로포스페이트; 벤질아민 및 부틸아민과 같은 1 차 아민; 디메틸아민, 디벤질아민, 및 디에탄올아민과 같은 2 차 아민; 트리메틸아민, 트리에틸아민, 및 트리에탄올아민과 같은 3 차 아민; 모르폴린, 피퍼아진, 및 피리딘과 같은 사이클릭 아민; 에틸렌디아민 및 헥사메틸렌디아민과 같은 폴리아민; 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드, 티리메틸벤질암모늄 하이드록사이드, 및 트리메틸페닐벤질암모늄 하이드록사이드과 같은 암모늄 하이드록사이드; 티리메틸술포늄 하이드록사이드; 티리메틸술포늄 하이드록사이드, 디에틸메틸술포늄 하이드록사이드, 및 디메틸벤질술포늄 하이드록사이드와 같은 술포늄 하이드록사이드; 콜린; 및 실리케이트-포함 버퍼를 포함할 수도 있다. 상기 것 중에서, 물은 프릿의 알칼리 조성물에 의한 손상을 고려하는데 특히 바람직하다.
패턴화된 스페이서 재료층을 구성할 때, 스페이서 재료층의 잔여물은 패턴의 투영 지역들 사이의 가연성 중간층의 노광된 표면상에 남는다 (도 9b 의 A 에 도시). 본 발명의 방법에서, 스페이서 재료의 잔여물 (A) 는 가연성 중간층 (14) 의 표면 상에 형성된다.
가연성 중간층 (14) 이 수용성일 때, 스페이서 재료 잔여물 (A) 은 도 9c 에 도시된 바와 같이 노광된 영역의 가연성 중간층과 함께, 현상기 (물 또는 수용성 용액) 에 의해 세정된다. 가연성 중간층 (14) 이 수용성일 때, 도 9c' 에 도시된 바와 같이 현상기에 의해 팽윤되어서, 가연성 중간층 상의 스페이서 재료 잔여물 (A) 이 표면에 남게 하여, 잔여물이 현상기에 의해 쉽게 제거될 수 있다.
본 발명에서, 스페이서 재료가 제거되어야 하는 영역에 남은 스페이서 재료 잔여물 (A) 은 현상기 (물 또는 수용성 용액) 으로 표면을 세정하는 단계에서 쉽게 세정될 수 있다.
이 명세서에서 사용되는 바, 용어 "세정" 은 현상기 (물 또는 수용성 용액) 와 접하도록 하는 것을 의미한다. 세정하는 방법은 제거 현상을 받는 영역에 남아있는 스페이서 재료 잔여물을 제거하도록 가연성 중간층이 용해되거나 팽윤될 수 있는 임의의 방법으로부터 선택될 수 있다. 세정하는 방법의 구체적인 실시예는 K핑 (dipping) 방법, 록킹 (rocking) 방법, 샤워 방법, 스프레이 방법, 및 패들 (paddle) 방법을 포함할 수 있다.
(c) 소성
패턴화된 적층이 500 내지 700℃ 에서 소성될 때, 미소성 유전체층 (12A) 및 바이킹되지 않은 재료층 (16A') 에 포함된 유리 프릿은 유전체층 (12) 및 스페이서 재료층 (16) 을 형성하도록 소결되며, 그 후, 개별적으로, 유전체층 (12) 상에 패턴화된 스페이서층 (16) 을 가지는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 얻는다 (도 9d 참조). 적층체에 포함되는 유기 물질은 소성 단계에서 휘발하거나 분해되므로, 가연성 중간층 (14) 은 소성 단계 후에 적층체에 남지 않는다. 일반적으로 전면 플레이트는 균일한 두께를 가지는 복수의 스페이서층을 가진다.
상술한 것과 같은 표면 상에 형성되는 전극을 가지는 유리 기판, 유리 기판 상에 형성되는 유전체층, 유전체층 상에 패턴화된 스페이서층을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조한 후, 유전체층과 스페이서층의 커버되지 않은 표면은 예를 들어, MgO 로 구성되는 보호막 (19) 로 커버되는 것이 바람직하다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트을 제조하는 방법에 있어서, 수용성 및/또는 수팽윤성인 가연성 중간층 (14) 은 미소성 유전체층 (12A) 과 노광되지 않고 감광성 미소성 재료층 (16A) 사이에 형성되고, 패턴이 형성되는 후, 제거 현상되어지는 영역에 남은 스페이서 재료층의 잔여물은 현상기 액체에 의해 세정되어 질 수 있어서, 제거 현상이 되어지는 영역의 개선된 평평함을 나타내고, 또한 균일한 방전 특성 및 광 투과율을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트를 제조하는 것을 가능하게 한다.
실시예
본 발명을 아래의 실시예를 참조하여 설명하지만, 실시예는 본 발명을 나타내는 단순한 작동 실시예이고 본 발명의 범위를 한정하도록 해석되지 않아야한다. 아래의 설명에서, 비교예는 실시예와 함께 나타낸다.
<실시예 1>
(1) 가연성 중간층 조성물의 준비
용매로서 폴리비닐 알콜 (Kuraray Co., Ltd.의 상품명: PVA-235) 의 4 중량부, 및 물의 53 중량부 및 이소프로필 알콜의 43 중량부는 12 시간동안 교반기에 의해 혼합되고 뒤섞여져서 수용성 가연성 중간층을 형성하기 위한 조성물을 준비한다.
(2) 가연성 중간층의 형성
가연성 중간층을 형성하기 위한 획득된 조성물은 립 코터 (lip coater) 를 사용하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (Teijin DuPont Films Japan Limited 의 상품명 Purex A53) 로 이루어진 제거 가능한 지지막에 적용되고, 결과층은 완전히 용매를 제거하도록 6 분 동안 100℃ 에서 건조되며, 또한 지지막 상에 0.5 마이크로미터의 두께를 가지는 가연성 중간층을 형성한다.
(3) 유리 페이스트 조성물의 준비
아크릴 수지로서 이소부틸 메타아크릴레이트/하이드록시에틸아크릴레이트=80/20 (wt%) 코폴리머 (Mw: 20,000) 의 20 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올의 20 중량부, 및 유리 프릿의 80 중량부가 혼합되고 반죽되어 유리 페이스트 조성물을 준비한다.
(4) 미소성 유전체층의 형성
획득한 유리 페이스트 조성물은 립 코터를 사용하여 상술한 (2) 에서 획득된 지지막 상에 가연성 중간층에 적용되고, 완전히 용매를 제거하도록 결과층은 100℃ 에서 60 분 동안 건조되어서, 지지막 상에 60 마이크로미터의 두께를 가지는 미소성 유전체층을 형성한다. 25 마이크로미터의 두께를 가지는 제거 가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 (Teijin DuPont Films Japan Limited 의 상품명: Purex A53) 은 미소성 유전체층 상에 쌓여서 미소성 유전체층 및 가연성 중간층을 전달하기 위한 미소성 적층체를 제조한다.
(5) 수-현상형 저항 조성물의 준비
수용성 셀룰로스 유도체로서 하이드록시프로필 셀룰로우스의 22 중량부, 아크릴 수지로서 스티렌/하아드록시에틸 메타아크릴레이트=55/45 (wt%) 코폴리머 (Mw: 40,000)의 14 중량부, 광중합성 단량체메타크릴로이록시로서 에틸 2-하이드록시프로필 프탈레이트 (KYOEISHA CHEMICAL Co., LTD. 의 상품명: HO-MPP) 의 63 중량부, 광중합성 개시제로서 2,2-디메톡시-2-페닐아세토펜논 (Ciba Geigy 의 상품명: IR-651) 의 0.9 중량부, 자외선 흡수제로서 아조 염료 (Daito Chemix Corporation 의 상품명: Dye SS) 의 0.1 중량부, 및 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올의 100 중량부가 3 시간동안 혼합되고 뒤섞여서 수-현상형 저항 조성물을 준비한다.
(5.1) 감광성 유리 페이스트 조성물의 준비
(5) 에서 획득된 수-현상형 저항 조성물 (고체 함유량: 50%) 의 20 중량부 및 유리 프릿의 80 중량부가 혼합되고 반죽되어 수-현상형 감광성 유리 페이스트 조성물을 준비한다.
(6) 스페이서 재료층의 형성
(5.1) 에서 획득된 수-현상형 감광성 유리 페이스트 조성물은 립 코터를 사용하여 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 구성되는 지지막에 적용되고, 결과층은 용매를 완전히 제거하도록 100℃ 에서 6 분 동안 건조되어서, 지지막 상에 40 마이크로미터의 두께를 가지는 스페이서 재료층을 형성한다. 그 후, 25 마이크로미터의 두께를 가지는 폴리에틸렌 막은 스페이서 재료층에 쌓여서 스페이서 재료층을 전달하기 위한 미소성 적층체를 제조한다.
(7) 유리 기판 상에 층의 형성
버스 전극을 가지는 유리 기판은 80℃ 로 사전가열된다. 이 기판 상에서, (4) 에서 획득된 미소성 적층체는 제거 가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 (Purex A24) 을 박리하는 동안 가열 롤 적층기로 105℃ 에서 적층되어서, 유리 기판 상에서 미소성 유전체층 및 가연성 중간층을 쌓는다. 기압은 3 kg/cm2 이고 적층 속도는 1.0 m/분 이다.
다음으로, 지지막으로서 제거 가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 (Purex A53) 은 박리된다.
상술한 단계에서 획득된 기판 상의 적층체는 80℃ 로 사전가열된다. 이 적층체의 가연성 중간층 상에서, 위의 (6) 에서 획득된 미소성 적층체는 폴리에틸렌 막을 벗기기는 동안 롤 적층기로 상온에서 적층되어서, 가연성 중간층 상에 스페이서 재료층을 쌓는다. 기압은 3 kg/cm2 이고 적층 속도는 1.0 m/분 이다.
(8) 평가
스페이서 재료층은 테스트 정방형 패턴 마스크를 통해 초고압 수은 램프로 부터의 조사량 300 mJ/cm2 의 자외선으로 조사된다. 다음으로, 지지막으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트가 박리되고, 그 후, 층은 패턴을 형성하도록 30℃ 온도에서 3 kg/cm2 의 제트 압력으로 30초동안 물을 이용한 스프레이 현상을 받는다. 결과 패턴의 부착 및 배치는 전자 마이크로스코프 주사를 이용하여 평가한다. 결과적으로, 결과적인 최소의 선 폭은 60 마이크로미터이고, 스페이서 재료층의 잔여물은 패턴의 선들 사이에서 관찰되지 않아서, 우수한 패턴 배치가 획득되는 것을 나타낸다.
또한, 소성되기 전에 패턴의 배치의 안정성을 평가하기 위해서, 상술한 방법에 따라서 제조된 패턴화된 층은 온도가 1.0℃/분 의 상승 속도로 상승한 후 580℃ 에서 30분 동안 유지하는 소성 처리를 받는다. 결과적으로 우수한 미소성 패턴이 획득된다. 또한, 패턴 선들 사이의 하부 표면은 평평하고, 잔여물의 용융으로 인한 불균일함은 발견되지 않는다.
<실시예 2>
(1) 유리 페이스트 조성물의 준비
아크릴 수지 이소부틸 메타크릴레이트e/하이드록시에틸 아크릴레이트=80/20 (wt%) 코폴리머 (Mw: 20,000) 의 20 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올의 20 중량부, 및 80 유리프릿의 80 중량부가 혼합되고 반죽되어 유리 페이스트 조성물을 준비한다.
(2) 미소성 유전체층의 형성
획득된 유리 페이스트 조성물은 립 코터를 이용한 제거 가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 (Teijin DuPont Films Japan Limited 의 상품명: Purex A24) 으로 구성되는 지지막에 적용되고, 결과층은 완전히 용매를 제거하도록 100℃ 에서 6 분 동안 건조되어서, 지지막 상에 60 마이크로미터의 두께를 가지는 미소성 유전체층을 형성한다.
(3) 가연성 중간층 용 조성물의 준비
폴리비닐 알콜 (Kuraray Co., Ltd. 의 상품명: PVA-235) 의 4 중량부, 및 용매로서 물의 53 중량부와 이소프로필 알콜의 43 중량부가 12 시간 동안 교반기에 의해 혼합되고 뒤섞여서 수용성인 가연성 중간층을 형성하기 위한 조성물을 준비한다.
(4) 가연성 중간층의 형성
획득된 가연성 중간층을 형성하기 위한 조성물은 립 코터를 이용하여 위의 (2) 에서 획득된 지지막 상에 미소성 유전체층에 적용되고, 결과층은 완전히 용매를 제거하도록 100℃ 에서 6 분 동안 건조되어서, 0.5 마이크로미터의 두께를 가지는 가연성 중간층을 형성한다.
(5) 수-현상형 저항 조성물의 준비
수용성 셀룰로우스 유도체로서 하이드록시프로필 셀룰로우스의 22 중량부, 아크릴 수지로서 스티렌/하이드록시에틸 메타크릴레이트=55/45 (wt%) 코폴리머 (Mw: 40,000) 의 14 중량부, 광중합성 단량체로서 2-메타크릴로이록시에틸 2-하이드록시프로필 프탈레이트 (KYOEISHA CHEMICAL Co., LTD. 의 상품명: HO-MPP) 의 63 중량부, 광중합성 개시제로서 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 (Ciba Geigy 의 상품명: IR-651) 의 0.9 중량부, 자외선 흡수제로서 아조 염료 (Daito Chemix Corporation 의 상품명: Dye SS) 의 0.1 중량부, 및 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올의 100 중량부가 교반기에 의해 3 시간 동안 혼합되고 뒤섞여서 수-현상형 저항 조성물을 준비한다.
(5.1) 감광성 유리 페이스트 조성물의 준비
(5) 에서 획득된 수-현상형 저항 조성물 (고체 함유량: 50%) 의 20 중량부 및 유리 프릿의 80 중량부가 혼합되고 반죽되어 수-현상형 감광성 유리 페이스트 조성물을 준비한다.
(6) 스페이서 재료층의 형성
(5.1) 에서 획득된 수-현상형 감광성 유리 페이스트 조성물은 립 코터를 사용하여 위의 (4) 에서 획득된 지지막 상에 가연성 중간층에 적용하고, 결과층은 완전히 용매를 제거하도록 100℃ 에서 6 분 동안 건조해서, 40 마이크로미터의 두께를 가지는 스페이서 재료층을 형성한다. 그러므로, 제거가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 (Teijin Dupont Films Japan Limited 의 상품명 Purex A53) 은 스페이서 재료층에 쌓여서 5 층 구조를 가지는 미소성 적층체를 제조한다.
(7) 유리 기판 상에 층의 형성
상부에 형성되는 버스 전극을 가지는 유리 기판은 80℃ 로 사전가열된다. 기판 상에서, (6) 에서 획득된 미소성 적층체는 제거 가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 (Purex A24) 을 박리하는 동안 가열 롤 적층기로 105℃ 에서 적층되어서, 유리 기판 상에서 미소성 유전체층 및 가연성 중간층을 쌓는다. 기압은 3 kg/cm2 이고 적층 속도는 1.0 m/분 이다.
(8) 평가
스페이서 재료층은 테스트 정방형 패턴 마스크를 통해 초고압 수은 램프로 부터의 조사량 300 mJ/cm2 의 자외선으로 조사된다. 다음으로, 제거가능한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (Purex A53) 이 박리되고, 그 후, 층은 패턴을 형성하도록 30℃ 온도에서 3 kg/cm2 의 제트 압력으로 30초 동안 물을 이용한 스프레이 현상을 받는다. 결과 패턴의 부착 및 배치는 전자 마이크로스코프 주사를 이용하여 평가한다. 결과적으로, 결과적인 최소의 선 폭은 60 마이크로미터이고, 스페이서 재료층의 잔여물은 패턴의 선들 사이에서 관찰되지 않아서, 우수한 패턴 배치가 획득되는 것을 나타낸다.
또한, 소성되기 전에 패턴의 배치의 안정성을 평가하기 위해서, 상술한 방법에 따라서 제조된 패턴화된 층은 온도가 1.0℃/분 의 상승 속도로 상승한 후 580℃ 에서 30분 동안 유지하는 소성 처리를 받는다. 결과적으로 우수한 소성된 패턴이 획득된다. 추가적으로, 패턴의 선들 사이에 바닥 표면은 평평하고, 잔여물의 용융에 기안한 불균일은 관찰되지 않는다.
<실시예 3>
용매로서 하이드록시메틸 셀룰로우스 (Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd. 의 상품명: Metolose 65S-400) 의 4 중량부, 물의 50 중량부 및 메탄올의 46 중량부는 12 시간동안 교반기에 의해 혼합되고 뒤섞여져서 수용성 가연성 중간층을 형성하기 위한 조성물을 준비한다. 중간층을 위한 이 조성물이 실시예 1 의 중간층을 위한 조성물을 대신하여 채용된다는 것을 제외하고, 그 패턴 형성 및 평가는 실시예 1 과 동일한 방법으로 수행된다. 결과적으로, 결과적인 최소의 선 폭은 60 마이크로미터이고, 스페이서 재료층의 잔여물은 패턴의 선들 사이에서 관찰되지 않아서, 우수한 패턴 배치가 획득되는 것을 나타낸다.
또한, 소성되기 전에 패턴의 배치의 안정성을 평가하기 위해서, 상술한 방법에 따라서 제조된 패턴화된 층은 온도가 1.0℃/분 의 상승 속도로 상승한 후 580℃ 에서 30분 동안 유지하는 소성 처리를 받는다. 결과적으로 우수한 소성된 패턴이 획득된다. 추가적으로, 패턴의 선들 사이에 바닥 표면은 평평하고, 잔여물의 용융에 기안한 불균일은 관찰되지 않는다.
<실시예 4>
부티랄 수지 (Sekisui Chemical Co., Ltd. 의 상품명: S-LEC BX-L) 의 10 중량부는 메탄올의 90 중량부에 용해되어, 용액을 획득한다. 그러므로 이 용액은 실시예 2 에서 획득된 가연성 중간층을 위한 조성물의 125 중량부에 혼합되고 12 시간 동안 교반기에 의해 뒤섞여서, 수팽윤성인 가연성 중간층을 형성하기 위한 조성물을 형성한다. 중간층을 위한 이 조성물이 실시예 1 의 중간층을 위한 조성물을 대신하여 채용된다는 것을 제외하고, 그 패턴 형성 및 평가는 실시예 1 과 동일한 방법으로 수행된다. 결과적으로, 결과적인 최소의 선 폭은 60 마이크로미터이고, 스페이서 재료층의 잔여물은 패턴의 선들 사이에서 관찰되지 않아서, 우수한 패턴 배치가 획득되는 것을 나타낸다.
또한, 소성되기 전에 패턴의 배치의 안정성을 평가하기 위해서, 상술한 방법에 따라서 제조된 패턴화된 층은 온도가 1.0℃/분 의 상승 속도로 상승한 후 580℃ 에서 30분 동안 유지하는 소성 처리를 받는다. 결과적으로 우수한 소성된 패턴이 획득된다. 추가적으로, 패턴의 선들 사이에 바닥 표면은 평평하고, 잔여물의 용융에 기안한 불균일은 관찰되지 않는다.
<비교예 1>
(1) 유리 페이스트 조성물의 준비
아크릴 수지로서 이소부틸 메타아크릴레이트/하아드록시에틸아크릴레이트=80/20 (wt%) 코폴리머 (Mw: 20,000) 의 20 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올의 20 중량부, 및 유리 프릿의 80 중량부가 혼합되고 반죽되러 유리 페이스트 조성물을 준비한다.
(2) 미소성 유전체층의 형성
획득한 유리 페이스트 조성물은 립 코터를 사용하여 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 이루어진 지지막 적용되고, 완전히 용매를 제거하도록 결과층은 100℃ 에서 6 분 동안 건조되어서, 지지막 상에 60 마아크로미터의 두께를 가지는 미소성 유전체층을 형성한다. 25 마이크로미터의 두께를 가지는 제거 가능한 폴리에틸렌 막은 미소성 유전체층 상에 쌓여서 미소성 유전체층 및 가연성 중간층을 전달하기 위한 미소성 적층체를 제조한다.
(3) 수-현상형 저항 조성물의 준비
수용성 셀룰로스 유도체로서 하이드록시프로필 셀룰로우스의 22 중량부, 아크릴 수지로서 스티렌/하아드록시에틸 메타아크릴레이트=55/45 (wt%) 코폴리머 (Mw: 40,000)의 14 중량부, 광중합성 단량체메타크릴로이록시로서 에틸 2-하이드록시프로필 프탈레이트 (KYOEISHA CHEMICAL Co., LTD. 의 상품명: HO-MPP) 의 63 중량부, 광중합성 개시제로서 2,2-디메톡시-2-페닐아세토펜논 (Ciba Geigy 의 상품명: IR-651) 의 0.9 중량부, 자외선 흡수제로서 아조 염료 (Daito Chemix Corporation 의 상품명: Dye SS) 의 0.1 중량부, 및 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올의 100 중량부가 3 시간동안 혼합되고 뒤섞여서 수-현상형 저항 조성물을 준비한다.
(3.1) 감광성 유리 페이스트 조성물의 준비
(5) 에서 획득된 수-현상형 저항 조성물 (고체 함유량: 50%) 의 20 중량부 및 유리 프릿의 80 중량부가 혼합되고 반죽되어 수-현상형 감광성 유리 페이스트 조성물을 준비한다.
(4) 스페이서 재료층의 형성
(3.1) 에서 획득된 수-현상형 감광성 유리 페이스트 조성물은 립 코터를 사용하여 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 구성되는 지지막에 적용되고, 결과층은 용매를 완전히 제거하도록 100℃ 에서 6 분 동안 건조되어서, 지지막 상에 40 마이크로미터의 두께를 가지는 스페이서 재료층을 형성한다. 그 후, 25 마이크로미터의 두께를 가지는 폴리에틸렌 막은 스페이서 재료층에 쌓여서 스페이서 재료층을 전달하기 위한 미소성 적층체를 제조한다.
(5) 유리 기판 상에 층의 형성
그 위에 버스 전극을 가지는 유리 기판은 80℃ 로 사전가열된다. 이 기판 상에서, (2) 에서 획득된 미소성 적층체는 폴리에틸렌 막을 박리하는 동안 가열 롤 적층기로 105℃ 에서 적층되어서, 유리 기판 상에서 미소성 유전체층을 쌓는다. 기압은 3 kg/cm2 이고 적층 속도는 1.0 m/분 이다. 다음으로, 지지막으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막은 박리되었다.
그 후, 상술한 (5)에서 획득된 미소성 유전체층은 80℃ 로 사전가열된다. 미소성 유전체층의 표면 상에서, (4) 에서 획득된 미소성 적층체는 폴리에틸렌 막을 벗기기는 동안 롤 적층기로 상온에서 적층되어서, 가연성 중간층 상에 스페이서 재료층을 쌓는다. 기압은 3 kg/cm2 이고 적층 속도는 1.0 m/분 이다.
(6) 평가
스페이서 재료층은 테스트 정방형 패턴 마스크를 통해 초고압 수은 램프로 부터의 조사량 300 mJ/cm2 의 자외선으로 조사된다. 다음으로, 지지막으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트가 박리되고, 그 후, 층은 패턴을 형성하도록 30℃ 온도에서 3 kg/cm2 의 제트 압력으로 30초동안 물을 이용한 스프레이 현상을 받는다. 결과 패턴의 부착 및 배치는 전자 마이크로스코프 주사를 이용하여 평가한다. 결과적으로, 결과적인 최소의 선 폭은 60 마이크로미터이고 우수한 패턴 형태가 획득된다. 다만, 스페이서 재료층의 약간의 잔여물은 패턴의 선들 사이에서 관찰된다.
또한, 소성되기 전에 패턴의 배치의 안정성을 평가하기 위해서, 상술한 방법에 따라서 제조된 패턴화된 층은 온도가 1.0℃/분 의 상승 속도로 상승한 후 580℃ 에서 30분 동안 유지하는 소성 처리를 받는다. 결과적으로, 패턴의 선들 사이의 바닥 표면은 평평하지 않다.
상술한 바, 본 발명에 있어서, 수용성 또는 수팽윤성이고 연소 처리에서 완전 연소 가능한 중간층은 미소성 유전체층과 노광되지 않은 감광성 미소성 스페이서 재료층 사이에 형성될 수 있고, 가연성 중간층은 노광되지 않은 스페이서 재료층의 현상과 동시에 또는 후에 물로 패턴을 세정하는 동안 물에 용해되거나 팽윤될 수 있다. 그러므로, 제거 현상을 받는 영역 내에 남겨진 스페이서층은 쉽게 제거될 수 있어서, 제거 현상을 받는 영역의 두께는 균일하므로, 균일한 방전 특성 및 광 투과성을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트의 제조가 가능하게 한다.
참조
1. 일본 특허 공개 공보 제 2002-150949 호
2. 일본 특허 공개 공보 제 2002-328467 호
Claims (11)
- 복수의 전극이 형성되는 표면, 상기 표면상에 유전체층, 및 상기 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 구비하는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조하는 미소성 적층체로서,제거 가능한 지지막;상기 제거 가능한 지지막 상에 형성되는 가연성 중간층으로서, 상기 중간층은 수용성 또는 수팽윤성인, 가연성 중간층; 및상기 가연성 중간층 상에 형성되는 미소성 유전체층으로서, 상기 유전체층은 유리 페이스트 재료로 구성되는, 미소성 유전체층을 포함하는, 미소성 적층체.
- 복수의 전극이 형성되는 표면, 상기 표면상에 유전체층, 및 상기 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 구비하는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조하는 미소성 적층체로서,제거 가능한 지지막;상기 제거 가능한 지지막 상에 형성되는 감광성 미소성 스페이서 재료층; 및상기 스페이서 재료층 상에 형성되는 가연성 중간층으로서, 상기 중간층은 수용성 또는 수팽윤성인, 가연성 중간층을 포함하는, 미소성 적층체.
- 복수의 전극이 형성되는 표면, 상기 표면상에 유전체층, 및 상기 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 구비하는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조하는 미소성 적층체로서, 상기 적층체는제거 가능한 지지막;상기 제거 가능한 지지막 상에 형성되는 감광성 미소성 스페이서 재료층;상기 스페이서 재료층 상에 형성되는 가연성 중간층으로서, 상기 중간층은 수용성 또는 수팽윤성인, 가연성 중간층; 및상기 가연성 중간층 상에 형성되는 미소성 유전체층으로서, 상기 유전체층은 유리 페이스트 재료로 구성되는, 미소성 유전체층을 포함하는, 미소성 적층체.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 적층체의 표면을 커버하는 제거 가능한 보호막을 더 구비하고, 상기 표면은 상기 제거 가능한 지지막의 반대측 상에, 미소성 적층체.
- 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 스페이서 재료층은 물을 사용하여 현상될 수 있는 감광성 유리 페이스트 재료로 구성되는, 미소성 적층체.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가연성 중간층은 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 알콜 유도체, 수용성 셀룰로우스, 및 그 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 수지를 포함하는, 미소성 적층체.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가연성 중간층은 5 마이크로미터 이하의 두께를 가지는, 미소성 적층체.
- 복수의 전극이 형성되는 표면, 상기 표면상에 유전체층, 및 상기 유전체층 상에 형성되는 복수의 스페이서층을 구비하는 유리 기판을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조하는 방법으로서,(a) 상기 기판의 표면상에 유리 페이스트 재료, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층, 및 감광성 미소성 스페이서 재료층의 순서대로 구성되는 미소성 유전체층을 형성하는 단계;(b) 패턴화된 스페이서 재료층을 구성하도록, 패터닝 광으로 상기 스페이서 재료층을 조사하고, 상기 스페이서 재료층을 현상하는 단계;(c) 상기 가연성 중간층을 연소시키도록, 상기 미소성 유전체층, 상기 가연성 중간층, 및 상기 패턴화된 스페이서 재료층을 동시에 소성하고 상기 유리 기판 상에 상기 유전체층 및 상기 스페이서층을 동시에 형성하는 단계를 포함하는, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 (a) 단계는,제거 가능한 지지막 상에, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층, 및 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층을 순서대로 형성하여 적층체를 준비하는 단계;상기 미소성 유전체층이 상기 유리 기판의 상기 전극을 가지는 상기 표면을 면하도록 상기 유리 기판상에 상기 적층체를 부착하는 단계;상기 가연성 중간층을 노출하도록 상기 가연성 중간층으로부터 상기 제거 가능한 지지막을 제거하는 단계; 및상기 가연성 중간층 상에 감광성 미소성 스페이서 재료층을 형성하는 단계를 포함하는, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 (a) 단계는,제거 가능한 지지막 상에 감광성 미소성 스페이서 재료층, 및 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층을 순서대로 형성하여 적층체를 준비하는 단계;상기 유리 기판의 상기 전극을 가지는 표면상에, 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층을 형성하는 단계; 및상기 가연성 중간층이 상기 미소성 유전체층을 면하도록, 상기 미소성 유전체층 상에 상기 적층체를 부착하는 단계를 포함하는, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 (a) 단계는,제거 가능한 지지막 상에, 감광성 미소성 스페이서 재료층, 수용성 또는 수팽윤성인 가연성 중간층, 및 유리 페이스트 재료로 구성되는 미소성 유전체층을 형성하여 적층체를 준비하는 단계; 및상기 미소성 유전체층이 상기 유리 기판의 상기 전극을 가지는 표면과 면하도록 상기 유리 기판 상에 적층체를 부착하는 단계를 포함하는, 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조 방법.
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| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
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